JP2001094045A - 半導体装置 - Google Patents
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- Wire Bonding (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】スタックトタイプのCSPにおいて、積層する
各ICチップについて高信頼性を保ちつつパッケージの
薄型化が達成される半導体装置を提供する。 【解決手段】ICチップ1はフリップチップ形態であ
る。主表面側を実装面として外部に露出させ、パッド1
2に外部端子13を配備している。封止部材6内のIC
チップ2は、ICチップ1の裏面上に絶縁性の接着部材
3を介して積層されている。ICチップ1の周辺にはI
Cチップ2に関する配線基板4が設けられている。配線
基板4は、ベース基材41とその上部に導電パターン4
2を伴なう絶縁フィルム43を含む。導電パターン42
の所定箇所は、ICチップ2のパッド21各々と例えば
ボンディングワイヤ5により接続されている。ICチッ
プ2の外部端子45は配線基板4の複数のビア44につ
ながる。
各ICチップについて高信頼性を保ちつつパッケージの
薄型化が達成される半導体装置を提供する。 【解決手段】ICチップ1はフリップチップ形態であ
る。主表面側を実装面として外部に露出させ、パッド1
2に外部端子13を配備している。封止部材6内のIC
チップ2は、ICチップ1の裏面上に絶縁性の接着部材
3を介して積層されている。ICチップ1の周辺にはI
Cチップ2に関する配線基板4が設けられている。配線
基板4は、ベース基材41とその上部に導電パターン4
2を伴なう絶縁フィルム43を含む。導電パターン42
の所定箇所は、ICチップ2のパッド21各々と例えば
ボンディングワイヤ5により接続されている。ICチッ
プ2の外部端子45は配線基板4の複数のビア44につ
ながる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にスタックトタ
イプのCSP(Chip Size Package)に適用され、積層
ICの薄形パッケージ化を要する半導体装置に関する。
イプのCSP(Chip Size Package)に適用され、積層
ICの薄形パッケージ化を要する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の高集積化、コンパクト
化に伴ない、半導体パッケージも小型化が要求される。
その中でCSP(Chip Size Package)は、実装面積が
小さくて上記要求を満足させる有用な構造である。
化に伴ない、半導体パッケージも小型化が要求される。
その中でCSP(Chip Size Package)は、実装面積が
小さくて上記要求を満足させる有用な構造である。
【0003】スタックトタイプのCSPも高集積ICと
して注目される構成の一つである。図7は、従来におけ
るスタックトタイプのCSPの構成を示す断面図であ
る。チップサイズに近いベース基材100の主表面上に
は、それぞれ絶縁性の接着部材99を介して2個のIC
チップ101,102が積層された形で搭載されてい
る。ベース基材100の主表面は導電パターン103及
びビア104が複数設けられている。ベース基材100
の裏面には各ビア104と接続されるはんだボール等の
外部端子105が設けらている。
して注目される構成の一つである。図7は、従来におけ
るスタックトタイプのCSPの構成を示す断面図であ
る。チップサイズに近いベース基材100の主表面上に
は、それぞれ絶縁性の接着部材99を介して2個のIC
チップ101,102が積層された形で搭載されてい
る。ベース基材100の主表面は導電パターン103及
びビア104が複数設けられている。ベース基材100
の裏面には各ビア104と接続されるはんだボール等の
外部端子105が設けらている。
【0004】ベース基材100の主表面側において、積
層ICチップ101,102の電極パッド111,11
2と、ベース基材100とはボンディングワイヤ(金
線)104により適当な電気的接続がなされている。す
なわち、ICチップ102は、ICチップ101の周辺
に設けられる電極パッド111に重ならない大きさを有
し、第1のICチップ上に接着部材99を介して固着さ
れている。これら積層ICチップ101,102及び電
気的接続構成は封止樹脂106により封止され、パッケ
ージ化されている。
層ICチップ101,102の電極パッド111,11
2と、ベース基材100とはボンディングワイヤ(金
