JP2000121064A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- panel
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はヒータを加熱室上部に位置させ、天
面の孔を通じて加熱室に赤外線を供給する構造のオーブ
ンレンジに関するものであり、天面の熱膨張によるヒー
タと天面の近接防止のため、ヒータと天面の距離を大き
く確保する必要があったが簡単な構成でこの必要性をな
くす。 【解決手段】 加熱室12天面18の断面形状を3つの
同じ方向の円弧即ち中央円弧21、左円弧22、右円弧
23を含んだ構成とすることで、天面18の熱膨張を分
散し、変位方向を上下に分けることで変位量を相殺して
少なくする。
面の孔を通じて加熱室に赤外線を供給する構造のオーブ
ンレンジに関するものであり、天面の熱膨張によるヒー
タと天面の近接防止のため、ヒータと天面の距離を大き
く確保する必要があったが簡単な構成でこの必要性をな
くす。 【解決手段】 加熱室12天面18の断面形状を3つの
同じ方向の円弧即ち中央円弧21、左円弧22、右円弧
23を含んだ構成とすることで、天面18の熱膨張を分
散し、変位方向を上下に分けることで変位量を相殺して
少なくする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はオーブン電子レンジ
において、ヒータを加熱室天面の上方に位置させた。
において、ヒータを加熱室天面の上方に位置させた。
【0002】
【従来の技術】従来より加熱室内部で食品を加熱するた
めに、加熱室の底面に設けたヒータとともに、加熱室天
面の上部に管状の電熱ヒータを位置させる構成は一般的
である。図4は従来のオーブン電子レンジの例である。
食品は金属製の加熱室1の下部に取り付けられた載置台
2に置かれ、食品の下面からは底面の面状ヒータ3で加
熱され、食品の上面は天面4上方に設けた管状ヒータ5
によって加熱される。このような管状ヒータ5は、強い
輻射熱を要する調理物を扱う機種で一般に用いられ、内
蔵したコイル6の発熱によって赤外線を発生させるもの
である。
めに、加熱室の底面に設けたヒータとともに、加熱室天
面の上部に管状の電熱ヒータを位置させる構成は一般的
である。図4は従来のオーブン電子レンジの例である。
食品は金属製の加熱室1の下部に取り付けられた載置台
2に置かれ、食品の下面からは底面の面状ヒータ3で加
熱され、食品の上面は天面4上方に設けた管状ヒータ5
によって加熱される。このような管状ヒータ5は、強い
輻射熱を要する調理物を扱う機種で一般に用いられ、内
蔵したコイル6の発熱によって赤外線を発生させるもの
である。
【0003】管状ヒータ5からの赤外線は天面4に設け
られた多数の孔7を通過して加熱室1内部に供給され
る。赤外線を用いた電熱加熱においては天面4を介さず
直接加熱室1内部に管状ヒータ5を位置させた方が電熱
加熱効率は良いが、一方、マグネトロン8を用いた高周
波加熱においては、加熱室1内部に管状ヒータ3を挿入
すると高周波加熱ロスが発生するため、高周波加熱効率
を重視する場合には加熱室1外部に管状ヒータ3を位置
させることが望ましい。
られた多数の孔7を通過して加熱室1内部に供給され
る。赤外線を用いた電熱加熱においては天面4を介さず
直接加熱室1内部に管状ヒータ5を位置させた方が電熱
加熱効率は良いが、一方、マグネトロン8を用いた高周
波加熱においては、加熱室1内部に管状ヒータ3を挿入
すると高周波加熱ロスが発生するため、高周波加熱効率
を重視する場合には加熱室1外部に管状ヒータ3を位置
させることが望ましい。
【0004】また、加熱室1外部への高周波の漏出を阻
止するために、加熱室1は金属で構成され且つ壁面に孔
などを設ける場合にも高周波が抜けられない程度の大き
さの孔に留める必要がある。そのため、この従来例の天
面4はステンレス鋼板にφ7の孔7を約900個あけ、
赤外線は半分以上通過させるが、高周波は通過させない
構成となっている。
止するために、加熱室1は金属で構成され且つ壁面に孔
などを設ける場合にも高周波が抜けられない程度の大き
さの孔に留める必要がある。そのため、この従来例の天
面4はステンレス鋼板にφ7の孔7を約900個あけ、
