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JP2001074930A - Optical filter and antireflection film - Google Patents

Optical filter and antireflection film

Info

Publication number
JP2001074930A
JP2001074930A JP24877199A JP24877199A JP2001074930A JP 2001074930 A JP2001074930 A JP 2001074930A JP 24877199 A JP24877199 A JP 24877199A JP 24877199 A JP24877199 A JP 24877199A JP 2001074930 A JP2001074930 A JP 2001074930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
dye
refractive index
compounds
optical filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP24877199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Harada
徹 原田
Ryuta Suzuki
龍太 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP24877199A priority Critical patent/JP2001074930A/en
Publication of JP2001074930A publication Critical patent/JP2001074930A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Optical Filters (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical filter having a proper color correcting function by incorporating a specified fading inhibitor into a filter layer containing a dyestuff having its absorption maximum in a specified wavelength range and a polymer binder. SOLUTION: The optical filter has a filter layer 2 containing a dyestuff having its absorption maximum in the wavelength range of 560-620 nm and a polymer binder on a transparent substrate 1. The filter layer 2 further contains a fading inhibitor selected from the group comprising a phenol compound, a phenol ether compound, an aniline compound, a quinone compound and a piperidine compound. In the layer structure of the antireflection film with the filter layer 2 and an antreflection layer on the opposite sides of the transparent substrate 1, the filter layer 2, the substrate 1 and low refractive index layer 3 and successively laminated (a). The refractive index of the layer 3 is lower than that of the substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。また、
本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレ
イパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、反射防止あるいは色再現性改良のため取り付け
られる反射防止膜にも関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical filter having a transparent support and a filter layer. Also,
The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a surface of an image display device such as a field emission display. The present invention also relates to an antireflection film attached for antireflection or improving color reproducibility.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい(実質的
には不可能である)。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光(波長が560乃至620nmの範囲)が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収する光学フィルター
を用いて、色補正を行うことが提案されている。光学フ
ィルターによる色補正については、特開昭58−153
904号、同60−118748号、同60−1874
9号、同61−188501号、特開平3−23198
8号、同5−203804号、同5−205643号、
同7−307133号、同9−145918号、同9−
306366号、同10−26704号の各公報に記載
がある。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
2. Description of the Related Art An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display displays a color image by a combination of light of three primary colors of red, blue and green in principle. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors. For example, in a plasma display panel (PDP), it is known that extra light (wavelength in the range of 560 to 620 nm) is included in light emission from the three primary color phosphors. Therefore, it has been proposed to perform color correction using an optical filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Laid-Open No. 58-153 discloses color correction using an optical filter.
No. 904, No. 60-118748, No. 60-1874
No. 9, No. 61-188501, JP-A-3-23198
No. 8, No. 5-203804, No. 5-205564,
No. 7-307133, No. 9-145918, No. 9-
These are described in JP-A Nos. 306366 and 10-26704.

【0003】画像表示装置には、色補正に加えて、反射
防止の必要もある。すなわち、画像表示装置には、ディ
スプレイ上に背景が映り込む事でコントラストが低下す
る問題がある。この問題を解決するための手段として、
様々な反射防止膜が提案されている。これまでに提案さ
れた反射防止膜の反射防止機能層は、蒸着層と塗布層に
分類できる。光学的機能の観点では蒸着層の方が優れて
いるが、塗布層には製造が容易であるとの利点がある。
蒸着層は、眼鏡やカメラのようなレンズの反射防止膜と
して古くから用いられている。蒸着層は、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法
あるいはPVD法により形成する。塗布層は、一般に、
微粒子およびバインダーの塗布により形成する。塗布層
については、特開昭59−49501号、同59−50
401号、同60−59250号、特開平7−4852
7号の各公報に記載がある。
[0003] In addition to the color correction, the image display device also needs to prevent reflection. That is, the image display device has a problem that the contrast is reduced due to the background being reflected on the display. As a solution to this problem,
Various antireflection films have been proposed. The antireflection functional layers of the antireflection films proposed so far can be classified into vapor deposition layers and coating layers. Although the vapor deposition layer is superior from the viewpoint of optical functions, the coating layer has an advantage that it is easy to manufacture.
The vapor deposition layer has been used for a long time as an antireflection film for lenses such as glasses and cameras. The deposition layer is a vacuum deposition method,
It is formed by a sputtering method, an ion plating method, a CVD method or a PVD method. The coating layer is generally
It is formed by applying fine particles and a binder. Coating layers are described in JP-A-59-49501 and JP-A-59-50.
No. 401, 60-59250, JP-A-7-4852
No. 7 describes each.

【0004】前記の光学フィルターに、反射防止機能を
組み込むことも考えられる。前記の特開昭61−188
501号、特開平5−205643号、同9−1459
18号、同9−306366号、同10−26704号
の各公報は、反射防止機能が組み込まれた光学フィルタ
ーを開示している。特開昭61−188501号、特開
平5−205643号、同9−145918号、同9−
306366号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平10−26704
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層(表面硬化層)
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。
It is also conceivable to incorporate an antireflection function into the optical filter. The above-mentioned JP-A-61-188.
No. 501, JP-A-5-205643 and 9-1459
No. 18, No. 9-306366, and No. 10-26704 disclose optical filters having an antireflection function incorporated therein. JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918 and JP-A-9-145918
In the optical filter described in each publication of 306366,
A dye or a pigment is added to the transparent support so that the support functions as a filter. JP-A-10-26704
In the optical filter described in the publication, a hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the antireflection layer
And the hard coat layer functions as a filter.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】透明支持体あるいはハ
ードコート層を着色すれば、透明支持体またはハードコ
ート層がフィルターとして機能する。しかし、透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、種類が非常に
限られる。透明支持体は、プラスチックまたはガラス
(通常はプラスチック)から製造する。透明支持体に添
加する染料には、支持体の製造時の温度に耐えられる程
度の非常に高い耐熱性が要求される。ハードコート層
は、一般に架橋しているポリマーを含む層である。ポリ
マーの架橋反応は、層の塗布後に実施する。架橋のため
の反応条件では、褪色してしまう染料が多い。透明支持
体やハードコート層に添加できる(種類が限られた)染
料のみで、画像表示装置に対応する適切な色補正を行う
ことは難しい。
If the transparent support or the hard coat layer is colored, the transparent support or the hard coat layer functions as a filter. However, the types of dyes that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The transparent support is made from plastic or glass (usually plastic). The dye to be added to the transparent support is required to have a very high heat resistance enough to withstand the temperature during the production of the support. The hard coat layer is generally a layer containing a crosslinked polymer. The crosslinking reaction of the polymer is carried out after the application of the layer. Under the reaction conditions for crosslinking, there are many dyes that fade. It is difficult to perform appropriate color correction corresponding to an image display device only with a dye (limited in kind) that can be added to a transparent support or a hard coat layer.

【0006】本発明者は、使用できる染料の種類に制約
が多い透明支持体やハードコート層ではなく、穏和な条
件で形成できるポリマー層に、染料を添加し、ポリマー
層をフィルター層として機能させることを検討した。し
かし、ポリマー層は、透明支持体やハードコート層と比
較して、染料の保護機能が弱い。ポリマー層に染料を添
加するためには、染料の耐久性(特に光堅牢性)を改善
する必要がある。本発明の目的は、適切な色補正機能を
有する光学フィルターを提供することである。また、本
発明の目的は、反射防止機能に加えて、適切な色補正機
能を有する反射防止膜を提供することでもある。
The inventor of the present invention adds a dye to a polymer layer that can be formed under mild conditions, instead of a transparent support or a hard coat layer, which has many restrictions on the types of dyes that can be used, and makes the polymer layer function as a filter layer. Considered that. However, the polymer layer has a weaker dye protection function than the transparent support or the hard coat layer. In order to add a dye to the polymer layer, it is necessary to improve the durability (particularly light fastness) of the dye. An object of the present invention is to provide an optical filter having an appropriate color correction function. Another object of the present invention is to provide an antireflection film having an appropriate color correction function in addition to the antireflection function.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(8)の光学フィルターおよび下記(9)、
(10)の反射防止膜により達成された。 (1)透明支持体上に、染料およびポリマーバインダー
を含むフィルター層を有する光学フィルターであって、
染料が、560乃至620nmの波長領域に吸収極大を
有し、フィルター層が、さらにフェノール化合物、フェ
ノールエーテル化合物、アニリン化合物、キノン化合物
およびピペリジン化合物からなる群より選ばれる褪色防
止剤を含むことを特徴とする光学フィルター。 (2)フィルター層が褪色防止剤を、染料の0.1乃至
1000重量%の範囲の量で含む(1)に記載の光学フ
ィルター。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide the following optical filters (1) to (8) and the following (9):
This was achieved by the antireflection film of (10). (1) An optical filter having a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent support,
The dye has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm, and the filter layer further contains an anti-fading agent selected from the group consisting of phenol compounds, phenol ether compounds, aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds. And optical filter. (2) The optical filter according to (1), wherein the filter layer contains the anti-fading agent in an amount ranging from 0.1 to 1000% by weight of the dye.

【0008】(3)染料が、会合状態でフィルター層に
含まれている(1)に記載の光学フィルター。 (4)染料の吸収極大の半幅値が、10乃至120nm
である(1)に記載の光学フィルター。 (5)染料の吸収極大におけるフィルター層の透過率
が、0.01乃至80%である(1)に記載の光学フィ
ルター。 (6)染料が、メチン染料である(1)に記載の光学フ
ィルター。 (7)染料が、シアニン染料である(6)に記載の光学
フィルター。 (8)プラズマディスプレイパネル用である(1)に記
載の光学フィルター。
(3) The optical filter according to (1), wherein the dye is contained in the filter layer in an associated state. (4) The half width value of the absorption maximum of the dye is 10 to 120 nm
The optical filter according to (1), wherein (5) The optical filter according to (1), wherein the transmittance of the filter layer at the absorption maximum of the dye is 0.01 to 80%. (6) The optical filter according to (1), wherein the dye is a methine dye. (7) The optical filter according to (6), wherein the dye is a cyanine dye. (8) The optical filter according to (1), which is for a plasma display panel.

【0009】(9)染料およびポリマーバインダーを含
むフィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積
層されている反射防止膜であって、染料が、560乃至
620nmの波長領域に吸収極大を有し、フィルター層
が、さらにフェノール化合物、フェノールエーテル化合
物、アニリン化合物、キノン化合物およびピペリジン化
合物からなる群より選ばれる褪色防止剤を含むことを特
徴とする反射防止膜。 (10)透明支持体、染料およびポリマーバインダーを
含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よりも低
い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層されてい
る反射防止膜であって、染料が、560乃至620nm
の波長領域に吸収極大を有し、フィルター層が、さらに
フェノール化合物、フェノールエーテル化合物、アニリ
ン化合物、キノン化合物およびピペリジン化合物からな
る群より選ばれる褪色防止剤を含むことを特徴とする反
射防止膜。
(9) A filter layer containing a dye and a polymer binder, a transparent support, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are the antireflection films laminated in this order. The dye has an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm, and the filter layer further contains an anti-fading agent selected from the group consisting of phenol compounds, phenol ether compounds, aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds. An antireflection film characterized by the following. (10) An antireflection film in which a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are laminated in this order, Is 560 to 620 nm
Wherein the filter layer further contains an anti-fading agent selected from the group consisting of phenol compounds, phenol ether compounds, aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds.