線)104により適当な電気的接続がなされている。す
なわち、ICチップ102は、ICチップ101の周辺
に設けられる電極パッド111に重ならない大きさを有
し、第1のICチップ上に接着部材99を介して固着さ
れている。これら積層ICチップ101,102及び電
気的接続構成は封止樹脂106により封止され、パッケ
ージ化されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来、上記したように
スタックトタイプのCSPでは、実装面を形成するベー
ス基材100、第1のICチップ101、第2のICチ
ップ102及びこれらを固着する接着部材99の積層構
造である。半導体パッケージの厚みはこの積層構造に依
存して与えられる。
スタックトタイプのCSPでは、実装面を形成するベー
ス基材100、第1のICチップ101、第2のICチ
ップ102及びこれらを固着する接着部材99の積層構
造である。半導体パッケージの厚みはこの積層構造に依
存して与えられる。
【0006】しかしながら、上記半導体パッケージの厚
みが、携帯機器等、実装する上で重要になっており、小
型化、薄型化が望まれている。この場合、ベース基材1
00の縮小化及び薄膜化、各ICチップ101,102
を信頼性の範囲内で削る等、全体のパッケージを薄形化
する対策がとられている。
みが、携帯機器等、実装する上で重要になっており、小
型化、薄型化が望まれている。この場合、ベース基材1
00の縮小化及び薄膜化、各ICチップ101,102
を信頼性の範囲内で削る等、全体のパッケージを薄形化
する対策がとられている。
【0007】ところが、ベース基材100は両ICチッ
プ101,102に関する導電パターンの複雑さゆえ縮
小化、薄型化は高い技術を必要とする。また、ICチッ
プを削って薄くすることから、ICチップが破損しやす
くなる。これにより、パッケージ前の製造工程の取り扱
いから難しくなり、設備も変更を要する。
プ101,102に関する導電パターンの複雑さゆえ縮
小化、薄型化は高い技術を必要とする。また、ICチッ
プを削って薄くすることから、ICチップが破損しやす
くなる。これにより、パッケージ前の製造工程の取り扱
いから難しくなり、設備も変更を要する。
【0008】しかしながら、このような方策をとって
も、パッケージの薄型化はそれほど顕著な効果も出せず
に限界にきてしまう。すなわち、製造工程上の信頼性低
下、コスト高等リスクが大きい割にはスタックトCSP
に関し、パッケージの小型化、薄型化が進んでいないの
が現状である。
も、パッケージの薄型化はそれほど顕著な効果も出せず
に限界にきてしまう。すなわち、製造工程上の信頼性低
下、コスト高等リスクが大きい割にはスタックトCSP
に関し、パッケージの小型化、薄型化が進んでいないの
が現状である。
【0009】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その課題は、スタックトタイプのCSPにおけるパ
ッケージ形態の変更により、積層する各ICチップにつ
いて高信頼性を保ちつつパッケージの小型化、薄型化が
達成される半導体装置を提供することにある。
で、その課題は、スタックトタイプのCSPにおけるパ
ッケージ形態の変更により、積層する各ICチップにつ
いて高信頼性を保ちつつパッケージの小型化、薄型化が
達成される半導体装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
電極パッドが設けられる主表面側を実装面として外部に
露出させ外部端子を配した第1のICチップと、前記第
1のICチップの主表面に対する裏面に絶縁部材を介し
て積層される第2のICチップと、前記第1のICチッ
プの周辺に設けられた前記第2のICチップに関する配
線基板と、前記配線基板の実装面側に設けられた前記第
2のICチップの外部端子と、前記第2のICチップ及
びその前記配線基板との電気的接続構成を封止する封止
部材とを具備したことを特徴とする。
電極パッドが設けられる主表面側を実装面として外部に
露出させ外部端子を配した第1のICチップと、前記第
1のICチップの主表面に対する裏面に絶縁部材を介し
て積層される第2のICチップと、前記第1のICチッ
プの周辺に設けられた前記第2のICチップに関する配
線基板と、前記配線基板の実装面側に設けられた前記第
2のICチップの外部端子と、前記第2のICチップ及
びその前記配線基板との電気的接続構成を封止する封止
部材とを具備したことを特徴とする。
【0011】本発明によれば、上記第1のICチップは
封止されずに上記第2のICチップの封止のみとなる。