赤外線は半分以上通過させるが、高周波は通過させない
構成となっている。
【0005】電熱加熱時に天面4の孔7を通過できなか
った赤外線は天面4の温度上昇を引き起こし、例えば幅
330mmの天面4が500deg昇温すれば約1.8mmの
熱膨張が発生する。そのため、図5に示す例のように天
面9が完全な平板形状であれば、加熱時の天面9には加
熱室締結時の残留応力などにより不均一な反り10が発
生し外観上の見苦しさが問題となる。このため、この従
来例では図4に示すように、天面4の断面は中央部を中
心に大きな円弧11を描く形状をとり、加熱時には必ず
円弧11の凸方向に膨張し外観上の問題を回避してい
る。
った赤外線は天面4の温度上昇を引き起こし、例えば幅
330mmの天面4が500deg昇温すれば約1.8mmの
熱膨張が発生する。そのため、図5に示す例のように天
面9が完全な平板形状であれば、加熱時の天面9には加
熱室締結時の残留応力などにより不均一な反り10が発
生し外観上の見苦しさが問題となる。このため、この従
来例では図4に示すように、天面4の断面は中央部を中
心に大きな円弧11を描く形状をとり、加熱時には必ず
円弧11の凸方向に膨張し外観上の問題を回避してい
る。
【0006】また、この円弧11の凸方向は上向きであ
るがこの理由を次に述べる。ユーザーが加熱室1内部の
汚れを拭き取る際に、天面4に応力が印加されるが、凸
が下向きであれば、円弧11の半径が大きく機械的強度
が小さいため、上向きに反転する恐れがある。半径を小
さく円弧11を小さいものにすれば反転はなくなるが、
熱膨張時の変形が平板形状に近づき、不均一な反りが発
生する。そのため、凸方向は上向きとし大きな円弧を構
成している。
るがこの理由を次に述べる。ユーザーが加熱室1内部の
汚れを拭き取る際に、天面4に応力が印加されるが、凸
が下向きであれば、円弧11の半径が大きく機械的強度
が小さいため、上向きに反転する恐れがある。半径を小
さく円弧11を小さいものにすれば反転はなくなるが、
熱膨張時の変形が平板形状に近づき、不均一な反りが発
生する。そのため、凸方向は上向きとし大きな円弧を構
成している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の技術では、円弧11凸部の初期高さを5mm
とした場合、1.8mmの長さ方向の熱膨張に対して凸部
は更に10mm高さ方向に変位し管状ヒータ5に近づく。
天面4があまりに管状ヒータ5に近接あるいは接触した
場合、天面4は高温となりステンレスの高温酸化を引き
起こし寿命の低下を招く。そのため、天面4と管状ヒー
タ5の距離は加熱時の膨張変位高さ10mmを配慮した位
置関係にし、加熱室1の高さを一定とするならば管状ヒ
ータ5をその分高い位置に構成せざるを得ない。この場
合、食品と管状ヒータ5の距離が大きくなり、食品に到
達する輻射熱の減少を招くといった問題や、さらには、
機器の全高が大きくなるといった問題があった。
うな従来の技術では、円弧11凸部の初期高さを5mm
とした場合、1.8mmの長さ方向の熱膨張に対して凸部
は更に10mm高さ方向に変位し管状ヒータ5に近づく。
天面4があまりに管状ヒータ5に近接あるいは接触した
場合、天面4は高温となりステンレスの高温酸化を引き
起こし寿命の低下を招く。そのため、天面4と管状ヒー
タ5の距離は加熱時の膨張変位高さ10mmを配慮した位
置関係にし、加熱室1の高さを一定とするならば管状ヒ
ータ5をその分高い位置に構成せざるを得ない。この場
合、食品と管状ヒータ5の距離が大きくなり、食品に到
達する輻射熱の減少を招くといった問題や、さらには、
機器の全高が大きくなるといった問題があった。
【0008】そこで本発明は、かかる従来の課題を解決
する高周波加熱装置を提供することを課題とする。
する高周波加熱装置を提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、加熱室の天面のうち管状ヒータ近傍の断面
が、中央部において円弧を描き、その円弧の左右端点各
々に別の円弧を接続する形状のものである。そのため天
面が加熱されて発生する熱膨張が、3つの円弧に分散さ
れるため、円弧の凸部の高さ方向の変位が小さく抑えら
れる。
するために、加熱室の天面のうち管状ヒータ近傍の断面