【0010】[0010]

【発明の効果】本発明者は研究を進め、560乃至62
0nmの波長領域に吸収極大を有する染料とフェノール
化合物、フェノールエーテル化合物、アニリン化合物、
キノン化合物およびピペリジン化合物からなる群より選
ばれる褪色防止剤とを併用することで、染料に、光学フ
ィルターや反射防止膜の(強い光を常時受ける)用途で
も問題が生じない光堅牢性を付与することに成功した。
これにより、様々な染料(例えば、ハロゲン化銀写真の
分野で開発されているメチン染料)を、光学フィルター
や反射防止膜の技術分野で使用することが可能になっ
た。ハロゲン化銀写真の技術分野では、染料の吸収スペ
クトル特性も詳細に研究されている。そのような染料を
使用することで、画像表示装置の種類に応じた適切な色
補正機能を行うことができる。以上の結果、本発明の光
学フィルターや反射防止膜は、画像表示装置の種類に応
じた適切な色補正機能を有する。
According to the present invention, the present inventor has proceeded with research, and
A dye having a maximum absorption in a wavelength region of 0 nm, a phenol compound, a phenol ether compound, an aniline compound,
By using together with an anti-fading agent selected from the group consisting of a quinone compound and a piperidine compound, the dye is provided with light fastness which does not cause a problem even in an application of an optical filter or an antireflection film (always receiving strong light). Succeeded.
This has made it possible to use various dyes (for example, methine dyes developed in the field of silver halide photography) in the technical fields of optical filters and antireflection films. In the field of silver halide photography, the absorption spectral characteristics of dyes have also been studied in detail. By using such a dye, it is possible to perform an appropriate color correction function according to the type of the image display device. As a result, the optical filter and the antireflection film of the invention have an appropriate color correction function according to the type of the image display device.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】反射防止膜(反射防止層を設けた
光学フィルター)の代表的な層構成を、図面を参照しな
がら説明する。図1は、フィルター層を反射防止層とは
透明支持体の反対の側に設けた反射防止膜の層構成を示
す断面模式図である。図1の(a)に示す態様は、フィ
ルター層(2)、透明支持体(1)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率
層(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率 図1の(b)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図1の(c)に示す態
様は、フィルター層(2)、透明支持体(1)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)は、以下の関係を満足
する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈折率層
の屈折率 図1の(d)に示す態様は、フィルター層(2)、透明
支持体(1)、ハードコート層(4)、中屈折率層
(6)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)の順序の
層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率層
(3)、高屈折率層(5)および中屈折率層(6)は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層
の屈折率<高屈折率層の屈折率
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A typical layer structure of an antireflection film (optical filter provided with an antireflection layer) will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on the side opposite to the transparent support from the antireflection layer. The embodiment shown in FIG. 1A includes a filter layer (2), a transparent support (1), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The transparent support (1) and the low refractive index layer (3) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support In the embodiment shown in FIG. 1B, the filter layer (2), the transparent support (1), the hard coat layer (4), and the low refractive index layer ( It has a layer configuration in the order of 3). The embodiment shown in FIG. 1 (c) includes a filter layer (2), a transparent support (1), a hard coat layer (4), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The transparent support (1), the low refractive index layer (3) and the high refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer In the embodiment shown in FIG. 1D, the filter layer (2), the transparent support (1), and the hard coat layer ( 4), a middle refractive index layer (6), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3). The transparent support (1), the low refractive index layer (3), the high refractive index layer (5) and the medium refractive index layer (6)
It has a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer

【0012】図2は、フィルター層と反射防止層とを透
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図2の(a)に示す態様は、透明支持
体(1)、フィルター層(2)、低屈折率層(3)の順
序の層構成を有する。透明支持体(1)と低屈折率層
(3)の屈折率の関係は、図1の(a)と同様である。
図2の(b)に示す態様は、透明支持体(1)、フィル
ター層(2)、ハードコート層(4)、低屈折率層
(3)の順序の層構成を有する。図2の(c)に示す態
様は、透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハード
コート層(4)、高屈折率層(5)、低屈折率層(3)
の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、低屈折率
層(3)および高屈折率層(5)の屈折率の関係は、図
1の(c)と同様である。図2の(d)に示す態様は、
透明支持体(1)、フィルター層(2)、ハードコート
層(4)、中屈折率層(6)、高屈折率層(5)、低屈
折率層(3)の順序の層構成を有する。透明支持体
(1)、低屈折率層(3)、高屈折率層(5)および中
屈折率層(6)の屈折率の関係は、図1の(d)と同様
である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer structure of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. The embodiment shown in FIG. 2A has a layer structure in the order of the transparent support (1), the filter layer (2), and the low refractive index layer (3). The relationship between the refractive index of the transparent support (1) and the refractive index of the low refractive index layer (3) is the same as that of FIG.
The embodiment shown in FIG. 2B has a layer structure in the order of the transparent support (1), the filter layer (2), the hard coat layer (4), and the low refractive index layer (3). The mode shown in FIG. 2C is a transparent support (1), a filter layer (2), a hard coat layer (4), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The relationship between the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (3) and the high refractive index layer (5) is the same as that in FIG. The mode shown in FIG.
The transparent support (1), the filter layer (2), the hard coat layer (4), the medium refractive index layer (6), the high refractive index layer (5), and the low refractive index layer (3) have a layer structure in this order. . The relationship among the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (3), the high refractive index layer (5) and the middle refractive index layer (6) is the same as that in FIG.

【0013】(透明支持体)透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、
86%以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、2
%以下であることが好ましく、1%以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、1.45乃至1.70である
ことが好ましい。
(Transparent Support) Examples of materials for forming the transparent support include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose). Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, poly Butylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), polymethylmethacrylate , Syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more,
More preferably, it is 86% or more. Haze is 2
%, More preferably 1% or less. The refractive index is preferably from 1.45 to 1.70.

【0014】透明支持体に、赤外線吸収剤または紫外線
吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤または紫外線吸
収剤の添加量は、透明支持体の0.01乃至20重量%
であることが好ましく、0.05乃至10重量%である
ことがさらに好ましい。さらに滑り剤として、不活性無
機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化
合物の例には、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、Ca
CO3 、タルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体
に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬
品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外
線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズ
マ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理
が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ
放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と
紫外線処理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強
化のための下塗り層を設置してもよい。
An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorbing agent or the ultraviolet absorbing agent is 0.01 to 20% by weight of the transparent support.
And more preferably 0.05 to 10% by weight. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include SiO 2 , TiO 2 , BaSO 4 , Ca
Includes CO 3 , talc and kaolin. The transparent support may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred. Further, an undercoat layer for strengthening the adhesion with the upper layer may be provided.

【0015】(フィルター層)フィルター層の厚さは
0.1μm乃至5cmであることが好ましく、0.5μ
m乃至100μmであることがさらに好ましい。フィル
ター層は、褪色防止剤、染料およびポリマーバインダー
を含む。
(Filter layer) The thickness of the filter layer is preferably 0.1 μm to 5 cm,
More preferably, the thickness is from m to 100 μm. The filter layer contains an anti-fading agent, a dye and a polymer binder.

【0016】本発明では、褪色防止剤として、フェノー
ル化合物、フェノールエーテル化合物、アニリン化合
物、キノン化合物またはピペリジン化合物を用いる。本
明細書において、フェノール化合物は、フェノール性水
酸基を有する化合物を意味する。フェノールエーテル化
合物は、フェノール化合物のフェノール性水酸基の水素
原子が、脂肪族基または芳香族基により置換されている
エーテルを意味する。アニリン化合物は、アミノ置換ベ
ンゼン環を有する化合物を意味する。キノン化合物は、
キノン環(好ましくはp−キノン環)を有する化合物を
意味する。ピペリジン化合物は、ピペリジン環を有する
化合物を意味する。
In the present invention, a phenol compound, a phenol ether compound, an aniline compound, a quinone compound or a piperidine compound is used as an anti-fading agent. In the present specification, the phenol compound means a compound having a phenolic hydroxyl group. The phenol ether compound means an ether in which a hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group of the phenol compound is substituted by an aliphatic group or an aromatic group. An aniline compound means a compound having an amino-substituted benzene ring. Quinone compounds
It means a compound having a quinone ring (preferably a p-quinone ring). The piperidine compound means a compound having a piperidine ring.

【0017】好ましいフェノール化合物およびフェノー
ルエーテル化合物を下記式(I)で表す。
Preferred phenol compounds and phenol ether compounds are represented by the following formula (I).

【0018】[0018]

【化1】 Embedded image

【0019】式(I)において、R1 は、水素原子、脂
肪族基または芳香族基である。
In the formula (I), R 1 is a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group.

【0020】本明細書において、脂肪族基は、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基ま
たは置換アラルキル基を意味する。アルキル基は、環状
であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキル基は、分
岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、1
乃至20であることが好ましく、1乃至15であること
がより好ましく、1乃至12であることがさらに好まし
く、1乃至10であることがさらにまた好ましく、1乃
至8であることが最も好ましい。置換アルキル基のアル
キル部分は、上記アルキル基と同様である。置換アルキ
ル基の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ、ニト
ロ、複素環基、−O−R31、−CO−R32、−CO−O
−R33、−O−CO−R34、−NR3536、−NH−C
O−R37、−CO−NR3839、−NH−CO−NR40
41、−NH−CO−O−R42、−S−R43、−SO2
−R44、−O−SO2 −R45、−NH−SO 2 −R46
よび−SO2 −NR4748が含まれる。R31、R32、R
33、R34、R 35、R36、R37、R38、R39、R40
41、R42、R43、R44、R45、R46、R 47およびR48
は、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基ま
たは複素環基である。なお、−CO−O−R33のR33
水素原子(すなわち、カルボキシル)の場合および−O
−SO2 −R45のR45が水素原子(すなわち、スルホ)
の場合は、水素原子が解離していても、塩の状態であっ
てもよい。
In the present specification, the aliphatic group is an alkyl
Group, substituted alkyl group, alkenyl group, substituted alkenyl
Group, alkynyl group, substituted alkynyl group, aralkyl group
Or a substituted aralkyl group. The alkyl group is cyclic
Or a chain. A chain alkyl group is
It may have a fork. The number of carbon atoms in the alkyl group is 1
From 20 to 20, preferably from 1 to 15
Is more preferable, and 1 to 12 is further preferable.
More preferably, 1 to 10.
Most preferably, it is from 8 to 8. Al of substituted alkyl group
The kill portion is the same as the above-mentioned alkyl group. Substituted alk
Examples of the substituent of the halogen group include a halogen atom, cyano, and nitro.
B, heterocyclic group, -OR31, -CO-R32, -CO-O
-R33, -O-CO-R34, -NR35R36, -NH-C
OR37, -CO-NR38R39, -NH-CO-NR40
R41, -NH-CO-OR42, -SR43, -SOTwo
-R44, -O-SOTwo-R45, -NH-SO Two-R46You
And -SOTwo-NR47R48Is included. R31, R32, R
33, R34, R 35, R36, R37, R38, R39, R40,
R41, R42, R43, R44, R45, R46, R 47And R48
Are each independently a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
Or a heterocyclic group. In addition, -CO-OR33R33But
In the case of a hydrogen atom (ie, carboxyl) and -O
-SOTwo-R45R45Is a hydrogen atom (ie, sulfo)
In the case of, even if the hydrogen atom is dissociated,
You may.

