JP2000281863A - Resin composition and its cured material - Google Patents
Resin composition and its cured materialInfo
- Publication number
- JP2000281863A JP2000281863A JP11087920A JP8792099A JP2000281863A JP 2000281863 A JP2000281863 A JP 2000281863A JP 11087920 A JP11087920 A JP 11087920A JP 8792099 A JP8792099 A JP 8792099A JP 2000281863 A JP2000281863 A JP 2000281863A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- resin composition
- compound
- coating
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂組成物及びそ
の硬化物に関する。さらに詳しくは、優れた塗工性を有
し、かつ各種基材[例えば、プラスチック(ポリカ−ボ
ネ−ト、ポリメタクリレ−ト、ポリスチレン、ポリエス
テル、ポリオレフィン、エポキシ、メラミン、トリアセ
チルセルロ−ス、ABS樹脂、AS樹脂、ノルボルネン
系樹脂等)、金属、木材、紙、ガラス、スレ−ト等]の
表面に、硬度、耐擦傷性、低カール性、密着性、透明性
及び塗膜面の外観、特に塗膜面の外観、に優れた塗膜
(被膜)を形成し得る樹脂組成物並びにその硬化物に関
する。本発明の樹脂組成物及びその硬化物は、例えば、
プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶
素子、プラスチック容器、建築内装材としての床材、壁
材、人工大理石等の傷付き(擦傷)防止や汚染防止のた
めの保護コ−ティング材;各種基材の接着剤、シ−リン
グ材;印刷インクのバインダ−材等として好適に用いる
ことができる。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition and a cured product thereof. More specifically, it has excellent coatability and various substrates [for example, plastics (polycarbonate, polymethacrylate, polystyrene, polyester, polyolefin, epoxy, melamine, triacetyl cellulose, ABS resin) , AS resin, norbornene-based resin, etc.), metal, wood, paper, glass, slates, etc.], hardness, scratch resistance, low curl, adhesion, transparency and appearance of the coating surface, especially The present invention relates to a resin composition capable of forming a coating film (film) having excellent appearance and a cured product thereof. The resin composition of the present invention and a cured product thereof are, for example,
Plastic optical parts, touch panels, film-type liquid crystal elements, plastic containers, floor materials as building interior materials, wall materials, protective coating materials for preventing marring (scratching) and contamination of artificial marble; various base materials Adhesives, sealing materials, and binder materials for printing ink.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、各種基材表面の傷付き(擦傷)防
止や汚染防止のための保護コ−ティング材;各種基材の
接着剤、シ−リング材;印刷インクのバインダ−材とし
て、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、硬
度、耐擦傷性、低カール性、密着性、透明性及び塗膜面
の外観のいずれにも優れた被膜を形成し得る樹脂組成物
が求められている。これらの要求のうち耐擦傷性の改善
を目指して、それに含有させる粒子として、コロイダル
シリカを配合した材料が種々提案されている。例えば米
国特許第3,451,838号明細書及び米国特許第2,
404,357号明細書は、アルコキシシランの加水分
解物とコロイダルシリカを主成分とする組成物を、熱硬
化型のコ−ティング材料として用いることを開示してい
る。また、例えば、特公昭62−21815号公報は、
コロイダルシリカの表面をメタクリロキシシランで修飾
した粒子とアクリレ−トとの組成物を、光硬化型のコ−
ティング材料として用いることを開示している。これら
のコ−ティング材料の特徴は、シリカ粒子の表面を特定
の有機シラン、又は特定の条件で処理することによりコ
−ティング材料の性能を改善する点にある。しかしなが
ら、このようなコ−ティング材料は、樹脂組成物として
の優れた塗工性、並びに硬化被膜とした場合の優れた硬
度、耐擦傷性、低カ−ル性、密着性、透明性及び塗膜面
の外観の全てを必ずしも十分に満足するものではなかっ
た。特に、近年コーティングを施した製品の生産性向上
に伴い、生産ラインスピードの向上、塗膜乾燥時の送風
速度の増大、乾燥温度の上昇等の生産設備改善が実施さ
れ、これまでのコーティング材を用いた場合、風紋、ス
トリーク、塗りムラ、はじき等の塗膜面の外観不良が発
生する場合があった。2. Description of the Related Art In recent years, protective coating materials for preventing scratches (scratch) and contamination of various substrate surfaces; adhesives and sealing materials for various substrates; binder materials for printing inks; A resin that has excellent coating properties and is capable of forming a coating on the surface of various substrates that is excellent in all of hardness, scratch resistance, low curl, adhesion, transparency, and appearance of the coating surface There is a need for compositions. Among these requirements, various materials containing colloidal silica as particles to be contained therein have been proposed with the aim of improving scratch resistance. For example, U.S. Pat. No. 3,451,838 and U.S. Pat.
Japanese Patent No. 404,357 discloses that a composition mainly composed of a hydrolyzate of alkoxysilane and colloidal silica is used as a thermosetting coating material. Also, for example, Japanese Patent Publication No. Sho 62-21815,
A composition of acrylate and particles obtained by modifying the surface of colloidal silica with methacryloxysilane is coated with a photocurable core.
It is disclosed to be used as a coating material. The feature of these coating materials is that the surface of the silica particles is treated with a specific organosilane or specific conditions to improve the performance of the coating material. However, such a coating material has excellent coatability as a resin composition, and excellent hardness, scratch resistance, low curl, adhesion, transparency, and coating when formed into a cured film. Not all of the appearances of the film surface were necessarily satisfactory. In particular, with the improvement in productivity of coated products in recent years, improvements in production equipment such as improvement in production line speed, increase in air blowing speed during coating film drying, and increase in drying temperature have been implemented. When used, poor appearance of the coating surface such as wind ripples, streaks, uneven coating, and repelling may occur.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の問題
に鑑みてなされたものであり、優れた塗工性を有し、か
つ各種基材の表面に硬度、耐擦傷性、低カール性、密着
性、透明性及び塗膜面の外観、特に、風紋、ストリー
ク、塗りムラ、はじき等のない塗膜面外観に優れた被膜
を形成し得る樹脂組成物及びその樹脂組成物の硬化物を
提供することを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has excellent coating properties, and has hardness, abrasion resistance, and low curl properties on the surface of various substrates. Adhesiveness, transparency and appearance of the coating surface, particularly, a resin composition capable of forming a coating excellent in the appearance of the coating surface without wind ripples, streaks, coating unevenness, repelling and the like, and a cured product of the resin composition. The purpose is to provide.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため、鋭意研究した結果、(A)特定の元素
の酸化物粒子と、特定の基を含む特定有機化合物とを結
合させてなる粒子、(B)分子内に2以上の重合性不飽
和基を有する化合物、及び(C)相対蒸発速度の異なる
少なくとも2種以上の有機溶剤を含み、各有機溶剤の相
対蒸発速度の最大値と最小値との差が1.5以上である
混合溶剤を含有する樹脂組成物及びその硬化物によっ
て、上記諸特性を全て満足するものが得られることを見
出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、以下
の樹脂組成物及びその硬化物を提供するものである。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, (A) bonding oxide particles of a specific element with a specific organic compound containing a specific group. Particles comprising: (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule; and (C) at least two or more organic solvents having different relative evaporation rates. The present inventors have found that a resin composition containing a mixed solvent in which the difference between the maximum value and the minimum value is 1.5 or more and a cured product thereof can obtain one satisfying all the above-mentioned properties, and completed the present invention. . That is, the present invention provides the following resin compositions and cured products thereof.
【0005】[1](A)ケイ素、アルミニウム、ジル
コニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウ
ム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ば
れる少なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽
和基及び下記式(1)に示す基を含む特定有機化合物と
を結合させてなる粒子、(B)分子内に2以上の重合性
不飽和基を有する化合物、及び(C)相対蒸発速度の異
なる少なくとも2種以上の有機溶剤を含み、各有機溶剤
の相対蒸発速度の最大値と最小値との差が1.5以上で
ある混合溶剤を含有することを特徴とする樹脂組成物。[1] (A) oxide particles of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium, and a polymerizable unsaturated group; Particles formed by bonding to a specific organic compound containing a group represented by the following formula (1); (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule; and (C) at least two compounds having different relative evaporation rates. A resin composition comprising at least one kind of organic solvent, and a mixed solvent in which a difference between a maximum value and a minimum value of a relative evaporation rate of each organic solvent is 1.5 or more.
【0006】[0006]
【化1】 [式(1)中、Xは、NH、O(酸素原子)又はS(イ
オウ原子)を示し、Yは、O又はSを示す。]Embedded image [In the formula (1), X represents NH, O (oxygen atom) or S (sulfur atom), and Y represents O or S. ]
【0007】[2]前記特定有機化合物が、[−O−C
(=O)−NH−]基を含み、さらに、[−O−C(=
S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基
の少なくとも1つを含むものである前記[1]に記載の
樹脂組成物。[2] The specific organic compound is [-OC]
(= O) -NH-] group, and further contains [-OC (=
The resin composition according to the above [1], which contains at least one of an (S) -NH-] group and an [-SC (= O) -NH-] group.
【0008】[0008]
【化1】 [式(1)中、Xは、NH、O(酸素原子)又はS(イ
オウ原子)を示し、Yは、O又はSを示す。]Embedded image [In the formula (1), X represents NH, O (oxygen atom) or S (sulfur atom), and Y represents O or S. ]
【0009】[3]前記特定有機化合物が、シラノ−ル
基を有する化合物又は加水分解によってシラノ−ル基を
生成する化合物である前記[1]又は[2]に記載の樹
脂組成物。[3] The resin composition according to the above [1] or [2], wherein the specific organic compound is a compound having a silanol group or a compound which forms a silanol group by hydrolysis.
【0010】[4]前記混合溶剤(C)が、相対蒸発速
度が1.5以下の有機溶剤を含有する前記[1]〜
[3]のいずれかに記載の樹脂組成物。[4] The mixed solvent (C) contains an organic solvent having a relative evaporation rate of 1.5 or less.
The resin composition according to any one of [3].
【0011】[5]前記混合溶剤(C)中の有機溶剤の
うち相対蒸発速度の最大値及び最小値を有する有機溶剤
の含有量が、混合溶剤(C)を100重量%として、そ
れぞれ10重量%以上である[1]〜[4]のいずれか
に記載の樹脂組成物。[5] Among the organic solvents in the mixed solvent (C), the content of the organic solvent having the maximum value and the minimum value of the relative evaporation rate is 10% by weight based on 100% by weight of the mixed solvent (C). % Of the resin composition according to any one of [1] to [4].
【0012】[6]前記(A)、(B)及び(C)に加
えて、さらに(D)重合開始剤を含有する前記[1]〜
[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。[6] In addition to the above (A), (B) and (C), the above [1] to [D] further containing (D) a polymerization initiator.
The resin composition according to any one of [5].
【0013】[7]前記(D)重合開始剤が、(d)1
−ヒドロキシシクロヘキシル基を有するアリ−ルケトン
類及びN−モルフォリノ基を有するアリ−ルケトン類の
両方又はそのいずれかを含む放射線重合開始剤である前
記[6]に記載の樹脂組成物。なお、本発明で「放射
線」とは、赤外線、可視光線、紫外線、遠紫外線、X
線、電子線、α線、β線、γ線等を意味する。[7] The polymerization initiator (D) is (d) 1
The resin composition according to the above [6], which is a radiation polymerization initiator containing both or any of an aryl ketone having a hydroxycyclohexyl group and an aryl ketone having an N-morpholino group. In the present invention, “radiation” refers to infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, X rays.
Ray, electron beam, α ray, β ray, γ ray and the like.
【0014】[8]前記[1]〜[7]のいずれかに記
載の樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。[8] A cured product obtained by curing the resin composition according to any one of [1] to [7].
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の樹脂組成物及びそ
の硬化物の実施の形態を具体的に説明する。 I.樹脂組成物 本発明の樹脂組成物は、(A)特定の元素の酸化物粒子
と、特定の基を含む特定有機化合物とを結合させてなる
粒子(以下、「架橋性粒子(A)」ということがあ
る。)、(B)分子内に2以上の重合性不飽和基を有す
る化合物(以下、「化合物(B)」ということがあ
る。)、及び(C)相対蒸発速度の異なる少なくとも2
種以上の有機溶剤を含み、各有機溶剤の相対蒸発速度の
最大値と最小値との差が1.5以上である混合溶剤(以
下、「混合溶剤(C)」ということがある。)、並び
に、必要に応じ、(D)重合開始剤(例えば、(d)1
−ヒドロキシシクロヘキシル基を有するアリ−ルケトン
類及びN−モルフォリノ基を有するアリ−ルケトン類の
両方又はそのいずれかを含む放射線重合開始剤)を含有
することを特徴とするものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the resin composition of the present invention and a cured product thereof will be specifically described. I. Resin Composition The resin composition of the present invention comprises (A) particles obtained by bonding oxide particles of a specific element and a specific organic compound containing a specific group (hereinafter referred to as “crosslinkable particles (A)”). ), (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule (hereinafter sometimes referred to as “compound (B)”), and (C) at least two compounds having different relative evaporation rates.
A mixed solvent containing at least one kind of organic solvent and having a difference between the maximum value and the minimum value of the relative evaporation rate of each organic solvent of 1.5 or more (hereinafter sometimes referred to as “mixed solvent (C)”); And, if necessary, (D) a polymerization initiator (for example, (d) 1
A radiation polymerization initiator containing both or any of an aryl ketone having a hydroxycyclohexyl group and an aryl ketone having an N-morpholino group).
