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JP2000039696A - Photosensitive material processing equipment - Google Patents

Photosensitive material processing equipment

Info

Publication number
JP2000039696A
JP2000039696A JP22236798A JP22236798A JP2000039696A JP 2000039696 A JP2000039696 A JP 2000039696A JP 22236798 A JP22236798 A JP 22236798A JP 22236798 A JP22236798 A JP 22236798A JP 2000039696 A JP2000039696 A JP 2000039696A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive material
printing plate
lithographic printing
processing
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22236798A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Kunihiro
彰 国弘
Sadao Kurio
貞夫 栗生
Yasuhiro Kawaguchi
靖弘 川口
Fumito Fukuhara
文人 福原
Masahiko Takeuchi
雅彦 武内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP22236798A priority Critical patent/JP2000039696A/en
Publication of JP2000039696A publication Critical patent/JP2000039696A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光材料処理装置自体の温度や感光材料処理
装置内に設置された感光材料の温度が低温となっている
場合においても、感光材料を高品質に処理することがで
きる感光材料処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 現像処理装置11は、平版印刷版Mの感
光面に一定量の現像液を計量して塗布するための塗布ロ
ーラ75を有する現像液塗布機構43と、現像処理に供
された現像液を平版印刷版Mから除去するための一対の
絞りローラ44、45と、温度センサによる現像処理装
置11内部の温度の測定値により平版印刷版Mの搬送速
度を変更することで、平版印刷版Mが現像液塗布機構4
3において現像液を塗布された後、一対の絞りローラ4
4、45により現像液を除去されるまでの時間を制御す
る制御部とを有する。
[PROBLEMS] To process a photosensitive material with high quality even when the temperature of the photosensitive material processing apparatus itself or the temperature of the photosensitive material installed in the photosensitive material processing apparatus is low. It is an object of the present invention to provide a photosensitive material processing apparatus which can perform the processing. A developing device (11) includes a developing solution applying mechanism (43) having an applying roller (75) for measuring and applying a fixed amount of a developing solution to a photosensitive surface of a lithographic printing plate (M). By changing the conveying speed of the lithographic printing plate M based on a pair of squeezing rollers 44 and 45 for removing the liquid from the lithographic printing plate M and a temperature value measured inside the developing device 11 by a temperature sensor, M is the developer application mechanism 4
After the developing solution is applied in 3, a pair of squeezing rollers 4
And a control unit for controlling the time until the developer is removed by the control unit 4 or 45.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、感光材料を処理
液により処理する感光材料処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料
は、画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化
液、水洗水等の処理液によって処理される。このような
処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ロ
ーラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留
した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中
に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知
られている。
2. Description of the Related Art Photosensitive materials such as films, photographic papers, printing plates and the like are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded. As a photosensitive material processing apparatus for performing such processing, a photosensitive material is transported into a processing tank storing a processing liquid by a transporting unit including a plurality of transport roller pairs or the like, and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. An immersion-type processing apparatus that performs processing by such a method is known.

【0003】このような浸漬型の処理装置においては、
感光材料の処理に伴う処理疲労、あるいは大気中の炭酸
ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するた
め、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化
を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成
分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは
異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可
能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理
液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪い
という問題もある。
In such an immersion type processing apparatus,
Since the processing solution deteriorates due to processing fatigue accompanying the processing of the photosensitive material or temporal fatigue due to carbon dioxide or oxygen in the atmosphere, the deterioration of the processing solution is recovered by replenishing the processing solution with a replenisher. Therefore, the components of the processing liquid at the start of the processing are different from the components of the processing liquid when the processing is continued thereafter, and it is impossible to perform strictly uniform processing. In addition, such an immersion type processing apparatus has a problem that the amount of waste liquid of the processing liquid is large and the maintainability of the apparatus is poor.

【0004】このような問題点を解消するための感光材
料処理装置として、例えば、特開昭62−237455
号公報に記載されているように、感光材料を処理液中に
浸漬するかわりに、感光材料の処理に必要な量の処理液
を感光材料の感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処
理装置も使用されている。このような塗布方式の処理装
置においては、その表面に溝を形成すること等によりそ
の表面を粗面化したローラ(以下「粗面化ローラ」と呼
称する)と支持ローラとを対向配置し、複数の処理液吐
出孔を有する処理液供給ノズルから、粗面化ローラに処
理液を吐出することにより、粗面化ローラと支持ローラ
との間に処理液の液溜めを形成し、この液溜め中に感光
材料を通過させることにより、感光材料に処理液を塗布
するようにしている。
As a photosensitive material processing apparatus for solving such a problem, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-237455.
As described in the publication, instead of immersing the photosensitive material in the processing solution, a coating method in which the amount of processing solution required for processing the photosensitive material is applied to the photosensitive surface of the photosensitive material to perform the processing. Equipment is also used. In such a coating type processing apparatus, a roller whose surface is roughened by forming a groove on the surface thereof (hereinafter, referred to as a “roughening roller”) and a support roller are arranged to face each other, By discharging the processing liquid from the processing liquid supply nozzle having a plurality of processing liquid discharge holes to the roughening roller, a processing liquid reservoir is formed between the roughening roller and the support roller. The processing liquid is applied to the photosensitive material by allowing the photosensitive material to pass therethrough.

【0005】また、このような塗布方式の感光材料処理
装置においては、処理液を所定温度まで加熱した状態で
貯留する処理液タンクから感光材料に処理液を塗布する
処理液塗布部まで処理液を供給し、感光材料に加熱され
た処理液を塗布することにより処理の促進を図ってい
る。
Further, in such a photosensitive material processing apparatus of the coating method, the processing liquid is supplied from a processing liquid tank storing the processing liquid to a predetermined temperature while heating the processing liquid to a predetermined temperature. The processing is promoted by applying the heated processing liquid to the photosensitive material.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような塗布方式の
感光材料処理装置を使用して感光材料を処理する場合に
おいては、例えばこの感光材料処理装置を長時間低温の
雰囲気下に設置した場合等、感光材料処理装置自体の温
度や感光材料処理装置内に設置された感光材料の温度が
低温となっている場合においては、感光材料の処理品質
が低下するという問題が生ずる。
In the case of processing a photosensitive material using such a coating type photosensitive material processing apparatus, for example, when the photosensitive material processing apparatus is installed in a low-temperature atmosphere for a long time, etc. When the temperature of the photosensitive material processing apparatus itself or the temperature of the photosensitive material installed in the photosensitive material processing apparatus is low, there arises a problem that the processing quality of the photosensitive material deteriorates.

【0007】このような問題は、感光材料自体の温度低
下あるいは低温となった感光材料処理装置内を搬送され
ることによる感光材料の温度低下に起因して、この感光
材料に塗布された処理液の温度も低下し、これに伴って
感光材料の処理の進行速度が低下するためと考えられ
る。
[0007] Such a problem is caused by a decrease in the temperature of the photosensitive material itself or a decrease in the temperature of the photosensitive material due to being conveyed through the photosensitive material processing apparatus which has been cooled to a low temperature. It is considered that the temperature of the photosensitive material also decreases, and accordingly, the progress speed of the processing of the photosensitive material decreases.

【0008】特に、感光材料として、現像の進行が速い
銀錯塩拡散転写法(DTR法)を利用する平版印刷版を
使用した場合には、上記の問題が特に顕著となるばかり
ではなく、平版印刷版特有の問題である印刷性能の低
下、特に耐刷性が低下するという問題が生ずる。
In particular, when a lithographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), in which development proceeds rapidly, is used as a photosensitive material, not only the above problem becomes particularly remarkable, but also lithographic printing. There is a problem that printing performance, particularly printing durability, which is a problem unique to the plate, is reduced.

