JP2000243807A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板を処理液に接触させる基板処理装置の基板
保持するチャックに液体が大量に残留すると処理品質や
スループットに悪影響を与える場合がある。 【解決手段】そこで本発明では、チャック３２、３２ａ
の下端部３８、６３に高低差を付け、また、チャック３
２、３２ａの断面形状が下に向かうに従って狭くなる下
部角部３７、６２ａを有し、上に向かうに従って狭くな
る上部角部36、６１ａを有する。このため、上部角部3
6、６１ａを挟む面を伝って液が流下し、さらに、下端
部３８、６３のうちの最低角部３９、６７から液が落下
する。これにより、チャック３２、３２ａに残留する液
の量を少なくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は基板の保持部を有し、基
板に処理を施す基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】＜第1従来例＞

【０００３】従来の基板処理装置には特開平７−３３５
７１３号公報に開示されているようなものがある。この
基板処理装置は処理液を貯留する処理槽と基板を保持し
て処理槽へ基板を搬送する搬送ロボットとを有し、搬送
ロボットで処理槽内の処理液に基板を浸漬するものであ
る。

【０００４】図７に示すように搬送ロボット９０１は昇
降するポスト９０２とポスト９０２の頂部に設けられた
ヘッド９０３と、９０３から水平方向に延設された一対
のシャフト９０４とひとつのシャフト９０４から間隔を
あけて垂下する垂直棒９０５と２つの垂直棒９０５の間
で水平方向に延設された保持棒９０６を有する。そし
て、これらシャフト９０４、垂直棒９０５、保持棒９０
６でチャック９０７を構成する。このチャック９０７は
シャフト９０４を軸として回動することによって一対の
チャック９０７間に基板Ｗを保持または解放する。

【０００５】そして、搬送ロボット９０１は処理槽に基
板Ｗを搬送して基板Ｗを処理槽内の基板保持部材に載置
する。これにより、基板Wが処理液に浸漬され基板Ｗに
処理が施される。

【０００６】＜第２従来例＞

【０００７】また、従来の基板処理装置では基板を保持
して特定の処理槽に貯留された処理液の内外に対して昇
降することで基板を処理液に浸漬するリフタを有する。
この場合、リフタは搬送ロボット９０１との間で基板を
授受する。このため、搬送ロボット９０１は処理液に進
入することはないので、該処理液が直接チャック９０７
に付着することはない。しかし、搬送ロボット９０１が
リフタに保持されて処理液による処理が終了した基板を
保持する場合、基板に付着している処理液がチャック９
０７に付着する。

【０００８】＜第3従来例＞

【０００９】また、上記のように、チャック９０７に処
理液が付着すると処理品質上不都合な場合はチャック９
０７に残留した処理液を洗い流すため、上記公報に開示
があるようにチャック９０７専用のチャック洗浄部を有
する基板処理装置もある。このチャック洗浄部は洗浄液
を貯留したチャック洗浄槽を有し、該チャック洗浄槽に
チャック９０７を浸漬することでチャック９０７の洗浄
を行っている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】＜第1従来例の課題＞

【００１１】第1従来例によればチャック９０７は処理
槽内の処理液に基板を浸漬するため処理液内に進入す
る。このため、チャック９０７には処理液が付着する。

【００１２】大量の処理液が付着したまま未処理の基板
を保持すると未処理の基板に不要な処理を施す恐れがあ
る。

【００１３】また、チャック９０７に異種の処理液が大
量に付着したままチャック９０７を他の処理液の中に進
入させると、該他の処理液に異種の処理液が影響を及ぼ
し、該他の処理液による処理において所定の処理品質を
達成できなくなる恐れがある。

【００１４】本発明の第１の目的は処理液内に進入する
基板保持部に処理液が残留しにくくすることにある。

【００１５】＜第２従来例の課題＞

【００１６】第２従来例によればチャック９０７は処理
液が付着した基板を保持するので該チャック９０７にも
処理液が付着し、チャック９０７に処理液が残留する。
大量に処理液が付着したまま未処理の基板を保持すると
未処理の基板に不要な処理を施す恐れがある。