【0016】以下、本発明の樹脂組成物の各組成(配
合)成分について具体的に説明する。 1.架橋性粒子(A) 本発明に用いられる架橋性粒子(A)は、ケイ素、アル
ミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニ
ウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムより
なる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子
と、重合性不飽和基及び前記式(1)に示す基を含む特
定有機化合物とを結合させてなる架橋性粒子である。Hereinafter, each composition (blending) component of the resin composition of the present invention will be specifically described. 1. Crosslinkable particles (A) The crosslinkable particles (A) used in the present invention are formed by oxidation of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium. Cross-linkable particles obtained by bonding a product particle with a specific organic compound containing a polymerizable unsaturated group and a group represented by the formula (1).
【0017】(1)酸化物粒子 本発明に用いられる酸化物粒子は、得られる樹脂組成物
の硬化被膜の無色性の観点から、ケイ素、アルミニウ
ム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、
インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群
から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であ
る。(1) Oxide Particles The oxide particles used in the present invention are preferably silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, from the viewpoint of the colorlessness of the cured film of the obtained resin composition.
The oxide particles are at least one element selected from the group consisting of indium, tin, antimony, and cerium.
【0018】これらの酸化物としては、例えば、シリ
カ、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜
鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、イ
ンジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン及び酸
化セリウムを挙げることができる。中でも、高硬度の観
点から、シリカ、酸化アルミニウム、ジルコニア及び酸
化アンチモンが好ましい。これらは1種単独で又は2種
以上を組合わせて用いることができる。さらには、この
ような元素の酸化物粒子は、粉体状又は溶剤分散ゾルで
あることが好ましい。溶剤分散ゾルである場合、他の成
分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤
が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチ
ル、γ−ブチロラクトン等のエステル類;エチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルフォルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の
アミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、
イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ト
ルエン、キシレンが好ましい。Examples of these oxides include silica, aluminum oxide, zirconia, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide and cerium oxide. it can. Among them, silica, aluminum oxide, zirconia and antimony oxide are preferred from the viewpoint of high hardness. These can be used alone or in combination of two or more. Further, the oxide particles of such an element are preferably in the form of a powder or a solvent-dispersed sol. In the case of a solvent dispersion sol, the dispersion medium is preferably an organic solvent from the viewpoint of compatibility with other components and dispersibility. Examples of such an organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and γ-butyrolactone. Esters such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like can be mentioned. Among them, methanol,
Isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone,
Preferred are methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene and xylene.
【0019】酸化物粒子の数平均粒子径は、0.001
μm〜2μmが好ましく、0.001μm〜0.2μm
がさらに好ましく、0.001μm〜0.1μmが特に好
ましい。数平均粒子径が2μmを越えると、硬化物とし
たときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状
態が悪化する傾向がある。また、粒子の分散性を改良す
るために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよ
い。The number average particle diameter of the oxide particles is 0.001.
μm to 2 μm, preferably 0.001 μm to 0.2 μm
Is more preferable, and 0.001 μm to 0.1 μm is particularly preferable. If the number average particle size exceeds 2 μm, the transparency of the cured product tends to decrease, and the surface state of the coating tends to deteriorate. Various surfactants and amines may be added to improve the dispersibility of the particles.
【0020】ケイ素酸化物粒子(例えば、シリカ粒子)
として市販されている商品としては、例えば、コロイダ
ルシリカとして、日産化学工業(株)製 商品名:メタ
ノ−ルシリカゾル、IPA−ST、MEK−ST、NB
A−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−U
P、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−
C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等を
挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本ア
エロジル(株)製 商品名:アエロジル130、アエロ
ジル300、アエロジル380、アエロジルTT60
0、アエロジルOX50、旭硝子(株)製 商品名:シ
ルデックスH31、H32、H51、H52、H12
1、H122、日本シリカ工業(株)製 商品名:E2
20A、E220、富士シリシア(株)製 商品名:S
YLYSIA470、日本板硝子(株)製商品名:SG
フレ−ク等を挙げることができる。また、アルミナの水
分散品としては、日産化学工業(株)製 商品名:アルミ
ナゾル−100、−200、−520;アルミナのイソ
プロパノール分散品としては、住友大阪セメント(株)
製 商品名:AS−150I;アルミナのトルエン分散
品としては、住友大阪セメント(株)製 商品名:AS
−150T;アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品として
は、日産化学工業(株)製 商品名:セルナックス;アル
ミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜
鉛等の粉末及び溶剤分散品としては、シーアイ化成(株)
製 商品名:ナノテック;アンチモンドープ酸化スズの
水分散ゾルとしては、石原産業(株)製商品名:SN−1
00D;ITO粉末としては、三菱マテリアル(株)製の
製品;酸化セリウム水分散液としては、多木化学(株)製
商品名:ニードラール等を挙げることができる。酸化
物粒子の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、
繊維状、又は不定形状であり、好ましくは球状である。
酸化物粒子の比表面積(窒素を用いたBET比表面積測
定法による)は、好ましくは10〜1000m2/gで
あり、さらに好ましくは100〜500m2/gであ
る。これら酸化物粒子の使用形態は、乾燥状態の粉末、
又は水もしくは有機溶剤で分散した状態で用いることが
できる。例えば、上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当
業界に知られている微粒子状の酸化物粒子の分散液を直
接用いることができる。特に、硬化物に優れた透明性を
要求する用途においては酸化物の溶剤分散ゾルの利用が
好ましい。Silicon oxide particles (eg, silica particles)
As commercially available products, for example, as colloidal silica, Nissan Chemical Industries, Ltd. product name: methanol silica sol, IPA-ST, MEK-ST, NB
A-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-U
P, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-
C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, and the like. As the powdered silica, trade names: Aerosil 130, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil TT60 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
0, Aerosil OX50, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. Brand name: Sildex H31, H32, H51, H52, H12
1, H122, manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd. Product name: E2
20A, E220, manufactured by Fuji Silysia K.K.
YLYSIA470, manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd .: SG
Flakes and the like. Examples of the aqueous dispersion of alumina include alumina sol-100, -200, and -520 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .; and the dispersion of alumina with isopropanol includes Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
Trade name: AS-150I; As a toluene dispersion of alumina, trade name: AS manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
-150T; As an aqueous dispersion of zinc antimonate powder, Nissan Chemical Industry Co., Ltd. product name: Celnax; As a powder and solvent dispersion of alumina, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide and the like, C-I Kasei Co., Ltd.
Product name: Nanotech; antimony-doped tin oxide in water dispersion sol, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd .; product name: SN-1
00D; a product made by Mitsubishi Materials Corporation as the ITO powder; and a Neidral product name made by Taki Kagaku Co., Ltd. as the cerium oxide aqueous dispersion. The shape of the oxide particles is spherical, hollow, porous, rod-shaped, plate-shaped,
It is fibrous or irregular, preferably spherical.
The specific surface area of the oxide particles (based on a BET specific surface area measurement method using nitrogen) is preferably from 10 to 1000 m 2 / g, and more preferably from 100 to 500 m 2 / g. These oxide particles may be used in the form of dry powder,
Alternatively, it can be used in a state of being dispersed in water or an organic solvent. For example, a dispersion liquid of fine oxide particles known in the art as a solvent dispersion sol of the above oxide can be directly used. In particular, use of a solvent-dispersed sol of an oxide is preferred for applications requiring excellent transparency of the cured product.
【0021】(2)特定有機化合物 本発明に用いられる特定有機化合物は、分子内に、重合
性不飽和基及び前記式(1)に示す基を含む化合物であ
る。また、この化合物は、分子内にシラノ−ル基を有す
る化合物又は加水分解によってシラノ−ル基を生成する
化合物であることが好ましい。(2) Specific Organic Compound The specific organic compound used in the present invention is a compound containing a polymerizable unsaturated group and a group represented by the above formula (1) in the molecule. Further, this compound is preferably a compound having a silanol group in the molecule or a compound capable of generating a silanol group by hydrolysis.
【0022】重合性不飽和基 特定有機化合物に含まれる重合性不飽和基としては特に
制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチ
リル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエ−ト基、
アクリルアミド基を好適例として挙げることができる。
この重合性不飽和基は、活性ラジカル種により付加重合
をする構成単位である。Polymerizable unsaturated group The polymerizable unsaturated group contained in the specific organic compound is not particularly limited. Examples thereof include an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, a propenyl group, a butadienyl group, a styryl group, an ethynyl group, Cinnamoyl group, maleate group,
An acrylamide group can be mentioned as a preferred example.
This polymerizable unsaturated group is a structural unit that undergoes addition polymerization using an active radical species.
【0023】前記式(1)に示す基 特定有機化合物に含まれる前記式(1)に示す基[−X
−C(=Y)−NH−]は、具体的には、[−O−C
(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、
[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)
−NH−]、[−NH−C(=S)−NH−]、及び
[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの
基は、1種単独で又は2種以上を組合わせて用いること
ができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C
(=O)−NH−]基と、[−O−C(=S)−NH
−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくと
も1つとを併用することが好ましい。前記式(1)に示
す基[−X−C(=Y)−NH−]は、分子間において
水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした
場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等
の特性を付与せしめるものと考えられる。The group represented by the formula (1) The group represented by the formula (1) [—X
-C (= Y) -NH-] is, specifically, [-OC]
(= O) -NH-], [-OC (= S) -NH-],
[-SC (= O) -NH-], [-NH-C (= O)
-NH-], [-NH-C (= S) -NH-], and [-SC (= S) -NH-]. These groups can be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of thermal stability, [-OC
(= O) -NH-] group and [-OC (= S) -NH
It is preferable to use together with at least one of the-] group and the [-SC (= O) -NH-] group. The group [-XC (= Y) -NH-] represented by the above formula (1) generates an appropriate cohesive force due to hydrogen bonding between molecules, and when formed into a cured product, has excellent mechanical strength and group. It is considered that properties such as adhesion to the material and heat resistance are imparted.
【0024】シラノ−ル基又は加水分解によってシラ
ノ−ル基を生成する基 特定有機化合物は、分子内にシラノール基を有する化合
物(以下、「シラノール基含有化合物」ということがあ
る)又は加水分解によってシラノール基を生成する化合
物(以下、「シラノール基生成化合物」ということがあ
る)であることが好ましい。このようなシラノール基生
成化合物としては、ケイ素原子上にアルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子
等を有する化合物を挙げることができるが、ケイ素原子
上にアルコキシ基又はアリールオキシ基を含む化合物、
すなわち、アルコキシシリル基含有化合物又はアリール
オキシシリル基含有化合物が好ましい。シラノール基又
はシラノール基生成化合物のシラノール基生成部位は、
縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によっ
て、酸化物粒子と結合する構成単位である。Silanol group or group capable of forming silanol group by hydrolysis Specific organic compounds include compounds having a silanol group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as "silanol group-containing compound") or hydrolysis. It is preferably a compound that generates a silanol group (hereinafter sometimes referred to as a “silanol group-forming compound”). Examples of such a silanol group-forming compound include compounds having an alkoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, a halogen atom and the like on a silicon atom, and an alkoxy group or an aryloxy group on a silicon atom. A compound comprising
That is, an alkoxysilyl group-containing compound or an aryloxysilyl group-containing compound is preferable. The silanol group-generating site of the silanol group or the silanol group-generating compound,
It is a structural unit that bonds to the oxide particles by a condensation reaction or a condensation reaction that occurs following hydrolysis.
【0025】好ましい態様 特定有機化合物の好ましい具体例としては、例えば、下
記式(2)に示す化合物を挙げることができる。Preferred Embodiment Preferred specific examples of the specific organic compound include, for example, a compound represented by the following formula (2).
【0026】[0026]
【化2】 Embedded image
【0027】式(2)中、R1、R2は同一でも異なっ
ていてもよいが、水素原子又はC1からC8のアルキル
基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル
基等を挙げることができる。ここでmは1、2又は3で
ある。In the formula (2), R 1 and R 2 may be the same or different and each is a hydrogen atom or a C 1 to C 8 alkyl or aryl group, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl Octyl, phenyl, and xylyl groups. Here, m is 1, 2 or 3.
【0028】[(R1O)mR2 3-mSi−]で示され
る基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエ
トキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメ
トキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げる
ことができる。このような基のうち、トリメトキシシリ
ル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。Examples of the group represented by [(R 1 O) m R 2 3-m Si-], for example, trimethoxysilyl groups, triethoxysilyl group, triphenoxysilyl group, methyldimethoxysilyl group, dimethylmethoxysilyl And the like. Among these groups, a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group is preferred.
【0029】R3はC1からC12の脂肪族又は芳香族
構造を有する2価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環
状の構造を含んでいてもよい。そのような有機基として
は例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、
キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。
これらのうち好ましい例は、メチレン、プロピレン、シ
クロヘキシレン、フェニレン等である。R 3 is a divalent organic group having a C 1 to C 12 aliphatic or aromatic structure, and may have a chain, branched or cyclic structure. Such organic groups include, for example, methylene, ethylene, propylene, butylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene,
Xylylene, dodecamethylene and the like can be mentioned.
Preferred examples among these are methylene, propylene, cyclohexylene, phenylene and the like.
【0030】また、R4は2価の有機基であり、通常、
分子量14から1万、好ましくは、分子量76から50
0の2価の有機基の中から選ばれる。例えば、ヘキサメ
チレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリ
アルキレン基;シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の
脂環式又は多環式の2価の有機基;フェニレン、ナフチ
レン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の2価の芳香族
基;及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体
を挙げることができる。また、これら2価の有機基は炭
素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいても
よく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミ
ド結合、ポリカーボネート結合、さらには前記式(1)
に示す基を含むこともできる。R 4 is a divalent organic group.
Molecular weight 14 to 10,000, preferably molecular weight 76 to 50
It is selected from 0 divalent organic groups. For example, chain-like polyalkylene groups such as hexamethylene, octamethylene and dodecamethylene; alicyclic or polycyclic divalent organic groups such as cyclohexylene and norbornylene; divalent organic groups such as phenylene, naphthylene, biphenylene and polyphenylene Aromatic groups; and substituted alkyl and aryl groups thereof. In addition, these divalent organic groups may include an atomic group containing an element other than carbon and hydrogen atoms, and include a polyether bond, a polyester bond, a polyamide bond, a polycarbonate bond, and a compound represented by the formula (1).