【0021】アルケニル基は、環状であっても鎖状であ
ってもよい。鎖状アルケニル基は、分岐を有していても
よい。アルケニル基の炭素原子数は、2乃至20である
ことが好ましく、2乃至15であることがより好まし
く、2乃至12であることがさらに好ましく、2乃至1
0であることがさらにまた好ましく、2乃至8であるこ
とが最も好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分
は、上記アルケニル基と同様である。置換アルケニル基
の置換基の例は、上記置換アルキル基の置換基の例と同
様である。アルキニル基は、環状であっても鎖状であっ
てもよい。鎖状アルキニル基は、分岐を有していてもよ
い。アルキニル基の炭素原子数は、2乃至20であるこ
とが好ましく、2乃至15であることがより好ましく、
2乃至12であることがさらに好ましく、2乃至10で
あることがさらにまた好ましく、2乃至8であることが
最も好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、
上記アルキニル基と同様である。置換アルキニル基の置
換基の例は、上記置換アルキル基の置換基の例と同様で
ある。アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基
と同様である。アラルキル基のアリール部分は、後述す
るアリール基と同様である。置換アラルキル基のアルキ
ル部分は、上記アルキル基と同様である。置換アラルキ
ル基のアリール部分は、後述するアリール基と同様であ
る。置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例は、
上記置換アルキル基の置換基の例と同様である。置換ア
ラルキル基のアリール部分の置換基の例は、後述する置
換アリール基の置換基の例と同様である。
The alkenyl group may be cyclic or chain. The chain alkenyl group may have a branch. The number of carbon atoms of the alkenyl group is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 15, further preferably 2 to 12, and more preferably 2 to 1.
More preferably, it is 0, and most preferably 2 to 8. The alkenyl part of the substituted alkenyl group is the same as the above alkenyl group. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group. The alkynyl group may be cyclic or chain. The chain alkynyl group may have a branch. The alkynyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 15 carbon atoms,
It is more preferably from 2 to 12, still more preferably from 2 to 10, and most preferably from 2 to 8. The alkynyl part of the substituted alkynyl group is
The same as the above alkynyl group. Examples of the substituent of the substituted alkynyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group. The alkyl part of the aralkyl group is the same as the above-mentioned alkyl group. The aryl part of the aralkyl group is the same as the aryl group described later. The alkyl part of the substituted aralkyl group is the same as the above-mentioned alkyl group. The aryl part of the substituted aralkyl group is the same as the aryl group described later. Examples of substituents on the alkyl portion of the substituted aralkyl group include:
It is the same as the example of the substituent of the substituted alkyl group. Examples of the substituent of the aryl part of the substituted aralkyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group described later.

【0022】本明細書において、芳香族基は、アリール
基または置換アリール基を意味する。アリール基の炭素
原子数は、6乃至25であることが好ましく、6乃至2
0であることがより好ましく、6乃至15であることが
さらに好ましく、6(フェニル)または10(ナフチ
ル)であることが最も好ましい。置換アリール基のアリ
ール部分は、上記アリール基と同様である。置換アリー
ル基の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ、ニト
ロ、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−O−R51、−C
O−R52、−CO−O−R53、−O−CO−R54、−N
5556、−NH−CO−R57、−CO−NR5859
−NH−CO−NR6061、−NH−CO−O−R62
−S−R63、−SO2 −R64、−O−SO2 −R65、−
NH−SO2 −R66または−SO2 −NR6768であ
る。R51、R52、R53、R54、R55、R56、R57
58、R59、R60、R61、R62、R63、R64、R65、R
66、R67およびR68は、それぞれ独立に、水素原子、脂
肪族基、芳香族基または複素環基である。なお、−CO
−O−R53のR53が水素原子(すなわち、カルボキシ
ル)の場合および−O−SO2 −R65のR65が水素原子
(すなわち、スルホ)の場合は、水素原子が解離してい
ても、塩の状態であってもよい。
In the present specification, the aromatic group means an aryl group or a substituted aryl group. The aryl group preferably has 6 to 25 carbon atoms, and has 6 to 2 carbon atoms.
It is more preferably 0, further preferably 6 to 15, and most preferably 6 (phenyl) or 10 (naphthyl). The aryl part of the substituted aryl group is the same as the above-mentioned aryl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include a halogen atom, cyano, nitro, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, -OR 51 , -C
OR- 52 , -CO-OR- 53 , -O-CO- R54 , -N
R 55 R 56, -NH-CO -R 57, -CO-NR 58 R 59,
—NH—CO—NR 60 R 61 , —NH—CO—O—R 62 ,
-S-R 63, -SO 2 -R 64, -O-SO 2 -R 65, -
Is NH-SO 2 -R 66 or -SO 2 -NR 67 R 68. R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 ,
R58 , R59 , R60 , R61 , R62 , R63 , R64 , R65 , R
66 , R 67 and R 68 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. Note that -CO
R 53 of -O-R 53 is a hydrogen atom (i.e., carboxyl) For and -O-SO 2 R 65 of -R 65 is a hydrogen atom (i.e., sulfo) in the case of, even if hydrogen atoms dissociated , May be in a salt state.

【0023】本明細書において、複素環基は、置換基を
有する複素環基を含む。複素環基の複素環は、5員環ま
たは6員環であることが好ましい。複素環に、脂肪族
環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。
複素環の(縮合環を含む)例には、ピリジン環、ピペリ
ジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロ
ール環、キノリルモルホリン環、ピロール環、インドー
ル環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、カ
ルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、
インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジ
ン環、ベンゾキノリン環およびチアジアゾール環が含ま
れる。複素環基の置換基の例は、上記置換アリール基の
置換基の例と同様である。
In the present specification, the heterocyclic group includes a heterocyclic group having a substituent. The heterocyclic ring of the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring. An aliphatic ring, an aromatic ring, or another hetero ring may be condensed with the hetero ring.
Examples of the heterocycle (including a condensed ring) include a pyridine ring, a piperidine ring, a furan ring, a furfuran ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a quinolylmorpholine ring, a pyrrole ring, an indole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, and a quinoline ring. , Carbazole ring, phenothiazine ring, phenoxazine ring,
Includes indoline, thiazole, pyrazine, thiadiazine, benzoquinoline and thiadiazole rings. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

【0024】式(I)において、nは、1、2、3、4
または5である。式(I)において、R2 は、ベンゼン
環の一価の置換基であるか、あるいは、複数のR2 が結
合して、ベンゼン環に縮合している脂肪族環または芳香
族環を形成する。ベンゼン環の一価の置換基の例は、前
記置換アリール基の置換基の例と同様である。脂肪族環
の例には、シクロペンテン環およびシクロヘキセン環が
含まれる。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタ
レン環が含まれる。脂肪族環および芳香族環は、置換基
を有していてもよい。置換基の例は、前記置換アリール
基の置換基の例と同様である。
In the formula (I), n is 1, 2, 3, 4
Or 5. In the formula (I), R 2 is a monovalent substituent of a benzene ring, or a plurality of R 2 combine to form an aliphatic ring or an aromatic ring fused to the benzene ring. . Examples of the monovalent substituent of the benzene ring are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group. Examples of the aliphatic ring include a cyclopentene ring and a cyclohexene ring. Examples of the aromatic ring include a benzene ring and a naphthalene ring. The aliphatic ring and the aromatic ring may have a substituent. Examples of the substituent are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

【0025】好ましいアニリン化合物を下記式(II)で
表す。
A preferred aniline compound is represented by the following formula (II).

【0026】[0026]

【化2】 Embedded image

【0027】式(II)において、R3 およびR4 は、そ
れぞれ独立に、水素原子、脂肪族基または芳香族基であ
るか、R3 とR4 とが結合して、複素環を形成するか、
あるいはR3 またはR4 とR5 とが結合して、ベンゼン
環に縮合している複素環を形成する。R3 とR4 とが形
成する複素環の例には、ピロリジン環、ピペリジン環、
ピペラジン環およびモルホリン環が含まれる。R3 また
はR4 とR5 とが形成する複素環の例には、ピロリン環
およびテトラヒドロジアジン環が含まれる。
In the formula (II), R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, or R 3 and R 4 are bonded to form a heterocyclic ring. Or
Alternatively, R 3 or R 4 and R 5 combine to form a heterocyclic ring fused to a benzene ring. Examples of the heterocyclic ring formed by R 3 and R 4 include a pyrrolidine ring, a piperidine ring,
Includes piperazine and morpholine rings. Examples of the hetero ring formed by R 3 or R 4 and R 5 include a pyrroline ring and a tetrahydrodiazine ring.

【0028】式(II)において、nは、1、2、3、4
または5である。式(II)において、R5 は、ベンゼン
環の一価の置換基であるか、あるいは、複数のR5 が結
合して、ベンゼン環に縮合している脂肪族環または芳香
族環を形成する。ベンゼン環の一価の置換基の例は、前
記置換アリール基の置換基の例と同様である。脂肪族環
の例には、シクロペンテン環およびシクロヘキセン環が
含まれる。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタ
レン環が含まれる。脂肪族環および芳香族環は、置換基
を有していてもよい。置換基の例は、前記置換アリール
基の置換基の例と同様である。
In the formula (II), n is 1, 2, 3, 4
Or 5. In the formula (II), R 5 is a monovalent substituent of a benzene ring, or a plurality of R 5 combine to form an aliphatic ring or an aromatic ring fused to the benzene ring. . Examples of the monovalent substituent of the benzene ring are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group. Examples of the aliphatic ring include a cyclopentene ring and a cyclohexene ring. Examples of the aromatic ring include a benzene ring and a naphthalene ring. The aliphatic ring and the aromatic ring may have a substituent. Examples of the substituent are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

【0029】好ましいキノン化合物を下記式(III)で表
す。
Preferred quinone compounds are represented by the following formula (III).

【0030】[0030]

【化3】 Embedded image

【0031】式(III)において、mは、1、2、3また
は4である。式(III)において、R6 は、キノン環の一
価の置換基であるか、あるいは、複数のR5 が結合し
て、キノン環に縮合している脂肪族環または芳香族環を
形成する。キノン環の一価の置換基の例は、前記置換ア
リール基の置換基の例と同様である。脂肪族環の例に
は、シクロペンテン環およびシクロヘキセン環が含まれ
る。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環
が含まれる。脂肪族環および芳香族環は、置換基を有し
ていてもよい。置換基の例は、前記置換アリール基の置
換基の例と同様である。
In the formula (III), m is 1, 2, 3 or 4. In the formula (III), R 6 is a monovalent substituent of a quinone ring, or a plurality of R 5 combine to form an aliphatic ring or an aromatic ring fused to the quinone ring. . Examples of the monovalent substituent of the quinone ring are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group. Examples of the aliphatic ring include a cyclopentene ring and a cyclohexene ring. Examples of the aromatic ring include a benzene ring and a naphthalene ring. The aliphatic ring and the aromatic ring may have a substituent. Examples of the substituent are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

【0032】好ましいピペリジン化合物を下記式(IV)
で表す。
A preferred piperidine compound is represented by the following formula (IV)
Expressed by

【0033】[0033]

【化4】 Embedded image

【0034】式(IV)において、R7 は、水素原子、脂
肪族基または酸素ラジカルである。式(IV)において、
9 、R10、R11およびR9 は、それぞれ独立に、水素
原子または脂肪族基である。
In the formula (IV), R 7 is a hydrogen atom, an aliphatic group or an oxygen radical. In the formula (IV),
R 9 , R 10 , R 11 and R 9 are each independently a hydrogen atom or an aliphatic group.

【0035】以下に、フェノール化合物、フェノールエ
ーテル化合物、アニリン化合物、キノン化合物およびピ
ペリジン化合物の例を示す。
The following are examples of phenol compounds, phenol ether compounds, aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds.

