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JP2000323050A - Gas discharge display panel and manufacture thereof - Google Patents

Gas discharge display panel and manufacture thereof

Info

Publication number
JP2000323050A
JP2000323050A JP12932399A JP12932399A JP2000323050A JP 2000323050 A JP2000323050 A JP 2000323050A JP 12932399 A JP12932399 A JP 12932399A JP 12932399 A JP12932399 A JP 12932399A JP 2000323050 A JP2000323050 A JP 2000323050A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
display panel
gas discharge
cathode
discharge
discharge display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP12932399A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiko Tsuiki
克彦 對木
Toshiyuki Fujine
俊之 藤根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP12932399A priority Critical patent/JP2000323050A/en
Publication of JP2000323050A publication Critical patent/JP2000323050A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas discharge display panel of a long life provided with a negative electrode of good conductivity and excellent sputtering resistance capable of discharging stably with a low voltage on an entire screen. SOLUTION: This gas discharge display panel includes a positive electrode 11 and a negative electrode 12 exposed in a discharge space and oppositely arranged at a discharge interval, and seals the positive and negative electrodes in an air-tight container with gas capable of ionizing. At least one of the negative electrode 12 and the positive electrode 11 contains boride compound of a rear earth element and metal oxide. The boride compound of a rear earth element is at least one of hexaboride and tetraboride La, Gd, Y, Nd, and Ce, and the metal oxide contains at least one of MgO, Y2O3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、DC駆動型のガス
放電表示パネル及びその製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a gas discharge display panel of a DC drive type and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、DC駆動型のガス放電表示パネル
では、Ni、A1等の導電性材料が陰極として用いられ
ていた。また最近では、導電性材料の陰極基体の表面に
プラズマ溶射法によりLaB6と絶縁体であるBaA12
4を混入した物質を被覆する陰極の構造(特開平7−
230770号公報)、導電性材料の陰極基体の表面に
MgOやY26等の絶縁物を島状に形成した陰極の構造
(特開平7−85800号公報)、導電性材料の陰極基
体の表面に単元素材料であるAl、Cr、Ta、Wを被
覆する陰極の構造(特開平8−335439号公報)が
提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a gas discharge display panel of a DC drive type, a conductive material such as Ni or A1 has been used as a cathode. Recently, LaB 6 and BaA1 2, which is an insulator, are applied to the surface of a cathode substrate made of a conductive material by plasma spraying.
0 4 contaminating the cathode material covering the structure (JP-7-
No. 230770), a structure of a cathode in which an insulator such as MgO or Y 2 O 6 is formed in an island shape on the surface of a cathode base made of a conductive material (JP-A-7-85800), and a cathode base made of a conductive material. A structure of a cathode having a surface coated with a single element material of Al, Cr, Ta, and W (Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-335439) has been proposed.

【0003】図3は、上記従来例のガス放電表示パネル
の構造を示す模式図である。このガス放電表示パネルは
プラズマアドレス表示装置(特開平1−217396号
公報)であり、陰極に導電性材料であるNiの単層構造
を用いた例を示している。このガス放電表示パネルは表
示セル1と放電セル2と両者の間に介在する厚み50μ
mのガラスシートからなる共通の薄板ガラス3とを積層
したフラットパネル構造を有する。
FIG. 3 is a schematic view showing the structure of the conventional gas discharge display panel. This gas discharge display panel is a plasma addressed display device (JP-A-1-217396), and shows an example in which a single-layer structure of Ni, which is a conductive material, is used for a cathode. This gas discharge display panel has a thickness of 50 μm interposed between the display cell 1 and the discharge cell 2.
It has a flat panel structure in which a common thin glass 3 made of m glass sheets is laminated.

【0004】表示セル1は透明ガラスからなる前面板4
を用いて構成されており、片面に図示しないカラーフィ
ルタ及び信号電極7が順次積層形成された前面板4と、
前面板4の片面側に設けられた薄板ガラス3とが、スペ
ーサ15を介して所定の間隔で接着され、その間隙内が
液晶層6で満たされている。信号電極7は、例えば酸化
インジウム・酸化スズからなるITO電極材料を放電セ
ルの隔壁8とは直行する方向に、カラーフィルタの各色
素列の直上に配置し、各色素列と略同一寸法となるよう
に、上記カラーフィルタ上に例えば蒸着法やスパッタリ
ング法によって形成した後、フォトリソグラフィにより
パターン化されたものである。
The display cell 1 has a front plate 4 made of transparent glass.
A front plate 4 in which a color filter and a signal electrode 7 (not shown) are sequentially laminated on one surface;
The thin glass 3 provided on one side of the front plate 4 is adhered at a predetermined interval via a spacer 15, and the gap is filled with the liquid crystal layer 6. The signal electrode 7 has, for example, an ITO electrode material made of, for example, indium oxide / tin oxide, arranged in a direction orthogonal to the partition walls 8 of the discharge cell, immediately above each dye row of the color filter, and has substantially the same size as each dye row. As described above, after being formed on the color filter by, for example, an evaporation method or a sputtering method, it is patterned by photolithography.

【0005】放電セル2は透明ガラスからなる背面板5
を用いて構成されており、背面板5上には陽極11と陰
極12が放電空間10内に露出して形成されている。な
お、隔壁8は陽極11上に沿って形成されている。さら
に周縁部において前面板4及び背面板5の片面が相互に
向かい合う状態で、薄板ガラス3、が片面に複数の隔壁
8、陽極11、陰極12が形成された背面板5とシール
材9を用いて気密接合される。
The discharge cells 2 are made of a back plate 5 made of transparent glass.
The anode 11 and the cathode 12 are formed on the back plate 5 so as to be exposed in the discharge space 10. The partition 8 is formed along the anode 11. Further, in the state where one surface of the front plate 4 and one surface of the back plate 5 face each other at the peripheral portion, the thin glass 3 is used with the back plate 5 having a plurality of partitions 8, the anode 11, and the cathode 12 formed on one surface and a sealing material 9. And hermetically bonded.

【0006】また、前面板4と背面板5のそれぞれ上記
片面とは反対側の他面には図示しない互いに直行する偏
光板が配されている。
On the other surface of the front plate 4 and the back plate 5 opposite to the one surface, polarizing plates (not shown) are provided which are orthogonal to each other.

【0007】以上より、上記ガス放電表示パネルは背面
板5及び前面板4を薄板ガラス3を介して互いに結合
し、薄板ガラス3、背面板5、複数の隔壁8によって形
成される複数の放電空間10内に、イオン化可能なガス
を封入することで製造される。また、イオン化可能なガ
ス種として例えばヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノ
ン及びこれら混合ガスが封入される。
As described above, in the gas discharge display panel, the back plate 5 and the front plate 4 are connected to each other via the thin glass 3, and a plurality of discharge spaces formed by the thin glass 3, the back plate 5, and the plurality of partition walls 8. It is manufactured by encapsulating an ionizable gas in 10. Further, for example, helium, neon, argon, xenon, and a mixed gas thereof are sealed as ionizable gas species.

【0008】以上の構成において、例えば、放電空間1
0に対応する陽極11及び陰極12に所定の電圧が印加
されると、陽極11及び陰極12がそれぞれアノード、
カソードとして作用し、放電空間10の部分のガスが選
択的にイオン化されてプラズマ放電が発生し、その内部
は略アノード電位に維持される。この状態で、信号電極
7にデータ電圧が印加されると、放電空間10に対応す
る画素の液晶層6に薄板ガラス3を介してデータ電圧が
書き込まれる。プラズマ放電が終了すると、放電空間1
0は浮遊電位となり、対応する画素の液晶層6に書き込
まれた電圧は、次の書き込み期間(例えば1フレーム
後)まで保持される。この時、放電空間10はサンプリ
ングスイッチとして機能し、各画素の液晶層6はサンプ
リングキャパシターとして機能している。各画素の液晶
層6に対して信号電極7から書き込まれたデータ電圧に
よって液晶が動作することから画素単位で表示が行われ
る。従って、プラズマ放電を発生させて列方向に並ぶ複
数の画素の液晶層6にデータ電圧を書き込む一対の放電
空間を行方向に順次走査していくことで、二次元画像の
表示を行うことができる。
In the above configuration, for example, the discharge space 1
When a predetermined voltage is applied to the anode 11 and the cathode 12 corresponding to 0, the anode 11 and the cathode 12 become the anode and the cathode 12, respectively.
Acting as a cathode, the gas in the discharge space 10 is selectively ionized to generate a plasma discharge, and the inside thereof is maintained at a substantially anode potential. When a data voltage is applied to the signal electrode 7 in this state, the data voltage is written to the liquid crystal layer 6 of the pixel corresponding to the discharge space 10 via the thin glass 3. When the plasma discharge ends, the discharge space 1
0 becomes a floating potential, and the voltage written in the liquid crystal layer 6 of the corresponding pixel is held until the next writing period (for example, after one frame). At this time, the discharge space 10 functions as a sampling switch, and the liquid crystal layer 6 of each pixel functions as a sampling capacitor. Since the liquid crystal operates with the data voltage written from the signal electrode 7 to the liquid crystal layer 6 of each pixel, display is performed in pixel units. Accordingly, a two-dimensional image can be displayed by sequentially scanning a pair of discharge spaces in which data voltages are written to the liquid crystal layers 6 of a plurality of pixels arranged in the column direction by generating a plasma discharge in the row direction. .