May be included.
【0031】R5は(n+1)価の有機基であり、好ま
しくは鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和
炭化水素基の中から選ばれる。R 5 is an (n + 1) -valent organic group, and is preferably selected from a chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon group and an unsaturated hydrocarbon group.
【0032】Zは活性ラジカル種の存在下、分子間架橋
反応をする重合性不飽和基を分子中に有する1価の有機
基を示す。例えば、アクリロイル(オキシ)基、メタア
クリロイル(オキシ)基、ビニル(オキシ)基、プロペ
ニル(オキシ)基、ブタジエニル(オキシ)基、スチリ
ル(オキシ)基、エチニル(オキシ)基、シンナモイル
(オキシ)基、マレエート基、アクリルアミド基、メタ
アクリルアミド基等を挙げることができる。これらの中
でアクリロイル(オキシ)基及びメタアクリロイル(オ
キシ)基が好ましい。また、nは好ましくは1〜20の
正の整数であり、さらに好ましくは1〜10、特に好ま
しくは1〜5である。Z represents a monovalent organic group having a polymerizable unsaturated group in the molecule which undergoes an intermolecular crosslinking reaction in the presence of an active radical species. For example, acryloyl (oxy) group, methacryloyl (oxy) group, vinyl (oxy) group, propenyl (oxy) group, butadienyl (oxy) group, styryl (oxy) group, ethynyl (oxy) group, cinnamoyl (oxy) group , Maleate group, acrylamide group, methacrylamide group and the like. Among these, an acryloyl (oxy) group and a methacryloyl (oxy) group are preferred. Further, n is preferably a positive integer of 1 to 20, more preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 5.
【0033】本発明で用いられる特定有機化合物の合成
は、例えば、特開平9−100111号公報に記載され
た方法を用いることができる。すなわち、(イ)メルカ
プトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物
と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応に
より行うことができる。また、(ロ)分子中にアルコキ
シシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活
性水素含有重合性不飽和化合物との直接的反応により行
うことができる。さらに、(ハ)分子中に重合性不飽和
基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプト
アルコキシシラン又はアミノシランとの付加反応により
直接合成することもできる。For the synthesis of the specific organic compound used in the present invention, for example, a method described in JP-A-9-100111 can be used. That is, the reaction can be carried out by (a) an addition reaction of a mercaptoalkoxysilane, a polyisocyanate compound, and an active hydrogen group-containing polymerizable unsaturated compound. In addition, (b) the reaction can be carried out by a direct reaction between a compound having an alkoxysilyl group and an isocyanate group in the molecule and an active hydrogen-containing polymerizable unsaturated compound. Furthermore, (c) the compound having a polymerizable unsaturated group and an isocyanate group in a molecule and a mercaptoalkoxysilane or an aminosilane can be directly synthesized by an addition reaction.
【0034】前記式(2)に示す化合物を合成するため
には、これらの方法のうち(イ)が好適に用いられる。
より詳細には、例えば、 (a)法;まずメルカプトアルコキシシランとポリイソ
シアネート化合物とを反応させることで、分子中にアル
コキシシリル基、[−S−C(=O)−NH−]基及び
イソシアネート基を含む中間体を形成し、次に中間体中
に残存するイソシアネートに対してヒドロキシ基含有重
合性不飽和化合物を反応させて、この不飽和化合物を
[−O−C(=O)−NH−]基を介して結合させる方
法、 (b)法;まずポリイソシアネート化合物とヒドロキシ
基含有重合性不飽和化合物とを反応させることで分子中
に重合性不飽和基、[−O−C(=O)−NH−]基、
及びイソシアネート基を含む中間体を形成し、これにメ
ルカプトアルコキシシランを反応させてこのメルカプト
アルコキシシランを[−S−C(=O)−NH−]基を
介して結合させる方法、等を挙げることができる。さら
に両者の中では、マイケル付加反応による重合性不飽和
基の減少がない点で(a)法が好ましい。In order to synthesize the compound represented by the formula (2), (a) of these methods is suitably used.
More specifically, for example, the method (a): first reacting a mercaptoalkoxysilane with a polyisocyanate compound to form an alkoxysilyl group, a [—S—C (−O) —NH—] group and an isocyanate in the molecule. An intermediate containing a group is formed and then the isocyanate remaining in the intermediate is reacted with a hydroxy group-containing polymerizable unsaturated compound to convert the unsaturated compound into [-OC (= O) -NH A method of bonding via a-] group, method (b); a polyisocyanate compound and a hydroxy group-containing polymerizable unsaturated compound are first reacted to form a polymerizable unsaturated group, [-OC (= O) -NH-] group,
And forming an intermediate containing an isocyanate group, and reacting the intermediate with the mercaptoalkoxysilane to bond the mercaptoalkoxysilane via a [—S—C (= O) —NH—] group. Can be. Among them, the method (a) is preferable because there is no decrease in the polymerizable unsaturated group due to the Michael addition reaction.
【0035】前記式(2)に示す化合物の合成におい
て、イソシアネ−ト基との反応により[−S−C(=
O)−NH−]基を形成することができるアルコキシシ
ランの例としては、アルコキシシリル基とメルカプト基
を分子中にそれぞれ1個以上有する化合物を挙げること
ができる。このようなメルカプトアルコキシシランとし
ては、例えば、メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプ
トプロピルメチルジエトキシシラン、メルカプトプロピ
ルジメトキシメチルシラン、メルカプトプロピルメトキ
シジメチルシラン、メルカプトプロピルトリフェノキシ
シシラン、メルカプトプロピルトリブトキシシシラン等
を挙げることができる。これらの中では、メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリエ
トキシシランが好ましい。また、アミノ置換アルコキシ
シランとエポキシ基置換メルカプタンとの付加生成物、
エポキシシランとα,ω−ジメルカプト化合物との付加
生成物を利用することもできる。In the synthesis of the compound represented by the formula (2), the reaction with an isocyanate group results in [-SC (=
Examples of the alkoxysilane capable of forming the O) —NH—] group include compounds having one or more alkoxysilyl groups and one or more mercapto groups in the molecule. Examples of such mercaptoalkoxysilanes include, for example, mercaptopropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltriethoxysilane, mercaptopropylmethyldiethoxysilane, mercaptopropyldimethoxymethylsilane, mercaptopropylmethoxydimethylsilane, mercaptopropyltriphenoxysisilane, mercapto Propyl tributoxy silane can be exemplified. Of these, mercaptopropyltrimethoxysilane and mercaptopropyltriethoxysilane are preferred. Further, an addition product of an amino-substituted alkoxysilane and an epoxy-substituted mercaptan,
An addition product of an epoxysilane and an α, ω-dimercapto compound can also be used.
【0036】特定有機化合物を合成する際に用いられる
ポリイソシアネ−ト化合物としては鎖状飽和炭化水素、
環状飽和炭化水素、芳香族炭化水素で構成されるポリイ
ソシアネ−ト化合物の中から選ぶことができる。The polyisocyanate compound used in synthesizing the specific organic compound includes a chain saturated hydrocarbon,
It can be selected from polyisocyanate compounds composed of cyclic saturated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
【0037】このようなポリイソシアネ−ト化合物の例
としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネ−
ト、2,6−トリレンジイソシアネ−ト、1,3−キシリ
レンジイソシアネ−ト、1,4−キシリレンジイソシア
ネ−ト、1,5−ナフタレンジイソシアネ−ト、m−フ
ェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシア
ネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタ
ンジイソシアネ−ト、4,4’−ジフェニルメタンジイ
ソシアネ−ト、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシ
アネ−ト、4,4’−ビフェニレンジイソシアネ−ト、
1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソフォロンジイ
ソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソ
シアネア−ト)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネ−ト、ビス(2−イソシアネートエチル)
フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイ
ソシアネ−ト、4−ジフェニルプロパンジイソシアネ−
ト、リジンジイソシアネ−ト、水添ジフェニルメタンジ
イソシアネ−ト、1,3−ビス(イソシアネートメチ
ル)シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシ
アネ−ト、2,5(又は6)−ビス(イソシアネートメ
チル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン等を挙げるこ
とができる。これらの中で、2,4−トリレンジイソシ
アネ−ト、イソフォロンジイソシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシル
イソシアネア−ト)、1,3−ビス(イソシアネートメ
チル)シクロヘキサン、等が好ましい。これらは1種単
独で又は2種以上を組合わせて用いることができる。Examples of such polyisocyanate compounds include, for example, 2,4-tolylene diisocyanate
2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalenedi isocyanate, m-phenylene diisocyanate P-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate,
1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanate ethyl)
Fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyldiisocyanate, 4-diphenylpropanediisocyanate
, Lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, tetramethylxylylene diisocyanate, 2,5 (or 6) -bis (isocyanatomethyl ) -Bicyclo [2.2.1] heptane and the like. Among these, 2,4-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, and the like are preferable. These can be used alone or in combination of two or more.
【0038】特定有機化合物の合成において、前記ポリ
イソシアネ−ト化合物と付加反応により[−O−C(=
O)−NH−]基を介し結合できる活性水素含有重合性
不飽和化合物の例としては、分子内にイソシアネ−ト基
との付加反応により[−O−C(=O)−NH−]基を
形成できる活性水素原子を1個以上有し且つ重合性不飽
和基を1個以上含む化合物を挙げることができる。In the synthesis of the specific organic compound, the polyisocyanate compound is reacted with [-OC (=
Examples of the active hydrogen-containing polymerizable unsaturated compound that can be bonded via an O) —NH—] group include an [—O—C (= O) —NH—] group by an addition reaction with an isocyanate group in the molecule. A compound having at least one active hydrogen atom capable of forming a compound and having at least one polymerizable unsaturated group.
【0039】これらの活性水素含有重合性不飽和化合物
としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレ−ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ−
ト、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ−ト、2−
ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アク
リレ−ト、1,4−ブタンジオ−ルモノ(メタ)アクリ
レ−ト、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイル
フォスフェ−ト、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メ
タ)アクリレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルモノ(メ
タ)アクリレ−ト、ネオペンチルグリコ−ルモノ(メ
タ)アクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパンジ(メタ)
アクリレ−ト、トリメチロ−ルエタンジ(メタ)アクリ
レ−ト、ペンタエリスリト−ルトリ(メタ)アクリレ−
ト、ジペンタエリスルト−ルペンタ(メタ)アクリレ−
ト等を挙げることができる。また、アルキルグリシジル
エーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メ
タ)アクリレ−ト等のグリシジル基含有化合物と、(メ
タ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物を用
いることができる。これらの化合物の中では、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルト
リ(メタ)アクリレ−ト等が好ましい。これらの化合物
は1種単独で又は2種以上の混合物として用いることが
できる。Examples of these active hydrogen-containing polymerizable unsaturated compounds include, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acryl
2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate
Hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth)
Acrylate, trimethylolethanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate
G, dipentaerythritol penta (meth) acryle
And the like. Further, a compound obtained by an addition reaction of a glycidyl group-containing compound such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid can be used. Among these compounds, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and the like are preferable. These compounds can be used alone or as a mixture of two or more.
【0040】(3)架橋性粒子(A)の製造方法 本発明の架橋性粒子(A)の製造方法としては特に制限
はないが、例えば、前記酸化物粒子及び特定有機化合物
を反応させることを挙げることができる。酸化物粒子
は、通常の保管状態で粒子表面に吸着水として水分を含
むことが知られており、また、水酸化物、水和物等のシ
ラノール基生成化合物と反応する成分が少なくとも表面
にあると推定される。従って、架橋性粒子(A)製造時
においては、シラノール基生成化合物と酸化物粒子とを
混合し、加熱、攪拌処理することにより製造することも
可能である。なお、特定有機化合物が有するシラノール
基生成部位と、酸化物粒子とを効率よく結合させるた
め、反応は水の存在下で行われることが好ましい。ただ
し、特定有機化合物がシラノール基を有している場合は
水はなくてもよい。従って、この架橋性粒子(A)は、
酸化物粒子及び特定有機化合物を少なくとも混合する操
作を含む方法により製造することができる。(3) Method for Producing Crosslinkable Particles (A) The method for producing the crosslinkable particles (A) of the present invention is not particularly limited. Can be mentioned. Oxide particles are known to contain moisture as adsorbed water on the particle surface in a normal storage state, and at least a component that reacts with a silanol group-forming compound such as a hydroxide or a hydrate is present on the surface. It is estimated to be. Therefore, at the time of producing the crosslinkable particles (A), it is also possible to produce the mixture by mixing a silanol group-forming compound and oxide particles, followed by heating and stirring. Note that the reaction is preferably performed in the presence of water in order to efficiently combine the silanol group generation site of the specific organic compound with the oxide particles. However, when the specific organic compound has a silanol group, water may not be necessary. Therefore, the crosslinkable particles (A)
It can be manufactured by a method including an operation of mixing at least the oxide particles and the specific organic compound.
【0041】以下、架橋性粒子(A)の製造方法につい
て詳細に説明する。酸化物粒子への特定有機化合物の結
合量は、架橋性粒子(A)(酸化物粒子及び特定有機化
合物の合計)を100重量%として、好ましくは0.0
1重量%以上であり、さらに好ましくは0.1重量%以
上、特に好ましくは1重量%以上である。酸化物粒子に
結合した特定有機化合物の結合量が0.01重量%未満
であると、組成物中における架橋性粒子(A)の分散性
が十分でなく、得られる硬化物の透明性、耐擦傷性が十
分でなくなる場合がある。また、架橋性粒子(A)製造
時の原料中の酸化物粒子の配合割合は、前述のように、
好ましくは5〜99重量%であり、さらに好ましくは1
0〜98重量%である。Hereinafter, a method for producing the crosslinkable particles (A) will be described in detail. The amount of the specific organic compound bonded to the oxide particles is preferably 0.0% with respect to 100% by weight of the crosslinkable particles (A) (total of the oxide particles and the specific organic compound).