【００１７】本発明の第２の目的は処理液が付着した基
板を保持する基板保持部に処理液が残留しにくくするこ
とにある。

【００１８】＜第３従来例の課題＞

【００１９】第３従来例によればチャック洗浄槽からチ
ャック９０７を引上げるときに洗浄液がチャック９０７
に残留してしまう。従って、これを除去するために乾燥
気体を吹き付ける等のさまざまな構成があるが、チャッ
ク９０７に大量に洗浄液が残留していると除去に時間が
かかったり、構成が複雑になったりするという問題が生
じる。

【００２０】本発明の第３の目的は基板を保持する基板
保持部に付着した液が該保持部に残留する量を少なくす
ることである。

【００２１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の基板処理装置は基板に処理を施す
処理液を貯留する処理槽と、基板を保持して処理槽内の
処理液内に進入する基板保持部とを有し、前記基板保持
部の下端部は該下端部が含まれる垂直面内において高低
差を有する。

【００２２】請求項２に記載の基板処理装置は基板に処
理を施す処理液を貯留する処理槽と、基板を保持して処
理槽内の処理液内に進入する基板保持部とを有し、前記
基板保持部は長手部材であって、長手方向と直交する断
面において、断面形状が下方に行くに従って狭くなる角
部を有する。

【００２３】請求項３に記載の基板処理装置は基板に処
理を施す処理液を貯留する処理槽と、処理槽で処理され
て処理液が付着した基板を保持する基板保持部とを有
し、前記基板保持部の下端部は該下端部が含まれる垂直
面内において高低差を有する。

【００２４】請求項４に記載の基板処理装置は請求項3
に記載の基板処理装置において、前記基板保持部は長手
部材であって、長手方向と直交する断面において、断面
形状が下方に行くに従って狭くなる角部を有する。

【００２５】請求項５に記載の基板処理装置は基板に処
理を施す処理液を貯留する処理槽と、処理槽で処理され
て処理液が付着した基板を保持する基板保持部と、基板
保持部に洗浄液を供給する保持部洗浄部とを有し、前記
基板保持部の下端部は該下端部が含まれる垂直面内にお
いて高低差を有する。

【００２６】請求項６に記載の基板処理装置は基板に処
理を施す処理液を貯留する処理槽と、処理槽で処理され
て処理液が付着した基板を保持する基板保持部と、基板
保持部に洗浄液を供給する保持部洗浄部とを有し、前記
基板保持部は長手部材であって、長手方向と直交する断
面において、断面形状が下方に行くに従って狭くなる角
部を有する。

【００２７】請求項７に記載の基板処理装置は請求項
１、３、５に記載の基板処理装置において、前記基板保
持部は起立状態の複数の基板を長手方向に配列した状態
で保持するものであって、前記処理槽は複数並設され、
前記基板保持部を複数の処理槽の並び方向に移動させ、
かつ、垂直方向に昇降させる駆動部と、前記複数の処理
槽内に固定的に、または、処理槽に対して昇降可能に設
けられ、前記昇降する基板保持部との間で基板を授受し
て、前記起立状態の複数の基板を長手方向に配列した状
態で処理槽内で基板を支持する基板ガイドとをさらに有
し、前記基板保持部の下端部は基板ガイドに支持されて
いる複数の基板の内、両端に位置する2枚の基板で挟ま
れる空間よりも外側において最も低い部分を有する。

【００２８】請求項８に記載の基板処理装置は請求項７
に記載の基板処理装置において、前記複数の処理槽のひ
とつが処理液中から基板を露出させるものである。

【００２９】請求項９に記載の基板処理装置は請求項
２、４、６に記載の基板処理装置において、前記基板保
持部は、さらに、長手方向と直交する断面において、断
面形状が上方に向かうに従って狭くなる角部を有する。

【００３０】

【発明の実施の形態】＜第1実施形態＞

【００３１】図1は、第1実施形態に係る基板処理装置１
の斜視図である。基板処理装置１は複数の薬液槽２１、
水洗槽２２、乾燥処理槽を内部に有する乾燥部２３を有
する。

【００３２】薬液槽２１は薬液を貯留し、浸漬された基
板に薬液処理を施す。水洗槽２２では薬液処理が終了し
て薬液が付着した基板が浸漬される。そして、基板に付
着した薬液が純水で洗い流される水洗処理が行われる。
乾燥部２３では水洗処理を施され純水が付着した基板の
乾燥が行われる。