【0009】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、感光材料処理装置自体の温度や感光材
料処理装置内に設置された感光材料の温度が低温となっ
ている場合においても、感光材料を高品質に処理するこ
とができる感光材料処理装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. Even when the temperature of the photosensitive material processing apparatus itself or the temperature of the photosensitive material installed in the photosensitive material processing apparatus is low, An object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus capable of processing a photosensitive material with high quality.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、感光材料を搬送する搬送手段と、前記搬送手段によ
り搬送される感光材料に処理液を塗布するための処理液
塗布部と、前記処理液塗布部により感光材料に塗布され
た処理液を除去する処理液除去部とを備えた感光材料処
理装置において、感光材料処理装置内の温度を測定する
温度測定手段と、前記温度測定手段の測定結果に基づい
て前記搬送手段による感光材料の搬送速度を制御するこ
とにより、感光材料が前記処理液塗布部により処理液を
塗布されてから前記処理液除去部により処理液を除去さ
れるまでの時間を変更する制御手段とを備えたことを特
徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a conveying means for conveying a photosensitive material, a processing liquid application unit for applying a processing liquid to the photosensitive material conveyed by the conveying means, A temperature measuring unit for measuring a temperature in the photosensitive material processing apparatus, comprising: a processing solution removing unit configured to remove a processing solution applied to the photosensitive material by the processing liquid application unit; and a temperature measuring unit. By controlling the transport speed of the photosensitive material by the transport unit based on the measurement result, the photosensitive material is coated with the processing liquid by the processing liquid coating unit and then removed from the processing liquid by the processing liquid removing unit. And control means for changing the time.

【0011】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記処理液塗布部は、前記搬送手段に
より搬送される感光材料の感光面と当接する塗布ローラ
と、前記塗布ローラに処理液を供給する処理液供給部と
を備えている。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the processing liquid application section includes an application roller that contacts a photosensitive surface of a photosensitive material conveyed by the conveyance means, and the application roller And a processing liquid supply unit for supplying a processing liquid to the liquid crystal panel.

【0012】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の発明において、前記塗布ローラは、その外周部に処理
液通過用の凹凸部を有している。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the coating roller has an uneven portion for passing a processing liquid on an outer peripheral portion thereof.

【0013】請求項4に記載の発明は、請求項2に記載
の発明において、前記搬送手段は、前記塗布ローラと当
接する位置に配設されたバックアップローラを含んでい
る。
According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the transporting means includes a backup roller disposed at a position in contact with the application roller.

【0014】請求項5に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記処理液除去部は、前記搬送手段に
より搬送される感光材料を挟持するローラ対より構成さ
れている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the processing liquid removing unit includes a pair of rollers for nipping the photosensitive material conveyed by the conveying means.

【0015】請求項6に記載の発明は、請求項1乃至請
求項5いずれかに記載の発明において、前記制御手段
は、前記温度測定手段により測定した感光材料処理装置
内の温度が設定温度以下の場合にのみ、感光材料が前記
処理液塗布部により処理液を塗布されてから前記処理液
除去部により処理液を除去されるまでの時間を変更す
る。
According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the control means controls the temperature in the photosensitive material processing apparatus measured by the temperature measuring means to be equal to or lower than a set temperature. Only in the case of (1), the time from when the processing liquid is applied to the photosensitive material by the processing liquid application unit until the processing liquid is removed by the processing liquid removing unit is changed.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る感光材料
処理装置としての現像処理装置11を備えた平版印刷版
Mの製版装置の概要図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a plate making apparatus for a lithographic printing plate M provided with a development processing device 11 as a photosensitive material processing device according to the present invention.

【0017】この製版装置は、感光材料として銀錯塩拡
散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mを使用し、
この平版印刷版Mに対して画像の記録と現像処理とを行
うものであり、平版印刷版Mに対して画像を記録する画
像記録装置10と、画像記録後の平版印刷版Mに対して
現像処理を行う現像処理装置11とから構成される。
This plate making apparatus uses a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as a photosensitive material.
The lithographic printing plate M is subjected to image recording and development processing. The image recording apparatus 10 records an image on the lithographic printing plate M, and the lithographic printing plate M after image recording is developed. And a development processing device 11 for performing processing.

【0018】なお、銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理
現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第
3,728,114号、同4,134,769号、同
4,160,670号、同4,336,321号、同
4,501,811号、同4,510,228号、同
4,621,041号明細書等に記載されている。
A lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), particularly a lithographic printing plate having a physical development nucleus layer on a silver halide emulsion layer is disclosed in, for example, US Pat. No. 3,728. No. 4,114,769, No.4,160,670, No.4,336,321, No.4,501,811, No.4,510,228, No.4,621,041 It is described in the specification and the like.

【0019】このような平版印刷版においては、平版印
刷版の表面の露光された部分におけるハロゲン化銀は化
学現像を生起し、黒色の銀となって親水性の非画線部を
形成し、一方、未露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の
銀塩錯化剤により銀錯体となって表面の物理現像核層ま
で拡散し、核の存在により物理現像を生起してインキ受
容性の物理現像銀を主体とする画線部を形成する。
In such a lithographic printing plate, the silver halide in the exposed portion of the surface of the lithographic printing plate causes chemical development to become black silver to form a hydrophilic non-image area, On the other hand, the unexposed silver halide crystals are converted into silver complexes by the silver salt complexing agent in the developing solution and diffuse to the physical development nucleus layer on the surface. An image portion mainly composed of developed silver is formed.

【0020】先ず、画像記録装置10の構成について説
明する。
First, the configuration of the image recording apparatus 10 will be described.

【0021】画像記録装置10は、収納部12にロール
状に巻回された状態で収納された長尺の平版印刷版Mを
搬送するためのニップローラ対37、38を含む複数の
搬送ローラと、これらの搬送ローラによって搬送される
平版印刷版Mに対し、その搬送方向と直行する方向にレ
ーザビームを走査することにより、平版印刷版Mに画像
を記録するための露光機構13と、前記平版印刷版Mに
位置決め用のパンチ孔を穿孔するための穿孔機構14
と、前記露光機構13による平版印刷版Mへのレーザビ
ームの照射位置より微小距離離隔した位置において平版
印刷版Mを切断する切断機構15とを備える。
The image recording apparatus 10 includes a plurality of transport rollers including a pair of nip rollers 37 and 38 for transporting a long planographic printing plate M stored in a state of being wound in a roll shape in the storage section 12; An exposure mechanism 13 for recording an image on the lithographic printing plate M by scanning the lithographic printing plate M conveyed by these conveying rollers with a laser beam in a direction perpendicular to the conveying direction, and the lithographic printing plate M; A punching mechanism 14 for punching a punching hole for positioning in the plate M
And a cutting mechanism 15 for cutting the lithographic printing plate M at a position separated from the lithographic printing plate M by the exposure mechanism 13 by a small distance from the irradiation position of the laser beam.

【0022】収納部12は、長尺の平版印刷版Mを巻回
した状態で収納するものであり、この収納部12に収納
された長尺の平版印刷版Mは、図示しないガイド部材等
により案内され、穿孔機構14に向けて搬送される。
The storage section 12 stores a long lithographic printing plate M in a wound state, and the long lithographic printing plate M stored in the storage section 12 is guided by a guide member (not shown) or the like. It is guided and transported toward the punching mechanism 14.

