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JP2000228554A - Proximity field light generation element, element array and manufacture thereof - Google Patents

Proximity field light generation element, element array and manufacture thereof

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Publication number
JP2000228554A
JP2000228554A JP11029675A JP2967599A JP2000228554A JP 2000228554 A JP2000228554 A JP 2000228554A JP 11029675 A JP11029675 A JP 11029675A JP 2967599 A JP2967599 A JP 2967599A JP 2000228554 A JP2000228554 A JP 2000228554A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
incident
element array
shielding film
field light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11029675A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoko Miyaura
智子 宮浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP11029675A priority Critical patent/JP2000228554A/en
Publication of JP2000228554A publication Critical patent/JP2000228554A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Head (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a proximity field light generation element and an element array, and a method for manufacturing them, relatively freely shaped to easily manufacture, whose optical axis and focus does not need to be adjusted. SOLUTION: An element array is provided with an incidence surface 11 and a light output surface 12 from which the light incident through the incidence surface 11 and condensed is emitted, and a light-shield film 13 provided on the light output surface 12 has a micro opening 13a generating proximity field light. A lens array main body 10 is pressure-molded in a re-heating method, and on the light exit surface 12 thereof, the light-shield film 13 is formed out of metal material. When the incidence surface 11 is irradiated with the light, it is condensed on the light output surface 12, and the micro opening 13a is formed on the light-shield film 13 by the energy.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度光メモリ
(記録/読取り)や高分解能顕微鏡に用いられる近接場
光発生素子、素子アレイ及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a near-field light generating element used for a high-density optical memory (recording / reading) and a high-resolution microscope, an element array, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【発明の背景】近年、光学的に情報を記録/読取りする
光メモリの分野においては、コンピュータの高速化やマ
ルチメディアの発達に伴い、より大容量の情報を記録で
きる、即ち、記録密度の著しく向上した光ヘッドが望ま
れ、近接場光記録技術が提案されている。レーザ光を用
いた従来の光メモリにおいて、記録密度は光の回折限界
で上限が決まり、光の波長程度(約数100nm)のマ
ークしか記録/読取りができなかった。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of optical memory for optically recording / reading information, a larger amount of information can be recorded, that is, recording density is remarkably improved with the increase in speed of computers and development of multimedia. Therefore, a near-field optical recording technique has been proposed. In a conventional optical memory using laser light, the upper limit of the recording density is determined by the diffraction limit of light, and recording / reading can be performed only for a mark of about the wavelength of light (about several 100 nm).

【0003】近年提案されている近接場光現象を用いた
光メモリでは、光の波長以下の微小開口を有するプロー
ブやSolid Immersion Lens(固浸レンズ)を用いて記
録媒体(光ディスク)に対して光ヘッドと記録媒体との
間隔を数10nmまで近づけた状態で記録/読取り用の
光を照射することで、光の回折限界を超えて数10nm
という小さなマークを信号として書き込み、読み取るこ
とが可能である。
In an optical memory using a near-field light phenomenon proposed in recent years, an optical head is mounted on a recording medium (optical disk) using a probe having a small aperture smaller than the wavelength of light or a solid immersion lens (solid immersion lens). By irradiating recording / reading light with the distance between the recording medium and the recording medium approaching several tens nm, the light exceeds the diffraction limit of the light to several tens nm.
Can be written and read as a signal.

【0004】[0004]

【従来の技術と課題】ところで、従来の近接場光用光ヘ
ッドにあっては、固浸レンズ等の素子と集光レンズと組
み合わせる必要があり、光ヘッドが大型化するのみなら
ず光軸調整や焦点調整が煩雑であるという問題点を有し
ていた。
2. Description of the Related Art In a conventional optical head for near-field light, it is necessary to combine an element such as a solid immersion lens with a condenser lens, which not only increases the size of the optical head but also adjusts the optical axis. And the focus adjustment is complicated.

