JP2000147234A - Color filter and liquid crystal display device - Google Patents
Color filter and liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、分割配向用の突起
パターンとスペーサー機能を有するカラーフィルター及
びこれを用いた液晶表示装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a color filter having a projection pattern for division alignment and a spacer function, and a liquid crystal display device using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のカラー液晶表示装置のセルの構造
は基本的にはカラーフィルターを有する基板とTFTア
レイ基板のような透明基板上に導電膜を形成した対向基
板からなっているものである。ここでカラーフィルター
の通常の製造方法としては、例えば特公平2−1311
号公報に示されるごとく、まず透明基板上にブラックマ
トリックス、次いで赤(R)、緑(G)、青(B)の画
素を形成せしめ、この上に必要に応じてオーバーコート
膜を形成させるものである。2. Description of the Related Art A conventional cell structure of a color liquid crystal display device basically comprises a substrate having a color filter and a counter substrate having a conductive film formed on a transparent substrate such as a TFT array substrate. . Here, as a normal method of manufacturing a color filter, for example, Japanese Patent Publication No. 2-1311
As shown in the publication, a black matrix is formed on a transparent substrate, and then red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed on the transparent substrate, and an overcoat film is formed thereon as necessary. It is.
【0003】ブラックマトリックスは、各画素間に配列
された遮光領域を示し、液晶表示装置の表示コントラス
トを向上させ、またTFTなどの能動素子に光が入射し
て誤動作することを防ぐために設けられる。通常ブラッ
クマトリックスは、透明基板上にクロムやニッケル等の
金属又はそれらの酸化物等を積層したものをパターニン
グすることにより形成せしめる。The black matrix indicates a light-shielding region arranged between pixels, and is provided to improve display contrast of a liquid crystal display device and to prevent light from being incident on an active element such as a TFT and causing a malfunction. Usually, the black matrix is formed by patterning a laminate of a metal such as chromium or nickel or an oxide thereof on a transparent substrate.
【0004】この上に、液晶を電界で駆動させるために
必要な透明電極が形成される。セルの組み立てに際して
は、液晶を配向させるため、この透明電極の上に配向膜
を形成させた後、ラビング処理を行う。この後セル組み
立て工程へ送られ、対向基板と貼り合わされ、液晶注入
が行われるものである。On this, a transparent electrode necessary for driving the liquid crystal by an electric field is formed. In assembling the cell, a rubbing treatment is performed after forming an alignment film on the transparent electrode in order to align the liquid crystal. After that, it is sent to a cell assembling step, is bonded to the counter substrate, and liquid crystal is injected.
【0005】また近年、液晶表示装置の大画面化やモニ
タ用途への展開に伴い視野角の拡大が求められている。
従来のTN方式に使用されるポジ型液晶に対して、ネガ
型液晶を使用したVA(垂直配向)液晶表示装置の開発
が進み、さらにこの改良型としてMVA(配向分割垂直
配向)液晶表示装置が開発された(例えば、ELECTRONIC
JOURNAL 1997年10月号,33頁、又はSOCIETY FOR INFORM
ATION DISPLAY INTERNATIONAL SYMPOSIUM DIGEST OF TE
CHNICAL PAPERS VOLUME XXIX,1077〜1080頁)。このM
VA液晶表示装置は広視野角に特徴を有し、カラーフィ
ルターの画素上での配向を分割するために、TFT基板
とカラーフィルター基板の表面に突起を設けることによ
り、液晶配列方向の制御を自動的に行っているものであ
る。本方式ではこの分割配向用突起パターンの形成と構
成が技術的に重要となる。In recent years, with the enlargement of the screen of the liquid crystal display device and the development of the liquid crystal display device to monitor applications, an increase in the viewing angle has been demanded.
Development of a VA (vertical alignment) liquid crystal display device using a negative type liquid crystal has progressed with respect to the positive type liquid crystal used in the conventional TN mode, and an MVA (alignment division vertical alignment) liquid crystal display device has been developed as an improved type. Developed (eg, ELECTRONIC
JOURNAL October 1997, page 33, or SOCIETY FOR INFORM
ATION DISPLAY INTERNATIONAL SYMPOSIUM DIGEST OF TE
CHNICAL PAPERS VOLUME XXIX, pp. 1077-1080). This M
VA liquid crystal display devices are characterized by a wide viewing angle. In order to divide the orientation of the color filters on the pixels, projections are provided on the surface of the TFT substrate and the color filter substrate to automatically control the liquid crystal alignment direction. It is something that is going on. In this method, the formation and configuration of the projection pattern for divisional alignment are technically important.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】一般に、液晶表示装置
は、液晶層の厚み(セルギャップ)を保持するために、
2枚の液晶表示装置用基板間にプラスチックビーズ、ガ
ラスビーズ又はガラス繊維を挟んでスペーサーとして使
用している。プラスチックビーズ等のスペーサーは、気
流に乗せて散布させているが、プラスチックビーズ等の
スペーサー散布時の気流や静電気の影響で、均一にかつ
凝集しないで分散せしめることが難しい。スペーサーが
凝集すると、凝集部分はセルギャップムラが発生し、表
示品質が悪化しやすいという欠点があった。Generally, in a liquid crystal display device, in order to maintain the thickness (cell gap) of a liquid crystal layer,
A plastic bead, a glass bead, or a glass fiber is interposed between two substrates for a liquid crystal display device and used as a spacer. Although spacers such as plastic beads are scattered in an airflow, it is difficult to disperse them uniformly and without agglomeration due to the influence of airflow and static electricity when the spacers such as plastic beads are scattered. When the spacers are aggregated, there is a disadvantage that cell gap unevenness occurs in the aggregated portions, and the display quality is likely to deteriorate.
【0007】また、液晶表示装置用基板上の表示領域
(ブラックマトリックス部を除く画面内の光透過部)に
もスペーサーが存在するため、このスペーサーによる光
の散乱や透過により、液晶表示装置の表示品位が低下す
るという問題もあった。Further, since a spacer is also present in a display area on the substrate for a liquid crystal display device (a light transmitting portion in a screen excluding a black matrix portion), light is scattered or transmitted by the spacer, so that the display of the liquid crystal display device is performed. There was also a problem that the quality deteriorated.
【0008】さらに、カラーフィルタ上に分割配向用の
突起パターンを形成するため、カラーフィルター表面が
凹凸になり、従来のプラスチックビーズ等のスペーサー
においては十分に均一なセルギャップを得ることが困難
であるという問題があった。Further, since a projection pattern for divided orientation is formed on the color filter, the surface of the color filter becomes uneven, and it is difficult to obtain a sufficiently uniform cell gap with a conventional spacer such as plastic beads. There was a problem.
【0009】また、工程を簡略化し、コストを低減する
ために、上記のブラックマトリックスを省略し、代わり
に隣り合う着色層の一部を重ね合わせることによりブラ
ックマトリックスを形成する場合、同様にブラックマト
リックス部が凸になり、均一なセルギャップを得ること
が困難であるという問題があった。Further, in order to simplify the process and reduce the cost, the above black matrix is omitted, and instead, the black matrix is formed by overlapping a part of the adjacent colored layers. There is a problem that the portion becomes convex and it is difficult to obtain a uniform cell gap.
【0010】本発明の目的は、優れた表示特性と広視野
角に特徴を有するMVA液晶表示装置を与えるところの
カラーフィルターを提供することにあり、特に均一なセ
ルギャップを実現し、表示品位を向上するとともに、生
産性の良好なカラーフィルターを提供することにある。An object of the present invention is to provide a color filter which provides an MVA liquid crystal display device having excellent display characteristics and a wide viewing angle, and in particular, realizes a uniform cell gap and improves display quality. It is another object of the present invention to provide a color filter having improved productivity and good productivity.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
構成によって達成される。The object of the present invention is achieved by the following constitution.
【0012】(1)透明基板上に少なくとも複数色の着
色層、透明電極、分割配向用突起パターンをこの順に積
層したカラーフィルタにおいて、該着色層の一部を2色
以上重ね合わせることによりブラックマトリックスを形
成せしめ、かつ該ブラックマトリックスの上の透明電極
上に前記分割配向用突起パターンの一部、及び/又は分
割配向用突起パターンと同一の材料からなるスペーサー
を設けたことを特徴とするカラーフィルター。(1) In a color filter in which at least a colored layer of a plurality of colors, a transparent electrode, and a projection pattern for divided orientation are laminated in this order on a transparent substrate, a part of the colored layer is overlapped with two or more colors to form a black matrix. And a spacer comprising a part of the projection pattern for split orientation and / or a spacer made of the same material as the projection pattern for split orientation is provided on the transparent electrode on the black matrix. .
【0013】(2)着色層の一部を2色重ね合わせて形
成せしめたブラックマトリックスを有しており、かつ該
ブラックマトリックスの上の透明電極上に分割配向用突
起パターンの一部、及び/又は分割配向用突起パターン
と同一の材料からなるスペーサーを設けたことを特徴と
する(1)記載のカラーフィルター。(2) It has a black matrix in which a part of a colored layer is formed by overlapping two colors, and a part of a projection pattern for divided alignment on a transparent electrode on the black matrix, and / or Alternatively, the color filter according to (1), further comprising a spacer made of the same material as the projection pattern for divided alignment.
【0014】(3)着色層の一部を2色重ね合わせて形
成せしめたブラックマトリックスを有しており、かつ該
ブラックマトリックスの上に3色目の着色層パターンを
設け、さらにその上に透明電極透明電極ならびに分割配
向用突起パターンの一部、及び/又は分割配向用突起パ
ターンと同一の材料からなるスペーサーを形成したこと
を特徴とする(1)記載のカラーフィルター。(3) It has a black matrix in which a part of a colored layer is formed by superposing two colors, and a third colored layer pattern is provided on the black matrix, and a transparent electrode is further formed thereon. (1) The color filter according to (1), wherein a spacer made of the same material as the transparent electrode and a part of the projection pattern for divided orientation and / or the projection pattern for divided orientation is formed.
【0015】(4)着色層の一部を2色重ね合わせて形
成せしめたブラックマトリックスを有しており、該ブラ
ックマトリックスの上の透明電極上上に分割配向用突起
パターンを形成し、かつ該ブラックマトリックスの上
に、3色目の着色層パターン、透明電極および分割配向
用突起パターンと同一の材料を積層してスペーサーを形
成したことを特徴とする(1)記載のカラーフィルター。(4) A black matrix in which a part of the colored layer is formed by overlapping two colors, a projection pattern for divided orientation is formed on the transparent electrode on the black matrix, and The color filter according to (1), wherein the same material as the third colored layer pattern, the transparent electrode, and the projection pattern for divided alignment is laminated on the black matrix to form a spacer.
【0016】(5)着色層の一部を3色重ね合わせて形
成せしめたブラックマトリックスを有しており、かつ該
ブラックマトリックスの上の透明電極上に分割配向用突
起パターンの一部、及び又は分割配向用突起パターンと
同一の材料からなるスペーサーを形成したことを特徴と
する(1)記載のカラーフィルター。(5) It has a black matrix in which a part of a colored layer is formed by superimposing three colors, and a part of a projection pattern for divided orientation on a transparent electrode on the black matrix, and / or The color filter according to (1), wherein a spacer made of the same material as the division alignment projection pattern is formed.
【0017】(6)着色層の一部を2色及び3色重ね合
わせて形成せしめたブラックマトリックスを有してお
り、該2色重ね合わせて形成せしめたブラックマトリッ
クスの上の透明電極上に分割配向用突起パターンを形成
し、かつ該3色重ね合わせて形成せしめたブラックマト
リックスの上の透明電極上に分割配向用突起パターンと
同一の材料からなるスペーサーを形成したことを特徴と
する(1)記載のカラーフィルター。(6) It has a black matrix in which a part of the colored layer is formed by superimposing two colors and three colors, and is divided on the transparent electrode on the black matrix formed by superposing two colors. A projection pattern for alignment is formed, and a spacer made of the same material as the projection pattern for divisional alignment is formed on a transparent electrode on a black matrix formed by overlapping the three colors (1). The color filter described.
【0018】(7)分割配向用突起パターンを形成する
材料が電気的に絶縁性であることを特徴とする(1)〜
(6)記載のカラーフィルタ。(7) The material for forming the projection pattern for divided orientation is electrically insulating.
The color filter according to (6).
【0019】(8)分割配向用突起パターンが、樹脂中
に顔料を分散せしめた材料からなることを特徴とする
(1)〜(7)記載のカラーフィルタ。(8) The projection pattern for divided alignment is made of a material in which a pigment is dispersed in a resin.
The color filter according to any one of (1) to (7).
【0020】(9)顔料が絶縁性の白色顔料であること
を特徴とする(8)記載のカラーフィルター。(9) The color filter according to (8), wherein the pigment is an insulating white pigment.
【0021】(10)顔料が酸化チタン、酸化珪素、酸
化アルミニウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、
酸化鉛、酸化クロム、酸化鉄、ジルコニア、硫酸バリウ
ムの中から選ばれたものからなることを特徴とする(9)
記載のカラーフィルター。(10) The pigment is titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, calcium carbonate, magnesium oxide,
(9) It is made of one selected from lead oxide, chromium oxide, iron oxide, zirconia, and barium sulfate.
The color filter described.