配線基板は第2のICチップに関する配線だけを考慮す
ればよい。上記封止部材は薄い形成となり、かつ上記配
線基板は第1のICチップと同様の厚みが得られ強度的
にも問題ない。また、最低限、第2のICチップとの電
気的接続構成を保護部材で覆うことにより、第2のIC
チップ全体の封止も必ずしも重要でない構成とすること
が可能である。
封止されずに上記第2のICチップの封止のみとなる。
配線基板は第2のICチップに関する配線だけを考慮す
ればよい。上記封止部材は薄い形成となり、かつ上記配
線基板は第1のICチップと同様の厚みが得られ強度的
にも問題ない。また、最低限、第2のICチップとの電
気的接続構成を保護部材で覆うことにより、第2のIC
チップ全体の封止も必ずしも重要でない構成とすること
が可能である。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の第1実施形態に
係るスタックトタイプのCSPを示す断面図である。I
Cチップ1は、フリップチップ形態(フェイスダウン形
態)であり、電極パッドが設けられる主表面側を実装面
として外部に露出させてある。すなわち、配線領域12
を介して絶縁膜(ソルダーレジスト)13上にパッド1
4が設けられ、各パッド14に外部端子15が設けられ
ている。また、ICチップ2は、ICチップ1の裏面上
に絶縁性の接着部材3を介して積層されている。
係るスタックトタイプのCSPを示す断面図である。I
Cチップ1は、フリップチップ形態(フェイスダウン形
態)であり、電極パッドが設けられる主表面側を実装面
として外部に露出させてある。すなわち、配線領域12
を介して絶縁膜(ソルダーレジスト)13上にパッド1
4が設けられ、各パッド14に外部端子15が設けられ
ている。また、ICチップ2は、ICチップ1の裏面上
に絶縁性の接着部材3を介して積層されている。
【0013】上記ICチップ1の周辺には、ICチップ
2に関する配線基板4が設けられている。配線基板4
は、ベース基材41とその上部に導電パターン42を伴
なう絶縁フィルム43を含む。具体的には絶縁フィルム
43が少なくともICチップ1の裏面周辺領域にまで延
在して固着されている。導電パターン42の所定箇所
は、ICチップ2主表面上のパッド21各々と例えばボ
ンディングワイヤ5により接続されている。
2に関する配線基板4が設けられている。配線基板4
は、ベース基材41とその上部に導電パターン42を伴
なう絶縁フィルム43を含む。具体的には絶縁フィルム
43が少なくともICチップ1の裏面周辺領域にまで延
在して固着されている。導電パターン42の所定箇所
は、ICチップ2主表面上のパッド21各々と例えばボ
ンディングワイヤ5により接続されている。
【0014】また、配線基板4は複数のビア44を伴な
う。配線基板4の実装面側にはICチップ2の外部端子
45が設けられている。すなわち、配線基板4の導電パ
ターン42はビア44を介して外部端子45とつながっ
ている。外部端子45に接続されるパッド以外は絶縁膜
(ソルダーレジスト)46で覆われている。
う。配線基板4の実装面側にはICチップ2の外部端子
45が設けられている。すなわち、配線基板4の導電パ
ターン42はビア44を介して外部端子45とつながっ
ている。外部端子45に接続されるパッド以外は絶縁膜
(ソルダーレジスト)46で覆われている。
【0015】封止部材6は、上記ICチップ2及びボン
ディングワイヤ5を含むICチップ2と配線基板4との
電気的接続面側を気密封止している。また、ICチップ
1と配線基板4との間は絶縁部材7で充填されている。
ディングワイヤ5を含むICチップ2と配線基板4との
電気的接続面側を気密封止している。また、ICチップ
1と配線基板4との間は絶縁部材7で充填されている。
【0016】上記構成によれば、積層チップのうち、I
Cチップ1は封止されずに封止部材6下部の中央に設け
られる。これにより、上記封止部材6は従来構成より格
段に薄い形成となり、気密封止に高信頼性をもたらす。
封止部材材料も節約でき、経済的である。
Cチップ1は封止されずに封止部材6下部の中央に設け
られる。これにより、上記封止部材6は従来構成より格
段に薄い形成となり、気密封止に高信頼性をもたらす。
封止部材材料も節約でき、経済的である。
【0017】さらに、配線基板4の厚さは、ICチップ
1の厚さに依存し、十分な強度を持つようになる。か
つ、総体的な装置の厚みに影響しない。また、配線基板
4は、ICチップ2に関する配線だけを考慮すればよ
い。これにより、配線基板4における配線の自由度が増