が、中央部において円弧を描き、その円弧の左右端点各
々に別の円弧を接続する形状のものである。そのため天
面が加熱されて発生する熱膨張が、3つの円弧に分散さ
れるため、円弧の凸部の高さ方向の変位が小さく抑えら
れる。
【0010】また本発明は、中央の円弧と外側の円弧の
接点を不連続とし、外側の円弧の天面外周側端点が天面
外周の水平面に連続して接続された構成である。これら
の円弧の凸方向を上向きにした場合、加熱時に円弧と円
弧の接点は下向きに変位し、中央の円弧の上向きの変位
を相殺する方向に作用する。逆に、円弧の凸方向を全て
下向きにした場合、加熱時に円弧と円弧の接点は上向き
に変位し、中央の円弧の下向きの変位を相殺する方向に
作用する。
接点を不連続とし、外側の円弧の天面外周側端点が天面
外周の水平面に連続して接続された構成である。これら
の円弧の凸方向を上向きにした場合、加熱時に円弧と円
弧の接点は下向きに変位し、中央の円弧の上向きの変位
を相殺する方向に作用する。逆に、円弧の凸方向を全て
下向きにした場合、加熱時に円弧と円弧の接点は上向き
に変位し、中央の円弧の下向きの変位を相殺する方向に
作用する。
【0011】このような作用によって、加熱時の天面の
高さ方向への変形が大きく変位することを防止でき、管
状ヒータと天面の距離を必要以上に確保する必要がな
い。よって食品と管状ヒータの距離を適切な関係に構成
でき、輻射熱の減少を招くことも、機器の全高を大きく
する必要もなくなる。
高さ方向への変形が大きく変位することを防止でき、管
状ヒータと天面の距離を必要以上に確保する必要がな
い。よって食品と管状ヒータの距離を適切な関係に構成
でき、輻射熱の減少を招くことも、機器の全高を大きく
する必要もなくなる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明は、食品を収納する加熱室
と、前記加熱室に結合され高周波エネルギを供給するマ
グネトロンと、前記加熱室の上部を構成し多数の孔を有
する板状の天面部と、天面部の更に上方に位置し天面部
の孔を通じて赤外線を前記加熱室内部に供給する管状の
電熱加熱手段とを備えた高周波加熱装置において前記天
面部のうち前記電熱加熱手段発熱部近傍の垂直方向断面
形状が、中央部において大凡左右線対称な円弧形状を描
く第一の円弧と、第一の円弧の左端点に不連続に接続さ
れる第二の円弧と、第一の円弧の右端点に不連続に接続
される第三の円弧から形成され、第二の円弧と第三の円
弧各々の第一の円弧に接続されていない端点は天面部の
端部に繋がるほぼ水平な直線に連続して接続され、第一
の円弧と第二の円弧と第三の円弧の全てが上又は下方向
の何れか一方に凸となった構成である。
と、前記加熱室に結合され高周波エネルギを供給するマ
グネトロンと、前記加熱室の上部を構成し多数の孔を有
する板状の天面部と、天面部の更に上方に位置し天面部
の孔を通じて赤外線を前記加熱室内部に供給する管状の
電熱加熱手段とを備えた高周波加熱装置において前記天
面部のうち前記電熱加熱手段発熱部近傍の垂直方向断面
形状が、中央部において大凡左右線対称な円弧形状を描
く第一の円弧と、第一の円弧の左端点に不連続に接続さ
れる第二の円弧と、第一の円弧の右端点に不連続に接続
される第三の円弧から形成され、第二の円弧と第三の円
弧各々の第一の円弧に接続されていない端点は天面部の
端部に繋がるほぼ水平な直線に連続して接続され、第一
の円弧と第二の円弧と第三の円弧の全てが上又は下方向
の何れか一方に凸となった構成である。
【0013】そして、天面部が管状の電熱加熱手段によ
って熱せられて場合に、天面部の熱膨張が3つの円弧に
分散されるため円弧の凸部の変位が小さく抑えられる。
また、第一の円弧と第二・第三の円弧の接点が不連続で
あり、第二・第三の円弧の天面部外周側端点が天面部外
周の水平面に連続して接続されているため、熱時に円弧
と円弧の接点の変位する方向と、第一の円弧の変位の方
向が逆向きとなり、変位量を相殺する作用がある。
って熱せられて場合に、天面部の熱膨張が3つの円弧に
分散されるため円弧の凸部の変位が小さく抑えられる。
また、第一の円弧と第二・第三の円弧の接点が不連続で
あり、第二・第三の円弧の天面部外周側端点が天面部外
周の水平面に連続して接続されているため、熱時に円弧
