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EP4070365A1 - Device and method for heating a substrate - Google Patents

Device and method for heating a substrate

Info

Publication number
EP4070365A1
EP4070365A1 EP19813323.3A EP19813323A EP4070365A1 EP 4070365 A1 EP4070365 A1 EP 4070365A1 EP 19813323 A EP19813323 A EP 19813323A EP 4070365 A1 EP4070365 A1 EP 4070365A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
heater
substrate
deformation
substrate holder
temperature distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
EP19813323.3A
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Jürgen Burggraf
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EV Group E Thallner GmbH
Original Assignee
EV Group E Thallner GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EV Group E Thallner GmbH filed Critical EV Group E Thallner GmbH
Publication of EP4070365A1 publication Critical patent/EP4070365A1/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like
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    • H01L21/68785—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support
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    • H01L21/185—Joining of semiconductor bodies for junction formation

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus and a method for heating and processing a substrate.
  • heaters are required, with the help of which one is able to heat substrates and substrate stacks relatively quickly and efficiently.
  • the heaters are required in different areas of technology. It would be conceivable, for example, to use imprint lithography to heat a substrate with the stamping compound applied to it, in particular to cure the stamping compound.
  • Another conceivable application is the use of heaters in a bonding device.
  • a bonding device is used to temporarily or permanently connect two substrates to one another.
  • the heat introduced via the heater can be used to generate the energy required for a metal diffusion bond. It is also conceivable that the heat is used to reduce the viscosity of an adhesive.
  • a heater Another possible use of a heater would be its use in a debonding device, the purpose of which is to separate temporarily bonded substrates from one another.
  • the word substrate is also used as a synonym for substrate stack or for at least two substrates lying one above the other.
  • the devices according to the invention are preferably bonders, in particular thermo-compression bonders. In these devices, substrate stacks or at least two substrates lying one on top of the other, which have not necessarily been pre-fixed, are connected to one another.
  • bonders in particular thermo-compression bonders.
  • substrate holders In the prior art, there are various types of substrate holders, the task of which is to fix substrates of different sizes and shapes. These substrate holders can have a built-in heater.
  • the heater has the task of heating the substrate holder and thus also the substrate fixed on it. In most cases, the heater is not located directly in the exchangeable substrate holder, but in the receptacle for the substrate holder. The heater is then part of the corresponding device, while substrate holders can be exchanged.
  • the heater cannot generate an optimal, homogeneous temperature distribution in a fixed substrate or substrate stack.
  • the heat generated by the heater must always flow through parts of the heater and through the substrate holder until it heats the substrate. Along this route, different heat flows in different directions can leave the main heat flow at different speeds.
  • the end result is a generally inhomogeneous or at least very poor quasi-homogeneous temperature distribution in the substrate or substrate stack. It is even conceivable that the substrate or the substrate stack itself has thermal anisotropy and the incoming heat in different directions dissipates differently and quickly, which can also lead to undesirable effects.
  • a device and a method which at least partially eliminate, in particular completely eliminate, the disadvantages listed in the prior art.
  • a device and a method are to be shown with the aid of which a desired temperature distribution on a surface, in particular a substrate surface, can be generated.
  • the temperature distribution is preferably homogeneous, but can in principle be of any type.
  • a device and a method are to be shown with the aid of which an undesired deformation of the heater can be compensated or compensated for.
  • a substrate can in particular also consist of a plurality of substrates which are preferably arranged next to one another for processing on a substrate holder.
  • the invention relates to a device for heating a substrate, comprising a heater and a substrate holder with a substrate holder surface, wherein the substrate to be heated can be placed on the substrate holder surface Control unit for controlling the means, the heater being deformable by the means.
  • the invention also relates to a method for heating a substrate, in particular for generating a predetermined target temperature distribution in a substrate and / or for compensating for a deformation of the heater caused by external forces, preferably with the above-mentioned device, a heater heating the substrate and a substrate holder holds the substrate on a substrate holder surface, the means applying forces to the heater, the means being controlled by a control unit, and the heater being deformed by the means.
  • the invention also relates to a device for processing and / or bonding a substrate, the device comprising the above-mentioned device for heating.
  • the invention also relates to a method for processing and / or bonding a substrate, the substrate being heated using the above-mentioned method for heating.
  • the deformation of the heater by the means allows an actual temperature distribution of the substrate to be adapted to a target temperature distribution .