【0023】穿孔機構14は、平版印刷版Mに位置決め
用のパンチ孔を穿孔するための穿孔部と、この穿孔部に
よりパンチ孔が穿孔された平版印刷版Mから生ずるパン
チ屑を回収するための回収部とを有し、図示しないモー
タの駆動でダイスに対して昇降する一対のポンチによ
り、位置決め用のパンチ孔を穿孔する構成となってい
る。
The perforating mechanism 14 is for perforating a lithographic printing plate M with a punching hole for positioning, and for collecting punch debris generated from the lithographic printing plate M having the perforated hole. And a punching hole for positioning by a pair of punches which move up and down with respect to the die by driving a motor (not shown).

【0024】穿孔機構14により位置決め用のパンチ孔
が穿孔された平版印刷版Mは、ニップローラ対37、3
8により挟持された状態で搬送され、露光機構13によ
り画像を記録される。この露光機構13は、回転多面鏡
63と、Fθレンズ64と、折返しミラー65と、シリ
ンドリカルレンズ66とを備える。図示しないレーザ光
源より出射され、画像信号により変調されたレーザビー
ムRは、回転多面鏡63により偏向され、Fθレンズ6
4、折返しミラー65およびシリンドリカルレンズ66
を介して集光されて、平版印刷版Mをその搬送方向と直
行する方向に走査する。
The lithographic printing plate M, in which a positioning punch hole is punched by the punching mechanism 14, is placed on a nip roller pair 37, 3
The sheet is conveyed in a state of being pinched by the recording medium 8, and an image is recorded by the exposure mechanism 13. The exposure mechanism 13 includes a rotary polygon mirror 63, an Fθ lens 64, a folding mirror 65, and a cylindrical lens 66. A laser beam R emitted from a laser light source (not shown) and modulated by an image signal is deflected by a rotating polygon mirror 63 and
4. Folding mirror 65 and cylindrical lens 66
And scans the lithographic printing plate M in a direction perpendicular to the transport direction.

【0025】切断機構15は、平版印刷版Mの幅方向に
往復移動するカッターを備え、このカッターにより平版
印刷版Mを所定の長さに切断する構成となっている。
The cutting mechanism 15 includes a cutter that reciprocates in the width direction of the lithographic printing plate M, and cuts the lithographic printing plate M into a predetermined length by the cutter.

【0026】なお、画像記録装置10における平版印刷
版Mの搬送速度と現像処理装置11における平版印刷版
Mの搬送速度とは一致しないため、平版印刷版Mを単純
に画像記録装置10と現像処理装置11とに亘って搬送
することはできない。また、切断機構15による平版印
刷版Mの切断時や穿孔機構14によるパンチ孔の穿孔時
においては、平版印刷版Mの搬送を停止させる必要があ
る。このため、画像記録装置10と現像処理装置11と
の間には平版印刷版Mのバッファ部26が配設されてお
り、画像記録装置10において露光の終了した平版印刷
版Mの搬送時に、このバッファ部26に一定長さの平版
印刷版Mを貯留した後、現像処理装置11に搬送するよ
うに構成されている。
Since the transport speed of the lithographic printing plate M in the image recording device 10 does not match the transport speed of the lithographic printing plate M in the developing device 11, the lithographic printing plate M is simply processed by the image recording device 10 and the developing process. It cannot be transported over the device 11. When the lithographic printing plate M is cut by the cutting mechanism 15 or when the punching holes are punched by the punching mechanism 14, it is necessary to stop the transport of the lithographic printing plate M. Therefore, a lithographic printing plate M buffer unit 26 is provided between the image recording device 10 and the development processing device 11, and when the lithographic printing plate M that has been exposed in the image recording device 10 is transported, The lithographic printing plate M having a fixed length is stored in the buffer unit 26 and then transported to the developing device 11.

【0027】次に、この発明に係る現像処理装置11の
成について説明する。図2は、図1における現像処理装
置11を拡大して示す概要図である。
Next, the configuration of the developing apparatus 11 according to the present invention will be described. FIG. 2 is an enlarged schematic view showing the developing device 11 in FIG.

【0028】この現像処理装置11は、露光後の平版印
刷版Mに現像液(アクチベータ)を塗布して現像処理す
る現像部22と、現像処理後の平版印刷版Mに安定液を
塗布して安定化処理する安定部23と、安定化処理後の
平版印刷版Mを乾燥するための乾燥部24とから構成さ
れる。
The developing unit 11 applies a developing solution (activator) to the exposed lithographic printing plate M and performs a developing process. The developing unit 22 applies a stabilizing solution to the lithographic printing plate M after the developing process. It comprises a stabilizing section 23 for stabilizing processing and a drying section 24 for drying the lithographic printing plate M after the stabilizing processing.

【0029】現像部22は、バッファ部26から搬送ロ
ーラによって搬送された平版印刷版Mの感光面に一定量
の現像液を計量して塗布するための現像液塗布機構43
と、現像処理に供された現像液を平版印刷版Mから除去
するための一対の絞りローラ44、45と、平版印刷版
Mを案内するための複数のガイド部材とを有する。
The developing section 22 has a developing solution applying mechanism 43 for measuring and applying a fixed amount of developing solution to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M transported by the transport rollers from the buffer section 26.
And a pair of squeezing rollers 44 and 45 for removing the developing solution subjected to the developing process from the lithographic printing plate M, and a plurality of guide members for guiding the lithographic printing plate M.

【0030】現像液塗布機構43は、現像液を貯留する
現像液タンク46とポンプ47を介して接続されてい
る。また、現像液塗布機構43の下方には回収トレイ4
8が設置されている。現像液タンク46内の現像液はポ
ンプ47により現像液塗布機構43に圧送され、平版印
刷版M上に供給される。そして、平版印刷版Mの両端部
や後端部から流出した現像液等の平版印刷版Mに塗布さ
れなかった現像液は、回収トレイ48上に滴下する。さ
らに、この現像液は、回収トレイ48の下端部に設けら
れた回収管49を介して現像液タンク46の液受部51
に滴下し、現像液タンク46内に回収される。現像液タ
ンク46には、パネルヒータ52が内蔵されており、現
像液タンク46と現像液塗布機構43を含む現像液の循
環路中を循環する現像液を所定の温度に維持するように
構成されている。
The developer application mechanism 43 is connected via a pump 47 to a developer tank 46 for storing the developer. A collection tray 4 is provided below the developer application mechanism 43.
8 are installed. The developing solution in the developing solution tank 46 is pumped to the developing solution application mechanism 43 by a pump 47 and supplied onto the lithographic printing plate M. Then, a developing solution that has not been applied to the lithographic printing plate M, such as a developing solution that has flowed out from both end portions and a rear end portion of the lithographic printing plate M, is dropped onto the collection tray 48. Further, the developing solution is supplied to a liquid receiving portion 51 of the developing solution tank 46 through a collecting pipe 49 provided at a lower end portion of the collecting tray 48.
And is collected in the developer tank 46. The developer tank 46 has a built-in panel heater 52 and is configured to maintain the developer circulating in the developer circulation path including the developer tank 46 and the developer application mechanism 43 at a predetermined temperature. ing.