【００３３】ここでは、薬液槽２１、水洗槽２２、乾燥
処理槽を総称して処理槽といい、薬液と純水とを総称し
て処理液という。

【００３４】また、基板処理装置１は走行路２５を走行
して昇降可能な搬送ロボット２６を有する。搬送ロボッ
ト２６は走行路２５を走行し、昇降するポスト２７とポ
スト２７の頂部に設けられたヘッド２８と、ヘッド２８
から水平方向に延設された一対のシャフト２９とひとつ
のシャフト２９から間隔をあけて垂下する垂直棒３０と
２つの垂直棒３０の間で水平方向に延設された保持ガイ
ド３１を有する。そして、これらシャフト２９、垂直棒
３０、保持ガイド３１でチャック３２を構成する。

【００３５】このような基板処理装置１では搬送ロボッ
ト２６が図示せぬ基板移替装置から基板Ｗを受け取り、
各処理槽に対して基板Ｗを搬入または搬出する。図２
（ａ）（ｂ）は、薬液槽２１の断面図である。

【００３６】図2（ａ）（ｂ）のように薬液槽２１は図
示せぬ固定手段で薬液槽２１内に固定された槽内ガイド
３３を有する。槽内ガイド３３は薬液槽２１の長手方向
に沿って設けられた長手状部材であって、上部に基板Ｗ
が嵌合するガイド保持溝３４を有する。ガイド保持溝３
４同士の間隔は保持ガイド３１に刻設されているチャッ
ク保持溝３５と同じ間隔になっており、チャック３２と
の間で基板Ｗを授受可能である。

【００３７】そして、薬液槽２１には薬液Ｃが貯留され
ており、チャック３２によって保持されて搬送されてき
た基板Ｗを槽内ガイド３３で受け取って保持することに
よって基板Ｗに所定の薬液処理を施す。

【００３８】なお、図2（ａ）（ｂ）ではチャック３２
によって基板Ｗが槽内ガイド３３に載置された状態を示
している。

【００３９】図３（ａ）（ｂ）は水洗槽２２の断面図で
ある。図３（ａ）（ｂ）のように水洗槽２２は薬液槽２
１と同様、槽内ガイド３３を有する。そして、水洗槽２
２は純水Ｄが貯留され、チャック３２によって保持され
て搬送されてきた基板Ｗを槽内ガイド３３で受け取って
保持することによって基板Ｗに所定の水洗処理を施す。

【００４０】また、水洗槽２２には排液口４１を有し、
槽内の純水Ｄを排出することができる。これは薬液が付
着した基板Ｗが搬入されたとき、一時的に水洗槽22内の
純水Ｄに対する薬液の混入度が高くなってしまい、基板
Ｗに過度の処理が施されてしまうという不都合を防止す
るため、基板Ｗが搬入されて所定時間が経過したときに
薬液の混入度が高い純水Ｄを排出するためである。な
お、排出が完了したら図示せぬ供給手段から清浄な純水
が供給され、また、排出、供給が所定回数繰り返され
る。

【００４１】なお、図３（ａ）（ｂ）ではチャック３２
が基板Ｗを槽内ガイド３３に載置して水洗槽２２から上
昇した状態を示している。また、水洗槽２２から純水Ｄ
が排出されている途中の状態を示している。

【００４２】＜第1実施形態のチャック＞

【００４３】次に第1実施形態のチャック３２について
説明する。チャック３２は図2（ａ）のようにチャック
３２１、３２２を有する。ここで、チャック３２１、３
２２は相互に対称形状なので、図面上、同様の部材、部
位を表す場合は参照番号をチャック３２１、３２２の一
方について付し、他方については参照番号を省略してい
る場合がある。

【００４４】上述のようにチャック３２は保持ガイド３
１を有する。

【００４５】図2（ａ）のように、保持ガイド３１は断
面形状が上方に行くに従って狭くなる上部角部３６、お
よび、断面形状が下方に行くに従って狭くなる下部角部
３７を有する形状となっている。また、垂直保持棒３０
の下端も、下部角部３７と同様、下方に行くに従って狭
くなる形状となっている。

【００４６】そして、チャック３２２の側面を示してい
る図2（ｂ）のように保持ガイド３１の下端部３８は紙
面右側の垂直棒３０Ｒ１から紙面左側の垂直棒３０Ｌ１
に向かうに従って下部角部３７の位置が徐々に低くなっ
ている。