【0022】(11)(1)〜(10)のいずれかに記載の
カラーフィルターを用いたことを特徴とする液晶表示装
置。(11) A liquid crystal display device using the color filter according to any one of (1) to (10).
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明のカラーフィルターに用いられる透明基板
としては、特に限定されるものではなく、石英ガラス、
ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面をシ
リカコートしたソーダライムガラスなどの無機ガラス
類、有機プラスチックのフィルム又はシート等が好まし
く用いられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The transparent substrate used for the color filter of the present invention is not particularly limited, and quartz glass,
Inorganic glasses such as borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass having a silica-coated surface, and organic plastic films or sheets are preferably used.
【0024】まず、透明基板上に着色層を積層する。カ
ラーフィルターは、通常3原色から成る各着色層により
形成された画素を1絵素とし、多数の絵素により構成さ
れている。3原色としては、通常、赤(R)、緑
(G)、青(B)または、シアン(C)、マゼンダ
(M)、イエロー(Y)が用いられ、各画素にはこれら
の3色の着色層により形成される。First, a colored layer is laminated on a transparent substrate. The color filter is generally composed of a large number of picture elements, with pixels formed by each colored layer of three primary colors as one picture element. As the three primary colors, red (R), green (G), blue (B) or cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) are usually used. It is formed by a colored layer.
【0025】着色層に用いられる着色剤としては、有機
顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、さ
らには、紫外線吸収剤、分散剤、レベリング剤等の種々
の添加剤を添加してもよい。顔料としては、赤(R)と
してColor Index No.9、97、122、123、14
9、168、177、180、192、215など、緑
(G)としてColor Index No.7、36など、青(B)
としてはColor Index No.15、22、60、64など
が一般的に用いられる。分散剤としては界面活性剤、顔
料の中間体、染料の中間体、高分子分散剤などの広範囲
のものが使用される。As the coloring agent used in the coloring layer, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be suitably used. Further, various additives such as an ultraviolet absorber, a dispersing agent and a leveling agent are added. You may. As the pigment, Color Index Nos. 9, 97, 122, 123, and 14 as red (R)
9, 168, 177, 180, 192, 215, etc. Color Index No. 7, 36 as blue (G) Blue (B) as green (G)
Color Index Nos. 15, 22, 60, 64, etc. are generally used. A wide range of dispersants such as surfactants, pigment intermediates, dye intermediates, and polymer dispersants are used.
【0026】着色層に用いられる樹脂としては、特に限
定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレ
タン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂などの感光性又は非感光性の材料
が採用できる。本発明の着色層は、微細な加工が可能
で、熱的に安定でかつ力学的に強靱な樹脂で形成されて
いることが好ましいので、アクリル系樹脂、ポリイミド
系樹脂、エポキシ樹脂系の採用が特に好ましい。The resin used for the colored layer is not particularly limited, but may be an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin,
A photosensitive or non-photosensitive material such as a polyolefin resin can be employed. Since the colored layer of the present invention can be finely processed and is preferably formed of a thermally stable and mechanically strong resin, it is preferable to use an acrylic resin, a polyimide resin, or an epoxy resin. Particularly preferred.
【0027】ここで、ポリイミド系樹脂としては、特に
限定されるものではないが、通常下記一般式で表される
構造単位を主成分とするポリイミド前駆体を、加熱又は
適当な触媒によってイミド化したものが好適に用いられ
る。Here, the polyimide resin is not particularly limited, but usually a polyimide precursor having a structural unit represented by the following general formula as a main component is imidized by heating or an appropriate catalyst. Are preferably used.
【0028】[0028]
【化1】 ここで上記一般式のnは、1〜2の数である。R1は、
酸成分残基であり、R1は少なくとも2個の炭素原子を
有する3価または4価の有機基を示す。耐熱性の面か
ら、R1は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環
を含有し、かつ炭素数6から30の3価または4価の基
が好ましい。R1の例として、フェニル基、ビフェニル
基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフ
ェニルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフェニ
ルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフル
オロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチル基な
どから誘導された基が挙げられるがこれらに限定される
ものではない。Embedded image Here, n in the above general formula is a number of 1 to 2. R1 is
It is an acid component residue, and R1 represents a trivalent or tetravalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R1 is preferably a trivalent or tetravalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R1 include those derived from phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, cyclobutyl, cyclopentyl, and the like. But are not limited thereto.
【0029】R2は、少なくなくとも2個の炭素原子を
有する2価の有機基を示す。耐熱性の面から、R2は環
状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、か
つ炭素数6から30の2価の基が好ましい。R2の例と
して、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナ
フタレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフ
ェニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフ
ェノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェ
ニルメタン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導さ
れた基が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。一般式(1)で表される構造単位を主成分とするポ
リマーは、R1、R2がこれらの内各々1個から構成さ
れていても良いし、各々2種以上から構成される共重合
体であっても良い。R2 represents a divalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R2 is preferably a divalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R2 include phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, diphenylmethane, and cyclohexylmethane. However, the present invention is not limited thereto. The polymer having the structural unit represented by the general formula (1) as a main component may be a copolymer in which R1 and R2 are each composed of one or two or more. There may be.
【0030】またアクリル系樹脂としては、アクリル
酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタク
リレートなどのアルキルアクリレートまたはアルキルメ
タクリレート、環状のアクリレートまたはメタクリレー
ト、ヒドロキシエチルアクリレートまたは、メタクリレ
ートなどの内から3〜5種類程度のモノマを用いて、分
子量5000〜200000程度に重合した樹脂を用い
るのが特に好ましい。なお、アクリル系樹脂材料が感光
性か非感光性は制限されないが、微細加工のしやすさの
点から感光性の材料が好ましく用いられる。感光性樹脂
の場合には、アクリル系樹脂と光重合性モノマ、光重合
開始剤を配合した組成物が好ましく用いられる。光重合
性モノマとしては、2官能、3官能、多官能モノマがあ
り、2官能モノマとして、1,6−ヘキサンジオールジ
アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールアクリレートなどがあり、3官能モノマとし
て、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、トリス(2−ヒドロ
キシエチル)イソシアネートなどがあり、多官能モノマ
としてジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレー
トなどがある。また、光重合開始剤としては、ベンゾフ
ェノン、チオキサントン、イミダゾール、トリアジン系
などが単独もしくは混合で用いられる。As the acrylic resin, about 3 to 5 kinds of acrylic acrylate, methacrylic acid, alkyl acrylate or alkyl methacrylate such as methyl acrylate or methyl methacrylate, cyclic acrylate or methacrylate, hydroxyethyl acrylate or methacrylate are used. It is particularly preferable to use a resin polymerized to a molecular weight of about 5,000 to 200,000 by using the above monomer. It should be noted that the acrylic resin material is not limited to photosensitive or non-photosensitive, but a photosensitive material is preferably used from the viewpoint of ease of fine processing. In the case of a photosensitive resin, a composition comprising an acrylic resin, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator is preferably used. Photopolymerizable monomers include difunctional, trifunctional, and polyfunctional monomers, and bifunctional monomers include 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and triethylene glycol acrylate. There are trifunctional monomers such as trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanate, and polyfunctional monomers such as ditrimethylolpropane tetraacrylate.
Examples include dipentaerythritol penta and hexaacrylate. As the photopolymerization initiator, benzophenone, thioxanthone, imidazole, triazine and the like are used alone or in combination.
【0031】着色層を形成する方法としては、基板上に
着色剤を含むペーストを塗布、乾燥した後に、パターニ
ングを行う。着色剤を分散又は溶解させ着色ペーストを
得る方法としては、溶媒中に樹脂と着色剤を混合させた
後、三本ロール、サンドグラインダー、ボールミルなど
の分散機中で分散させる方法などがあるが、この方法に
特に限定されない。As a method for forming a colored layer, a paste containing a colorant is applied on a substrate, dried, and then patterned. As a method of obtaining a colored paste by dispersing or dissolving the colorant, after mixing the resin and the colorant in a solvent, three-roll, sand grinder, there is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, The method is not particularly limited.
【0032】着色ペーストを塗布する方法としては、デ
ィップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダイコーテ
ィング法、ワイヤーバーコーティング法等が好適に用い
られ、この後、オーブンやホットプレートを用いて加熱
乾燥(セミキュア)を行う。セミキュア条件は、使用す
る樹脂、溶媒、ペースト塗布量により異なるが、通常6
0〜200℃で1〜60分加熱することが好ましい。こ
のほかに、転写法で着色層を形成してもよい。As a method for applying the coloring paste, a dip method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a wire bar coating method, or the like is suitably used, and thereafter, heating and drying using an oven or a hot plate ( Semi-cure). The semi-curing conditions vary depending on the resin used, the solvent, and the amount of the paste applied.
It is preferable to heat at 0 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes. In addition, a colored layer may be formed by a transfer method.
【0033】このようにして得られた着色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にフォ
トレジスト膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹
脂である場合は、必要に応じて酸素遮断膜を形成した後
に、それぞれ露光、現像を行う。フォトレジスト膜や酸
素遮断膜を除去した後、加熱乾燥(本キュア)する。In the colored paste film thus obtained, after a photoresist film is formed thereon when the resin is a non-photosensitive resin, and when the resin is a photosensitive resin, After forming an oxygen barrier film as required, exposure and development are respectively performed. After removing the photoresist film and the oxygen barrier film, the film is dried by heating (this cure).
【0034】本キュア条件は、前駆体からポリイミド系
樹脂を得る場合には、塗布量により若干異なるが、通常
200〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的であ
る。アクリル系樹脂の場合には、本キュア条件は、通常
150〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的であ
る。以上のプロセスにより、基板上にパターニングされ
た着色層が形成される。The curing conditions are slightly different depending on the coating amount when a polyimide resin is obtained from the precursor, but it is generally heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. In the case of an acrylic resin, the curing condition is generally to heat at 150 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, a patterned colored layer is formed on the substrate.
【0035】本発明のカラーフィルタは、着色層の一部
を複数色重ね合わせることにより、ブラックマトリック
スを形成せしめることを特徴とする(以下、色重ねブラ
ックマトリックスと呼ぶ)。上記のように、透明基板上
に第1色目の着色層を全面にわたって形成した後に、不
必要な部分をフォトリソグラフィ法により除去し、所望
の第1色目の着色層のパターンを形成した後、同様の操
作を繰り返し、第2色目の着色パターン、第3色目の着
色パターンを形成する。この時、着色層の一部を互いに
重ね合わせることによりブラックマトリックスを形成さ
せる。すなわち、この色重ね部分がブラックマトリック
スとなる。The color filter of the present invention is characterized in that a black matrix is formed by superimposing a plurality of colors of a part of a colored layer (hereinafter referred to as a color superimposed black matrix). After forming the first color layer on the transparent substrate over the entire surface as described above, unnecessary portions are removed by photolithography, and a desired first color pattern is formed. Is repeated to form a second color pattern and a third color pattern. At this time, a black matrix is formed by overlapping a part of the coloring layers with each other. That is, the color overlap portion becomes a black matrix.
【0036】色重ねブラックマトリックスは、着色層を
2色又は3色重ね合わせて形成する。すなわち、すべて
のブラックマトリックスが2色重ね合わせたものでも良
く、また、すべてのブラックマトリックスが3色重ね合
わせたものでも良く、更にはブラックマトリックスの一
部が2色重ね合わせたもので他の部分が3色重ね合わせ
たものでも良いが、液晶注入性の上からは、全ブラック
マトリックスに占める2色重ねブラックマトリックスの
面積比は好ましくは50%以上、さらに好ましくは75
%以上である。The color superimposed black matrix is formed by superimposing two or three colored layers. That is, all black matrices may be superimposed with two colors, or all black matrices may be superimposed with three colors. However, from the viewpoint of liquid crystal injecting property, the area ratio of the two-color superimposed black matrix to the total black matrix is preferably 50% or more, and more preferably 75% or more.
% Or more.
【0037】ブラックマトリックスのパターンとして
は、画素のパターン間を埋めるように形成され、ストラ
イプ状、格子状、千鳥格子状等があり、特に限定される
ものではないが、画素間の遮光性を高める上で格子状パ
ターンが最も好ましい。The pattern of the black matrix is formed so as to fill the space between the pixels, and may be a stripe, a lattice, a staggered lattice, or the like. A grid pattern is most preferable in increasing the height.
【0038】従来、ブラックマトリックスは、透明基板
上にクロムやニッケル等の金属又はそれらの酸化物等を
積層したものをパターニングして形成していたが、本発
明の色重ねによるブラックマトリックスは、製造コスト
や廃棄物処理コスト削減、環境汚染低減等の面から特に
好ましい。Conventionally, the black matrix has been formed by patterning a laminate of a metal such as chromium or nickel or an oxide thereof on a transparent substrate. It is particularly preferable in terms of cost reduction, waste treatment cost reduction, environmental pollution reduction, and the like.
【0039】着色層の厚みとしては、0.5〜3.0μ
mが好ましく、より好ましくは1.0〜2.5μm、さ
らに好ましくは1.5〜2.0μmである。The thickness of the colored layer is 0.5 to 3.0 μm.
m is preferred, more preferably 1.0 to 2.5 μm, and still more preferably 1.5 to 2.0 μm.