【0009】図4は上記従来例のガス放電表示パネルの
構造を示す模式図である。このガス放電表示パネルはD
C駆動型のプラズマディスプレイパネル(特開平8−3
35439号公報、以下、DC−PDPと記す)であ
り、陰極材料として下層にAg、上層にAlを用いた2
層構造の例を示している。このガス放電表示パネルはガ
ラスからなる平板状の背面板5と前面板4とが互いに平
行かつ対向して配設され、この両基板4、5はその間に
設けられた隔壁8により一定の間隔に保持されている。
また、前面板4の背面側には陰極12が設けられてお
り、さらに前記陰極はバス電極13と被覆電極14の2
層構造を有している。背面板5の前面側には陽極11が
陰極12と直行するようにして設けられている。さら
に、背面板5及び隔壁8の壁面にはそれぞれの発光色に
対応した蛍光体16が形成される。したがって前面板4
と背面板5と隔壁8に囲まれる放電空間10が形成さ
れ、放電空間10にイオン化可能なガスが封入される。
また、イオン化可能なガス種として例えばヘリウム、ネ
オン、アルゴン、キセノン及びこれら混合ガスが封入さ
れる。
FIG. 4 is a schematic view showing the structure of the conventional gas discharge display panel. This gas discharge display panel is D
C-drive type plasma display panel (JP-A-8-3
No. 35439, hereinafter referred to as DC-PDP), in which Ag is used for a lower layer and Al is used for an upper layer as a cathode material.
2 shows an example of a layer structure. In this gas discharge display panel, a flat back plate 5 and a front plate 4 made of glass are disposed parallel to and opposed to each other, and the substrates 4 and 5 are separated at a predetermined interval by a partition wall 8 provided therebetween. Is held.
Further, a cathode 12 is provided on the back side of the front plate 4, and the cathode is a bus electrode 13 and a coating electrode 14.
It has a layered structure. An anode 11 is provided on the front side of the back plate 5 so as to be perpendicular to the cathode 12. Further, phosphors 16 corresponding to the respective emission colors are formed on the wall surfaces of the back plate 5 and the partition walls 8. Therefore, front panel 4
, A discharge space 10 surrounded by the back plate 5 and the partition 8, and an ionizable gas is sealed in the discharge space 10.
Further, for example, helium, neon, argon, xenon, and a mixed gas thereof are sealed as ionizable gas species.

【0010】このDC−PDPでは、陰極と陽極の間に
図示しない直流電源から所定の電圧を印加することによ
り放電が行われる。そして、この放電により生じる紫外
線により蛍光体16が励起され、蛍光体の種類に応じた
発光色を備えた光が、前面板4を透過して外部に放射さ
れる。この結果、表示面として前面板4に二次元画像が
表示される。
In this DC-PDP, a discharge is performed by applying a predetermined voltage from a DC power supply (not shown) between a cathode and an anode. Then, the phosphor 16 is excited by the ultraviolet light generated by the discharge, and light having a luminescent color corresponding to the type of the phosphor is transmitted through the front plate 4 and emitted to the outside. As a result, a two-dimensional image is displayed on the front panel 4 as a display surface.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従来のDC駆動型のガ
ス放電表示パネルの放電セルの構造には以下の課題があ
る。
The structure of a discharge cell of a conventional DC-driven gas discharge display panel has the following problems.

【0012】(1)陰極にNi、Al、Agなどの導電性
材料を用いた単層構造(特開平1−217396号公
報)では、電圧印加時の電圧降下の問題から陰極の低抵
抗化が必要であり、そのため耐スパッタ性及び二次電子
放出効率に優れた材料を選択することが困難である。し
たがって上記材料は、イオン衝撃に弱いため放電時のス
パッタが激しく、スパッタによる放電特性の経時変化が
大きい。さらにイオン衝撃によって陰極の金属やガラス
成分が背面板や薄板ガラスヘ飛散し透過率の低下をもた
らす。スパッタによる上記問題点は水銀を添加すること
により低減することが可能であるが、水銀分布のバラツ
キによる局所的なスパッタなど十分な特性を得られてい
るとは言い難い。また、水銀は有害でありガス放電パネ
ルを大型化する場合など、とくに廃棄の際の環境汚染が
問題となるので使用できない。
(1) In a single-layer structure in which a conductive material such as Ni, Al, or Ag is used for the cathode (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-217396), the resistance of the cathode can be reduced due to the problem of voltage drop when voltage is applied. Since it is necessary, it is difficult to select a material having excellent sputter resistance and secondary electron emission efficiency. Therefore, since the above-mentioned material is weak to ion bombardment, spattering at the time of discharge is intense, and the change over time in discharge characteristics due to spatter is large. Further, the metal and glass components of the cathode are scattered by the ion bombardment on the back plate and the thin glass, resulting in a decrease in transmittance. The above problems caused by sputtering can be reduced by adding mercury, but it is hard to say that sufficient characteristics such as local spattering due to uneven distribution of mercury have been obtained. Also, mercury is harmful and cannot be used because environmental pollution at the time of disposal is a problem particularly when the gas discharge panel is enlarged.

【0013】(2)陰極をバス電極と被覆電極の2層構造
とし、バス電極を従来のNi、Al、Ag等の低抵抗材
料、被覆電極を耐スパッタ性且つ二次電子放出効率の優
れた材料を用いた構造(特開平7−230770号公
報、特開平8−335439号公報)において、被覆電
極の材料をLaB6等の希土類元素のホウ化化合物にし
た場合、LaB6粒子は導電性が良好であるが、粒子表
面に絶縁性の酸化膜が形成され易いため被覆電極層の抵
抗は絶縁状態に近い。したがって、初期エージングの際
にLaB6粒子の局所的な活性化が生じ放電の局在化が
生じ易く、放電の局在化した部分ではスパッタによる陰
極の劣化が助長される。
(2) The cathode has a two-layer structure of a bus electrode and a coating electrode, and the bus electrode is made of a conventional low-resistance material such as Ni, Al, Ag or the like, and the coating electrode is excellent in sputter resistance and secondary electron emission efficiency. In a structure using a material (JP-A-7-230770 and JP-A-8-335439), when the material of the coated electrode is a boride compound of a rare earth element such as LaB 6 , LaB 6 particles have conductivity. Although good, the resistance of the coated electrode layer is close to the insulating state because an insulating oxide film is easily formed on the particle surface. Therefore, the LaB 6 particles are locally activated during the initial aging, and the localization of the discharge is apt to occur. In the localized portion of the discharge, deterioration of the cathode due to sputtering is promoted.

【0014】最近、被覆電極にLaB6と絶縁体である
BaAL24を混合した材料を用いることが開示されて
いる(特開平7−230770号公報)。これにより被
覆電極全体の導電性を下げることで放電電流を減少さ
せ、スパッタによる影響を抑制している。特に、上記混
合物質はプラズマ溶射法にて被覆する際、絶縁性材料で
あるBaAL24がLaB6より二次電子放出効率に優
れたBaOやBaを生成するため、LaB6のみで構成
されている陰極よりも放電電圧の低電圧化が実現され
る。
Recently, it has been disclosed that a material in which LaB 6 is mixed with BaAL 2 O 4 as an insulator is used for a coated electrode (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-230770). This reduces the discharge current by lowering the conductivity of the entire coated electrode, thereby suppressing the influence of sputtering. In particular, the mixed material when coated by plasma spraying method, since the BaAl 2 O 4 is an insulating material to produce a superior BaO and Ba in the secondary electron emission efficiency than LaB 6, it consists only of LaB 6 The discharge voltage is lower than that of the cathode.

【0015】しかしながら、プラズマ溶射法による形成
は、特殊な装置を必要とし、リフトオフのためフォトリ
ソグラフィーによるパターンニングが必要なため工程が
複雑になる。またプラズマ溶射法は、プラズマ溶射ガン
に不活性ガスを流入しアーク放電を発生させ高速ジェッ
トを作り、そのジェット中に電極材料を供給して基板に
被着させるため、LaB6とBaAL24のように2種
類の電極材料の混合物を被着する場合、被覆面での両粒
子の分布が不均一であり放電の均一性に欠ける。これら
問題点はスクリーン印刷法によって解消することができ
る。しかし、このLaB6とBaAL24から成る混合
物質は、スクリーン印刷法において、前記反応によるB
aO、Baの生成が行なわれなく、且つBaAL24
体はLaB6と比較し二次電子放出効率に大きな差がな
いことから、放電電圧の低電圧化の効果はLaB6のみ
の場合とさほど変わらない。したがって、上記被覆電極
の被着プロセスにより放電電圧の低電圧化の効果がない
場合がある。
However, the formation by the plasma spraying method requires a special apparatus, and the process becomes complicated because patterning by photolithography is required for lift-off. In the plasma spraying method, LaB 6 and BaAL 2 O 4 are used because an inert gas flows into a plasma spray gun to generate an arc discharge to form a high-speed jet and supply the electrode material in the jet to adhere to the substrate. When a mixture of two types of electrode materials is applied as described above, the distribution of both particles on the coated surface is uneven, and the uniformity of discharge is lacking. These problems can be solved by the screen printing method. However, in a screen printing method, the mixed substance composed of LaB 6 and BaAL 2 O 4 has a disadvantage that the B
Since aO and Ba are not generated and BaAL 2 O 4 itself does not have a large difference in secondary electron emission efficiency as compared with LaB 6 , the effect of lowering the discharge voltage is smaller than that of LaB 6 alone. Not much different. Therefore, there is a case where there is no effect of lowering the discharge voltage due to the process of applying the coated electrode.

