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JP2001245479A - 電力半導体モジュール - Google Patents

電力半導体モジュール

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JP2001245479A
JP2001245479A JP2000053301A JP2000053301A JP2001245479A JP 2001245479 A JP2001245479 A JP 2001245479A JP 2000053301 A JP2000053301 A JP 2000053301A JP 2000053301 A JP2000053301 A JP 2000053301A JP 2001245479 A JP2001245479 A JP 2001245479A
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series
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power semiconductor
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浩隆 武藤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 交直流交換等に用いられる電力変換回路の電
力半導体モジュールにおいて、還流ダイオードの逆回復
電流によるエネルギー損失を低減し、定格電圧を高くす
る。 【解決手段】 電力変換回路内において使用される電力
半導体モジュールであって、少なくとも1個のスイッチ
ング素子とSiCからなる2個以上のショットキーバリ
アダイオードが直列に接続された部分を搭載し、前記の
直列に接続された少なくとも2個以上のSiCからなる
ショットキーバリアダイオードを前記スイッチング素子
と逆並列に接続した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インバーター等の
電力変換器等に使用される電力半導体モジュールに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】電力半導体モジュールが使用される分野
は、家電製品から電気鉄道、電気自動車、産業用ロボッ
ト、電力系統と広くにおよんでいる。電力半導体装置の
有用性が広がるにしたがい、その性能の向上が期待さ
れ、高周波化、小型化、大電力化がますます望まれてい
る。
【0003】これらの分野で使用される電力半導体モジ
ュールの多くは、交流−直流変換、直流−交流変換、直
流−直流変換などの変換回路で使用されている。これら
の電力半導体モジュール内には、通常スイッチング素
子、例えばMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor
Field-Effect Transistor)、IGBT(Insulated Gat
e Bipolar Transisitor)と、これらスイッチング素子
と逆並列に接続される還流ダイオード(FWDi)が搭
載されている。
【0004】図7の単相ブリッジインバーター回路は従
来のインバーター回路の1例であり、破線部分の6A、
6B、6C、6Dは電力半導体モジュールを示してい
る。この例では、それぞれの電力半導体モジュール6
A、6B、6C、6Dは、1つの還流ダイオード7A、
7B、7C、7Dと1つのスイッチング半導体素子(こ
の例ではIGBT)3A、3B、3C、3Dをペアで搭
載している。還流ダイオードは、スイッチング半導体素
子であるそれぞれのIGBTに逆並列に接続されてる。
4は負荷でありインダクタンスを有する。5は直流の電
源である。
【0005】自己消弧機能を持つIGBTやMOSFE
T等のスイッチング素子を含むインバーター回路を用い
て直流−交流変換を行う場合、PWM(Pulse Width Mo
dulation)方式が一般的に使用されている。図7の単相
ブリッジインバーター回路をもちいてPWM方式により
直流−交流変換を行う時の負荷への出力波形を図8に示
す。PWM方式ではスイッチング素子のゲート信号の方
形パルス波形を、時間平均的に見れば負荷電圧が交流波
形となる様に変調する。IGBT 3A、3Dのオン・
オフ動作で負荷4に正方向のパルス幅を変調したパルス
電圧を出力すると、パルス電圧波形を時間平均的に見れ
ば図8の破線Vmに示されている様な正弦波の半波が負
荷に出力される。但し、この動作期間中(TAD)スイ