と円弧の接点の変位する方向と、第一の円弧の変位の方
向が逆向きとなり、変位量を相殺する作用がある。
【0014】これらの作用によって、熱時の天面部の膨
張が高さ方向に大きく変位することを防止でき、管状電
熱加熱手段と天面部の距離を必要以上に確保する必要が
ない。よって被加熱物と管状電熱加熱手段の距離を適切
な関係に構成でき、輻射熱の減少を招くことも、機器の
全高を大きくすることもなくなる。
張が高さ方向に大きく変位することを防止でき、管状電
熱加熱手段と天面部の距離を必要以上に確保する必要が
ない。よって被加熱物と管状電熱加熱手段の距離を適切
な関係に構成でき、輻射熱の減少を招くことも、機器の
全高を大きくすることもなくなる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。
説明する。
【0016】(実施例1)本発明のオーブン電子レンジ
の実施例1の断面を図1に示す。食品は金属製の加熱室
12の下部に取り付けられた載置台13に置かれ、高周
波加熱の場合、加熱室12の側壁14に結合されたマグ
ネトロン15によって加熱される。電熱加熱の場合には
底面16に結合されたの面状ヒータ17と、天面18上
方に設けた管状ヒータ19によって加熱される。
の実施例1の断面を図1に示す。食品は金属製の加熱室
12の下部に取り付けられた載置台13に置かれ、高周
波加熱の場合、加熱室12の側壁14に結合されたマグ
ネトロン15によって加熱される。電熱加熱の場合には
底面16に結合されたの面状ヒータ17と、天面18上
方に設けた管状ヒータ19によって加熱される。
【0017】管状ヒータ19から発せられる赤外線は、
天面18に約900個設けられたφ7の孔20を通過し
て加熱室12内部に供給される。電熱加熱時に天面18
の孔20を通過できなかった赤外線は天面18を昇温さ
せる。天面18の材質はフェライト系ステンレス鋼であ
り、幅330mmが500deg昇温すれば約1.8mmの長
さ方向の熱膨張が発生する。
天面18に約900個設けられたφ7の孔20を通過し
て加熱室12内部に供給される。電熱加熱時に天面18
の孔20を通過できなかった赤外線は天面18を昇温さ
せる。天面18の材質はフェライト系ステンレス鋼であ
り、幅330mmが500deg昇温すれば約1.8mmの長
さ方向の熱膨張が発生する。
【0018】ここで、天面18の断面詳細を図2に示
す。天面18のほぼ中央部に中央円弧21を設け、その
左右外側に左円弧22と右円弧23が上向きに凸の形状
で設けられている。これらの円弧は天面18のほぼ中心
に対し左右対称な形状をしており、同じく中心に対して
左右対称な形状で配置されている管状ヒータ19の左右
対称な赤外線を受けて膨張する。天面18の左端から伸
びる左直線部24と左円弧22の接点を接点A、左円弧
22と中央円弧21の接点を接点B、右円弧23と中央
円弧21の接点を接点C、天面18の右端から伸びる右
直線部25と右円弧23の接点を接点Dとすると、接点
Aおよび接点Dは連続した点にあり、接点Bおよび接点
Cは不連続な点に存在する。
す。天面18のほぼ中央部に中央円弧21を設け、その
左右外側に左円弧22と右円弧23が上向きに凸の形状
で設けられている。これらの円弧は天面18のほぼ中心
に対し左右対称な形状をしており、同じく中心に対して
左右対称な形状で配置されている管状ヒータ19の左右
対称な赤外線を受けて膨張する。天面18の左端から伸
びる左直線部24と左円弧22の接点を接点A、左円弧
22と中央円弧21の接点を接点B、右円弧23と中央
円弧21の接点を接点C、天面18の右端から伸びる右
直線部25と右円弧23の接点を接点Dとすると、接点
Aおよび接点Dは連続した点にあり、接点Bおよび接点
Cは不連続な点に存在する。
【0019】この実施例では、天面18の左端部から接
点Aの水平距離は50mm、、接点AB間は20mm、接点
BC間190mm、接点CD間20mm、接点Dからは右端
部50mmの構成とした。また、垂直方向には接点Aか
ら接点Bの距離を3mm、接点Bから中央円弧21の最高
点まで4mmとし、この最高点を中心に水平方向に左右対
称形状となっている。
点Aの水平距離は50mm、、接点AB間は20mm、接点
BC間190mm、接点CD間20mm、接点Dからは右端
部50mmの構成とした。また、垂直方向には接点Aか