  • the setting of a desired temperature distribution of the substrate is advantageously made possible by mechanical deformation of the heater. In particular, there is no need for an expensive and complicated control of individual heating elements of the heater.
  • the deformation of the heater by the means causes an external r- undesired deformation of the heater can be compensated.
  • the external forces are not the forces which the means exert on the heater.
  • an undesired deformation of the heater means a deformation which takes place as a result of a bonding process.
  • This undesired distortion which is caused by external forces, can also be compensated for before, during or after the application of pressure to the substrate.
  • undesired deformation of the heater can occur.
  • this undesired deformation can be compensated for, or at least reduced.
  • the undesired deformation of the heater can advantageously be counteracted.
  • the heater can be deformed in such a way that the heater, in particular individual surface sections of one of the heater surfaces, assumes a desired position in the pedestal and / or assumes a position desired for heating the substrate.
  • the possibility of actively changing the shape of a heater makes it particularly advantageous to compensate for or reverse an undesired deformation of the heater caused by a pressure device. Compensation for the undesired deformation of the heater by the application of pressure then also leads, in particular, to a more homogeneous temperature distribution.
  • the heater can be / is deformed in a targeted manner by at least one deforming element connected to the heater, the at least one deforming element being connected to at least one actuator.
  • the deforming element is one of the means for deforming the heater.
  • the heater in particular a heater surface, can be locally deformed by the deforming element, with a particularly targeted and desired deformation being possible, in particular through pressure, tension and / or a torque.
  • Deforming elements consists, in particular, in the fact that the deforming elements can compensate for undesired deformation of the heater, caused, for example, by the application of pressure to the substrate.
  • the undesired deformation is the deformation that is caused by the external forces.
  • the targeted deformation by the deforming elements can advantageously adapt the heating behavior.
  • the heater is arranged on a side of the substrate holder surface opposite the substrate. With this arrangement, the heater can be deformed in a targeted manner and, in particular, independently of the substrate holder.
  • Another advantageous embodiment of the invention provides that the heater is / is deformed independently of the substrate holder surface.
  • a desired temperature distribution can be achieved by deforming the heater without the substrate holder surface and / or the substrate being deformed. Compensation for the undesired deformation of the heater can also advantageously take place independently of other components.
  • the device has a pedestal, the substrate holder being arranged on a pedestal surface of the pedestal and the heater being arranged in the pedestal.
  • the substrate holder can be loaded with a substrate and then placed and / or fixed on the pedestal.
  • the heater has a flat heating element or a plurality of heating elements, in particular flatly arranged.
  • a flat shape of the heater enables a simpler deformation of the heater with an in particular less strong application of force on the heater by the deforming elements.
  • the area of elastic deformation is greater in the case of a flat shape of the heater than in the case of a, for example, cubic shape. The targeted deformation of the heater by the means is thus possible with less expenditure of force and can in particular be set more precisely.
  • At least one point of the heater is / is fixed by at least one fixing element, the fixing element being connected to the heater.
  • Fixing elements also represent a means for deforming the heater. This means that at least one point of the heater is not deformed and can maintain the same distance from the substrate.
  • advantageous deformation scenarios of the heater result from the fixing element, with the fixing element, for example, being arranged in the center of the heater and, in particular, further deformation elements introducing forces in an area of the heater arranged further out.
  • the deformation of the heater can be / is limited by at least one support element not connected to the heater, the at least one support element only applying pressure to the heater.
  • Support elements also provide a means to Deformation of the heater.
  • the support elements which are designed in particular to yield, can prevent undesired, in particular plastic, deformation of the heater.
  • further deformation scenarios of the heater can be made possible by the arrangement of the support elements.
  • the deformation of the heater is limited / can be limited by at least one delimitation element not connected to the heater and / or the deformation of the heater is predetermined / can be predetermined by the shape of the at least one delimitation element.
  • Limiting elements also represent a means for deforming the heater. Limiting elements are preferably used in combination with at least one of the other elements (means) in order to achieve a targeted deformation of the heater. An undesired plastic deformation of the heater can thus be prevented by a simple structural solution.
  • a shape for the deformation of the heater can be specified by means of a simple structural solution, such as, for example, spherical delimiting elements, with the deformation elements in particular pressing and / or pulling the heater against the delimiting elements, for example.
  • a fluid flow can be / is flushed between the heater and other components, in particular between the heater and the pedestal and / or between the heater and the substrate holder, in particular around the heat transfer between the heater and optimize the other components.