すと共に電気的特性の向上に寄与する。また、ボンディ
ングワイヤ5も従来の積層ICとは異なり、低く、短く
張ることができるので、信頼性に富み、電気的特性の向
上が図れる。
1の厚さに依存し、十分な強度を持つようになる。か
つ、総体的な装置の厚みに影響しない。また、配線基板
4は、ICチップ2に関する配線だけを考慮すればよ
い。これにより、配線基板4における配線の自由度が増
すと共に電気的特性の向上に寄与する。また、ボンディ
ングワイヤ5も従来の積層ICとは異なり、低く、短く
張ることができるので、信頼性に富み、電気的特性の向
上が図れる。
【0018】なお、図1の実施形態では、ICチップ1
と配線基板4との間は絶縁部材7で充填されていたが、
ICチップ1と配線基板4とが隙間なく構成され、絶縁
部材7がなくてもよい。このとき、絶縁部材7は極薄な
接着剤として存在するようにしてもよい。
と配線基板4との間は絶縁部材7で充填されていたが、
ICチップ1と配線基板4とが隙間なく構成され、絶縁
部材7がなくてもよい。このとき、絶縁部材7は極薄な
接着剤として存在するようにしてもよい。
【0019】また、ICチップ2は、従来構成のように
ICチップ1より小さくなければならないということも
ない。ICチップ1のパッドは実装面側にあるからであ
る。また、絶縁フィルム43はICチップ1の裏面周辺
領域にのみ延在し、ICチップ1の裏面中央付近は絶縁
性ののみ設けられて固着されていたが、これに限らな
い。絶縁フィルム43はICチップ1の裏面中央付近に
まで延在してもよい。
ICチップ1より小さくなければならないということも
ない。ICチップ1のパッドは実装面側にあるからであ
る。また、絶縁フィルム43はICチップ1の裏面周辺
領域にのみ延在し、ICチップ1の裏面中央付近は絶縁
性ののみ設けられて固着されていたが、これに限らな
い。絶縁フィルム43はICチップ1の裏面中央付近に
まで延在してもよい。
【0020】例えば、図2(a),(b)に示すような
絶縁フィルム43を構成してもよい。破線は各ICチッ
プ1,2を示している。すなわち、絶縁フィルム43に
おいて、ICチップ2が固着される領域に開孔部431
(図2(a)参照)、または432(図2(b)参照)
などを設ける。これにより、図1に示す接着部材3は開
孔部431または432を介してICチップ1と2を接
着する。この結果、ICチップ1と2と絶縁フィルム4
3は、強固な固着状態を実現する。
絶縁フィルム43を構成してもよい。破線は各ICチッ
プ1,2を示している。すなわち、絶縁フィルム43に
おいて、ICチップ2が固着される領域に開孔部431
(図2(a)参照)、または432(図2(b)参照)
などを設ける。これにより、図1に示す接着部材3は開
孔部431または432を介してICチップ1と2を接
着する。この結果、ICチップ1と2と絶縁フィルム4
3は、強固な固着状態を実現する。
【0021】図3は、本発明の第2実施形態に係るスタ
ックトタイプのCSPを示す断面図である。第1実施形
態と同様の箇所には同一の符号を付す。図1の第1実施
形態と比べて異なる構成は、ICチップ2もフリップチ
ップ形態(フェイスダウン形態)としたことである。
ックトタイプのCSPを示す断面図である。第1実施形
態と同様の箇所には同一の符号を付す。図1の第1実施
形態と比べて異なる構成は、ICチップ2もフリップチ
ップ形態(フェイスダウン形態)としたことである。
【0022】フリップチップ形態のICチップ1の裏面
上は図示しない接着部材を介し、配線基板4に関する、
導電パターン47の付いた絶縁フィルム48が形成され
ている。導電パターン47の所定箇所は、ICチップ2
主表面の配線領域22を経て設けられた突起電極23各
々と接続されている。このICチップ2と絶縁フィルム
48の対向領域は絶縁性の保護部材8が設けられてい
る。
上は図示しない接着部材を介し、配線基板4に関する、
導電パターン47の付いた絶縁フィルム48が形成され
ている。導電パターン47の所定箇所は、ICチップ2
主表面の配線領域22を経て設けられた突起電極23各
々と接続されている。このICチップ2と絶縁フィルム
48の対向領域は絶縁性の保護部材8が設けられてい
る。
【0023】また、配線基板4は前記第1実施形態と同
様に複数のビア44を伴なう。配線基板4の実装面側に
はICチップ2の外部端子45が設けられている。すな
わち、導電パターン47はビア44を介して外部端子4
5とつながっている。外部端子45に接続されるパッド
以外は絶縁膜(ソルダーレジスト)46で覆われてい
る。
様に複数のビア44を伴なう。配線基板4の実装面側に