It is at least 1% by weight, more preferably at least 0.1% by weight, particularly preferably at least 1% by weight. When the amount of the specific organic compound bonded to the oxide particles is less than 0.01% by weight, the dispersibility of the crosslinkable particles (A) in the composition is not sufficient, and the transparency and the resistance of the obtained cured product are poor. The abrasion may not be sufficient. In addition, the mixing ratio of the oxide particles in the raw material at the time of producing the crosslinkable particles (A) is
Preferably it is 5 to 99% by weight, more preferably 1 to 99% by weight.
0 to 98% by weight.
【0042】以下、シラノール基生成化合物として、前
記式(2)に示すアルコキシシリル基含有化合物(アル
コキシシラン化合物)を例にとり、架橋性粒子(A)の
製造方法をさらに詳細に説明する。架橋性粒子(A)製
造時においてアルコキシシラン化合物の加水分解で消費
される水の量は、1分子中のケイ素上のアルコキシ基の
少なくとも1個が加水分解される量であればよい。好ま
しくは加水分解の際に添加、又は存在する水の量は、ケ
イ素上の全アルコキシ基のモル数に対し3分の1以上で
あり、さらに好ましくは全アルコキシ基のモル数の2分
の1以上3倍未満である。完全に水分の存在しない条件
下でアルコキシシラン化合物と酸化物粒子とを混合して
得られる生成物は、酸化物粒子表面にアルコキシシラン
化合物が物理吸着した生成物であり、そのような成分か
ら構成される架橋性粒子(A)を含有する組成物の硬化
物においては、高硬度及び耐擦傷性の発現の効果は低
い。Hereinafter, the method for producing the crosslinkable particles (A) will be described in more detail by taking the alkoxysilyl group-containing compound (alkoxysilane compound) represented by the formula (2) as an example of the silanol group-forming compound. The amount of water consumed in the hydrolysis of the alkoxysilane compound during the production of the crosslinkable particles (A) may be such that at least one of the alkoxy groups on silicon in one molecule is hydrolyzed. Preferably, the amount of water added or present during the hydrolysis is at least one third of the number of moles of all alkoxy groups on silicon, and more preferably one half of the number of moles of all alkoxy groups. More than three times. The product obtained by mixing the alkoxysilane compound and the oxide particles under completely water-free conditions is a product in which the alkoxysilane compound is physically adsorbed on the surface of the oxide particles, and is composed of such components. In the cured product of the composition containing the crosslinkable particles (A) to be obtained, the effect of exhibiting high hardness and scratch resistance is low.
【0043】架橋性粒子(A)製造時においては、前記
アルコキシシラン化合物を別途加水分解操作に付した
後、これと粉体酸化物粒子又は酸化物粒子の溶剤分散ゾ
ルを混合し、加熱、攪拌操作を行う方法;又は、前記ア
ルコキシシラン化合物の加水分解を酸化物粒子の存在下
で行う方法;また、他の成分、例えば、(D)重合開始
剤等の存在下、酸化物粒子の表面処理を行う方法等を選
ぶことができる。この中では、前記アルコキシシラン化
合物の加水分解を酸化物粒子の存在下で行う方法が好ま
しい。架橋性粒子(A)製造時、その温度は、好ましく
は0℃以上150℃以下であり、さらに好ましくは20
℃以上100℃以下である。また、処理時間は通常5分
から24時間の範囲である。In producing the crosslinkable particles (A), the alkoxysilane compound is separately subjected to a hydrolysis operation, and then mixed with powdered oxide particles or a solvent dispersion sol of oxide particles, and heated and stirred. A method of performing an operation; or a method of performing hydrolysis of the alkoxysilane compound in the presence of oxide particles; and a surface treatment of the oxide particles in the presence of another component such as (D) a polymerization initiator. Can be selected. Among these, a method in which the alkoxysilane compound is hydrolyzed in the presence of oxide particles is preferable. During the production of the crosslinkable particles (A), the temperature is preferably from 0 ° C. to 150 ° C., more preferably 20 ° C.
It is not less than 100 ° C and not more than 100 ° C. Processing times are typically in the range of 5 minutes to 24 hours.
【0044】架橋性粒子(A)製造時において、粉体状
の酸化物粉体を用いる場合、前記アルコキシシラン化合
物との反応を円滑に且つ均一に行わせることを目的とし
て、有機溶剤を添加してもよい。そのような有機溶剤と
しては、前記酸化物粒子の溶剤分散ゾルの分散媒として
用いたものと同じものを用いることができる。これらの
溶剤の添加量は反応を円滑、均一に行わせる目的に合う
限り特に制限はない。When a powdery oxide powder is used in the production of the crosslinkable particles (A), an organic solvent is added for the purpose of smoothly and uniformly reacting with the alkoxysilane compound. You may. As such an organic solvent, the same solvent as that used as the dispersion medium of the solvent dispersion sol of the oxide particles can be used. The amount of these solvents to be added is not particularly limited as long as the reaction is carried out smoothly and uniformly.
【0045】架橋性粒子(A)原料として溶剤分散ゾル
を用いる場合、溶剤分散ゾルと、特定有機化合物とを少
なくとも混合することにより製造することができる。こ
こで、反応初期の均一性を確保し、反応を円滑に進行さ
せる目的で、水と均一に相溶する有機溶剤を添加しても
よい。When a solvent-dispersed sol is used as a raw material of the crosslinkable particles (A), it can be produced by mixing at least the solvent-dispersed sol and a specific organic compound. Here, an organic solvent that is uniformly compatible with water may be added for the purpose of ensuring uniformity in the initial stage of the reaction and smoothly proceeding the reaction.
【0046】また、架橋性粒子(A)製造時において、
反応を促進するため、触媒として酸、塩又は塩基を添加
してもよい。酸としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、
リン酸等の無機酸;メタンスルフォン酸、トルエンスル
フォン酸、フタル酸、マロン酸、蟻酸、酢酸、蓚酸等の
有機酸;メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸等の不
飽和有機酸を、塩としては、例えば、テトラメチルアン
モニウム塩酸塩、テトラブチルアンモニウム塩酸塩等の
アンモニウム塩を、また、塩基としては、例えば、アン
モニア水、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジブチ
ルアミン、シクロヘキシルアミン等の1級、2級又は3
級脂肪族アミン、ピリジン等の芳香族アミン、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
等の4級アンモニウムヒドロキシド類等を挙げることが
できる。これらの中で好ましい例は、酸としては、有機
酸、不飽和有機酸、塩基としては3級アミン又は4級ア
ンモニウムヒドロキシドである。これらの酸、塩又は塩
基の添加量は、アルコキシシラン化合物100重量部に
対して、好ましくは0.001重量部から1.0重量部、
さらに好ましくは0.01重量部から0.1重量部であ
る。また、反応を促進するため、脱水剤を添加すること
も好ましい。脱水剤としては、ゼオライト、無水シリ
カ、無水アルミナ等の無機化合物や、オルト蟻酸メチ
ル、オルト蟻酸エチル、テトラエトキシメタン、テトラ
ブトキシメタン等の有機化合物を用いることができる。
中でも、有機化合物が好ましく、オルト蟻酸メチル、オ
ルト蟻酸エチル等のオルトエステル類がさらに好まし
い。なお、架橋性粒子(A)に結合したアルコキシシラ
ン化合物の量は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼
させた場合の重量減少%の恒量値として、空気中で11
0℃から800℃までの熱重量分析により求めることが
出来る。In the production of the crosslinkable particles (A),
To promote the reaction, an acid, salt or base may be added as a catalyst. Examples of the acid include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid,
Inorganic acids such as phosphoric acid; organic acids such as methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid, phthalic acid, malonic acid, formic acid, acetic acid, and oxalic acid; unsaturated organic acids such as methacrylic acid, acrylic acid, and itaconic acid; For example, ammonium salts such as tetramethylammonium hydrochloride and tetrabutylammonium hydrochloride, and bases such as primary, secondary and tertiary such as aqueous ammonia, diethylamine, triethylamine, dibutylamine and cyclohexylamine
And aromatic amines such as tertiary aliphatic amines and pyridine; and quaternary ammonium hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide and tetrabutylammonium hydroxide. Among these, preferred examples of the acid are organic acids and unsaturated organic acids, and the bases are tertiary amines and quaternary ammonium hydroxides. These acids, salts or bases are added in an amount of preferably 0.001 to 1.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alkoxysilane compound.
More preferably, the amount is 0.01 part by weight to 0.1 part by weight. It is also preferable to add a dehydrating agent to promote the reaction. As the dehydrating agent, inorganic compounds such as zeolite, anhydrous silica, and anhydrous alumina, and organic compounds such as methyl orthoformate, ethyl orthoformate, tetraethoxymethane, and tetrabutoxymethane can be used.
Among them, organic compounds are preferable, and orthoesters such as methyl orthoformate and ethyl orthoformate are more preferable. The amount of the alkoxysilane compound bonded to the crosslinkable particles (A) is usually 11% in air as a constant value of the weight loss% when the dry powder is completely burned in air.
It can be determined by thermogravimetric analysis from 0 ° C to 800 ° C.
【0047】架橋性粒子(A)の樹脂組成物中における
配合量は、組成物[架橋性粒子(A)及び化合物(B)
の合計]を100重量%として、5〜90重量%配合す
ることが好ましく、10〜70重量%がさらに好まし
い。5重量%未満であると、硬化物としたときの硬度が
不十分となることがあり、90重量%を超えると、硬化
しない(膜にならない)ことがある。なお、架橋性粒子
(A)の量は、固形分を意味し、架橋性粒子(A)が溶
剤分散ゾルの形態で用いられるときは、その配合量には
溶剤の量を含まない。The compounding amount of the crosslinkable particles (A) in the resin composition is determined according to the composition [crosslinkable particles (A) and compound (B)].
Is preferably 100% by weight, and 5 to 90% by weight is more preferable, and 10 to 70% by weight is more preferable. If it is less than 5% by weight, the hardness of the cured product may be insufficient, and if it exceeds 90% by weight, it may not be cured (not formed into a film). The amount of the crosslinkable particles (A) means a solid content, and when the crosslinkable particles (A) are used in the form of a solvent-dispersed sol, the compounding amount does not include the amount of the solvent.
【0048】2.化合物(B) 本発明に用いられる化合物(B)は、分子内に2以上の
重合性不飽和基を含む化合物である。この化合物(B)
は組成物の成膜性を高めるために好適に用いられる。化
合物(B)としては重合性不飽和基を2以上含むもので
あれば特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリルエ
ステル類、ビニル化合物類を挙げることができる。この
中では、(メタ)アクリルエステル類が好ましい。2. Compound (B) The compound (B) used in the present invention is a compound containing two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule. This compound (B)
Is preferably used to enhance the film formability of the composition. The compound (B) is not particularly limited as long as it contains two or more polymerizable unsaturated groups, and examples thereof include (meth) acrylic esters and vinyl compounds. Among them, (meth) acrylic esters are preferred.
【0049】以下、本発明に用いられる化合物(B)の
具体例を列挙する。(メタ)アクリルエステル類として
は、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2
−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)ア
クリレート、エチレングルコールジ(メタ)アクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グルコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングル
コールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングルコー
ルジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、及びこ
れらの出発アルコール類へのエチレンオキシド又はプロ
ピレンオキシド付加物のポリ(メタ)アクリレート類、
分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するオリ
ゴエステル(メタ)アクリレート類、オリゴエーテル
(メタ)アクリレート類、オリゴウレタン(メタ)アク
リレート類、及びオリゴエポキシ(メタ)アクリレート
類等を挙げることができる。この中では、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ(メタ)アクリレートが好ましい。Hereinafter, specific examples of the compound (B) used in the present invention will be listed. (Meth) acrylic esters include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2
-Hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate,
1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,
6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis ( 2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, and poly (meth) acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts to these starting alcohols;
Oligoester (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, oligoether (meth) acrylates, oligourethane (meth) acrylates, oligoepoxy (meth) acrylates, and the like. it can. Of these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate are preferred.
【0050】ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼ
ン、エチレングリコ−ルジビニルエ−テル、ジエチレン
グリコ−ルジビニルエ−テル、トリエチレングリコ−ル
ジビニルエ−テル等を挙げることができる。Examples of the vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether.
【0051】このような化合物(B)の市販品として
は、例えば、東亞合成(株)製 商品名:アロニックス
M−400、M−408、M−450、M−305、
M−309、M−310、M−315、M−320、
M−350、M−360、M−208、M−210、M
−215、M−220、M−225、M−233、M−
240、M−245、M−260、M−270、M−1
100、M−1200、M−1210、M−1310、
M−1600、M−221、M−203、TO−92
4、TO−1270、TO−1231、TO−595、
TO−756、TO−1231、TO−1343、TO
−902、TO−904、TO−905、TO−133
0、日本化薬(株)製 商品名:KAYARAD D−
310、D−330、DPHA、DPCA−20、DP
CA−30、DPCA−60、DPCA−120、DN
−0075、DN−2475、SR−295、SR−3
55、SR−399E、SR−494、SR−904
1、SR−368、SR−415、SR−444、SR
−454、SR−492、SR−499、SR−50
2、SR−9020、SR−9035、SR−111、
SR−212、SR−213、SR−230、SR−2
59、SR−268、SR−272、SR−344、S
R−349、SR−601、SR−602、SR−61
0、SR−9003、PET−30、T−1420、G
PO−303、TC−120S、HDDA、NPGD
A、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX
−220、HX−620、R−551、R−712、R
−167、R−526、R−551、R−712、R−
604、R−684、TMPTA、THE−330、T
PA−320、TPA−330、KS−HDDA、KS
−TPGDA、KS−TMPTA、共栄社化学(株)製
商品名:ライトアクリレート PE−4A、DPE−
6A、DTMP−4A等を挙げることができる。Commercially available compounds (B) include, for example, trade names: Aronix M-400, M-408, M-450, M-305, manufactured by Toagosei Co., Ltd.
