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JP2001166316A - Color filter, method of manufacture and liquid crystal element using the color filter - Google Patents

Color filter, method of manufacture and liquid crystal element using the color filter

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Publication number
JP2001166316A
JP2001166316A JP34581099A JP34581099A JP2001166316A JP 2001166316 A JP2001166316 A JP 2001166316A JP 34581099 A JP34581099 A JP 34581099A JP 34581099 A JP34581099 A JP 34581099A JP 2001166316 A JP2001166316 A JP 2001166316A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
colored
color filter
ink
color
ink receiving
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP34581099A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Takao
英昭 高尾
Shoji Shiba
昭二 芝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP34581099A priority Critical patent/JP2001166316A/en
Publication of JP2001166316A publication Critical patent/JP2001166316A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a spacer to a color filter in high precision and in a high yield. SOLUTION: An ink receptive layer 3 consisting of a photosensitive resin composition is formed on a transparent substrate 1 and patternwise exposed to form parts 6a and 6b to be colored and a part 5 not to be colored. When an ink 8 is applied onto the part 6a to be colored which is to be a colored pixel 9, the ink is also applied onto the part 6b to be colored which is adjacent to the part 6a to be colored through the part 5 not to be colored and the part 6b to be colored is expanded greater than the colored pixel 9 as a color mixture area onto which the two-color ink 8 is applied to be adopted as the spacer 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
カラー表示の液晶素子と、該液晶素子の構成部材である
カラーフィルタとその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device for color display used in a color television, a personal computer, a pachinko game machine, and the like, a color filter as a constituent member of the liquid crystal device, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラーフィルタとしては、透明基
板上に、ゼラチン、カゼイン、グリュー或いはポリビニ
ルアルコール等の親水性高分子からなる媒染層を設けた
後、該媒染層を染料色素にて染色してカラーフィルタの
着色画素を形成する染色法によるカラーフィルタ(染色
法カラーフィルタ)や、顔料等の着色剤が透明樹脂中に
分散されている感光性着色樹脂を用いて均一層を形成
し、該着色樹脂層をフォトリソグラフィによりパターニ
ングして着色層をフォトリソグラフィによりパターニン
グして着色画素を形成したカラーフィルタ(顔料法カラ
ーフィルタ)等が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a color filter, a mordant layer made of a hydrophilic polymer such as gelatin, casein, glue or polyvinyl alcohol is provided on a transparent substrate, and then the mordant layer is dyed with a dye. Forming a uniform layer using a color filter (dyeing color filter) by a dyeing method for forming colored pixels of a color filter by using a photosensitive coloring resin in which a coloring agent such as a pigment is dispersed in a transparent resin. There is known a color filter (a pigment method color filter) in which a colored resin layer is patterned by photolithography and a colored layer is patterned by photolithography to form colored pixels.

【0003】しかしながら、上記染色法カラーフィルタ
は、各色毎に媒染層の媒染処理を行うといった複雑な工
程を必要とするため、生産性、歩留まり等の点で問題が
あり、特に生産コスト的に不利である。また、顔料法カ
ラーフィルタを形成する場合には、高価な感光性着色樹
脂をスピンコート法により基板上に塗布し、着色樹脂層
を形成しているために着色樹脂の利用効率が非常に悪
く、これも生産コスト的に不利である。
[0003] However, the above-mentioned dyeing color filters require complicated processes such as mordant treatment of a mordant layer for each color, and therefore have problems in terms of productivity, yield, and the like, and are particularly disadvantageous in terms of production cost. It is. In the case of forming a color filter by a pigment method, an expensive photosensitive colored resin is applied on a substrate by a spin coating method, and the use efficiency of the colored resin is very poor because a colored resin layer is formed. This is also disadvantageous in production cost.

【0004】これに対し、より簡便な工程で、且つ着色
樹脂の利用効率を高め、デバイスサイドからの低コスト
のカラーフィルタの要求に応えるべく、インクジェット
方式を用いて着色画素を形成したカラーフィルタが、特
開昭59−75205号公報、特開昭63−23590
1号公報、特開平1−217320号公報等に示されて
いる。また、従来のカラーフィルタが内設されている液
晶ディスプレイでは、通常、ガラス基板上に接してメタ
ル遮光層パターン(いわゆるブラックマトリクス)が配
置され、該遮光層パターンに一部重なりを持ちながらそ
の上にカラーフィルタが設けられるという構成がとられ
ている。
On the other hand, in order to meet the demand for a low-cost color filter from the device side by using a simpler process and to increase the use efficiency of the colored resin, a color filter in which a colored pixel is formed using an ink jet method has been developed. JP-A-59-75205, JP-A-63-23590
No. 1, JP-A-1-217320 and the like. In a liquid crystal display in which a conventional color filter is provided, a metal light-shielding layer pattern (a so-called black matrix) is usually arranged in contact with a glass substrate, and the metal light-shielding layer pattern partially overlaps the light-shielding layer pattern. Is provided with a color filter.