ッチング素子であるIGBT 3B、3Cはオフ状態で
ある。次にIGBT 3B、3Cのオン・オフ動作で負
荷4に負方向のパルス電圧を出力し、残り半周期分(T
BC)の正弦波の半波を負荷に出力する。
【0006】図7のIGBT 3A、3Dのパルス動作
期間中においてIGBT 3A、3Dのオフ時に、負荷
のインダクタンス成分に蓄えられた磁気エネルギーを放
出するため、インダクタンスの電流が逆相側の還流ダイ
オード7B、7Cを流れ、コンデンサ8に帰還する。ま
た、IGBT 3B、3Cのパルス動作期間中において
はIGBT 3B、3Cのオフ時に、電流は還流ダイオ
ード7D、7Aを流れコンデンサ8に帰還する。
【0007】前記では、単相ブリッジインバーター回路
内の還流ダイオードの働きをPWM方式を例に述べた
が、一般的に変換回路中にインダクタンス成分を持つ負
荷と整流機能を有する素子が含まれている場合、インダ
クタンス成分に蓄えられた磁気エネルギーを放出するた
めに還流ダイオードが必要となる。この様に還流ダイオ
ードは回路中において重要な役割を果たす。
【0008】従来技術では、IGBTのパルス動作期間
中にIGBTがオフ状態からオン状態になるとき、還流
ダイオードに蓄積された電荷が回路に流れ、パルスのオ
ン時に回路内で発生するエネルギー損失の大きな要因と
なってきた。例えば、図7の回路でIGBT 3A、3
Dのパルス動作期間中にIGBT 3A、3Dがオフ状
態からオン状態になるとき、還流ダイオード7C、7B
に蓄積された電荷(逆回復電荷)が回路に流れる。IG
BT 3A、3Dには負荷電流が流れ始めており、逆回
復電荷による電流はこれに重畳して流れる。重畳した電
流は、IGBT素子の定格電流を越えることもあり、場
合によっては素子破壊をもたらすことがある。また、回
路電圧Vccは、IGBT 3A、3D部あるいは還流
ダイオード7C、7B部で保持するので、IGBT 3
A、3D部あるいは還流ダイオード7C、7B部でエネ
ルギー損失が生じる。大きなエネルギー損失は、冷却機
器などを大きくし、コストの増大やインバーター機器の
使用場所に限界をもたらす。
【0009】従来は、還流ダイオードとしてSiを主材
料とするPiNダイオードが使用されてきた。PiNダ
イオードはバイポーラ型の半導体素子であり順方向バイ
アスで大電流を通電させる場合、伝導度変調により電圧
降下が低くなるような構造となっている。しかし、Pi
Nダイオードは、順方向バイアス状態から急峻に逆バイ
アス状態にいたる過程で、伝導度変調によりPiNダイ
オードに残留したキャリアが逆回復電流として変換回路
へ流れるという特性を持つ。SiからなるPiNダイオ
ードにおいては、残留するキャリアの寿命が長く多くの
残留キャリアが変換回路に流れる。
【0010】一方ショットキーバリアダイオード(SB
D)はユニポーラ型の半導体素子であり、伝導度変調に
よるキャリアを殆ど有しないので、還流ダイオードとし
て変換回路で使用される場合、逆回復電荷が変換回路に
流れるという問題は無い。しかし、従来多く使用されて
いる半導体材料であるSiは絶縁破壊電界強度が低いた
め、高耐圧を持たせる構造でSBDを作製すると通電時
に大きな抵抗が生じるため、Si−SBDでは耐圧20
0V程度が限界であり、高電圧のSBDを実用化する事
が困難であった。
【0011】他方、炭化珪素(SiC)はSiの10倍
の絶縁破壊電界強度を持ち、SiCを用いれば高耐圧の
SBDの実用化が可能となる。また、SiC−SBDを
変換回路中に還流ダイオードとして用いれば、逆回復電
流を大きく減らすことが可能となり、逆回復電流によっ
て生じていたエネルギー損失を大きく減らすことが可能
になる。また、スイッチング素子がオンするときにスイ
ッチング素子に流れる電流に逆回復電流による重畳が生
じないので、素子破壊の危険性を大きく減らすことが可
能となる。SiC−SBDに関するこれらの特徴は、M.
Bhatnagar他“Comparison of 6H-SiC、3C-SiC, and Si
for Power Devices,”IEEE TRANSACTIONON ELECTRON DE
VICES、vol.40、No.3、MARCH 1993において同様に指摘
されている。
【0012】一方、SiCを主材料とすれば高耐圧・低
損失のSBDを作製することが可能となるが、SBDに
おいては逆バイアス電圧が大きくなるとトンネル電流に
よる漏れ電流が大きくなるという問題がある。そのため
SBDを電力用の還流ダイオードとして使用できる電圧
には限界があるとされており、SiC−SBDの使用可
能な逆バイアス電圧は3kV以下であるとの指摘がなさ