【0036】[0036]

【化5】 Embedded image

【0037】[0037]

【化6】 Embedded image

【0038】[0038]

【化7】 Embedded image

【0039】[0039]

【化8】 Embedded image

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】以上の化合物は、フェノール、アニリン、
キノンまたはピペリジンに対して、アルキル化処理のよ
うな簡単な反応を実施することにより合成できる。ま
た、以上の化合物の多くは市販されており、市販品を用
いてもよい。二種類以上の褪色防止剤を併用してもよ
い。フィルター層は褪色防止剤を、染料の0.1乃至1
000重量%の範囲の量で含むことが好ましく、5乃至
500重量%の範囲の量で含むことがさらに好ましく、
10乃至200重量%の範囲の量で含むことが最も好ま
しい。
The above compounds include phenol, aniline,
It can be synthesized by performing a simple reaction such as an alkylation treatment on quinone or piperidine. Many of the above compounds are commercially available, and commercially available products may be used. Two or more anti-fading agents may be used in combination. The filter layer contains an anti-fading agent and 0.1 to 1 of dye.
Preferably in an amount in the range of 000% by weight, more preferably in an amount in the range of 5 to 500% by weight,
Most preferably, it is present in an amount ranging from 10 to 200% by weight.

【0042】フィルター層は、560乃至620nmの
波長領域(緑と赤の間)に吸収極大を有する。560乃
至620nmの波長領域の吸収極大は、赤色蛍光体の色
純度を低下させているサブバンドを選択的にカットする
機能を有する。プラズマディスプレイパネルでは、ネオ
ンガスの励起によって放出される595nm付近の不要
な発光もカットできる。緑の蛍光体の色調への影響をさ
らに低下させるため、560乃至620nmの波長領域
の吸収極大は、シャープであることが好ましい。具体的
に560乃至620nmの波長領域の吸収極大では、半
幅値(吸収極大の吸光度の半分の吸光度を示す波長領域
の幅)が、10乃至200nmであることが好ましく、
15乃至120nmであることがより好ましく、20乃
至100nmであることがさらに好ましく、22乃至8
0nmであることが最も好ましい。560乃至620n
mの波長領域の吸収極大でのフィルター層の透過率は、
0.01乃至80%の範囲であることが好ましく、0.
1乃至60%の範囲であることがさらに好ましく、0.
2乃至50%の範囲であることが最も好ましい。
The filter layer has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm (between green and red). The absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm has a function of selectively cutting the sub-band that reduces the color purity of the red phosphor. In the plasma display panel, unnecessary light emission near 595 nm emitted by excitation of neon gas can be cut. In order to further reduce the effect on the color tone of the green phosphor, the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is preferably sharp. Specifically, at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm, the half width value (the width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorbance of the absorption maximum) is preferably 10 to 200 nm,
It is more preferably from 15 to 120 nm, further preferably from 20 to 100 nm, and from 22 to 8
Most preferably, it is 0 nm. 560 to 620n
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of m is
It is preferably in the range of 0.01 to 80%,
More preferably, it is in the range of 1 to 60%.
Most preferably, it is in the range of 2 to 50%.

【0043】560乃至620nmの波長領域に吸収極
大を有する染料としては、メチン染料、アントラキノン
染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アゾ
染料またはアゾメチン染料を用いることが好ましい。メ
チン染料を用いることがさらに好ましい。メチン染料
は、シアニン染料、オキソノール染料、メロシアニン染
料、アリーリデン染料およびスチリル染料に分類でき
る。シアニン染料、オキソノール染料、メロシアニン染
料、アリーリデン染料およびスチリル染料は、それぞれ
下記式で表される。 シアニン染料: Ba=Lo−Bo オキソノール染料:Ak=Lo−Ae メロシアニン染料:Ak=Le=Ba アリーリデン染料:Ak=Lo−Ar スチリル染料: Bo−Le−Ar 式中、Baは、塩基性核であり;Boは、塩基性核のオ
ニウム体であり;Akは、ケト型酸性核であり;Ae
は、エノール型酸性核であり;Arは、芳香族核であ
り;Loは、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり;
そして、Leは、偶数個のメチンからなるメチン鎖であ
る。
As the dye having an absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm, it is preferable to use a methine dye, an anthraquinone dye, a triphenylmethane dye, a xanthene dye, an azo dye or an azomethine dye. More preferably, a methine dye is used. Methine dyes can be classified into cyanine dyes, oxonol dyes, merocyanine dyes, arylidene dyes and styryl dyes. The cyanine dye, oxonol dye, merocyanine dye, arylidene dye and styryl dye are each represented by the following formula. Cyanine dye: Ba = Lo-Bo oxonol dye: Ak = Lo-Ae merocyanine dye: Ak = Le = Ba arylidene dye: Ak = Lo-Ar styryl dye: Bo-Le-Ar In the formula, Ba is a basic nucleus. Yes; Bo is an onium of a basic nucleus; Ak is a keto-type acidic nucleus;
Is an enol-type acidic nucleus; Ar is an aromatic nucleus; Lo is a methine chain consisting of an odd number of methines;
Le is a methine chain composed of an even number of methines.

【0044】シアニン染料が特に好ましい。シアニン染
料の塩基性核(Ba)、塩基性核のオニウム体(Bo)
および奇数個のメチンからなるメチン鎖(Lo)につい
て、さらに説明する。塩基性核(Ba)および塩基性核
のオニウム体(Bo)は、それぞれ、下記式で表される
ことが好ましい。
Cyanine dyes are particularly preferred. Basic nucleus (Ba) of cyanine dye, onium body of basic nucleus (Bo)
The methine chain (Lo) composed of an odd number of methines will be further described. It is preferable that the basic nucleus (Ba) and the onium body (Bo) of the basic nucleus are each represented by the following formula.

【0045】[0045]

【化10】 Embedded image

【0046】式中、X1 は、単結合または−CR3 =C
4 −であり;X1 が単結合であるとき、Y1 は、−O
−、−S−、−Se−、−NR5 −、−CR6 7 −ま
たは−CR8 =CR9 −であり;X1 が−CR3 =CR
4 −であるとき、Y1 は、単結合であり;X2 は、二重
結合または=CR10−CR11=であり;X2 が、二重結
合であるとき、Y2 は、−O−、−S−、−Se−、−
NR12−、−CR13 14−または−CR15=CR16−で
あり;X2 が=CR3 −CR4 =であるとき、Y2 は、
単結合であり;R1 およびR2 は、それぞれ独立に、脂
肪族基または芳香族基であり;R3 、R4 、R5
6 、R7 、R8 、R9 、R10、R11、R12、R13、R
14、R15およびR16は、それぞれ独立に、水素原子また
は脂肪族基であり;ベンゼン環AおよびBには、他のベ
ンゼン環が縮合していてもよく;そして、ベンゼン環
A、Bおよびそれらの縮合環は、置換基を有していても
よい。
Where X1Is a single bond or -CRThree= C
RFour-And X1Is a single bond, Y1Is -O
-, -S-, -Se-, -NRFive-, -CR6R7
Or -CR8= CR9-And X1Is -CRThree= CR
FourWhen-, Y1Is a single bond; XTwoIs a double
Bond or = CRTen-CR11=; XTwoBut double tie
If yes, YTwoIs -O-, -S-, -Se-,-
NR12-, -CR13R 14-Or -CRFifteen= CR16In
Yes; XTwoIs = CRThree-CRFour=, YTwoIs
R is a single bond;1And RTwoAre each independently fat
An aliphatic group or an aromatic group;Three, RFour, RFive,
R6, R7, R8, R9, RTen, R11, R12, R13, R
14, RFifteenAnd R16Are each independently a hydrogen atom or
Is an aliphatic group; benzene rings A and B have other bases
The benzene ring may be fused; and the benzene ring
A, B and their fused rings may have a substituent
Good.

【0047】ベンゼン環A、Bおよびそれらの縮合環の
置換基の例には、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニ
トロ、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−O−R21、−
CO−R22、−CO−O−R23、−O−CO−R24、−
NR2526、−NH−CO−R27、−CO−NR
2829、−NH−CO−NR3031、−NH−CO−O
−R 32、−S−R33、−SO2 −R34、−O−SO2
35、−NH−SO2 −R36または−SO2 −NR37
38である。R21、R22、R23、R24、R25、R26
27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R
35、R36、R37およびR38は、それぞれ独立に、水素原
子、脂肪族基、芳香族基または複素環基である。なお、
−CO−O−R23のR23が水素原子(すなわち、カルボ
キシル)の場合および−O−SO2 −R35のR35が水素
原子(すなわち、スルホ)の場合は、水素原子が解離し
ていても、塩の状態であってもよい。
The benzene rings A and B and their condensed rings
Examples of the substituent include a hydrogen atom, a halogen atom, cyano,
Toro, aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, -ORtwenty one, −
CO-Rtwenty two, -CO-ORtwenty three, -O-CO-Rtwenty four, −
NRtwenty fiveR26, -NH-CO-R27, -CO-NR
28R29, -NH-CO-NR30R31, -NH-CO-O
-R 32, -SR33, -SOTwo-R34, -O-SOTwo
R35, -NH-SOTwo-R36Or -SOTwo-NR37R
38It is. Rtwenty one, Rtwenty two, Rtwenty three, Rtwenty four, Rtwenty five, R26,
R 27, R28, R29, R30, R31, R32, R33, R34, R
35, R36, R37And R38Are each independently a hydrogen source
, An aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group. In addition,
-CO-ORtwenty threeRtwenty threeIs a hydrogen atom (ie, carbo
Xyl) and -O-SOTwo-R35R35Is hydrogen
For an atom (ie, sulfo), the hydrogen atom dissociates
Or in a salt state.

【0048】シアニン染料のメチン鎖(Lo)は、1
個、3個または5個のメチンからなることが好ましく、
3個のメチンからなることが特に好ましい。メチン鎖
は、置換基を有していてもよい。メチン鎖の置換基の例
は、前記置換アリール基の置換基の例と同様である。メ
チン鎖の二つの置換基が結合して、5員または6員の不
飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。メ
チン鎖が一つの置換基を有する場合、一つの置換基は中
央(メソ位)のメチンに結合することが好ましい。
The methine chain (Lo) of the cyanine dye is 1
Preferably consisting of 3, 3 or 5 methines,
It is particularly preferred that it consists of three methines. The methine chain may have a substituent. Examples of the substituent of the methine chain are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group. The two substituents of the methine chain may combine to form a 5- or 6-membered unsaturated aliphatic or heterocyclic ring. When the methine chain has one substituent, one substituent is preferably bonded to the central (meso) methine.

【0049】シアニン染料は、電荷バランスを保つため
のアニオンまたはカチオンを有していてもよい。カチオ
ンの例には、プロトン、金属イオンおよびアンモニウム
イオンが含まれる。金属イオンとしては、アルカリ金属
イオン(ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウム
イオン)が好ましい。アンモニウムイオンには、有機ア
ンモニウムイオン(例、テトラメチルアンモニウム、ト
リエチルアンモニウム)が含まれる。アニオンの例に
は、ハロゲンイオン(塩素イオン、臭素イオン、沃素イ
オン)、p−トルエンスルホンイオン、エチル硫酸イオ
ン、PF6 -、BF4 -およびClO4 -が含まれる。以下
に、シアニン染料の例を示す。
The cyanine dye may have an anion or a cation for maintaining charge balance. Examples of the cation include a proton, a metal ion and an ammonium ion. As the metal ion, an alkali metal ion (sodium ion, potassium ion, lithium ion) is preferable. The ammonium ion includes an organic ammonium ion (eg, tetramethylammonium, triethylammonium). Examples of the anion include a halogen ion (chlorine ion, bromine ion, iodine ion), p-toluenesulfon ion, ethyl sulfate ion, PF 6 , BF 4 and ClO 4 . Below, the example of a cyanine dye is shown.