【0005】また、近年では、液晶ディスプレイの製造
工程のうち、スペーサーを散布してセル組みを行う工程
をより簡便にする目的で、予めカラーフィルタ部にスペ
ーサー機能を有するパターンを設ける方法が行われてい
る。この場合、一般的にはカラーフィルタを隣接色で重
ね合わせてスペーサーにしたり、また、カラーフィルタ
を形成した後に感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ
法によりスペーサーパターンを形成していた。
In recent years, a method of providing a pattern having a spacer function in a color filter portion in advance has been performed for the purpose of simplifying a step of dispersing spacers and assembling cells in a liquid crystal display manufacturing process. ing. In this case, generally, a color filter is overlapped with an adjacent color to form a spacer, or a spacer pattern is formed by a photolithography method using a photosensitive resin after forming the color filter.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来のスペーサー
形成方法では、フォトリソグラフィ法を用いて精度良く
スペーサーを形成しなければならず、カラーフィルタの
形成方法としては生産性及び歩留まりを低下させるもの
であった。また、新たに感光性樹脂をスペーサーに用い
る場合には、材料を含めてコスト面で問題を有してい
た。
In the above-mentioned conventional method for forming a spacer, the spacer must be formed with high accuracy by using a photolithography method, and the method for forming a color filter lowers productivity and yield. there were. Further, when a new photosensitive resin is used for the spacer, there has been a problem in terms of cost including materials.

【0007】本発明の課題は、簡便な工程で、精度良く
スペーサーを形成したカラーフィルタを提供し、該カラ
ーフィルタを用いて、信頼性の高い液晶素子をより安価
に提供することにある。
An object of the present invention is to provide a color filter in which spacers are accurately formed by simple steps, and to provide a highly reliable liquid crystal element at a lower cost by using the color filter.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、透明基板上に複数の着色画素と隣接する
着色画素間にスペーサーを備えたカラーフィルタの製造
方法であって、透明基板上に樹脂組成物からなるインク
受容層を形成し、該インク受容層にインクを付与して着
色画素を形成する工程において、異なる色のインクを互
いに混色するようにインク受容層に付与することによっ
て、隣接する着色画素間に該着色画素よりも突出した混
色領域を形成してスペーサーとすることを特徴とする。
A method of manufacturing a color filter according to the present invention is a method of manufacturing a color filter having a plurality of colored pixels on a transparent substrate and a spacer between adjacent colored pixels, comprising the steps of: Forming an ink receiving layer made of a resin composition, and applying the ink to the ink receiving layer to form a colored pixel, by applying the ink of different colors to the ink receiving layer so as to be mixed with each other, A spacer is formed between adjacent colored pixels by forming a mixed color region protruding from the colored pixel.

【0009】上記本発明において好ましくは、光照射に
よりインク受容能が変化する感光性樹脂組成物を用いて
インク受容層を形成し、パターン露光することにより着
色画素となる領域及び混色領域にインク受容能を有する
被着色部を形成し、着色画素と混色領域との境界に該被
着色部よりもインク受容能の低い非着色部を形成し、着
色工程において、着色画素となる被着色部にインクを付
与すると同時に、該被着色部に隣接する非着色部を超え
て混色領域である被着色部にもインクを付与する。
In the present invention, preferably, an ink receiving layer is formed by using a photosensitive resin composition whose ink receiving ability is changed by light irradiation, and the ink receiving layer is formed in a color pixel area and a color mixing area by pattern exposure. Forming a non-colored part having a lower ink receiving capacity than the colored part at the boundary between the colored pixel and the mixed color area; At the same time as applying the ink, the ink is also applied to the colored portion which is a mixed color region beyond the non-colored portion adjacent to the colored portion.

【0010】また、上記本発明においては、インク受容
層にインクを付与する手段が、インクジェット方式であ
ることが好ましく、さらに、透明基板上に、少なくとも
異なる色の着色画素間を遮光する遮光層を形成するこ
と、該遮光層が厚さ0.1〜2.0μmの金属或いは金
属酸化物層、或いは、厚さ0.5〜2.0μmの黒色樹
脂層であることを好ましい態様として含むものである。
[0010] In the present invention, the means for applying ink to the ink receiving layer is preferably an ink jet method. Further, a light-shielding layer for shielding at least between colored pixels of different colors is provided on a transparent substrate. It is preferable that the light shielding layer is a metal or metal oxide layer having a thickness of 0.1 to 2.0 μm or a black resin layer having a thickness of 0.5 to 2.0 μm.

【0011】また本発明のカラーフィルタは、透明基板
上に複数の着色画素と隣接する着色画素間にスペーサー
を備え、上記本発明のカラーフィルタの製造方法により
製造されたことを特徴とする。本発明は、着色画素上に
保護層を有するカラーフィルタを好ましい態様として含
むものである。
A color filter according to the present invention is characterized in that a spacer is provided between a plurality of colored pixels and adjacent colored pixels on a transparent substrate, and is manufactured by the above-described method for manufacturing a color filter of the present invention. The present invention includes a color filter having a protective layer on a colored pixel as a preferred embodiment.

【0012】さらに本発明は、一対の基板間に液晶を狭
持してなり、一方の基板が上記本発明のカラーフィルタ
を用いて構成したことを特徴とする液晶素子を提供する
ものである。
Further, the present invention provides a liquid crystal element characterized in that a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, and one of the substrates is formed using the color filter of the present invention.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタの製造方
法においては、樹脂組成物からなるインク受容層にイン
クを付与して着色画素を形成する。インク受容層はイン
クを吸収すると膨潤し、体積が膨張するが、この時、隣
接する異なる色の着色画素間で意図的に混色領域を設け
る。インク受容層の体積の膨張程度は吸収したインク量
に比例するが、混色領域では、異なる2色のインクを吸
収するため、着色画素よりも大きく膨張し、着色画素表
面よりも高い凸形状が形成されることになる。本発明で
はこれをディスプレイを構成する際に対向基板との間の
間隔を保持するためのスペーサーとして利用するもので
ある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the method of manufacturing a color filter according to the present invention, colored pixels are formed by applying ink to an ink receiving layer made of a resin composition. When the ink receiving layer absorbs ink, it swells and expands in volume. At this time, a color mixture region is intentionally provided between adjacent colored pixels of different colors. The degree of expansion of the volume of the ink receiving layer is proportional to the amount of ink absorbed. However, in the mixed color region, since two different colors of ink are absorbed, the ink receiving layer expands more than the colored pixel and forms a convex shape higher than the colored pixel surface. Will be done. In the present invention, this is used as a spacer for maintaining a gap between the display and the counter substrate when forming a display.

