JP2001101899A - Semiconductor memory and its control method - Google Patents
Semiconductor memory and its control methodInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、メモリセルアレイ
内の全メモリセルを選択可能な半導体記憶装置に関し、
特に、全メモリセルを選択した状態で全メモリセルに所
望のストレスを印加するバーンインテストを行うことが
可能な半導体記憶装置を対象とする。The present invention relates to a semiconductor memory device capable of selecting all memory cells in a memory cell array.
In particular, the present invention is directed to a semiconductor memory device capable of performing a burn-in test for applying a desired stress to all the memory cells in a state where all the memory cells are selected.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体メモリをスクーリング(検査)す
る手法の一つに、バーンインテストと呼ばれるものがあ
る。バーンインテストは、温度や電源電圧を上げて条件
を厳しく加速した状態で、メモリセルにある動作状態、
例えば書き込み状態のストレスをかけるなどして、メモ
リセルの破壊状況などを検査するものである。2. Description of the Related Art One of the techniques for schooling (inspection) a semiconductor memory is a so-called burn-in test. In the burn-in test, the operating condition of the memory cell is measured under the condition that the conditions are severely accelerated by raising the temperature and the power supply voltage.
For example, the state of destruction of a memory cell is inspected by applying stress in a write state.
【0003】バーンインテストでは、通常のメモリアク
セスよりもはるかに長い時間、ストレスを印加する必要
があるため、アドレスをインクリメントしながらアドレ
スごとにテストしていたのでは、膨大なテスト時間がか
かり、実際上不可能である。このため、全メモリセルを
同時に選択した状態で、各メモリセルに同時にストレス
を印加するのが一般的である。In the burn-in test, it is necessary to apply a stress for a much longer time than a normal memory access. Therefore, if the test is performed for each address while incrementing the address, it takes an enormous test time. It is impossible. For this reason, it is common to apply stress to each memory cell simultaneously with all memory cells selected simultaneously.
【0004】図6は半導体メモリ内の全メモリセルを選
択する従来の選択制御回路の概略回路図である。アドレ
スバッファ31は、外部から入力されたアドレス信号を
入力初段回路32でバッファリングした後、NANDゲート
G1,G2にて正負2種類の信号Ai,/Aiを生成す
る。これら2種類の信号はデコード回路33に入力され
てデコードされる。FIG. 6 is a schematic circuit diagram of a conventional selection control circuit for selecting all memory cells in a semiconductor memory. The address buffer 31 buffers the address signal input from the outside in the input first-stage circuit 32, and then generates two types of positive and negative signals Ai and / Ai in the NAND gates G1 and G2. These two types of signals are input to the decoding circuit 33 and decoded.
【0005】また、NANDゲートG1,G2には、バーン
インテスト時にローレベルになる全セルテスト信号が入
力される。この信号がローレベルになると、NANDゲート
G1,G2の出力はいずれもハイレベルになり、全メモ
リセルが選択される。The NAND gates G1 and G2 are supplied with an all-cell test signal which goes low during a burn-in test. When this signal goes low, the outputs of the NAND gates G1 and G2 both go high, and all memory cells are selected.
【0006】図7はSRAM内のメモリセルアレイの概略構
成を示す図である。各メモリセルは、ワード線とビット
線対との間に接続されており、ビット線対にはカラム・
トランスファゲート34が接続されている。カラム・ト
ランスファゲート34はカラムデコーダ35によりオン
・オフ制御される。FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration of a memory cell array in an SRAM. Each memory cell is connected between a word line and a bit line pair.
The transfer gate 34 is connected. The column transfer gate 34 is on / off controlled by a column decoder 35.
【0007】SRAMの通常書き込み時は、いずれか一本の
ワード線と一組のカラムトランスファゲート34のみが
選択されて、データ線対Din,/Dinのデータが特定の
メモリセルのみに書き込まれる。一方、バーンインテス
ト時は、全ワード線と全カラムトランスファゲート34
が選択されて、データ線対Din,/Dinのデータがすべ
てのメモリセルに書き込まれる。At the time of normal writing of the SRAM, only one of the word lines and one set of the column transfer gates 34 are selected, and the data of the data line pair Din, / Din is written only to a specific memory cell. On the other hand, during the burn-in test, all word lines and all column transfer gates 34
Is selected, and the data of the data line pair Din, / Din is written to all the memory cells.
【0008】ところで、最近の半導体メモリは、歩留ま
り向上のため、不良セルと置き換え可能なスペアセルを
予め備えているものが多くなってきた。この種のメモリ
では、短絡不良などの不良が起こった不良セルを、ロウ
単位あるいはカラム単位で、スペアセルに置き換える。Meanwhile, in recent years, many semiconductor memories have a spare cell which can be replaced with a defective cell in advance in order to improve the yield. In this type of memory, a defective cell in which a defect such as a short circuit has occurred is replaced with a spare cell in units of rows or columns.