【0040】色重ね幅としては、2〜60μmが好まし
く、より好ましくは5〜45μm、さらに好ましくは1
0〜30μmである。色重ね幅が色重ねブラックマトリ
ックス幅となる。色重ね幅がこの範囲より狭いと色重ね
精度が不足し、完全なブラックマトリックスが形成され
にくくなる。また、色重ね幅がこの範囲より広いと開口
率が小さくなり、液晶パネルでの透過率が小さくなり、
パネル輝度が不足するという問題が発生しやすい。The color overlap width is preferably 2 to 60 μm, more preferably 5 to 45 μm, and still more preferably 1 to 60 μm.
0 to 30 μm. The color overlap width is the color overlap black matrix width. If the color superposition width is smaller than this range, the color superposition accuracy is insufficient, and it is difficult to form a complete black matrix. Also, if the color overlap width is wider than this range, the aperture ratio decreases, the transmittance in the liquid crystal panel decreases,
The problem of insufficient panel brightness is likely to occur.
【0041】色重ねブラックマトリックスの全膜厚は、
好ましくは1.0〜9.0μm、より好しくは2.0〜
7.5μm、さらに好ましくは3.0〜6.0μmであ
る。この膜厚が1.0μmよりも薄い場合には、十分な
高さのスペーサーを形成することが難しくなること、ま
た、遮光性が不十分になることからも好ましくない。一
方、膜厚が9.0μmよりも厚い場合には、十分な高さ
のスペーサーを形成できるものの、カラーフィルターの
平坦性が犠牲になり易く、段差が生じたり、表示ムラが
発生しやすくなるため、好ましくない。The total thickness of the color superimposed black matrix is
Preferably from 1.0 to 9.0 μm, more preferably from 2.0 to 9.0 μm.
It is 7.5 μm, more preferably 3.0 to 6.0 μm. If the film thickness is smaller than 1.0 μm, it is not preferable because it is difficult to form a spacer having a sufficient height and the light-shielding property is insufficient. On the other hand, when the film thickness is larger than 9.0 μm, although a spacer having a sufficient height can be formed, the flatness of the color filter is likely to be sacrificed, and a level difference or display unevenness is likely to occur. Is not preferred.
【0042】色重ねブラックマトリックスの遮光性は、
OD値で表されるが、液晶表示装置の表示品位を向上さ
せるためには、好ましくは1.0以上であり、より好ま
しくは2.0以上である。色重ねブラックマトリックス
のOD値を大きくするためには、3色重ね合わせるのが
より好ましいが、2色重ね合わせる場合は青と赤又はシ
アンとマゼンダを重ね合わせるのが好ましい。The light-shielding property of the black matrix is
Although it is expressed by an OD value, it is preferably 1.0 or more, more preferably 2.0 or more in order to improve the display quality of the liquid crystal display device. In order to increase the OD value of the color superimposed black matrix, it is more preferable to superimpose three colors, but in the case of superimposing two colors, it is preferable to superimpose blue and red or cyan and magenta.
【0043】色重ねブラックマトリックス間には、通常
(20〜400)μm×(20〜400)μmの着色層
1層からなる開口部が設けられるが、この開口部が各色
の画素として機能する。画素の配列としては、トライア
ングル配列、モザイク配列、ストライプ配列などがある
が、特に限定されない。Openings made of one colored layer (20 to 400) μm × (20 to 400) μm are provided between the color superimposed black matrices, and the openings function as pixels of each color. Examples of the pixel arrangement include a triangle arrangement, a mosaic arrangement, and a stripe arrangement, but are not particularly limited.
【0044】画面周辺についても、同様にして着色層の
積層による額縁状ブラックマトリックスを形成するのが
好ましい。It is preferable to form a frame-shaped black matrix by laminating colored layers in the same manner also around the screen.
【0045】この後、必要に応じて、透明な保護膜を形
成しても良い。保護層の形成は、カラーフィルターの製
造工程が増加し、製造コストが高くなる点で不利である
が、一方、スペーサー高さの制御、カラーフィルターか
らの不純物の溶出防止、表面平坦化に有利であり、好ま
しい。保護膜の膜厚は特に限定されないが、0.05〜
2.0μmが好ましく、0.1〜0.5μmがより好ま
しい。Thereafter, if necessary, a transparent protective film may be formed. The formation of the protective layer is disadvantageous in that the production process of the color filter increases and the production cost increases, but on the other hand, it is advantageous in controlling the spacer height, preventing elution of impurities from the color filter, and flattening the surface. Yes, preferred. The thickness of the protective film is not particularly limited.
2.0 μm is preferred, and 0.1 to 0.5 μm is more preferred.
【0046】次に、透明電極を設ける。透明電極は、I
TO、酸化錫、酸化亜鉛等を、真空蒸着、スパッタリン
グ、CVD等の手法を用いて積層する事ができる。Next, a transparent electrode is provided. The transparent electrode is I
TO, tin oxide, zinc oxide, or the like can be stacked using a technique such as vacuum evaporation, sputtering, or CVD.
【0047】最後に、分割配向用突起パターンを形成す
るが、同時に色重ねブラックマトリックス上に分割配向
用突起パターンの一部又は分割配向用突起パターンと同
一の材料からなるスペーサーを設ける。すなわち、着色
層を2色ないし3色重ね合わせたブラックマトリックス
の上の透明電極上に、分割配向用突起パターンの一部を
設けてスペーサーの機能を持たせても良いし、又は分割
配向用突起パターンを形成する際に、該分割配向用突起
パターンとは別個にスペーサー用のパターンを同一の材
料で同時に形成しても良い。もちろん、両者を同時に形
成しても良い。また、2色重ねブラックマトリックス上
に3色目の着色層によるスペーサー用のパターンを設け
た後、さらにその上に透明電極ならびに分割配向用突起
パターンの一部又は分割配向用突起パターンと同一の材
料からなるスペーサーを形成しても良い。Finally, a projection pattern for divided orientation is formed. At the same time, a spacer made of the same material as a part of the projected pattern for divided orientation or the same as the projected pattern for divided orientation is provided on the color superimposed black matrix. That is, a part of the projection pattern for divided alignment may be provided on the transparent electrode on the black matrix in which two or three colors of the colored layers are superimposed to have the function of a spacer, or the projection for divided alignment may be provided. When forming the pattern, a spacer pattern may be formed simultaneously with the same material separately from the division alignment projection pattern. Of course, both may be formed simultaneously. Further, after providing a spacer pattern by a third color layer on the two-color superimposed black matrix, a transparent electrode and a part of the split alignment projection pattern or the same material as the split orientation projection pattern is further formed thereon. May be formed.
【0048】従来のカラーフィルターのように、樹脂や
金属等のブラックマトリックス上にスペーサー用ドット
パターンをアライメントしながら3色積層する従来方法
に比べると、本発明のカラーフィルターは、すでに複数
色重ね合わせたブラックマトリックス上にスペーサーパ
ターンを形成するため、スペーサー形成のための積層回
数を少なくできる。このため、スペーサーのアライメン
ト作業が容易で、生産性に優れている。Compared with the conventional method in which three colors are laminated while aligning a dot pattern for a spacer on a black matrix such as a resin or metal like a conventional color filter, the color filter of the present invention has already Since the spacer pattern is formed on the black matrix, the number of laminations for forming the spacer can be reduced. For this reason, the spacer alignment work is easy and the productivity is excellent.
【0049】また、従来のカラーフィルターは、色抜け
防止のためブラックマトリックス上に着色層を一部重な
り合うよう加工するが、このため、スペーサー用ドット
パターン形成可能な領域が制限され、パターン設計の自
由度が小さい。このため、やむを得ず小さなパターンを
形成し、パターン欠けが発生したり、位置ずれによりス
ペーサーが設計通り積層できない場合が発生した。In the conventional color filter, a colored layer is partially overlapped on a black matrix in order to prevent color dropout, but this limits the area in which a dot pattern for a spacer can be formed, and the pattern design is free. The degree is small. For this reason, a small pattern has to be formed unavoidably, resulting in a case where the pattern is chipped or a case where the spacers cannot be laminated as designed due to positional displacement.
【0050】一方、本発明のカラーフィルタは、このよ
うなスペーサー形成領域の制限がないため、設計の自由
度が大きく、例えば、最大限ブラックマトリックスと同
じ面積までスペーサー面積を大きくすることが可能であ
り、またブラックマトリックス上であれば基本的にはど
こでも自由にスペーサーパターンを配置できる。このた
め、パターン欠けや位置ずれも改善でき、加工精度も良
好で、生産性に特に優れている。On the other hand, since the color filter of the present invention does not have such a limitation on the spacer forming region, the degree of freedom in design is large, and for example, it is possible to increase the spacer area up to the same area as the black matrix. Yes, and the spacer pattern can be freely arranged basically anywhere on the black matrix. For this reason, pattern chipping and displacement can be improved, processing accuracy is good, and productivity is particularly excellent.
【0051】また分割配向用突起は、本来画素上のみ形
成すればよいが、本発明のカラーフィルターの1例とし
て、分割配向用突起の一部を色重ねブラックマトリック
ス上にも形成することにより、スペーサーとしての役割
を付与せしめるのである。また、特に色重ねブラックマ
トリックスを用いると、ブラックマトリックス上および
付近で液晶の配向乱れが発生し易いが、ブラックマトリ
ックス上にも分割配向用突起パターンを形成することに
より、配向乱れを防ぐことができ、かつ分割配向が有効
に作用することから、表示特性が特に良好になり、より
好ましい。The projections for the divisional alignment need only be formed on the pixels, but as an example of the color filter of the present invention, by forming a part of the projections for the divisional alignment also on the color superimposed black matrix, It gives a role as a spacer. In particular, when a color superimposed black matrix is used, liquid crystal alignment disorder is likely to occur on and around the black matrix, but by forming a projection pattern for divided alignment on the black matrix, alignment disorder can be prevented. In addition, since the divided orientation works effectively, the display characteristics are particularly improved, which is more preferable.
【0052】まず、分割配向用突起パターンについて説
明する。分割配向用突起パターンの断面形状の一例とし
ては、三角形状、半円形状ないし台形状で連続の線状パ
ターン、三角錐ないし、三角断面円錐、台形断面円錐の
ドット状パターンなどが好適に用いられる。パターンと
しては、画素上の液晶分子の配向方向を2分割以上に分
割できるものであれば、特に限定されるものではない。
例えば、分割配向用突起が三角形または台形の断面を持
つストライプであれば、2つの斜面により2方向に分割
配向でき、三角波状(くの字型の折れ線)であれば4分
割配向できる。また、分割配向用突起が角錘であればそ
の斜面の数によって分割配向数が決まり、例えば四角錘
であれば4分割配向が得られる。一方、円錐であれば無
限の分割配向が得られる。First, the projection pattern for divided orientation will be described. As an example of the sectional shape of the projection pattern for divided orientation, a triangular, semicircular or trapezoidal continuous linear pattern, a triangular pyramid or a triangular conical, a trapezoidal conical dot-shaped pattern, or the like is preferably used. . The pattern is not particularly limited as long as the alignment direction of the liquid crystal molecules on the pixel can be divided into two or more.
For example, if the projection for division orientation has a triangular or trapezoidal cross section, it can be divided and oriented in two directions by two slopes, and if it is a triangular wave (a polygonal line), it can be divided into four. If the projection for divided orientation is a pyramid, the number of divided orientations is determined by the number of slopes. On the other hand, an infinite split orientation can be obtained with a cone.
【0053】分割配向用突起パターンに用いる材料は、
特に限定されないが、着色層に用いられる樹脂と同様の
材料を用いることができる。また、パターン加工性、力
学的強度の点から、樹脂中に顔料を分散せしめた材料が
より好ましい。顔料としては、絶縁性の白色顔料がより
好ましく、例えば、酸化チタン、酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉛、
酸化クロム、酸化鉄、ジルコニア、硫酸バリウムの中か
ら選ばれたものからなることが特に好ましい。突起のパ
ターン形成方法としては、着色層のパターン形成法と同
様の手法を用いることができる。The material used for the projection pattern for divided alignment is
Although not particularly limited, a material similar to the resin used for the coloring layer can be used. Further, from the viewpoint of pattern processability and mechanical strength, a material in which a pigment is dispersed in a resin is more preferable. As the pigment, an insulating white pigment is more preferable, for example, titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, calcium carbonate, magnesium oxide, lead oxide,
It is particularly preferred that the material be selected from chromium oxide, iron oxide, zirconia, and barium sulfate. As a method of forming the pattern of the protrusion, the same method as the method of forming the pattern of the colored layer can be used.
【0054】分割配向用突起の高さは0.5μm〜6μ
mであることが好ましく、0.6μm〜3μmの範囲が
さらに好ましい。突起高さが0.5μm未満であると分
割配向の効果が十分でなく、好ましくない。一方、突起
高さが6μmを越えると塗布斑が発生したり、フォトリ
ソグラフィーによる突起形成が難しくなる他、液晶注入
の妨げになり、好ましくない。また、分割配向用突起の
高さは、着色層の厚みよりも高くすることが、液晶注入
性の面で好ましい。両者の比(分割配向用突起の高さ/
着色層の厚み)は、1.0以上が好ましく、より好まし
くは1.2以上である。The height of the split alignment projection is 0.5 μm to 6 μm.
m, more preferably in the range of 0.6 μm to 3 μm. If the projection height is less than 0.5 μm, the effect of the split orientation is not sufficient, which is not preferable. On the other hand, if the projection height exceeds 6 μm, coating unevenness occurs, it becomes difficult to form projections by photolithography, and it hinders liquid crystal injection, which is not preferable. In addition, it is preferable that the height of the division alignment projection is higher than the thickness of the coloring layer from the viewpoint of liquid crystal injectability. The ratio of the two (height of the projection for split alignment /
(The thickness of the coloring layer) is preferably 1.0 or more, and more preferably 1.2 or more.