【0016】また、BaAL24はMgOやY23と比
較し耐スパッタ性に劣るため、被覆電極に対する占有率
を増した場合、BaAL24の代替としてMgOやY2
3を混入した被覆電極と比較しスパッタによる影響を
受け易くなる。その結果、放電特性の経時変化が大き
く、また陰極の金属やガラス成分が背面板や薄板ガラス
ヘ飛散し透過率の低下をもたらし易い。
Since BaAL 2 O 4 is inferior to MgO or Y 2 O 3 in spatter resistance, when the occupation ratio of the coating electrode is increased, MgO or Y 2 O 4 is substituted for BaAL 2 O 4.
Compared to a coated electrode mixed with O 3 , it is more susceptible to sputtering. As a result, a change with time in the discharge characteristics is large, and the metal or glass component of the cathode is scattered to the back plate or the thin glass, which tends to lower the transmittance.

【0017】特開平8−335439号公報のような被
覆電極の材料をAl、Cr、Ta、Wの単元素材料にし
た場合、上記材料はAg、Au、Niなどの他の単元素
材料と比較し耐スパッタ性や二次電子放出効率に優れて
いるものの、前述のLaB6やGdB6などの化合物と比
較した場合、耐スパッタ性及び二次電子放出効率に劣る
ため放電電圧の低電圧化の効果が薄く、スパッタによる
影響を受け易い。
When the material of the coated electrode as disclosed in JP-A-8-335439 is a single element material of Al, Cr, Ta, and W, the above material is compared with other single element materials such as Ag, Au, and Ni. and although excellent sputtering resistance and secondary electron emission efficiency, when compared to compounds such as LaB 6 and GdB 6 described above, the voltage reduction of the discharge voltage for poor sputtering resistance and secondary electron emission efficiency Less effective and easily affected by sputtering.

【0018】(3)陰極を従来のAg、Ni、Alなどの
低抵抗材料からなるバス電極上に、耐スパッタ性又は二
次電子放出効率の優れた絶縁性材料を島状に形成した構
造(特開平7−85800号公報)は、低抵抗材料と絶
縁性材料の熱膨張係数の違いにより絶縁性材料にクラッ
クを生じさせる構造であり、熱膨張係数の問題から適用
できる材料に制限がある。また、製造装置が安価で工程
が容易なスクリーン印刷法によって形成する場合、厚膜
の性質上プラズマ溶射、蒸着法によって形成された薄膜
のようにクラックを微細かつ均一に形成することが非常
に困難である。さらに、印刷法ではクラックの不均一性
に起因すると思われるバス電極露出部での局所放電が確
認されており、局所放電が生じた場所ではスパッタによ
る陰極の劣化が助長されている。
(3) A structure in which an insulating material having excellent sputter resistance or secondary electron emission efficiency is formed in an island shape on a conventional bus electrode made of a low-resistance material such as Ag, Ni, or Al ( Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-85800) has a structure in which a crack is generated in an insulating material due to a difference in thermal expansion coefficient between a low-resistance material and an insulating material. In addition, when the manufacturing apparatus is formed by a screen printing method which is inexpensive and the process is easy, it is very difficult to form cracks finely and uniformly like a thin film formed by plasma spraying or vapor deposition due to the property of a thick film. It is. Furthermore, in the printing method, local discharge at the exposed portion of the bus electrode, which is considered to be caused by the non-uniformity of cracks, has been confirmed, and deterioration of the cathode due to sputtering has been promoted at the location where the local discharge has occurred.

【0019】そこで本発明は、上記問題点を鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところはBaAL24
のようにBaOやBaを生成することで二次電子放出効
率に優れた特性を示すのではなく、絶縁性材料自身が高
二次電子放出効率、およぴ耐スパッタ性に優れた特性を
有する材料と、導電性の良好な希土類元素のホウ化化合
物の混合物質を適用することで、従来法(特開平7−2
30770号公報)と同様に放電電流を小さくしスパッ
タによる影響を抑制したまま、上記被覆プロセスに関わ
りなく放電電圧の低電圧化に効果があり、且つ従来の陰
極と比較し耐スパッタ性に優れることで、放電セル内に
水銀を添加することなく、画面全域が安定且つ低電圧で
放電し、長寿命なガス放電表示管の提供が可能となる。
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object the purpose of BaAL 2 O 4.
Insulation material itself has high secondary electron emission efficiency and excellent sputter resistance characteristics instead of exhibiting excellent secondary electron emission efficiency by generating BaO or Ba as in And a mixed material of a boride compound of a rare earth element having good conductivity by applying a conventional method (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 30770), it is effective in lowering the discharge voltage irrespective of the coating process while reducing the discharge current and suppressing the influence of sputtering, and has excellent sputter resistance as compared with the conventional cathode. As a result, it is possible to provide a long-life gas discharge display tube that discharges the entire screen stably at a low voltage without adding mercury into the discharge cells.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明のガス放電表示パ
ネルは、放電空間に露出した陽極と陰極を、放電間隔を
隔てて対向配置し、これを気密容器内にイオン化可能な
ガスと共に封入してなるガス放電表示パネルにおいて、
陰極および陽極のうち少なくとも一方が、希土類元素の
ホウ化化合物と金属酸化物の混合物質を含み、該希土類
元素のホウ化化合物がLa、Gd、Y、Nd、Ceの六
ホウ化物および四ホウ化物の少なくとも1種類からな
り、かつ、該金属酸化物が、MgOおよびY23の少な
くとも1種類を含むことを特徴とし、上記課題が解決さ
れる。
According to the gas discharge display panel of the present invention, an anode and a cathode exposed in a discharge space are arranged opposite to each other with a discharge interval therebetween, and sealed together with an ionizable gas in an airtight container. Gas discharge display panel
At least one of the cathode and the anode contains a mixed substance of a boride compound of a rare earth element and a metal oxide, and the boride compound of the rare earth element is hexaboride and tetraboride of La, Gd, Y, Nd, and Ce. And the metal oxide contains at least one of MgO and Y 2 O 3 , and the above-mentioned problem is solved.

【0021】好ましくは、前記希土類元素のホウ化化合
物と前記金属酸化物の粒径が0.5〜15μmの範囲内
である。
Preferably, the particle size of the boride compound of the rare earth element and the metal oxide is in the range of 0.5 to 15 μm.

【0022】好ましくは、前記のガス放電表示パネル
が、液晶層を有するプラズマアドレス表示装置パネルで
ある。
Preferably, the gas discharge display panel is a plasma addressed display panel having a liquid crystal layer.

【0023】好ましくは、前記陰極及び前記陽極のうち
少なくとも一方が、上記ホウ化化合物と上記金属酸化物
を含むペーストで、スクリーン印刷法にて電極が形成さ
れる。
Preferably, at least one of the cathode and the anode is a paste containing the boride compound and the metal oxide, and an electrode is formed by a screen printing method.

【0024】好ましくは、前記スクリーン印刷法による
ガス放電表示パネルの製造において、バインダーとして
機能する有機金属又はガラスフリットの含有量がぺース
トに対して1〜30重量%の範囲内である。
Preferably, in the production of the gas discharge display panel by the screen printing method, the content of the organic metal or the glass frit functioning as a binder is in the range of 1 to 30% by weight based on the paste.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態のガス
放電表示パネルについて、図面を参照して説明する。な
お、以下の説明において図面の各部の寸法の比は必ずし
も正確なものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a gas discharge display panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the dimensional ratio of each part in the drawings is not always accurate.

【0026】図1はプラズマアドレス表示装置に本発明
を適用した第一の実施形態であり、本発明に係わる放電
セル形成方法について説明する。なお、実際には薄板ガ
ラス3の上に表示セルが存在するが、図1は表示セルを
省略している。
FIG. 1 shows a first embodiment in which the present invention is applied to a plasma addressed display device. A method for forming a discharge cell according to the present invention will be described. Although display cells actually exist on the thin glass 3, FIG. 1 omits the display cells.