【0009】不良個所を示すアドレスは、ヒューズ素子
の切断によりチップ内に記憶される。メモリの通常動作
時に、外部からアドレスが入力されると、このアドレス
とチップ内に記憶された不良個所のアドレスとが比較さ
れ、両者が一致すれば、スペアセルへの置き換えが行わ
れる。An address indicating a defective portion is stored in the chip by cutting the fuse element. During normal operation of the memory, when an address is input from the outside, this address is compared with the address of a defective portion stored in the chip, and if they match, replacement with a spare cell is performed.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、不良セ
ルを有するメモリに対してバーンインテストを行うと、
上述した図6の回路により強制的に全メモリセルが選択
されるため、不良セルも選択されてしまう。このため、
例えば、ビット線の短絡(ショート)不良が起こった場
合には、図8の太線経路で示すように、データ線Dinか
らビット線を介して接地端子にリーク電流が流れ、デー
タ線Dinのハイレベル電圧が低下してしまう。データ線
Dinのハイレベル電圧が低下すると、それに伴って、他
の正常なセルに供給されるストレスレベルも低下するた
め、正常なスクリーニングが行えなくなってしまう。However, when a burn-in test is performed on a memory having a defective cell,
Since all the memory cells are forcibly selected by the above-described circuit of FIG. 6, a defective cell is also selected. For this reason,
For example, when a short-circuit (short) failure of a bit line occurs, a leak current flows from the data line Din to the ground terminal via the bit line as shown by a thick line path in FIG. The voltage will drop. When the high-level voltage of the data line Din decreases, the stress level supplied to other normal cells also decreases, so that normal screening cannot be performed.
【0011】このような問題は、接地レベルへの短絡不
良が起こった場合だけでなく、電源電圧レベルへの短絡
不良が起こった場合にも起こりうる。この場合、ローレ
ベル電圧が上昇して、ローレベル側のストレスレベルが
不十分になってしまう。Such a problem can occur not only when a short-circuit failure to the ground level occurs but also when a short-circuit failure to the power supply voltage level occurs. In this case, the low level voltage rises, and the low level stress level becomes insufficient.
【0012】また、これらの問題は、メモリセル自身の
不良だけでなく、カラム系の不良やロウ系の不良が起こ
った場合にも同様に起こりうる。[0012] These problems can occur not only when the memory cell itself is defective but also when a column-related defect or a row-related defect occurs.
【0013】本発明は、このような点に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、全セル選択時に各メモリセル
に印加されるストレスレベルが不良セルの影響を受けな
いようにした半導体記憶装置を提供することにある。The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory in which a stress level applied to each memory cell when all cells are selected is not affected by a defective cell. It is to provide a device.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、請求項1の発明は、不良セルに対応するアドレ
スを記憶する不良情報記憶手段と、前記不良情報記憶手
段に記憶されているアドレスに基づいて、不良セルを含
む所定範囲内のメモリセルをスペアセルに置き換えるス
ペアセル置換手段と、を備える半導体記憶装置におい
て、全メモリセルの選択を指示する全メモリセル選択信
号が入力されると、前記所定範囲内のメモリセルを除く
他のメモリセルすべてを選択する選択手段を備える。According to a first aspect of the present invention, there is provided a defect information storage unit for storing an address corresponding to a defective cell, and the defect information storage unit stores the address. A spare cell replacing means for replacing a memory cell within a predetermined range including a defective cell with a spare cell based on an address, in a semiconductor memory device, when an all memory cell selection signal instructing selection of all memory cells is input, A selection unit for selecting all of the memory cells other than the memory cells within the predetermined range;
【0015】請求項1の発明では、全メモリセル選択信
号が入力されると、不良セルを選択しないようにしたた
め、不良セルの影響で他の正常なメモリセルに所望のス
トレスが印加されないという不具合が起きなくなる。According to the first aspect of the present invention, when all the memory cell selection signals are inputted, a defective cell is not selected, so that a desired stress is not applied to other normal memory cells due to the influence of the defective cell. Will not happen.
【0016】請求項2の発明では、不良セルに対応する
アドレスを、複数のアドレスビットを単位としてプリデ
コードした結果を不良情報として記憶しておくため、不
良セルのアドレスだけでなく、不良個所がないという情
報も記憶しておくことができる。したがって、この不良
情報を利用すれば、不良セルを除いて他のすべてのメモ
リセルを選択することも容易にできるようになる。According to the second aspect of the present invention, the result of pre-decoding an address corresponding to a defective cell in units of a plurality of address bits is stored as defect information. Information that there is no information can also be stored. Therefore, if this defect information is used, it becomes easy to select all the other memory cells except for the defective cell.