れている(K.Rottner他“SiC power devices for high
voltage applications,”Materials Scienceand Engine
ering、B61-62(1999)330-338)。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、電力変
換回路中において還流ダイオードとして従来使用されて
きたPiNダイオードにおいては、順方向バイアス状態
から急峻に逆バイアス状態にいたる過程で逆回復電流が
変換回路に流れ、大きなエネルギー損失をもたらしてき
た。PiNダイオードに替えてショットキーバリアダイ
オード(SBD)を還流ダイオードとして用いれば、逆
回復電流を大きく低減することが可能となり、エネルギ
ー損失を減らすことが可能となるが、従来の主な半導体
材料であるシリコン(Si)では、高電圧用のSBDを
実用化する事が困難であった。しかし、炭化珪素(Si
C)はSiの10倍の絶縁破壊電界強度を持ち、SiC
を用いれば高電圧用のSBDの実用化が可能となる。し
かし、SiCで作製したSBDは、Si−SBDより高
耐圧であるが、逆バイアスが大きくなると、トンネル電
流による漏れ電流が大きくなり、高耐圧用に使用される
還流ダイオードとしての限界があり、逆バイアス電圧が
3kVを越えて使用する事が困難であるとされてきた。
【0014】本発明の目的は、電力変換回路中において
逆回復電流が原因となって生じるエネルギー損失の低減
を行い、定格電圧の高い電力半導体モジュールを提供す
ることにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる電力半導
体モジュールは、少なくとも1個のスイッチング素子と
SiCからなる2個以上のSiC−SBDが直列に接続
された部分を搭載する半導体モジュールであって、前記
の直列に接続された少なくとも2個以上のSiC−SB
Dを前記スイッチング素子と逆並列に接続した構造を持
つことにより、定格電圧が高い電力変換回路において還
流ダイオードの逆回復電流が原因となって生じるエネル
ギー損失の低減を可能とするものである。
【0016】さらに、本発明に係わる電力半導体モジュ
ールにおいて、直列に接続するSiCからなるSBDの
数が2個以上3個以下であることにより高電圧の電力変
換回路において、還流電流が流れているときにおいての
還流ダイオードの定常損失を制限することが可能とな
る。
【0017】さらに、本発明に係わる電力半導体モジュ
ールにおいて、直列に接続するSiCからなるSBDの
複数組を並列に接続することにより、直列に接続された
SiC−SBDからなる還流ダイオード部の通電時にお
ける電圧降下を下げることが可能となる。
【0018】さらに、本発明に係わる電力半導体モジュ
ールにおいて、スイッチング素子をIGBTあるいはM
OSFETとすることにより、電力変換回路の高速なス
イッチング動作が可能となる。
【0019】さらに、本発明に係わる電力半導体モジュ
ールにおいて、一方のSiC−SBDのオーミック電極
面と、他方のSiC−SBDのショットキー電極面が、
同一平面上で接続されることにより、電極間を接続する
ボンディングワイヤ等の配線が不要になり、電磁放射ノ
イズを低減することが可能となる。
【0020】さらに、一方のSiC−SBDのオーミッ
ク電極面と、他方のSiC−SBDのショットキー電極
面を電気導体を介して直列接続することにより、それぞ
れのSiC−SBDを均一に冷却することが出来、Si
C−SBDの安定な動作が可能となる。
【0021】
【作用】本発明に係わる電力半導体モジュール中のSB
Dはユニポーラ型の半導体素子であり、伝導度変調によ
るキャリアを有しないので、逆回復電流が殆ど流れな
い。また、炭化珪素(SiC)はSiの10倍の絶縁破
壊電界強度を持ち、SiCを用いてSBDを作製した場
合、ドリフト層の厚さをSiの1/10倍にする事が可
能となり、しかもキャリア密度をSiの100倍にでき
るので、順方向通電時の電圧降下を低くする事が可能と
なる。従って、本発明に係わる電力半導体モジュールを
電力変換回路において使用することによって、逆回復電
流によるエネルギー損失を低減することが可能となり、
かつ、直列にSiC−SBDを接続するので、高電圧の
電力変換回路において使用することが可能となる。
【0022】また、本発明に係わる電力半導体モジュー
ル中の1つのSiC−SBDの順方向電圧降下(Vo
n)は計算によると、耐圧2.5kV仕様、ショットキ
ー障壁高さ1.0eV、素子有効面積1.0cm2、通
電電流200A、125℃の場合においてVon<1.