【0027】図1に示すガス放電表示管の放電セル形成
方法について、先ず最初に洗浄及びアニール処理をした
背面板5上に陽極11及びバス電極13をNiを主成分
とする電極ぺースト(デュポン製9538)を使用し、
スクリーン印刷法で形成した後、ベルト式乾燥炉にて1
40℃を10分間保持し乾燥させる。本実施例では2層
印刷を行ない、バス電極は幅100μm、膜厚40μ
m、陽極は幅400μm、膜厚40μmを得た。その材
質としてNiを用いるが、例えばアルミニウム、銀、銀
−パラジウム等、従来の導電性材料を用いることもでき
る。なお、上記バス電極は蒸着法、スパッタリング法な
どで薄膜を形成した後、フォトエッチングでのパターン
ニングやサンドブラスト法等の従来の形成法を用いても
よい。
In the method of forming a discharge cell of a gas discharge display tube shown in FIG. 1, first, an anode 11 and a bus electrode 13 are formed on an electrode paste (DuPont) containing Ni as a main component on a back plate 5 which has been cleaned and annealed. 9538)
After forming by screen printing method, 1
Hold at 40 ° C. for 10 minutes and dry. In this embodiment, two-layer printing is performed, and the bus electrode has a width of 100 μm and a thickness of 40 μm.
m, the anode had a width of 400 μm and a film thickness of 40 μm. Although Ni is used as the material, a conventional conductive material such as aluminum, silver, and silver-palladium can also be used. Note that the bus electrode may be formed by forming a thin film by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and then using a conventional forming method such as patterning by photoetching or sandblasting.

【0028】更に、被覆電極14は、陽極11及びバス
電極13を形成した後にスクリーン印刷法によって被覆
形成した後、ベルト式乾燥炉にて140℃を10分間保
持し乾燥させる。本実施例では2層印刷を行ない、幅1
50μm、膜厚20μmを得た。その材質としては、金
属粒子成分が希土類元素のホウ化化合物と、金属酸化物
の混合物からなり、上記希土類元素のホウ化化合物が、
La、Gd、Y、Nd、Ceの六ホウ化物又は四ホウ化
物の少なくとも1種類からなり、また、上記金属酸化物
が、MgO又はY23の少なくとも1種類からなる混合
物質を用いることができ、ここでは上記の希土類元素ホ
ウ化化合物において耐スパッタ性に優れるGdB6と上
記金属酸化物において潮解性を有しにくいY23を混合
したものを使用する。
Further, after forming the anode 11 and the bus electrode 13, the coating electrode 14 is coated with a screen printing method and then dried at 140 ° C. for 10 minutes in a belt type drying furnace. In this embodiment, two-layer printing is performed and the width 1
50 μm and a film thickness of 20 μm were obtained. As the material, the metal particle component is composed of a mixture of a rare earth element boride compound and a metal oxide, and the rare earth element boride compound is
It is possible to use a mixed material comprising at least one of hexaboride or tetraboride of La, Gd, Y, Nd and Ce, and wherein the metal oxide is at least one of MgO or Y 2 O 3. Here, a mixture of the above-mentioned rare earth element boride compound, which is a mixture of GdB 6 having excellent sputter resistance and Y 2 O 3 which is a metal oxide having a low deliquescent property, is used.

【0029】被覆電極14の形成方法において、本実施
例では高価で複雑な装置の必要がなく、しかも簡単な工
程で形成でき、且つ上記混合物質が均一に分散し得るこ
とからスクリーン印刷法で形成しているが、本発明の実
施の形態はこれに限るものではなく、スクリーン印刷法
のほか、サンドブラスト法、蒸着法、電着法、スパッタ
リング法、溶射法等の従来の形成法を用いてもよい。ま
た、本実施例は陰極12がバス電極13と被覆電極14
から構成されているが、陽極11も同様な構造を有して
もよい。以下に、スクリーン印刷法による上記混合物質
のぺースト組成を説明する。
In the method of forming the coated electrode 14, this embodiment does not require an expensive and complicated apparatus, and can be formed by a simple process, and the mixed substance can be uniformly dispersed. However, the embodiment of the present invention is not limited to this, in addition to screen printing, sandblasting, vapor deposition, electrodeposition, sputtering, using a conventional forming method such as thermal spraying method Good. In this embodiment, the cathode 12 is composed of the bus electrode 13 and the covering electrode 14.
, But the anode 11 may have a similar structure. Hereinafter, the paste composition of the above mixed substance by the screen printing method will be described.

【0030】上記ぺーストは、金属粒子成分と、バイン
ダーとして機能し焼成により金属酸化物となる有機金
属、又はガラスフリットと、溶剤、更に樹脂の有機性添
加物の混合物からなる。
The paste comprises a mixture of a metal particle component, an organic metal which functions as a binder and becomes a metal oxide by firing, or a glass frit, a solvent, and an organic additive of a resin.

【0031】上記金属粒子は、希土類元素のホウ化化合
物と金属酸化物の混合物からなり、上記希土類元素のホ
ウ化化合物が、La、Gd、Y、Nd、Ceの六ホウ化
物又は四ホウ化物の少なくとも1種類であり、上記金属
酸化物が、MgO又はY23の少なくとも1種類からな
る混合物である。上記混合物の混合割合は、焼成後の陰
極が十分な導電性を有する範囲であれば特に規定はな
い。また、金属粒子の混合物の上記ぺーストに対する含
有量は陰極として機能する範囲であればよい。
The metal particles are made of a mixture of a rare earth element boride compound and a metal oxide, and the rare earth element boride compound is La, Gd, Y, Nd, Ce hexaboride or tetraboride. At least one kind, wherein the metal oxide is a mixture of at least one kind of MgO or Y 2 O 3 . The mixing ratio of the above mixture is not particularly limited as long as the cathode after firing has a sufficient conductivity. The content of the mixture of metal particles with respect to the paste may be within a range that functions as a cathode.

【0032】上記有機金属はアルカリ土類金属元素、ア
ルカリ金属元素、又は希土類元素のアルコキシド又はカ
ルボン酸塩を選択することができ、上記有機金属が焼成
により生成された金属酸化物がバインダーとしての機能
以外に陰極としての役割を果たす場合もある。
As the organic metal, an alkoxide or carboxylate of an alkaline earth metal element, an alkali metal element, or a rare earth element can be selected, and a metal oxide formed by firing the organic metal functions as a binder. In addition, it may also serve as a cathode.

【0033】上記ガラスフリットはホウ酸塩及びケイ酸
塩を主成分とし、鉛、硫黄、セレン、ビスマス等の一種
類以上を含有した、例えばホウケイ酸鉛ガラス又はホウ
ケイ酸ビスマスガラスなどの各種ガラスを用いることが
できる。尚、これら金属粒子又はガラスフリットの粒径
は、数十ミクロンからサブミクロンのものが好適に用い
ることができる。一般に金属粒子の粒径とスクリーン印
刷法での印刷性(図5A)、密着性(図5B)、及び焼
成雰囲気中の希土類元素ホウ化化合物の酸化による抵抗
値変化(図5C)は、図5に示す関係にある。印刷性は
金属粒子の粒径が15μm以上、特にパターン幅を細線
化する場合は5μm以上になると印刷製版への目詰まり
が生じ易くなり、形状の再現性も悪化する(図5A)。
密着性については、0.5μm以下または15μm以上
になると膜質がもろくなり密着性が損なわれる(図5
B)。これらの条件を考慮した結果、金属粒子の粒径は
0.5〜15μmの範囲を選択した。さらに図5から理
解されるように粒径が6μm以上の希土類元素のホウ化
化合物は焼成雰囲気温度においても酸化による抵抗の上
昇が起こりにくく(図5C)、初期のコンディショニン
グが容易であることから、細線化を考慮しない場合は6
〜15μmの範囲がより望ましい。尚、前記有機金属は
ぺースト中において液体状に存在しているため、ガラス
フリットを混入したものより粒子の分散性が優れてい
る。上記有機金属及びガラスフリットの含有量は上記ぺ
ーストに対し1重量%以下だと各粒子間又は粒子と前記
背面板との密着性が損なわれ、また、30重量%以上で
あれば導電性の低下や陰極としての特性が損なわれるた
め、1〜30重量%の間が望ましい。
The above-mentioned glass frit is made of various glasses such as lead borosilicate glass or bismuth borosilicate glass containing borate and silicate as main components and containing at least one kind of lead, sulfur, selenium, bismuth and the like. Can be used. The metal particles or glass frit preferably has a particle size of several tens of microns to sub-micron. In general, the particle size of metal particles, printability by screen printing (FIG. 5A), adhesion (FIG. 5B), and resistance change due to oxidation of a rare earth element boride compound in a firing atmosphere (FIG. 5C) are shown in FIG. The relationship is shown in If the particle size of the metal particles is 15 μm or more, especially when the pattern width is reduced to 5 μm or more, clogging of the printing plate becomes easy to occur, and the reproducibility of the shape deteriorates (FIG. 5A).
Regarding the adhesion, if the thickness is 0.5 μm or less or 15 μm or more, the film quality becomes brittle and the adhesion is impaired (FIG. 5).
B). As a result of considering these conditions, the particle size of the metal particles was selected in the range of 0.5 to 15 μm. Further, as can be understood from FIG. 5, the boride compound of a rare earth element having a particle size of 6 μm or more does not easily cause an increase in resistance due to oxidation even at the temperature of the firing atmosphere (FIG. 5C), and the initial conditioning is easy. 6 when thinning is not considered
The range of about 15 μm is more desirable. Since the organic metal exists in a liquid state in the paste, the dispersibility of the particles is superior to that in which glass frit is mixed. When the content of the organic metal and the glass frit is 1% by weight or less with respect to the paste, the adhesion between the particles or between the particles and the back plate is impaired. The content is desirably in the range of 1 to 30% by weight because of the reduction and the impairment of the characteristics as a cathode.