はICチップ2の外部端子45が設けられている。すな
わち、導電パターン47はビア44を介して外部端子4
5とつながっている。外部端子45に接続されるパッド
以外は絶縁膜(ソルダーレジスト)46で覆われてい
る。
【0024】封止部材6は、上記第1実施形態と同様に
ICチップ2及び配線基板4との電気的接続面側を気密
封止している。また、ICチップ1と配線基板4との間
は絶縁部材7で充填されている。例えば、図示しない
が、ICチップ1と配線基板4との隙間がほとんどな
く、絶縁部材7は極薄な接着剤として存在するようにし
てもよい。
ICチップ2及び配線基板4との電気的接続面側を気密
封止している。また、ICチップ1と配線基板4との間
は絶縁部材7で充填されている。例えば、図示しない
が、ICチップ1と配線基板4との隙間がほとんどな
く、絶縁部材7は極薄な接着剤として存在するようにし
てもよい。
【0025】上記構成によっても、第1実施形態と同様
に、積層チップのうち、ICチップ1は封止されずに封
止部材6下部の中央に設けられる。配線基板4の厚さ
は、ICチップ1の厚さに依存し、十分な強度を持つよ
うになる。かつ、総体的な装置の厚みに影響しない。配
線基板4は、ICチップ2に関する配線だけを考慮すれ
ばよく、配線の自由度が増すと共に電気的特性の向上に
寄与する。
に、積層チップのうち、ICチップ1は封止されずに封
止部材6下部の中央に設けられる。配線基板4の厚さ
は、ICチップ1の厚さに依存し、十分な強度を持つよ
うになる。かつ、総体的な装置の厚みに影響しない。配
線基板4は、ICチップ2に関する配線だけを考慮すれ
ばよく、配線の自由度が増すと共に電気的特性の向上に
寄与する。
【0026】また、ICチップ2は、従来構成のように
ICチップ1より小さくなければならないということも
ない。しかも、樹脂封止されるICチップ2は、フェイ
スダウン形態であり、図1の構成におけるボンディング
ワイヤ5のループ高さの余裕を省いた封止が可能であ
る。これにより、上記封止部材6は第1実施形態に比べ
てさらに薄い形成が期待できる。
ICチップ1より小さくなければならないということも
ない。しかも、樹脂封止されるICチップ2は、フェイ
スダウン形態であり、図1の構成におけるボンディング
ワイヤ5のループ高さの余裕を省いた封止が可能であ
る。これにより、上記封止部材6は第1実施形態に比べ
てさらに薄い形成が期待できる。
【0027】また、ICチップ2をフェイスダウン形態
としたことにより、例えば封止部材6を滴下方式の気密
封止構成に変更したり、または、配線基板4上は単に保
護膜を被覆する構成としてもよい。これにより、軽量化
にも寄与する。
としたことにより、例えば封止部材6を滴下方式の気密
封止構成に変更したり、または、配線基板4上は単に保
護膜を被覆する構成としてもよい。これにより、軽量化
にも寄与する。
【0028】図4は、本発明の第3実施形態に係るスタ
ックトタイプのCSPを示す断面図である。第2実施形
態と同様の箇所には同一の符号を付す。図2の第2実施
形態と比べて異なる構成は、フリップチップ形態(フェ
イスダウン形態)のICチップ2が異方性導電膜(AC
F(Anisotropic Conductive Film))9によって導電
パターン47と接続されていることである。
ックトタイプのCSPを示す断面図である。第2実施形
態と同様の箇所には同一の符号を付す。図2の第2実施
形態と比べて異なる構成は、フリップチップ形態(フェ
イスダウン形態)のICチップ2が異方性導電膜(AC
F(Anisotropic Conductive Film))9によって導電
パターン47と接続されていることである。
【0029】フリップチップ形態のICチップ1の裏面
上は図示しない接着部材を介し、配線基板4に関する、
導電パターン47の付いた絶縁フィルム48が形成され
ている。導電パターン47の所定箇所には、突起電極4
9が設けられており、ICチップ2主表面のパッドに形
成された突起電極24各々とACF9により接続されて
いる。
上は図示しない接着部材を介し、配線基板4に関する、
導電パターン47の付いた絶縁フィルム48が形成され
ている。導電パターン47の所定箇所には、突起電極4
9が設けられており、ICチップ2主表面のパッドに形
成された突起電極24各々とACF9により接続されて
いる。
【0030】ACF9は、フィルム状のエポキシ樹脂中
に導電性粒子91が分散されており、導電性粒子91を
挟み込む所定の導通部分だけその間隙が導電性粒子91
の粒形以下になることで導通状態が得られ、他は絶縁状