【0014】本発明において、混色領域の幅や長さは、
着色画素内への混色の防止と、スペーサーとして必要な
高さとインクを吸収して膨潤するインク受容層の高さと
を考慮して適宜設定することが好ましい。特に、本発明
では、インク受容層を感光性樹脂組成物で形成し、予め
パターン露光することにより、表示に関わる着色画素と
スペーサーとなる混色領域との間に非着色部を形成し
て、混色を非着色部で囲まれた混色領域内に留めること
が、混色のない着色画素を形成する上で有効である。
尚、十分な高さのスペーサーを形成することができ、同
時に混色のない着色画素を形成することができる場合に
は、特に非着色部を形成する必要はない。
In the present invention, the width and length of the mixed color area are
It is preferable to set appropriately in consideration of the prevention of color mixing in the colored pixels, the height required for the spacer, and the height of the ink receiving layer that absorbs ink and swells. In particular, in the present invention, the ink-receiving layer is formed of a photosensitive resin composition, and is subjected to pattern exposure in advance to form a non-colored portion between a color pixel involved in display and a color-mixed region serving as a spacer, thereby performing color mixing. In the mixed color region surrounded by the non-colored portion is effective in forming a colored pixel without color mixture.
When a spacer having a sufficient height can be formed and a color pixel without color mixture can be formed at the same time, it is not particularly necessary to form a non-colored portion.

【0015】図1に、本発明のカラーフィルタの製造方
法の一実施形態の工程を示す。本実施形態は、上記非着
色部を形成して着色する例である。図1中、1は透明基
板、2はブラックマトリクス、3はインク受容層、4は
フォトマスク、5は非着色部、6a,6bは被着色部、
7はインクジェットヘッド、8はインク、9は着色部、
10はスペーサー、11は保護層である。以下、各工程
を説明するが、図1の(a)〜(e)は下記工程(a)
〜(e)にそれぞれ対応する断面模式図である。
FIG. 1 shows the steps of one embodiment of the method for manufacturing a color filter of the present invention. The present embodiment is an example in which the non-colored portion is formed and colored. In FIG. 1, 1 is a transparent substrate, 2 is a black matrix, 3 is an ink receiving layer, 4 is a photomask, 5 is a non-colored portion, 6a and 6b are portions to be colored,
7 is an inkjet head, 8 is an ink, 9 is a colored part,
10 is a spacer, 11 is a protective layer. Hereinafter, each step will be described, and FIGS. 1A to 1E show the following step (a).
It is a cross-sectional schematic diagram respectively corresponding to (e).

【0016】工程(a) 透明基板1上に、必要に応じてブラックマトリクス2を
形成する。透明基板1としては、一般にガラスが用いら
れるが、カラーフィルタの透明性を損なわず、強度等必
要な特性を備えたものであれば、プラスチック等も用い
ることができる。また、本発明のカラーフィルタは、主
として液晶素子に好ましく用いられるが、液晶素子以外
にも、カラーフィルタとスペーサーとを必要とする素子
には好ましく用いられる。
Step (a) A black matrix 2 is formed on a transparent substrate 1 as required. As the transparent substrate 1, glass is generally used, but plastics or the like may be used as long as they have necessary characteristics such as strength without impairing the transparency of the color filter. The color filter of the present invention is preferably used mainly for a liquid crystal element, but is preferably used for an element requiring a color filter and a spacer in addition to the liquid crystal element.

【0017】ブラックマトリクス2は、少なくとも隣接
する異なる色の着色画素間を遮光する遮光層であり、ブ
ラックストライプでも良い。本発明においては、該遮光
層として、厚さ0.1〜2.0μmの金属或いは金属酸
化物層が好ましく用いられる。これら遮光層は、真空成
膜やメッキ等により金属或いは金属酸化物を透明基板1
上に成膜し、通常のフォトレジストを用いたフォトリソ
グラフィによりパターニングやエッチング処理して得ら
れる。当該金属及び金属酸化物としては、Cr、Al、
Cu、Mo、Ni等、及びこれらの金属酸化物、合金が
用いられる。
The black matrix 2 is a light-shielding layer for shielding at least between adjacent colored pixels of different colors, and may be a black stripe. In the present invention, a metal or metal oxide layer having a thickness of 0.1 to 2.0 μm is preferably used as the light-shielding layer. These light-shielding layers are made of metal or metal oxide by a vacuum deposition or plating.
It is obtained by forming a film thereon and performing patterning and etching by photolithography using a normal photoresist. The metals and metal oxides include Cr, Al,
Cu, Mo, Ni, etc., and their metal oxides and alloys are used.

【0018】また、本発明においては、遮光層として厚
さ0.5〜2.0μmの黒色樹脂層も好ましく用いられ
る。このような黒色樹脂層としては、市販の黒色レジス
ト等を用い、通常のフォトリソグラフィにより容易に形
成することができる。
In the present invention, a black resin layer having a thickness of 0.5 to 2.0 μm is preferably used as a light shielding layer. Such a black resin layer can be easily formed by ordinary photolithography using a commercially available black resist or the like.