M-309, M-310, M-315, M-320,
M-350, M-360, M-208, M-210, M
-215, M-220, M-225, M-233, M-
240, M-245, M-260, M-270, M-1
100, M-1200, M-1210, M-1310,
M-1600, M-221, M-203, TO-92
4, TO-1270, TO-1231, TO-595,
TO-756, TO-1231, TO-1343, TO
-902, TO-904, TO-905, TO-133
0, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Product name: KAYARAD D-
310, D-330, DPHA, DPCA-20, DP
CA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN
-0075, DN-2475, SR-295, SR-3
55, SR-399E, SR-494, SR-904
1, SR-368, SR-415, SR-444, SR
-454, SR-492, SR-499, SR-50
2, SR-9020, SR-9035, SR-111,
SR-212, SR-213, SR-230, SR-2
59, SR-268, SR-272, SR-344, S
R-349, SR-601, SR-602, SR-61
0, SR-9003, PET-30, T-1420, G
PO-303, TC-120S, HDDA, NPGD
A, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX
-220, HX-620, R-551, R-712, R
-167, R-526, R-551, R-712, R-
604, R-684, TMPTA, THE-330, T
PA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS
-TPGDA, KS-TMPTA, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Product name: Light Acrylate PE-4A, DPE-
6A and DTMP-4A.
【0052】本発明に用いられる、化合物(B)の配合
量は、組成物[架橋性粒子(A)及び化合物(B)の合
計]を100重量%として、10〜95重量%配合する
ことが好ましく、30〜90重量%がさらに好ましい。
10重量%未満であると、硬化物としたときに硬度が不
十分となることがあり、95重量%を超えると、硬化物
としたときに低カール性が不十分となることがある。な
お、本発明の組成物中には、化合物(B)の外に、必要
に応じて、分子内に重合性不飽和基を1つ有する化合物
を含有させてもよい。The compounding amount of the compound (B) used in the present invention may be 10 to 95% by weight based on 100% by weight of the composition [total of the crosslinkable particles (A) and the compound (B)]. Preferably, 30 to 90% by weight is more preferable.
If the amount is less than 10% by weight, the cured product may have insufficient hardness. If the amount is more than 95% by weight, the cured product may have insufficient curl. In the composition of the present invention, a compound having one polymerizable unsaturated group in the molecule may be contained, if necessary, in addition to the compound (B).
【0053】3.混合溶剤(C) 本発明に用いられる混合溶剤(C)は、相対蒸発速度の
異なる少なくとも2種以上の有機溶剤を含み、各有機溶
剤の相対蒸発速度の最大値と最小値の差が1.5以上、
好ましくは1.7以上、さらに好ましくは2.0以上で
ある混合溶剤である。本発明に用いられる混合溶剤
(C)に代えて、1種のみの有機溶剤を用いた場合、そ
の相対蒸発速度が大きいと、塗工後の有機溶剤の蒸発が
速く、風紋、ストリーク、はじき等の塗膜面の外観不良
を起こしやすく、また、その相対蒸発速度が小さいと、
塗膜中に有機溶剤が残存し、硬化物としたときの硬度が
不十分となりやすい。さらに、2種以上の有機溶剤を含
む混合溶剤であっても各有機溶剤の相対蒸発速度の最大
値と最小値の差が1.5未満のものであると、上述の1
種のみの有機溶剤を用いた場合と同様な問題が生じやす
い。また、本発明に用いられる混合溶剤(C)は、相対
蒸発速度が1.5以下である有機溶剤を含むものである
ことが好ましく、1.0以下である有機溶剤を含むもの
であることがさらに好ましい。相対蒸発速度が1.5以
下である有機溶剤を含むものであることにより、外観不
良のない、塗膜形成のための適度な溶媒蒸発速度を得る
ことができる。3. Mixed solvent (C) The mixed solvent (C) used in the present invention contains at least two or more organic solvents having different relative evaporation rates, and the difference between the maximum value and the minimum value of the relative evaporation rates of each organic solvent is 1. 5 or more,
The mixed solvent is preferably 1.7 or more, more preferably 2.0 or more. When only one kind of organic solvent is used in place of the mixed solvent (C) used in the present invention, if the relative evaporation rate is high, the organic solvent after coating will evaporate quickly, resulting in wind ripples, streaks, repelling, etc. When the relative evaporation rate is low,
The organic solvent remains in the coating film, and the hardness of the cured product tends to be insufficient. Further, if the difference between the maximum value and the minimum value of the relative evaporation rate of each organic solvent is less than 1.5 even in a mixed solvent containing two or more organic solvents,
The same problem as when only a kind of organic solvent is used is likely to occur. In addition, the mixed solvent (C) used in the present invention preferably contains an organic solvent having a relative evaporation rate of 1.5 or less, and more preferably contains an organic solvent having a relative evaporation rate of 1.0 or less. By containing an organic solvent having a relative evaporation rate of 1.5 or less, it is possible to obtain an appropriate solvent evaporation rate for forming a coating film without poor appearance.
【0054】ここで、相対蒸発速度は、下記式(3)に
示すように、ASTM D3539−87記載の測定法
により得られる、25℃、乾燥空気下における酢酸n−
ブチルの蒸発時間と各有機溶剤の蒸発時間との比の値と
して定義される。なお、各有機溶剤の相対蒸発速度は、
「最新コーティング技術」(1983年(株)総合技術
センター発行)17〜19ページ記載の表5に記載され
ている。Here, as shown in the following equation (3), the relative evaporation rate is determined by the measurement method described in ASTM D3539-87.
It is defined as the ratio of the evaporation time of butyl to the evaporation time of each organic solvent. The relative evaporation rate of each organic solvent is
This is described in Table 5 on pages 17 to 19 of "Latest Coating Technology" (issued by Sogo Gijutsu Center in 1983).
【0055】[0055]
【数1】 相対蒸発速度=(酢酸n−ブチルの90重量%が蒸発するのに要する時間)/ (テスト溶剤の90重量%が蒸発するのに要する時間) (3) Relative evaporation rate = (time required for 90% by weight of n-butyl acetate to evaporate) / (time required for 90% by weight of the test solvent to evaporate) (3)
【0056】混合溶剤(C)の樹脂組成物中の配合量
は、組成物[架橋性粒子(A)、及び化合物(B)の合
計]100重量部に対して、5〜9900重量部、好ま
しくは20〜2000重量部、さらに好ましくは、25
〜2000重量部である。5重量部未満であると、塗膜
面の外観不良を生ずることがあり、9900重量部を超
えると、十分な膜厚を得られないことがある。The mixing amount of the mixed solvent (C) in the resin composition is preferably 5 to 9900 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition [total of the crosslinkable particles (A) and the compound (B)]. Is 20 to 2000 parts by weight, more preferably 25
20002000 parts by weight. If the amount is less than 5 parts by weight, poor appearance of the coating film surface may occur. If the amount exceeds 9900 parts by weight, a sufficient film thickness may not be obtained.
【0057】また、混合溶剤(C)中の有機溶剤のうち
相対蒸発速度の最大値及び最小値を有する有機溶剤の含
有量は、混合溶剤(C)を100重量%として、それぞ
れ10重量%以上であることが好ましい。相対蒸発速度
の最大値を有する有機溶剤が10重量%未満であると乾
燥時間が長くなることがあり、また相対蒸発速度の最小
値を有する有機溶剤が10重量%未満であると塗りム
ラ、はじき、風紋、ストリーク等の塗膜面の外観不良を
起こすことがある。The content of the organic solvent having the maximum value and the minimum value of the relative evaporation rate among the organic solvents in the mixed solvent (C) is 10% by weight or more with respect to the mixed solvent (C) being 100% by weight. It is preferred that If the amount of the organic solvent having the maximum relative evaporation rate is less than 10% by weight, the drying time may be long. If the amount of the organic solvent having the minimum relative evaporation rate is less than 10% by weight, uneven coating and repelling may occur. This may cause poor appearance of the coating film surface, such as wind ripples and streaks.
【0058】具体的な混合溶剤(C)の例として、メチ
ルエチルケトン(相対蒸発速度3.7)/イソプロパノ
ール(同1.5)混合溶剤、メチルエチルケトン/トル
エン(同2.0)混合溶剤、メチルエチルケトン/シク
ロヘキサノン(同0.32)混合溶剤、メタノール(同
1.9)/シクロヘキサノン混合溶剤、メチルイソブチ
ルケトン(同1.6)/メタノール混合溶剤、メチルエ
チルケトン/メタノール混合溶剤、メチルエチルケトン
/メチルイソブチルケトン/イソプロパノール混合溶
剤、メチルエチルケトン/メチルイソブチルケトン/シ
クロヘキサノン混合溶剤、メチルエチルケトン/メチル
イソブチルケトン/メタノール/イソプロパノール混合
溶剤等が挙げられる。As specific examples of the mixed solvent (C), a mixed solvent of methyl ethyl ketone (relative evaporation rate: 3.7) / isopropanol (1.5), a mixed solvent of methyl ethyl ketone / toluene (2.0), methyl ethyl ketone / cyclohexanone (0.32) Mixed solvent, methanol (1.9) / cyclohexanone mixed solvent, methyl isobutyl ketone (1.6) / methanol mixed solvent, methyl ethyl ketone / methanol mixed solvent, methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone / isopropanol mixed solvent And a mixed solvent of methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone / cyclohexanone, a mixed solvent of methyl ethyl ketone / methyl isobutyl ketone / methanol / isopropanol, and the like.
【0059】4.重合開始剤(D) 本発明の組成物においては、必要に応じて、前記架橋性
粒子(A)、化合物(B)及び混合溶剤(C)以外の配
合成分として、(D)重合開始剤を配合することができ
る。まず、その(D)重合開始剤を用いることを含め、
本発明の組成物の硬化方法について説明する。4. Polymerization Initiator (D) In the composition of the present invention, if necessary, (D) a polymerization initiator may be used as a compounding component other than the crosslinkable particles (A), the compound (B) and the mixed solvent (C). Can be blended. First, including the use of the (D) polymerization initiator,
The method for curing the composition of the present invention will be described.
【0060】本発明の組成物は熱及び/又は放射線によ
って硬化される。熱による場合、その熱源としては、例
えば電気ヒーター、赤外線ランプ、熱風等を用いること
ができる。放射線による場合、その放射線の線源として
は、組成物をコーティング後短時間で硬化させることが
できるものである限り特に制限はないが、赤外線の線源
としては、例えば、ランプ、抵抗加熱板、レーザー等
を、また可視光線の線源としては、例えば、日光、ラン
プ、蛍光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として
は、例えば、水銀ランプ、ハライドランプ、レーザー等
を、また電子線の線源としては、例えば、市販されてい
るタングステンフィラメントから発生する熱電子を利用
する方式、金属に高電圧パルスを通じて発生させる冷陰
極方式及びイオン化したガス状分子と金属電極との衝突
により発生する2次電子を利用する2次電子方式を挙げ
ることができる。アルファ線、ベ−タ線及びガンマ線の
線源としては、例えば、Co60等の核分裂物質が挙げ
られ、ガンマ線については加速電子を陽極へ衝突させる
真空管等を利用することができる。これら放射線は1種
単独で又は2種以上を同時に照射してもよく、また1種
以上の放射線を一定期間をおいて照射してもよい。本発
明の組成物には、硬化時間を短縮させるために重合開始
剤(D)を添加してもよく、そのような重合開始剤
(D)としては、例えば熱的に活性ラジカル種を発生さ
せる化合物等及び放射線照射により活性ラジカル種を発
生させる化合物等の、汎用されているものを挙げること
ができる。The compositions of the present invention are cured by heat and / or radiation. When using heat, for example, an electric heater, an infrared lamp, hot air or the like can be used as the heat source. In the case of radiation, the radiation source is not particularly limited as long as the composition can be cured in a short time after coating, but as the infrared radiation source, for example, a lamp, a resistance heating plate, Lasers, etc., as visible light sources, for example, sunlight, lamps, fluorescent lamps, lasers, etc., and as UV ray sources, for example, mercury lamps, halide lamps, lasers, etc. As the radiation source, for example, a system using thermoelectrons generated from a commercially available tungsten filament, a cold cathode system generated by applying a high voltage pulse to a metal, and a system generated by collision of ionized gaseous molecules with a metal electrode 2 A secondary electron system using a secondary electron can be used. Alpha, base - as a source of data lines and gamma rays, for example, include fissile material, such as Co 60, for gamma rays can utilize a vacuum tube or the like which causes accelerated electrons to collide with an anode. These radiations may be irradiated alone or in combination of two or more, or one or more radiations may be irradiated at a fixed time interval. A polymerization initiator (D) may be added to the composition of the present invention in order to shorten the curing time, and such a polymerization initiator (D), for example, generates an active radical species thermally. Commonly used compounds such as compounds and compounds that generate active radical species upon irradiation with radiation can be mentioned.