態となる特性を有する。すなわち、ACF9は、ICチ
ップ2と絶縁フィルム48の対向領域に設けられる。絶
縁フィルム48上の導電パターン47に形成された突起
電極49とICチップ2の突起電極24とがそれぞれ位
置合わせされ、図示しない圧着ツールによる加圧/加熱
工程を経る。これにより、ICチップ2と導電パターン
47の各電極(24と49)どうしの接着部分はACF
9中の導電性粒子91により良好な導電性を得る。
に導電性粒子91が分散されており、導電性粒子91を
挟み込む所定の導通部分だけその間隙が導電性粒子91
の粒形以下になることで導通状態が得られ、他は絶縁状
態となる特性を有する。すなわち、ACF9は、ICチ
ップ2と絶縁フィルム48の対向領域に設けられる。絶
縁フィルム48上の導電パターン47に形成された突起
電極49とICチップ2の突起電極24とがそれぞれ位
置合わせされ、図示しない圧着ツールによる加圧/加熱
工程を経る。これにより、ICチップ2と導電パターン
47の各電極(24と49)どうしの接着部分はACF
9中の導電性粒子91により良好な導電性を得る。
【0031】また、配線基板4は前記第1及び第2実施
形態と同様に複数のビア44を伴なう。配線基板4の実
装面側にはICチップ2の外部端子45が設けられてい
る。すなわち、導電パターン47はビア44を介して外
部端子45とつながっている。外部端子45に接続され
るパッド以外は絶縁膜(ソルダーレジスト)46で覆わ
れている。
形態と同様に複数のビア44を伴なう。配線基板4の実
装面側にはICチップ2の外部端子45が設けられてい
る。すなわち、導電パターン47はビア44を介して外
部端子45とつながっている。外部端子45に接続され
るパッド以外は絶縁膜(ソルダーレジスト)46で覆わ
れている。
【0032】封止部材6は、上記第1及び第2実施形態
と同様にICチップ2及び配線基板4との電気的接続面
側を気密封止している。また、ICチップ1と配線基板
4との間は絶縁部材7で充填されている。例えば、図示
しないが、ICチップ1と配線基板4との隙間がほとん
どなく、絶縁部材7は極薄な接着剤として存在するよう
にしてもよい。
と同様にICチップ2及び配線基板4との電気的接続面
側を気密封止している。また、ICチップ1と配線基板
4との間は絶縁部材7で充填されている。例えば、図示
しないが、ICチップ1と配線基板4との隙間がほとん
どなく、絶縁部材7は極薄な接着剤として存在するよう
にしてもよい。
【0033】上記構成によっても、第1及び第2実施形
態と同様に、積層チップのうち、ICチップ1は封止さ
れずに封止部材6下部の中央に設けられる。配線基板4
の厚さは、ICチップ1の厚さに依存し、十分な強度を
持つようになる。かつ、総体的な装置の厚みに影響しな
い。配線基板4は、ICチップ2に関する配線だけを考
慮すればよく、配線の自由度が増すと共に電気的特性の
向上に寄与する。
態と同様に、積層チップのうち、ICチップ1は封止さ
れずに封止部材6下部の中央に設けられる。配線基板4
の厚さは、ICチップ1の厚さに依存し、十分な強度を
持つようになる。かつ、総体的な装置の厚みに影響しな
い。配線基板4は、ICチップ2に関する配線だけを考
慮すればよく、配線の自由度が増すと共に電気的特性の
向上に寄与する。
【0034】また、ICチップ2は、従来構成のように
ICチップ1より小さくなければならないということも
ない。しかも、樹脂封止されるICチップ2は、フェイ
スダウン形態であり、第2実施形態の構成と同様に、第
1実施形態に比べてさらに薄い形成が期待できる。
ICチップ1より小さくなければならないということも
ない。しかも、樹脂封止されるICチップ2は、フェイ
スダウン形態であり、第2実施形態の構成と同様に、第
1実施形態に比べてさらに薄い形成が期待できる。
【0035】また、ICチップ2をACFによる接続に
よってフェイスダウン形態としたことにより、例えば封
止部材6を滴下方式の気密封止構成に変更したり、また
は、配線基板4上は単に保護膜を被覆する構成としても
よい。
よってフェイスダウン形態としたことにより、例えば封
止部材6を滴下方式の気密封止構成に変更したり、また
は、配線基板4上は単に保護膜を被覆する構成としても
よい。
【0036】図5は、第3の実施形態の変形例に係るス
タックトタイプのCSPを示す断面図である。第3実施
形態と同様の箇所には同一の符号を付す。第3実施形態
と同様にICチップ2が異方性導電膜(ACF(Anisot
ropic Conductive Film))9によって導電パターン4
7と接続されている。配線基板4上において、ICチッ