【0031】また、一対の絞りローラ44、45の下方
には回収トレイ53が設置されている。一対の絞りロー
ラ44、45によって平版印刷版Mから除去された疲労
現像液は、一対の絞りローラ44、45の下方に設けら
れた液受け部材54の回収孔55を介して回収トレイ5
3上に滴下する。そして、さらにこの現像液は、回収ト
レイ53の下端部に設けられた回収管56を介して排液
タンク57に排出される。
A collection tray 53 is provided below the pair of squeezing rollers 44 and 45. The fatigue developing solution removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 44, 45 passes through the collecting hole 55 of the liquid receiving member 54 provided below the pair of squeezing rollers 44, 45, and the collection tray 5
Drop on 3. Then, the developer is discharged to a drain tank 57 via a collection pipe 56 provided at the lower end of the collection tray 53.

【0032】現像液塗布機構43は、図3に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔71が穿設された現像液供
給管72と、その下端部に現像液を流下させるための複
数の開口部73を穿設した現像液受け部74と、平版印
刷版Mと当接して回転する塗布ローラ75と、現像液受
け部74の開口部73から流下した現像液を塗布ローラ
75に案内するための拡散フィルム76と、現像液受け
部74の開口部73から流下した現像液の逆流を防止す
るための逆流防止フィルム77と、塗布ローラ75に当
接するバックアップローラ78とを有する。なお、図3
における矢印は、平版印刷版Mの搬送方向を示してい
る。
As shown in FIG. 3, the developer application mechanism 43 includes a developer supply pipe 72 having a plurality of discharge holes 71 formed thereunder, and a plurality of developer supply pipes 72 for allowing the developer to flow down to the lower end thereof. A developer receiving portion 74 having an opening 73 formed therein, an application roller 75 rotating in contact with the lithographic printing plate M, and a developer flowing down from the opening 73 of the developer receiving portion 74 are guided to the application roller 75. Backflow preventing film 77 for preventing the backflow of the developing solution flowing down from the opening 73 of the developing solution receiving portion 74, and a backup roller 78 in contact with the application roller 75. Note that FIG.
Indicates the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0033】拡散フィルム76は、0.3mm程度の厚
さを有する塩化ビニル樹脂(PVC)製のフィルムから
なり、取付板79により現像液受け部74の側壁に付設
されている。拡散フィルム79における現像液受け部7
4よりの垂下部分の上端部は、現像液受け部74の開口
部73と近接して配置されており、また、その下端部は
塗布ローラ75の表面に弾性力をもって当接している。
The diffusion film 76 is made of a vinyl chloride resin (PVC) film having a thickness of about 0.3 mm, and is attached to the side wall of the developer receiving portion 74 by an attachment plate 79. Developer receiving portion 7 in diffusion film 79
The upper end of the hanging portion 4 is arranged close to the opening 73 of the developer receiving portion 74, and the lower end thereof is in contact with the surface of the application roller 75 with elastic force.

【0034】塗布ローラ75は、図4に示すように、直
径13mmの金属製のローラ75aの表面に直径0.4
mmの金属製のワイヤー75bを巻回した直径13.8
mmのワイヤーバーから構成されている。このため、塗
布ローラ75の表面には、平版印刷版Mの搬送方向と略
平行な方向にワイヤー75bによる複数の溝が形成され
る。従って、この塗布ローラ75と拡散フィルム76と
が当接した状態においては、塗布ローラ75と拡散フィ
ルム76との当接部分に塗布ローラ75の溝による複数
の開口部75cが形成される。
As shown in FIG. 4, the coating roller 75 has a diameter of 0.4 mm on the surface of a metal roller 75a having a diameter of 13 mm.
13.8 mm in diameter wound with a 75 mm metal wire 75b.
mm wire bar. Therefore, a plurality of grooves are formed on the surface of the application roller 75 by the wire 75b in a direction substantially parallel to the transport direction of the lithographic printing plate M. Therefore, when the application roller 75 and the diffusion film 76 are in contact with each other, a plurality of openings 75c formed by grooves of the application roller 75 are formed at the contact portions between the application roller 75 and the diffusion film 76.

【0035】現像液供給管72は、前述した現像液タン
ク46とポンプ47を介して接続されており、現像液は
ポンプ47の駆動により複数の吐出孔71から吐出され
る。この現像液は、現像液受け部74に一旦受け取られ
た後、複数の開口部73から拡散フィルム76に向けて
流下する。現像液受け部74の開口部73から流下した
現像液は、塗布ローラ75と拡散フィルム76との当接
部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送方向と直交
する方向に拡散される。そして、この現像液は、塗布ロ
ーラ75の回転に伴い、塗布ローラ75の溝による開口
部を通過して塗布ローラ75とバックアップローラ78
との当接部方向に移動し、そこに液溜めを形成する。
The developing solution supply pipe 72 is connected to the developing solution tank 46 via a pump 47, and the developing solution is discharged from the plurality of discharge holes 71 by driving the pump 47. After the developer is once received by the developer receiver 74, it flows down from the plurality of openings 73 toward the diffusion film 76. The developer flowing down from the opening 73 of the developer receiving portion 74 is temporarily stored in a contact portion between the application roller 75 and the diffusion film 76, and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, with the rotation of the application roller 75, the developer passes through the opening formed by the groove of the application roller 75 and passes through the application roller 75 and the backup roller 78.
And a liquid reservoir is formed there.

【0036】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に現像液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面はバックアップロ
ーラ78により塗布ローラ75の表面に押しつけられて
いることから、平版印刷版Mの感光面に塗布された現像
液は、塗布ローラ75の溝による開口部により一定量に
計量される。従って、バックアップローラ78と塗布ロ
ーラ75との当接部を通過した平版印刷版Mの感光面に
は、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布されている
ことになる。
When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a developing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 75 by the backup roller 78, the developer applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is released by the groove of the application roller 75. It is weighed to a certain amount by the part. Accordingly, the photosensitive surface of the lithographic printing plate M that has passed through the contact portion between the backup roller 78 and the application roller 75 is always coated with a certain amount of developer required for development.

【0037】なお、現像部22における現像液塗布機構
43の前段に、現像液が塗布される前の平版印刷版Mに
当接することにより、この平版印刷版Mを加熱し、これ
により平版印刷版Mの現像処理を促進するための加熱ロ
ーラを配設するようにしてもよい。
Note that the lithographic printing plate M is heated by bringing the lithographic printing plate M into contact with the lithographic printing plate M before the developing solution is applied thereto, in a stage preceding the developing solution coating mechanism 43 in the developing unit 22, thereby heating the lithographic printing plate M. A heating roller for accelerating the development process of M may be provided.

【0038】再度図1および図2を参照して、安定部2
3は、現像部22より搬送された平版印刷版Mの感光面
に一定量の安定液を計量して塗布するための安定液塗布
機構81と、安定化処理に供された安定液を平版印刷版
Mから除去するための一対の絞りローラ82、83と、
平版印刷版Mを案内するための複数のガイド部材とを有
する。
Referring again to FIG. 1 and FIG.
Reference numeral 3 denotes a stabilizing solution applying mechanism 81 for measuring and applying a fixed amount of a stabilizing solution to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M conveyed from the developing unit 22, and a lithographic printing process for applying the stabilizing solution subjected to the stabilizing process. A pair of squeezing rollers 82 and 83 for removing from the plate M;
And a plurality of guide members for guiding the lithographic printing plate M.