【0005】一方、顕微鏡の分野では、特許第2578
376号公報に、ピンホールを有する基板上に透明樹脂
を球面状に硬化させたマイクロレンズが、その製造方法
と共に開示されている。ここでは、ピンホールから光を
導入して、光硬化型透明樹脂のピンホール面上で拡散し
た光の領域部分を硬化させて作製する。
On the other hand, in the field of microscopes, Japanese Patent No. 2578
No. 376 discloses a microlens obtained by hardening a transparent resin into a spherical shape on a substrate having a pinhole, together with a method of manufacturing the microlens. Here, light is introduced from the pinhole, and the light is diffused on the pinhole surface of the photocurable transparent resin to cure the region of the light.

【0006】しかしながら、前記公報記載のマイクロレ
ンズにあっては、レンズの形状が球面であること、及
び、レンズ材料が光硬化型樹脂であることに限定されて
しまう。さらに、光硬化型樹脂が硬化するに必要な光量
は大きく、微小開口から浸み出てくる近接場光では光量
が不足してしまい、実際上近接場光で樹脂を硬化させて
マイクロレンズを得ることは困難であるという問題点を
有している。
[0006] However, in the microlens described in the above-mentioned publication, the shape of the lens is limited to a spherical shape, and the lens material is limited to a photocurable resin. Furthermore, the amount of light required to cure the photo-curable resin is large, and the amount of near-field light leaching from the minute aperture is insufficient. In practice, the resin is cured with the near-field light to obtain a microlens. It is difficult to do this.

【0007】そこで、本発明の目的は、光軸調整や焦点
調整の必要がないと共に、比較的自由な形状で容易に製
作できる近接場光発生素子、素子アレイ及びその製造方
法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a near-field light generating element, an element array, and a method of manufacturing the near-field light generating element which can be easily manufactured in a relatively free shape without the need for optical axis adjustment and focus adjustment. is there.

【0008】[0008]

【発明の構成、作用及び効果】以上の目的を達成するた
め、本発明に係る近接場光発生素子は、入射面と、この
入射面から入射して集光された光を出射する出射面とを
備え、該出射面に設けられた遮光膜に近接場光を発生さ
せる微小開口を有する。このような素子を複数個一体的
に並設すれば素子アレイが得られる。
In order to achieve the above objects, a near-field light generating element according to the present invention comprises an incident surface, and an exit surface for emitting condensed light incident from the incident surface. And a minute aperture for generating near-field light in the light-shielding film provided on the emission surface. An element array can be obtained by integrally arranging a plurality of such elements.

【0009】コリメート光又は発散光を入射光として使
用するのであれば、入射光を出射面又はその近傍に集光
させる曲率を入射面に持たせればよい。入射面がそのよ
うな機能を有しない場合は、入射光を出射面又はその近
傍に集光させる反射面を素子自体に設ければよい。
If collimated light or divergent light is used as incident light, the incident surface may have a curvature for condensing the incident light on the exit surface or in the vicinity thereof. If the incident surface does not have such a function, the element itself may be provided with a reflecting surface for condensing incident light on the emitting surface or in the vicinity thereof.

【0010】本発明に係る近接場光発生素子、素子アレ
イによれば、集光レンズが不要となり、光軸調整や焦点
調整を省略でき、小型、軽量の光ヘッドを構成すること
ができる。
According to the near-field light generating element and the element array according to the present invention, a condenser lens is not required, the optical axis adjustment and the focus adjustment can be omitted, and a compact and lightweight optical head can be constructed.

【0011】さらに、本発明に係る製造方法は、光の入
射面と、この入射面から入射して集光された光を出射す
る出射面とを備えた素子本体を作製する工程と、前記出
射面に遮光膜を設ける工程と、前記入射面に光を入射さ
せ、前記出射面又はその近傍に集光された光のエネルギ
ーによって前記遮光膜に微小開口を形成する工程とを備
えている。
Further, in the manufacturing method according to the present invention, there is provided a process for producing an element main body having a light incident surface and an exit surface for emitting condensed light incident from the incident surface; A step of providing a light-shielding film on a surface; and a step of making light incident on the incident surface and forming a minute opening in the light-shielding film by energy of light condensed on the exit surface or in the vicinity thereof.