プ2との電気的接続構成を絶縁性の保護部材61で覆っ
ている。これにより、図3に示した封止部材6を不要と
している。このような構成は、前記第2の実施形態で述
べたように、前記図2の構成にも適用可能である。これ
により、ICチップ2全体の封止は必ずしも重要でない
ものとなり、より軽量化に寄与する構成が実現できる。
タックトタイプのCSPを示す断面図である。第3実施
形態と同様の箇所には同一の符号を付す。第3実施形態
と同様にICチップ2が異方性導電膜(ACF(Anisot
ropic Conductive Film))9によって導電パターン4
7と接続されている。配線基板4上において、ICチッ
プ2との電気的接続構成を絶縁性の保護部材61で覆っ
ている。これにより、図3に示した封止部材6を不要と
している。このような構成は、前記第2の実施形態で述
べたように、前記図2の構成にも適用可能である。これ
により、ICチップ2全体の封止は必ずしも重要でない
ものとなり、より軽量化に寄与する構成が実現できる。
【0037】図6は、第1ないし第3実施形態(変形例
を含む)に係る半導体パッケージの実装面側の要部を示
す平面図である。このように本発明の各実施形態によれ
ば、従来構成とは異なり、積層ICチップの下層側のI
Cチップ1は封止されずに封止部材6下部の中央に設け
られて外部端子15を配し、その周辺がICチップ2に
関する配線基板4に配列される外部端子45である。
を含む)に係る半導体パッケージの実装面側の要部を示
す平面図である。このように本発明の各実施形態によれ
ば、従来構成とは異なり、積層ICチップの下層側のI
Cチップ1は封止されずに封止部材6下部の中央に設け
られて外部端子15を配し、その周辺がICチップ2に
関する配線基板4に配列される外部端子45である。
【0038】このような構成をとることにより、従来技
術でのベース基材の薄膜化、各ICチップを削る等のリ
スクを大幅に軽減し、半導体パッケージとしての厚さを
薄くすることができる。加えて内部の配線の引き回し、
外部端子への導出が簡素化される。仮に、積層ICチッ
プのパッド間の結合を要する場合は、実装基板上で配線
すればよいのである。この結果、高信頼性を有しつつ、
薄型でよりコンパクトな半導体パッケージが実現でき
る。
術でのベース基材の薄膜化、各ICチップを削る等のリ
スクを大幅に軽減し、半導体パッケージとしての厚さを
薄くすることができる。加えて内部の配線の引き回し、
外部端子への導出が簡素化される。仮に、積層ICチッ
プのパッド間の結合を要する場合は、実装基板上で配線
すればよいのである。この結果、高信頼性を有しつつ、
薄型でよりコンパクトな半導体パッケージが実現でき
る。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
タックトタイプのCSPにおける積層ICチップにおい
て、下方のICチップは封止せず、上方のICチップの
封止のみとなる。また、最低限、上方のICチップと配
線基板との電気的接続構成を保護部材で覆うことによ
り、上方のICチップも、全体の封止は必ずしも必要の
ない構成とすることが可能である。これにより、軽量化
に寄与する。
タックトタイプのCSPにおける積層ICチップにおい
て、下方のICチップは封止せず、上方のICチップの
封止のみとなる。また、最低限、上方のICチップと配
線基板との電気的接続構成を保護部材で覆うことによ
り、上方のICチップも、全体の封止は必ずしも必要の
ない構成とすることが可能である。これにより、軽量化
に寄与する。
【0040】下方のICチップ周辺に配した配線基板は
上方のICチップに関する配線だけを考慮すればよく、
封止部材は薄い形成となり、かつ上記配線基板は下方の
ICチップと同等の厚みが得られ強度的にも問題ない。
この結果、積層する各ICチップについて高信頼性を保
ちつつパッケージの小型化、薄型化が達成される半導体
装置を提供することができる。
上方のICチップに関する配線だけを考慮すればよく、
封止部材は薄い形成となり、かつ上記配線基板は下方の
ICチップと同等の厚みが得られ強度的にも問題ない。
この結果、積層する各ICチップについて高信頼性を保
ちつつパッケージの小型化、薄型化が達成される半導体
装置を提供することができる。
【図1】本発明の第1実施形態に係るスタックトタイプ
のCSPを示す断面図である。
のCSPを示す断面図である。
【図2】第1実施形態における一部の変形例に係る要部
構成を示す平面図である。
構成を示す平面図である。
【図3】本発明の第2実施形態に係るスタックトタイプ
のCSPを示す断面図である。