【0055】次に、色重ねブラックマトリックス上に設
けられた分割配向用突起パターンの一部をスペーサーと
して用いる場合、および、分割配向用突起パターンと同
一の材料によりスペーサーを形成する場合について説明
する。スペーサーの形状、すなわち、スペーサーを基板
と平行な面で切断した場合の横断面の形状は、特に限定
されないが、円、楕円、角が丸い多角形、十字、T字、
L字またはくの字形が好ましい。また、下層の着色層と
の積層によりスペーサーを形成する場合においても、そ
れぞれの層のスペーサーの形状は、特に制限されない
が、円、楕円、角が丸い多角形、十字、T字又はL字形
が好ましく、これらを任意に積層しスペーサーを形成し
てよい。Next, the case where a part of the projection pattern for division alignment provided on the color superimposed black matrix is used as a spacer, and the case where the spacer is formed of the same material as the projection pattern for division alignment will be described. The shape of the spacer, that is, the shape of the cross section when the spacer is cut along a plane parallel to the substrate is not particularly limited, but a circle, an ellipse, a polygon having rounded corners, a cross, a T-shape,
L-shaped or U-shaped is preferred. In the case where the spacer is formed by lamination with the lower colored layer, the shape of the spacer in each layer is not particularly limited, but may be a circle, an ellipse, a polygon having rounded corners, a cross, a T-shape, or an L-shape. Preferably, these may be arbitrarily laminated to form a spacer.
【0056】スペーサーの高さは、1〜9μmが好まし
く、さらには2〜8μmが好ましい。スペーサーの高さ
が1μmよりも低いと、十分なセルギャップを確保する
ことが困難である。一方、9μmを超えると、液晶表示
装置のセルギャップが大きくなりすぎて駆動に要する電
圧が高くなり好ましくない。なお、スペーサーの高さと
は、1個のスペーサーに着目し、カラーフィルターの開
口部画素と隣接するスペーサーの最上表面との間の高さ
の差(段差)を意味する。画素内で高さにムラがある場
合には、その画素内で段差が最大となる場合の値を指
す。The height of the spacer is preferably 1 to 9 μm, more preferably 2 to 8 μm. If the height of the spacer is less than 1 μm, it is difficult to secure a sufficient cell gap. On the other hand, if the thickness exceeds 9 μm, the cell gap of the liquid crystal display device becomes too large, and the voltage required for driving becomes undesirably high. Note that the height of the spacer means a difference in height (step) between the pixel at the opening of the color filter and the uppermost surface of the adjacent spacer, focusing on one spacer. If there is unevenness in the height within a pixel, it indicates the value when the step is the largest in that pixel.
【0057】スペーサーの1個あたりの面積や配置場所
は液晶表示装置の構造に大きく影響を受ける。固定され
たスペーサーを有するカラーフィルターにおいて1画素
中の非表示領域の面積の制約から、画面内の1個あたり
のスペーサー面積は、10μm2〜1000μm2である
ことが好ましい。さらに好ましくは、20μm2〜25
0μm2である。1個あたりのスペーサーの面積が10
μm2よりも小さい場合は、精密なパターンの形成や積
層が難しくなる他、液晶表示装置装置製造時の圧力印加
でスペーサーが破壊されることがある。1個あたりのス
ペーサーの面積が1000μm2よりも大きい場合は、
スペーサーにより配向が困難になる。この他、スペーサ
ー部の形状にもよるが、画面内のスペーサーをブラック
マトリックス上(非表示領域)のみに配置することが難
しくなり、好ましくない。The area and location of each spacer are greatly affected by the structure of the liquid crystal display device. Constraints of the area of the non-display region 1 in the pixel in a color filter having a fixed spacer, the spacer area per one screen is preferably 10μm 2 ~1000μm 2. More preferably, 20 μm 2 to 25
0 μm 2 . Spacer area per one is 10
When it is smaller than 2 μm 2 , it is difficult to form and laminate a precise pattern, and the spacer may be broken by pressure application during manufacturing of the liquid crystal display device. When the area of one spacer is larger than 1000 μm 2 ,
The spacer makes orientation difficult. In addition, although it depends on the shape of the spacer portion, it is difficult to dispose the spacer in the screen only on the black matrix (non-display area), which is not preferable.
【0058】ここでいうスペーサー面積とは、カラーフ
ィルター上に形成されたスペーサー最頂部であって、液
晶表示装置を作製した際に対向基板に接触する部分の面
を指すが、スペーサーの最頂部の面積は、光学顕微鏡で
カラーフィルタ表面を落写(反射)で写真撮影し、スペ
ーサーパターンのテーパー部の黒部を除く光反射した部
分の面積を計算することにより求める事ができる。もち
ろん対向基板上にもスペーサーを作製した場合、そのス
ペーサーに接触する部分の面積も指す。The spacer area referred to here is the top surface of the spacer formed on the color filter and refers to the surface of the portion that comes into contact with the counter substrate when the liquid crystal display device is manufactured. The area can be determined by taking a picture of the surface of the color filter by reflection (reflection) with an optical microscope and calculating the area of the light reflected portion excluding the black portion of the tapered portion of the spacer pattern. Of course, when a spacer is also formed on the counter substrate, it also indicates the area of a portion in contact with the spacer.
【0059】スペーサーの個数は、1画素あたり0.1
〜10個形成するのが好ましく、さらに好ましくは0.
2〜3個である。1画素あたりのスペーサー面積は、好
ましくは10〜1000μm2、より好ましくは20〜
250μm2、さらに好ましくは30〜150μm2であ
る。The number of spacers is 0.1 per pixel.
It is preferable to form 10 to 10, more preferably 0.
There are two or three. The spacer area per pixel is preferably 10 to 1000 μm 2 , more preferably 20 to 1000 μm 2 .
250 [mu] m 2, more preferably from 30 to 150 [mu] m 2.
【0060】また、スペーサーによって保たれる2枚の
液晶表示装置用基板間の間隔の画面内均一性を高める点
から、画面周辺の額縁状ブラックマトリックスや画面外
の非表示領域にもスペーサーを形成することが好まし
い。画面外及び額縁上のスペーサーは、表示領域に現れ
ることが無いため、スペーサーのひとつ当たりの面積
は、スペーサーの形成を容易にするために画面内のスペ
ーサーの面積と等しいかもしくは大きくすることが好ま
しい。In order to improve the uniformity of the distance between the two substrates for the liquid crystal display device held by the spacer in the screen, the spacer is also formed in the frame-shaped black matrix around the screen and in the non-display area outside the screen. Is preferred. Since the spacers outside the screen and on the frame do not appear in the display area, the area per spacer is preferably equal to or larger than the area of the spacers in the screen to facilitate formation of the spacers. .
【0061】本発明のカラーフィルターは、スペーサー
の最上層を透明導電層の上に配置しているため、該スペ
ーサーの材料として電気的に絶縁性のものを選択するこ
とにより、TFT基板との貼り合わせ時の位置ずれが発
生したときでもカラーフィルター上の透明導電層と対向
するTFT電極基板とが短絡する欠陥を避けることがで
きる。短絡の防止は、電極や配線が密に配置されている
高開口率の液晶表示装置において効果が大きい。スペー
サーの体積抵抗値としては、107Ω・cm以上である
ことが好ましく、さらに好ましくは109Ω・cm以上
である。In the color filter of the present invention, since the uppermost layer of the spacer is disposed on the transparent conductive layer, by selecting an electrically insulating material for the spacer, the color filter can be bonded to the TFT substrate. Even when misalignment occurs during alignment, it is possible to avoid a defect in which the transparent conductive layer on the color filter is short-circuited to the TFT electrode substrate facing the same. The prevention of the short circuit is highly effective in a liquid crystal display device having a high aperture ratio in which electrodes and wirings are densely arranged. The volume resistance value of the spacer is preferably 10 7 Ω · cm or more, and more preferably 10 9 Ω · cm or more.
【0062】本発明のカラーフィルターとして好適な例
を下記する。 (A)着色層の一部を2色重ね合わせて形成せしめたブラ
ックマトリックスを有しており、かつ該ブラックマトリ
ックスの上の透明電極上に分割配向用突起パターンの一
部、及び/又は分割配向用突起パターンと同一の材料か
らなるスペーサーを形成したカラーフィルター。Preferred examples of the color filter of the present invention are described below. (A) a black matrix in which a part of a colored layer is formed by superimposing two colors, and a part of a projection pattern for split alignment on a transparent electrode on the black matrix, and / or a split alignment; Color filter formed with spacers made of the same material as the projection pattern.
【0063】(B)着色層の一部を2色重ね合わせて形成
せしめたブラックマトリックスを有しており、かつ該ブ
ラックマトリックス上に3色目の着色層による(スペー
サー土台となる)パターンを設け、さらにその上に透明
電極ならびに分割配向用突起パターンの一部、及び/又
は分割配向用突起パターンと同一の材料からなるスペー
サーを形成したカラーフィルター。(B) a black matrix in which a part of the colored layer is formed by overlapping two colors, and a pattern of the third colored layer (being a spacer base) is provided on the black matrix; A color filter further comprising a transparent electrode and a part of the projection pattern for split orientation and / or a spacer made of the same material as the projection pattern for split orientation.
【0064】(C)着色層の一部を2色重ね合わせて形成
せしめたブラックマトリックスを有しており、該ブラッ
クマトリックスの透明電極上に分割配向用突起パターン
を形成し、かつ該ブラックマトリックス上に、3色目の
着色層による(スペーサー土台となる)パターン、透明
電極、分割配向用突起パターンと同一の材料を積層して
スペーサーを形成したカラーフィルター。(C) a black matrix in which a part of a colored layer is formed by superposing two colors, a projection pattern for divided alignment is formed on a transparent electrode of the black matrix, and A color filter formed by laminating the same material as the pattern of the third colored layer (being the base of the spacer), the transparent electrode, and the projection pattern for divided alignment, to form a spacer.
【0065】(D)着色層の一部を3色重ね合わせて形成
せしめたブラックマトリックスを有しており、かつ該ブ
ラックマトリックスの透明電極上に分割配向用突起パタ
ーンの一部、及び/又は分割配向用突起パターンと同一
の材料からなるスペーサーを形成したカラーフィルタ
ー。(D) It has a black matrix in which a part of the colored layer is formed by superimposing three colors, and a part of the projection pattern for division alignment on the transparent electrode of the black matrix, and / or A color filter in which spacers made of the same material as the alignment projection pattern are formed.
【0066】(E)着色層の一部を2色及び3色重ね合わ
せて形成せしめたブラックマトリックスを有しており、
該2色重ね合わせて形成せしめたブラックマトリックス
の上の透明電極上に分割配向用突起パターンを形成し、
かつ該3色重ね合わせて形成せしめたブラックマトリッ
クスの上の透明電極上に分割配向用突起パターンと同一
の材料からなるスペーサーを形成したカラーフィルタ
ー。(E) having a black matrix in which a part of the colored layer is formed by superimposing two colors and three colors;
Forming a projection pattern for split orientation on the transparent electrode on the black matrix formed by superimposing the two colors;
In addition, a color filter in which a spacer made of the same material as the projection pattern for division alignment is formed on the transparent electrode on the black matrix formed by overlapping the three colors.
【0067】これらの中でも色重ねブラックマトリック
スの上の透明電極上に分割配向用突起パターンを加工精
度良く、欠けなく設けるためには、2色重ねブラックマ
トリックスの透明電極上に分割配向用突起パターンを設
けることが好ましく、従って上記(A)、(C)、(E)の構
成が特に好ましい。Among them, in order to form the projection pattern for divided orientation on the transparent electrode on the color superimposed black matrix with good processing accuracy and without any chipping, the projection pattern for divided orientation is provided on the transparent electrode of the two color superimposed black matrix. It is preferable to provide them, and therefore, the above-mentioned constitutions (A), (C) and (E) are particularly preferred.
【0068】また、3色目の着色層による(スペーサー
土台となる)パターンとは、色重ねブラックマトリック
ス幅よりも小さいパターンで、その上に形成する分割配
向用突起パターンの一部、及び/又は分割配向用突起パ
ターンと同一の材料からなるスペーサーを形成するため
の土台となるものである。The pattern of the third colored layer (being a spacer base) is a pattern smaller than the width of the color superimposed black matrix, and is a part of the division alignment projection pattern formed thereon and / or the division. This serves as a base for forming a spacer made of the same material as the alignment projection pattern.