【0019】本発明にかかるスペーサー10が十分な高
さに形成できない場合には、ブラックマトリクス2を厚
く形成することによって、高さを稼ぐことができる。
If the spacer 10 according to the present invention cannot be formed with a sufficient height, the height can be increased by forming the black matrix 2 thick.

【0020】次いで、透明基板1上に全面にインク受容
層3を形成する。本発明にかかるインク受容層3はイン
ク受容能を有する樹脂組成物で形成され、本実施形態の
如く、着色前に予め非着色部5を形成する場合には、光
照射によりインク受容能が変化する感光性樹脂組成物で
形成する。即ち、UV光やDeep−UV光を用いた光
照射或いは該光照射と熱処理によってインク受容能が発
現(増加)或いは消失(低減)する樹脂組成物で形成
し、次工程においてパターン露光して混色防止のための
非着色部5を形成する。当該樹脂組成物の感光性として
は、ネガ型、ポジ型のいずれでも良く、具体的には、ア
クリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン樹脂、ヒド
ロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースな
どのセルロース誘導体或いはその変性物、アミド系樹
脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系樹脂などが必要
に応じて光開始剤(架橋剤)と併せて用いられる。ま
た、感光剤を含むゼラチン、カゼイン、グリュー等の天
然物やポリビニルアルコール等も用いることができる。
光開始剤としては、重クロム酸塩、ビスアジド化合物、
ラジカル系開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始
剤等が使用可能であり、さらには、これらの光開始剤を
混合して、或いは他の増感剤と組み合わせて使用するこ
とができる。さらに、オニウム塩などの光酸発生剤を架
橋剤として使用することも可能である。本実施形態は、
光照射によりインク受容性を消失(或いは低減)する、
ネガ型の樹脂組成物を用いた例を示す。
Next, an ink receiving layer 3 is formed on the entire surface of the transparent substrate 1. The ink receiving layer 3 according to the present invention is formed of a resin composition having ink receiving ability. When the non-colored portion 5 is formed in advance before coloring as in the present embodiment, the ink receiving ability is changed by light irradiation. Formed of a photosensitive resin composition. That is, it is formed by a light irradiation using UV light or Deep-UV light or a resin composition in which the ink receiving ability is expressed (increased) or disappeared (decreased) by the light irradiation and heat treatment, and is subjected to pattern exposure and color mixing in the next step. A non-colored portion 5 for prevention is formed. The photosensitivity of the resin composition may be either negative type or positive type, specifically, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, hydroxypropylcellulose, hydroxyethylcellulose, methylcellulose, cellulose such as carboxymethylcellulose. A derivative or a modified product thereof, an amide-based resin, a phenol-based resin, a polystyrene-based resin, or the like is used in combination with a photoinitiator (crosslinking agent) as necessary. In addition, natural products such as gelatin, casein, and glue containing a photosensitive agent, polyvinyl alcohol, and the like can also be used.
As photoinitiators, dichromates, bisazide compounds,
A radical initiator, a cationic initiator, an anionic initiator, and the like can be used, and further, these photoinitiators can be used in combination or in combination with another sensitizer. Furthermore, a photoacid generator such as an onium salt can be used as a crosslinking agent. In this embodiment,
Loses (or reduces) ink receptivity by light irradiation,
An example using a negative resin composition will be described.

【0021】上記感光性樹脂組成物は、スピンコート、
ロールコート、バーコート、スプレーコート、ディップ
コート等の方法により透明基板1上に塗布し、必要に応
じてプリベークしてインク受容層3とする。インク受容
層3の厚さは、通常0.1〜5.0μm程度、好ましく
は0.5〜2.0μm程度とすることが好ましい。
The above photosensitive resin composition is spin-coated,
It is applied on the transparent substrate 1 by a method such as roll coating, bar coating, spray coating, dip coating and the like, and is prebaked as necessary to form the ink receiving layer 3. The thickness of the ink receiving layer 3 is usually about 0.1 to 5.0 μm, preferably about 0.5 to 2.0 μm.

【0022】また、インク受容層3と透明基板1との密
着性を向上させる必要がある場合には、透明基板1に予
めシランカップリング剤等を薄く塗布した後にインク受
容層3を形成するか、或いは、シランカップリング剤を
少量添加した樹脂組成物を用いてインク受容層3を形成
してもよい。
When it is necessary to improve the adhesion between the ink receiving layer 3 and the transparent substrate 1, if the ink receiving layer 3 is formed after a thin coating of a silane coupling agent or the like on the transparent substrate 1 in advance. Alternatively, the ink receiving layer 3 may be formed using a resin composition to which a small amount of a silane coupling agent is added.

【0023】工程(b) フォトマスク4を用いて、インク受容層3をパターン露
光し、露光部分のインク受容性を消失(或いは低減)せ
しめて非着色部5を形成する。非着色部5はブラックマ
トリクス2に重なる位置に混色領域を開けて形成され、
特に、ブラックマトリクス2の開口部境界における白抜
けを防止する観点から、ブラックマトリクスの内側に形
成することが好ましい。また、混色防止効果を高める上
で、非着色部5が撥インク性を発現するような成分をイ
ンク受容層3に付与しておくことも好ましく適用され
る。
Step (b) The photoreceptor 4 is used to pattern-expose the ink receiving layer 3 to extinguish (or reduce) the ink receptivity of the exposed portions to form the non-colored portions 5. The non-colored portion 5 is formed by opening a mixed color region at a position overlapping the black matrix 2,
In particular, from the viewpoint of preventing white spots at the boundaries of the openings of the black matrix 2, it is preferable to form them inside the black matrix. In order to enhance the effect of preventing color mixing, it is also preferable to apply a component that causes the non-colored portion 5 to exhibit ink repellency to the ink receiving layer 3.

