JP2000223393A

JP2000223393A - 処理液供給装置

Info

Publication number: JP2000223393A
Application number: JP1955199A
Authority: JP
Inventors: Masaki Iwami; 優樹岩見
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1999-01-28
Filing date: 1999-01-28
Publication date: 2000-08-11
Anticipated expiration: 2019-01-28
Also published as: JP3628895B2

Abstract

(57)【要約】【課題】処理液供給源を破損することなくかつ容易に
貯留容器の空気抜きを行うことができる処理液供給装置
を提供する。【解決手段】トラップタンク１０には、供給ラインＬ
１が接続され、その他端は処理液供給源たるボトルＢＴ
に浸漬されている。トラップタンク１０に接続される供
給ラインＬ２には、供給バルブ２２が設けられている。
また、トラップタンク１０の上端に接続された排気ライ
ンＬ３にはポンプ３０が設けられている。通常は、供給
バルブ２２が開放され、供給ラインＬ１、Ｌ２をレジス
トが流れる。ボトルＢＴが空になると、トラップタンク
１０にエアが入り液面レベルが低下するため、供給バル
ブ２２を閉鎖するとともに、ボトルＢＴを新たなボトル
ＢＴに交換する。その後、ポンプ３０に吸引動作を行わ
せることにより、新たなボトルＢＴからレジストが吸引
され、トラップタンク１０内のエア抜きが行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光
ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称する）を処
理するためのフォトレジスト（以下、単に「レジスト」
とする）等の処理液を供給する処理液供給装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、上記基板に対しては、レ
ジスト塗布処理、露光処理、現像処理およびそれらに付
随する熱処理を順次行わせることにより一連の基板処理
を達成している。これらの処理のうちレジスト塗布処
理、現像処理は、吐出ノズルからレジストまたは現像液
を基板に吐出することによって行われる。そして、吐出
ノズルには処理液供給装置からレジストまたは現像液が
供給されるようにされている。

【０００３】図５は、従来の処理液供給装置の概略構成
を示す図である。この処理液供給装置は、レジストを供
給する装置であり、レジスト供給源たるボトルＢＴから
レジストを導き、吐出ノズルに供給する。ボトルＢＴの
レジストは、供給ラインＬ１、Ｌ２によって吐出ノズル
まで導かれる。

【０００４】供給ラインＬ１と供給ラインＬ２との間に
は、レジストを一時的に貯留するトラップタンク１１０
が設けられている。トラップタンク１１０に貯留された
レジストは、ポンプ１２０によって供給ラインＬ２内を
送られ、フィルタ１２１、供給バルブ１２２を介して図
外の吐出ノズルに供給される。

【０００５】また、トラップタンク１１０には、その上
部に排気ラインＬ３が接続されており、排気ラインＬ３
には排気バルブ１３０が設けられている。通常、図５の
処理液供給装置によって吐出ノズルにレジストが供給さ
れているときは、排気バルブ１３０は閉鎖されるととも
に、供給バルブ１２２は開放されている。

【０００６】レジストの供給を続けていると、やがて、
ボトルＢＴのレジストが空になる。すると、供給ライン
Ｌ１からエアを導入することとなり、トラップタンク１
１０内のレジストの液面レベル（液位）が低下する。液
面レベルが所定のライン以下にまで低下すると、その旨
を液面検知センサ１４０が検知し、アラームを発する。
この時点において、ボトルＢＴの交換を行うとともにト
ラップタンク１１０に流入したエアを抜く作業を行う。

【０００７】従来におけるエア抜きの作業の手順は以下
の通りである。すなわち、まず、空になったボトルＢＴ
を新しいボトルＢＴに交換する。次に、排気ラインＬ３
の排気バルブ１３０を開放するとともに、供給バルブ１
２２を閉鎖する。そして、新しいボトルＢＴに加圧用配
管ＰＬを接続する。

【０００８】加圧用配管ＰＬによってボトルＢＴ内が加
圧されると、ボトルＢＴのレジストが供給ラインＬ１を
介してトラップタンク１１０に圧送される。このとき
に、排気バルブ１３０が開放されるとともに、供給バル
ブ１２２が閉鎖されているため、トラップタンク１１０
内の液面レベルは上昇し、エアは排気ラインＬ３から送
り出され、ドレンに排気される。