【００４７】すなわち、下端部３８は該下端部３８が含
まれる垂直面ＶＳ１内において高低差を有している。

【００４８】従って、図３（ａ）（ｂ）のように、チャ
ック３２を水洗槽２２よりも上方に上昇させた場合、チ
ャック３２に付着した純水は下端部３８に集まり、さら
に、最低角部３９に集まる。そして、純水は最低角部３
９から滴り落ちることになる。

【００４９】また、保持ガイド３１の上端部４０は上部
角部３６が形成されているので純水は図３（ａ）におい
て上部角部３６を挟んで下方に広がっている２つの面の
内の何れかの面を伝って流下する。このため保持ガイド
３１の上部に純水は残留しない。

【００５０】このようにして、チャック３２には純水が
ほとんど残留しないことになる。

【００５１】また、最低角部３９は図３（ｂ）のように
槽内ガイド３３に支持されている複数の基板の内、両端
に位置する2枚の基板ＷＬ１、ＷＲ１で挟まれる空間Ｓ
１よりも外側において形成されている。

【００５２】このため、搬送ロボット２６の走行中に最
低角部３９から液滴が落下しても、処理槽中の基板の直
近には落下しない。

【００５３】例えば、水洗槽２２で純水Ｄ内に基板Ｗが
浸漬された状態で最低角部３９から薬液が落下しても、
基板Ｗとは離れたところに薬液が落下するので薬液が純
水Ｄに溶け込んで基板Ｗに与える影響は少ない。また、
特に図３（ａ）（ｂ）のように純水Ｄから基板Ｗが露出
している場合、基板Ｗにチャック３２から落下した液滴
が直接当たることがない。このため、仮に最低角部３９
から落下する液滴が薬液である場合は薬液が基板Ｗに付
着することによって不要な処理を基板Ｗに施すことを防
止することができる。また、落下した液滴に汚染物質が
混入していた場合、該汚染物質が基板Ｗに付着すること
を防止することができる。

【００５４】＜第2実施形態＞

【００５５】図４は第2実施形態にかかる基板処理装置
１０の斜視図である。基板処理装置１０は第１実施形態
にかかる基板処理装置１とほぼ同様の構造であるので同
様の構造については説明を省略する。

【００５６】基板処理装置１０は薬液専用槽５１、多機
能槽５２を有する。薬液専用槽５１は図示はしないが、
１００度以上の高温の薬液を槽下部から供給して上部開
口からオーバーフローさせる。そして、オーバーフロー
した薬液を回収して温調、濾過して再度槽下部から供給
する。

【００５７】多機能槽５２は図示はしないが、槽下部に
接続された純水供給路に複数の薬液原液の注入機構を有
し、純水に所定量の薬液原液を注入することで所定濃度
の薬液を調製する。また、薬液原液の注入を行わないと
きは純水のみが供給される。この多機能槽５２では純水
と薬液とを交互に供給することにより、先に貯留されて
いた処理液を上部開口からオーバーフローさせる。そし
て、薬液と純水とで槽内を互いに置換して薬液処理と水
洗処理とを単一の槽内で行う。また、槽下部に排液口６
８を有し、（図５ｂ参照）槽内の処理液を排出すること
ができる。

【００５８】また、基板処理装置１０はリフタ５３を有
する。リフタ５３は走行路５４を走行しかつ昇降するリ
フタポスト５５と、リフタポスト５５の頂部に設けられ
たリフタヘッド５６と、リフタヘッド２８から垂下する
リフタアーム５７と、リフタアーム５７の下端から水平
方向に突出するリフタガイド５８とを有する。

【００５９】リフタ５３は搬送ロボット２６との間で基
板Ｗを授受し、薬液専用槽５１または多機能槽５２に該
基板Ｗを浸漬する。

【００６０】また、基板処理装置１０はチャック洗浄部
６０を有するがチャック洗浄部６０については後述す
る。

【００６１】＜第２実施形態のチャック＞

【００６２】次に第２実施形態のチャック３２ａについ
て説明する。チャック３２ａは図５（ａ）のようにチャ
ック３２３、３２４を有する。ここで、チャック３２
３、３２４は相互に対称形状なので、図面上、同様の部
材、部位を表す場合は参照番号をチャック３２３、３２
４の一方について付し他方については参照番号を省略し
ている場合がある。