【0024】当該工程において露光されなかった領域は
被着色部6a、6bとなる。また、露光によりインク受
容性が発現(或いは増加)するポジ型の樹脂組成物を用
いた場合には、逆のパターンで露光すればよい。
The areas not exposed in this step are the colored portions 6a and 6b. When a positive-type resin composition that develops (or increases) ink receptivity upon exposure is used, exposure may be performed in the reverse pattern.

【0025】工程(c) インクジェットヘッド7より、所定の着色パターンに沿
って、所定の色のインク8を被着色部6aと該被着色部
6aとは非着色部6bを介して隣接する両側の被着色部
6b(混色領域)に吐出し、着色する。この時、被着色
部6bに付与されたインクは、隣接する異なる色のイン
クが吐出される被着色部6aとの間に非着色部6bが介
在するため、被着色部6b内に留まり、隣接する異なる
色の被着色部6aへの混色は防止される。
Step (c) The ink 8 of a predetermined color is applied from the ink jet head 7 along a predetermined coloring pattern on both sides adjacent to the portion 6a to be colored and the portion 6a to be colored via the non-colored portion 6b. It is discharged to the colored portion 6b (mixed color region) and colored. At this time, since the non-colored portion 6b is interposed between the coloring portion 6b and the adjacent coloring portion 6a from which the ink of a different color is ejected, the ink applied to the coloring portion 6b stays in the coloring portion 6b. The color mixture to the colored portions 6a of different colors is prevented.

【0026】本発明において用いられるインクジェット
方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体
を用いたバブルジェットタイプ、或いは、圧電素子を用
いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面
積及び着色パターンは任意に設定することができる。ま
た、本発明では、インクジェット方式以外にも、任意の
領域にインクを付与しうる手段であれば適宜用いること
ができる。
As the ink jet method used in the present invention, a bubble jet type using an electrothermal converter as an energy generating element, a piezo jet type using a piezoelectric element, or the like can be used. Can be set arbitrarily. In the present invention, other than the inkjet method, any means that can apply ink to an arbitrary region can be used as appropriate.

【0027】また、本発明においてインク受容層3の着
色に用いられるインク8は、染料或いは顔料等着色剤を
含有し、吐出時に液状であるものであれば、いずれでも
好ましく用いられる。
The ink 8 used for coloring the ink receiving layer 3 in the present invention is preferably used as long as it contains a colorant such as a dye or a pigment and is liquid at the time of ejection.

【0028】当該工程において、着色画素となる被着色
部6aよりも混色領域である被着色部6bの面積が狭
く、しかも被着色部6bには非着色部6aを介して隣接
する両側の被着色部6aにインクが付与される際に同時
にインクが付与されるため、2色のインクが付与される
ことになり、被着色部6aよりも多量のインクを吸収
し、被着色部6aよりも高く膨潤する。
In this step, the area of the colored portion 6b, which is a mixed color region, is smaller than the colored portion 6a to be a colored pixel, and the colored portion 6b is adjacent to the colored portion 6a via the non-colored portion 6a. Since the ink is applied at the same time as the ink is applied to the portion 6a, two colors of ink are applied, so that a larger amount of ink is absorbed than the colored portion 6a and higher than the colored portion 6a. Swell.

【0029】本発明において、被着色部6bにおけるイ
ンクの混色による膨潤のみではスペーサーとしての十分
な高さが得られない場合、前記したように遮光層で高さ
を稼ぐ方法以外にも、別途凸部材を当該領域に形成した
り、或いは、液晶素子を構成する際に、対向基板側に凸
部材を設けてスペーサーとしての高さを補ってもかまわ
ない。
In the present invention, when a sufficient height as a spacer cannot be obtained only by swelling due to color mixture of the ink in the colored portion 6b, other than the method of increasing the height by the light-shielding layer as described above, a convex When a member is formed in the region or a liquid crystal element is formed, a convex member may be provided on the counter substrate side to supplement the height as a spacer.

【0030】工程(d) 熱処理或いは光照射等必要な処理を施してインク受容層
全体を硬化させ、非着色部5と着色画素9とスペーサー
10からなる着色層を形成する。
Step (d) A necessary treatment such as heat treatment or light irradiation is performed to cure the entire ink receiving layer, thereby forming a colored layer including the non-colored portion 5, the colored pixel 9, and the spacer 10.

【0031】さらに、必要に応じて着色層上に保護層1
1を形成し、本発明のカラーフィルタを得る。保護層1
1の材料としては、例えば、ポリアミド、ポリイミド、
ポリウレタン、ポリカーボネート及びシリコーン樹脂
や、SiN、SiO2、Al2 3、Ta25等の無機化
合物が挙げられ、スピンコート、ロールコート、印刷等
の塗布法、或いは、蒸着法等により形成される。保護層
11の厚みは、0.1〜2.0μm程度が好ましい。い
ずれの場合もカラーフィルタとしての透明性を有し、そ
の後のITO形成工程、配向膜形成工程等に耐えるもの
であれば使用することができる。
Further, if necessary, a protective layer 1 may be formed on the colored layer.
1 to obtain the color filter of the present invention. Protective layer 1
Examples of the material 1 include polyamide, polyimide,
Polyurethane, polycarbonate and silicone resin
Or SiN, SiOTwo, AlTwoO Three, TaTwoOFiveMineralization
Compounds, spin coating, roll coating, printing, etc.
Is formed by a coating method or a vapor deposition method. Protective layer
The thickness of 11 is preferably about 0.1 to 2.0 μm. I
Even in the case of misalignment, it has transparency as a color filter,
That withstand the subsequent ITO formation process, alignment film formation process, etc.
Can be used.