【０００９】トラップタンク１１０内の液面レベルが最
適なラインまで上昇したことを作業者が目視にて確認す
ると、排気ラインＬ３の排気バルブ１３０を閉鎖し、ボ
トルＢＴに接続した加圧用配管ＰＬを外す。その後、供
給ラインＬ２の供給バルブ１２２を開放することによ
り、再び吐出ノズルへのレジスト供給が行われる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
処理液供給装置におけるエア抜き作業は、非常に煩雑な
ものであった。そして、ボトルＢＴはガラスまたは樹脂
で作製されている場合が多く、加圧用配管ＰＬを接続す
ることによってボトルＢＴ内を加圧すると、ボトルＢＴ
が破損する可能性があった。

【００１１】また、エア抜き作業時において、排気ライ
ンＬ３の排気バルブ１３０を閉鎖するタイミングは、作
業者の目視に頼っている。ここで、加圧用配管ＰＬから
の加圧は、工場内の加圧ラインを利用しており、他の装
置の動作状況によって、その圧力が微妙に変化する場合
がある。しかも、レジストの種類によって、その粘度が
異なるため、供給ラインＬ１を介してトラップタンク１
１０に圧送されるレジストの流量は必ずしも一定ではな
い。したがって、エア抜き作業時に、トラップタンク１
１０内の液面レベルを適当な位置に停止させるように排
気バルブ１３０を閉鎖することは非常に困難なことであ
った。

【００１２】排気バルブ１３０を閉鎖するタイミングが
遅れると、液面レベルが最適ラインを超えて上昇し、レ
ジストが排気ラインＬ３に流入してドレンに捨てられる
こととなる。レジストは非常に高価なものであるため、
少量であっても無駄にすることはコスト上昇という問題
に繋がる。

【００１３】逆に、排気バルブ１３０を閉鎖するタイミ
ングが早過ぎると、液面レベルが最適ラインまで到達せ
ず、トラップタンク１１０の上部に多くのエアが滞留し
たままとなる。レジストは空気に触れると変質するた
め、トラップタンク１１０内に多くのエアが滞留するこ
とは好ましくない。

【００１４】なお、これと同様の問題は、現像液を供給
する装置においても生ずる。

【００１５】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、処理液供給源を破損することなくかつ容易に貯
留容器の空気抜きを行うことができる処理液供給装置を
提供することを目的とする。

【００１６】また、本発明は、空気抜き作業時に、処理
液の液面レベルを最適ラインに正確に停止させることが
できる処理液供給装置を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明は、基板を処理するための処理液を
供給する処理液供給装置であって、(a) 処理液供給源か
ら前記処理液を導く処理液供給経路に設けられ、前記処
理液を一時貯留する貯留容器と、(b) 前記処理液供給経
路における前記貯留容器よりも下流に設けられた供給弁
と、(c) 前記貯留容器の上部に接続され、前記貯留容器
内に滞留した空気を排出する空気排出経路と、(d) 前記
空気排出経路に設けられ、前記貯留容器内を吸引する吸
引手段と、を備えている。

【００１８】また、請求項２の発明は、請求項１の発明
にかかる処理液供給装置において、(e) 前記貯留容器に
貯留された処理液の液面レベルを検知する検知手段と、
(f)前記吸引手段が前記貯留容器内を吸引する際、前記
貯留容器の所定レベル以上に前記処理液が貯留されたこ
とを前記検知手段が検知したときに、一定量の吸引をさ
らに行った後に吸引を停止するように前記吸引手段を制
御する制御手段と、をさらに備えている。

【００１９】また、請求項３の発明は、請求項１または
請求項２の発明にかかる処理液供給装置において、前記
吸引手段に、定められた量を吸引することができる定量
ポンプを含ませている。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明する。

【００２１】図１は、本発明にかかる処理液供給装置の
概略構成を示す図である。この処理液供給装置は、レジ
ストを供給する装置であり、交換可能に設置されたレジ
スト供給源たるボトルＢＴからレジストを導き、図外の
吐出ノズルに供給する。ボトルＢＴのレジストは、供給
ラインＬ１、Ｌ２によって吐出ノズルまで導かれる。

【００２２】ボトルＢＴからレジストを導く処理液供給
経路途中、すなわち供給ラインＬ１と供給ラインＬ２と
の間には、レジストを一時的に貯留するトラップタンク
１０が設けられている。図２は、トラップタンク１０を
示す断面図である。トラップタンク１０は、３つの出入
口を有する密閉容器である。３つの出入口としては、処
理液入口１１と、処理液出口１３と、通気口１２とが設
けられている。なお、トラップタンク１０の形状は図示
の形状に限定されるものではなく、処理液を貯留できる
ものであれば如何なる形状のものであってもよい。