【0050】[0050]

【化11】 Embedded image

【0051】 (1)Ra:−CH3 、Rb:−C4 8 SO3 - (2)Ra:−CH3 、Rb:−C3 6 SO3 - (3)Ra:−C2 5 、Rb:−C3 6 SO3 - (4)Ra:−C2 5 、Rb:−C4 8 SO3 - [0051] (1) Ra: -CH 3, Rb: -C 4 H 8 SO 3 - (2) Ra: -CH 3, Rb: -C 3 H 6 SO 3 - (3) Ra: -C 2 H 5, Rb: -C 3 H 6 SO 3 - (4) Ra: -C 2 H 5, Rb: -C 4 H 8 SO 3 -

【0052】[0052]

【化12】 Embedded image

【0053】 (5)Ra:−C4 8 SO3 -、Rb:−C2 5 (6)Ra:−C3 6 SO3 -、Rb:−CH3 (7)Ra:−C2 4 SO3 -、Rb:−C2 5 (5) Ra: —C 4 H 8 SO 3 , Rb: —C 2 H 5 (6) Ra: —C 3 H 6 SO 3 , Rb: —CH 3 (7) Ra: —C 2 H 4 SO 3 , Rb: —C 2 H 5

【0054】[0054]

【化13】 Embedded image

【0055】[0055]

【化14】 Embedded image

【0056】[0056]

【化15】 Embedded image

【0057】[0057]

【化16】 Embedded image

【0058】[0058]

【化17】 Embedded image

【0059】[0059]

【化18】 Embedded image

【0060】メチン染料は、エフ・エム・ハーマー(F.
M. Harmer )著「ヘテロサイクリック・コンパウンズ−
シアニンダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ
(Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related
Compounds )」、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ
(John Wiley and Sons )、ニューヨーク、ロンドン、
1964年;ディー・エム・スターマー(D.M. Sturme
r)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズ−スペシャ
ル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミスト
リー(Heterocyclic Compounds-Special Topics in Het
erocyclic Chemistry)」第18章、第14節、482
〜515頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John
Wiley and Sons )、ニューヨーク、ロンドン、197
7年;「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コン
パウンズ(Rodd' Chemistry of Carbon Compounds)」
第2版、第4巻、パートB、第15章、369〜422
頁、エスセビア・サイエンス・パブリック・カンパニー
インク(Elsevier Science Publishing Company In
c.)、ニューヨーク、1977年;特開平5−8829
3号および同6−313939号の各公報の記載を参照
して合成できる。
The methine dye is available from FM Hammer (F.
M. Harmer), Heterocyclic Compounds
Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related
Compounds), John Wiley and Sons, New York, London,
1964; DM Sturme
r), Heterocyclic Compounds-Special Topics in Het
erocyclic Chemistry) ", Chapter 18, Section 14, 482
515 pages, John Willie and Sons (John
Wiley and Sons), New York, London, 197
7 years; “Rodd's Chemistry of Carbon Compounds”
Second Edition, Volume 4, Part B, Chapter 15, 369-422
Page, Elsevier Science Publishing Company In
c.), New York, 1977;
The compounds can be synthesized with reference to the descriptions in JP-A Nos. 3 and 6-313939.

【0061】本発明では、染料を会合状態で使用するこ
とが好ましい。会合状態の染料は、いわゆるJバンドを
形成するため、シャープな吸収スペクトルピークを示
す。染料の会合とJバンドについては、文献(例えば、
Photographic Science and Engineering Vol. 18, No.
323-335(1974))に記載がある。さらに、会合状態の染
料の吸収極大が、溶液状態の染料の吸収極大よりも長波
長側に移動する。従って、フィルター層に含まれる染料
が会合状態であるか、非会合状態であるかは、吸収極大
を測定することで容易に判断できる。本明細書では、溶
液状態の染料の吸収極大よりも30nm以上長波長側に
吸収極大が移動している状態を会合状態と称する。会合
状態の染料では、吸収極大の移動が40nm以上である
ことが好ましく、45nm以上であることがさらに好ま
しく、50nm以上であることが最も好ましい。
In the present invention, the dye is preferably used in an associated state. The dye in an associated state forms a so-called J band, and thus shows a sharp absorption spectrum peak. The dye association and the J band are described in the literature (eg,
Photographic Science and Engineering Vol. 18, No.
323-335 (1974)). Furthermore, the absorption maximum of the dye in the associated state moves to a longer wavelength side than the absorption maximum of the dye in the solution state. Therefore, whether the dye contained in the filter layer is in an associated state or a non-associated state can be easily determined by measuring the absorption maximum. In this specification, a state in which the absorption maximum moves to a longer wavelength side by 30 nm or more than the absorption maximum of the dye in a solution state is referred to as an association state. In the dye in the associated state, the movement of the absorption maximum is preferably 40 nm or more, more preferably 45 nm or more, and most preferably 50 nm or more.

【0062】染料には、水に溶解するだけで会合体を形
成する化合物もある。ただし、一般には、染料の水溶液
にゼラチンまたは塩(例、塩化バリウム、塩化アンモニ
ウム、塩化ナトリウム)を添加して会合体を形成する。
染料の水溶液にゼラチンを添加する方法が特に好まし
い。染料の会合体は、染料の固体微粒子分散物として形
成することもできる。固体微粒子の状態とするために
は、公知の分散機を用いることができる。分散機の例に
は、ボールミル、振動ミル、遊星ボールミル、サンドミ
ル、コロイドミル、ジェットミルおよびローラミルが含
まれる。縦型または横型の媒体分散機(特開昭52−9
2716号公報および国際特許88/074794号明
細書記載)が好ましい。分散は、適当な媒体(例、水、
アルコール)の存在下で実施してもよい。分散用界面活
性剤を用いることが好ましい。アニオン性界面活性剤
(特開昭52−92716号公報および国際特許88/
074794号明細書記載)が好ましく用いられる。必
要に応じて、アニオン性ポリマー、ノニオン性界面活性
剤あるいはカチオン性界面活性剤を用いてもよい。染料
を適当な溶媒に溶解した後、その貧溶媒を添加して、微
粒子状の粉末を得てもよい。この場合も、上記の界面活
性剤を用いることができる。また、溶液のpHを調整す
ることにより、染料の微結晶を析出させてもよい。この
微結晶も染料の会合体である。
Some dyes form compounds when dissolved only in water. However, generally, gelatin or a salt (eg, barium chloride, ammonium chloride, sodium chloride) is added to an aqueous solution of the dye to form an aggregate.
A method of adding gelatin to an aqueous solution of a dye is particularly preferred. Dye aggregates can also be formed as solid particulate dispersions of the dye. In order to obtain solid fine particles, a known disperser can be used. Examples of the disperser include a ball mill, a vibration mill, a planetary ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill and a roller mill. Vertical or horizontal media disperser (Japanese Patent Laid-Open No. 52-9 / 1982)
No. 2716 and International Patent Publication No. 88/074794) are preferred. Dispersion is accomplished by using a suitable medium (eg, water,
(Alcohol). It is preferable to use a surfactant for dispersion. Anionic surfactants (JP-A-52-92716 and International Patent No.
0774794) are preferably used. If necessary, an anionic polymer, a nonionic surfactant or a cationic surfactant may be used. After dissolving the dye in an appropriate solvent, the poor solvent may be added to obtain a fine powder. Also in this case, the above-mentioned surfactant can be used. Further, fine crystals of the dye may be precipitated by adjusting the pH of the solution. These microcrystals are also aggregates of the dye.

【0063】フィルター層は、560乃至620nmの
波長領域(緑と赤の間)に加えて、500乃至550n
mの波長領域(緑)に吸収極大を有してもよい。500
乃至550nmの波長領域における吸収極大の半値幅
は、560乃至620nmの波長領域における吸収極大
の半値幅よりも広いことが好ましい。また、500乃至
550nmの波長領域の吸収極大でのフィルター層の透
過率は、560乃至620nmの波長領域の吸収極大で
のフィルター層の透過率よりも大きいことが好ましい。
500乃至550nmの波長領域の吸収極大は、視感度
の高い緑色蛍光体の発色強度を調節する機能を有する。
緑色蛍光体の発光域は、なだらかにカットすることが好
ましい。具体的に500乃至550nmの波長領域の吸
収極大では、半幅値(吸収極大の吸光度の半分の吸光度
を示す波長領域の幅)が、30乃至300nmであるこ
とが好ましく、40乃至250nmであることがより好
ましく、50乃至200nmであることがさらに好まし
く、60乃至150nmであることが最も好ましい。5
00乃至550nmの波長領域の吸収極大でのフィルタ
ー層の透過率は、5乃至90%の範囲であることが好ま
しく、20乃至85%であることがさらに好ましく、5
0乃至80%の範囲であることが最も好ましい。500
乃至550nmの波長領域の吸収極大を有する染料とし
ては、オキソノール染料、アゾ染料、アゾメチン染料、
アントラキノン染料、シアニン染料、メロシアニン染
料、ベンジリデン染料あるいはキサンテン染料を用いる
ことができる。これらの染料は、
The filter layer has a wavelength range of 560 to 620 nm (between green and red) and a wavelength range of 500 to 550 nm.
It may have an absorption maximum in the wavelength region of m (green). 500
It is preferable that the half width of the absorption maximum in the wavelength range of 550 to 550 nm is wider than the half width of the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm. Further, the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is preferably larger than the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm.
The absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm has a function of adjusting the coloring intensity of the green phosphor having high visibility.
It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. Specifically, at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm, the half width value (the width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorbance of the absorption maximum) is preferably 30 to 300 nm, and more preferably 40 to 250 nm. The thickness is more preferably 50 to 200 nm, and most preferably 60 to 150 nm. 5
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 00 to 550 nm is preferably in the range of 5 to 90%, more preferably 20 to 85%, and more preferably 5 to 90%.
Most preferably, it is in the range of 0 to 80%. 500
Oxonol dyes, azo dyes, azomethine dyes, as dyes having an absorption maximum in the wavelength region of from 550 nm to
Anthraquinone dye, cyanine dye, merocyanine dye, benzylidene dye or xanthene dye can be used. These dyes are

【0064】以上述べた波長領域(500〜550nm
および560〜620nm)とは異なる波長領域に吸収
極大を有する染料を併用してもよい。そのような染料と
しては、近赤外吸収染料を用いることができる。近赤外
吸収染料としては、シアニン染料(特開平9−9689
1号公報記載)、金属キレート染料、アミニウム染料、
ジイモニウム染料、キノン染料、スクアリリウム染料
(特開平9−90547号、同10−204310号の
各公報記載)や各種メチン染料を用いることができる。
近赤外吸収染料については、色材、61[4]215−
226(1988)および化学工業43−53(198
6年5月号)にも記載がある。また、他の可視光吸収染
料としては、トリフェニルメタン染料(米国特許215
0695号明細書および特開平5−117536号公報
記載)およびフルオレセイン系染料(例、フルオレセイ
ン、ジブロモフルオレセイン、エオシン、ローダミン)
を用いることができる。
The wavelength range described above (500 to 550 nm)
And 560 to 620 nm). As such a dye, a near infrared absorbing dye can be used. As a near-infrared absorbing dye, a cyanine dye (JP-A-9-9689)
No. 1), metal chelate dyes, aminium dyes,
A diimonium dye, a quinone dye, a squarylium dye (described in JP-A-9-90547 and JP-A-10-204310) and various methine dyes can be used.
As for the near infrared absorbing dye, a coloring material, 61 [4] 215-
226 (1988) and Chemical Industries 43-53 (198).
May, 2006). Other visible light absorbing dyes include triphenylmethane dyes (US Pat.
No. 0695 and JP-A-5-117536) and fluorescein dyes (eg, fluorescein, dibromofluorescein, eosin, rhodamine)
Can be used.