【００６３】図５（ａ）（ｂ）のように、チャック３２
ａは保持ガイド５９を有する。

【００６４】図５（ａ）のように保持ガイド５９は断面
形状が上方に向かうに従って狭くなる上部角部６１ａ、
および、断面形状が下方に行くに従って狭くなる下部角
部６２ａを有する形状となっている。また、垂直保持棒
３０の下端も、下部角部６２ａと同様、下方に行くに従
って狭くなる形状となっている。

【００６５】そして、チャック３２４の側面を示してい
る図2（ｂ）のように保持ガイド５９の下端部６３は中
央部の位置が最も高く、紙面右側の垂直棒３０Ｒ２また
は紙面左側の垂直棒３０Ｌ２に向かうに従って下部角部
６２ａの位置が徐々に低くなっている。そして、垂直棒
３０Ｒ２、垂直棒３０Ｌ２の部分が最も低い位置にある
最低角部６７、６７を形成している。

【００６６】すなわち、下端部６３は該下端部６３が含
まれる垂直面ＶＳ２内において高低差を有している。

【００６７】従って、チャック３２ａに付着した処理液
は下端部６３に集まり、さらに、２つの最低角部６７、
６７に集まる。そして、処理液は最低角部６７、６７か
ら落下することになる。

【００６８】また、保持ガイド５９の上端部６９には上
部角部６１ａが形成されているので処理液は図５（ａ）
において上部角部６１ａを挟んで下方に広がっている２
つの面の内の何れかの面を伝って流下する。このため保
持ガイド５９の上部に処理液は残留しない。

【００６９】このようにして、チャック３２ａには処理
液がほとんど残留しないことになる。

【００７０】また、最低角部６７、６７は図５（ｂ）の
ようにリフタガイド５８に支持されている複数の基板の
内、両端に位置する2枚の基板ＷＬ２、ＷＲ２で挟まれ
る空間Ｓ２よりも外側において形成されている。

【００７１】このため、搬送ロボット２６の走行中に最
低角部６７から液滴が落下しても、処理槽中の基板の直
近には落下しない。

【００７２】例えば、多機能槽５２内で純水による水洗
処理が行われている場合、最低角部６７から薬液が落下
しても、基板Ｗとは離れたところに薬液が落下するので
薬液が純水に溶け込んで基板Ｗに与える影響は少ない。
また、特に処理液から基板Ｗが露出している場合、例え
ば多機能槽５２において排液口６８から処理液を排出し
ている場合、チャック３２ａから落下した液滴が処理槽
内で大気に露出している基板Ｗに直接当たることがな
い。このため、仮にチャック３２ａから落下する液滴が
薬液である場合は薬液が基板Ｗに付着することによって
不要な処理を基板Ｗに施すことを防止することができ
る。また、落下した液滴に汚染物質が混入していた場
合、該汚染物質が基板Ｗに付着することを防止すること
ができる。

【００７３】また、高温の薬液が貯留されている薬液貯
留槽内５１に純水が落下すると突沸を起して高温の薬液
が飛散する恐れがあるが、上記のようにチャック３２ａ
には残留する純水の量が少ないので落下する純水の量も
少なく、従って、純水が落下して高温の薬液が飛散する
恐れも少なくなる。

【００７４】＜チャック洗浄部＞

【００７５】図１に示すようにチャック洗浄部６０は2
つのチャック３２それぞれ専用にチャック洗浄槽６０
１、６０２を有する。

【００７６】チャック洗浄槽６０１、６０２は共に同様
の構造なのでここではチャック洗浄槽６０２を例にとり
説明する。

【００７７】チャック洗浄槽６０２は洗浄液ＣＬ（ここ
では純水）を貯留する洗浄槽本体７０と窒素ガスを吹き
付けるガスノズル７１、７１とを有する。

【００７８】そして、このようなチャック洗浄槽６０２
ではチャック32ａに付着した汚染物質や薬液を除去する
ため、洗浄液ＣＬにチャック３２を浸漬し、ゆっくりと
チャック32ａを引上げる。

【００７９】ここでチャック３２ａの、特に保持ガイド
５９の材質はＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）
なので引上げ速度を十分遅くすれば洗浄液ＣＬがほぼ付
着しない。もし、付着していても、洗浄液は下端部６３
に集まり、さらに、２つの最低角部６７、６７に集まっ
て該最低角部６７、６７から落下することになる。ま
た、保持ガイド５９の上端部６９には上部角部６１ａが
形成されているので図６（ａ）において上部角部６１ａ
を挟んで下方に広がっている２つの面の内の何れかの面
を伝って洗浄液が流下する。このため保持ガイド５９の
上部に処理液は残留しない。