【0034】更に、上記ぺーストに添加する有機性添加
物としては、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、アルキド樹
脂、ウレタン樹脂、エボナイト、ポリシロキ酸シリケー
トなどが挙げられる。前記有機性添加物の含有量は、ガ
ラス又は金属粒子との混合物の流動性及び成形性を維持
するためには、粘性が高くならないようにする必要があ
り、一方、乾燥後の硬化時には十分な保形性を有してい
ることが望ましい。このような点から、有機性添加物の
含有量は上記ぺーストに対して0.5重量%以上、20
重量%以下が望ましい。
Further, examples of the organic additives to be added to the above-mentioned paste include urea resin, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester, alkyd resin, urethane resin, ebonite, and polysiloxy silicate. The content of the organic additive is required to prevent the viscosity from increasing in order to maintain the fluidity and moldability of the mixture with the glass or metal particles, while the content is not sufficient during curing after drying. It is desirable to have shape retention. From such a point, the content of the organic additive is 0.5% by weight or more based on the above-mentioned paste, and 20% by weight or more.
% By weight or less is desirable.

【0035】また、上記ぺースト中に加えられる溶媒と
は、前記有機性添加物を相溶するものであれば特に限定
するものではなく、例えばトルエン、キシレン、ベンゼ
ン、フタル酸エステル等の芳香族溶剤や、ヘキサノー
ル、オクタノール、デカノール、オキシアルコール等の
高級アルコール類、あるいは酢酸エステル、グリセライ
ド等のエステル類を用いることができる。更に、溶媒を
緩やかに揮発させるために、前記溶媒を2種類以上併用
することも可能である。また、前記溶媒の含有量は、上
記ぺ一ストに対して0.1重量%以上必要であり、ガラ
ス又は金属粒子との混合物の流動性及び成形性を維持す
るためガラスフリット又は有機金属と金属粒子と有機性
添加物の混合物の粘性をある程度低くすることが望まし
い。このような点から、溶媒の含有量は上記ぺーストに
対して0.1重量%以上、35重量%以下が望ましい。
The solvent to be added to the paste is not particularly limited as long as it is compatible with the organic additive. For example, aromatic solvents such as toluene, xylene, benzene and phthalic acid ester can be used. Solvents, higher alcohols such as hexanol, octanol, decanol and oxyalcohol, and esters such as acetic acid ester and glyceride can be used. Furthermore, in order to volatilize the solvent slowly, it is also possible to use two or more of the above solvents in combination. In addition, the content of the solvent is required to be 0.1% by weight or more based on the above-mentioned paste, and in order to maintain the fluidity and moldability of the mixture with glass or metal particles, a glass frit or an organic metal and It is desirable to reduce the viscosity of the mixture of particles and organic additives to some extent. From such a point, it is desirable that the content of the solvent is 0.1% by weight or more and 35% by weight or less based on the paste.

【0036】以上より、上記ぺ一ストの組成は、上記ぺ
一ストに対して金属成分として平均粒径6μmのGdB
6粉末を20重量%、平均粒径6μmのY23粉末を4
0重量%、ガラスフリットとして平均粒径8μmのホウ
ケイ酸ビスマスガラスを5重量%、ターピネオール、ジ
エチレングリコールジブチルエーテルを各12.5重量
%、セルロース樹脂を10重量%含有するものを使用す
る。
From the above, the composition of the above-mentioned first strike is GdB having an average particle diameter of 6 μm as a metal component with respect to the above-mentioned first strike.
6 powder 20% by weight, average particle diameter 6 μm Y 2 O 3 powder 4
A glass frit containing 0% by weight, 5% by weight of bismuth borosilicate glass having an average particle size of 8 μm, 12.5% by weight of terpineol and diethylene glycol dibutyl ether, and 10% by weight of a cellulose resin is used.

【0037】次に隔壁8を、低融点ガラス及び適当な充
填剤を含む厚膜絶縁ぺースト(奥野製薬工業G3−21
25)を使用し、スクリーン印刷法により形成した後、
ベルト式乾燥炉にて140℃を10分間保持し乾燥させ
る。本実施例では8層印刷を行ない、膜厚160μmを
得た。なお、隔壁の形成にはサンドブラスト法など従来
の方法で形成してもよい。
Next, the partition wall 8 is made of a thick-film insulating paste containing a low-melting glass and an appropriate filler (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. G3-21).
25), and after forming by screen printing method,
It is dried by holding at 140 ° C. for 10 minutes in a belt type drying furnace. In this embodiment, eight-layer printing was performed to obtain a film thickness of 160 μm. The partition may be formed by a conventional method such as a sand blast method.

【0038】その後、前面板4及び背面板5が熱変形を
起こさない範囲の所定の温度、ここでは585℃で焼成
することにより、隔壁8及び陽極11、陰極12が形成
される。ただし、陽極、陰極、隔壁の配置及び膜厚、寸
法はこれらに限られず、従来の様々な構造を有する放電
セル形状と同様であってもよい。また、ここでは放電セ
ル構成物である陰極、陽極、隔壁を形成した後に一斉に
焼成を行なっているが、各放電セル構成物を形成する毎
に個々焼成を行なってもよい。
After that, the front plate 4 and the back plate 5 are baked at a predetermined temperature in a range that does not cause thermal deformation, here 585 ° C., so that the partition wall 8, the anode 11 and the cathode 12 are formed. However, the arrangement, film thickness, and dimensions of the anode, the cathode, and the partition wall are not limited to these, and may be the same as conventional discharge cell shapes having various structures. In addition, here, the firing is performed all at once after forming the cathodes, anodes, and partition walls, which are the discharge cell components. However, firing may be performed individually each time each discharge cell component is formed.

【0039】その後洗浄及びアニール処理をした薄板ガ
ラス3を重ね、周辺部を低融点ガラスなどのシール材9
で気密的に接合する。さらに、放電空間10にイオン化
可能なガスを封入して放電セル2を完成させる。本実施
例にはイオン化可能なガス種としてキセノンを用いる
が、その他ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン及び
これら混合ガスを封入してもよい。この放電セルは、D
C駆動型のプラズマアドレス表示装置となるが、以上説
明した放電セルに関する陰極構造、製造方法以外は従来
技術と同様に製造される。
Thereafter, the thin glass 3 which has been washed and annealed is overlaid, and the periphery thereof is sealed with a sealing material 9 such as a low-melting glass.
And airtightly joined. Further, an ionizable gas is sealed in the discharge space 10 to complete the discharge cell 2. In this embodiment, xenon is used as the ionizable gas species, but helium, neon, argon, xenon, or a mixed gas thereof may be filled. This discharge cell has D
Although it becomes a C-drive type plasma addressed display device, it is manufactured in the same manner as the prior art except for the cathode structure and manufacturing method for the discharge cell described above.

【0040】第二の実施の形態として、DC−PDPに
本発明を適用した例を示す。図2に示すガス放電表示パ
ネルの製造方法について、洗浄及びアニール処理をした
前面板4にスクリーン印刷法によりAgを主成分とする
電極ぺースト(ナミックス製XFP5392)を使用し
バス電極13を形成した後、ベルト式乾燥炉にて140
℃を10分間保持し乾燥させる。本実施例では2層印刷
を行ない、幅100μm、膜厚40μmを得た。その他
のバス電極材料として例えばアルミニウム、ニッケル、
銀、銀−パラジウム等、従来の導電性材料を用いること
もできる。なお、上記バス電極は蒸着法、スパッタリン
グ法などで薄膜を形成した後、フォトエッチングでのパ
ターンニングやサンドブラスト法等の従来の形成法を用
いてもよい。その後、被覆電極14は、バス電極13を
形成した後にスクリーン印刷法によって被覆形成した
後、ベルト式乾燥炉にて140℃を10分間保持し乾燥
させる。本実施例では2層印刷を行ない、幅150μ
m、膜厚20μmを得た。その材質として、金属粒子成
分が希土類元素のホウ化化合物と、金属酸化物の混合物
からなり、上記希土類元素のホウ化化合物が、La、G
d、Y、Nd、Ceの六ホウ化物又は四ホウ化物の少な
くとも1種類からなり、また、上記金属酸化物が、Mg
O又はY23の少なくとも1種類からなる混合物質を用
いることができ、ここでは上記の希土類元素ホウ化化合
物において耐スパッタ性に優れるGdB6と上記金属酸
化物において潮解性を有しにくいY23を混合したもの
を使用する。
As a second embodiment, an example in which the present invention is applied to a DC-PDP will be described. In the manufacturing method of the gas discharge display panel shown in FIG. 2, the bus electrode 13 was formed on the front plate 4 which had been washed and annealed by using a screen paste method using an electrode paste containing Ag as a main component (Namics XFP5392). After that, 140 in belt type drying furnace
Hold at 0 ° C. for 10 minutes and dry. In this embodiment, two-layer printing was performed to obtain a width of 100 μm and a film thickness of 40 μm. Other bus electrode materials such as aluminum, nickel,
Conventional conductive materials such as silver and silver-palladium can also be used. Note that the bus electrode may be formed by forming a thin film by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and then using a conventional forming method such as patterning by photoetching or sandblasting. After that, the coating electrode 14 is formed by forming a coating by a screen printing method after forming the bus electrode 13, and then dried by holding at 140 ° C. for 10 minutes in a belt-type drying furnace. In this embodiment, two-layer printing is performed and the width is 150 μm.
m and a film thickness of 20 μm. As the material, the metal particle component is composed of a mixture of a boride compound of a rare earth element and a metal oxide, and the boride compound of the rare earth element is La, G
d, Y, Nd, Ce, at least one of hexaboride or tetraboride, and the metal oxide is Mg
A mixture of at least one of O and Y 2 O 3 can be used. In this case, the above-mentioned rare earth element boride compound has excellent sputter resistance GdB 6 and the above metal oxide has low deliquescent property Y A mixture of 2 O 3 is used.