【００２３】トラップタンク１０の側方には、トラップ
タンク１０に貯留されたレジストの液面レベルを検知す
るための液面検知センサ４０が設けられている。本実施
形態では、液面検知センサ４０として、非接触式の静電
容量センサを用いている。液面検知センサ４０は、トラ
ップタンク１０に貯留されたレジストの液面レベルが基
準レベルＴＨに達しているか否かを検知することができ
る。なお、液面検知センサ４０としては、静電容量セン
サに限らず、例えば発光素子と光電変換素子とを組み合
わせた光電式センサを用いてもよい。

【００２４】図１に戻り、トラップタンク１０よりも下
流側であって処理液出口１３に接続される供給ラインＬ
２には、ポンプ２０と、フィルタ２１と、供給バルブ２
２とが設けられている。ポンプ２０は、トラップタンク
１０に貯留されたレジストを図外の吐出ノズルまで送給
する駆動源としての役割を有する。また、フィルタ２１
は、供給ラインＬ２を流れるレジストを浄化する。トラ
ップタンク１０に貯留されたレジストは、ポンプ２０に
よって供給ラインＬ２内を送られ、フィルタ２１、供給
バルブ２２を介して吐出ノズルに供給される。

【００２５】トラップタンク１０よりも上流側であって
処理液入口１１には、供給ラインＬ１が接続されてい
る。供給ラインＬ１の他端は、ボトルＢＴのレジストに
浸漬されている。

【００２６】トラップタンク１０の上端部に設けられた
通気口１２には、トラップタンク１０内に滞留した空気
を排出する空気排出経路として排気ラインＬ３が接続さ
れている。本発明にかかる処理液供給装置においては、
トラップタンク１０内を吸引する吸引手段としてポンプ
３０を排気ラインＬ３に設けている。ポンプ３０は、定
められた量を吸引することができる定量ポンプであり、
例えばストロークが一定のシリンダー式ポンプや一定量
の回転によって一定量を吸引することができるスクリュ
ー型ポンプを採用することができる。

【００２７】また、本発明にかかる処理液供給装置は、
コンピュータを用いて構成される制御部５０を備えてい
る。制御部５０は、少なくともポンプ３０、液面検知セ
ンサ４０および供給バルブ２２と電気的に接続されてい
る。制御部５０は予め入力されたプログラムに従ってこ
れらの動作を制御するのであるが、その態様については
後述する。

【００２８】次に、上述の構成を有する処理液供給装置
の動作について説明する。通常処理時に、吐出ノズルに
レジストが供給されているときは、ポンプ３０が停止さ
れるとともに、供給ラインＬ２の供給バルブ２２は開放
されている。トラップタンク１０に貯留されているレジ
ストは、ポンプ２０によって供給ラインＬ２内を送ら
れ、フィルタ２１によって浄化された後、吐出ノズルに
供給される。トラップタンク１０は密閉容器であるた
め、吐出ノズルに供給されるのと等量のレジストが供給
ラインＬ１を介してボトルＢＴから吸引される。したが
って、ボトルＢＴに貯留されているレジストの液面レベ
ルは、通常処理時においては常に一定の高さに維持され
ている。

【００２９】処理が進行し、やがて、ボトルＢＴが空に
なると、供給ラインＬ１からエアを吸引するようにな
る。吸引されたエアは、トラップタンク１０内にて上方
に溜まるため、供給ラインＬ２から吐出ノズルに入り込
むおそれはない。しかし、供給ラインＬ１から吸引され
たエアの量が増加するに従って、トラップタンク１０に
貯留されたレジストの液面レベルは徐々に低下し、やが
て基準レベルＴＨよりも低くなる。レジストの液面レベ
ルが基準レベルＴＨよりも低くなると、液面検知センサ
４０がその旨を検知し、制御部５０に伝達するとともに
アラームを発する。

【００３０】アラームが発せられると、エア抜き作業が
行われる。なお、このときには、新たな基板の払い出し
は中断されるとともに、処理途中にある基板については
そのまま処理が続行される。従って、トラップタンク１
０における基準レベルＴＨは、少なくとも処理途中にあ
る基板の処理を続行できるだけのレジストを確保できる
位置に設定しておくのが好ましい。