【0039】安定液塗布機構81は、図2に示すよう
に、安定液を貯留する安定液タンク84とポンプ85を
介して接続されている。また、安定液塗布機構81の下
方には回収トレイ86が設置されている。安定液タンク
84内の安定液はポンプ85により安定液塗布機構81
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した安定液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった安定液は、回収トレイ8
6上に滴下する。そして、さらにこの安定液は、回収ト
レイ86の下端部に設けられた回収管87を介して安定
液タンク84の液受部88に滴下し、安定液タンク84
内に回収される。
As shown in FIG. 2, the stabilizing solution application mechanism 81 is connected to a stabilizing solution tank 84 for storing a stabilizing solution via a pump 85. A collection tray 86 is provided below the stable liquid application mechanism 81. The stable liquid in the stable liquid tank 84 is supplied to the stable liquid applying mechanism 81 by a pump 85.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the stable liquid not applied to the lithographic printing plate M, such as the stabilizing liquid flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is collected on the collection tray 8.
6. Drop on top. Further, the stable liquid is dropped into the liquid receiving section 88 of the stable liquid tank 84 via the collecting pipe 87 provided at the lower end of the collecting tray 86, and the stable liquid tank 84
Collected inside.

【0040】また、一対の絞りローラ82、83の下方
には回収トレイ89が設置されている。一対の絞りロー
ラ82、83によって平版印刷版Mから除去された安定
液は、一対の絞りローラ82、83の下方に設けられた
液受け部材92の回収孔93を介して、回収トレイ89
上に滴下する。そして、さらにこの安定液は、回収トレ
イ89の下端部に設けられた回収管91を介して、排液
タンク57に排出される。
A collection tray 89 is provided below the pair of squeezing rollers 82 and 83. The stable liquid removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 82 and 83 passes through a collecting hole 93 of a liquid receiving member 92 provided below the pair of squeezing rollers 82 and 83 and is collected by a collecting tray 89.
Drop on top. Then, the stable liquid is further discharged to the drainage tank 57 via the collection pipe 91 provided at the lower end of the collection tray 89.

【0041】安定液塗布機構81は、図5に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔94が穿設された安定液供
給管95と、その下端部に安定液を流下させるための複
数の開口部96を穿設した安定液受け部97と、その表
面が単泡性のスポンジより構成され平版印刷版Mと当接
して回転する塗布ローラ98と、その表面が凹凸状に形
成され安定液受け部97の開口部96から流下した安定
液を塗布ローラ98に案内するための拡散フィルム99
と、平版印刷版Mを塗布ローラ98に向けて付勢する板
バネ100とを有する。なお、図3における矢印は、平
版印刷版Mの搬送方向を示している。
As shown in FIG. 5, the stabilizing liquid application mechanism 81 includes a stabilizing liquid supply pipe 95 having a plurality of discharge holes 94 formed below the stabilizing liquid supply pipe 95 and a plurality of stabilizing liquid supply pipes 95 for flowing down the stabilizing liquid at the lower end thereof. A stabilizing liquid receiving portion 97 having an opening 96 formed thereon, an application roller 98 having a surface formed of a single-cell sponge and rotating in contact with the lithographic printing plate M; A diffusion film 99 for guiding the stable liquid flowing down from the opening 96 of the receiving portion 97 to the application roller 98.
And a leaf spring 100 for urging the lithographic printing plate M toward the application roller 98. Note that the arrows in FIG. 3 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.

【0042】安定液供給管95は、前述した安定液タン
ク84とポンプ85を介して接続されており、安定液は
ポンプ85の駆動により複数の吐出孔94から吐出され
る。この安定液は、安定液受け部97に一旦受け取られ
た後、複数の開口部96から拡散フィルム99に向けて
流下する。安定液受け部97の開口部96から流下した
安定液は、塗布ローラ98と拡散フィルム99との当接
部分に一旦貯留されて、平版印刷版Mの搬送方向と直交
する方向に拡散される。そして、この安定液は、塗布ロ
ーラ98の回転に伴い、拡散フィルム99表面の凹凸に
よる開口部を通過して塗布ローラ98と板バネ100と
の当接部方向に移動し、そこに液溜めを形成する。
The stable liquid supply pipe 95 is connected to the above-mentioned stable liquid tank 84 via a pump 85, and the stable liquid is discharged from a plurality of discharge holes 94 by driving the pump 85. After the stable liquid is once received by the stable liquid receiving section 97, it flows down from the plurality of openings 96 toward the diffusion film 99. The stable liquid that has flowed down from the opening 96 of the stable liquid receiving portion 97 is temporarily stored in a contact portion between the application roller 98 and the diffusion film 99, and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, with the rotation of the application roller 98, the stable liquid passes through the opening formed by the unevenness of the surface of the diffusion film 99 and moves in the direction of the contact portion between the application roller 98 and the leaf spring 100, and stores the liquid therein. Form.

【0043】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に安定液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面は板バネ100に
より塗布ローラ98の表面に押しつけられていることか
ら、平版印刷版Mの感光面に塗布された安定液は、塗布
ローラ98表面の単泡スポンジによる多数の孔により一
定量に計量される。従って、板バネ100と塗布ローラ
98との当接部を通過した平版印刷版Mの感光面には、
常に安定に必要な一定量の安定液が塗布されていること
になる。
When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a stabilizing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 98 by the leaf spring 100, the stable liquid applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M It is metered to a constant volume by a number of holes with a sponge. Therefore, on the photosensitive surface of the lithographic printing plate M that has passed through the contact portion between the leaf spring 100 and the application roller 98,
This means that a constant amount of the stabilizing liquid required for stable operation is always applied.

【0044】なお、板バネ100には、板バネ100と
塗布ローラ98との当接部に必要以上の安定液が貯留さ
れ、液溜めが過度に大きくなることを防止するためのオ
ーバフロー孔101が設けられている。
The leaf spring 100 has an overflow hole 101 for storing an excessive amount of a stable liquid in a contact portion between the leaf spring 100 and the application roller 98 to prevent the liquid reservoir from becoming excessively large. Is provided.

【0045】乾燥部24と安定部23との間には、安定
部23より搬送された平版印刷版Mを支持して搬送する
ゴムローラ102と、ゴムローラ102に対して所定の
圧力をもって当接することにより平版印刷版Mの乾燥む
らを防止する鏡面ローラ103と、鏡面ローラ103に
対してゴムローラ102を介して洗浄液を供給するため
の洗浄液貯留部104とが配設されている。洗浄液貯留
部104は、現像部22における一対の絞りローラ4
4、45に対して洗浄液を供給するための洗浄液供給管
105とポンプ106を介して接続されている。
A rubber roller 102 for supporting and transporting the lithographic printing plate M transported from the stabilizer 23 between the drying unit 24 and the stabilizer 23 is brought into contact with the rubber roller 102 with a predetermined pressure. A mirror surface roller 103 for preventing uneven drying of the lithographic printing plate M, and a cleaning liquid reservoir 104 for supplying a cleaning liquid to the mirror surface roller 103 via a rubber roller 102 are provided. The cleaning liquid storage unit 104 includes a pair of squeezing rollers 4 in the developing unit 22.
The cleaning liquid supply pipe 105 for supplying the cleaning liquid to the cleaning liquid 4 and 45 is connected to the cleaning liquid supply pipe 105 via a pump 106.

【0046】乾燥部24は、図1に示すように、ヒータ
121および一対のファン122、123を有し、平版
印刷版Mに温風を吹き付けて乾燥する構成となってい
る。
As shown in FIG. 1, the drying section 24 has a heater 121 and a pair of fans 122 and 123, and is configured to blow hot air to the lithographic printing plate M to dry.