ら接点Bの距離を3mm、接点Bから中央円弧21の最高
点まで4mmとし、この最高点を中心に水平方向に左右対
称形状となっている。
【0020】この形状で天面18が500deg昇温した
場合、左右端部の直線部と左円弧22・右円弧23が接
点A・接点Dにて連続して接続されているため、膨張に
よる接点B・接点Cの垂直変位は下方向に決定され、そ
の変位量は約2mmとなる。また、接点B・接点Cが不連
続なため、その近辺での変位の方向も不安定にならず、
中央円弧21の最高点は常に上向きに約6mmの変位量と
なる。垂直方向の変位の絶対値和は10mmであるが、上
下に相殺されるため中央円弧21が冷時から変位する量
は上向きに4mmとなる。
場合、左右端部の直線部と左円弧22・右円弧23が接
点A・接点Dにて連続して接続されているため、膨張に
よる接点B・接点Cの垂直変位は下方向に決定され、そ
の変位量は約2mmとなる。また、接点B・接点Cが不連
続なため、その近辺での変位の方向も不安定にならず、
中央円弧21の最高点は常に上向きに約6mmの変位量と
なる。垂直方向の変位の絶対値和は10mmであるが、上
下に相殺されるため中央円弧21が冷時から変位する量
は上向きに4mmとなる。
【0021】以上のような構成により、天面18の熱膨
張は3つの円弧に分散され、且つ、上下方向の変位にで
相殺されるため、天面18と管状ヒータ5の距離を必要
以上に大きく確保する必要がなく、食品・管状ヒータ1
9・天面18の距離を適切な関係に構成でき、輻射熱の
減少を招くことも、機器の全高を大きくすることもなく
なる。
張は3つの円弧に分散され、且つ、上下方向の変位にで
相殺されるため、天面18と管状ヒータ5の距離を必要
以上に大きく確保する必要がなく、食品・管状ヒータ1
9・天面18の距離を適切な関係に構成でき、輻射熱の
減少を招くことも、機器の全高を大きくすることもなく
なる。
【0022】(実施例2)本発明のオーブン電子レンジ
の別の実施例2の要部断面を図3に示す。この実施例で
は天面26以外の構成は実施例1と同一である。実施例
1との相違点は天面が実施例1と天地逆方向になってい
ることである。つまり、3つの円弧の凸方向が下向きと
なっており、最も変位の大きい位置が中央円弧27の中
央部となる。この部分の冷時から熱時の最大変位は下方
向に4mmで、管状ヒータ28との熱時の距離は問題とな
らなくなる。一方、その左右の接点は逆に上方に2mm変
位するため、実施例1と比較して2mm低い位置に管状ヒ
ータ28を位置させることができる。
の別の実施例2の要部断面を図3に示す。この実施例で
は天面26以外の構成は実施例1と同一である。実施例
1との相違点は天面が実施例1と天地逆方向になってい
ることである。つまり、3つの円弧の凸方向が下向きと
なっており、最も変位の大きい位置が中央円弧27の中
央部となる。この部分の冷時から熱時の最大変位は下方
向に4mmで、管状ヒータ28との熱時の距離は問題とな
らなくなる。一方、その左右の接点は逆に上方に2mm変
位するため、実施例1と比較して2mm低い位置に管状ヒ
ータ28を位置させることができる。
【0023】また、円弧の凸方向が下向きであるが、小
さい半径の3つの円弧で構成されることで機械的強度に
優れ、ユーザーによって下側から応力が印加されても反
転する恐れはない。
さい半径の3つの円弧で構成されることで機械的強度に
優れ、ユーザーによって下側から応力が印加されても反
転する恐れはない。
【0024】このように、天面26から管状ヒータ28
の距離を小さくすることを特に優先する場合には実施例
2の形態を用い、加熱室の高さを優先させたい機種にお
いては前述の実施例1を用いることが有効である。
の距離を小さくすることを特に優先する場合には実施例
2の形態を用い、加熱室の高さを優先させたい機種にお
いては前述の実施例1を用いることが有効である。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、天面部が
管状の電熱加熱手段によって熱せられて場合に、天面部
の熱膨張が3つの円弧に分散されるため円弧の凸部の上
下の変位が小さく抑えられる。また、第一の円弧と第二
・第三の円弧の接点が不連続であり、第二・第三の円弧
の天面部外周側端点が天面部外周の水平面に連続して接