【００８０】チャック３２ａを引上げる際にはガスノズ
ル７１から窒素ガスを供給してチャック３２ａを完全に
乾燥させる。

【００８１】このとき、チャック３２ａにはほとんど洗
浄液が残っていないので乾燥に要する時間が極めて短く
て済み、その分チャック３２ａは基板の搬送に従事する
ことができる。この結果、スループットの低下を抑制す
ることができる。

【００８２】

【発明の効果】請求項１に記載の基板処理装置によれ
ば、基板保持部は処理槽内の処理液内に進入して処理液
が付着する。

【００８３】ここで、基板保持部の下端部は、該下端部
が含まれる垂直面内において高低差を有するので、基板
保持部に付着した処理液は前記下端部の内、低い部分に
集まって落下する。このため基板保持部に残留する処理
液の量を少なくすることができる。

【００８４】請求項２に記載の基板処理装置によれば、
基板保持部は処理槽内の処理液内に進入して処理液が付
着する。

【００８５】ここで、基板保持部は長手部材であって、
長手方向と直交する断面において、断面形状が下方に行
くに従って狭くなる角部を有するので、基板保持部に付
着した処理液は前記角部に集まって落下する。このため
基板保持部に残留する処理液の量を少なくすることがで
きる。

【００８６】請求項３に記載の基板処理装置によれば、
基板保持部は処理槽で処理されて処理液が付着した基板
を保持する。このため、基板保持部には処理液が付着す
る。

【００８７】ここで、基板保持部の下端部は、該下端部
が含まれる垂直面内において高低差を有するので、基板
保持部に付着した処理液は前記下端部の内、低い部分に
集まって落下する。このため基板保持部に残留する処理
液の量を少なくすることができる。

【００８８】請求項４に記載の基板処理装置によれば、
基板保持部は処理槽で処理されて処理液が付着した基板
を保持する。このため、基板保持部には処理液が付着す
る。

【００８９】ここで、基板保持部は長手部材であって、
長手方向と直交する断面において、断面形状が下方に行
くに従って狭くなる角部を有するので、基板保持部に付
着した処理液は前記角部に集まって落下する。このため
基板保持部に残留する処理液の量を少なくすることがで
きる。

【００９０】請求項５に記載の基板処理装置によれば、
基板保持部には洗浄液が供給され、洗浄液が付着する。

【００９１】ここで基板保持部の下端部は、該下端部が
含まれる垂直面内において高低差を有するので、基板保
持部に付着した処理液は前記下端部の内、低い部分に集
まって落下する。このため保持部洗浄部から供給された
洗浄液が基板保持部に残留する量を少なくすることがで
きる。

【００９２】請求項６に記載の基板処理装置によれば、
基板保持部には洗浄液が供給され、洗浄液が付着する。

【００９３】ここで基板保持部は長手部材であって、長
手方向と直交する断面において、断面形状が下方に行く
に従って狭くなる角部を有するので、基板保持部に付着
した処理液は前記角部に集まって落下する。このため、
保持部洗浄部から供給された洗浄液が基板保持部に残留
する量を少なくすることができる。

【００９４】請求項７に記載の基板処理装置によれば、
基板保持部は昇降して基板ガイドとの間で基板を授受す
る。一方基板ガイドでは基板保持部で保持されていたの
と同様の状態で基板を支持する。そして、基板保持部の
下端部は基板ガイドに支持されている複数の基板の内、
両端に位置する2枚の基板で挟まれる空間よりも外側に
おいて最も低い部分を有する。このため、複数の処理槽
の上方を基板保持部が移動している間に下端部の最も低
い部分から処理液が落下しても、下方の処理槽内で処理
中の基板の直近には落下しない。従って、処理槽内の基
板近辺の処理液の質が変わることを防止することができ
る。

【００９５】請求項８に記載の基板処理装置によれば、
複数の処理槽のひとつが処理液中から基板を露出させる
ものである。このため、該処理液中から基板を露出させ
る処理槽内において処理液から露出している基板に基板
保持部から落下した処理液が直接かかることが防止さ
れ、基板に不要な処理を施して基板の処理品質を低下さ
せてしまうことを防止することができる。