0Vであり、直列に接続するSiCからなるSBDの数
が2個以上3個以下であることにより、直列接続時の全
耐圧が5.0kV〜7.5kVとすることが可能とな
り、かつVon<2.0V〜3.0Vとすることが可能
となる。この直列接続したSiC−SBDのVonは同
一耐圧のSiC−PiNダイオードのVon(〜3V)
以下の値となる。したがって、本発明に係わる電力半導
体モジュールを含む電力変換回路において、還流電流が
流れているときにおいての還流ダイオードの定常損失を
低くすることが可能となる。
【0023】また、本発明に係わる電力半導体モジュー
ルにおいて、直列に接続するSiCからなるSBDの複
数組を並列に接続することにより、本発明に係わる電力
半導体モジュールを含む電力変換回路において、還流電
流が流れているときにおいての還流ダイオードの定常損
失を低くすることが可能となる。
【0024】また、本発明に係わる電力半導体モジュー
ルにおいて、スイッチング素子がIGBTあるいはMO
SFETである時、これらのスイッチング素子は電圧駆
動型のトランジスタであるので、電力変換回路の高速な
スイッチング動作が可能となる。
【0025】また、本発明に係わる電力半導体モジュー
ルにおいて、一方のSiC−SBDのオーミック電極面
と、他方のSiC−SBDのショットキー電極面を、同
一平面上で接続することにより、SiC−SBD間の配
線を無くすことが出来るので外部への電磁放射ノイズを
低減することが可能となる。
【0026】また、一方のSiC−SBDのオーミック
電極面と、他方のSiC−SBDのショットキー電極面
が電気導体を介して直列接続することにより、それぞれ
のSiC−SBDがの冷却能力を高くすることが出来、
SiC−SBDの安定な動作を可能とする。
【0027】
【発明の実施の形態】実施の形態1 図1に、本発明の電力半導体モジュールの一実施の形態
を示す。図1は、SiCからなるSBDが2個直列に接
続された部分を搭載した半導体モジュールであって、直
列に接続されたSiCからなる2個のSBDを還流ダイ
オードとして接続した本発明の電力半導体モジュールを
使用した単相ブリッジインバーター内の回路図を示す。
1A〜1Dは本発明の直列に接続された2個のSiCか
らなるSBDを還流ダイオードとして搭載した電力半導
体モジュールである。2A〜2Dはそれぞれの電力半導
体モジュール内の直列に接続された2個のSiC−SB
Dからなる還流ダイオードである。3A〜3Dはスイッ
チング素子のIGBTあるいはMOSFETである。2
9は電源の正極側と接続される接続端子、30は電源の
負極側と接続される接続端子、26は負荷と接続される
接続端子、4はモーター等の負荷でありインダクタンス
成分を含む。5は直流電源であり、8はコンデンサーで
ある。
【0028】図1の回路で、パルス制御により直流を交
流に変換して負荷4に交流電流を供給する場合、各パル
ス毎に3Aと3D、あるいは3Bと3Cがペアでオンあ
るいはオフ動作を行う。スイッチング素子のオンあるい
はオフ動作に対応して還流ダイオード2Aと2D、ある
いは2Bと2Cがペアで逆バイアス状態あるいは順方向
導通状態となる。例えば、3A、3Dが同時にオン状態
のときには、電流は8→3A→4→3D→8の順で流れ
るが、パルスをオフするために3Aと3Dをオフとする
と、還流電流が8→2B→4→2C→8の経路で流れ、
還流ダイオード2Bおよび2Cは順方向の導通状態とな
る。再び3Aと3Dがオンになると8→3A→4→3D
→8の順で電流は流れ、2Bおよび2Cは逆バイアス状
態でほぼ回路電源電圧のVccが印加される。
【0029】還流電流が8→2B→4→2C→8の経路
で流れている状態から、3Aおよび3Dがオン状態にな
る時、還流ダイオード2Bおよび2CはSiCからなる
SBDなので、伝導度変調によるキャリアを有せず逆回
復電流が殆ど生じない。3Aおよび3Dがオン状態にな
るときにはIGBT 3A、3Dには電流が流れ始めて
おり、2Bおよび2Cに逆回復電荷が生じた場合、逆回
復電流はこれに重畳して流れるが、還流ダイオードSi
C−SBDの場合IGBT 3A、3Dには重畳した電
流は流れないので、IGBT 3A、3D部で発生する
エネルギー損失を減らすことが可能となる。また、還流
ダイオード2C、2B部では電流が殆ど流れないのでエ
ネルギー損失は殆ど生じない。
【0030】また、SiCはSiの10倍の絶縁破壊電
界強度を持ちSiC−SBDの場合、ドリフト層の厚さ
をSiの1/10倍にする事が可能となり、しかもキャ
リア密度をSiの100倍にできるので、順方向通電時
の電圧降下(Von)を低くする事が可能となる。仮に
1つのSiC−SBDが耐圧2.5kV、ショットキー
障壁高さ1.0eV、素子有効面積1.0cm2の仕様
で、通電電流200A、125℃の場合においては、順