【0017】請求項3,4の発明では、不良セルをカラ
ム単位あるいはロウ単位で置き換えることができ、ま
た、不良セルを含むカラムあるいはロウを、バーンイン
テストから除外することができる。According to the third and fourth aspects of the present invention, defective cells can be replaced in units of columns or rows, and columns or rows containing defective cells can be excluded from the burn-in test.
【0018】また、メモリセルがブロック単位で構成さ
れていて、ブロック単位で不良セルを置き換える場合
も、不良セルの影響で他の正常なメモリセルに所望のス
トレスが印加されないという不具合を解消できる。Further, even when a memory cell is configured in units of blocks and a defective cell is replaced in units of blocks, the problem that a desired stress is not applied to other normal memory cells due to the influence of the defective cell can be solved.
【0019】請求項6の発明は、メモリセルアレイ内の
全メモリセルを選択することが可能な半導体記憶装置の
制御方法において、外部から入力されたアドレス信号
を、複数のアドレスビットを単位としてプリデコードす
る第1ステップと、不良セルを置き換えるためのアドレ
スを、前記複数のアドレスビットを単位としてプリデコ
ードして記憶する第2ステップと、前記第1および第2
ステップのプリデコード結果のいずれかを選択して出力
する第3ステップと、前記第3ステップの出力に基づい
て、最終的なアドレスデコードを行う第4ステップと、
前記第4ステップのデコード結果と、このデコード結果
の反転信号とのいずれかを選択して出力する第5ステッ
プと、を備え、全メモリセルの選択を指示する全メモリ
セル選択信号が入力されると、前記第3ステップは前記
第2ステップのプリデコード結果を選択するとともに、
前記第5ステップは前記第4ステップのデコード結果の
反転信号を選択し、通常のセルアクセス時には、前記第
3ステップは前記第1ステップのプリデコード結果を選
択するとともに、前記第5ステップは前記第4ステップ
のデコード結果を選択する。According to a sixth aspect of the present invention, in the method of controlling a semiconductor memory device capable of selecting all memory cells in a memory cell array, an externally input address signal is pre-decoded in units of a plurality of address bits. A second step of pre-decoding and storing an address for replacing a defective cell in units of the plurality of address bits; and a first step of storing the first and second addresses.
A third step of selecting and outputting any of the pre-decoding results of the step, a fourth step of performing final address decoding based on the output of the third step,
A fifth step of selecting and outputting one of the decoding result of the fourth step and an inverted signal of the decoding result, wherein an all memory cell selection signal instructing selection of all memory cells is input; And the third step selects the pre-decoding result of the second step,
The fifth step selects an inverted signal of the decoding result of the fourth step, and in a normal cell access, the third step selects the pre-decoding result of the first step, and the fifth step selects the inversion signal of the first step. Select the decoding result of 4 steps.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る半導体記憶装
置について、図面を参照しながら具体的に説明する。以
下では、全メモリセルを選択状態にした状態で全メモリ
セルに同時にストレスを印加してバーンインテストを行
うことが可能な半導体記憶装置について説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a semiconductor memory device according to the present invention will be specifically described with reference to the drawings. Hereinafter, a semiconductor memory device capable of performing a burn-in test by simultaneously applying stress to all the memory cells in a state where all the memory cells are in a selected state will be described.
【0021】図1は本発明に係る半導体記憶装置の一実
施形態のブロック図である。図1ではアドレスデコード
を行う部分を主に示しており、それ以外の部分は省略し
ている。FIG. 1 is a block diagram of one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. FIG. 1 mainly shows a portion for performing address decoding, and omits other portions.
【0022】図1の半導体記憶装置は、アドレスバッフ
ァ1と、第1のプリデコーダ(第1のプリデコード手
段)2と、レジスタ回路3と、ヒューズデータ記憶部
(不良情報記憶手段)4と、第1のマルチプレクサ(第
1の選択手段)5と、第2のプリデコーダ(第2のプリ
デコード手段)6と、インバータ(反転手段)7と、第
2のマルチプレクサ(選択手段、第2の選択手段)8
と、メモリセルアレイ9と、を備えている。The semiconductor memory device shown in FIG. 1 includes an address buffer 1, a first predecoder (first predecoding means) 2, a register circuit 3, a fuse data storage section (defective information storage means) 4, A first multiplexer (first selection means) 5, a second predecoder (second predecoding means) 6, an inverter (inversion means) 7, and a second multiplexer (selection means, second selection means) Means) 8
And a memory cell array 9.