【0061】本発明においては、上記(D)重合開始剤
として放射線重合開始剤を用いることが好ましく、その
中でも、(c)1−ヒドロキシシクロヘキシル基を有す
るアリールケトン類及びN−モルフォリノ基を有するア
リールケトン類の両方又はそのいずれかを含む放射線重
合開始剤(以下、「放射線重合開始剤(d)」というこ
とがある)を用いることがさらに好ましい。1−ヒドロ
キシシクロヘキシル基を有するアリールケトン類のみを
添加した場合、着色の少ない硬化物を短時間で形成する
ことができる。一方、N−モルフォリノ基を有するアリ
ールケトン類のみを添加した場合、表面硬度の高い硬化
物を短時間で形成することができる。両者を併用した場
合、表面硬度が高く着色の少ない硬化物を短時間で形成
することができる。In the present invention, a radiation polymerization initiator is preferably used as the polymerization initiator (D), and among them, (c) aryl ketones having a 1-hydroxycyclohexyl group and aryl ketones having an N-morpholino group It is more preferable to use a radiation polymerization initiator containing both or either of ketones (hereinafter, sometimes referred to as “radiation polymerization initiator (d)”). When only an aryl ketone having a 1-hydroxycyclohexyl group is added, a cured product with less coloring can be formed in a short time. On the other hand, when only an aryl ketone having an N-morpholino group is added, a cured product having a high surface hardness can be formed in a short time. When both are used together, a cured product having high surface hardness and little coloring can be formed in a short time.
【0062】1−ヒドロキシシクロヘキシル基を有する
アリールケトン類としては特に制限はないが、例えば、
1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、1-ヒド
ロキシシクロヘキシルイソプロピルフェニルケトン、1
-ヒドロキシシクロヘキシルドデシルフェニルケトン等
を挙げることができる。また、本発明に用いられるN−
モルフォリノ基を有するアリールケトン類としては特に
制限はないが、例えば、2-メチル-1-[4-(メチルチ
オ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン-1、2-メチ
ル-1-[4-(メトキシ)フェニル]-2-モルフォリノプロ
パノン-1、2-メチル-1-[4-(2-ヒドロキシエトキ
シ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン-1、2-メチ
ル-1-[4-(ジメチルアミノ)フェニル]-2-モルフォリ
ノプロパノン-1、2-メチル-1-[4-(ジフェニルアミ
ノ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン-1、2-ベン
ジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニ
ル)-ブタノン-1、3,6-ビス(2-メチル-2-モルフォ
リノプロピオニル)-9-N-オクチルカルバゾール等を挙
げることができる。これらの放射線重合開始剤(d)は
1種単独で又は2種以上を組合わせて用いても良いが、
硬化物としたときに、その表面部分及び内部の両方の硬
化速度及び硬度を向上させるためには、1−ヒドロキシ
シクロヘキシル基を有するアリールケトン類とN−モル
フォリノ基を有するアリールケトン類とを組合わせて用
いることが好ましい。このような放射線重合開始剤
(d)の市販品としては、例えば、チバ・スペシャルテ
ィ・ケミカルズ(株)製 商品名:イルガキュア 18
4、907等を挙げることができる。The aryl ketone having a 1-hydroxycyclohexyl group is not particularly limited.
1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl isopropyl phenyl ketone, 1
-Hydroxycyclohexyl decyl phenyl ketone. The N- used in the present invention
The aryl ketone having a morpholino group is not particularly limited. For example, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-methyl-1- [4- ( Methoxy) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-methyl-1- [4- (dimethyl Amino) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-methyl-1- [4- (diphenylamino) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) -butanone-1,3,6-bis (2-methyl-2-morpholinopropionyl) -9-N-octylcarbazole. These radiation polymerization initiators (d) may be used alone or in combination of two or more.
In order to improve the curing speed and hardness of both the surface portion and the interior of the cured product, an aryl ketone having a 1-hydroxycyclohexyl group and an aryl ketone having an N-morpholino group are combined. It is preferable to use them. Commercial products of such a radiation polymerization initiator (d) include, for example, Irgacure 18 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
4, 907 and the like.
【0063】本発明において必要に応じて用いられる放
射線重合開始剤(d)の配合量は、組成物[架橋性粒子
(A)及び化合物(B)の合計]100重量部に対し
て、0.01〜20重量部配合することが好ましく、
0.1〜10重量部が、さらに好ましい。0.01重量
部未満であると、硬化物としたときの硬度が不十分とな
ることがあり、20重量部を超えると、硬化物としたと
きに内部(下層)まで硬化しないことがある。The compounding amount of the radiation polymerization initiator (d) used as required in the present invention is 0. 0 to 100 parts by weight of the composition [total of the crosslinkable particles (A) and the compound (B)]. It is preferred that the compounding amount be from 01 to 20 parts by weight,
0.1 to 10 parts by weight is more preferred. If the amount is less than 0.01 part by weight, the hardness of the cured product may be insufficient. If the amount is more than 20 parts by weight, the cured product may not be hardened to the inside (lower layer).
【0064】また、1−ヒドロキシシクロヘキシル基を
有するアリールケトン類とN−モルフォリノ基を有する
アリールケトン類を併用する場合の両者の配合比は、重
量比で、10:90〜90:10が好ましく、40:6
0〜80:20がさらに好ましい。When an aryl ketone having a 1-hydroxycyclohexyl group and an aryl ketone having an N-morpholino group are used in combination, the mixing ratio of both is preferably from 10:90 to 90:10 by weight. 40: 6
0 to 80:20 is more preferable.
【0065】5.上記以外の配合成分 本発明においては、必要に応じて、増感剤、架橋性粒子
(A)以外の酸化物粒子、各種添加剤等の上記以外の種
々の配合成分を配合することができる。以下、その例を
列挙する。 (1)増感剤 増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチル
アミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールア
ミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミ
ノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げる
ことができる。この増感剤の市販品としては、日本化薬
(株)製 商品名:KAYACURE DMBI、EP
A等を挙げることができる。5. Ingredients other than those described above In the present invention, various ingredients other than those described above, such as a sensitizer, oxide particles other than the crosslinkable particles (A), and various additives, can be incorporated as necessary. Hereinafter, examples are listed. (1) Sensitizer Examples of the sensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, -Isoamyl dimethylaminobenzoate. Commercial products of this sensitizer include KAYACURE DMBI, EP, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
A and the like.
【0066】(2)架橋性粒子(A)以外の酸化物粒子 架橋性粒子(A)以外の酸化物粒子としては、例えば、
特定有機化合物と結合していない酸化物粒子等を挙げる
ことができる。(2) Oxide particles other than the crosslinkable particles (A) Examples of the oxide particles other than the crosslinkable particles (A) include:
Oxide particles that are not bonded to a specific organic compound can be given.
【0067】(3)各種添加剤 添加剤としては、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光
安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁
止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定
剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィ
ラー、濡れ性改良剤、塗膜面改良剤等を挙げることがで
きる。(3) Various additives Examples of the additives include an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, a coloring agent, a leveling agent, and a surfactant. And storage stabilizers, plasticizers, lubricants, inorganic fillers, organic fillers, fillers, wettability improvers, coating surface improvers, and the like.
【0068】酸化防止剤の市販品としては、チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ(株)製商品名:イルガノック
ス1010、1035、1076、1222等を挙げる
ことができ、紫外線吸収剤としては、チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ(株)製商品名:チヌビン P、23
4、320、326、327、328、213、40
0、住友化学工業(株)製 商品名:スミソーブ11
0、130、140、220、250、300、32
0、340、350、400等を挙げることができ、光
安定剤の市販品としては、チバ・スペシャルティ・ケミ
カルズ(株)製商品名:チヌビン292、144、62
2LD、三共化成工業(株)製 商品名:サノールLS
−770、765、292、2626、1114、74
4等を挙げることができ、シランカップリング剤として
は、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロ
キシプロピルトリメトキシシランを挙げることができ、
これらの市販品としては、東レ・ダウコーニング・シリ
コーン(株)製 商品名:SH6062、SZ603
0、信越シリコーン(株)製 商品名:KBE903、
KBM803等を挙げることができ、老化防止剤の市販
品としては、住友化学工業(株)製 商品名:アンチゲ
ン W、S、P、3C、6C、RD−G、FR、AW等
を挙げることができる。Commercial products of antioxidants include Irganox 1010, 1035, 1076 and 1222 (trade names, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.). Examples of ultraviolet absorbers include Ciba Specialty Chemicals. Chemicals Corporation product name: Tinuvin P, 23
4, 320, 326, 327, 328, 213, 40
0, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Product name: Sumisorb 11
0, 130, 140, 220, 250, 300, 32
0, 340, 350, 400 and the like. Commercially available light stabilizers are trade names of Tinuvin 292, 144, 62 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
2LD, manufactured by Sankyo Chemical Industry Co., Ltd. Product name: SANOL LS
−770, 765, 292, 2626, 1114, 74
4 and the like, and examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane.
These commercially available products are trade names: SH6062, SZ603 manufactured by Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.
0, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.
KBM803 and the like, and as a commercially available anti-aging agent, brand name: Antigen W, S, P, 3C, 6C, RD-G, FR, AW, etc., manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. it can.
【0069】(4)上記以外の添加剤 上記以外の添加剤としては、エポキシ樹脂、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポ
リブタジエン、クロロプレン、ポリエーテル、ポリエス
テル、ペンタジエン誘導体、スチレン/ブタジエン/ス
チレンブロック共重合体、スチレン/エチレン/ブテン
/スチレンブロック共重合体、スチレン/イソプレン/
スチレンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、
ケトン樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴ
マー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマー又はオ
リゴマー等を挙げることができる。(4) Additives Other than the Above Additives other than the above include epoxy resin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyurethane, polybutadiene, chloroprene, polyether, polyester, pentadiene derivative, styrene / butadiene / styrene block copolymer. Polymer, styrene / ethylene / butene / styrene block copolymer, styrene / isoprene /
Styrene block copolymer, petroleum resin, xylene resin,
Examples include polymers or oligomers such as ketone resins, fluorine oligomers, silicone oligomers, and polysulfide oligomers.
【0070】本発明の組成物は被覆材として好適であ
り、被覆の対象となる基材としては、例えば、プラスチ
ック(ポリカ−ボネ−ト、ポリメタクリレ−ト、ポリス
チレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ、メ
ラミン、トリアセチルセルロース、ABS、AS、ノル
ボルネン系樹脂等)、金属、木材、紙、ガラス、スレ−
ト等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、
フィルム状又は3次元成形体でもよく、コーティング方
法は、通常のコーティング方法、例えばディッピングコ
−ト、スプレ−コ−ト、フロ−コ−ト、シャワ−コ−
ト、ロ−ルコ−ト、スピンコート、刷毛塗り等を挙げる
ことができる。これらコーティングにおける塗膜の厚さ
は、乾燥、硬化後、通常0.1〜400μmであり、好
ましくは1〜200μmである。The composition of the present invention is suitable as a coating material. Examples of the substrate to be coated include plastics (polycarbonate, polymethacrylate, polystyrene, polyester, polyolefin, epoxy, melamine, Triacetyl cellulose, ABS, AS, norbornene resin, etc.), metal, wood, paper, glass, thread
And the like. The shape of these substrates is plate-like,
It may be in the form of a film or a three-dimensional molded product, and the coating method may be a usual coating method, for example, dipping coat, spray coat, flow coat, shower coat.
G, roll coating, spin coating, brush coating, and the like. The thickness of the coating in these coatings after drying and curing is usually 0.1 to 400 μm, preferably 1 to 200 μm.
【0071】本発明の組成物は、塗膜の厚さを調節する
ために、溶剤で希釈して用いることができる。例えば、
被覆材として用いる場合の粘度は、通常0.1〜50,
000mPa・s/25℃であり、好ましくは0.5〜
10,000mPa・s/25℃である。The composition of the present invention can be used after being diluted with a solvent in order to adjust the thickness of the coating film. For example,
When used as a coating material, the viscosity is usually 0.1 to 50,
000 mPa · s / 25 ° C., preferably 0.5 to
It is 10,000 mPa · s / 25 ° C.
【0072】II.硬化物 本発明の硬化物は、前記樹脂組成物を種々の基材、例え
ば、プラスチック基材にコーティングして硬化させるこ
とにより得ることができる。具体的には、組成物をコー
ティングし、好ましくは0〜200℃で揮発成分を乾燥
させた後、熱又は/及び放射線で硬化処理を行うことに
より被覆成形体として得ることができる。熱による場合
の好ましい硬化条件は20〜150℃であり、10秒〜
24時間の範囲内で行われる。放射線による場合、紫外
線又は電子線を用いることが好ましい。そのような場
合、好ましい紫外線の照射光量は0.01〜10J/c
m2であり、より好ましくは0.1〜2J/cm2であ
る。また、好ましい電子線の照射条件は、加圧電圧は1
0〜300KV、電子密度は0.02〜0.30mA/c
m2であり、電子線照射量は1〜10Mradである。II. Cured Product The cured product of the present invention can be obtained by coating the resin composition on various substrates, for example, a plastic substrate and curing the resin composition. Specifically, the composition can be obtained by coating the composition, preferably drying the volatile components at 0 to 200 ° C., and then performing a curing treatment with heat or / and radiation. Preferred curing conditions in the case of heat are 20 to 150 ° C., and 10 seconds to
Performed within 24 hours. When using radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. In such a case, the preferable irradiation amount of ultraviolet light is 0.01 to 10 J / c.
m 2 , more preferably 0.1 to 2 J / cm 2 . In addition, preferable electron beam irradiation conditions are as follows.
0 to 300 KV, electron density 0.02 to 0.30 mA / c
m 2, and the electron beam dose is 1~10Mrad.
【0073】本発明の硬化物は、硬度、耐擦傷性、低カ
−ル性、密着性、透明性及び塗膜面の外観、特に塗膜面
の外観に優れた特徴を有しているので、プラスチック光
学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチ
ック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理石
等の傷付き(擦傷)防止や汚染防止のための保護コーテ
ィング材(特に、透明性を要求されるプラスチックシー
ト、プラスチックフィルム等のハードコート材として好
適に用いられる。);各種基材の接着剤、シ−リング
材;印刷インクのバインダ−材等として好適に用いられ
る。The cured product of the present invention has excellent properties such as hardness, scratch resistance, low curl, adhesion, transparency and appearance of the coating surface, especially the appearance of the coating surface. , Plastic optical parts, touch panels, film-type liquid crystal elements, plastic containers, floor coverings, wall coverings, artificial marble, etc. It is suitably used as a hard coat material for plastic sheets, plastic films, and the like, which require the following.); Adhesives for various substrates, sealing materials; binder materials for printing inks, and the like.