【0012】前記製造方法によれば、素子本体内で集光
された光のエネルギーによって近接場光を発生するため
の微小開口を形成するため、微小開口は正確な位置に形
成され、この素子又はアレイを光ヘッドとして組み立て
る際に、煩雑な光軸調整や焦点調整は不要となる。ま
た、光のエネルギーや照射時間等を調整すれば、微小開
口のサイズを任意に設定できる。
According to the manufacturing method, since the minute aperture for generating the near-field light by the energy of the light condensed in the element body is formed, the minute aperture is formed at an accurate position. When assembling the array as an optical head, complicated optical axis adjustment and focus adjustment are not required. Further, the size of the minute aperture can be arbitrarily set by adjusting light energy, irradiation time, and the like.

【0013】特に、素子本体を作製する工程として、素
材を再加熱して加圧成形する再加熱法を採用すれば、素
子本体を精度よく量産できるばかりか、使用する材料を
一般的な樹脂やガラス等広い範囲から選択することがで
きる。
In particular, if a reheating method in which a material is reheated and pressure-molded is adopted as a process for manufacturing the element body, not only can the element body be mass-produced with high accuracy, but also the material to be used can be made of a general resin or resin. It can be selected from a wide range such as glass.

【0014】[0014]

【発明の実施形態】以下、本発明に係る近接場光発生素
子、素子アレイ及びその製造方法の実施形態について、
添付図面を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a near-field light generating element, an element array, and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described.
This will be described with reference to the accompanying drawings.

【0015】(第1実施形態、図1参照)図1は素子ア
レイの製造方法の第1実施形態を示す。まず、レンズア
レイ本体10を再加熱法によって作製する(図1(A)
参照)。ここでは、ランタンシリカ系ガラスを用いて得
ようとするレンズアレイ本体10に大まかに類似したガ
ラス素材10’を用意し、このガラス素材10’を石英
管15内で上金型16及び下金型17で加圧形成した。
上金型16の対向面は平面に、下金型17の対向面はレ
ンズ形状に、それぞれシリコンカーバイドを鏡面研摩加
工して精密に仕上げられている。
FIG. 1 shows a first embodiment of a method for manufacturing an element array. First, the lens array body 10 is manufactured by a reheating method (FIG. 1A).
reference). Here, a glass material 10 'roughly similar to the lens array body 10 to be obtained by using lanthanum silica glass is prepared, and this glass material 10' is placed in a quartz tube 15 in an upper mold 16 and a lower mold. Pressing was performed at 17.
The facing surface of the upper mold 16 is a flat surface, and the facing surface of the lower mold 17 is a lens shape, and each is precisely finished by mirror polishing silicon carbide.

【0016】再加熱法による成形は、窒素ガス雰囲気中
で670℃に加熱し、30秒間加圧することによって行
い、入射面11の曲率半径が0.5mm、厚さ0.8m
mのレンズアレイ本体10を得た。入射面11の焦点は
平面に成形された出射面12上に設定されている。
The molding by the reheating method is performed by heating to 670 ° C. in a nitrogen gas atmosphere and pressurizing for 30 seconds, so that the incidence surface 11 has a radius of curvature of 0.5 mm and a thickness of 0.8 m.
m lens array body 10 was obtained. The focal point of the entrance surface 11 is set on the exit surface 12 formed into a plane.

【0017】次に、レンズアレイ本体10の出射面12
上に、アルミニウムを真空蒸着法によって1000オン
グストロームの厚さに成膜し、遮光膜13を設けた(図
1(B)参照)。
Next, the emission surface 12 of the lens array body 10
A film of aluminum was formed thereon to a thickness of 1000 angstroms by a vacuum evaporation method, and a light-shielding film 13 was provided (see FIG. 1B).