【0023】アドレスバッファ1は、図6と同様に構成
され、外部から入力されたアドレス信号をバッファリン
グした後、正負2種類のアドレス信号をそれぞれ出力す
る。第1のプリデコーダ2は、アドレス信号A0〜An
をm(m<n)ビット単位でプリデコードする。図2は
アドレス信号を3ビット単位でプリデコードした例を示
している。3ビット単位でデコードすると、それぞれ8
ビットの出力B0〜B7が得られる。これら8ビットの
うち、いずれか一つのビットのみが「1」になる。The address buffer 1 is constructed in the same manner as in FIG. 6, and buffers two types of address signals after buffering an externally input address signal. The first predecoder 2 includes address signals A0 to An
Is pre-decoded in m (m <n) bit units. FIG. 2 shows an example in which an address signal is pre-decoded in units of 3 bits. Decoding in 3-bit units yields 8
Bit outputs B0 to B7 are obtained. Of these 8 bits, only one bit becomes “1”.
【0024】第1のプリデコーダ2のデコード結果は、
レジスタ回路3により共通のタイミングでラッチされ
る。これにより、第1のプリデコーダ2のプリデコード
結果をクロックに同期化することができる。The decoding result of the first predecoder 2 is as follows.
The data is latched by the register circuit 3 at a common timing. Thereby, the predecode result of the first predecoder 2 can be synchronized with the clock.
【0025】一方、ヒューズデータ記憶部4は、不良箇
所に対応するアドレスをヒューズ素子を用いて記憶す
る。具体的には、第1のプリデコーダ2と同様に、不良
個所に対応するアドレスをmビット単位でプリデコード
した結果を記憶する。ヒューズデータ記憶部4は、全部
で2mビットのデータを記憶する。On the other hand, the fuse data storage section 4 stores an address corresponding to a defective portion using a fuse element. Specifically, similarly to the first predecoder 2, a result obtained by predecoding an address corresponding to a defective portion in units of m bits is stored. The fuse data storage unit 4 stores data of 2 m bits in total.
【0026】また、不良個所が存在する場合には、不良
個所に対応するビットを「1」に設定する。したがっ
て、不良個所がまったく存在しなければ、ヒューズデー
タ記憶部4はオール「0」のデータを記憶する。If a defective portion exists, the bit corresponding to the defective portion is set to "1". Therefore, if there is no defective portion, the fuse data storage unit 4 stores all “0” data.
【0027】従来は、不良個所のアドレスの各ビットご
とにヒューズ素子を設けていたため、不良個所が存在し
ない状態をヒューズ素子で表現することはできなかっ
た。例えば、ヒューズ素子のいずれも切断しない場合
は、オール「0」のアドレスか、あるいはオール「1」
のアドレスと一致するとみなされていた。Conventionally, since a fuse element is provided for each bit of the address of a defective portion, a state where no defective portion exists cannot be expressed by the fuse element. For example, when none of the fuse elements is blown, the address is all “0” or all “1”.
Was considered to match.
【0028】これに対して、本実施形態は、アドレス信
号をプリデコードした結果に対してヒューズ素子を割り
当てているため、不良個所が存在しない状態をオール
「0」として表現することができる。On the other hand, in the present embodiment, since a fuse element is assigned to the result of pre-decoding the address signal, a state where no defective portion exists can be expressed as all "0".
【0029】本実施形態のようにすると、従来よりもヒ
ューズ素子の本数が増えるが、通常、アドレス信号は、
複数段に分けてデコードされるため、初段のプリデコー
ド結果に対応させてヒューズ素子を設ければ、ヒューズ
素子の本数を従来の2〜3倍程度に抑えることができ、
回路構成が複雑になるおそれもない。According to the present embodiment, the number of fuse elements is increased as compared with the prior art.
Since decoding is performed in a plurality of stages, if a fuse element is provided corresponding to the predecode result of the first stage, the number of fuse elements can be suppressed to about two to three times the conventional number,
There is no fear that the circuit configuration becomes complicated.
【0030】また、最近の高速同期型メモリは、アドレ
スをプリデコードした結果を予めレジスタに格納してお
き、メモリアクセス時の時間短縮を図るのが一般的であ
り、アドレスのプリデコードに合わせて、ヒューズデー
タもプリデコードした結果を格納しておく方が自然であ
り、システムとして統一がとれる。In recent high-speed synchronous memories, the result of pre-decoding an address is generally stored in a register in advance to shorten the time required for memory access. It is more natural to store the result of pre-decoding of the fuse data, so that the system can be unified.
【0031】図1の第1のマルチプレクサ5は、全メモ
リセル選択信号testの論理に応じて、ヒューズデータ記
憶部4の出力と第1のプリデコーダ2の出力とのいずれ
か一方を選択する。具体的には、メモリの通常動作時
(testがローレベルのとき)には、第1のプリデコーダ
2の出力を選択し、バーンインテスト時(testがハイレ
ベルのとき)には、ヒューズデータ記憶部4の出力を選
択する。The first multiplexer 5 of FIG. 1 selects one of the output of the fuse data storage unit 4 and the output of the first predecoder 2 according to the logic of the all memory cell selection signal test. Specifically, during normal operation of the memory (when test is at a low level), the output of the first predecoder 2 is selected. At the time of a burn-in test (when test is at a high level), fuse data is stored. The output of the unit 4 is selected.