【0074】[0074]
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。なお、以下において、部、%は特に記載しない限
り、それぞれ重量部、重量%を示す。また、本発明にお
いて「固形分」とは、組成物から溶剤等の揮発成分を除
いた部分を意味し、具体的には、組成物を120℃のホ
ットプレート上で1時間乾燥して得られる残渣物(不揮
発成分)を意味する。EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following, parts and% indicate parts by weight and% by weight, respectively, unless otherwise specified. In the present invention, the “solid content” means a portion obtained by removing a volatile component such as a solvent from the composition, and specifically, is obtained by drying the composition on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour. It means a residue (non-volatile component).
【0075】特定有機化合物の合成 合成例1 乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン
7.8部、ジブチルスズジラウレート0.2部からなる溶
液に対し、イソフォロンジイソシアネート20.6部を
攪拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、60℃で3
時間攪拌した。これにペンタエリスリトールトリアクリ
レート71.4部を30℃で1時間かけて滴下後、60
℃で3時間加熱攪拌することで特定有機化合物(S1)
を得た。生成物の赤外吸収スペクトルは原料中のメルカ
プト基に特徴的な2550カイザ−の吸収ピ−ク及びイ
ソシアネ−ト基に特徴的な2260カイザ−の吸収ピ−
クが消失し、新たに、[−O−C(=O)−NH−]基
及び[−S−C(=O)−NH−]基中のカルボニルに
特徴的な1660カイザ−のピ−ク及びアクリロイル基
に特徴的な1720カイザ−のピ−クが観察され、重合
性不飽和基としてのアクリロイル基と[−S−C(=
O)−NH−]基、[−O−C(=O)−NH−]基を
共に有する特定有機化合物が生成していることを示し
た。Synthesis of Specific Organic Compound Synthesis Example 1 A solution consisting of 7.8 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.2 parts of dibutyltin dilaurate in dry air was stirred at 50 ° C. while stirring 20.6 parts of isophorone diisocyanate. At 60 ° C. for 3 hours.
Stirred for hours. To this, 71.4 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise at 30 ° C. over 1 hour.
The specific organic compound (S1) is obtained by heating and stirring at 3 ° C. for 3 hours.
I got The infrared absorption spectrum of the product is shown by the absorption peak of 2550 Kaiser characteristic of the mercapto group and the absorption peak of 2260 Kaiser characteristic of the isocyanate group in the raw material.
The 1660 Kaiser peak characteristic of the carbonyl in the [-OC (= O) -NH-] and [-SC (= O) -NH-] groups disappears. And a peak of 1720 Kaiser characteristic of an acryloyl group were observed, and an acryloyl group as a polymerizable unsaturated group and [-SC (=
It was shown that a specific organic compound having both an [O) -NH-] group and a [-OC (= O) -NH-] group was generated.
【0076】合成例2 乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン3
8.4部、ジブチルスズジラウレ−ト0.2部からなる
溶液に対し、1,3−ビス(イソシアナ−トメチル)シ
クロヘキサン38.7部を攪拌しながら50℃で1時間
かけて滴下後、70℃で3時間加熱攪拌した。これに2
−ヒドロキシエチルアクリレ−ト22.7部を30℃で
1時間かけて滴下後、60℃で10時間加熱攪拌するこ
とで特定有機化合物(S2)を得た。生成物中の残存イ
ソシアネ−ト量を分析したところ0.1%以下であり、
反応がほぼ定量的に終了したことを示した。Synthesis Example 2 Mercaptopropyltrimethoxysilane 3 in dry air
To a solution consisting of 8.4 parts and 0.2 parts of dibutyltin dilaurate, 38.7 parts of 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane was added dropwise with stirring at 50 ° C. for 1 hour. The mixture was heated and stirred at ℃ for 3 hours. This is 2
After dropping 22.7 parts of -hydroxyethyl acrylate over 1 hour at 30 ° C, the mixture was heated and stirred at 60 ° C for 10 hours to obtain a specific organic compound (S2). Analysis of the amount of residual isocyanate in the product was less than 0.1%.
It indicated that the reaction was almost quantitatively completed.
【0077】架橋性粒子(A)の製造 以下、架橋性粒子(A)の製造例を、製造例1〜製造例
4に示し、その結果を表1にまとめて示す。 製造例1 窒素気流下、合成例1で合成した特定有機化合物(S
1)8.7部、メチルエチルケトンシリカゾル(日産化
学工業(株)製、商品名:MEK−ST、数平均粒子径
0.022μm、シリカ濃度30%)91.3部、イソ
プロパノール0.2部及びイオン交換水0.1部の混合
液を、80℃、3時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステ
ル1.4部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌
することで無色透明の架橋性粒子(A)分散液(分散液
a)を得た。分散液aをアルミ皿に2g秤量後、120
℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含
量を求めたところ、35%であった。Production of Crosslinkable Particles (A) Hereinafter, Production Examples of the crosslinkable particles (A) are shown in Production Examples 1 to 4, and the results are summarized in Table 1. Production Example 1 The specific organic compound (S) synthesized in Synthesis Example 1 under a nitrogen stream
1) 8.7 parts, 91.3 parts of methyl ethyl ketone silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name: MEK-ST, number average particle diameter: 0.022 μm, silica concentration 30%), 0.2 parts of isopropanol, and ions After stirring a mixture of 0.1 part of exchanged water at 80 ° C. for 3 hours, 1.4 parts of orthoformic acid methyl ester was added, and the mixture was further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to obtain colorless and transparent crosslinkable particles (A ) A dispersion (dispersion a) was obtained. After weighing 2 g of the dispersion a in an aluminum dish,
After drying on a hot plate at 1 ° C. for 1 hour and weighing, the solid content was determined to be 35%.
【0078】製造例2 窒素気流下、合成例2で合成した特定有機化合物(S
2)8.3部、前記メチルエチルケトンシリカゾル(M
EK−ST)91.7部及びイオン交換水0.8部の混
合液を、80℃、3時間で攪拌後、オルト蟻酸メチルエ
ステル4.9部を添加し、さらに1時間同一温度(80
℃)で加熱攪拌することで半透明の架橋性粒子(A)分
散液(分散液b)を得た。この分散液bの固形分含量を
製造例1と同様に求めたところ34%であった。Production Example 2 The specific organic compound (S) synthesized in Synthesis Example 2 under a nitrogen stream
2) 8.3 parts of the above methyl ethyl ketone silica sol (M
After stirring a mixed solution of 91.7 parts of EK-ST and 0.8 parts of ion-exchanged water at 80 ° C. for 3 hours, 4.9 parts of orthoformic acid methyl ester was added, and the same temperature (80 hours) was further added for 1 hour.
C.) to obtain translucent crosslinkable particle (A) dispersion (dispersion b). The solid content of this dispersion liquid b was determined in the same manner as in Production Example 1 to be 34%.
【0079】製造例3 合成例1で合成した特定有機化合物(S1)4.8部、
イソプロパノールアルミナゾル(住友大阪セメント
(株)製、商品名:AS−150I、数平均粒子径0.
013μm、アルミナ濃度15%)95.2部、p−メ
トキシフェノール0.01部、及びイオン交換水0.1
部の混合液を60℃で3時間攪拌後、オルト蟻酸メチル
エステル1.0部を添加し、さらに1時間同温度で加熱
攪拌することで架橋性粒子(A)分散液(分散液c)を
得た。この分散液cの固形分含量を製造例1と同様に求
めたところ19%であった。Production Example 3 4.8 parts of the specific organic compound (S1) synthesized in Synthesis Example 1,
Isopropanol alumina sol (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., trade name: AS-150I, number average particle size: 0.1
95.2 parts, 0.01 parts of p-methoxyphenol, and 0.1 parts of ion-exchanged water.
Part of the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours, then 1.0 part of orthoformic acid methyl ester was added, and the mixture was further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to obtain a dispersion of the crosslinkable particles (A) (dispersion c). Obtained. The solid content of this dispersion c was determined in the same manner as in Production Example 1, and found to be 19%.
【0080】製造例4 合成例1で合成した特定有機化合物(S1)8.2部、
トルエンジルコニアゾル(数平均粒子径0.01μm、
ジルコニア濃度30%)91.8部、イオン交換水0.1
部の混合液を、60℃、3時間攪拌後、オルト蟻酸メチ
ルエステル1.3部とメチルエチルケトン41.2部を添
加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで架橋
性粒子(A)分散液(分散液d)を得た。この分散液d
の固形分含量を製造例1と同様に求めたところ25%で
あった。Production Example 4 8.2 parts of the specific organic compound (S1) synthesized in Synthesis Example 1,
Toluene zirconia sol (number average particle size 0.01 μm,
(Zirconia concentration 30%) 91.8 parts, ion exchange water 0.1
After stirring for 3 hours at 60 ° C., 1.3 parts of orthoformic acid methyl ester and 41.2 parts of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to disperse the crosslinkable particles (A). A liquid (dispersion d) was obtained. This dispersion d
Was determined in the same manner as in Production Example 1 and found to be 25%.
【0081】[0081]
【表1】 P1:メチルエチルケトンシリカゾル(酸化物濃度30
%) P2:イソプロパノールアルミナゾル(酸化物濃度15
%) P3:トルエンジルコニアゾル(酸化物濃度30%)[Table 1] P1: Methyl ethyl ketone silica sol (oxide concentration 30
%) P2: isopropanol alumina sol (oxide concentration 15
%) P3: toluene zirconia sol (oxide concentration 30%)
【0082】組成物の調製例 以下、本発明の組成物の調製例を実施例1〜5、及び調
製比較例を比較例1〜2に示す。また、各成分の配合重
量比を表2に示す。Preparation Examples of Compositions Hereinafter, preparation examples of the composition of the present invention are shown in Examples 1 to 5, and comparative examples are shown in Comparative Examples 1 and 2. Table 2 shows the weight ratio of each component.
【0083】実施例1 500ccナスフラスコ中に製造例1で製造した分散液
a151部(架橋性粒子53部、分散媒メチルエチルケ
トン(MEK))、ジペンタエリスリト−ルヘキサアク
リレ−ト23.5部、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート23.5部を添加、混合した後、ロータリーエ
バポレーターを用いて液量が131部になるまで減圧濃
縮した後、メチルイソブチルケトン(MIBK)122
部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン0.
9部、及び2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェ
ニル)−2−モルフォリノプロパノン−1 0.9部を
50℃で2時間攪拌することで均一な溶液の組成物を得
た。この調製作業は紫外線を遮蔽した部屋内で行った。
この組成物の固形分含量を製造例1と同様に求めたとこ
ろ、40%であった。Example 1 In a 500 cc eggplant-shaped flask, 151 parts of the dispersion a prepared in Production Example 1 (53 parts of crosslinkable particles, dispersion medium methyl ethyl ketone (MEK)), 23.5 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, and pentane After adding and mixing 23.5 parts of erythritol tetraacrylate, the mixture was concentrated under reduced pressure to 131 parts using a rotary evaporator, and then methyl isobutyl ketone (MIBK) 122 was added.
Part, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
9 parts and 0.9 part of 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropanone-1 were stirred at 50 ° C. for 2 hours to obtain a uniform solution composition. This preparation was performed in a room shielded from ultraviolet rays.
The solid content of this composition was determined in the same manner as in Production Example 1, and found to be 40%.
【0084】実施例2 表2に示す組成に変えたこと以外は実施例1と同様の操
作により、実施例2の組成物を得た。Example 2 A composition of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 2.
【0085】実施例3 乾燥空気気流下、紫外線を遮蔽した容器中において、製
造例2で製造した分散液b151部(架橋性粒子53
部、分散媒メチルエチルケトン(MEK))、ジペンタ
エリスリト−ルヘキサアクリレ−ト23.5部、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート23.5部、シクロ
ヘキサノン55部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン0.9部、及び2−メチル−1−(4−(メ
チルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパノン−
1 0.9部を50℃で2時間攪拌することで均一な溶
液の組成物を得た。この組成物の固形分含量を製造例1
と同様に求めたところ、40%であった。Example 3 151 parts of the dispersion b prepared in Production Example 2 (crosslinkable particles 53) were placed in a container protected from ultraviolet light under a stream of dry air.
Parts, dispersing medium methyl ethyl ketone (MEK)), dipentaerythritol hexaacrylate 23.5 parts, pentaerythritol tetraacrylate 23.5 parts, cyclohexanone 55 parts, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 0.9 part, and 2- Methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropanone-
By stirring 10.9 parts at 50 ° C. for 2 hours, a uniform solution composition was obtained. Production Example 1
When it was determined in the same manner as in the above, it was 40%.
【0086】実施例4〜5及び比較例1〜2 表2に示す組成に変えたこと以外は実施例3と同様の操
作により、実施例4〜5及び比較例1〜2の各組成物を
得た。Examples 4 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 The compositions of Examples 4 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared in the same manner as in Example 3 except that the compositions shown in Table 2 were used. Obtained.
【0087】硬化物の評価 本発明の組成物の効果を明らかにするため、上記組成物
を用いて塗布、乾燥、光照射して得られた硬化物の評価
を行った。以下にその評価方法を示す。また、評価結果
を表2に示す。Evaluation of Cured Product In order to clarify the effect of the composition of the present invention, a cured product obtained by applying, drying and irradiating the above composition was evaluated. The evaluation method is described below. Table 2 shows the evaluation results.