【0018】その後、レンズアレイ本体10の入射面1
1に、波長633nmのレーザ光を出力10mWで5分
間照射した。レーザ光は入射面11で集光され、出射面
12で焦点を結び、遮光膜13に微小開口13aが形成
されることになる(図1(C)参照)。
Thereafter, the entrance surface 1 of the lens array body 10
1 was irradiated with a laser beam having a wavelength of 633 nm at an output of 10 mW for 5 minutes. The laser light is condensed on the incident surface 11 and focused on the emission surface 12, so that a minute opening 13a is formed in the light shielding film 13 (see FIG. 1C).

【0019】形成された微小開口13aのサイズは、電
子顕微鏡で観察したところ、直径0.5μmであった。
また、この微小開口13aから近接場光が浸み出ている
ことが確認された。近接場光の確認は、微小開口13a
から50nmの位置に配置したフォトマルチプライヤ
(光電子増幅管)の出力により行った。
The size of the formed small opening 13a was 0.5 μm in diameter when observed by an electron microscope.
Further, it was confirmed that near-field light was seeping out from the minute opening 13a. Confirmation of the near-field light is performed by the minute aperture 13a.
The measurement was performed with the output of a photomultiplier (photoelectron amplifier) arranged at a position of 50 nm from.

【0020】(第2実施形態、図2参照)図2は素子ア
レイの製造方法の第2実施形態を示す。まず、レンズア
レイ本体20を再加熱法によって作製する(図2(A)
参照)。ここでは、鉛シリカ系フリントガラスを用いて
平板状のガラス素材20’を用意し、このガラス素材2
0’を石英管25内で上金型26及び下金型27で加圧
成形した。上金型26の対向面は平面に、下金型27の
対向面はレンズ形状に、それぞれステンレス304にダ
イヤモンドライクカーボンを成膜して精密に仕上げられ
ている。
FIG. 2 shows a second embodiment of a method for manufacturing an element array. First, the lens array body 20 is manufactured by a reheating method (FIG. 2A).
reference). Here, a flat glass material 20 ′ is prepared using lead silica-based flint glass, and this glass material 2 ′ is prepared.
0 ′ was press-formed in a quartz tube 25 with an upper mold 26 and a lower mold 27. The facing surface of the upper mold 26 is a flat surface, and the facing surface of the lower mold 27 is in a lens shape.

【0021】再加熱法による成形は、アルゴンガス雰囲
気中で470℃に加熱し、22秒間加圧することによっ
て行い、入射面21の曲率半径が0.3mm、厚さ0.
4mmのレンズアレイ本体20を得た。入射面21の焦
点は平面に成形された出射面22上に設定されている。
Forming by the reheating method is performed by heating to 470 ° C. in an argon gas atmosphere and pressurizing for 22 seconds. The radius of curvature of the entrance surface 21 is 0.3 mm and the thickness is 0.1 mm.
A 4 mm lens array body 20 was obtained. The focal point of the entrance surface 21 is set on the exit surface 22 formed into a plane.

【0022】次に、レンズアレイ本体20の出射面22
上に、クロムをスパッタリング法によって500オング
ストロームの厚さに成膜し、遮光膜23を設けた(図2
(B)参照)。
Next, the emission surface 22 of the lens array body 20
On top of this, chromium was deposited to a thickness of 500 angstroms by sputtering, and a light-shielding film 23 was provided (FIG. 2).
(B)).

【0023】その後、レンズアレイ本体20の入射面2
1に、波長488nmのレーザ光を出力50mWで10
分間照射した。レーザ光は入射面21で集光され、出射
面22で焦点を結び、遮光膜23に微小開口23aが形
成されることになる(図2(C)参照)。
Thereafter, the entrance surface 2 of the lens array body 20
1, a laser beam having a wavelength of 488 nm is output at 50 mW for 10 minutes.
Irradiated for minutes. The laser light is condensed on the incident surface 21 and is focused on the exit surface 22 to form a minute opening 23a in the light shielding film 23 (see FIG. 2C).