【0065】フィルター層のポリマーバインダーとして
は、天然ポリマー(例、ゼラチン、セルロース誘導体、
アルギン酸)または合成ポリマー(例、ポリメチルメタ
クリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレ
ン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、水溶性ポリアミド)を用いることができる。親
水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、水
溶性ポリアミド)が好ましく、ゼラチンが特に好まし
い。
As the polymer binder for the filter layer, natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives,
Alginic acid) or a synthetic polymer (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) can be used. Hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide) are preferred, and gelatin is particularly preferred.

【0066】フイルター層に、その他の褪色防止剤や紫
外線吸収剤を添加してもよい。染料の安定化剤として機
能する褪色防止剤の例には、ハイドロキノン誘導体(米
国特許3935016号、同3982944号の各明細
書記載)、ハイドロキノンジエーテル誘導体(米国特許
4254216号明細書および特開昭55−21004
号公報記載)、フェノール誘導体(特開昭54−145
530号公報記載)、スピロインダンまたはメチレンジ
オキシベンゼンの誘導体(英国特許公開2077455
号、同2062888号の各明細書および特開昭61−
90155号公報記載)、クロマン、スピロクロマンま
たはクマランの誘導体(米国特許3432300号、同
3573050号、同3574627号、同37643
37号の各明細書および特開昭52−152225号、
同53−20327号、同53−17729号、同61
−90156号の各公報記載)、ハイドロキノンモノエ
ーテルまたはパラアミノフェノールの誘導体(英国特許
1347556号、同2066975号の各明細書およ
び特公昭54−12337号、特開昭55−6321号
の各公報記載)およびビスフェノール誘導体(米国特許
3700455号明細書および特公昭48−31625
号公報記載)が含まれる。
To the filter layer, other anti-fading agents and ultraviolet absorbers may be added. Examples of the anti-fading agent functioning as a dye stabilizer include hydroquinone derivatives (described in US Pat. Nos. 3,935,016 and 3,982,944) and hydroquinone diether derivatives (US Pat. -21004
JP-A-54-145), phenol derivatives (JP-A-54-145)
No. 530), a derivative of spiroindane or methylenedioxybenzene (UK Patent Publication No. 2077455)
And JP-A-2062888 and JP-A-61-288.
No. 90155), chroman, spirochroman or coumaran derivatives (US Pat. Nos. 3,432,300, 3,573,050, 3,574,627, and 37643).
No. 37 and JP-A No. 52-152225,
Nos. 53-20327, 53-17729, and 61
-90156) and hydroquinone monoether or paraaminophenol derivatives (described in British Patent Nos. 1347556 and 2066975, and JP-B Nos. 54-12337 and JP-A-55-6321). And bisphenol derivatives (US Pat. No. 3,700,455 and JP-B-48-31625).
Publication No.).

【0067】光あるいは熱に対する染料の安定性を向上
させるため、金属錯体(米国特許4245018号明細
書および特開昭60−97353号公報記載)を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに染料の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物(特開平2−300288号公報記載)、ジ
インモニウム化合物(米国特許465612号明細書記
載)、ニッケル錯体(特開平4−146189号公報記
載)および酸化防止剤(欧州特許公開820057A1
号明細書記載)が含まれる。
In order to improve the stability of the dye to light or heat, a metal complex (described in US Pat. No. 4,245,018 and JP-A-60-97353) may be used as an anti-fading agent. In order to further improve the light fastness of the dye, a singlet oxygen quencher may be used as an anti-fading agent. Examples of the singlet oxygen quencher include a nitroso compound (described in JP-A-2-300288), a diimmonium compound (described in US Pat. No. 4,656,612), a nickel complex (described in JP-A-4-146189), and antioxidant. Agent (European Patent Publication 820057A1)
Description).

【0068】(下塗り層)透明支持体とフィルター層と
の間に、下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層
は、ガラス転移温度が−60℃乃至60℃のポリマーを
含む層、フィルター層側の表面が粗面である層またはフ
ィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む
層として形成する。なお、フィルター層が設けられてい
ない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体と
その上に設けられる層(例えば、反射防止層、ハードコ
ート層)との接着力を改善してもよい。また、下塗り層
は、反射防止膜と画像形成装置とを接着するための接着
剤と反射防止膜との親和性を改善するために設けてもよ
い。下塗り層の厚みは、2nm乃至20μmが好まし
く、5nm乃至5μmがさらに好ましく、50nm乃至
5μmが最も好ましい。
(Undercoat layer) It is preferable to provide an undercoat layer between the transparent support and the filter layer. The undercoat layer is formed as a layer containing a polymer having a glass transition temperature of −60 ° C. to 60 ° C., a layer having a rough surface on the filter layer side, or a layer containing a polymer having an affinity for the polymer of the filter layer. An undercoat layer is provided on the surface of the transparent support on which the filter layer is not provided to improve the adhesion between the transparent support and a layer provided thereon (for example, an antireflection layer or a hard coat layer). Is also good. The undercoat layer may be provided to improve the affinity between the adhesive for bonding the antireflection film and the image forming apparatus and the antireflection film. The thickness of the undercoat layer is preferably 2 nm to 20 μm, more preferably 5 nm to 5 μm, and most preferably 50 nm to 5 μm.

【0069】ガラス転移温度が−60℃乃至60℃のポ
リマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支
持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が2
5℃以下のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロ
ロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテルの重
合または共重合により得ることができる。ガラス転移温
度は、20℃以下であることが好ましく、15℃以下で
あることがより好ましく、10℃以下であることがさら
に好ましく、5℃以下であることがさらにまた好まし
く、0℃以下であることが最も好ましい。表面が粗面で
ある下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成するこ
とで、透明支持体とフィルター層とを接着する。表面が
粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布によ
り容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径
は、0.02乃至3μmであることが好ましく、0.0
5乃至1μmであることがさらに好ましい。フィルター
層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーの例
には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カ
ゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイ
ロンおよび高分子ラテックスが含まれる。二以上の下塗
り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤
させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布
助剤や硬膜剤を添加してもよい。
The undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of -60 to 60 ° C. adheres the transparent support and the filter layer due to the tackiness of the polymer. Glass transition temperature 2
Polymers at 5 ° C or lower include vinyl chloride, vinylidene chloride,
It can be obtained by polymerization or copolymerization of vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile or methyl vinyl ether. The glass transition temperature is preferably 20 ° C. or lower, more preferably 15 ° C. or lower, further preferably 10 ° C. or lower, still more preferably 5 ° C. or lower, and further preferably 0 ° C. or lower. Is most preferred. The undercoat layer having a rough surface adheres the transparent support and the filter layer by forming a filter layer on the rough surface. The undercoat layer having a rough surface can be easily formed by applying a polymer latex. The average particle size of the latex is preferably 0.02 to 3 μm,
More preferably, it is 5 to 1 μm. Examples of polymers having an affinity for the binder polymer of the filter layer include acrylic resins, cellulose derivatives, gelatin, casein, starch, polyvinyl alcohol, soluble nylon, and polymer latex. Two or more undercoat layers may be provided. The undercoat layer may contain a solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid and a hardener.

【0070】(反射防止層)反射防止層の反射防止機能
としては、正反射率が3%以下であることが好ましく、
1.8%以下であることがさらに好ましい。反射防止層
を設ける場合は、低屈折率層が必須である。低屈折率層
の屈折率は、透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率
層の屈折率は、1.20乃至1.55であることが好ま
しく、1.30乃至1.55であることがさらに好まし
い。低屈折率層の厚さは、50乃至400nmであるこ
とが好ましく、50乃至200nmであることがさらに
好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマ
ーからなる層(特開昭57−34526号、特開平3−
130103号、同6−115023号、同8−313
702号、同7−168004号の各公報記載)、ゾル
ゲル法により得られる層(特開平5−208811号、
同6−299091号、同7−168003号の各公報
記載)、あるいは微粒子含む層(特公昭60−5925
0号、特開平5−13021号、同6−56478号、
同7−92306号、同9−288201号の各公報に
記載)として形成することができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5乃至35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。
(Anti-Reflection Layer) The anti-reflection function of the anti-reflection layer preferably has a regular reflectance of 3% or less.
More preferably, it is 1.8% or less. When providing an antireflection layer, a low refractive index layer is essential. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent support. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.20 to 1.55, more preferably 1.30 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably from 50 to 400 nm, more preferably from 50 to 200 nm. The low refractive index layer is a layer made of a fluorine-containing polymer having a low refractive index (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-34526,
No. 130103, No. 6-115023, No. 8-313
702, 7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (JP-A-5-208811,
JP-A-6-299091 and JP-A-7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-5925).
No. 0, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478,
7-92306 and 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing the fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, more preferably 5 to 35% by volume.

【0071】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.90であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
In order to prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable to laminate a layer having a high refractive index (middle / high refractive index layer) in addition to the low refractive index layer. The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.65 to 2.40.
More preferably, it is 70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably from 1.50 to 1.90. The thickness of the middle / high refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer binder having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. .
Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【0072】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.

【0073】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
The anti-reflection layer can provide the surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to.
An antireflection layer having an antiglare function generally has a haze of 3 to 30%.