【0047】上述した絞りローラ44、45、82、8
3、バックアップローラ78およびゴムローラ102等
のローラは、平版印刷版Mを搬送するための搬送手段と
して機能する。そして、絞りローラ44、45、82、
83、バックアップローラ78およびゴムローラ102
等のローラは、図6に示す単一のモータ116の駆動に
より回転する構成となっている。
The above-mentioned squeezing rollers 44, 45, 82, 8
3. The rollers such as the backup roller 78 and the rubber roller 102 function as a transport unit for transporting the lithographic printing plate M. Then, the squeezing rollers 44, 45, 82,
83, backup roller 78 and rubber roller 102
Are configured to rotate by driving a single motor 116 shown in FIG.

【0048】図6は、現像処理装置11の主要な電気的
構成を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a main electrical configuration of the development processing apparatus 11.

【0049】この現像処理装置11は、装置の制御に必
要な動作プログラムが格納されたROM111と、制御
時にデータ等が一時的にストアされるRAM112と、
論理演算を実行するCPU113とからなる制御部11
4を備える。この制御部114は、インターフェース1
15を介して、絞りローラ44、45、82、83、バ
ックアップローラ78およびゴムローラ102等のロー
ラを駆動するためのモータ116と接続されている。ま
た、制御部114は、インターフェース115を介して
後述する温度センサ90とも接続されている。
The developing device 11 includes a ROM 111 in which an operation program necessary for controlling the device is stored, a RAM 112 in which data and the like are temporarily stored at the time of control,
A control unit 11 comprising a CPU 113 for executing a logical operation
4 is provided. The control unit 114 controls the interface 1
The motor is connected to a motor 116 for driving rollers such as the squeezing rollers 44, 45, 82, 83, the backup roller 78, and the rubber roller 102. Further, the control unit 114 is also connected to a temperature sensor 90 described later via an interface 115.

【0050】この現像処理装置11による平版印刷版M
の現像処理は以下のようにして実行される。
The lithographic printing plate M produced by the developing device 11
Is performed as follows.

【0051】すなわち、前段の画像記録装置10により
画像を記録された平版印刷版Mは、現像液塗布機構43
により、平版印刷版Mの現像処理に必要な量の現像液を
塗布される。現像処理に必要な量の現像液のみを塗布さ
れた平版印刷版Mは、現像液塗布機構43から一対の絞
りローラ44、45に至る空間現像部を搬送される間
に、その感光面において現像処理が完了する。そして、
平版印刷版Mに付着している現像処理に供された現像液
は、一対の絞りローラ44、45により除去される。
That is, the lithographic printing plate M on which an image has been recorded by the preceding image recording apparatus 10 is supplied to the developer coating mechanism 43.
As a result, an amount of developer required for the development of the lithographic printing plate M is applied. The lithographic printing plate M to which only the necessary amount of the developing solution for the developing process is applied is developed on the photosensitive surface thereof while being transported through the space developing section from the developing solution applying mechanism 43 to the pair of squeezing rollers 44 and 45. Processing is completed. And
The developer applied to the lithographic printing plate M and subjected to the developing process is removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45.

【0052】このとき、平版印刷版Mが現像液塗布機構
43において現像液を塗布された後、一対の絞りローラ
44、45により現像液を除去されるまでの時間は、後
述するように、温度センサ90による現像処理装置11
内部の温度の測定値により平版印刷版Mの搬送速度を変
更することで制御される。
At this time, after the lithographic printing plate M is coated with the developing solution in the developing solution applying mechanism 43, the time until the developing solution is removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 is a temperature as described later. Development processing device 11 using sensor 90
It is controlled by changing the transport speed of the lithographic printing plate M according to the measured value of the internal temperature.

【0053】続いて、平版印刷版Mは、安定液塗布機構
81により、平版印刷版Mの安定処理に必要な量の安定
液を塗布される。安定処理に必要な量の安定液のみを塗
布された平版印刷版Mは、一対の絞りローラ82、83
まで搬送される間に安定化処理され、平版印刷版Mに付
着している安定化処理に供された安定液は、一対の絞り
ローラ82、83により除去される。そして、安定化処
理の終了した平版印刷版Mは、鏡面ローラ103によっ
て押圧されることにより乾燥むらを予防された後、乾燥
部24により乾燥処理され、図1に示す排出トレイ25
上に排出される。
Subsequently, the lithographic printing plate M is applied by the stabilizing solution applying mechanism 81 with an amount of stabilizing solution necessary for stabilizing the lithographic printing plate M. The lithographic printing plate M to which only the necessary amount of the stabilizing liquid for the stabilizing treatment is applied is a pair of squeezing rollers 82 and 83
The stabilizing solution that has been subjected to the stabilizing process while being transported to the lithographic printing plate M and subjected to the stabilizing process is removed by the pair of squeezing rollers 82 and 83. Then, the lithographic printing plate M that has been subjected to the stabilization process is pressed by the mirror surface roller 103 to prevent uneven drying, and then is dried by the drying unit 24, and the discharge tray 25 shown in FIG.
Is discharged on top.

【0054】この現像処理装置11においては、平版印
刷版Mに現像処理に必要な量の現像液のみが塗布されて
現像処理が行われるため、処理に要する現像液の使用量
を減少することが可能となる。また、平版印刷版Mに対
して、実質的に未使用の処理液が供給されることとなる
ため、平版印刷版Mに対して常に均一な処理を施すこと
が可能となる。
In the developing apparatus 11, only the amount of the developing solution necessary for the developing process is applied to the lithographic printing plate M and the developing process is performed, so that the amount of the developing solution required for the process can be reduced. It becomes possible. Further, since a substantially unused processing liquid is supplied to the lithographic printing plate M, the lithographic printing plate M can always be uniformly processed.

【0055】次に、この発明の特徴部分である平版印刷
版Mの搬送速度の制御について説明する。
Next, control of the transport speed of the lithographic printing plate M, which is a feature of the present invention, will be described.

【0056】上述したような塗布方式の現像処理装置1
1を使用して平版印刷版Mを現像処理する場合において
は、現像処理装置11自体の温度やロール状に巻回され
た状態で収納部12に収納された平版印刷版Mの温度が
低温となっている場合には、現像処理後の平版印刷版M
の現像処理品質が低下する場合がある。例えば、平版印
刷版Mとして、現像の進行が速い銀錯塩拡散転写法(D
TR法)を利用する平版印刷版を使用した場合には、現
像処理装置11内の温度が摂氏20°以下となった場合
に、現像処理後の平版印刷版に平版印刷版特有の問題で
ある印刷性能の低下、特に耐刷性が低下するという問題
が生じやすい。
The developing apparatus 1 of the coating method as described above.
In the case where the lithographic printing plate M is subjected to the development processing using 1, the temperature of the development processing device 11 itself or the temperature of the lithographic printing plate M stored in the storage unit 12 in a state of being wound in a roll shape is low. , The lithographic printing plate M after development processing
May deteriorate the quality of development processing. For example, as a lithographic printing plate M, a silver complex salt diffusion transfer method (D
When a lithographic printing plate utilizing the TR method is used, when the temperature in the developing device 11 becomes 20 ° C. or less, there is a problem peculiar to the lithographic printing plate after the developing process. The problem that the printing performance deteriorates, especially the printing durability deteriorates, tends to occur.