【0041】被覆電極14の形成方法において、本実施
例では高価で複雑な装置の必要がなく、しかも簡単な工
程で形成でき、且っ上記混合物質が均一に分散し得るこ
とからスクリーン印刷法で形成しているが、本発明の実
施の形態はこれに限るものではなく、スクリーン印刷法
のほか、サンドブラスト法、蒸着法、電着法、スパッタ
リング法、溶射法等の従来の形成法を用いてもよい。ま
た、本実施例は陰極12がバス電極13と被覆電極14
から構成されているが、陽極11も同様な構造を有して
もよい。以下に、スクリーン印刷法による上記混合物質
のぺースト組成を説明する。
In the method of forming the coated electrode 14, this embodiment does not require an expensive and complicated apparatus, can be formed by a simple process, and can uniformly disperse the mixed substance. Although formed, the embodiment of the present invention is not limited to this, in addition to screen printing, sandblasting, vapor deposition, electrodeposition, sputtering, using a conventional forming method such as thermal spraying Is also good. In this embodiment, the cathode 12 is composed of the bus electrode 13 and the covering electrode 14.
, But the anode 11 may have a similar structure. Hereinafter, the paste composition of the above mixed substance by the screen printing method will be described.

【0042】上記ぺーストは、金属粒子成分と、バイン
ダーとして機能し焼成により金属酸化物となる有機金
属、又はガラスフリットと、溶剤、更に樹脂の有機性添
加物の混合物からなる。
The paste comprises a mixture of a metal particle component, an organic metal which functions as a binder and becomes a metal oxide upon firing, or a glass frit, a solvent, and an organic additive of a resin.

【0043】上記金属粒子は、希土類元素のホウ化化合
物と金属酸化物の混合物からなり、上記希土類元素のホ
ウ化化合物が、La、Gd、Y、Nd、Ceの六ホウ化
物又は四ホウ化物の少なくとも1種類であり、上記金属
酸化物が、MgO又はY23の少なくとも1種類からな
る混合物である。上記混合物の混合割合は、焼成後の陰
極が十分な導電性を有する範囲であれば特に規定はな
い。また、金属粒子の混合物の上記ぺーストに対する含
有量は陰極として機能する範囲であればよい。
The metal particles are composed of a mixture of a rare earth element boride compound and a metal oxide, and the rare earth element boride compound is composed of La, Gd, Y, Nd, Ce hexaboride or tetraboride. At least one kind, wherein the metal oxide is a mixture of at least one kind of MgO or Y 2 O 3 . The mixing ratio of the above mixture is not particularly limited as long as the cathode after firing has a sufficient conductivity. The content of the mixture of metal particles with respect to the paste may be within a range that functions as a cathode.

【0044】上記有機金属はアルカリ土類金属元素、ア
ルカリ金属元素、又は希土類元素のアルコキシド又はカ
ルボン酸塩を選択することができ、上記有機金属が焼成
により生成された金属酸化物がバインダーとしての機能
以外に陰極としての役割を果たす場合もある。
As the organic metal, an alkoxide or carboxylate of an alkaline earth metal element, an alkali metal element, or a rare earth element can be selected, and a metal oxide produced by firing the organic metal functions as a binder. In addition, it may also serve as a cathode.

【0045】上記ガラスフリットはホウ酸塩及びケイ酸
塩を主成分とし、鉛、硫黄、セレン、ビスマス等の一種
類以上を含有した、例えばホウケイ酸鉛ガラス又はホウ
ケイ酸ビスマスガラスなどの各種ガラスを用いることが
できる。尚、これら金属粒子又はガラスフリットの粒径
は、数十ミクロンからサブミクロンのものが好適に用い
ることができる。一般に金属粒子の粒径とスクリーン印
刷法での印刷性(図5A)、密着性(図5B)、及び焼
成雰囲気中の希土類元素ホウ化化合物の酸化による抵抗
値変化(図5C)は、図5に示す関係にある。印刷性は
金属粒子の粒径が15μm以上、特にパターン幅を細線
化する場合は5μm以上になると印刷製版への目詰まり
が生じ易くなり、形状の再現性も悪化する(図5A)。
密着性については、0.5μm以下または15μm以上
になると膜質がもろくなり密着性が損なわれる(図5
B)。これらの条件を考慮した結果、金属粒子の粒径は
0.5〜15μmの範囲を選択した。さらに図5から理
解されるように粒径が6μm以上の希土類元素のホウ化
化合物は焼成雰囲気温度においても酸化による抵抗の上
昇が起こりにくく(図5C)、初期のコンディショニン
グが容易であることから、細線化を考慮しない場合は6
〜15μmの範囲がより望ましい。尚、前記有機金属は
ぺースト中において液体状に存在しているため、ガラス
フリットを混入したものより粒子の分散性が優れてい
る。上記有機金属及びガラスフリットの含有量は上記ぺ
ーストに対し1重量%以下だと各粒子間又は粒子と前記
背面板との密着性が損なわれ、また、30重量%以上で
あれば導電性の低下や陰極としての特性が損なわれるた
め、1〜30重量%の間が望ましい。
The above-mentioned glass frit is made of various glasses such as lead borosilicate glass or bismuth borosilicate glass containing borate and silicate as main components and containing at least one kind of lead, sulfur, selenium, bismuth and the like. Can be used. The metal particles or glass frit preferably has a particle size of several tens of microns to sub-micron. In general, the particle size of metal particles, printability by screen printing (FIG. 5A), adhesion (FIG. 5B), and resistance change due to oxidation of a rare earth element boride compound in a firing atmosphere (FIG. 5C) are shown in FIG. The relationship is shown in If the particle size of the metal particles is 15 μm or more, especially when the pattern width is reduced to 5 μm or more, clogging of the printing plate becomes easy to occur, and the reproducibility of the shape deteriorates (FIG. 5A).
Regarding the adhesion, if the thickness is 0.5 μm or less or 15 μm or more, the film quality becomes brittle and the adhesion is impaired (FIG. 5).
B). As a result of considering these conditions, the particle size of the metal particles was selected in the range of 0.5 to 15 μm. Further, as can be understood from FIG. 5, the boride compound of a rare earth element having a particle size of 6 μm or more does not easily cause an increase in resistance due to oxidation even at the temperature of the firing atmosphere (FIG. 5C), and the initial conditioning is easy. 6 when thinning is not considered
The range of about 15 μm is more desirable. Since the organic metal exists in a liquid state in the paste, the dispersibility of the particles is superior to that in which glass frit is mixed. When the content of the organic metal and the glass frit is 1% by weight or less with respect to the paste, the adhesion between the particles or between the particles and the back plate is impaired. The content is desirably in the range of 1 to 30% by weight because of the reduction and the impairment of the characteristics as a cathode.

【0046】更に、上記ぺーストに添加する有機性添加
物としては、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、アルキド樹
脂、ウレタン樹脂、エボナイト、ポリシロキ酸シリケー
トなどが挙げられる。前記有機性添加物の含有量は、ガ
ラス又は金属粒子との混合物の流動性及び成形性を維持
するためには、粘性が高くならないようにする必要があ
り、一方、乾燥後の硬化時には十分な保形性を有してい
ることが望ましい。このような点から、有機性添加物の
含有量は上記ぺーストに対して0.5重量%以上、20
重量%以下が望ましい。
Further, examples of the organic additives to be added to the above-mentioned paste include urea resin, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester, alkyd resin, urethane resin, ebonite, and polysiloxy silicate. The content of the organic additive is required to prevent the viscosity from increasing in order to maintain the fluidity and moldability of the mixture with the glass or metal particles, while the content is not sufficient during curing after drying. It is desirable to have shape retention. From such a point, the content of the organic additive is 0.5% by weight or more based on the above-mentioned paste, and 20% by weight or more.
% By weight or less is desirable.