【0074】(電磁波遮蔽層)電磁波遮蔽効果を有する
層の表面抵抗は、0.1乃至500Ω/m2 であること
が好ましく、0.1乃至10Ω/m2 であることがさら
に好ましい。光学フィルターまたは反射防止膜に設ける
層であるため、電磁波遮蔽層は、透明であることが好ま
しい。一般に透明導電性層として知られている層を、電
磁波遮蔽層として用いることができる。透明導電性層と
しては、金属薄膜または金属酸化物薄膜が好ましく用い
られる。金属薄膜の金属としては、貴金属が好ましく、
金、銀、パラジウムまたはこれらの合金が好ましく、金
と銀との合金が特に好ましい。合金中の銀の含有率は、
60重量%以上であることが好ましい。金属酸化物薄膜
の金属酸化物としては、SnO2 、ZnO、ITOおよ
びIn2 3 が好ましい。金属薄膜と金属酸化物薄膜と
を積層してもよい。両者を積層すると、金属酸化物薄膜
により金属薄膜を保護(酸化防止)し、可視光の透過率
を高くすることができる。金属薄膜と積層するための金
属酸化物としては、2〜4価の金属酸化物(例、酸化ジ
ルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ
素、酸化アルミニウム)が好ましい。また、金属アルコ
キサイド化合物の薄膜も、金属薄膜と積層することがで
きる。金属酸化物または金属アルコキサイド化合物の薄
膜は、金属薄膜の両側に積層することができる。金属薄
膜の両側に積層する場合、異なる種類の薄膜を用いても
よい。金属薄膜の厚さは、4乃至40nmであることが
好ましく、5乃至35nmであることがさらに好まし
く、6乃至30nmであることが最も好ましい。金属酸
化物または金属アルコキサイド化合物の薄膜の厚さは、
20乃至300nmであることが好ましく、40乃至1
00nmであることがさらに好ましい。電磁波遮蔽層
は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、プラズマCVD法、プラズマPVD法あるいは
金属または金属酸化物の掉尾粒子塗布により形成するこ
とができる。
[0074] The surface resistance of the layer having the (electromagnetic wave shielding layer) electromagnetic wave shielding effect is preferably 0.1 to 500 [Omega / m 2, more preferably in the range of 0.1 to 10 [Omega / m 2. Since it is a layer provided on an optical filter or an antireflection film, the electromagnetic wave shielding layer is preferably transparent. A layer generally known as a transparent conductive layer can be used as the electromagnetic wave shielding layer. As the transparent conductive layer, a metal thin film or a metal oxide thin film is preferably used. As the metal of the metal thin film, a noble metal is preferable,
Gold, silver, palladium or alloys thereof are preferred, and alloys of gold and silver are particularly preferred. The silver content in the alloy is
It is preferably at least 60% by weight. As the metal oxide of the metal oxide thin film, SnO 2 , ZnO, ITO and In 2 O 3 are preferable. A metal thin film and a metal oxide thin film may be stacked. When both are laminated, the metal thin film can be protected (prevented from oxidation) by the metal oxide thin film, and the visible light transmittance can be increased. As the metal oxide to be laminated with the metal thin film, a divalent to tetravalent metal oxide (eg, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide) is preferable. Also, a thin film of a metal alkoxide compound can be laminated with a metal thin film. The metal oxide or metal alkoxide compound thin film can be laminated on both sides of the metal thin film. When laminating on both sides of a metal thin film, different types of thin films may be used. The thickness of the metal thin film is preferably 4 to 40 nm, more preferably 5 to 35 nm, and most preferably 6 to 30 nm. The thickness of the metal oxide or metal alkoxide compound thin film is
It is preferably 20 to 300 nm, and 40 to 1 nm.
More preferably, it is 00 nm. The electromagnetic wave shielding layer can be formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a plasma CVD method, a plasma PVD method, or a coating of particles of metal or metal oxide.

【0075】(赤外線遮蔽層)赤外線遮蔽層は、800
乃至1200nmの波長の近赤外線に対して遮蔽効果を
有することが好ましい。赤外線遮蔽層は、樹脂混合物に
より形成することができる。樹脂混合物中の赤外線遮蔽
性成分としては、銅(特開平6−118228号公報記
載)、銅化合物またはリン化合物(特開昭62−519
0号公報記載)、銅化合物またはチオ尿素化合物(特開
平6−73197号公報記載)あるいはタングステン化
合物(米国特許3647772号明細書記載)を用いる
ことができる。赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混
合物を透明支持体に添加してもよい。なお、電磁波遮蔽
層として説明した銀薄膜は、赤外線遮蔽効果も有する。
(Infrared shielding layer)
It preferably has a shielding effect against near infrared rays having a wavelength of from about 1200 nm to 1200 nm. The infrared shielding layer can be formed of a resin mixture. Examples of the infrared shielding component in the resin mixture include copper (described in JP-A-6-118228), copper compounds and phosphorus compounds (JP-A-62-519).
No. 0), a copper compound or a thiourea compound (described in JP-A-6-73197) or a tungsten compound (described in U.S. Pat. No. 3,647,772). Instead of providing the infrared shielding layer, a resin mixture may be added to the transparent support. Note that the silver thin film described as the electromagnetic wave shielding layer also has an infrared shielding effect.

【0076】(その他の層)光学フィルターには、ハー
ドコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層、紫外線吸収
層あるいは中間層を設けることもできる。ハードコート
層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハ
ードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系
のポリマー、オリゴマーまたはモノマー(例、紫外線硬
化型樹脂)を用いて形成することができる。シリカ系材
料からハードコート層を形成することもできる。光学フ
ィルターの最表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層
は、反射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善す
る機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン
(例、シリコンオイル)、天然ワックス、石油ワック
ス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導
体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、2
乃至20nmであることが好ましい。防汚層は、含フッ
素ポリマーを用いて形成することができる。防汚層の厚
さは、2乃至100nmであることが好ましく、5乃至
30nmであることがさらに好ましい。
(Other Layers) The optical filter may be provided with a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer, an antistatic layer, an ultraviolet absorbing layer or an intermediate layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer can be formed using an acrylic, urethane, or epoxy polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). The hard coat layer can also be formed from a silica-based material. A lubricating layer may be formed on the outermost surface of the optical filter. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubrication layer is 2
It is preferably from 20 to 20 nm. The antifouling layer can be formed using a fluorine-containing polymer. The thickness of the antifouling layer is preferably from 2 to 100 nm, more preferably from 5 to 30 nm.

【0077】反射防止層(中屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層)、フィルター層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法(米国特許2681294号明細書記載)が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許2761791号、同29
41898号、同3508947号、同3526528
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」2
53頁(1973年朝倉書店発行)に記載がある。
The anti-reflection layer (medium-refractive-index layer, high-refractive-index layer, low-refractive-index layer), filter layer, undercoat layer, hard coat layer, lubricating layer, and other layers are formed by a general coating method. Can be. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat.
No. 41898, No. 3508947, No. 3526528
Issue specifications and Yuji Harazaki, "Coating Engineering" 2
It is described on page 53 (published by Asakura Shoten in 1973).

【0078】(光学フィルターの用途)光学フィルター
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用する。反射防止層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)の反射
防止フィルターとして使用すると、特に顕著な効果が得
られる。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、ガ
ス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料
および蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガ
ラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス
基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板に
は、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組
み立てて、その間にガスを封入する。プラズマディスプ
レイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラズ
マディスプレイパネルについては、特開平5−2056
43号、同9−306366号の各公報に記載がある。
(Use of Optical Filter) The optical filter is applied to an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). . When the antireflection layer is provided, the antireflection layer is arranged so that the surface on which the low refractive index layer is not provided faces the image display surface of the image display device. When the optical filter of the present invention is used as an antireflection filter of a plasma display panel (PDP), a particularly remarkable effect is obtained. A plasma display panel (PDP) includes a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, Japanese Patent Laid-Open No.
No. 43 and No. 9-306366.

【0079】[0079]

【実施例】[実施例1] (下塗り層の形成)厚さ100μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの両面をコロナ放電処理した
後、片面にスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラ
テックスを厚さ130nmとなるよう塗布し、下塗り層
を形成した。
[Example 1] (Formation of undercoat layer) After a corona discharge treatment was applied to both sides of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 µm, a latex made of a styrene-butadiene copolymer was applied to one side to a thickness of 130 nm. Thus, an undercoat layer was formed.

【0080】(第2下塗り層の形成)下塗り層の上に、
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗り層を形成し
た。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer,
A gelatin aqueous solution containing acetic acid and glutaraldehyde was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer.

【0081】(低屈折率層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt−ブタノール1.3gを加え、室温で10分間撹
拌し、孔径1μmのポリプロピレンフィルターで濾過し
た。得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗
り面とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚
が110nmとなるように塗布し、120℃で30分間
乾燥して硬化させ低屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) Reactive Fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 2.50
1.3 g of t-butanol was added to the resulting mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. The obtained coating solution for a low refractive index layer is applied to the surface opposite to the undercoat surface of the transparent support using a bar coater so that the dry film thickness becomes 110 nm, and dried at 120 ° C. for 30 minutes. And cured to form a low refractive index layer.

【0082】(フイルター層の形成)ゼラチンの10重
量%水溶液180gに、染料(1)0.05gおよび褪
色防止剤(I−3)0.05gを溶解し、溶液を40℃
で30分間攪拌した後、孔径2μmのポリプロピレンフ
ィルターで濾過し、フィルター層塗布液を調製した。フ
ィルター層用塗布液を、第2下塗り層の上に、乾燥膜厚
が3.5μmとなるように塗布し、120℃で10分間
乾燥してフィルター層を形成し、光学フィルターを作製
した。
(Formation of Filter Layer) In 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin, 0.05 g of the dye (1) and 0.05 g of the anti-fading agent (I-3) were dissolved.
After stirring for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 2 μm to prepare a filter layer coating solution. The coating liquid for a filter layer was applied on the second undercoat layer so that the dry film thickness became 3.5 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer, thereby producing an optical filter.

【0083】(吸光度の測定)作製した光学フィルター
について、分光光度系(U−3210、日立製作所
(株)製)を用いて透過スペクトルを測定した。リファ
レンスは、空気で行った。吸収極大は593nm、吸収
極大におけるフィルター層の透過率は、25%、吸収極
大の半値幅は、35nmであった。
(Measurement of Absorbance) The transmission spectrum of the prepared optical filter was measured using a spectrophotometer (U-3210, manufactured by Hitachi, Ltd.). Reference was made with air. The absorption maximum was 593 nm, the transmittance of the filter layer at the absorption maximum was 25%, and the half width of the absorption maximum was 35 nm.

【0084】[実施例2]褪色防止剤(I−3)に代え
て褪色防止剤(I−7)を同量用いた以外は、実施例1
と同様にして光学フィルターを作製した。
Example 2 Example 1 was repeated except that the same amount of the anti-fading agent (I-7) was used in place of the anti-fading agent (I-3).
An optical filter was produced in the same manner as described above.

【0085】[実施例3]褪色防止剤(I−3)に代え
て褪色防止剤(I−9)を同量用いた以外は、実施例1
と同様にして光学フィルターを作製した。
Example 3 Example 1 was repeated except that the same amount of the anti-fading agent (I-9) was used in place of the anti-fading agent (I-3).
An optical filter was produced in the same manner as described above.

【0086】[実施例4]褪色防止剤(I−3)に代え
て褪色防止剤(II−6)を同量用いた以外は、実施例1
と同様にして光学フィルターを作製した。
Example 4 Example 1 was repeated except that the same amount of the anti-fading agent (II-6) was used in place of the anti-fading agent (I-3).
An optical filter was produced in the same manner as described above.

【0087】[実施例5]褪色防止剤(I−3)に代え
て褪色防止剤(III-2)を同量用いた以外は、実施例1
と同様にして光学フィルターを作製した。
Example 5 Example 1 was repeated except that the same amount of the anti-fading agent (III-2) was used in place of the anti-fading agent (I-3).
An optical filter was produced in the same manner as described above.

【0088】[実施例6]褪色防止剤(I−3)に代え
て褪色防止剤(IV−2)を同量用いた以外は、実施例1
と同様にして光学フィルターを作製した。
Example 6 Example 1 was repeated except that the same amount of the anti-fading agent (IV-2) was used in place of the anti-fading agent (I-3).
An optical filter was produced in the same manner as described above.

【0089】[比較例1]褪色防止剤(I−3)を添加
しなかった以外は、実施例1と同様にして光学フィルタ
ーを作製した。
Comparative Example 1 An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the anti-fading agent (I-3) was not added.

【0090】(耐光性試験)作製した光学フィルター
に、キセノンランプで照度が15万ルクスとなるよう
に、フィルター層とは反対側の面から光を照射し、20
0時間照射後の顔料(または染料)の残存量を測定し
た。残存量は、下記式に従い計算した。 残存量=100×(100−照射後の透過率)/(10
0−照射前の透過率) 上記透過率は、顔料(または染料)の吸収極大波長で測
定した値である。
(Light fastness test) The produced optical filter was irradiated with light from the side opposite to the filter layer by a xenon lamp so that the illuminance was 150,000 lux.
The residual amount of the pigment (or dye) after the irradiation for 0 hours was measured. The residual amount was calculated according to the following equation. Residual amount = 100 × (100−transmittance after irradiation) / (10
0—Transmittance Before Irradiation) The transmittance is a value measured at the absorption maximum wavelength of the pigment (or dye).