【0024】形成された微小開口23aのサイズは、電
子顕微鏡で観察したところ、直径0.3μmであった。
また、この微小開口23aから近接場光が浸み出ている
ことが確認された。近接場光の確認は、微小開口23a
から30nmの位置に配置したフォトマルチプライヤ
(光電子増幅管)の出力により行った。
The size of the formed fine opening 23a was 0.3 μm in diameter when observed with an electron microscope.
Further, it was confirmed that near-field light was seeping out from the minute opening 23a. Confirmation of the near-field light is performed by the minute aperture 23a.
The measurement was performed with the output of a photomultiplier (photoelectron amplification tube) arranged at a position of 30 nm from.

【0025】(第3実施形態、図3参照)図3は第3実
施形態としての近接場光発生素子を示す。この素子は高
屈折率物質からなるレンズ本体30に、入射面31、出
射面32、内面反射面33を形成し、出射面32に遮光
膜34を設け、内面反射面33に光反射膜35を設けた
ものである。入射面31と出射面32はそれぞれ平面で
あり、内面反射面33は先端Pを頂点とする回転放物面
である。
FIG. 3 shows a near-field light generating element according to a third embodiment. In this element, an entrance surface 31, an exit surface 32, and an internal reflection surface 33 are formed on a lens body 30 made of a high refractive index substance, a light shielding film 34 is provided on the exit surface 32, and a light reflection film 35 is provided on the internal reflection surface 33. It is provided. The entrance surface 31 and the exit surface 32 are planes, respectively, and the internal reflection surface 33 is a paraboloid of revolution with the tip P as the vertex.

【0026】レンズ本体30はチタンシリカ系ガラス
(ミノルタ株式会社製SFS57等)からなり、前記第
1、第2実施形態と同様の再加熱法によって加圧成形し
た。遮光膜34はアルミニウムをスパッタ法によって厚
さ500オングストロームに成膜したものである。光反
射膜35は銀を真空蒸着法によって厚さ1000オング
ストロームに成膜したものである。なお、膜34,35
は同じ材料であってもよいし、また同じ手法で成膜して
もよい。
The lens body 30 is made of a titanium-silica glass (SFS57 manufactured by Minolta Co., Ltd.), and is molded under pressure by the same reheating method as in the first and second embodiments. The light-shielding film 34 is formed by sputtering aluminum to a thickness of 500 angstroms. The light reflection film 35 is formed by depositing silver to a thickness of 1000 angstroms by a vacuum evaporation method. The films 34 and 35
May be the same material or may be formed by the same technique.

【0027】遮光膜34には微小開口34aが形成され
ている。その形成方法は、前記第1、第2実施形態と同
様に、入射面31にレーザ光を照射して行う。レーザ光
は入射面31に対して垂直に入射し、反射面33で反射
して出射面32で焦点を結び、遮光膜34に微小開口3
4aが形成されることになる。この微小開口34aから
近接場光が浸み出す。
The light shielding film 34 has a minute opening 34a. The formation method is performed by irradiating the incident surface 31 with laser light, as in the first and second embodiments. The laser beam enters perpendicularly to the incident surface 31, is reflected by the reflecting surface 33 and is focused on the emitting surface 32,
4a will be formed. Near-field light seeps out of the minute opening 34a.