【0069】次に、TFT素子を備えた電極基板の製造
方法の一例を以下に示す。無アルカリガラス基板上にス
パッタリングによりクロム薄膜を形成し、フォトリソグ
ラフィーにてゲート電極をパターニングする。次に、プ
ラズマCVDにより、絶縁膜として窒化珪素膜、アモル
ファスシリコン膜およびエッチングストッパとして窒化
珪素膜を連続形成する。次に、フォトリソグラフィーに
てエッチングストッパの窒化珪素膜をパターニングす
る。TFT端子が金属電極とオーミックコンタクトをと
るためのn+アモルファスシリコン膜の成膜とパターニ
ングをし、さらに、表示電極となるITO膜を成膜しパ
ターニングする。さらに配線材料としてアルミニウムを
スパッタリングにより膜付けし、フォトリソグラフィー
にて信号配線およびTFTの金属電極を作製する。ドレ
イン電極とソース電極をマスクとしてチャンネル部のn
+アモルファスシリコン膜をエッチング除去し、TFT
素子備えた電極基板を得る。反射型の液晶表示素子の場
合は、表示電極をアルミニウムや銀などの反射率の高い
材料とするのが好ましい。また、カラーフィルター上に
設けた配向分割用突起と対応するように、対向する電極
基板にも配向分割用突起を設けるのが好ましい。さら
に、電極基板上にもセルギャップを均一にするため、ス
ペーサーを形成してもよい。Next, an example of a method of manufacturing an electrode substrate having a TFT element will be described below. A chromium thin film is formed on an alkali-free glass substrate by sputtering, and the gate electrode is patterned by photolithography. Next, a silicon nitride film, an amorphous silicon film as an insulating film, and a silicon nitride film as an etching stopper are successively formed by plasma CVD. Next, the silicon nitride film serving as an etching stopper is patterned by photolithography. An n + amorphous silicon film is formed and patterned for the TFT terminal to make an ohmic contact with the metal electrode, and an ITO film to be a display electrode is formed and patterned. Further, aluminum is applied as a wiring material by sputtering, and signal wiring and a metal electrode of a TFT are formed by photolithography. Using the drain electrode and the source electrode as masks, n
+ Remove the amorphous silicon film by etching
An electrode substrate provided with an element is obtained. In the case of a reflective liquid crystal display element, it is preferable that the display electrode is made of a material having a high reflectance such as aluminum or silver. In addition, it is preferable to provide a projection for alignment division on the opposing electrode substrate so as to correspond to the projection for alignment division provided on the color filter. Further, a spacer may be formed on the electrode substrate to make the cell gap uniform.
【0070】パネル組みについて説明する。まず、カラ
ーフィルター上に配向膜を設け、同様にして対向する薄
膜トランジスタを備えた電極基板についても配向膜を設
ける。この2枚の基板をエポキシ接着材等のシール剤を
用いて貼り合わせた後に、シール部に設けられた注入口
から垂直配向する液晶を注入する。液晶を注入後、注入
口を封止し、さらに偏光板を基板の外側に貼り合わせ液
晶表示装置を作製する。The panel assembly will be described. First, an alignment film is provided on a color filter, and an alignment film is similarly provided on an electrode substrate having a thin film transistor facing the color filter. After the two substrates are bonded to each other using a sealant such as an epoxy adhesive, a vertically aligned liquid crystal is injected from an injection port provided in the seal portion. After injecting the liquid crystal, the inlet is sealed, and a polarizing plate is attached to the outside of the substrate to manufacture a liquid crystal display device.
【0071】図2に本発明のカラーフィルターの平面図
の一例を示す。ブラックマトリックス14と画素(1
R、1G、1B)の上にITO透明電極を形成した後、
画素を分割するように断面が台形の折れ線状突起11を
形成する。対向する電極基板上にもカラーフィルター上
の突起と交互に配置されるように突起を形成する。FIG. 2 shows an example of a plan view of the color filter of the present invention. Black matrix 14 and pixel (1
R, 1G, 1B) after forming an ITO transparent electrode on
A polygonal projection 11 having a trapezoidal cross section is formed so as to divide the pixel. Projections are also formed on the opposing electrode substrate so as to be alternately arranged with the projections on the color filter.
【0072】本発明のカラーフィルターおよびこれを用
いた液晶表示装置は、パソコン、ワードプロセッサー、
エンジニアリング・ワークステーション、ナビゲーショ
ンシステム、液晶テレビなどの表示画面に用いられ、ま
た、液晶プロジェクション等にも好適に用いられる。ま
た、光通信や光情報処理の分野において、液晶を用いた
空間変調素子としても好適に用いられる。空間変調素子
は、素子への入力信号に応じて、素子に入射する光の強
度や位相、偏光方向等を変調させるもので、実時間ホロ
グラフィーや空間フィルター、インコヒーレント/コヒ
ーレント変換等に用いられるものである。The color filter of the present invention and a liquid crystal display device using the same are provided with a personal computer, a word processor,
It is used for display screens of engineering workstations, navigation systems, liquid crystal televisions and the like, and is also suitably used for liquid crystal projection and the like. Further, in the field of optical communication and optical information processing, it is suitably used as a spatial modulation element using a liquid crystal. A spatial modulation element modulates the intensity, phase, polarization direction, etc. of light incident on the element according to an input signal to the element, and is used for real-time holography, a spatial filter, incoherent / coherent conversion, and the like. It is.
【0073】[0073]
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0074】(ポリイミド前駆体の調製)3,3´,
4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物14
4.1gをγ−ブチロラクトン1095g、N−メチル
−2−ピロリドン209gに混合し、4,4´−ジアミ
ノジフェニルエーテル95.1g、ビス(3−アミノプ
ロピル)テトラメチルジシロキサン6.2gを添加して
70℃で3時間反応させた後、無水フタル酸2.96g
を添加してさらに70℃で1時間反応させてポリイミド
前駆体(ポリアミック酸)溶液を得た。(Preparation of Polyimide Precursor)
4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 14
4.1 g was mixed with 1095 g of γ-butyrolactone and 209 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and 95.1 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 6.2 g of bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane were added. After reacting at 70 ° C. for 3 hours, 2.96 g of phthalic anhydride
Was added and reacted at 70 ° C. for 1 hour to obtain a polyimide precursor (polyamic acid) solution.
【0075】(体積抵抗値の測定法)アルミニウム薄膜
を蒸着したガラス基板上に対象となる材料を2μmの厚
さにコーティングする。コーティング膜上にさらに直径
15mmのアルミニウム電極を蒸着する。コーティング
膜を挟んだ2つの電極間に直流1Vを印加して、電圧印
加後5分での電流値とコーティング膜の厚みから体積抵
抗値を求めた。(Measurement Method of Volume Resistance Value) A target material is coated to a thickness of 2 μm on a glass substrate on which an aluminum thin film is deposited. An aluminum electrode having a diameter of 15 mm is further deposited on the coating film. A direct current of 1 V was applied between the two electrodes sandwiching the coating film, and the volume resistance was determined from the current value and the thickness of the coating film 5 minutes after the application of the voltage.
【0076】実施例1 (着色層の作製)赤、緑、青の顔料として各々Color in
dex No.65300 Pigment Red 177で示されるジアントラキ
ノン系顔料、Color Index No.74265 Pigment Green 36
で示されるフタロシアニングリーン系顔料、Color Inde
x No.74160 Pigment Blue 15-4で示されるフタロシアニ
ンブルー系顔料を用意した。ポリイミド前駆体溶液に上
記顔料を各々混合分散させて、赤、緑、青の3種類の着
色ペーストを得た。Example 1 (Preparation of Colored Layer) As red, green and blue pigments,
dex No.65300 Pigment Red 177 dianthraquinone pigment, Color Index No.74265 Pigment Green 36
Color Inde, a phthalocyanine green pigment represented by
x A phthalocyanine blue pigment represented by No. 74160 Pigment Blue 15-4 was prepared. The pigments were mixed and dispersed in the polyimide precursor solution to obtain three kinds of colored pastes of red, green and blue.
【0077】次にこの着色ペーストを用いて、赤、緑、
青着色層を形成した。まず、透明な無アルカリガラス基
板上に赤ペーストを塗布し、120℃20分間セミキュ
アした。この後、ポジ型フォトレジスト(シプレー社
製"Microposit" RC100 30cp )をスピナーで塗布後、8
0℃で20分乾燥した。フォトマスクを用いて露光し、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2重量%水溶液
に基板を浸漬し揺動させながら、ポジ型フォトレジスト
の現像およびポリイミド前駆体のエッチングを同時に行
った。その後、ポジ型フォトレジストをメチルセロソル
ブアセテートで剥離し、さらに、300℃で30分間キ
ュアした。Next, using this colored paste, red, green,
A blue coloring layer was formed. First, a red paste was applied on a transparent alkali-free glass substrate, and semi-cured at 120 ° C. for 20 minutes. Then, after applying a positive type photoresist ("Microposit" RC100 30cp manufactured by Shipley Co., Ltd.) with a spinner, 8
Dry at 0 ° C. for 20 minutes. Exposure using a photomask,
While immersing the substrate in a 2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide and rocking, the development of the positive photoresist and the etching of the polyimide precursor were simultaneously performed. Thereafter, the positive photoresist was stripped with methyl cellosolve acetate, and cured at 300 ° C. for 30 minutes.
【0078】赤着色層の膜厚は、1.5μmとした。赤
着色層のパターンは、図1の赤画素部の位置(1R)、
および、色重ねブラックマトリクス形成用パターン
(2、3、5、6、7、8、9)に形成した。The thickness of the red coloring layer was 1.5 μm. The pattern of the red coloring layer corresponds to the position (1R) of the red pixel portion in FIG.
And, a pattern (2, 3, 5, 6, 7, 8, 9) for forming a color superimposed black matrix was formed.
【0079】基板水洗後に、同様にして、緑着色層を、
図1の緑画素部の位置(1G)、および、色重ねブラッ
クマトリクス形成用パターンの位置(3、4、5、7、
8、9、10)に形成した。緑着色層の膜厚は、画素部
で1.5μmとした。After the substrate was washed with water, the green coloring layer was similarly
The position (1G) of the green pixel portion in FIG. 1 and the positions (3, 4, 5, 7,
8, 9, 10). The thickness of the green coloring layer was 1.5 μm in the pixel portion.
【0080】さらに基板水洗後に、同様にして、青着色
層を、図1の青画素部の位置(1B)、色重ねブラック
マトリクス形成用パターンの位置(2、4、5、6、
7、9、10)に形成した。青着色層の膜厚は、画素部
で1.5μmとした。Further, after the substrate was rinsed with water, the blue colored layer was similarly coated with the blue pixel portion position (1B) in FIG. 1 and the color superposition black matrix forming pattern position (2, 4, 5, 6, 6).
7, 9, 10). The thickness of the blue coloring layer was 1.5 μm in the pixel portion.
【0081】以上の工程により、赤画素(1R)、緑画
素(1G)、青画素(1B)と、赤と青の色重ねブラッ
クマトリックス(2、6)、赤と緑の色重ねブラックマ
トリックス(3、8)、緑と青の2色の色重ねブラック
マトリックス(4、10)、格子コーナー部(5、7、
9)に赤青緑3色重ねブラックマトリックスが形成され
た。ブラックマトリックスの線幅は、長辺が20μm、
短辺が30μmであった。図1の5、7、9のサイズ
は、20μm(長辺幅方向)×30μm(短辺幅方向)
角とし、スペーサーの土台となる。Through the above steps, the red pixel (1R), the green pixel (1G), the blue pixel (1B), the red and blue color superimposed black matrix (2, 6), and the red and green color superimposed black matrix ( 3, 8), two color superimposed black matrices of green and blue (4, 10), grid corners (5, 7,
9) A red, green and blue three-color superimposed black matrix was formed. The line width of the black matrix is 20 μm on the long side,
The short side was 30 μm. The sizes 5, 7, and 9 in FIG. 1 are 20 μm (long side width direction) × 30 μm (short side width direction).
It is a corner and serves as a base for the spacer.
【0082】この上に、スパッタリング法にて膜厚が1
50nmで表面抵抗が20Ω/□のITO膜透明電極を
形成した。On top of this, a film thickness of 1
An ITO film transparent electrode having a surface resistance of 50 nm and a surface resistance of 20 Ω / □ was formed.
【0083】さらにポリイミド前駆体溶液を塗布し、1
35℃で20分間セミキュアした。この後、ポジ型フォ
トレジストを塗布して80℃で20分間乾燥した。フォ
トマスクを介して露光し、テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド2重量%水溶液に浸漬してフォトレジストの
現像とポリイミド前駆体のエッチングとを同時に実施し
た後、フォトレジストをメチルセロソルブで剥離し、次
いで250℃で30分間キュアして、図2に示す三角波
状分割配向用突起パターン(11)を形成した。Further, a polyimide precursor solution was applied, and 1
Semi-cure at 35 ° C. for 20 minutes. Thereafter, a positive photoresist was applied and dried at 80 ° C. for 20 minutes. After exposing through a photomask and immersing in a 2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide to simultaneously perform development of the photoresist and etching of the polyimide precursor, the photoresist is peeled off with methyl cellosolve. For 30 minutes to form a triangular-wave-like split alignment projection pattern (11) shown in FIG.