【００３１】処理途中にある基板についてもレジスト塗
布処理が終了し、吐出ノズルに新たなレジストを供給す
る必要がなくなると、空のボトルＢＴを新たなボトルＢ
Ｔに交換するとともに、供給ラインＬ２の供給バルブ２
２を閉鎖する。そして、排気ラインＬ３に設けられたポ
ンプ３０を動作させることによってエア抜き作業を実行
する。

【００３２】ポンプ３０を動作させると、トラップタン
ク１０内に滞留していたエアがポンプ３０によって吸引
され、排気ラインＬ３を介して装置外に排出される。こ
のときに、供給バルブ２２は閉鎖されているため供給ラ
インＬ２からレジストが逆流することはなく、供給ライ
ンＬ１を介して新たなボトルＢＴからレジストが吸引さ
れる。なお、ポンプ３０を動作させるのと同時に、装置
がエア抜き作業状態にあることを制御部５０に認識させ
るようにしておく。

【００３３】トラップタンク１０内に滞留していたエア
が吸引・排出されるに従って、トラップタンク１０内の
レジストの液面レベルは徐々に上昇し、やがて基準レベ
ルＴＨに到達する。レジストの液面レベルが基準レベル
ＴＨに到達した時点にて、液面検知センサ４０がその旨
を検知し、制御部５０に伝達する。装置がエア抜き作業
状態にあることを認識中の制御部５０は、液面検知セン
サ４０からレジストの液面レベルが基準レベルＴＨに到
達した旨の信号を受けたときに、一定量の吸引をさらに
行った後に吸引を停止するようにポンプ３０を制御す
る。ここで、「一定量」とは、レジストが排気ラインＬ
３に流れ込むことはなく、かつトラップタンク１０の上
部に滞留するエアがレジスト変質の観点から許容限度以
下となるような最適ラインまでレジスト液面レベルが上
昇するような吸引量である。すなわち、ポンプ３０の吸
引停止後のレジストの液面レベルが最適ラインとなるよ
うに、「一定量」は定められるのである。

【００３４】ポンプ３０は、制御部５０からの指示に従
って一定量をさらに吸引した後、吸引動作を停止する。
その後、再び供給バルブ２２が開放され、トラップタン
ク１０に貯留されているレジストは、ポンプ２０によっ
て供給ラインＬ２内を送られ、吐出ノズルに供給されて
通常の処理が行われる。

【００３５】このようにすれば、エア抜き作業は、ポン
プ３０の吸引動作のみによって行われるため、従来に比
較して容易なものとなる。また、エア抜き作業は、ポン
プ３０の吸引動作によって行われ、ボトルＢＴを加圧す
る必要がなくなるため、ボトルＢＴを破損するおそれは
ない。

【００３６】また、制御部５０は、液面検知センサ４０
からレジストの液面レベルが基準レベルＴＨに到達した
旨の信号を受けたときに、一定量の吸引をさらに行った
後に吸引を停止するようにポンプ３０を制御しているた
め、上述の如く、その「一定量」を予め適切に設定して
おけば、吸引停止後のトラップタンク１０内のレジスト
の液面レベルを最適ラインとすることができる。換言す
れば、エア抜き作業時に、レジストの液面レベルを最適
ラインに正確に停止させることができるのである。

【００３７】従って、レジストが排気ラインＬ３から無
駄に排出されることが防止される。また、トラップタン
ク１０に滞留する空気は最小限にまで減らされるため、
レジストが必要以上に空気と接触することがなくなり、
レジストの変質を防止することができる。

【００３８】さらに、ポンプ３０は一定量を吸引するこ
とができる定量ポンプであるため、排気ラインＬ３内を
逆流させてトラップタンク１０およびボトルＢＴを加圧
するおそれはない。

【００３９】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、この発明は上記の例に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態の処理液供給装置は、レジストを
供給する装置であったが、これに代えて現像液を供給す
る装置としてもよい。

【００４０】また、ポンプ３０の吸引動作は制御部５０
からの制御により停止させていたが、これを手動によっ
て行ってもよい。ポンプ３０の吸引圧は、従来の加圧用
配管の圧力のように変化することがないため、トラップ
タンク１０内のレジストの液面レベルの上昇速度は概ね
一定であり、手動であっても比較的容易に最適ライン近
傍に液面レベルを停止させることができる。もっとも、
上記実施形態のように、制御部５０にポンプ３０を制御
させた方が、より正確に安定してレジストの液面レベル
を最適ラインに停止させることができる。