【0057】このため、この現像処理装置11において
は、現像処理装置11におけるバッファ部26付近に配
設された温度センサ90(図1参照)による現像処理装
置11内部の温度の測定値に基づいて、図6に示す制御
部114により、平版印刷版Mを搬送するための搬送手
段として機能する絞りローラ44、45、82、83、
バックアップローラ78およびゴムローラ102等のロ
ーラを駆動するのモータ116の回転を制御し、これに
より平版印刷版Mの現像時間を変更することで上述した
現像処理品質の低下を防止している。
For this reason, in the developing device 11, based on the measured value of the temperature inside the developing device 11 by the temperature sensor 90 (see FIG. 1) disposed near the buffer 26 in the developing device 11. 6, the squeezing rollers 44, 45, 82, 83 functioning as a conveying means for conveying the lithographic printing plate M by the control unit 114 shown in FIG.
The rotation of the motor 116 for driving the rollers such as the backup roller 78 and the rubber roller 102 is controlled to change the development time of the lithographic printing plate M, thereby preventing the above-described deterioration in the development processing quality.

【0058】より具体的には、温度センサ90による現
像処理装置11内の温度の測定結果が摂氏20°以下と
なった場合には、その温度が低いほど平版印刷版Mの搬
送速度を低下させるようにしている。
More specifically, when the temperature sensor 90 measures the temperature in the developing device 11 below 20 ° C., the transport speed of the lithographic printing plate M is reduced as the temperature is lower. Like that.

【0059】すなわち、平版印刷版M自体の温度低下あ
るいは低温となった現像処理装置11内を搬送されるこ
とによる平版印刷版Mの温度低下に起因して、この平版
印刷版Mに塗布された現像液の温度も低下し、これに伴
って平版印刷版Mの処理の進行速度が低下する。このた
め、平版印刷版Mの搬送速度を低下させることにより、
現像時間を処理の完了に必要な時間まで延長し得るよう
にしている。
That is, the lithographic printing plate M was applied to the lithographic printing plate M due to a temperature decrease of the lithographic printing plate M itself or a temperature decrease of the lithographic printing plate M caused by being conveyed through the developing processing device 11 which has become low temperature. The temperature of the developer also decreases, and the processing speed of the lithographic printing plate M decreases accordingly. Therefore, by lowering the transport speed of the lithographic printing plate M,
The development time can be extended to the time required for completion of processing.

【0060】また、これと併せて、搬送速度を低下させ
ることにより、現像液塗布機構43における塗布ローラ
75と平版印刷版Mとの接触時間が長くなり、塗布ロー
ラ75の溝を通過して平版印刷版Mの表面に供給される
単位面積当たりの現像液の量が増加することになる。従
って、加熱された現像液がより多く平版印刷版Mに供給
されることから、現像の進行速度が上昇し、より適切な
現像処理を行うことが可能となる。
In addition, by reducing the transport speed, the contact time between the application roller 75 and the lithographic printing plate M in the developing solution application mechanism 43 becomes longer, and the lithographic printing plate passes through the groove of the application roller 75 and becomes flat. The amount of the developer supplied to the surface of the printing plate M per unit area increases. Therefore, the heated developing solution is supplied to the lithographic printing plate M in a larger amount, so that the developing speed is increased and more appropriate developing processing can be performed.

【0061】図7は、上述した搬送速度の制御工程を示
すフローチャートである。
FIG. 7 is a flow chart showing the above-described transport speed control process.

【0062】この製版装置の画像記録装置10において
画像を記録した時点で、温度センサ90により現像処理
装置11内の温度を測定する(ステップS1)。
When an image is recorded in the image recording device 10 of the plate making apparatus, the temperature in the developing device 11 is measured by the temperature sensor 90 (step S1).

【0063】そして、その測定結果に基づいて、モータ
116の回転速度を設定する(ステップS2)。
Then, the rotation speed of the motor 116 is set based on the measurement result (step S2).

【0064】より具体的には、現像処理装置11内の温
度が摂氏20°以上の場合には、平版印刷版Mが現像液
塗布機構43において現像液を塗布された後、一対の絞
りローラ44、45により現像液を除去されるまでの時
間Tを7秒となるようにモータ116の回転速度を設定
する。そして、現像処理装置11内の温度が摂氏20°
以下であった場合には、この時間Tを温度が1°下がる
毎に0.4秒ずつ長くなるようにモータ116の回転速
度を設定する。なお、現像処理装置11内の温度が摂氏
20°以上であれば、その温度の工程により現像処理品
質が左右されることはないので、上述した搬送速度制御
を現像処理装置11内の温度が摂氏20°以上の場合に
は、平版印刷版Mが現像液塗布機構43において現像液
を塗布された後、一対の絞りローラ44、45により現
像液を除去されるまでの時間を一定とするようにしてい
る。
More specifically, when the temperature in the development processing device 11 is 20 ° C. or more, after the lithographic printing plate M is applied with the developing solution in the developing solution applying mechanism 43, a pair of squeezing rollers 44 , 45, the rotation speed of the motor 116 is set so that the time T until the developer is removed is 7 seconds. Then, the temperature in the development processing device 11 is set to 20 degrees Celsius.
If it is less than the above, the rotation speed of the motor 116 is set so that the time T is increased by 0.4 seconds each time the temperature decreases by 1 °. If the temperature inside the developing device 11 is 20 ° C. or more, the quality of the developing process is not affected by the process at that temperature. In the case of 20 ° or more, the time until the developer is removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 after the lithographic printing plate M is applied with the developer in the developer application mechanism 43 is set to be constant. ing.

【0065】そして、モータ116を設定後の回転速度
で回転させることにより、平版印刷版Mを搬送するため
の搬送手段として機能する絞りローラ44、45、8
2、83、バックアップローラ78およびゴムローラ1
02等のローラを平版印刷版Mの搬送に適した速度で回
転させる(ステップS3)。
By rotating the motor 116 at the set rotation speed, the squeezing rollers 44, 45, and 8 functioning as a transport unit for transporting the lithographic printing plate M.
2, 83, backup roller 78 and rubber roller 1
The roller such as 02 is rotated at a speed suitable for conveying the lithographic printing plate M (step S3).

【0066】しかる後、平版印刷版Mの現像処理が完了
したか否かを判断し(ステップS5)、現像処理が完了
した場合にはモータ116を停止させて(ステップS
6)、一連の処理を終了する。
Thereafter, it is determined whether or not the development processing of the lithographic printing plate M has been completed (step S5). When the development processing has been completed, the motor 116 is stopped (step S5).
6), a series of processing ends.

【0067】なお、上述した実施の形態においては、平
版印刷版Mが現像液塗布機構43において現像液を塗布
された後、一対の絞りローラ44、45により現像液を
除去されるまでの時間Tを、現像処理装置11内の温度
が摂氏20°以下であった場合には、この時間Tを温度
が1°下がる毎に0.4秒ずつ長くなるようにリニアに
設定しているが、この時間Tを段階的に変化させるよう
にしてもよい。
In the above-described embodiment, the time T after the lithographic printing plate M is applied with the developing solution by the developing solution applying mechanism 43 until the developing solution is removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 is T. Is set linearly so that the time T increases by 0.4 seconds each time the temperature decreases by 1 ° when the temperature in the developing device 11 is 20 ° C. or less. The time T may be changed stepwise.

【0068】また、上述した実施の形態においては、平
版印刷版Mに対して画像の記録と現像処理とを行う製版
装置の現像処理装置11にこの発明を適用した場合につ
いて説明したが、単に現像処理のみを行う現像処理装置
にこの発明を適用するようにしてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the development processing device 11 of the plate making apparatus for recording and developing an image on the lithographic printing plate M has been described. The present invention may be applied to a development processing device that performs only processing.