【0032】第2のプリデコーダ6は、第1のプリデコ
ーダ2の出力、あるいはヒューズデータ記憶部4の出力
に基づいてデコードを行い、最終的なデコード信号を出
力する。The second predecoder 6 performs decoding based on the output of the first predecoder 2 or the output of the fuse data storage unit 4, and outputs a final decoded signal.
【0033】第2のマルチプレクサ8は、全メモリセル
選択信号testの論理に応じて、第2のプリデコーダ6の
出力と、その反転出力とのいずれかを選択する。具体的
には、メモリの通常動作時(testがローレベルのとき)
には、第2のプリデコーダ6の出力を選択し、バーンイ
ンテスト時(testがハイレベルのとき)には、第2のプ
リデコーダ6の反転出力を選択する。The second multiplexer 8 selects one of the output of the second predecoder 6 and its inverted output according to the logic of the all memory cell selection signal test. Specifically, during normal operation of the memory (when test is at low level)
, The output of the second predecoder 6 is selected, and at the time of a burn-in test (when test is at a high level), the inverted output of the second predecoder 6 is selected.
【0034】第2のマルチプレクサ8の出力は、メモリ
セルアレイ9内のカラム・トランスファーゲートに供給
される。これにより、いずれか一つのカラム・トランス
ファーゲートがオンし、そのゲートに接続されているビ
ット線対にデータ線対Din,/Dinのデータが供給され
る。The output of the second multiplexer 8 is supplied to a column transfer gate in the memory cell array 9. As a result, one of the column transfer gates is turned on, and the data of the data line pair Din, / Din is supplied to the bit line pair connected to the gate.
【0035】なお、図1では省略しているが、ロウ側に
ついても図1と同様の回路が設けられる。ロウ側につい
ては、第2のマルチプレクサ8の出力により、いずれか
一つのワード線が駆動される。Although omitted in FIG. 1, a circuit similar to that of FIG. 1 is provided on the row side. On the row side, one of the word lines is driven by the output of the second multiplexer 8.
【0036】図3は第2のマルチプレクサ8の内部構成
を示す回路図である。第2のマルチプレクサ8は、トラ
ンスファーゲート11,12とインバータ13〜15と
で構成される。トランスファーゲート12には第2のプ
リデコーダ6の出力が入力され、トランスファーゲート
11には第2のプリデコーダ6の出力を図1のインバー
タ7で反転した信号が入力される。FIG. 3 is a circuit diagram showing the internal configuration of the second multiplexer 8. The second multiplexer 8 includes transfer gates 11 and 12 and inverters 13 to 15. The output of the second predecoder 6 is input to the transfer gate 12, and a signal obtained by inverting the output of the second predecoder 6 by the inverter 7 in FIG. 1 is input to the transfer gate 11.
【0037】全メモリセル選択信号testがハイレベルで
あれば、トランスファーゲート11がオンしてインバー
タ7の出力が選択され、全メモリセル選択信号testがロ
ーレベルであれば、トランスファーゲート12がオンし
て第2のプリデコーダ6の出力が選択される。When the all memory cell selection signal test is at a high level, the transfer gate 11 is turned on and the output of the inverter 7 is selected. When the all memory cell selection signal test is at a low level, the transfer gate 12 is turned on. Thus, the output of the second predecoder 6 is selected.
【0038】次に、バーンインテストを行う場合の図1
の半導体記憶装置の動作を説明する。バーンインテスト
を行う場合は、メモリセルアレイ9内のすべてのメモリ
セルが選択され、全メモリセル選択信号testはハイレベ
ルになる。したがって、図1の第1のマルチプレクサ5
は、ヒューズデータ記憶部4の出力信号を選択する。ヒ
ューズデータ記憶部4には、上述したように、不良個所
のアドレスがプリデコードされて格納されている。Next, FIG. 1 shows a case where a burn-in test is performed.
The operation of the semiconductor memory device will be described. When performing the burn-in test, all the memory cells in the memory cell array 9 are selected, and the all-memory-cell selection signal test goes high. Therefore, the first multiplexer 5 of FIG.
Selects the output signal of the fuse data storage unit 4. As described above, the address of the defective portion is predecoded and stored in the fuse data storage unit 4.
【0039】より詳細には、ヒューズデータ記憶部4
は、不良個所のアドレスに対応するビットのみ「1」を
記憶する。また、不良個所が存在しなければ、ヒューズ
データ記憶部4はオール「0」を記憶する。More specifically, the fuse data storage unit 4
Stores "1" only in the bit corresponding to the address of the defective part. If no defective part exists, the fuse data storage unit 4 stores all “0”.