のCSPを示す断面図である。
【図4】本発明の第3実施形態に係るスタックトタイプ
のCSPを示す断面図である。
のCSPを示す断面図である。
【図5】本発明の第3実施形態の変形例に係るスタック
トタイプのCSPを示す断面図である。
トタイプのCSPを示す断面図である。
【図6】第1実施形態ないし第3実施形態(変形例含
む)に係る半導体パッケージの実装面側の要部を示す平
面図である。
む)に係る半導体パッケージの実装面側の要部を示す平
面図である。
【図7】従来におけるスタックトタイプのCSPの構成
を示す断面図である。
を示す断面図である。
1,2…ICチップ 11,14,21…パッド 12,22…配線領域 13,46…絶縁膜 15…外部端子 17…絶縁部材 23,24,49…突起電極 3…接着部材 4…配線基板 41…ベース基材 42,47…導電パターン 43,48…絶縁フィルム 44…ビア 45…外部端子 5…ボンディングワイヤ 6…封止部材 61,8…保護部材 9…ACF(異方性導電膜) 91…導電性粒子
Claims (6)
- 【請求項1】 電極パッドが設けられる主表面側を実装
面として外部に露出させ外部端子を配した第1のICチ
ップと、 前記第1のICチップの主表面に対する裏面に絶縁部材
を介して積層される第2のICチップと、 前記第1のICチップの周辺に設けられた前記第2のI
Cチップに関する配線基板と、 前記配線基板の実装面側に設けられた前記第2のICチ
ップの外部端子と、 前記第2のICチップ及びその前記配線基板との電気的
接続構成を封止する封止部材と、を具備したことを特徴
とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記絶縁部材は、接着剤を含むことを特
徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記絶縁部材は、前記配線基板の所定領
域に前記第2のICチップと前記配線基板との電気的接
続を担う導電パターンを有するフィルム状の薄膜を含む
ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装
置。 - 【請求項4】 前記絶縁部材は、前記配線基板の所定領
域に前記第2のICチップと前記配線基板との電気的接
続を担う導電パターンを有するフィルム状の薄膜を含
み、少なくとも前記第1のICチップの裏面周辺領域に
延在していることを特徴とする請求項1または2に記載
の半導体装置。 - 【請求項5】 電極パッドが設けられる主表面側を実装
面として外部に露出させ外部端子を配した第1のICチ
ップと、 前記第1のICチップの主表面に対する裏面に絶縁部材
を介して積層される第2のICチップと、 前記第1のICチップの周辺に設けられ前記第2のIC
チップとの電気的接続構成を有する配線基板と、 前記配線基板の実装面側に設けられた前記第2のICチ
ップの外部端子と、を具備したことを特徴とする半導体
装置。 - 【請求項6】 少なくとも前記第2のICチップとの電
気的接続構成は絶縁性の保護部材に覆われることを特徴
とする請求項5記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26938899A JP2001094045A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 半導体装置 |
US09/668,241 US6424050B1 (en) | 1999-09-22 | 2000-09-20 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26938899A JP2001094045A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001094045A true JP2001094045A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17471722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26938899A Withdrawn JP2001094045A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6424050B1 (ja) |
JP (1) | JP2001094045A (ja) |
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