方向電圧降下は1.0V以下であり直列に接続された2
個のSiC−SBDによる電圧降下は2.0V以下であ
り、通常の1個のPiNダイオードの電圧降下(〜3
V)より低い値となる。従って、還流電流が8→2B→
4→2C→8の経路で流れている時でも、還流ダイオー
ド2Bおよび2Cの順方向還流電流によるエネルギー損
失を低くすることが可能である。
【0031】さらに、直列に接続された1つのSiC−
SBDの性能が逆バイアス2.5kVまで耐えうるもの
であれば、本発明により2A、2B、2C、2Dの耐圧
は5.0kVとなり、Vccは通常素子耐圧の約1/2
に設定するので、この場合Vccを2.5kVまで上げ
ることが可能となる。従って、単一のSiC−SBDで
は困難とされる定格1.5kVを越える電力変換動作
が、本発明により容易に可能となる。
【0032】本実施の形態で明らかなように、本発明に
係わる電力半導体モジュールを電力変換回路において使
用することによって、逆回復電流によるエネルギー損失
を低減することが可能となり、かつ、高電圧の電力変換
回路において使用することが可能となる。
【0033】本実施の形態においては、2個のSiC−
SBDを直列に接続したが、回路電源電圧の値に応じて
3個のSiC−SBDを接続をすることも可能である。
例えば、1つのSiC−SBDが耐圧2.5kV、ショ
ットキー障壁高さ1.0eV、素子有効面積1.0cm
2の仕様で、通電電流200A、125℃の場合におい
ては電圧降下は1.0V以下であり、直列に接続された
3個のSiC−SBDによる電圧降下は3.0V以下で
ある。この電圧は、通常の1個のPiNダイオードの順
方向電圧降下と同程度であるから、順方向還流電流によ
るエネルギー損失が増加することはない。また、SiC
−SBDは伝導度変調によるキャリアを殆ど持たないの
で逆回復電流は殆ど生じず、かつ、直列に接続された3
つのSiC−SBDによりVccを3.8kVまで上げ
ることが可能となる。従って、単一のSiC−SBDで
は困難とされるVcc=1.5kVを越える電力変換動
作が容易に可能となる。
【0034】以上の様に、直列に接続するSiC−SB
Dの数が2個以上3個以下であれば、高電圧の電力変換
回路において還流電流が流れているときに生じる還流ダ
イオードの定常損失を制限することが可能となる。
【0035】実施の形態2 図2に、本発明による直列に接続するSiC−SBDの
複数組を並列に接続した電力半導体モジュールが単相ブ
リッジインバーター内に接続された回路図を示す。1A
−2〜1D−2は本発明の直列に接続したSiC−SB
Dの複数組を並列に接続した電力半導体モジュールであ
る。2A−1および2A−2、2B−1および2B−
2、2C−1および2C−2、2D−1および2D−2
は直列に2個接続したSiC−SBDが並列に接続され
たそれぞれの組である。3A〜3Dはスイッチング素子
のIGBTあるいはMOSFETである。4はモーター
等の負荷でありインダクタンス成分を含む。5は直流の
電源であり、8はコンデンサーである。
【0036】図2の回路において、本発明による直列に
接続するSiC−SBDの複数組を並列に接続した電力
半導体モジュール1A−2〜1D−2の電気的動作は、
基本的には先の実施の形態1の中で述べた図1の電力半
導体モジュール1A〜1Dと同一であるが、直列接続し
たSiC−SBDの2組を並列に接続しているので還流
電流が流れている時の順方向電圧降下を、直列接続する
SiC−SBDを1組使用する時と比較して低くする事
ができ、還流電源による還流ダイオード部の損失低減が
可能となる。
【0037】従って、本発明に係わる電力半導体モジュ
ールを電力変換回路において使用することによって、逆
回復電流によるエネルギー損失を低減することが可能と
なり、かつ、高電圧の電力変換回路において使用するこ
とが可能となり、さらに還流電流が流れているときにお
いての還流ダイオードの定常損失を低くすることが可能
となる。
【0038】本実施の形態においては、2個のSiC−
SBDを直列に接続したが、回路電源電圧の値に応じて
直列数が2個より多いSiC−SBDを接続をすること
も可能であり、更に定格電圧の高い電力変換回路が実現
できる。
【0039】実施の形態3 図3に本発明による電力半導体モジュールの他の実施の
形態を示す。2は直列に2個接続されたSiC−SBD
である。3はスイッチング素子であるIGBTあるいは
MOSFET、13はスイッチング素子のエミッタある
いはソース電極、14は電極接続用の高さ調節治具、1
5はSiC−SBDのアノード側と14を接続する金属
導体、16は2を上部から押さえる機能と19の外部配
線用エミッタ導体へ電流を導く機能を合わせ持つ金属導
体、17は絶縁基板上のコレクタ配線、18は外部配線