【0040】ヒューズデータ記憶部4の出力は、第1の
マルチプレクサ5を介して第2のプリデコーダ6に入力
され、最終的なアドレス・デコードが行われる。その結
果、不良個所に対応するアドレスのみが選択される。ま
た、仮に、不良個所がどこにも存在しなければ、第2の
プリデコーダ6の出力はすべてのアドレスを非選択とす
る。The output of the fuse data storage unit 4 is input to the second predecoder 6 via the first multiplexer 5, and the final address decoding is performed. As a result, only the address corresponding to the defective part is selected. If no defective part exists anywhere, the output of the second predecoder 6 deselects all addresses.
【0041】また、第2のマルチプレクサ8は、全メモ
リセル選択信号testがハイレベルであるため、インバー
タ7の出力を選択する。すなわち、第2のマルチプレク
サ8は、第2のプリデコーダ6が選択したアドレスを非
選択とし、選択しなかったアドレスを選択する。Further, the second multiplexer 8 selects the output of the inverter 7 because the all memory cell selection signal test is at the high level. That is, the second multiplexer 8 deselects the address selected by the second predecoder 6 and selects an address not selected.
【0042】これにより、不良個所に対応するアドレス
のみが非選択となり、それ以外のアドレスはすべて選択
される。したがって、不良の起こったカラムを除いて、
他のすべてのカラムに対して、所望のストレスを与える
ことができる。As a result, only the address corresponding to the defective portion is deselected, and all other addresses are selected. Therefore, except for the column where the failure occurred,
The desired stress can be applied to all other columns.
【0043】この状態でバーンインテストを行えば、従
来のように、短絡不良等の起こったカラムやワード線の
影響により正常なメモリセルに対して所望のストレスを
印加できないという問題が発生しなくなる。If a burn-in test is performed in this state, the problem that a desired stress cannot be applied to a normal memory cell due to the influence of a column or a word line in which a short-circuit failure or the like has occurred does not occur.
【0044】図4はメモリの通常動作時のメモリアクセ
スを示す図であり、図4(a)は不良セルに対してアク
セスしようとしたため、スペアセルへの置き換えが行わ
れた例を示し、図4(b)はアクセス先のメモリセルが
良品である例を示している。また、図5はバーンインテ
スト時のメモリアクセスを示す図であり、図5(a)は
不良セルを除く全セルが選択される例を示し、図5
(b)は不良セルが存在しない例を示している。FIG. 4 is a diagram showing memory access during normal operation of the memory. FIG. 4A shows an example in which a defective cell is replaced with a spare cell due to an attempt to access the defective cell. (B) shows an example in which the memory cell of the access destination is a non-defective product. FIG. 5 is a diagram showing a memory access at the time of a burn-in test. FIG. 5A shows an example in which all cells except for a defective cell are selected.
(B) shows an example in which there is no defective cell.
【0045】このように、本実施形態は、外部から入力
されたアドレス信号をプリデコードした結果に対応させ
て、不良個所のアドレスをプリデコードした結果をヒュ
ーズデータとして記憶しておくため、不良個所をスペア
セルに置き換えることができるだけでなく、不良が存在
しないという状態もヒューズデータにより設定すること
ができる。したがって、ヒューズデータを利用すること
により、バーンインテスト時には、不良個所を除く全メ
モリセルに所望のストレスを印加することができる。As described above, according to the present embodiment, the result of pre-decoding the address of the defective part is stored as fuse data in correspondence with the result of pre-decoding the address signal input from the outside. Can be replaced with a spare cell, and a state in which no defect exists can be set by the fuse data. Therefore, by using the fuse data, a desired stress can be applied to all the memory cells except for the defective part at the time of the burn-in test.
【0046】また、本実施形態では、全セル選択信号te
stで第1および第2のマルチプレクサ8の選択を制御す
るため、これらマルチプレクサの選択を行う信号を別途
設ける必要がなくなる。In this embodiment, the all-cell selection signal te
Since the selection of the first and second multiplexers 8 is controlled by st, there is no need to separately provide a signal for selecting these multiplexers.
【0047】さらに、図1では、第2のプリデコーダ6
の出力が最終的なデコード結果となる例を示したが、3
段以上のプリデコーダを用いてアドレスのデコードを行
ってもよい。この場合、3段以上のプリデコーダのう
ち、最終段以外のいずれかのプリデコーダに対応させて
図1のヒューズデータ記憶部4を設け、その後段のプリ
デコーダの出力に図1のインバータ7を接続すればよ
い。Further, in FIG. 1, the second predecoder 6
Has been shown as an example in which the output of
The address may be decoded by using a pre-decoder of more than one stage. In this case, among the three or more stages of predecoders, the fuse data storage unit 4 of FIG. 1 is provided corresponding to any one of the predecoders other than the last stage, and the inverter 7 of FIG. Just connect.