【００９６】請求項９に記載の基板処理装置によれば、
請求項２、４、６に記載の基板処理装置において、基板
保持部がさらに、長手方向と直交する断面において、断
面形状が上方に行くに従って狭くなる角部を有する。

【００９７】このため、角部を挟む面が水平面に対して
傾斜するので、液が該角部を挟む面上を流下するので基
板保持部に残留する液の量を少なくすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第1の実施の形態である基板処理装置の構成を
示す図である。

【図２】第1の実施の形態の薬液槽および、チャックに
関する図である。

【図３】第1の実施の形態の水洗槽および、チャックに
関する図である。

【図４】第２の実施の形態である基板処理装置の構成を
示す図である。

【図５】第２の実施の形態の多機能槽および、チャック
に関する図である。

【図６】第２の実施の形態のチャック洗浄槽および、チ
ャックに関する図である。

【図７】従来の搬送ロボットを説明した図である。

【符号の説明】

１、１０ 基板処理装置 ２１ 薬液槽 ２２ 水洗槽 ３２、３２ａ チャック ３６、６１ａ 上部角部 ３７、６２ａ 下部角部 ３９、６７ 最低角部 ３８、６３ 下端部 ６０ チャック洗浄部 ７０ 洗浄槽本体 ＶＳ１、ＶＳ２ 垂直面 Ｗ 基板

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板に処理を施す処理液を貯留する処理槽
   と、 基板を保持して処理槽内の処理液内に進入する基板保持
   部とを有し、 前記基板保持部の下端部は該下端部が含まれる垂直面内
   において高低差を有する基板処理装置。
2. 【請求項２】基板に処理を施す処理液を貯留する処理槽
   と、 基板を保持して処理槽内の処理液内に進入する基板保持
   部とを有し、 前記基板保持部は長手部材であって、長手方向と直交す
   る断面において、断面形状が下方に行くに従って狭くな
   る角部を有する基板処理装置。
3. 【請求項３】基板に処理を施す処理液を貯留する処理槽
   と、 処理槽で処理されて処理液が付着した基板を保持する基
   板保持部とを有し、 前記基板保持部の下端部は該下端部が含まれる垂直面内
   において高低差を有する基板処理装置。
4. 【請求項４】請求項3に記載の基板処理装置において、 前記基板保持部は長手部材であって、長手方向と直交す
   る断面において、断面形状が下方に行くに従って狭くな
   る角部を有する基板処理装置。
5. 【請求項５】基板に処理を施す処理液を貯留する処理槽
   と、 処理槽で処理されて処理液が付着した基板を保持する基
   板保持部と、 基板保持部に洗浄液を供給する保持部洗浄部とを有し、 前記基板保持部の下端部は該下端部が含まれる垂直面内
   において高低差を有する基板処理装置。
6. 【請求項６】基板に処理を施す処理液を貯留する処理槽
   と、 処理槽で処理されて処理液が付着した基板を保持する基
   板保持部と、 基板保持部に洗浄液を供給する保持部洗浄部とを有し、 前記基板保持部は長手部材であって、長手方向と直交す
   る断面において、断面形状が下方に行くに従って狭くな
   る角部を有する基板処理装置。
7. 【請求項７】請求項１、３、５に記載の基板処理装置に
   おいて、 前記基板保持部は起立状態の複数の基板を長手方向に配
   列した状態で保持するものであって、 前記処理槽は複数並設され、 前記基板保持部を複数の処理槽の並び方向に移動させ、
   かつ、垂直方向に昇降させる駆動部と、 前記複数の処理槽内に固定的に、または、処理槽に対し
   て昇降可能に設けられ、前記昇降する基板保持部との間
   で基板を授受して、前記起立状態の複数の基板を長手方
   向に配列した状態で処理槽内で基板を支持する基板ガイ
   ドとをさらに有し、 前記基板保持部の下端部は基板ガイドに支持されている
   複数の基板の内、両端に位置する2枚の基板で挟まれる
   空間よりも外側において最も低い部分を有する基板処理
   装置。
8. 【請求項８】請求項７に記載の基板処理装置において、 前記複数の処理槽のひとつが処理液中から基板を露出さ
   せるものである基板処理装置。
9. 【請求項９】請求項２、４、６に記載の基板処理装置に
   おいて、 前記基板保持部は、さらに、長手方向と直交する断面に
   おいて、断面形状が上方に向かうに従って狭くなる角部
   を有する基板処理装置。