用コレクタ導体、20は16を固定するための絶縁体、
例えばガラスエポキシ、21はAlN(窒化アルミニウ
ム)絶縁基板、22は銅またはSiC/Alのベース板
である。通常ベース板22上の半導体素子を含む回路部
分は筐体で囲まれ、シリコン樹脂で充填される。
【0040】図4に、本実施の形態による電力半導体モ
ジュール内の直列に2個接続されたSiC−SBD部2
の詳細図を示した。本実施の形態の直列に2個接続され
たSiC−SBD部の形態は、一方のSiCからなるS
BDのオーミック電極面と他方のSiCからなるSBD
のショットキー電極面が、同一平面上で接続されてい
る。10はSiC−SBDのSiC主要部材、11はS
iC−SBDのショットキー電極部、12はSiC−S
BDのオーミック電極部である。
【0041】接合部の形態としては、一方のSiC−S
BDのショットキー電極面と他方のSiC−SBDのオ
ーミック電極面を直接に接触させることが可能である
が、この場合両電極の金属部材表面の平面度が高いこと
が望ましく、さらに上下から抑える力が必要となる。金
属導体16は、SiC−SBDにこの押圧力を与えてい
る。
【0042】他の同一平面上で接合される接合部の形態
としては、一方のSiC−SBDのショットキー電極面
と他方のSiC−SBDのオーミック電極面間に他の電
気導体を介して接合されても良い。例えば、金、Alな
どを一方のSiC−SBDのショットキー電極面または
他方のSiC−SBDのオーミック電極面に蒸着し、蒸
着した金あるいはAlなど介して同一平面上で接合させ
ることも可能である。
【0043】本実施の形態による電力半導体モジュール
内において使用される直列に2個接続されたSiC−S
BD2は、図4に示されている形態で直列接続されてお
り、つまり、一方のSiCからなるSBDのオーミック
電極面と、他方のSiCからなるSBDのショットキー
電極面が同一平面上で接続されているので、SiC−S
BD間の配線が無く、モジュール内の電流順路が19→
16→2→17→18となるときにおいて電磁放射ノイ
ズを低減することが可能となる。特に過渡的な電流が2
に流れるときに本発明による電磁放射ノイズの低減効果
が大きいことが期待される。この様な電磁放射ノイズの
低減により、モジュール誤動作の低減を行うことが可能
となる。
【0044】本実施の形態による電力半導体モジュール
においては、例えば、スイッチング素子の耐圧が5kV
で、SiC−SBDが同一の耐圧能力を持ちそれぞれ耐
圧2.5kVであれば直列に2個接続された2は耐圧
5.0kVとなり、18の外部配線用コレクタ導体と1
9の外部配線用エミッタ導体間に印加される電圧が5.
0kV以下であれば、電力半導体モジュールとして正常
な動作が可能となり、高電圧の電力変換回路において使
用することが可能となる。
【0045】さらに、本実施の形態による電力半導体モ
ジュールを図1の回路内の半導体モジュール1A〜1D
として使用すれば、2A〜2DはSiC−SBDが直列
に2個接続された還流ダイオードであるので、スイッチ
ング素子3A〜3Dのいずれかがオン状態に移行すると
きに生じる逆回復電流によるエネルギー損失を大きく減
らすことが可能となる。
【0046】また、本実施の形態による電力半導体モジ
ュールはスイッチング素子3A〜3DがIGBTあるい
はMOSFETであるので、単相ブリッジインバーター
回路の高速なスイッチング動作が可能となる。
【0047】本実施の形態で明らかなように、本発明に
係わる電力半導体モジュールを電力変換回路において使
用することによって、逆回復電流によるエネルギー損失
を低減することが可能となり、かつ、高電圧の電力変換
回路において使用することが可能となる。
【0048】本実施の形態では直列接続されたSiC−
SBD2の1組に対してスイッチング素子3が1つ逆並
列に接続されているが、直列接続されたSiC−SBD
2の1組に対して2つ以上のスイッチング素子を逆並列
に接続しても、本実施の形態と同様な効果が期待でき
る。
【0049】本実施の形態では1組の直列接続するSi
C−SBDをスイッチング素子に逆並列に接続したが、
2組が並列に接続された直列接続するSiC−SBDを
スイッチング素子と逆並列に接続した場合、還流ダイオ
ードに順方向電流が流れているときの定常損失を低くす
ることが可能となる。
【0050】実施の形態4 図5に本発明による電力半導体モジュールの実施の形態
を示す。本発明による電力半導体モジュールはスイッチ
ング素子3と、ワイヤボンド23により直列接続された
SiC−SBD10の組が2組搭載されており、互いに
25の電気導体により接続されている。3はスイッチン
グ素子であるIGBTあるいはMOSFET、13はス
イッチング素子のエミッタあるいはソース電極、29は
電源の正極側と接続される接続端子、30は電源の負極