【0091】(耐湿熱性試験)作製した光学フィルター
を、温度60℃、相対湿度90%の条件で1日間保存
し、染料の残存量を上記と同様に測定した。以上の結果
を第1表に示す。
(Moisture and Heat Resistance Test) The prepared optical filter was stored at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% for one day, and the remaining amount of the dye was measured in the same manner as described above. Table 1 shows the above results.

【0092】[0092]

【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── 光学フィルター 染料 褪色防止剤 吸収極大 半値幅 耐光性 ──────────────────────────────────── 実施例1 (1) (I−3) 593nm 35nm 91% 実施例2 (1) (I−7) 593nm 35nm 95% 実施例3 (1) (I−9) 594nm 35nm 93% 実施例4 (1) (II−6) 594nm 36nm 94% 実施例5 (1) (III-2) 594nm 36nm 94% 実施例6 (1) (IV−2) 593nm 35nm 93% 比較例1 (1) なし 593nm 35nm 85% ────────────────────────────────────[Table 1] Table 1 ──────────────────────────────────── Optical filter Dye Anti-fading agent Absorption Maximum half width Light fastness 例 Example 1 (1) (I− 3) 593 nm 35 nm 91% Example 2 (1) (I-7) 593 nm 35 nm 95% Example 3 (1) (I-9) 594 nm 35 nm 93% Example 4 (1) (II-6) 594 nm 36 nm 94 % Example 5 (1) (III-2) 594 nm 36 nm 94% Example 6 (1) (IV-2) 593 nm 35 nm 93% Comparative example 1 (1) None 593 nm 35 nm 85% ──────── ────────────────────────────

【0093】実施例1〜6の光学フィルターをプラズマ
ディスプレイパネルの表面に取り付けたところ、コント
ラストが良好が画像が得られ、白色光および赤色光の改
善が認められた。
When the optical filters of Examples 1 to 6 were attached to the surface of the plasma display panel, an image having good contrast was obtained, and white light and red light were improved.

【0094】[実施例7] (下塗り層の形成)厚さ80μmの透明なトリアセチル
セルロースフイルムの片面に、メタノールとアセトンに
分散したゼラチンを厚さ200nmとなるよう塗布、乾
燥して、下塗り層を形成した。
Example 7 (Formation of Undercoat Layer) On one side of a transparent triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, gelatin dispersed in methanol and acetone was applied so as to have a thickness of 200 nm, and dried. Was formed.

【0095】(ハードコート層の形成)25重量部のジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、
日本化薬(株)製)、25重量部のウレタンアクリレー
トオリゴマー(UV−6300B、日本合成化学工業
(株)製)、2重量部の光重合開始剤(イルガキュアー
907、チバガイギー社製)および0.5重量部の増感
剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)を、5
0重量部のメチルエチルケトンに溶解した。得られた塗
布液を、透明支持体の下塗り層とは反対側の面に、バー
コーターを用いて塗布、乾燥後、紫外線を照射してハー
ドコート層(層厚:6μm)を形成した。
(Formation of Hard Coat Layer) 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 25 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0 5 parts by weight of a sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
It was dissolved in 0 parts by weight of methyl ethyl ketone. The obtained coating solution was applied to the surface opposite to the undercoat layer of the transparent support using a bar coater, dried, and then irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer (layer thickness: 6 μm).

【0096】(低屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、実施例1と同様に、低屈折率層用塗布液を用いて低
屈折率層を形成した。
(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed on the hard coat layer in the same manner as in Example 1 using a coating liquid for a low refractive index layer.

【0097】(フイルター層の形成)ゼラチンの10重
量%水溶液180gに、染料(1)0.05gおよび褪
色防止剤(I−3)0.05gを溶解した。溶液を40
℃で30分間攪拌した後、孔径2μmのポリプロピレン
フィルターで濾過し、フィルター層塗布液を調製した。
フィルター層用塗布液を、下塗り層の上に、乾燥膜厚が
3.5μmとなるように塗布し、120℃で10分間乾
燥してフィルター層を形成し、光学フィルターを作製し
た。作製した光学フィルターについて、吸収極大および
吸収極大における透過率と半値幅とを測定したところ、
実施例1で作製した光学フィルターと同じ結果が得られ
た。
(Formation of Filter Layer) In 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin, 0.05 g of the dye (1) and 0.05 g of the antifading agent (I-3) were dissolved. Solution 40
After stirring at 30 ° C. for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 2 μm to prepare a filter layer coating solution.
The coating liquid for a filter layer was applied on the undercoat layer so that the dry film thickness became 3.5 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer, thereby producing an optical filter. For the produced optical filter, when the transmittance and the half width at the absorption maximum and absorption maximum were measured,
The same result as that of the optical filter manufactured in Example 1 was obtained.

【0098】[実施例8] (下塗り層の形成)実施例1と同様に、透明支持体の片
面に下塗り層(a)および第2下塗り層(a)を形成し
た。透明支持体の下塗り層が設けられていない側の面
に、塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクリレート
コポリマーからなるラテックスを厚さ120nmとなる
よう塗布し、下塗り層(b)を形成した。
[Example 8] (Formation of undercoat layer) In the same manner as in Example 1, an undercoat layer (a) and a second undercoat layer (a) were formed on one surface of the transparent support. A latex made of vinylidene chloride-acrylic acid-methyl acrylate copolymer was applied to a thickness of 120 nm on the surface of the transparent support on which the undercoat layer was not provided, to form an undercoat layer (b).

【0099】(第2下塗り層の形成)下塗り層(b)の
上に、アクリル系ラテックス(HA16、日本アクリル
(株)製)を厚さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗
り層(b)を形成した。
(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer (b), an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer (b). Was formed.

【0100】(フイルター層の形成)ゼラチンの10重
量%水溶液180gに、染料(1)0.05gおよび褪
色防止剤(I−3)0.05gを溶解した。溶液を40
℃で30分間攪拌した後、孔径2μmのポリプロピレン
フィルターで濾過し、フィルター層塗布液を調製した。
フィルター層用塗布液を、第2下塗り層(b)の上に、
乾燥膜厚が3.5μmとなるように塗布し、120℃で
10分間乾燥してフィルター層を形成した。
(Formation of Filter Layer) In 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin, 0.05 g of the dye (1) and 0.05 g of the anti-fading agent (I-3) were dissolved. Solution 40
After stirring at 30 ° C. for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 2 μm to prepare a filter layer coating solution.
The coating solution for the filter layer is coated on the second undercoat layer (b),
Coating was performed so that the dry film thickness became 3.5 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer.

【0101】(ハードコート層の形成)フィルター層の
上に、実施例7と同様にして、ハードコート層を形成し
た。
(Formation of Hard Coat Layer) A hard coat layer was formed on the filter layer in the same manner as in Example 7.

【0102】(低屈折率層の形成)ハードコート層の上
に、実施例1と同様に、低屈折率層用塗布液を用いて低
屈折率層を形成し、光学フィルターを作製した。作製し
た光学フィルターについて、吸収極大および吸収極大に
おける透過率と半値幅とを測定したところ、実施例1で
作製した光学フィルターと同じ結果が得られた。
(Formation of Low-Refractive-Index Layer) A low-refractive-index layer was formed on the hard coat layer by using a coating solution for a low-refractive-index layer in the same manner as in Example 1, to produce an optical filter. With respect to the manufactured optical filter, when the absorption maximum and the transmittance and the half width at the absorption maximum were measured, the same result as the optical filter manufactured in Example 1 was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】フィルター層を反射防止層とは透明支持体の反
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on a side opposite to a transparent support from an antireflection layer.

【図2】フィルター層と反射防止層とを透明支持体の同
じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図であ
る。 1 透明支持体 2 フィルター層 3 低屈折率層 4 ハードコート層 5 高屈折率層 6 中屈折率層
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Filter layer 3 Low refractive index layer 4 Hard coat layer 5 High refractive index layer 6 Medium refractive index layer

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体上に、染料およびポリマーバ
インダーを含むフィルター層を有する光学フィルターで
あって、染料が、560乃至620nmの波長領域に吸
収極大を有し、フィルター層が、さらにフェノール化合
物、フェノールエーテル化合物、アニリン化合物、キノ
ン化合物およびピペリジン化合物からなる群より選ばれ
る褪色防止剤を含むことを特徴とする光学フィルター。
1. An optical filter having a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent support, wherein the dye has an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm, and the filter layer further comprises a phenol compound. An optical filter comprising a discoloration inhibitor selected from the group consisting of phenol ether compounds, aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds.
【請求項2】 フィルター層が褪色防止剤を、染料の
0.1乃至1000重量%の範囲の量で含む請求項1に
記載の光学フィルター。
2. The optical filter according to claim 1, wherein the filter layer contains the anti-fading agent in an amount ranging from 0.1 to 1000% by weight of the dye.
【請求項3】 染料が、会合状態でフィルター層に含ま
れている請求項1に記載の光学フィルター。
3. The optical filter according to claim 1, wherein the dye is contained in the filter layer in an associated state.
【請求項4】 染料の吸収極大の半幅値が、10乃至2
00nmである請求項1に記載の光学フィルター。
4. The half-width value of the absorption maximum of the dye is 10 to 2
The optical filter according to claim 1, which has a thickness of 00 nm.
【請求項5】 染料の吸収極大におけるフィルター層の
透過率が、0.01乃至80%である請求項1に記載の
光学フィルター。
5. The optical filter according to claim 1, wherein the transmittance of the filter layer at the absorption maximum of the dye is 0.01 to 80%.
【請求項6】 染料が、メチン染料である請求項1に記
載の光学フィルター。
6. The optical filter according to claim 1, wherein the dye is a methine dye.
【請求項7】 染料が、シアニン染料である請求項6に
記載の光学フィルター。
7. The optical filter according to claim 6, wherein the dye is a cyanine dye.
【請求項8】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項1に記載の光学フィルター。
8. The optical filter according to claim 1, which is used for a plasma display panel.
【請求項9】 染料およびポリマーバインダーを含むフ
ィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、染料が、560乃至62
0nmの波長領域に吸収極大を有し、フィルター層が、
さらにフェノール化合物、フェノールエーテル化合物、
アニリン化合物、キノン化合物およびピペリジン化合物
からなる群より選ばれる褪色防止剤を含むことを特徴と
する反射防止膜。
9. An anti-reflection film comprising: a filter layer containing a dye and a polymer binder; a transparent support; and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support. The dye is 560 to 62
It has an absorption maximum in a wavelength region of 0 nm, and the filter layer has
Furthermore, phenol compounds, phenol ether compounds,
An anti-reflection film comprising an anti-fading agent selected from the group consisting of aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds.
【請求項10】 透明支持体、染料およびポリマーバイ
ンダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率
よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層
されている反射防止膜であって、染料が、560乃至6
20nmの波長領域に吸収極大を有し、フィルター層
が、さらにフェノール化合物、フェノールエーテル化合
物、アニリン化合物、キノン化合物およびピペリジン化
合物からなる群より選ばれる褪色防止剤を含むことを特
徴とする反射防止膜。
10. An antireflection film comprising: a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support. The dye is 560 to 6
An anti-reflection film having an absorption maximum in a wavelength region of 20 nm, wherein the filter layer further contains an anti-fading agent selected from the group consisting of phenol compounds, phenol ether compounds, aniline compounds, quinone compounds and piperidine compounds. .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003035817A (en) * 2001-07-25 2003-02-07 Asahi Denka Kogyo Kk Optical filter
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