【0032】図3に本発明のカラーフィルタを上から見
た様子を模式的に示す。図中、31はブラックマトリク
スの開口部である。図3は上記図1の工程で形成したカ
ラーフィルタの一例であり、ストライプ状にR(赤)、
G(緑)、B(青)の着色画素9が順次平行に配列し、
スペーサー10はブラックマトリクスの開口部31に並
んで配置されている。本発明では、スペーサー10の形
成位置は図3の例に限定されるものではなく、図4に示
されるように、ブラックマトリクスの開口部31と互い
違いにスペーサー10’を設けてもかまわない。
FIG. 3 schematically shows the color filter of the present invention viewed from above. In the figure, reference numeral 31 denotes an opening of the black matrix. FIG. 3 shows an example of the color filter formed in the step of FIG. 1 described above.
G (green) and B (blue) colored pixels 9 are sequentially arranged in parallel,
The spacers 10 are arranged side by side with the openings 31 of the black matrix. In the present invention, the formation position of the spacer 10 is not limited to the example of FIG. 3, and the spacer 10 ′ may be provided alternately with the opening 31 of the black matrix as shown in FIG.

【0033】次に、図2に本発明の液晶素子の一実施形
態の断面模式図を示す。本実施形態は、図1の工程によ
り得られた本発明のカラーフィルタを用いて、TFT型
カラー液晶素子を構成した例である。図中、12は共通
電極、13,23は配向膜、21は対向基板、22は画
素電極、24は液晶であり、図1と同じ部材には同じ符
号を付して説明を省略する。
Next, FIG. 2 is a schematic sectional view of one embodiment of the liquid crystal element of the present invention. The present embodiment is an example in which a TFT type color liquid crystal element is configured using the color filter of the present invention obtained by the process of FIG. In the figure, 12 is a common electrode, 13 and 23 are alignment films, 21 is a counter substrate, 22 is a pixel electrode, and 24 is a liquid crystal, and the same members as those in FIG.

【0034】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ側の基板1と対向基板21とを合わせ込み、液晶24
を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基
板321の内側に、TFT(不図示)と画素電極22が
マトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ
側の基板1の内側には、画素電極22に対向する位置
に、R、G、Bが配列するように、カラーフィルタの着
色部9が形成され、その上に透明な共通電極12が形成
される。ブラックマトリクス2は、通常カラーフィルタ
側に形成されるが、BMオンアレイタイプの液晶素子等
対向基板21側に形成される場合もある。さらに、両基
板の面内には配向膜13,23が形成されており、液晶
分子を一定方向に配列させている。これらの基板は、ス
ペーサー(不図示)を介して対向配置され、シール材
(不図示)によって貼り合わされ、その間隙に液晶24
が充填される。
In general, the color liquid crystal element is formed by aligning the substrate 1 on the color filter side with the counter substrate 21,
Is formed by encapsulating. TFTs (not shown) and pixel electrodes 22 are formed in a matrix inside one substrate 321 of the liquid crystal element. Further, inside the substrate 1 on the color filter side, a colored portion 9 of a color filter is formed at a position facing the pixel electrode 22 so that R, G, and B are arranged, and a transparent common electrode 9 is formed thereon. 12 are formed. The black matrix 2 is usually formed on the color filter side, but may be formed on the counter substrate 21 side such as a BM-on-array type liquid crystal element. Furthermore, alignment films 13 and 23 are formed in the plane of both substrates, and the liquid crystal molecules are arranged in a certain direction. These substrates are opposed to each other via a spacer (not shown), are bonded by a sealing material (not shown), and a liquid crystal 24
Is filled.

【0035】上記液晶素子は、透過型の場合には、基板
21及び画素電極22を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行う。また、反射型の場合
には、基板21或いは画素電極22を反射機能を備えた
素材で形成するか、或いは、基板21上に反射層を設
け、透明基板1の外側に偏光板を設け、カラーフィルタ
側から入射した光を反射して表示を行う。
In the case of the transmission type liquid crystal element, the substrate 21 and the pixel electrode 22 are formed of a transparent material, a polarizing plate is bonded to the outside of each substrate, and a fluorescent lamp and a scattering plate are generally combined. The display is performed by using the backlight and using the liquid crystal compound as an optical shutter for changing the transmittance of the backlight. In the case of the reflection type, the substrate 21 or the pixel electrode 22 is formed of a material having a reflection function, or a reflection layer is provided on the substrate 21, and a polarizing plate is provided outside the transparent substrate 1. Display is performed by reflecting light incident from the filter side.

【0036】また、本発明の液晶素子においては、本発
明のカラーフィルタを用いて構成されていれば、他の部
材については従来の技術をそのまま用いることができる
ことは言うまでもない。
In the liquid crystal device of the present invention, as long as it is constituted by using the color filter of the present invention, it is needless to say that the conventional technique can be used as it is for the other members.