側と接続される接続端子、26は負荷と接続される接続
端子、17は絶縁基板上のコレクタ配線、27、28は
絶縁基板上のエミッタ配線、21はAlN絶縁基板、2
2は銅またはSiC/Alのベース板である。通常ベー
ス板22上の半導体素子を含む回路部分は筐体で囲ま
れ、シリコン樹脂で充填される。
【0051】図6に、本実施の形態による電力半導体モ
ジュール内の直列に2個接続されたSiC−SBD部の
形態を示す。本実施の形態の直列に2個接続されたSi
C−SBD部の形態は、一方のSiCからなるSBDの
オーミック電極面と他方のSiCからなるSBDのショ
ットキー電極面が電気導体を介して直列接続されてい
る。10はSiC−SBDのSiC主要部材、11はS
iC−SBDのショットキー電極部、12はSiC−S
BDのオーミック電極部であり、23は一方のSiC−
SBDのショットキー電極と他方のSiC−SBDのオ
ーミック電極とを接続する接続導体である。電気導体2
3を介して2つのSiC−SBDが直列に接続される。
接続導体23としては、ワイヤボンドあるいは銅板等の
金属導体が望ましい。
【0052】図6では、接続導体23を一方のSiC−
SBDの電極と他方のSiC−SBDの電極とを直接に
接続するものであるが、中継端子を介して2つ以上の接
続導体により直列に接続してもよい。
【0053】本発明による電力半導体モジュールを単相
ブリッジインバーターに使用する場合、本発明による電
力半導体モジュールを2台使用することにより単相ブリ
ッジインバーター回路を形成する事が可能となる。例え
ば、図1中の26、29、30は図6の同一番号に対応
する。
【0054】本実施の形態による電力半導体モジュール
において、図5のワイヤボンド23により直列接続され
たSiC−SBD 10に還流電流が流れると、SiC
−SBDであってもエネルギー損失がありSiC−SB
D 10の温度が上昇する。SiC−SBD 10で発生
した熱は、17、27、28→21→22→冷却フィン
の順で外部へ放出される。一方のSiCからなるSBD
のオーミック電極面と、他方のSiCからなるSBDの
ショットキー電極面が電気導体を介して直列接続するこ
とにより、直列接続されるSiC−SBDを任意の距離
に設置することが可能となる。その場合、直列接続され
るSiC−SBDから外部への熱伝達経路は並列経路と
することが可能となり、それぞれのSiC−SBDの冷
却能力を高くすることができるので、SiC−SBDの
安定な動作を可能とする。
【0055】本実施の形態による電力半導体モジュール
においては、例えば、スイッチング素子の耐圧が6kV
で、SiC−SBDが同一の耐電圧能力を持ちそれぞれ
耐電圧3.0kVであれば直列に2個接続された2は耐
電圧6.0kVとなり、29と26間、あるいは26と
30間の印加電圧が6.0kV以下であれば、電力半導
体モジュールとして正常な動作が可能となり、高電圧の
電力変換回路において使用することが可能となる。
【0056】さらに、本実施の形態による電力半導体モ
ジュールを図1の回路で使用すれば、2A〜2DはSi
C−SBDが直列に2個接続された還流ダイオードであ
るので、スイッチング素子3A〜3Dがオン状態に移行
するときに生じる逆回復電流によるエネルギー損失を大
きく減らすことが可能となる。
【0057】また、本実施の形態による電力半導体モジ
ュールを、例えば図1の単相ブリッジインバーター回路
で使用すれば、本実施の形態による電力半導体モジュー
ル内のスイッチング素子3A〜3DはIGBTあるいは
MOSFETであるので、単相ブリッジインバーター回
路の高速なスイッチング動作が可能となる。
【0058】本実施の形態では直列接続されたSiC−
SBD2の1組に対してスイッチング素子3が1つ逆並
列に接続されているが、直列接続されたSiC−SBD
2の1組に対して2つ以上のスイッチング素子を逆並列
に接続しても、本実施の形態と同様な効果が期待でき
る。
【0059】本実施の形態では1組の直列接続するSi
C−SBDをスイッチング素子に逆並列に接続したが、
2組が並列に接続された直列接続するSiC−SBDを
スイッチング素子と逆並列に接続した場合、還流電流が
流れているときにおいての還流ダイオードの定常損失を
低くすることが可能となる。
【0060】
【発明の効果】以上の様に、電力変換回路において、少
なくとも1つのスイッチング素子とSiCからなる2個
以上のショットキーバリアダイオードが直列に接続され
た部分を搭載する半導体モジュールであって、前記の直
列に接続された少なくとも2個以上のSiCからなるシ
ョットキーバリアダイオードを前記スイッチング素子と
逆並列に接続した構造を持つ電力半導体モジュールを使
用することによって、定格電圧が高い電力変換回路にお
いても還流ダイオードの逆回復電流が原因となって生じ