【0047】また、上記ぺースト中に加えられる溶媒と
は、前記有機性添加物を相溶するものであれば特に限定
するものではなく、例えばトルエン、キシレン、ベンゼ
ン、フタル酸エステル等の芳香族溶剤や、ヘキサノー
ル、オクタノール、デカノール、オキシアルコール等の
高級アルコール類、あるいは酢酸エステル、グリセライ
ド等のエステル類を用いることができる。更に、溶媒を
緩やかに揮発させるために、前記溶媒を2種類以上併用
することも可能である。また、前記溶媒の含有量は、上
記ぺーストに対して0.1重量%以上必要であり、ガラ
ス又は金属粒子との混合物の流動性及び成形性を維持す
るためガラスフリット又は有機金属と金属粒子と有機性
添加物の混合物の粘性をある程度低くすることが望まし
い。このような点から、溶媒の含有量は上記ぺーストに
対して0.1重量%以上、35重量%以下が望ましい。
The solvent to be added to the paste is not particularly limited as long as it is compatible with the organic additive. For example, aromatic solvents such as toluene, xylene, benzene and phthalic acid ester can be used. Solvents, higher alcohols such as hexanol, octanol, decanol and oxyalcohol, and esters such as acetic acid ester and glyceride can be used. Furthermore, in order to volatilize the solvent slowly, it is also possible to use two or more of the above solvents in combination. Further, the content of the solvent is required to be 0.1% by weight or more based on the paste, and the glass frit or the organic metal and the metal particles are used to maintain the fluidity and moldability of the mixture with the glass or metal particles. It is desirable to lower the viscosity of the mixture of the organic additives and the organic additives to some extent. From such a point, it is desirable that the content of the solvent is 0.1% by weight or more and 35% by weight or less based on the paste.

【0048】以上より、上記ぺーストの組成は、上記ぺ
ーストに対して金属成分として平均粒径6μmのYB6
粉末を20重量%、平均粒径6μmのY23粉末を40
重量%、ガラスフリットとして平均粒径8μmのホウケ
イ酸ビスマスガラスを5重量%、ターピネオール、ジエ
チレングリコールジブチルエーテルを各12.5重量
%、セルロース樹脂を10重量%含有するものを使用す
る。
As described above, the composition of the above-mentioned paste is YB 6 having an average particle size of 6 μm as a metal component with respect to the above-mentioned paste.
20% by weight of powder and 40% of Y 2 O 3 powder having an average particle size of 6 μm.
A glass frit containing 5% by weight of bismuth borosilicate glass having an average particle diameter of 8 μm, 12.5% by weight of terpineol and diethylene glycol dibutyl ether, and 10% by weight of a cellulose resin is used.

【0049】洗浄及びアニール処理された背面板5には
前面板4の陰極12と直行する方向に陽極11が形成さ
れる。陽極11はスクリーン印刷法によりAgを主成分
とする電極ぺ一スト(ナミックス製XFP5392)を
使用し形成した後、ベルト式乾燥炉にて140℃を10
分間保持し乾燥させる。本実施例では2層印刷を行な
い、幅100μm、膜厚20μmを得た。その他の陽極
材料として例えばアルミニウム、ニッケル、銀、銀−パ
ラジウム等、従来の導電性材料を用いることもできる。
なお、上記陽極は蒸着法、スパッタリング法などで薄膜
を形成した後、フォトエッチングでのパターンニングや
サンドブラスト法等の従来の形成法を用いてもよい。
An anode 11 is formed on the back plate 5 that has been washed and annealed, in a direction perpendicular to the cathode 12 of the front plate 4. The anode 11 is formed by screen printing using an electrode paste containing Ag as a main component (NFP XFP5392), and then heated to 140 ° C. in a belt drying furnace at 10 ° C.
Hold for a minute and let dry. In this embodiment, two-layer printing was performed to obtain a width of 100 μm and a film thickness of 20 μm. Other conductive materials such as aluminum, nickel, silver, and silver-palladium can be used as other anode materials.
The anode may be formed into a thin film by an evaporation method, a sputtering method, or the like, and then may be formed by a conventional forming method such as patterning by photoetching or sandblasting.

【0050】次に、隔壁8を陽極11の間の背面板上
に、低融点ガラス及び適当な充填剤を含む厚膜絶縁ぺー
スト(奥野製薬工業G3−2125)を使用し、スクリ
ーン印刷法により形成した後、ベルト式乾燥炉にて14
0℃を10分間保持し乾燥させる。本実施例では10層
印刷を行ない、幅150μm、膜厚200μmを得た。
なお、隔壁8の形成にはサンドブラスト法など従来の方
法で形成してもよい。次に、背面板5や隔壁8の側面に
スクリーン印刷法によりそれぞれの表示色に対応する蛍
光体を塗布する。
Next, the partition walls 8 are formed on the back plate between the anodes 11 by screen printing using a thick film insulating paste (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. G3-2125) containing low melting glass and a suitable filler. After forming, 14
Hold at 0 ° C. for 10 minutes and dry. In this embodiment, 10-layer printing was performed to obtain a width of 150 μm and a film thickness of 200 μm.
The partition 8 may be formed by a conventional method such as a sand blast method. Next, phosphors corresponding to the respective display colors are applied to the side surfaces of the back plate 5 and the partition walls 8 by screen printing.

【0051】その後、前面板4及び背面板5が熱変形を
起こさない範囲の所定の温度、ここでは585℃で焼成
することにより、隔壁8及び陽極11、陰極12が形成
される。ただし、陽極、陰極、隔壁の配置及び膜厚、寸
法はこれらに限られず、従来の様々な構造を有する放電
セル形状と同様であってもよい。また、ここでは放電セ
ル構成物である陰極、陽極、隔壁、蛍光体を形成した後
に一斉に焼成を行なっているが、各放電セル構成物を形
成する毎に個々焼成を行なってもよい。
Thereafter, the front panel 4 and the rear panel 5 are baked at a predetermined temperature in a range that does not cause thermal deformation, here 585 ° C., thereby forming the partition 8, the anode 11 and the cathode 12. However, the arrangement, film thickness, and dimensions of the anode, the cathode, and the partition wall are not limited to these, and may be the same as conventional discharge cell shapes having various structures. In addition, here, firing is performed all at once after forming the cathode, anode, partition, and phosphor as discharge cell components, but firing may be performed individually each time each discharge cell component is formed.

【0052】その後、前面板4上の陰極12と背面板5
上の陽極11が向かい合うように前面板4と背面板5を
重ね、周辺部を低融点ガラスなどのシール材9で気密的
に接合する。さらに、放電空間10にイオン化可能なガ
スを封入して本実施例におけるガス放電表示パネルが完
成する。本実施例にはイオン化可能なガス種としてXe
を用いるが、その他ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセ
ノン及びこれら混合ガスを封入してもよい。
Thereafter, the cathode 12 on the front panel 4 and the rear panel 5
The front plate 4 and the back plate 5 are overlapped so that the upper anodes 11 face each other, and the periphery is hermetically bonded with a sealing material 9 such as low-melting glass. Further, an ionizable gas is sealed in the discharge space 10 to complete the gas discharge display panel in this embodiment. In this embodiment, Xe is used as an ionizable gas type.
However, helium, neon, argon, xenon, and a mixed gas thereof may be filled.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】DC放電における各陰極材料を用いたパネ
ル特性を表1に示す。
Table 1 shows panel characteristics using each cathode material in DC discharge.

【0055】(1)表1より、本発明では、耐スパッタ
性、二次電子放出効率に優れる絶縁性金属酸化物に導電
性材料を混合することによって導電路を確保しDC放電
を可能する。特に希土類元素のホウ化化合物を導電性材
料として混合した本発明は、Ag、Alなどの導電性材
料を混合した場合と比較し耐スパッタ性、高二次電子放
出効率などの特性に優れている。DC放電が可能になる
ことにより、駆動電圧を低電圧化でき駆動回路の低コス
ト化が実現すると共に、スパッタエネルギーを減少させ
パネル寿命の改善が可能される。
(1) From Table 1, according to the present invention, a conductive path is secured by mixing a conductive material with an insulating metal oxide having excellent sputter resistance and secondary electron emission efficiency, thereby enabling DC discharge. In particular, the present invention in which a boride compound of a rare earth element is mixed as a conductive material has excellent characteristics such as spatter resistance and high secondary electron emission efficiency as compared with a case where a conductive material such as Ag or Al is mixed. By enabling the DC discharge, the driving voltage can be reduced, the cost of the driving circuit can be reduced, and the spatter energy can be reduced to improve the panel life.

【0056】(2)表1より、特開平7−230770
号公報における絶縁性材料BaAl 24と比較し、本発
明で混入する金属酸化物は耐スパッタ性に優れるため、
本発明における混合物質を適用した被覆電極は、従来法
(特開平7−230770号公報)と同様に放電電流を
減少したまま、耐スパッタ性が向上し、放電時の陰極の
スパッタによる放電特性の経時変化が抑制されると共
に、スパッタ堆積物による背面板及び薄板ガラスの透過
率の低下を防止することができる。したがって、パネル
寿命の改善が可能である。
(2) From Table 1, it can be seen from JP-A-7-230770.
Material BaAl in Japanese Patent Application Publication TwoOFourCompared with
Since the metal oxide mixed in the light has excellent spatter resistance,
The coated electrode to which the mixed substance according to the present invention is applied is a conventional method.
(Disclosed in JP-A-7-230770).
While decreasing, the spatter resistance improves, and the
When the change over time in the discharge characteristics due to sputtering is suppressed,
In addition, the transmission of the back plate and thin glass by sputter deposits
The rate can be prevented from lowering. Therefore, the panel
The life can be improved.