【0084】画素上の分割配向用突起の断面形状は、下
辺が12μm、上辺が8μmの台形で、厚さ2.0μm
とした。図2において、3色重ねブラックマトリックス
(図1の5、7、9の位置)上の突起パターンは、スペ
ーサーとして作用する。すなわち、1画素あたり1個の
スペーサーが形成された。対向基板に接触するスペーサ
ー頂部の面積は1画素あたり約120μm2であった。
また、青画素上に設けられたITO層の表面からスペー
サー頂部までの高さであるスペーサーの高さは、目標の
3.9μm±0.1μm以内であった。かくして本発明
のカラーフィルターを得た。The sectional shape of the projection for divisional alignment on the pixel is a trapezoid having a lower side of 12 μm and an upper side of 8 μm and a thickness of 2.0 μm.
And In FIG. 2, the protrusion patterns on the three-color superimposed black matrix (positions 5, 7, and 9 in FIG. 1) act as spacers. That is, one spacer was formed per pixel. The area of the top of the spacer in contact with the counter substrate was about 120 μm 2 per pixel.
The height of the spacer, which is the height from the surface of the ITO layer provided on the blue pixel to the top of the spacer, was within the target of 3.9 μm ± 0.1 μm. Thus, the color filter of the present invention was obtained.
【0085】(電極基板の作製)無アルカリガラス基板
上にスパッタリングによりクロム薄膜を形成し、フォト
リソグラフィーにてゲート電極にパターニングした。次
に、プラズマCVDにより、絶縁層として厚さ700n
mの窒化珪素膜、チャンネル層として厚さ100nmの
アモルファスシリコン膜、エッチングストッパ層として
厚さ500nmの窒化珪素膜を連続形成した。次に、フ
ォトリソグラフィーにてエッチングストッパ層の窒化珪
素膜をパターニングした。TFT端子と金属電極がオー
ミックコンタクトをとるためのn+アモルファスシリコ
ン膜を形成した。この上に表示電極となるITO膜を成
膜し、パターニングした。さらに配線材料としてのアル
ミニウムをスパッタリングにより膜付けし、フォトリソ
グラフィーにて信号配線およびTFTの金属電極を作製
した。ドレイン電極とソース電極をマスクとしてチャン
ネル部のn+アモルファスシリコン膜をエッチング除去
しTFT素子を備えた電極基板を得た。(Preparation of Electrode Substrate) A chromium thin film was formed on an alkali-free glass substrate by sputtering, and was patterned into a gate electrode by photolithography. Next, the thickness of the insulating layer is 700 n by plasma CVD.
A silicon nitride film having a thickness of 100 nm, an amorphous silicon film having a thickness of 100 nm as a channel layer, and a silicon nitride film having a thickness of 500 nm were successively formed as an etching stopper layer. Next, the silicon nitride film of the etching stopper layer was patterned by photolithography. An n + amorphous silicon film for forming an ohmic contact between the TFT terminal and the metal electrode was formed. An ITO film serving as a display electrode was formed thereon and patterned. Further, a film of aluminum as a wiring material was formed by sputtering, and signal wiring and a metal electrode of a TFT were formed by photolithography. Using the drain electrode and the source electrode as a mask, the n + amorphous silicon film in the channel portion was removed by etching to obtain an electrode substrate having a TFT element.
【0086】(カラー液晶表示装置の作製と評価)本発
明のカラーフィルター上に垂直配向膜を設けた。同様に
して対向する薄膜トランジスタを備えた電極基板につい
ても、垂直配向膜を設けた。対向する電極基板について
もカラーフィルター上の折れ線状突起と同様の突起を配
置した。ただし、カラーフィルターと貼り合わせたとき
に、突起がカラーフィルター上の隣り合う突起の間に配
置されるように、1/2画素ピッチ分ずらして配置し
た。エポキシ接着材をシール剤として用いてこの2枚の
基板を貼り合わせた後に、シール部に設けられた注入口
から垂直配向する液晶を注入した。液晶注入速度は速
く、液晶注入性は非常に良好であった。液晶を注入後、
注入口を封止し、さらに偏光板を基板の外側に貼り合わ
せ液晶表示装置を作製した。(Production and Evaluation of Color Liquid Crystal Display) A vertical alignment film was provided on the color filter of the present invention. Similarly, a vertical alignment film was provided on the electrode substrate provided with the opposed thin film transistor. Protrusions similar to the polygonal linear protrusions on the color filter were also arranged on the opposing electrode substrate. However, when they were bonded to the color filter, they were shifted by a half pixel pitch so that the protrusions were arranged between adjacent protrusions on the color filter. After bonding the two substrates together using an epoxy adhesive as a sealant, a vertically aligned liquid crystal was injected from an injection port provided in the seal portion. The liquid crystal injection speed was high, and the liquid crystal injection properties were very good. After injecting liquid crystal,
The injection port was sealed, and a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a liquid crystal display device.
【0087】液晶表示装置は、液晶の配向は良好であ
り、かつセルギャップムラが無く、画質は良好であっ
た。また、光透過部にスペーサーがないためにスペーサ
ーによる光漏れがなかった。さらに、カラーフィルター
上の透明導電層と対向する電極基板とがスペーサーによ
り短絡した部分も無く、良好であった。スペーサーとし
て用いた分割配向用突起材の体積固有抵抗は1013Ω・
cmであり絶縁性であった。The liquid crystal display had good liquid crystal alignment, no cell gap unevenness, and good image quality. Further, since there was no spacer in the light transmitting portion, there was no light leakage due to the spacer. Further, there was no portion where the transparent conductive layer on the color filter and the opposing electrode substrate were short-circuited by the spacer, and the result was good. The volume resistivity of the projection material for divided orientation used as a spacer is 10 13 Ω ·
cm and insulating properties.
【0088】実施例2 実施例1と同様にして、赤、緑、青着色層を形成した。
ただし、赤着色層は、図3の赤画素部の位置(1R)、
および、色重ねブラックマトリクス形成用パターンの位
置(2、3、5、6、6’、7、8、8’、9、10、
10’)に形成した。また、緑着色層は、図3の緑画素
部の位置(1G)、および、色重ねブラックマトリクス
形成用パターンの位置(3、4、5、6、7、8、9、
10)に形成した。また、青着色層は、図3の青画素部
の位置(1B)、および、色重ねブラックマトリクス形
成用パターンの位置(2、4、5、6、6’、7、8、
8’、9、10、10’)に形成した。Example 2 In the same manner as in Example 1, red, green and blue colored layers were formed.
However, the red colored layer is located at the position (1R) of the red pixel portion in FIG.
And the positions (2, 3, 5, 6, 6, 6 ′, 7, 8, 8 ′, 9, 10,
10 '). In addition, the green coloring layer includes the position (1G) of the green pixel portion in FIG. 3 and the positions (3, 4, 5, 6, 7, 8, 9,
10). In addition, the blue colored layer includes the position (1B) of the blue pixel portion in FIG. 3 and the positions (2, 4, 5, 6, 6 ′, 7, 8,
8 ', 9, 10, 10').
【0089】以上の工程により、赤画素(1R)、緑画
素(1G)、青画素(1B)と、赤と青の色重ねブラッ
クマトリックス(2、6’、8’、10’)、赤と緑の
色重ねブラックマトリックス(3)、緑と青の2色の色
重ねブラックマトリックス(4)、赤青緑3色重ねブラ
ックマトリックス(5、6、7、8、9、10)が形成
された。ブラックマトリックスの線幅は、実施例1と同
じく、長辺が20μm、短辺が30μmであった。Through the above steps, the red pixel (1R), green pixel (1G), blue pixel (1B), red and blue color superimposed black matrix (2, 6 ', 8', 10 '), and red A green color superimposed black matrix (3), a green and blue color superimposed black matrix (4), and a red, blue, green three color superimposed black matrix (5, 6, 7, 8, 9, 10) were formed. . As in Example 1, the line width of the black matrix was 20 μm on the long side and 30 μm on the short side.
【0090】実施例1と同様にして、この上に、ITO
膜透明電極、図4に示す三角波状分割配向用突起パター
ン(11)を形成した。In the same manner as in the first embodiment, an ITO
A transparent electrode for the film and a projection pattern (11) for triangular-wave division alignment shown in FIG. 4 were formed.
【0091】画素上の分割配向用突起は、断面の下辺が
12μm、上辺が8μmの台形で、厚さ2.0μmとし
た。図4において、3色重ねブラックマトリックス(図
1の5、7、9の位置)上の突起パターンは、スペーサ
ーとして作用する。すなわち、1画素あたり1個スペー
サーが形成された。対向基板に接触するスペーサー頂部
の面積は、1画素あたり約120μm2であった。ま
た、青画上に設けられたITO層の表面からスペーサー
頂部までの高さであるスペーサーの高さは、目標の3.
9±0.1μm以内であった。かくして本発明のカラー
フィルターを得た。The projection for divisional alignment on the pixel had a trapezoidal shape with the lower side of the cross section being 12 μm and the upper side being 8 μm, and the thickness was 2.0 μm. In FIG. 4, the projection pattern on the three-color superimposed black matrix (positions 5, 7, and 9 in FIG. 1) acts as a spacer. That is, one spacer was formed per pixel. The area of the top of the spacer in contact with the counter substrate was about 120 μm 2 per pixel. The height of the spacer, which is the height from the surface of the ITO layer provided on the blue print to the top of the spacer, is the target of 3.
It was within 9 ± 0.1 μm. Thus, the color filter of the present invention was obtained.
【0092】実施例1と同様にして、液晶表示装置を作
製した。液晶注入性は良好であった。液晶表示装置は、
液晶の配向は良好であり、かつセルギャップムラが無
く、画質は良好であった。また、光透過部にスペーサー
がないためにスペーサーによる光漏れがなかった。さら
に、カラーフィルター上の透明導電層と対向する電極基
板とがスペーサーにより短絡した部分が無く、良好であ
った。A liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. The liquid crystal injection properties were good. The liquid crystal display device
The orientation of the liquid crystal was good, there was no cell gap unevenness, and the image quality was good. Further, since there was no spacer in the light transmitting portion, there was no light leakage due to the spacer. Furthermore, there was no portion where the transparent conductive layer on the color filter and the opposing electrode substrate were short-circuited by the spacer, and the result was good.
【0093】実施例3 実施例1と同様にして、赤、緑、青着色層を形成した。
ブラックマトリックスの線幅は、長辺が20μm、短辺
が30μmであった。次に実施例1と同様にして、この
上に、ITO膜透明電極形成後、図6に示す三角波状分
割配向用突起パターン(12)を形成した。また、同一
の材料で、3色重ねブラックマトリックス(図1の5、
7、9の位置)上中央部にドット状パターン(13)を
形成した。Example 3 In the same manner as in Example 1, red, green and blue colored layers were formed.
The line width of the black matrix was 20 μm on the long side and 30 μm on the short side. Next, in the same manner as in Example 1, after forming an ITO film transparent electrode thereon, a triangular-wave-shaped split alignment projection pattern (12) shown in FIG. 6 was formed. In addition, the same material is used to form a three-color superimposed black matrix (5 in FIG. 1,
A dot-like pattern (13) was formed in the upper center portion (positions 7 and 9).
【0094】分割配向用突起パターンの断面は、画素上
で下辺が12μm、上辺が8μmの台形で、厚さ2.0
μmとした。ドット状パターンは、下辺が12μm(長
辺幅方向)×18μm(短辺幅方向)、上辺が8μm
(長辺幅方向)×14μm(短辺幅方向)の形状であっ
た。ドット状パターンは、ペーサーとして作用する。す
なわち、1画素あたり1個ずつスペーサーが形成され
た。対向基板に接触するスペーサー頂部の面積は約11
0μm2であった。また、青画上に設けられたITO層
の表面からスペーサー頂部までの高さであるスペーサー
の高さは、目標の3.9±0.1μm以内であった。か
くして本発明のカラーフィルターを得た。The cross section of the projection pattern for divided alignment has a trapezoidal shape with a lower side of 12 μm and an upper side of 8 μm on the pixel and a thickness of 2.0 μm.
μm. The dot pattern has a lower side of 12 μm (long side width direction) × 18 μm (short side width direction) and an upper side of 8 μm
(Long side width direction) × 14 μm (short side width direction). The dot pattern acts as a pacer. That is, one spacer was formed for each pixel. The area of the top of the spacer in contact with the counter substrate is about 11
It was 0 μm 2 . The height of the spacer, which is the height from the surface of the ITO layer provided on the blue print to the top of the spacer, was within the target of 3.9 ± 0.1 μm. Thus, the color filter of the present invention was obtained.
【0095】実施例1と同様にして、液晶表示装置を作
製した。液晶注入性に優れ、短時間で液晶がセル内に注
入できた。液晶表示装置は、液晶の配向は良好であり、
かつセルギャップムラが無く、画質は良好であった。ま
た、光透過部にスペーサーがないためにスペーサーによ
る光漏れが無く、カラーフィルター上の透明導電層と対
向する電極基板とがスペーサーにより短絡した部分も無
く、良好であった。A liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. Excellent liquid crystal injection properties, and liquid crystal could be injected into the cell in a short time. In the liquid crystal display device, the orientation of the liquid crystal is good,
Further, there was no cell gap unevenness and the image quality was good. In addition, since there was no spacer in the light transmitting portion, there was no light leakage due to the spacer, and there was no portion where the transparent conductive layer on the color filter and the opposing electrode substrate were short-circuited by the spacer.