【0088】1.塗布、乾燥、硬化条件 表2の実施例1〜4及び比較例1、2においては、基材
上にバーコーターを用いて、乾燥膜厚10μmになるよ
うに塗布した後、80℃の熱風式乾燥機中で3分間乾燥
後、コンベア式水銀ランプを用いて1J/cm2の光量
で照射後、25℃で、24時間保管後評価した。尚、風
紋テスト及びストリークテストの塗布条件は別途記述す
る。1. Coating, drying, and curing conditions In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 in Table 2, after applying on a substrate using a bar coater to a dry film thickness of 10 µm, a hot-air method of 80 ° C was used. After drying in a drier for 3 minutes, irradiation was performed at a light amount of 1 J / cm 2 using a conveyer type mercury lamp, and after storage at 25 ° C. for 24 hours, evaluation was performed. The application conditions for the wind print test and the streak test are described separately.
【0089】2.基材 鉛筆硬度試験においてはガラス板を、また、耐スチール
ウール擦傷性、密着性評価、カール、風紋テスト、スト
リークテストの評価においては厚さが188μmのポリ
エチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。2. Substrate A glass plate was used for the pencil hardness test, and a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 188 μm was used for the evaluation of the scratch resistance to steel wool, the evaluation of the adhesion, the curl, the wind print test, and the streak test.
【0090】3.評価法 ・鉛筆硬度:JIS K5400に準拠し、ガラス基板
上で硬化させた被膜を評価した。 ・密着性(%):JIS K5400における碁盤目セ
ロハンテ−プ剥離試験に準拠し、1mm角、計100個
の碁盤目における残膜率で評価した。 ・耐スチールウール(SW)擦傷性:テスター産業
(株)製 学振型耐磨耗試験機を、500g荷重をかけ
た#0000スチールウールにて30往復し、試験した
塗膜面の傷つき状態を目視にて評価した。傷なしの場合
を○、1〜10本の傷がある場合を△、10本を超える
傷がある場合を×とした。 ・風紋テスト:PET上にバーコーターを用いて、乾燥
膜厚10μmになるように塗布した後、塗膜面に冷却用
ファン(風速5m/秒)で2分間風を当てる。その後8
0℃の熱風式乾燥機中で3分間乾燥後、コンベア式水銀
ランプを用いて1J/cm2の光量で照射後、塗膜の乱
れ具合を目視で観察した。塗膜に異常がない場合を○、
1以上の異物の存在又は塗りムラ、はじき、失透等の異
常の発生がある場合を×とした。 ・ストリークテスト:本発明の組成物1mlをPET上
に10cm幅に滴下する。室温下、2分間放置後、バー
コーターを用いて乾燥膜厚10μmになるように塗布
し、80℃の熱風式乾燥機中で3分間乾燥後、コンベア
式水銀ランプを用いて1J/cm2の光量で照射し硬化
物を得る。塗膜の乱れ具合を目視で観察し、塗膜にバー
コーターの痕跡がない場合を○、バーコーターの痕跡が
1cm以上3cm未満の場合を△、バーコーターの痕跡
が3cm以上の場合を×とした。3. Evaluation method-Pencil hardness: A cured film on a glass substrate was evaluated according to JIS K5400. Adhesion (%): Evaluated based on the cross-cut cellophane tape peeling test in JIS K5400, 1 mm square, remaining film ratio in a total of 100 cross-cuts.・ Steel wool (SW) scratch resistance: 30 reciprocations of # 0000 steel wool with a load of 500 g were performed on a Gakushin-type abrasion tester manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd. for 30 times to check the scratched state of the tested coating film surface. It was evaluated visually. The case without scratches was evaluated as ○, the case with 1 to 10 scratches as Δ, and the case with more than 10 scratches as X. Wind test: After applying a dry film thickness of 10 μm on the PET using a bar coater, the coating film surface is blown with a cooling fan (wind speed 5 m / sec) for 2 minutes. Then 8
After drying in a hot-air dryer at 0 ° C. for 3 minutes, the film was irradiated with a light amount of 1 J / cm 2 using a conveyor-type mercury lamp, and the degree of disorder of the coating film was visually observed. ○, when there is no abnormality in the coating film
The presence or absence of one or more foreign substances or the occurrence of abnormalities such as uneven coating, repelling, and devitrification was evaluated as x. Streak test: 1 ml of the composition of the present invention is dropped on PET at a width of 10 cm. After leaving it at room temperature for 2 minutes, it was applied to a dry film thickness of 10 μm using a bar coater, dried in a hot-air dryer at 80 ° C. for 3 minutes, and then dried at 1 J / cm 2 using a conveyor-type mercury lamp. Irradiate with light to obtain a cured product. The degree of disturbance of the coating film is visually observed, and when the coating film has no trace of the bar coater, the case where the trace of the bar coater is 1 cm or more and less than 3 cm is Δ, and when the trace of the bar coater is 3 cm or more, ×. did.
【0091】[0091]
【表2】 M1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート M2:ペンタエリスリトールテトラアクリレート R1:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン R2:2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルフォリノプロパノン−1[Table 2] M1: dipentaerythritol hexaacrylate M2: pentaerythritol tetraacrylate R1: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone R2: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1
【0092】[0092]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、硬度、耐
擦傷性、低カール性、密着性、透明性及び塗膜面の外
観、特に、風紋、ストリーク、塗りムラ、はじき等のな
い塗膜面外観に優れた被膜を形成し得る樹脂組成物及び
その樹脂組成物の硬化物を提供することができる。As described above, according to the present invention,
It has excellent coating properties, and has hardness, scratch resistance, low curl, adhesion, transparency, and appearance of the coating surface, especially on the surface of various base materials, especially wind ripples, streaks, uneven coating, repelling, etc. The present invention can provide a resin composition capable of forming a coating film having excellent coating film surface appearance and a cured product of the resin composition.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江利山祐一 東京都中央区築地二丁目11番24号ジェイエ スアール株式会社内 (72)発明者 西脇 功 東京都中央区築地二丁目11番24号ジェイエ スアール株式会社内 (72)発明者 宇加地孝志 東京都中央区築地二丁目11番24号ジェイエ スアール株式会社内 Fターム(参考) 4J002 BC011 BE041 BG041 BG071 CP092 CP102 CP202 FD202 GH02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yuichi Eriyama 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo JAE SRL Inc. (72) Inventor Isao Nishiwaki 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Jae (72) Inventor Takashi Ukaji 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo JAE F-term in SR Co., Ltd.
Claims (8)
ム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、ス
ズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少
なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽和基及
び下記式(1)に示す基を含む特定有機化合物とを結合
させてなる粒子、(B)分子内に2以上の重合性不飽和
基を有する化合物、及び(C)相対蒸発速度の異なる少
なくとも2種以上の有機溶剤を含み、各有機溶剤の相対
蒸発速度の最大値と最小値との差が1.5以上である混
合溶剤を含有することを特徴とする樹脂組成物。 【化1】 [式(1)中、Xは、NH、O(酸素原子)又はS(イ
オウ原子)を示し、Yは、O又はSを示す。](A) An oxide particle of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium, and a polymerizable unsaturated group and Particles obtained by bonding a specific organic compound containing a group represented by the formula (1), (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule, and (C) at least two kinds having different relative evaporation rates. A resin composition comprising the above organic solvent and a mixed solvent in which a difference between a maximum value and a minimum value of a relative evaporation rate of each organic solvent is 1.5 or more. Embedded image [In the formula (1), X represents NH, O (oxygen atom) or S (sulfur atom), and Y represents O or S. ]
O)−NH−]基を含み、さらに、[−O−C(=S)
−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少
なくとも1つを含むものである請求項1に記載の樹脂組
成物。2. The method according to claim 1, wherein the specific organic compound is [-OC (=
O) -NH-] group, and further comprises [-OC (= S)
The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition contains at least one of a -NH-] group and a -S-C (= O) -NH-] group.
する化合物又は加水分解によってシラノ−ル基を生成す
る化合物である請求項1又は2に記載の樹脂組成物。3. The resin composition according to claim 1, wherein the specific organic compound is a compound having a silanol group or a compound which forms a silanol group by hydrolysis.
1.5以下の有機溶剤を含有する請求項1〜3のいずれ
かに記載の樹脂組成物。4. The resin composition according to claim 1, wherein the mixed solvent (C) contains an organic solvent having a relative evaporation rate of 1.5 or less.
対蒸発速度の最大値及び最小値を有する有機溶剤の含有
量が、混合溶剤(C)を100重量%として、それぞれ
10重量%以上である請求項1〜4のいずれかに記載の
樹脂組成物。5. The content of the organic solvent having a maximum value and a minimum value of the relative evaporation rate among the organic solvents in the mixed solvent (C) is 10% by weight with respect to 100% by weight of the mixed solvent (C). The resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is the above.
さらに(D)重合開始剤を含有する請求項1〜5のいず
れかに記載の樹脂組成物。6. In addition to the above (A), (B) and (C),
The resin composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising (D) a polymerization initiator.
ロキシシクロヘキシル基を有するアリ−ルケトン類及び
N−モルフォリノ基を有するアリ−ルケトン類の両方又
はそのいずれかを含む放射線重合開始剤である請求項6
に記載の樹脂組成物。7. Radiation polymerization initiation wherein (D) the polymerization initiator contains (d) an aryl ketone having a 1-hydroxycyclohexyl group and / or an aryl ketone having an N-morpholino group. Claim 6 which is an agent.
3. The resin composition according to item 1.
物を硬化させてなる硬化物。8. A cured product obtained by curing the resin composition according to claim 1.
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11087920A JP2000281863A (en) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | Resin composition and its cured material |
KR1020017010337A KR100667467B1 (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | Resin composition and cured product |
DE60029205T DE60029205T2 (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | RESIN COMPOSITION AND HARDENED PRODUCT |
EP00905459A EP1165682B1 (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | Resin composition and cured product |
PCT/NL2000/000089 WO2000047666A1 (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | Resin composition and cured product |
KR1020067017442A KR100694961B1 (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | Resin composition and cured product |
AT00905459T ATE332333T1 (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | RESIN COMPOSITION AND HARDENED PRODUCT |
CNB008062463A CN1156525C (en) | 1999-02-15 | 2000-02-11 | Resin composition and cured product |
TW089102526A TWI276655B (en) | 1999-02-15 | 2000-02-15 | Resin composition and cured product |
US09/929,290 US6727334B2 (en) | 1999-02-15 | 2001-08-15 | Resin composition and cured product |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11087920A JP2000281863A (en) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | Resin composition and its cured material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000281863A true JP2000281863A (en) | 2000-10-10 |
Family
ID=13928369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11087920A Pending JP2000281863A (en) | 1999-02-15 | 1999-03-30 | Resin composition and its cured material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000281863A (en) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004346228A (en) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | Active energy ray-curable composition and hard coat film |
JP2005097438A (en) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Jsr Corp | Curable composition, its cured material and laminate |
WO2006046857A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Jsr Corporation | Curable composition, cured layer, and laminate |
WO2006046855A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
WO2006049487A1 (en) * | 2004-09-22 | 2006-05-11 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
JP2009280758A (en) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Slurry composition, method for producing slurry composition, and method for producing resin varnish |
JP2010023234A (en) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Jsr Corp | Laminated film and process for manufacturing the same |
US9202688B2 (en) | 2010-04-23 | 2015-12-01 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9359689B2 (en) | 2011-10-26 | 2016-06-07 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
JP2017114117A (en) * | 2015-12-18 | 2017-06-29 | Dic株式会社 | Method of producing ceramic body and dispersion used therefor |
US10753012B2 (en) | 2010-10-27 | 2020-08-25 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP11087920A patent/JP2000281863A/en active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004346228A (en) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | Active energy ray-curable composition and hard coat film |
JP2005097438A (en) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Jsr Corp | Curable composition, its cured material and laminate |
WO2006049487A1 (en) * | 2004-09-22 | 2006-05-11 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
WO2006046855A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Jsr Corporation | Curable composition, cured product, and laminate |
WO2006046857A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Jsr Corporation | Curable composition, cured layer, and laminate |
JP2009280758A (en) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Slurry composition, method for producing slurry composition, and method for producing resin varnish |
JP2010023234A (en) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Jsr Corp | Laminated film and process for manufacturing the same |
US9202688B2 (en) | 2010-04-23 | 2015-12-01 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9328432B2 (en) | 2010-04-23 | 2016-05-03 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9617657B2 (en) | 2010-04-23 | 2017-04-11 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9856581B2 (en) | 2010-04-23 | 2018-01-02 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US10753012B2 (en) | 2010-10-27 | 2020-08-25 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
US9359689B2 (en) | 2011-10-26 | 2016-06-07 | Pixelligent Technologies, Llc | Synthesis, capping and dispersion of nanocrystals |
JP2017114117A (en) * | 2015-12-18 | 2017-06-29 | Dic株式会社 | Method of producing ceramic body and dispersion used therefor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1165682B1 (en) | Resin composition and cured product | |
JP4917196B2 (en) | Resin composition and cured product thereof | |
KR100691921B1 (en) | Resin composition comprising particles | |
JP4273362B1 (en) | Hard coat film | |
JP4810782B2 (en) | Liquid curable resin composition | |
JP5218127B2 (en) | Curable composition, cured film and laminate | |
JP4690510B2 (en) | Resin composition and cured product thereof | |
JP2009235151A (en) | Curable composition for forming hard coat, cured film, and laminate | |
JP4207293B2 (en) | Crosslinkable particles, resin composition containing the same, and cured product thereof | |
JP2000281863A (en) | Resin composition and its cured material | |
JP4120086B2 (en) | Resin composition and cured product thereof | |
JP2000273272A (en) | Resin composition, its cured product and conjugated product | |
JP2001302943A (en) | Reactive particle, curable composition containing the same, and cured item obtained therefrom | |
JP4265061B2 (en) | Photocurable composition and cured product thereof | |
JP2001348513A (en) | Curable resin composition, cured film and composite material | |
JP4929626B2 (en) | Radiation curable resin composition and cured film thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050722 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060810 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071024 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071228 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080212 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080401 |