【0069】[0069]

【発明の効果】請求項1乃至6に記載の発明によれば、
感光材料処理装置内の温度を測定する温度測定手段と、
前記温度測定手段の測定結果に基づいて前記搬送手段に
よる感光材料の搬送速度を制御することにより、感光材
料が前記処理液塗布部により処理液を塗布されてから前
記処理液除去部により処理液を除去されるまでの時間を
変更する制御手段とを備えたことから、塗布方式の感光
材料処理装置において、感光材料処理装置自体の温度や
感光材料処理装置内に設置された感光材料の温度が低温
となっている場合においても、感光材料を高品質に処理
することが可能となる。
According to the first to sixth aspects of the present invention,
Temperature measuring means for measuring the temperature in the photosensitive material processing apparatus,
By controlling the transport speed of the photosensitive material by the transport unit based on the measurement result of the temperature measuring unit, the photosensitive material is coated with the processing liquid by the processing liquid application unit, and then the processing liquid is removed by the processing liquid removal unit. Since control means for changing the time until the removal is provided, in a coating-type photosensitive material processing apparatus, the temperature of the photosensitive material processing apparatus itself and the temperature of the photosensitive material installed in the photosensitive material processing apparatus are low. In this case, the photosensitive material can be processed with high quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る現像処理装置11を備えた平版
印刷版Mの製版装置の概要図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of a plate making apparatus for a lithographic printing plate M provided with a developing device 11 according to the present invention.

【図2】現像処理装置11の概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a developing device 11;

【図3】現像液塗布機構43の側面要図である。FIG. 3 is a side view of a developer application mechanism 43;

【図4】塗布ローラ75の部分拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged view of a coating roller 75.

【図5】安定液塗布機構81の側面概要図である。FIG. 5 is a schematic side view of a stable liquid application mechanism 81.

【図6】現像処理装置11の主要な電気的構成を示すブ
ロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a main electrical configuration of the developing device 11;

【図7】搬送速度の制御工程を示すフローチャートであ
る。
FIG. 7 is a flowchart illustrating a control process of a transport speed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 画像記録装置 11 現像処理装置 22 現像部 23 安定部 24 乾燥部 43 現像液塗布機構 44、45 絞りローラ 72 現像液供給管 75 塗布ローラ 78 バックアップローラ 81 安定液塗布機構 M 平版印刷版 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Image recording device 11 Developing device 22 Developing part 23 Stabilizing part 24 Drying part 43 Developing solution application mechanism 44, 45 Squeeze roller 72 Developing solution supply tube 75 Application roller 78 Backup roller 81 Stabilizing solution applying mechanism M Planographic printing plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗生 貞夫 東京都千代田区丸の内3丁目4番2号 三 菱製紙株式会社内 (72)発明者 川口 靖弘 京都市南区東九条南石田町5番地 大日本 スクリーン製造株式会社十条事業所内 (72)発明者 福原 文人 京都市南区東九条南石田町5番地 大日本 スクリーン製造株式会社十条事業所内 (72)発明者 武内 雅彦 京都市南区東九条南石田町5番地 大日本 スクリーン製造株式会社十条事業所内 Fターム(参考) 2H096 AA06 EA04 GA02 GA23 JA03 2H098 DA02 EA10 FA10 FA14  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Sadao Kuryu 3-4-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Paper Co., Ltd. (72) Inventor Yasuhiro Kawaguchi 5-5 Higashi-Kujo Minamiishidacho, Minami-ku, Kyoto Japan Screen Manufacturing Co., Ltd. Jujo Office (72) Inventor Fumihara Fukuhara 5th Higashikujo Minamiishidacho, Minami-ku, Kyoto Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Jujo Office (72) Inventor Masahiko Takeuchi Higashikujo Minamiishida, Minami-ku, Kyoto City 5 Town Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Jujo Plant F-term (reference) 2H096 AA06 EA04 GA02 GA23 JA03 2H098 DA02 EA10 FA10 FA14

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光材料を搬送する搬送手段と、前記搬
送手段により搬送される感光材料に処理液を塗布するた
めの処理液塗布部と、前記処理液塗布部により感光材料
に塗布された処理液を除去する処理液除去部とを備えた
感光材料処理装置において、 感光材料処理装置内の温度を測定する温度測定手段と、 前記温度測定手段の測定結果に基づいて前記搬送手段に
よる感光材料の搬送速度を制御することにより、感光材
料が前記処理液塗布部により処理液を塗布されてから前
記処理液除去部により処理液を除去されるまでの時間を
変更する制御手段と、 を備えたことを特徴とする感光材料処理装置。
1. A transporting means for transporting a photosensitive material, a processing liquid applying unit for applying a processing liquid to the photosensitive material transported by the transporting means, and a process applied to the photosensitive material by the processing liquid applying unit. A photosensitive material processing apparatus comprising: a processing solution removing unit that removes a liquid; a temperature measuring unit that measures a temperature in the photosensitive material processing unit; and a photosensitive material that is transported by the transport unit based on a measurement result of the temperature measuring unit. Control means for controlling the transport speed to change the time from when the photosensitive material is coated with the processing liquid by the processing liquid coating unit to when the processing liquid is removed by the processing liquid removing unit. A photosensitive material processing apparatus.
【請求項2】 請求項1に記載の感光材料処理装置にお
いて、 前記処理液塗布部は、 前記搬送手段により搬送される感光材料の感光面と当接
する塗布ローラと、 前記塗布ローラに処理液を供給する処理液供給部と、 を備える感光材料処理装置。
2. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid application unit includes: an application roller that contacts a photosensitive surface of the photosensitive material conveyed by the conveyance unit; A photosensitive material processing apparatus, comprising:
【請求項3】 請求項2に記載の感光材料処理装置にお
いて、 前記塗布ローラは、その外周部に処理液通過用の凹凸部
を有する感光材料処理装置。
3. The photosensitive material processing apparatus according to claim 2, wherein the application roller has an uneven portion for passing a processing liquid on an outer peripheral portion thereof.
【請求項4】 請求項2に記載の感光材料処理装置にお
いて、 前記搬送手段は、前記塗布ローラと当接する位置に配設
されたバックアップローラを含む感光材料処理装置。
4. The photosensitive material processing apparatus according to claim 2, wherein the transport unit includes a backup roller disposed at a position where the transfer roller contacts the application roller.
【請求項5】 請求項1に記載の感光材料処理装置にお
いて、 前記処理液除去部は、前記搬送手段により搬送される感
光材料を挟持するローラ対より構成される感光材料処理
装置。
5. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid removing unit includes a pair of rollers for sandwiching the photosensitive material transported by the transport unit.
【請求項6】 請求項1乃至請求項5いずれかに記載の
感光材料処理装置において、 前記制御手段は、前記温度測定手段により測定した感光
材料処理装置内の温度が設定温度以下の場合にのみ、感
光材料が前記処理液塗布部により処理液を塗布されてか
ら前記処理液除去部により処理液を除去されるまでの時
間を変更する感光材料処理装置。
6. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the control unit is configured to control only when a temperature in the photosensitive material processing unit measured by the temperature measuring unit is equal to or lower than a set temperature. A photosensitive material processing apparatus for changing the time from when the processing liquid is applied to the photosensitive material by the processing liquid application unit to when the processing liquid is removed by the processing liquid removing unit;
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CN110187612B (en) * 2014-09-04 2023-02-17 株式会社尼康 Processing system

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