【0057】(3)プラズマ溶射法でBaA124から
BaOやBaを生成することで二次電子放出効率にに優
れた特性を示すのではなく、絶縁性材料自身が高二次電
子放出効率に優れた特性を有する材料を適用すること
で、被覆電極の被着プロセスに依存せず、放電電圧の低
電圧化に効果がある。また、特殊な装置が必要なく工程
の容易なスクリーン印刷法を適用することが可能とな
り、プラズマ溶射法と比較し作業業効率及び良品率が向
上し、設備投資額を大幅に減らすことが可能である。特
に40インチ以上のプラズマ放電セルを製造する場合は
顕著である。さらに、2種類以上の金属粒子を被着形成
する場合、スクリーン印刷法はプラズマ溶射法と比較し
金属粒子の分散性に優れるため、被覆電極を形成する金
属粒子が均一に分散し、その結果安定した均一な放電が
得られる。
(3) By generating BaO or Ba from BaA1 2 O 4 by plasma spraying, the insulating material itself exhibits high secondary electron emission efficiency instead of exhibiting excellent secondary electron emission efficiency. The use of a material having excellent characteristics is effective in lowering the discharge voltage without depending on the deposition process of the coated electrode. In addition, it is possible to apply the screen printing method, which requires no special equipment, and the process is easy, so that the work efficiency and the yield rate can be improved compared to the plasma spraying method, and the capital investment can be greatly reduced. is there. This is particularly noticeable when manufacturing a plasma discharge cell of 40 inches or more. Furthermore, when two or more types of metal particles are applied and formed, the screen printing method is more excellent in dispersibility of the metal particles than the plasma spraying method, so that the metal particles forming the coated electrode are uniformly dispersed and, as a result, stable. A uniform discharge is obtained.

【0058】(4)本発明で用いられる絶縁性材料は金
属酸化物であるため、工程上の雰囲気や熱工程による酸
化の影響がないため、初期エージングが容易である。
(4) Since the insulating material used in the present invention is a metal oxide, there is no influence of the oxidation due to the atmosphere in the process or the heat process, so that the initial aging is easy.

【0059】(5)希土類元素のホウ素化合物と前記金
属酸化物の粒径を0.5〜15μmとすることにより、
スクリーン印刷法において望ましい印刷性、基板との密
着性、及び焼成雰囲気中の希土類元素ホウ素化化合物の
酸化による抵抗変化特性を得ることができる。その結
果、より安定した放電を得ることができる。
(5) By setting the particle size of the boron compound of the rare earth element and the metal oxide to 0.5 to 15 μm,
Desirable printability in screen printing, adhesion to a substrate, and resistance change characteristics due to oxidation of a rare earth element boride compound in a firing atmosphere can be obtained. As a result, more stable discharge can be obtained.

【0060】(6)スクリーン印刷法において、バイン
ダーとして機能する有機金属又はガラスフリットの含有
量がペーストに対して1〜30重量%の範囲内とするこ
とにより、各粒子間及び粒子と背面板との密着性が良好
となり、導電性が低下せず、良好な陰極としての特性が
得られるため、安定した放電が得られる。
(6) In the screen printing method, when the content of the organic metal or glass frit functioning as a binder is in the range of 1 to 30% by weight with respect to the paste, the distance between each particle and between the particle and the back plate is reduced. Has good adhesion, does not decrease the conductivity, and has good characteristics as a cathode, so that a stable discharge can be obtained.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上より、本発明により放電セル内に水
銀を添加することなく、画面全域が安定且つ低電圧で放
電し、長寿命なガス放電表示管、及び液晶層を有するプ
ラズマディスプレイ装置の提供が可能となる。
As described above, according to the present invention, there is provided a gas discharge display tube having a long life and a gas discharge display tube having a stable and low voltage discharge without adding mercury into a discharge cell, and a plasma display device having a liquid crystal layer. Provision is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施例における、プラズマアド
レス表示装置及びその製造法を説明するための模式的な
断面図。
FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining a plasma addressed display device and a method of manufacturing the same in a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二の実施例における、DC駆動型プ
ラズマディスプレイパネルを説明するための模式的な断
面図。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a DC-driven plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

【図3】従来のプラズマアドレス表示装置の構造を示す
模式的な断面図。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing the structure of a conventional plasma addressed display device.

【図4】従来のDC駆動型プラズマディスプレイパネル
の構造を示す模式的な断面図。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a conventional DC-driven plasma display panel.

【図5A】金属粒子の粒径と、スクリーン印刷法におけ
る印刷性の相関図。
FIG. 5A is a correlation diagram of the particle size of metal particles and printability in a screen printing method.

【図5B】金属粒子の粒径と、基板との密着性の相関
図。
FIG. 5B is a correlation diagram of the particle size of metal particles and the adhesion to a substrate.

【図5C】金属粒子の粒径と、希土類元素ホウ化化合物
の酸化による抵抗変化との相関図。
FIG. 5C is a correlation diagram between the particle size of metal particles and a change in resistance due to oxidation of a rare earth element boride compound.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 表示セル 2 放電セル 3 薄板ガラス 4 前面板 5 背面板 6 液晶層 7 信号電極 8 隔壁 9 シール材 10 放電空間 11 陽極 12 陰極 13 バス電極 14 被覆電極 15 スペーサ 16 蛍光体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display cell 2 Discharge cell 3 Thin glass 4 Front plate 5 Back plate 6 Liquid crystal layer 7 Signal electrode 8 Partition wall 9 Seal material 10 Discharge space 11 Anode 12 Cathode 13 Bus electrode 14 Cover electrode 15 Spacer 16 Phosphor

フロントページの続き Fターム(参考) 5C027 AA02 AA03 5C040 FA02 FA04 FA09 GB03 GB06 GB08 GB09 GC03 GC04 GC12 GC18 GC19 JA07 JA12 JA15 KA04 KA05 KA09 KB02 KB04 KB17 MA03 MA10 MA17 MA26Continued on the front page F term (reference) 5C027 AA02 AA03 5C040 FA02 FA04 FA09 GB03 GB06 GB08 GB09 GC03 GC04 GC12 GC18 GC19 JA07 JA12 JA15 KA04 KA05 KA09 KB02 KB04 KB17 MA03 MA10 MA17 MA26

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 放電空間に露出した陽極と陰極を、放電
間隔を隔てて対向配置し、これを気密容器内にイオン化
可能なガスと共に封入してなるガス放電表示パネルにお
いて、陰極および陽極のうち少なくとも一方が、希土類
元素のホウ化化合物と金属酸化物を含み、該希土類元素
のホウ化化合物がLa、Gd、Y、Nd、Ceの六ホウ
化物および四ホウ化物の少なくとも1種類からなり、か
つ、該金属酸化物が、MgOおよびY23の少なくとも
1種類を含むことを特徴するガス放電表示パネル。
1. A gas discharge display panel comprising an anode and a cathode which are exposed in a discharge space and opposed to each other with a discharge interval therebetween, and which are sealed together with an ionizable gas in an airtight container. At least one includes a boride compound of a rare earth element and a metal oxide, wherein the boride compound of the rare earth element is at least one of hexaboride and tetraboride of La, Gd, Y, Nd, Ce, and A gas discharge display panel, wherein the metal oxide contains at least one of MgO and Y 2 O 3 .
【請求項2】 前記希土類元素のホウ化化合物と前記金
属酸化物の粒径は、それぞれ0.5〜15μmの範囲内
であることを特徴とする請求項1に記載のガス放電表示
パネル。
2. The gas discharge display panel according to claim 1, wherein said rare earth element boride compound and said metal oxide have a particle size in the range of 0.5 to 15 μm, respectively.
【請求項3】 前記ガス放電表示パネルが、液晶層を有
するプラズマアドレス表示装置であることを特徴とする
請求項1又は2に記載のガス放電表示パネル。
3. The gas discharge display panel according to claim 1, wherein the gas discharge display panel is a plasma addressed display device having a liquid crystal layer.
【請求項4】 放電空間に露出した陽極と陰極を、放電
間隔を隔てて対向配置し、これを気密容器内にイオン化
可能なガスと共に封入してなるガス放電表示パネルの製
造方法において、該陰極及び該陽極のうち少なくとも一
方が、ホウ化化合物と金属酸化物を含むペーストでスク
リーン印刷法によって形成されることを特徴とするガス
放電表示パネルの製造方法。
4. A method for manufacturing a gas discharge display panel, comprising: an anode and a cathode exposed to a discharge space, opposed to each other with a discharge interval therebetween, and sealed together with an ionizable gas in an airtight container. And a method for manufacturing a gas discharge display panel, wherein at least one of the anodes is formed by a screen printing method using a paste containing a boride compound and a metal oxide.
【請求項5】 前記ペーストが、バインダーとして機能
する有機金属又はガラスフリットを、該ペーストに対し
て1〜30重量%の範囲内で含有することを特徴とする
請求項4に記載のガス放電表示パネルの製造方法。
5. The gas discharge display according to claim 4, wherein the paste contains an organic metal or a glass frit functioning as a binder in a range of 1 to 30% by weight based on the paste. Panel manufacturing method.
【請求項6】 前記ガス放電表示パネルが、液晶層を有
するプラズマアドレス表示装置であることを特徴とする
請求項4又は5に記載のガス放電表示パネルの製造方
法。
6. The method of manufacturing a gas discharge display panel according to claim 4, wherein the gas discharge display panel is a plasma addressed display device having a liquid crystal layer.
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