【００４１】また、上記実施形態においては、１本のボ
トルＢＴを順次交換する方式の装置としていたが、これ
を２本以上のボトルを接続しておき、それを適宜切り替
えて使用する方式の装置としても良い。図３は、２本以
上のボトルが接続される処理液供給装置を示す概略構成
図である。

【００４２】図３に示すように、この処理液供給装置
は、２つのトラップタンク１０ａ、１０ｂを備えてい
る。トラップタンク１０ａには、供給ラインＬ１ａが接
続され、供給ラインＬ１ａの他端はボトルＢＴ１に浸漬
されている。また、トラップタンク１０ａには、空気排
出経路たる排気ラインＬ３ａが接続され、排気ラインＬ
３ａには吸引手段たるポンプ３１が設けられている。さ
らに、トラップタンク１０ａの側方には、検知手段たる
液面検知センサ４１が設けられている。

【００４３】一方、トラップタンク１０ｂには、供給ラ
インＬ１ｂが接続され、供給ラインＬ１ｂの他端はボト
ルＢＴ２に浸漬されている。また、トラップタンク１０
ｂには、空気排出経路たる排気ラインＬ３ｂが接続さ
れ、排気ラインＬ３ｂには吸引手段たるポンプ３２が設
けられている。さらに、トラップタンク１０ｂの側方に
は、検知手段たる液面検知センサ４２が設けられてい
る。

【００４４】トラップタンク１０ａおよびトラップタン
ク１０ｂは、三方弁６０を介して供給ラインＬ２に接続
されている。供給ラインＬ２には、上記実施形態と同様
のポンプ２０、フィルタ２１、供給バルブ２２が設けら
れている。

【００４５】なお、トラップタンク１０ａ，１０ｂは上
記実施形態のトラップタンク１０と同じである。同様
に、ポンプ３１，３２はポンプ３０と、液面検知センサ
４１，４２は液面検知センサ４０と同じである。

【００４６】すなわち、図３の処理液供給装置において
は、上記実施形態のトラップタンク１０、ポンプ３０、
液面検知センサ４０からなる構成が三方弁６０を介して
２つ接続されていることになる。そして、ポンプ３１，
３２、液面検知センサ４１，４２および三方弁６０は制
御部５０に電気的に接続され、これによって制御されて
いる。

【００４７】このように構成すれば、例えば、ボトルＢ
Ｔ１が空になったときは、三方弁６０を切り替えて、ト
ラップタンク１０ｂ、すなわちボトルＢＴ２からレジス
トを吐出ノズルに供給することができる。従って、上記
実施形態のように、新たな基板の払い出しを中断する必
要はなく、通常の基板処理を連続して行うことができ
る。

【００４８】そして、三方弁６０を切り替えた後、空の
ボトルＢＴ１を新たなボトルＢＴ１に交換し、トラップ
タンク１０ａのエア抜き作業を行う。このときのエア抜
き作業は上記実施形態と同じである。すなわち、制御部
５０による制御の下、ポンプ３１の吸引動作によって行
う。但し、図３の処理液供給装置では、ボトルＢＴ２か
らの通常のレジスト供給が続行されているため、エア抜
き作業に時間的余裕を持たせることができる。

【００４９】その後、ボトルＢＴ２が空になったとき
は、三方弁６０を切り替え、トラップタンク１０ａ、す
なわちボトルＢＴ１からレジストを吐出ノズルに供給す
る。以下、同様の手順を繰り返すことにより、吐出ノズ
ルへのレジスト供給を中断することなく、上記実施形態
と同様の効果を得ることができる。

【００５０】図４も２本以上のボトルが接続される処理
液供給装置を示す概略構成図である。図４の処理液供給
装置は、図１の装置の供給ラインＬ１に三方弁７０を設
け、その分岐先をそれぞれボトルＢＴ１およびボトルＢ
Ｔ２としているのである。三方弁７０は制御部５０と電
気的に接続され、それによって制御されている。その他
の構成については、図１の処理液供給装置と同じであ
り、同一の符号を付している。

【００５１】図４の処理液供給装置において、例えば、
ボトルＢＴ１が空になると、三方弁７０を切り替えて、
ボトルＢＴ２からレジストを吐出ノズルに供給する。こ
のときに、レジストは吐出ノズルから連続的に吐出され
ているのではなく、一定の間隔にて断続的に吐出されて
いる。従って、その一定間隔に同期させて、断続的にボ
トルＢＴ２からレジストを供給すれば、図３の装置と同
様に、新たな基板の払い出しを中断する必要はなく、通
常の基板処理を連続して行うことができるのである。