【0048】ところで、最近の大容量メモリは、メモリ
セルアレイ9が複数のアレイブロックに分割されている
ことが多い。この場合、各アレイブロックごとにスペア
セル(スペアカラムやスペアロウ)とヒューズ素子が設
けられるので、各ブロックごとに図1のヒューズデータ
記憶部4を設ければよい。Incidentally, in recent large-capacity memories, the memory cell array 9 is often divided into a plurality of array blocks. In this case, since a spare cell (spare column or spare row) and a fuse element are provided for each array block, the fuse data storage unit 4 of FIG. 1 may be provided for each block.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、全メモリセル選択信号が入力されると、不良セル
を含む所定範囲のメモリセルを除く他のメモリセルすべ
てを選択するようにしたため、不良セルを除いてバーン
インテスト等のスクリーニングを行うことができる。こ
れにより、不良セルの影響を受けて他の正常なメモリセ
ルに所望のストレスが印加されないという不具合が起き
なくなり、スクリーニングの信頼性が向上する。As described above in detail, according to the present invention, when the all memory cell select signal is input, all the memory cells except for the memory cells in a predetermined range including a defective cell are selected. Therefore, screening such as a burn-in test can be performed except for defective cells. As a result, a problem that a desired stress is not applied to other normal memory cells due to the influence of the defective cell does not occur, and the reliability of the screening is improved.
【0050】また、不良セルに対応するアドレスを、複
数のアドレスビットを単位としてプリデコードした結果
を不良情報として記憶しておくため、不良セルのアドレ
スだけでなく、不良個所が存在しないという情報も記憶
しておくことができる。したがって、この不良情報を利
用すれば、不良セルを除いて他のすべてのメモリセルを
選択することも容易にできるようになる。Further, since the result of pre-decoding the address corresponding to the defective cell in units of a plurality of address bits is stored as defect information, not only the address of the defective cell but also information indicating that there is no defective portion is stored. It can be stored. Therefore, if this defect information is used, it becomes easy to select all the other memory cells except for the defective cell.
【図1】本発明に係る半導体記憶装置の一実施形態のブ
ロック図。FIG. 1 is a block diagram of one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.
【図2】アドレス信号を3ビット単位でプリデコードし
た例を示す図。FIG. 2 is a diagram showing an example in which an address signal is pre-decoded in units of 3 bits.
【図3】第2のマルチプレクサ8の内部構成を示す回路
図。FIG. 3 is a circuit diagram showing an internal configuration of a second multiplexer 8;
【図4】メモリの通常動作時のメモリアクセスを示す
図。FIG. 4 is a diagram showing memory access during normal operation of the memory.
【図5】(a),(b)はバーンインテスト時のメモリ
アクセスを示す図。FIGS. 5A and 5B are diagrams showing memory access during a burn-in test.
【図6】半導体メモリ内の全メモリセルを選択する従来
の選択制御回路の概略回路図。FIG. 6 is a schematic circuit diagram of a conventional selection control circuit for selecting all memory cells in a semiconductor memory.
【図7】SRAM内のメモリセルアレイの概略構成を示す
図。FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration of a memory cell array in an SRAM.
【図8】リークパスの一例を示す図。FIG. 8 is a diagram showing an example of a leak path.
【符号の説明】 1 アドレスバッファ 2 第1のプリデコーダ 3 レジスタ回路 4 ヒューズデータ記憶部 5 第1のマルチプレクサ 6 第2のプリデコーダ 7 インバータ 8 第2のマルチプレクサ 9 メモリセルアレイ[Description of Signs] 1 Address buffer 2 First predecoder 3 Register circuit 4 Fuse data storage unit 5 First multiplexer 6 Second predecoder 7 Inverter 8 Second multiplexer 9 Memory cell array
Claims (6)
良情報記憶手段と、 前記不良情報記憶手段に記憶されているアドレスに基づ
いて、不良セルを含む所定範囲内のメモリセルをスペア
セルに置き換えるスペアセル置換手段と、を備える半導
体記憶装置において、 全メモリセルの選択を指示する全メモリセル選択信号が
入力されると、前記所定範囲内のメモリセルを除く他の
メモリセルすべてを選択する選択手段を備えることを特
徴とする半導体記憶装置。1. A failure information storage means for storing an address corresponding to a defective cell, and a spare cell for replacing a memory cell within a predetermined range including the defective cell with a spare cell based on the address stored in the failure information storage means. And a replacement unit, wherein when the all memory cell selection signal instructing selection of all the memory cells is input, the selection unit that selects all the memory cells except for the memory cells within the predetermined range is provided. A semiconductor memory device comprising:
可能な半導体記憶装置において、 外部から入力されたアドレス信号を、複数のアドレスビ
ットを単位としてプリデコードする第1のプリデコード
手段と、 不良セルに対応するアドレスを、前記複数のアドレスビ
ットを単位としてプリデコードして記憶する不良情報記
憶手段と、 前記第1のプリデコード手段のプリデコード結果と、前
記不良情報記憶手段のプリデコード結果とのいずれかを
選択して出力する第1の選択手段と、 前記第1の選択手段の出力に基づいて、アドレスデコー
ドを行う第2のプリデコード手段と、 前記第2のプリデコード手段の出力信号を反転出力する
反転手段と、 前記第2のプリデコード手段の出力信号と、前記反転手
段の出力信号とのいずれかを選択して出力する第2の選
択手段と、を備え、 全メモリセルの選択を指示する全メモリセル選択信号が
入力されると、前記第1の選択手段は前記不良情報記憶
手段のプリデコード結果を選択するとともに、前記第2
の選択手段は前記反転手段の出力信号を選択し、通常の