【0096】実施例4 実施例1と同様にして、赤、緑、青着色層を形成した。
ただし、赤着色層は、図1の赤画素部の位置(1R)、
および、色重ねブラックマトリクス形成用パターンの位
置(2、3、4、5、6、7、8、9、10)に形成し
た。また、緑着色層は、図1の緑画素部の位置(1
G)、および、色重ねブラックマトリクス形成用パター
ンの位置(2、3、4、5、6、7、8、9、10)に
形成した。また、青着色層は、図1の青画素部の位置
(1B)、および、色重ねブラックマトリクス形成用パ
ターンの位置(2、3、4、5、6、7、8、9、1
0)に形成した。Example 4 In the same manner as in Example 1, red, green and blue colored layers were formed.
However, the red colored layer is located at the position (1R) of the red pixel portion in FIG.
And, it was formed at the position (2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10) of the pattern for forming a color superimposed black matrix. The green colored layer is located at the position (1
G), and the position (2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10) of the pattern for forming a color superimposed black matrix. The blue colored layer is located at the position (1B) of the blue pixel portion in FIG. 1 and at the position (2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 1) of the pattern for forming a color superimposed black matrix.
0).
【0097】以上の工程により、赤画素(1R)、緑画
素(1G)、青画素(1B)と、赤青緑3色重ねブラッ
クマトリックス(2、3、4、5、6、7、8、9、1
0)が形成された。ブラックマトリックスの線幅は、長
辺が20μm、短辺が30μmであった。Through the above steps, a red pixel (1R), a green pixel (1G), a blue pixel (1B) and a red-blue-green three-color superimposed black matrix (2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 1
0) was formed. The line width of the black matrix was 20 μm on the long side and 30 μm on the short side.
【0098】実施例1と同様にして、この上に、ITO
膜透明電極を形成後、図5に示す三角波状分割配向用突
起パターン(11)を形成した。In the same manner as in Example 1, an ITO
After forming the film transparent electrode, a projection pattern (11) for triangular-wave division alignment shown in FIG. 5 was formed.
【0099】画素上の分割配向用突起は、断面の下辺が
12μm、上辺が8μmの台形で、厚さ2.0μmとし
た。3色重ねブラックマトリックス(図1の5、7、9
の位置)上の突起パターンは、スペーサーとして作用す
る。すなわち、1画素あたり1個スペーサーが形成さ
れ、対向基板に接触するスペーサー頂部の面積は、約1
20μm2であった。さらに、3色重ねブラックマトリ
ックス(図1の2、3、4の位置)上の突起パターン
も、スペーサーとして作用する。すなわち、1画素あた
り2個スペーサーが形成され、対向基板に接触するスペ
ーサー頂部の面積は、1個あたり約80μm2であっ
た。このように、1画素あたりのスペーサは合計3個あ
り、対向基板に接触するスペーサー頂部の合計面積は、
1画素あたり合計約280μm2であった。また、青画
素上に設けられたITO層の表面からスペーサー頂部ま
での高さであるスペーサーの高さは、目標の3.9±
0.1μm以内であった。かくして本発明のカラーフィ
ルターを得た。The projection for division alignment on the pixel had a trapezoidal shape with a lower side of 12 μm and an upper side of 8 μm in cross section and a thickness of 2.0 μm. Three-color superimposed black matrix (5, 7, 9 in FIG. 1)
The projection pattern on () position acts as a spacer. That is, one spacer is formed for each pixel, and the area of the top of the spacer that contacts the opposing substrate is about 1
It was 20 μm 2 . Further, the projection pattern on the three-color superimposed black matrix (positions 2, 3, and 4 in FIG. 1) also functions as a spacer. That is, two spacers were formed per pixel, and the area of the top of the spacer that was in contact with the opposing substrate was about 80 μm 2 per pixel. Thus, there are a total of three spacers per pixel, and the total area of the tops of the spacers in contact with the counter substrate is:
The total was about 280 μm 2 per pixel. The height of the spacer, which is the height from the surface of the ITO layer provided on the blue pixel to the top of the spacer, is 3.9 ± the target.
It was within 0.1 μm. Thus, the color filter of the present invention was obtained.
【0100】実施例1と同様にして、液晶表示装置を作
製した。液晶表示装置は、液晶の配向は良好であり、か
つセルギャップムラが無く、画質は良好であった。ま
た、光透過部にスペーサーがないためにスペーサーによ
る光漏れがなかった。さらに、カラーフィルター上の透
明導電層と対向する電極基板とがスペーサーにより短絡
した部分が無く、良好であった。In the same manner as in Example 1, a liquid crystal display device was manufactured. The liquid crystal display device had good liquid crystal alignment, no cell gap unevenness, and good image quality. Further, since there was no spacer in the light transmitting portion, there was no light leakage due to the spacer. Furthermore, there was no portion where the transparent conductive layer on the color filter and the opposing electrode substrate were short-circuited by the spacer, and the result was good.
【0101】比較例1 実施例3と同様にしてカラーフィルターを作製した。た
だし、3色重ねブラックマトリックス(図1の5、7、
9の位置)上には、ドット状スペーサー(図6の13)
を設けなかった。また、カラーフィルターと電極基板貼
り合わせ前に、直径4.0μmのポリスチレン球スペー
サーをカラーフィルター上に散布したこと以外は実施例
4と同様にして液晶表示装置を作製した。Comparative Example 1 A color filter was produced in the same manner as in Example 3. However, a three-color superimposed black matrix (5, 7,
9), dot-shaped spacers (13 in FIG. 6)
Was not provided. Further, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 4, except that a polystyrene sphere spacer having a diameter of 4.0 μm was sprayed on the color filter before the color filter was bonded to the electrode substrate.
【0102】液晶注入性や、カラーフィルター上の透明
導電層と対向する電極基板との短絡はなく良好であった
が、画素部にスペーサーがあるためにスペーサーによる
光漏れがあった他、カラーフィルターと電極基板貼り合
わせ時にポリスチレン球が分割配向用突起や色重ねブラ
ックマトリックスを押しつぶし、この近傍で液晶の配向
乱れ、セルギャップムラが発生し、画質は不良であっ
た。The liquid crystal injection property and the short circuit between the transparent conductive layer on the color filter and the opposing electrode substrate were good. However, since the pixel portion had a spacer, light was leaked due to the spacer. At the time of bonding the electrode substrate and the polystyrene sphere, the projections for division alignment and the color superimposed black matrix were crushed, and the alignment of the liquid crystal was disturbed and cell gap unevenness occurred in the vicinity thereof, resulting in poor image quality.
【0103】比較例2 (樹脂ブラックマトリクスの作成)下記の組成を有する
カーボンブラックミルベースをホモジナイザーを用い
て、7000rpmで30分間分散し、ガラスビーズを
濾過して、ブラックペーストを調製した。Comparative Example 2 (Preparation of Resin Black Matrix) A carbon black mill base having the following composition was dispersed at 7000 rpm for 30 minutes using a homogenizer, and glass beads were filtered to prepare a black paste.
【0104】 カーボンブラックミルベース カーボンブラック (MA100、三菱化学(株)製) 4.6部 ポリイミド前駆体溶液 24.0部 N−メチル−2−ピロリドン 61.4部 ガラスビーズ 90.0部 無アルカリガラス基板上にスピナーを用いて、ブラック
ペーストを塗布し、オーブン中135℃で20分間セミ
キュアした。続いて、ポジ型フォトレジスト(シプレー
社製“Microposit”SRC100 30cp) をスピナーで塗布
し、90℃10分間乾燥した。フォトレジスト膜厚は
1.5μmとした。キャノン(株)製露光機PLA−5
01Fを用い、フォトマスクを介して露光した。Carbon black mill base Carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 4.6 parts Polyimide precursor solution 24.0 parts N-methyl-2-pyrrolidone 61.4 parts Glass beads 90.0 parts Alkali-free glass The black paste was applied on the substrate using a spinner and semi-cured in an oven at 135 ° C. for 20 minutes. Subsequently, a positive photoresist ("Microposit" SRC100 30 cp manufactured by Shipley Co., Ltd.) was applied by a spinner and dried at 90 ° C. for 10 minutes. The photoresist film thickness was 1.5 μm. Exposure machine PLA-5 manufactured by Canon Inc.
Using 01F, exposure was performed through a photomask.
【0105】次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シドを2重量%含んだ23℃の水溶液を現像液に用い、
基板を現像液にディップさせ、同時に10cm幅を5秒
で1往復するように基板を揺動させて、ポジ型フォトレ
ジストの現像とポリイミド前駆体のエッチングを同時に
行った。現像時間は60秒とした。その後、メチルセロ
ソルブアセテートでポジ型フォトレジストを剥離し、さ
らに、300℃で30分間キュアした。このようにし
て、膜厚が、0.9μm、図1の色重ねブラックマトリ
クス形成用パターン(2、3、4、5、6、7、8、
9、10)に対応する長辺の線幅が20μm、短辺の線
幅が30μmの格子状樹脂ブラックマトリックスを設け
た。樹脂ブラックマトリックスのOD値は3.3であっ
た。Next, an aqueous solution containing 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide at 23 ° C. was used as a developer.
The substrate was dipped in a developing solution, and at the same time, the substrate was swung so as to make one reciprocation in a width of 10 cm in 5 seconds, thereby simultaneously developing the positive photoresist and etching the polyimide precursor. The development time was 60 seconds. Thereafter, the positive type photoresist was stripped with methyl cellosolve acetate, and further cured at 300 ° C. for 30 minutes. In this way, the film thickness is 0.9 μm, and the pattern (2, 3, 4, 5, 6, 7, 8,
A grid-like resin black matrix having a long side line width of 20 μm and a short side line width corresponding to (9, 10) was provided. The OD value of the resin black matrix was 3.3.
【0106】(着着色層の形成)赤、緑、青の顔料とし
て各々Color index No.65300 Pigment Red 177で示され
るジアントラキノン系顔料、Color Index No.74265 Pig
ment Green 36 で示されるフタロシアニングリーン系顔
料、Color Index No.74160 Pigment Blue 15-4で示され
るフタロシアニンブルー系顔料を用意した。ブラックマ
トリックスに使用したポリイミド前駆体溶液1に上記顔
料を各々混合分散させて、赤、緑、青の3種類の着色ペ
ーストを得た。まず、樹脂ブラックマトリックス基板上
に青ペーストを塗布し、120℃20分間セミキュアし
た。この後、ポジ型フォトレジスト(シプレー社製 "Mi
croposit" SRC100 30cp )をスピナーで塗布後、90℃
で10分乾燥した。フォトマスクを用いて露光し、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド2重量%水溶液に基
板を浸漬し揺動させながら、ポジ型フォトレジストの現
像およびポリイミド前駆体のエッチングを同時に行っ
た。その後、ポジ型フォトレジストをメチルセロソルブ
アセテートで剥離し、長辺方向にストライプ状の青着色
層パターンを形成した。この後、300℃で30分間キ
ュアした。赤着色層の膜厚は2.0μmであった。この
ようにして、図7の1R部に赤画素を形成した。(Formation of coloring layer) Dianthraquinone pigment represented by Color Index No. 65300 Pigment Red 177 as a red, green and blue pigment, Color Index No. 74265 Pig
A phthalocyanine green pigment represented by ment Green 36 and a phthalocyanine blue pigment represented by Color Index No. 74160 Pigment Blue 15-4 were prepared. The above pigments were mixed and dispersed in the polyimide precursor solution 1 used for the black matrix, respectively, to obtain three kinds of colored pastes of red, green and blue. First, a blue paste was applied on a resin black matrix substrate and semi-cured at 120 ° C. for 20 minutes. Then, a positive photoresist ("Miley" manufactured by Shipley Co., Ltd.)
croposit "SRC100 30cp) with spinner, 90 ℃
For 10 minutes. Exposure was performed using a photomask, and while the substrate was immersed and rocked in a 2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide, development of a positive photoresist and etching of a polyimide precursor were simultaneously performed. Thereafter, the positive photoresist was stripped with methyl cellosolve acetate to form a striped blue colored layer pattern in the long side direction. Thereafter, curing was performed at 300 ° C. for 30 minutes. The thickness of the red coloring layer was 2.0 μm. Thus, a red pixel was formed in the 1R portion of FIG.
【0107】基板水洗後、赤着色層と同様にして、スト
ライプ状の緑、青色の各着色層パターンを、3色の間隔
が14μmとなるよう、図7の1G、1B部に緑画素、
青画素を形成した。膜厚は共に2.0μmであった。After the substrate was washed with water, striped green and blue colored layer patterns were formed in the same manner as the red colored layer so that the green pixels were placed in the 1G and 1B portions of FIG.
Blue pixels were formed. Both film thicknesses were 2.0 μm.