【0037】[0037]

【実施例】(実施例1)ガラス基板上に、Deep−U
V光に対して感度を有するアクリル系樹脂をスピンコー
ト法によって、1.0μmの膜厚で塗布し、オーブンに
て50℃で1分間のプリベーク処理を行った。次いで、
隣接する着色画素間の幅を30μmとし、その幅の間に
20μm幅で50μm長の混色領域とその両側に5μm
幅の非着色部を形成しうるパターンマスクを用い、De
ep−UV光で60mJ/cm2の露光を行った。
(Example 1) Deep-U was placed on a glass substrate.
An acrylic resin having sensitivity to V light was applied by a spin coating method to a thickness of 1.0 μm, and prebaked in an oven at 50 ° C. for 1 minute. Then
The width between adjacent colored pixels is 30 μm, and a mixed color region having a width of 20 μm and a length of 50 μm between the widths and 5 μm on both sides thereof.
Using a pattern mask capable of forming a non-colored portion having a width, De
Exposure was performed at 60 mJ / cm 2 with ep-UV light.

【0038】次いで、該基板を110℃のホットプレー
ト上で60秒間放置し、PEB(ポスト・エクスポージ
ャー・ベーク)処理を行った後、染料をベースにした
R、G、Bの各色のインクをインクジェット方式の描画
装置にて、両側の混色領域を含む被着色部に付与した。
次いで、90℃にて10分間の乾燥を行った後、230
℃にて30分間のポストベーク処理を行って、R、G、
Bの着色画素と、該着色画素間に位置する混色によって
形成されたスペーサーと、該スペーサーと着色画素間に
位置する透明な非着色部と、を有するカラーフィルタを
得た。
Then, the substrate was left on a hot plate at 110 ° C. for 60 seconds, subjected to PEB (post exposure bake) treatment, and then dye-based R, G, and B inks were ink-jetted. It was applied to the colored portions including the mixed color regions on both sides by the drawing apparatus of the system.
Next, after drying at 90 ° C. for 10 minutes, 230
Perform a post-baking treatment at 30 ° C. for 30 minutes to obtain R, G,
A color filter having a B colored pixel, a spacer formed by color mixture positioned between the colored pixels, and a transparent non-colored portion positioned between the spacer and the colored pixel was obtained.

【0039】得られたカラーフィルタは、表示にかかる
領域内において混色のない高品質なものであった。この
カラーフィルタ上に、アクリル系熱硬化型樹脂を用い
て、厚さ1.0μmの保護層を形成した。保護層を形成
した後のカラーフィルタのスペーサーは、着色画素との
高さの差が5.0μmで、液晶素子のスペーサーとして
十分に用いることができるものであった。
The obtained color filter was of high quality with no color mixture in the area related to display. On this color filter, a protective layer having a thickness of 1.0 μm was formed using an acrylic thermosetting resin. The spacer of the color filter after the formation of the protective layer had a height difference of 5.0 μm from the color pixel, and was sufficiently usable as a spacer of a liquid crystal element.

【0040】上記カラーフィルタを用いて図2のカラー
フィルタを形成した。先ず、カラーフィルタの保護層上
に、メタルマスクを用いてITOを130μmの厚さに
スパッタリング法により成膜し、共通電極を形成した。
さらにこの上に、ポリイミド配向膜形成溶液を配向膜印
刷機にて塗布し、200℃で1時間加熱することによ
り、100μm厚のポリイミド被膜を形成し、表面をラ
ビング処理して配向膜とした。
The color filter shown in FIG. 2 was formed using the above color filter. First, a common electrode was formed on a protective layer of a color filter by using a metal mask to deposit ITO to a thickness of 130 μm by a sputtering method.
Further, a polyimide alignment film forming solution was applied thereon by an alignment film printer and heated at 200 ° C. for 1 hour to form a 100 μm-thick polyimide film, and the surface was rubbed to form an alignment film.

【0041】このようにして得られたカラーフィルタ側
基板と、TFT及び画素電極、配向膜を形成した対向基
板とを貼り合わせてセル組みし、液晶を注入して液晶素
子を作製した。得られた液晶素子は、カラーフィルタに
形成したスペーサーによってセルギャップが保持される
ため、セル組み工程においてスペーサーを用いていない
ものの、表示ムラのない高品位な表示が得られた。ま
た、本発明のスペーサーはインクの混色を利用して形成
されているため、光吸収性が高く、斜めから観察した場
合でも、表示には影響せず、視認性の高い液晶素子であ
った。
The color filter-side substrate thus obtained was bonded to a counter substrate on which a TFT, a pixel electrode, and an alignment film were formed, and a cell was assembled. A liquid crystal was injected to produce a liquid crystal element. In the obtained liquid crystal element, the cell gap was maintained by the spacer formed in the color filter. Therefore, although no spacer was used in the cell assembling process, high-quality display without display unevenness was obtained. In addition, since the spacer of the present invention is formed by using color mixture of inks, the liquid crystal element has high light absorption, does not affect display even when obliquely observed, and has high visibility.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラーフィルタの着色工程において高精度に表示に悪影
響のないスペーサーを形成することができるため、該カ
ラーフィルタを用いてより短縮した工程で液晶素子を構
成することができ、より信頼性の高い高品位表示のカラ
ー液晶素子をより安価に提供することが可能となる。
As described above, according to the present invention,
Since a spacer that does not adversely affect the display can be formed with high precision in the color filter coloring step, a liquid crystal element can be configured in a shorter process using the color filter, and a more reliable high-quality liquid crystal element can be formed. It becomes possible to provide a color liquid crystal element for display at lower cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形
態の工程図である。
FIG. 1 is a process chart of one embodiment of a method for manufacturing a color filter of the present invention.

【図2】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。
FIG. 2 is a schematic sectional view of one embodiment of the liquid crystal element of the present invention.