続されているため、熱時に円弧と円弧の接点の変位する
方向と、第一の円弧の変位の方向が逆向きとなり、変位
量を相殺する作用がある。
管状の電熱加熱手段によって熱せられて場合に、天面部
の熱膨張が3つの円弧に分散されるため円弧の凸部の上
下の変位が小さく抑えられる。また、第一の円弧と第二
・第三の円弧の接点が不連続であり、第二・第三の円弧
の天面部外周側端点が天面部外周の水平面に連続して接
続されているため、熱時に円弧と円弧の接点の変位する
方向と、第一の円弧の変位の方向が逆向きとなり、変位
量を相殺する作用がある。
【0026】これらの作用によって、熱時の天面部の膨
張が高さ方向に大きく変位することを防止でき、管状電
熱加熱手段と天面部の距離を必要以上に確保する必要が
ない。よって被加熱物と管状電熱加熱手段の距離を適切
な関係に構成でき、輻射熱の減少を招くことも、機器の
全高を大きくする必要もない。
張が高さ方向に大きく変位することを防止でき、管状電
熱加熱手段と天面部の距離を必要以上に確保する必要が
ない。よって被加熱物と管状電熱加熱手段の距離を適切
な関係に構成でき、輻射熱の減少を招くことも、機器の
全高を大きくする必要もない。
【図1】本発明の実施例1におけるオーブン電子レンジ
の要部構成断面図
の要部構成断面図
【図2】本発明の実施例1におけるオーブン電子レンジ
の要部断面図
の要部断面図
【図3】本発明の実施例2におけるオーブン電子レンジ
の要部断面図
の要部断面図
【図4】従来のオーブン電子レンジの要部構成断面図
【図5】従来のオーブン電子レンジの要部断面図
12 加熱室 18 天面 19 管状ヒータ 21 中央円弧 22 左円弧 23 右円弧
Claims (1)
- 【請求項1】食品を収納する加熱室と、前記加熱室に結
合され高周波エネルギを供給するマグネトロンと、前記
加熱室の上部を構成する多数の孔を有する板状の天面部
と、前記天面部の更に上方に位置し前記天面部の孔を通
じて赤外線を前記加熱室内部に供給する管状の電熱加熱
手段とを備えた高周波加熱装置において、前記天面部の
うち前記電熱加熱手段発熱部近傍の垂直方向断面形状
が、中央部において大凡左右線対称な円弧形状を描く第
一の円弧と、前記第一の円弧の左端点に不連続に接続さ
れる第二の円弧と、前記第一の円弧の右端点に不連続に
接続される第三の円弧から形成され、前記第二の円弧と
前記第三の円弧各々の前記第一の円弧に接続されていな
い端点は前記天面部の端部に繋がるほぼ水平な直線に連
続して接続され、前記第一の円弧と前記第二の円弧と前
記第三の円弧の全てが上又は下方向の何れか一方に凸の
高周波加熱装置。
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---|---|---|---|
JP10296364A JP2000121064A (ja) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | 高周波加熱装置 |
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---|---|---|---|
JP10296364A JP2000121064A (ja) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | 高周波加熱装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000121064A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8074634B2 (en) | 2006-09-26 | 2011-12-13 | Char-Broil, Llc | Cooking apparatus with concave emitter |
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-
1998
- 1998-10-19 JP JP10296364A patent/JP2000121064A/ja active Pending
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