【００５２】そして、吐出ノズルにレジストを供給する
必要のない時間を利用して、トラップタンク１０のエア
抜き作業を行う。具体的には、吐出ノズルにレジストを
供給する必要のない時間においては、供給バルブ２２を
閉鎖するとともに、三方弁７０をボトルＢＴ１に切り替
え、ポンプ３０を動作させる。一方、吐出ノズルにレジ
ストを供給するときは、供給バルブ２２を開放するとと
もに、三方弁７０をボトルＢＴ２に切り替え、ポンプ３
０を停止する。

【００５３】これを繰り返すことにより、トラップタン
ク１０のエア抜き作業が完了し、やがてボトルＢＴ２が
空になると、上記と逆の動作が繰り返される。

【００５４】このようにしても、図３の処理液供給装置
と同様に、吐出ノズルへのレジスト供給を中断すること
なく、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
但し、図４の処理液供給装置を図３の装置と比較する
と、機械的な構成は簡易なものとなるが、吐出ノズルに
レジスト供給を行うタイミングに同期させて各バルブお
よびポンプを頻繁に動作させる必要があり、制御部５０
の処理プログラムは複雑なものとならざるを得ない。

【００５５】なお、図３および図４の装置を３本以上の
ボトルが接続される処理液供給装置としても良いことは
勿論である。

【００５６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、貯留容器からの空気排出経路に吸引手段を設け
ているため、貯留容器の空気抜きを行うときに処理液供
給源を加圧する必要がなく、処理液供給源を破損するこ
となくかつ容易に貯留容器の空気抜きを行うことができ
る。

【００５７】また、請求項２の発明によれば、吸引手段
が貯留容器内を吸引する際、貯留容器の所定レベル以上
に処理液が貯留されたことを検知手段が検知したとき
に、一定量の吸引をさらに行った後に吸引を停止するよ
うに吸引手段を制御しているため、その一定量の吸引に
より処理液の液面レベルを最適ラインに正確に停止させ
ることができる。

【００５８】また、請求項３の発明によれば、吸引手段
に、定められた量を吸引することができる定量ポンプを
含ませているため、請求項１および請求項２の発明によ
る効果を容易に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる処理液供給装置の概略構成を示
す図である。

【図２】図１の処理液供給装置のトラップタンクを示す
断面図である。

【図３】本発明にかかる処理液供給装置の他の例の概略
構成を示す図である。

【図４】本発明にかかる処理液供給装置の他の例の概略
構成を示す図である。

【図５】従来の処理液供給装置の概略構成を示す図であ
る。

【符号の説明】

１０、１０ａ、１０ｂトラップタンク２２供給バルブ３０ポンプ４０、４１、４２液面検知センサ５０制御部ＢＴ、ＢＴ１、ＢＴ２ボトルＬ１、Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ２供給ラインＬ３、Ｌ３ａ、Ｌ３ｂ排気ライン

フロントページの続きＦターム(参考） 2H025 AB16 AB17 EA00 2H096 AA25 AA27 LA00 4F042 AA06 BA09 CA01 CA07 CB02 CB19 4G068 AA02 AB15 AC05 AD04 AD21 AD36 AE06 AF15 AF25 AF36 AF37 5F046 JA01 JA08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を処理するための処理液を供給する
処理液供給装置であって、 (a) 処理液供給源から前記処理液を導く処理液供給経路
に設けられ、前記処理液を一時貯留する貯留容器と、 (b) 前記処理液供給経路における前記貯留容器よりも下
流に設けられた供給弁と、 (c) 前記貯留容器の上部に接続され、前記貯留容器内に
滞留した空気を排出する空気排出経路と、 (d) 前記空気排出経路に設けられ、前記貯留容器内を吸
引する吸引手段と、を備えることを特徴とする処理液供
給装置。
【請求項２】請求項１記載の処理液供給装置におい
て、 (e) 前記貯留容器に貯留された処理液の液面レベルを検
知する検知手段と、 (f) 前記吸引手段が前記貯留容器内を吸引する際、前記
貯留容器の所定レベル以上に前記処理液が貯留されたこ
とを前記検知手段が検知したときに、一定量の吸引をさ
らに行った後に吸引を停止するように前記吸引手段を制
御する制御手段と、をさらに備えることを特徴とする処
理液供給装置。
【請求項３】請求項１または請求項２記載の処理液供
給装置において、前記吸引手段は、定められた量を吸引することができる
定量ポンプを含むことを特徴とする処理液供給装置。