るエネルギー損失を低減することができる。
【0061】さらに、直列に接続するSiCからなるS
BDの数を2個以上3個以下とすることによって、高電
圧の電力変換回路において、還流電流が流れているとき
においての還流ダイオードの定常損失を制限することが
可能となる。
【0062】さらに、直列に接続するSiCからなるS
BDの複数組を並列に接続する事によって、直列に接続
されたSiC−SBDからなる還流ダイオード部の通電
時における電圧降下を下げ、還流ダイオード部の損失を
低くすることが可能となる。
【0063】さらに、本発明モジュールに搭載するスイ
ッチング素子をIGBTあるいはMOSFETにするこ
とにより、電力変換回路の高速なスイッチング動作が可
能となる。
【0064】さらに、一方のSiCからなるSBDのオ
ーミック電極面と、他方のSiCからなるSBDのショ
ットキー電極面が、同一平面上で接続されることによ
り、電磁放射ノイズを低減することが可能となり、モジ
ュール誤動作の低減を行うことが可能となる。
【0065】さらに、一方のSiCからなるSBDのオ
ーミック電極面と他方のSiCからなるSBDのショッ
トキー電極面が電気導体を介して直列接続することによ
り、それぞれのSiC−SBDの冷却能力を高くするこ
とが出来、SiC−SBDの安定な動作を可能とする。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の電力半導体モジュールを使用した単
相ブリッジインバーターの回路図である。
【図2】 実施の形態2を説明する単相ブリッジインバ
ーター回路図である。
【図3】 実施の形態3のモジュール構造を示す図であ
る。
【図4】 実施の形態3の主要部分を説明する図であ
る。
【図5】 実施の形態4のモジュール構造を示す図であ
る。
【図6】 実施の形態4の主要部分を説明する図であ
る。
【図7】 従来の単相ブリッジインバーターの回路図で
ある。
【図8】 PWM出力波形を説明する図である。
【符号の説明】
1A〜1D 電力半導体モジュール、2 SiC−SB
D、2A〜2D SiC−SBD、3 スイッチング素
子、3A〜3D スイッチング素子、4 負荷、5 直
流電源、6A〜6D 電力半導体モジュール、7A〜7
D Si−PiNダイオード、8 コンデンサー、10
SiC主要部材、11 オーミック電極部、12 シ
ョットキー電極部、13 スイッチング素子のエミッタ
電極、16 金属導体、17 コレクタ配線、18 コ
レクタ導体、19 エミッタ導体、21 AlN絶縁基
板、22 銅ベース板、23 接続導体、25 電気導
体、26 負荷接続端子、27、28 エミッタ配線、
29 正極側電源接続端子、30 負極側電源接続端
子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥田 達也 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5H007 AA01 AA03 AA17 CA01 CB04 CB05 CC03 EA02 FA13 FA20 HA03 HA04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電力変換回路内において使用される電力
    半導体モジュールであって、少なくとも1個のスイッチ
    ング素子とSiCからなる2個以上のショットキーバリ
    アダイオードが直列に接続された部分を搭載し、前記の
    直列に接続された少なくとも2個以上のSiCからなる
    ショットキーバリアダイオードを前記スイッチング素子
    と逆並列に接続した電力半導体モジュール。
  2. 【請求項2】 前記直列に接続するSiCからなるショ
    ットキーバリアダイオードの数が2個以上3個以下であ
    ることを特徴とする請求項1記載の電力半導体モジュー
    ル。
  3. 【請求項3】 前記直列に接続するSiCからなるショ
    ットキーバリアダイオードの複数組をさらに並列に接続
    した請求項1記載の電力半導体モジュール。
  4. 【請求項4】 スイッチング素子がIGBTあるいはM
    OSFETである請求項1、2または3記載の電力半導
    体モジュール。
  5. 【請求項5】 一方のSiCからなるショットキーバリ
    アダイオードのオーミック電極面と、他方のSiCから
    なるショットキーバリアダイオードのショットキー電極
    面が、同一平面上で接続されるかあるいは電気導体を介
    して直列接続されることを特徴とする請求項1、2、3
    または4記載の電力半導体モジュール。
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