【0028】(光ヘッドとしての使用)前述した素子ア
レイ及び素子は近接場光を利用した高密度光記録媒体へ
の記録/読取り用の光ヘッドとして使用される。この場
合、近接場光を発生させる入射光は前記微小開口を形成
する際に使用したレーザ光と同じものか、別のものが使
用される。通常、微小開口を形成する際には記録/読取
り用の光よりも強度の強いレーザ光を使用することにな
る。両者で波長の異なる光を使用することもあり得る。
(Use as Optical Head) The above-described element array and element are used as an optical head for recording / reading on a high-density optical recording medium utilizing near-field light. In this case, the incident light for generating the near-field light is the same as or different from the laser light used for forming the minute aperture. Usually, when forming the minute aperture, a laser beam having a higher intensity than the recording / reading light is used. Both may use light having different wavelengths.

【0029】また、微小開口の大きさは、記録/読取り
のために使用される光の波長以下であることが好まし
い。
It is preferable that the size of the minute aperture is smaller than the wavelength of light used for recording / reading.

【0030】前記各実施形態として示した素子アレイ、
素子にあっては、素子自体の集光作用によって微小開口
を形成したため、記録/読取り時に入射した光が確実に
微小開口に集光され、集光レンズが不要になると共に、
集光レンズとの光軸調整や焦点調整が不要になる。従っ
て、光ヘッドを小型、軽量化でき、組み立て性が良好に
なる利点を有している。
The element array shown in each of the above embodiments,
In the element, the minute aperture is formed by the light-condensing action of the element itself, so that light incident upon recording / reading is surely focused on the minute aperture, and a condenser lens is not required.
There is no need to adjust the optical axis or focus with the condenser lens. Therefore, there is an advantage that the optical head can be reduced in size and weight and the assemblability can be improved.

【0031】また、前記出射面12,22,32が平面
とされているため、成形が容易であると共に、スライダ
式(空気浮上式)の光ヘッドとして好適である。
Further, since the emission surfaces 12, 22, 32 are flat, it is easy to mold and is suitable as a slider type (air floating type) optical head.

【0032】(材料及び他の製法)本発明における製造
方法は、レンズブランクから所定形状のレンズ本体を成
形し、そのレンズ本体を用いて光を集光し、遮光膜に微
小開口を形成することを特徴としている。従って、レン
ズの材料は光硬化型樹脂に限定されない。例えば、アク
リル、ポリカーボネイト、塩化ビニル、スチロール等の
一般的な透明樹脂や、鉛シリカ系フリントガラス、ラン
タンシリカ系クラウンガラス、チタンシリカ系ガラス、
ホウ素シリカ系ガラス等のガラス材を使用できる。即
ち、レンズを成形できる材料から幅広く選択することが
できる。特に、レンズ成形に再加熱法を使用すれば、精
度よく量産が可能であるばかりか、複数のレンズを有す
るアレイの成形が容易である。
(Materials and Other Manufacturing Methods) In the manufacturing method of the present invention, a lens body having a predetermined shape is formed from a lens blank, light is condensed using the lens body, and a minute opening is formed in the light shielding film. It is characterized by. Therefore, the material of the lens is not limited to the photocurable resin. For example, acrylic, polycarbonate, vinyl chloride, general transparent resins such as styrene, lead silica-based flint glass, lanthanum silica-based crown glass, titanium silica-based glass,
A glass material such as a boron silica-based glass can be used. That is, a wide range of materials from which the lens can be formed can be selected. In particular, if a reheating method is used for lens molding, mass production can be performed with high accuracy, and an array having a plurality of lenses can be easily molded.

【0033】遮光膜としては、使用する光を透過させな
い条件を満たせば、種々の材料を使用することができ
る。微小開口の形成に可視領域の光を用いるのであれ
ば、クロム、アルミニウム、銀、銅、錫、鉛等比較的融
点の低い材料が有効であり、膜厚は500〜3000オ
ングストローム程度が好ましい。遮光膜としては遮光性
樹脂を材料とすることも可能である。しかし、金属材料
を使用した方が、薄くて均一な膜を得ることができる。
金属材料を使用する利点は、0.1〜0.3μm程度の
膜厚で十分な遮光性が得られること、真空蒸着法やスパ
ッタリング法等の薄膜技術で容易に均一厚さに成膜でき
ることである。
As the light-shielding film, various materials can be used as long as a condition that does not transmit light to be used is satisfied. If light in the visible region is used for forming the minute aperture, a material having a relatively low melting point, such as chromium, aluminum, silver, copper, tin, or lead, is effective, and the film thickness is preferably about 500 to 3,000 angstroms. As the light-shielding film, a light-shielding resin can be used as a material. However, a thin and uniform film can be obtained by using a metal material.
The advantage of using a metal material is that a sufficient light-shielding property can be obtained at a film thickness of about 0.1 to 0.3 μm, and a film can be easily formed to a uniform thickness by a thin film technique such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. is there.