【図3】本発明のカラーフィルタの一実施形態の平面模
式図である。
FIG. 3 is a schematic plan view of an embodiment of the color filter of the present invention.

【図4】本発明のカラーフィルタの他の実施形態の平面
模式図である。
FIG. 4 is a schematic plan view of another embodiment of the color filter of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 2 ブラックマトリクス 3 インク受容層 4 フォトマスク 5 非着色部 6a,6b 被着色部 7 インクジェットヘッド 8 インク 9 着色画素 10 スペーサー 11 保護層 12 共通電極 13,23 配向膜 21 対向基板 22 画素電極 24 液晶 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Black matrix 3 Ink receiving layer 4 Photomask 5 Non-colored part 6a, 6b Colored part 7 Inkjet head 8 Ink 9 Colored pixel 10 Spacer 11 Protective layer 12 Common electrode 13, 23 Alignment film 21 Counter substrate 22 Pixel electrode 24 LCD

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA02 BA11 BA64 BB01 BB02 BB07 BB08 BB14 BB42 2H089 LA09 LA11 LA16 MA01X MA04X NA02 NA05 NA14 NA24 QA12 QA14 TA09 TA12 TA13 TA15 TA17 TA18 2H091 FA02Y FA35Y FB06 FB12 FC05 LA12 LA15  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued from the front page F term (reference) 2H048 BA02 BA11 BA64 BB01 BB02 BB07 BB08 BB14 BB42 2H089 LA09 LA11 LA16 MA01X MA04X NA02 NA05 NA14 NA24 QA12 QA14 TA09 TA12 TA13 TA15 TA17 TA18 2H091 FA02Y FA35Y FB06 FB06 LA12

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に複数の着色画素と隣接する
着色画素間にスペーサーを備えたカラーフィルタの製造
方法であって、透明基板上に樹脂組成物からなるインク
受容層を形成し、該インク受容層にインクを付与して着
色画素を形成する工程において、異なる色のインクを互
いに混色するようにインク受容層に付与することによっ
て、隣接する着色画素間に該着色画素よりも突出した混
色領域を形成してスペーサーとすることを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。
1. A method for manufacturing a color filter comprising a plurality of colored pixels and a spacer between adjacent colored pixels on a transparent substrate, comprising: forming an ink receiving layer made of a resin composition on the transparent substrate; In the step of applying ink to the ink receiving layer to form a colored pixel, by applying inks of different colors to the ink receiving layer so as to be mixed with each other, a mixed color projecting between the adjacent colored pixels more than the colored pixel A method for manufacturing a color filter, comprising forming a region to form a spacer.
【請求項2】 光照射によりインク受容能が変化する感
光性樹脂組成物を用いてインク受容層を形成し、パター
ン露光することにより着色画素となる領域及び混色領域
にインク受容能を有する被着色部を形成し、着色画素と
混色領域との境界に該被着色部よりもインク受容能の低
い非着色部を形成し、着色工程において、着色画素とな
る被着色部にインクを付与すると同時に、該被着色部に
隣接する非着色部を超えて混色領域である被着色部にも
インクを付与する請求項1記載のカラーフィルタの製造
方法。
2. An ink receiving layer is formed by using a photosensitive resin composition whose ink receiving ability is changed by light irradiation, and a region to be a colored pixel and a mixed color region having the ink receiving capability are exposed by pattern exposure. Forming a non-colored portion having a lower ink receiving capacity than the colored portion at the boundary between the colored pixel and the mixed color region, and applying the ink to the colored portion to be a colored pixel in the coloring step, 2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the ink is also applied to a colored portion which is a mixed color region beyond a non-colored portion adjacent to the colored portion.
【請求項3】 インク受容層にインクを付与する手段
が、インクジェット方式である請求項1または2に記載
のカラーフィルタの製造方法。
3. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the means for applying ink to the ink receiving layer is an ink jet system.
【請求項4】 透明基板上に、少なくとも異なる色の着
色画素間を遮光する遮光層を形成する請求項1〜3のい
ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
4. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a light-shielding layer for shielding at least between colored pixels of different colors is formed on the transparent substrate.
【請求項5】 遮光層が厚さ0.1〜2.0μmの金属
或いは金属酸化物層である請求項4記載のカラーフィル
タの製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the light-shielding layer is a metal or metal oxide layer having a thickness of 0.1 to 2.0 μm.
【請求項6】 遮光層が厚さ0.5〜2.0μmの黒色
樹脂層である請求項4記載のカラーフィルタの製造方
法。
6. The method according to claim 4, wherein the light-shielding layer is a black resin layer having a thickness of 0.5 to 2.0 μm.
【請求項7】 透明基板上に複数の着色画素と隣接する
着色画素間にスペーサーを備え、請求項1〜6のいずれ
かに記載のカラーフィルタの製造方法により製造された
ことを特徴とするカラーフィルタ。
7. A color produced by the method for producing a color filter according to any one of claims 1 to 6, further comprising a spacer between the plurality of colored pixels and adjacent colored pixels on a transparent substrate. filter.
【請求項8】 着色画素上に保護層を有する請求項7記
載のカラーフィルタ。
8. The color filter according to claim 7, further comprising a protective layer on the colored pixel.
【請求項9】 一対の基板間に液晶を狭持してなり、一
方の基板が請求項7または8に記載のカラーフィルタを
用いて構成したことを特徴とする液晶素子。
9. A liquid crystal element comprising liquid crystal sandwiched between a pair of substrates, wherein one of the substrates is formed using the color filter according to claim 7.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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