【0108】各着色層パターン形成時に、樹脂ブラック
マトリックス(図1の5、7、9の位置)中央部上に、
各着色層からなるドット状パターンの積層によるスペー
サーを同時に形成したが、ストライプ状の画素パターン
に重ならないようにするため、設計は非常に困難であっ
た。まず最初に赤着色層からなる下辺が12μm(長辺
幅方向)×28μm(短辺幅方向)、上辺が9μm(長
辺幅方向)×25μm(短辺幅方向)μmのドット状パ
ターンを形成した。次に、その上に緑着色層からなる下
辺が9μm(長辺幅方向)×25μm(短辺幅方向)、
上辺が6μm(長辺幅方向)×22μm(短辺幅方向)
のドット状パターンを形成・積層した。最後に、これら
の上に青着色層からなる下辺が6μm(長辺幅方向)×
22μm(短辺幅方向)、上辺が3μm(長辺幅方向)
×19μm(短辺幅方向)のドット状パターンを形成・
積層した。正常部においては、対向基板に接触するスペ
ーサー頂部の面積は約60μm2であったが、表示領域
の周辺部では、最上層の青着色層からなるパターンの位
置ずれやパターン欠けが発生した。At the time of forming each colored layer pattern, a resin black matrix (positions 5, 7, and 9 in FIG. 1)
Although the spacers were simultaneously formed by laminating the dot patterns composed of the respective colored layers, the design was very difficult in order not to overlap the stripe-shaped pixel patterns. First, a dot-shaped pattern consisting of a red colored layer having a lower side of 12 μm (long side width direction) × 28 μm (short side width direction) and an upper side of 9 μm (long side width direction) × 25 μm (short side width direction) μm is formed. did. Next, a lower side made of a green coloring layer is 9 μm (long side width direction) × 25 μm (short side width direction) thereon,
The upper side is 6 μm (long side width direction) × 22 μm (short side width direction)
Was formed and laminated. Finally, a lower side composed of a blue coloring layer is formed on these with 6 μm (long side width direction) ×
22 μm (short side width direction), upper side 3 μm (long side width direction)
X 19μm (short side width direction)
Laminated. In the normal part, the area of the top of the spacer in contact with the opposing substrate was about 60 μm 2 , but in the peripheral part of the display area, the pattern consisting of the uppermost blue colored layer was misaligned or chipped.
【0109】次に、スパッタリング法にて膜厚が150
nmで表面抵抗が20Ω/□のITO膜を形成した。Next, a film thickness of 150 is formed by a sputtering method.
An ITO film having a surface resistance of 20 Ω / □ in nm was formed.
【0110】さらに実施例1と同様にして、図7に示す
三角波状分割配向用突起パターン、ドット状パターンの
積層によるスペーサーを形成した。Further, in the same manner as in Example 1, a spacer was formed by laminating a projection pattern for triangular wave division orientation and a dot pattern shown in FIG.
【0111】画素上での分割配向用突起パターンの断面
は、下辺が12μm、上辺が8μmの台形で、厚さ2.
0μmとした。かくしてカラーフィルターを得た。表示
領域の周辺部では、最上層の青着色層からなるパターン
の位置ずれやパターン欠けが発生したため、青画上に設
けられたITO層の表面からスペーサー頂部までの高さ
であるスペーサーの高さは、2.4〜4.0μmで、目
標の3.9±0.1μmを満足できなかった。The cross section of the projection pattern for divisional alignment on the pixel is a trapezoid having a lower side of 12 μm and an upper side of 8 μm and a thickness of 2.
It was 0 μm. Thus, a color filter was obtained. At the periphery of the display area, the pattern composed of the uppermost blue coloring layer was misaligned or chipped, so the height of the spacer, which is the height from the surface of the ITO layer provided on the blue print to the top of the spacer, Was 2.4 to 4.0 μm, which did not satisfy the target of 3.9 ± 0.1 μm.
【0112】実施例1と同様にして、液晶表示装置を作
製した。表示周辺部でスペーサーが不良であったため、
セルギャップが小さくなり、液晶注入時間が実施例1の
2倍かかり、液晶注入性は不良であった。また、周辺セ
ルギャップムラが発生し、画質は不良であった。また、
スペーサーの再表面に透明電極が形成されているため、
対向基板の透明電極と電気的に導通し、本起因による表
示不良が一部発生した。In the same manner as in Example 1, a liquid crystal display device was manufactured. The spacer was defective around the display,
The cell gap became small, the liquid crystal injection time was twice as long as that of Example 1, and the liquid crystal injection property was poor. In addition, peripheral cell gap unevenness occurred, and the image quality was poor. Also,
Because a transparent electrode is formed on the resurface of the spacer,
It was electrically connected to the transparent electrode of the opposing substrate, and some display defects were caused by this.
【0113】[0113]
【発明の効果】本発明の液晶表示装置は、液晶の分割配
向用突起を有しているので、広視野角を達成できるとも
に、従来の分割配向液晶表示装置と比較すると、スペー
サーを散布する工程が不要で、スペーサーと液晶の分割
配向用突起とを同時に形成すること、および、従来のブ
ラックマトリックスが不必要であることによって生産性
に優れ、コストも低減できる。また、ブラックマトリッ
クス上に固定的に配置されたスペーサーを有しているの
で、スペーサーによる光の散乱や透過による表示品位の
低下が無く、表示品位にも優れている。さらに、パター
ン加工が容易でかつ加工精度が高く、パターン設計の自
由度も高く、かつスペーサー形成のためのアライメント
工程数が少ないため、生産性安定性にも優れている。The liquid crystal display device of the present invention has projections for liquid crystal split alignment, so that a wide viewing angle can be achieved, and a step of dispersing spacers as compared with the conventional split alignment liquid crystal display device. Is unnecessary, the spacers and the projections for split alignment of the liquid crystal are formed at the same time, and since the conventional black matrix is unnecessary, the productivity is excellent and the cost can be reduced. Further, since the spacer is fixedly arranged on the black matrix, the display quality is not degraded due to the scattering or transmission of light by the spacer, and the display quality is excellent. Furthermore, the pattern processing is easy, the processing accuracy is high, the degree of freedom in pattern design is high, and the number of alignment steps for forming the spacer is small, so that the productivity is excellent.
【0114】さらに、色重ねブラックマトリックス上に
も分割配向用突起パターンの一部を設けることにより、
色重ねブラックマトリックス上及び付近の配向の乱れを
防ぐことができる。Further, by providing a part of the projection pattern for divided orientation on the color superimposed black matrix,
Disorder of the alignment on and near the color superimposed black matrix can be prevented.
【0115】また、分割配向用突起パターンを形成する
材料が電気的に絶縁性である場合は、基板の貼り合わせ
ズレが発生した時でもカラーフィルター上の透明電極と
対向する電極基板との電気的な短絡の危険を回避でき
る。When the material forming the projection pattern for divided orientation is electrically insulative, the electrical connection between the transparent electrode on the color filter and the electrode substrate facing the electrode even when the substrate is misaligned. The danger of a short circuit can be avoided.
【図1】本発明における着色層の塗布パターンの一例を
示す概略平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a coating pattern of a colored layer in the present invention.
【図2】本発明の配向分割用突起及びスペーサーを有す
るカラーフィルター基板の一例の概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of an example of a color filter substrate having a projection for orientation division and a spacer according to the present invention.
【図3】本発明における着色層の塗布パターンの一例を
示す概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing an example of a coating pattern of a colored layer in the present invention.
【図4】本発明の配向分割用突起及びスペーサーを有す
るカラーフィルター基板の一例の概略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of an example of a color filter substrate having a projection for orientation division and a spacer according to the present invention.
【図5】本発明の配向分割用突起及びスペーサーを有す
るカラーフィルター基板の一例の概略平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view of an example of a color filter substrate having a projection for orientation division and a spacer according to the present invention.
【図6】本発明の配向分割用突起及びスペーサーを有す
るカラーフィルター基板の一例の概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view of an example of a color filter substrate having a projection for orientation division and a spacer according to the present invention.
【図7】比較例2で作製した配向分割用突起及びスペー
サーを有するカラーフィルター基板の概略平面図であ
る。7 is a schematic plan view of a color filter substrate having a projection for alignment division and a spacer manufactured in Comparative Example 2. FIG.
1:画素部(赤(1R)、緑(1G)、青(1B)) 2〜10(10’):色重ねブラックマトリックス部 11、12:配向分割用突起 13:配向分割用突起と同一の材料からなるスペーサー 14、14’:2色重ねブラックマトリックス 15:3色重ねブラックマトリックス 16:樹脂ブラックマトリックス 1: Pixel portion (red (1R), green (1G), blue (1B)) 2 to 10 (10 '): color superimposed black matrix portion 11, 12: projection for alignment division 13: the same as the projection for alignment division Spacer made of material 14, 14 ': two-color superimposed black matrix 15: three-color superimposed black matrix 16: resin black matrix
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Claims (11)
透明電極、分割配向用突起パターンをこの順に積層した
カラーフィルタにおいて、該着色層の一部を2色以上重
ね合わせることによりブラックマトリックスを形成せし
め、かつ該ブラックマトリックスの上の透明電極上に前
記分割配向用突起パターンの一部、及び/又は分割配向
用突起パターンと同一の材料からなるスペーサーを設け
たことを特徴とするカラーフィルター。(1) a colored layer of at least a plurality of colors on a transparent substrate;
In a color filter in which a transparent electrode and a projection pattern for divided orientation are laminated in this order, a part of the colored layer is overlapped with two or more colors to form a black matrix, and the divided layer is formed on the transparent electrode on the black matrix. A color filter comprising a spacer made of the same material as a part of the alignment projection pattern and / or the divided alignment projection pattern.
めたブラックマトリックスを有しており、かつ該ブラッ
クマトリックスの上の透明電極上に分割配向用突起パタ
ーンの一部、及び/又は分割配向用突起パターンと同一
の材料からなるスペーサーを設けたことを特徴とする請
求項1記載のカラーフィルター。2. A method according to claim 1, further comprising: a black matrix in which a part of a colored layer is formed by superposing two colors, and a part of a projection pattern for division alignment on a transparent electrode on the black matrix, and / or 2. The color filter according to claim 1, further comprising a spacer made of the same material as the divided alignment projection pattern.
めたブラックマトリックスを有しており、かつ該ブラッ
クマトリックスの上に3色目の着色層パターンを設け、
さらにその上に透明電極ならびに分割配向用突起パター
ンの一部、及び/又は分割配向用突起パターンと同一の
材料からなるスペーサーを形成したことを特徴とする請
求項1記載のカラーフィルター。3. A black matrix in which a part of a colored layer is formed by superimposing two colors, and a third colored layer pattern is provided on the black matrix.
2. The color filter according to claim 1, wherein a spacer made of the same material as the transparent electrode and a part of the projection pattern for split orientation and / or the projection pattern for split orientation is formed thereon.
めたブラックマトリックスを有しており、該ブラックマ
トリックスの上の透明電極上に分割配向用突起パターン
を形成し、かつ該ブラックマトリックスの上に、3色目
の着色層パターン、透明電極および分割配向用突起パタ
ーンと同一の材料を積層してスペーサーを形成したこと
を特徴とする請求項1記載のカラーフィルター。4. A black matrix in which a part of a colored layer is formed by overlapping two colors, a projection pattern for division alignment is formed on a transparent electrode on the black matrix, and 2. The color filter according to claim 1, wherein the same material as the third color layer pattern, the transparent electrode, and the projection pattern for divided orientation is laminated thereon to form a spacer.
めたブラックマトリックスを有しており、かつ該ブラッ
クマトリックスの上の透明電極上に分割配向用突起パタ
ーンの一部、及び/又は分割配向用突起パターンと同一
の材料からなるスペーサーを形成したことを特徴とする
請求項1記載のカラーフィルター。5. A black matrix in which a part of a colored layer is formed by superimposing three colors, and a part of a projection pattern for divided alignment on a transparent electrode on the black matrix, and / or 2. The color filter according to claim 1, wherein a spacer made of the same material as the divided alignment projection pattern is formed.
形成せしめたブラックマトリックスを有しており、該2
色重ね合わせて形成せしめたブラックマトリックスの上
の透明電極上に分割配向用突起パターンを形成し、かつ
該3色重ね合わせて形成せしめたブラックマトリックス
の上の透明電極上に分割配向用突起パターンと同一の材
料からなるスペーサーを形成したことを特徴とする請求
項1記載のカラーフィルター。6. A black matrix in which a part of a colored layer is formed by overlapping two colors and three colors.
Forming a projection pattern for split alignment on the transparent electrode on the black matrix formed by overlapping the colors, and forming a projection pattern for split alignment on the transparent electrode on the black matrix formed by overlapping the three colors; 2. The color filter according to claim 1, wherein spacers made of the same material are formed.
電気的に絶縁性であることを特徴とする請求項1〜6記
載のカラーフィルタ。7. The color filter according to claim 1, wherein the material forming the projection pattern for divided orientation is electrically insulating.
を分散せしめた材料からなることを特徴とする請求項1
〜7記載のカラーフィルタ。8. The method according to claim 1, wherein the projection pattern for divided orientation is made of a material in which a pigment is dispersed in a resin.
A color filter according to any one of claims 1 to 7.
とする請求項8記載のカラーフィルター。9. The color filter according to claim 8, wherein the pigment is an insulating white pigment.
ミニウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化
鉛、酸化クロム、酸化鉄、ジルコニア、硫酸バリウムの
中から選ばれたものからなることを特徴とする請求項9
記載のカラーフィルター。10. The pigment according to claim 1, wherein the pigment is selected from titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, calcium carbonate, magnesium oxide, lead oxide, chromium oxide, iron oxide, zirconia, and barium sulfate. Item 9
The color filter described.
ーフィルターを用いたことを特徴とする液晶表示装置。11. A liquid crystal display device using the color filter according to claim 1.
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