【0034】遮光膜に微小開口を形成するのは、レンズ
を透過した光が遮光膜上で焦点を結び、そのエネルギー
で遮光膜が溶解することによる。この微小開口は明らか
にレンズの光軸と合致する。従って、微小開口面で最も
集光された光を得ることができ、記録/読取り時におけ
る光の利用効率が向上する。
The minute aperture is formed in the light-shielding film because light transmitted through the lens is focused on the light-shielding film and the energy dissolves the light-shielding film. This minute aperture clearly coincides with the optical axis of the lens. Therefore, the most concentrated light can be obtained on the minute aperture surface, and the light use efficiency at the time of recording / reading is improved.

【0035】なお、レンズの焦点が遮光膜の近傍に存在
する場合、つまり焦点位置が微小開口面から若干ずれて
いる場合もあり得る。この場合は、微小開口形成時の光
量を増加させればよい。但し、微小開口のサイズが若干
大きくなる。
It should be noted that the focal point of the lens may be located near the light-shielding film, that is, the focal position may be slightly shifted from the minute aperture surface. In this case, the light amount at the time of forming the minute opening may be increased. However, the size of the minute opening becomes slightly larger.

【0036】一方、レンズの出射面に光吸収膜を形成
し、その上に遮光膜を形成してもよい。光吸収膜が光エ
ネルギーを吸収し、微小開口を効率よく形成することが
できる。光吸収膜としては、酸化クロム、カーボン、カ
ーボン化合物、マンガン、シリコン等を使用でき、黒い
樹脂を使用することも可能である。
On the other hand, a light absorbing film may be formed on the exit surface of the lens, and a light shielding film may be formed thereon. The light-absorbing film absorbs light energy, and can form minute openings efficiently. As the light absorbing film, chromium oxide, carbon, a carbon compound, manganese, silicon, or the like can be used, and a black resin can also be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態である製造方法の説明
図。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施形態である製造方法の説明
図。
FIG. 2 is an explanatory view of a manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施形態である近接場光発生素子
の断面図。
FIG. 3 is a sectional view of a near-field light generating element according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,20…レンズアレイ本体 11,21…入射面 12,22…出射面 13,23…遮光膜 13a,23a…微小開口 30…レンズ本体 31…入射面 32…出射面 33…反射面 34…遮光膜 34a…微小開口 10, 20 lens array body 11, 21 entrance surface 12, 22 emission surface 13, 23 light-shielding film 13a, 23a minute aperture 30 lens body 31 incident surface 32 emission surface 33 reflective surface 34 light-shielding Film 34a: minute aperture