セルアクセス時には、前記第1の選択手段は前記第1の
プリデコード手段のプリデコード結果を選択するととも
に、前記第2の選択手段は前記第2のプリデコード手段
のデコード結果を選択することを特徴とする半導体記憶
装置。2. A semiconductor memory device capable of selecting all memory cells in a memory cell array, wherein: first predecoding means for predecoding an externally input address signal in units of a plurality of address bits; A failure information storage means for predecoding and storing an address corresponding to the plurality of address bits as a unit, a predecoding result of the first predecoding means, and a predecoding result of the failure information storage means. First selecting means for selecting and outputting any one of them; second predecoding means for performing address decoding based on the output of the first selecting means; and an output signal of the second predecoding means. Inverting means for inverting and outputting; selecting one of an output signal of the second predecoding means and an output signal of the inverting means; And a second selection means for inputting a signal. When an all memory cell selection signal instructing selection of all memory cells is input, the first selection means selects a predecode result of the failure information storage means. Together with the second
The selecting means selects the output signal of the inverting means, and at the time of normal cell access, the first selecting means selects the pre-decoding result of the first pre-decoding means, and the second selecting means A semiconductor memory device, wherein a decoding result of the second pre-decoding means is selected.
ム単位で置き換えるためのアドレスを、前記複数のアド
レスビットを単位としてプリデコードして記憶すること
を特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。3. The semiconductor device according to claim 2, wherein said defect information storage means pre-decodes and stores an address for replacing a defective cell in a column unit in units of said plurality of address bits. Storage device.
単位で置き換えるためのアドレスを、前記複数のアドレ
スビットを単位としてプリデコードして記憶することを
特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。4. The semiconductor device according to claim 2, wherein said defect information storage means pre-decodes and stores an address for replacing a defective cell in a row unit in units of said plurality of address bits. Storage device.
レイを備え、 前記不良情報記憶手段は、各ブロックごとに、不良セル
を置き換えるためのアドレスを記憶することを特徴とす
る請求項2〜4のいずれかに記載の半導体記憶装置。5. The memory device according to claim 2, further comprising a memory cell array divided into a plurality of blocks, wherein said defect information storage means stores an address for replacing a defective cell for each block. The semiconductor memory device according to any one of the above.
することが可能な半導体記憶装置の制御方法において、 外部から入力されたアドレス信号を、複数のアドレスビ
ットを単位としてプリデコードする第1ステップと、 不良セルを置き換えるためのアドレスを、前記複数のア
ドレスビットを単位としてプリデコードして記憶する第
2ステップと、 前記第1および第2ステップのプリデコード結果のいず
れかを選択して出力する第3ステップと、 前記第3ステップの出力に基づいて、最終的なアドレス
デコードを行う第4ステップと、 前記第4ステップのデコード結果と、このデコード結果
の反転信号とのいずれかを選択して出力する第5ステッ
プと、を備え、 全メモリセルの選択を指示する全メモリセル選択信号が
入力されると、前記第3ステップは前記第2ステップの
プリデコード結果を選択するとともに、前記第5ステッ
プは前記第4ステップのデコード結果の反転信号を選択
し、通常のセルアクセス時には、前記第3ステップは前
記第1ステップのプリデコード結果を選択するととも
に、前記第5ステップは前記第4ステップのデコード結
果を選択することを特徴とする半導体記憶装置の制御方
法。6. A method of controlling a semiconductor memory device capable of selecting all memory cells in a memory cell array, comprising: a first step of pre-decoding an externally input address signal in units of a plurality of address bits. A second step of pre-decoding and storing an address for replacing a defective cell in units of the plurality of address bits; and a step of selecting and outputting one of the pre-decoding results of the first and second steps. A third step of performing final address decoding based on the output of the third step; and selecting and outputting one of a decoding result of the fourth step and an inverted signal of the decoding result. And when the all memory cell selection signal instructing the selection of all the memory cells is inputted, The third step selects the pre-decoding result of the second step, the fifth step selects an inverted signal of the decoding result of the fourth step, and at the time of normal cell access, the third step performs the first step. Wherein the pre-decoding result is selected and the decoding result of the fourth step is selected in the fifth step.
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