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光の入射面と、この入射面から入射して
集光された光を出射する出射面とを備え、 前記出射面に設けられた遮光膜に近接場光を発生させる
微小開口を有すること、 を特徴とする近接場光発生素子。
1. A small aperture for generating near-field light in a light-shielding film provided on a light-emitting surface, comprising: a light-incident surface; and an emission surface for emitting condensed light incident from the incident surface. A near-field light generating element.
【請求項2】 請求項1記載の近接場光発生素子が複数
個一体的に並設されていることを特徴とする素子アレ
イ。
2. An element array, wherein a plurality of near-field light generating elements according to claim 1 are integrally provided side by side.
【請求項3】 前記入射面は、入射したコリメート光又
は発散光を前記出射面又はその近傍に集光させる曲率を
有することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の近
接場光発生素子又は素子アレイ。
3. The near-field light generating element according to claim 1, wherein the incident surface has a curvature for converging the incident collimated light or divergent light on the light exit surface or in the vicinity thereof. Or an element array.
【請求項4】 さらに入射したコリメート光又は発散光
を反射して前記出射面又はその近傍に集光させる反射面
を備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の
近接場光発生素子又は素子アレイ。
4. The near-field light generating device according to claim 1, further comprising a reflecting surface for reflecting the incident collimated light or divergent light and condensing the light on the light exit surface or in the vicinity thereof. Element or element array.
【請求項5】 前記出射面は平面であることを特徴とす
る請求項1又は請求項2記載の近接場光発生素子又は素
子アレイ。
5. The near-field light generating element or element array according to claim 1, wherein the emission surface is a plane.
【請求項6】 前記遮光膜は前記出射面に光吸収膜を介
して設けられていることを特徴とする請求項1又は請求
項2記載の近接場光発生素子又は素子アレイ。
6. The near-field light generating element or element array according to claim 1, wherein the light-shielding film is provided on the emission surface via a light absorbing film.
【請求項7】 前記遮光膜は金属材料からなることを特
徴とする請求項1又は請求項2記載の近接場光発生素子
又は素子アレイ。
7. The near-field light generating element or element array according to claim 1, wherein the light-shielding film is made of a metal material.
【請求項8】 前記微小開口の大きさは、記録及び/又
は読取りのために使用される光の波長以下であることを
特徴とする請求項1又は請求項2記載の近接場光発生素
子又は素子アレイ。
8. The near-field light generating element according to claim 1, wherein the size of the minute aperture is equal to or smaller than a wavelength of light used for recording and / or reading. Element array.
【請求項9】 光の入射面と、この入射面から入射して
集光された光を出射する出射面とを備えた素子本体を作
製する工程と、 前記出射面に遮光膜を設ける工程と、 前記入射面に光を入射させ、前記出射面又はその近傍に
集光された光のエネルギーによって前記遮光膜に微小開
口を形成する工程と、 を備えたことを特徴とする近接場光発生素子又は素子ア
レイの製造方法。
9. A step of fabricating an element body having a light incident surface and an exit surface for emitting condensed light incident from the incident surface; and providing a light shielding film on the exit surface. A step of causing light to enter the incident surface and forming a minute aperture in the light-shielding film by energy of light condensed on the exit surface or in the vicinity thereof. Alternatively, a method for manufacturing an element array.
【請求項10】 前記素子本体を作製する工程は、素材
を再加熱して加圧成形することを特徴とする請求項9記
載の製造方法。
10. The method according to claim 9, wherein in the step of manufacturing the element body, the material is reheated and pressure-formed.
【請求項11】 前記出射面に光吸収膜を設け、該光吸
収膜の上に前記遮光膜を設けることを特徴とする請求項
9又は請求項10記載の製造方法。
11. The manufacturing method according to claim 9, wherein a light absorbing film is provided on the emission surface, and the light shielding film is provided on the light absorbing film.
【請求項12】 前記微小開口を形成する工程で使用す
る光は、記録及び/又は読取りのために使用する光とは
異なる光であることを特徴とする請求項9、請求項10
又は請求項11記載の製造方法。
12. The method according to claim 9, wherein the light used in the step of forming the minute aperture is different from the light used for recording and / or reading.
Or the manufacturing method according to claim 11.
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Cited By (2)

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US7016018B2 (en) 2003-06-04 2006-03-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005019982A (en) * 2003-06-04 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd Exposure device
US7016018B2 (en) 2003-06-04 2006-03-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device
US7133122B2 (en) 2003-06-04 2006-11-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure method
US7154584B2 (en) 2003-06-04 2006-12-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure device

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