  • the fluid flow enables more uniform heating of the components and in particular of the substrate holder.
  • the thermal conductivity of the fluid is greater than 0 W / (m * K), preferably greater than 001 W / (m * K), even more preferably greater than 0.1 W / (m * K) am most preferably greater than 1 W / (m * K).
  • the thermal conductivity of helium is between 0.15 W / (m * K) and 0.16 W / (m * K).
  • a plate is arranged on the heater, in particular on the heater surface.
  • the plate is located above the heater and has a particularly positive effect on temperature homogenization.
  • the plate is preferably made of one of the following materials:
  • Another advantageous embodiment of the invention provides that the substrate is heated with the following steps, in particular with the following sequence:
  • the substrate can be positioned and / or fixed on a substrate holder surface of a substrate holder.
  • An actual temperature distribution of the substrate, in particular on the substrate surface, can also be determined.
  • the heater can be deformed so that the actual temperature distribution of the substrate can be adapted to the specified target temperature distribution by changing the shape of the heater. This has the advantage, for example, that the substrate can be heated in several and, in particular, more efficient steps. In addition, there is an even more targeted and particularly advantageous uniform heating of the substrate.
  • the substrate is heated with the following steps, in particular with the following sequence: i) positioning and / or fixing the substrate on a substrate holder surface of a substrate holder, ii) determining an undesired deformation of the heater, in particular the heater surface, iii) On the basis of an analysis of the deformation of the heater caused by the external forces. Deformation of the heater by the means, the means being controlled by the control unit, so that the deformation of the heater caused by external forces Deformation of the heater is compensated.
  • the undesired deformation of the heater in particular caused by external forces as a result of a Bonding process of the substrate, determined by sensors or other means.
  • the sensors or other means are preferably arranged in or on the elements.
  • the undesired shape can also be determined by visual means.
  • the actual deformation of the heater that occurs is preferably measured.
  • the undesired deformation can be measured before, during or after bonding.
  • a targeted deformation of the heater by the means on the basis of empirical or calculated values before bonding is also conceivable.
  • the deformation of the heater preferably counteracts the undesired deformation, so that the heater or the heater surface assumes a desired position. Only local sections of the heater can be deformed.
  • This compensation for the undesired deformation can also advantageously influence the temperature distribution of the substrate.
  • the determined, undesired deformation of the heater can then be compensated for by the elements (deforming, fixing, supporting and / or limiting element) during an actual bonding process, so that the heater has no or at least less deformation, in particular compared to a desired shape of the heater , having.
  • the elements are primarily used to cancel or compensate for undesired deformation and all the associated disadvantages.
  • the deformation elements in particular driven by actuators, can influence the shape and / or position of the surface of the heater and thus the radiation and heat conduction behavior.
  • the temperature distribution can be adjusted through the targeted adjustment of the radiation behavior.
  • the use of several, isolated heating elements in the heater, which are controlled in a targeted manner can be dispensed with.
  • the heater preferably only needs a single, in particular full-area or one that runs through the heater, Heating element, especially an ordinary heating coil.
  • the heater consists of several heating elements arranged over a large area.
  • an advantageous aspect of the invention is that an undesired deformation of the heater can be compensated or compensated for by the means.
  • the invention provides in particular to position deforming elements, in particular operated by actuators, on at least one side of a heater and thus to deform the heater and thus also the heating surface.
  • the heater can in particular be part of a substrate holder.
  • the heater is preferably installed in a pedestal on which the substrate holder can be stored in a fixed manner. By changing the heater surface, the radiation and heat conduction characteristics of the heater and thus also the temperature distribution are adapted.
  • the heater or an additional heater is arranged above the substrate.
  • a heating surface of a heater arranged above the substrate can, in particular, also adapt the radiation and heat conduction characteristics of the heater and thus also the temperature distribution by changing the heater surface.
  • a substrate holder fixes the substrate on a substrate holder surface that is oriented downward, in particular by suction or by a magnetic force.
  • the heater can be arranged correspondingly above the substrate holder.
  • An important physical aspect for the radiation properties of the heater surface is its roughness. The term roughness is first defined in general terms. This is followed by a value range specification for the roughness of the heater surface.
  • the flatness is used as a measure of the perfection of a planar surface, in particular a surface. Deviations from a planar surface result from waviness and roughness.
  • the waviness of a surface is characterized by a certain periodic raising and lowering of the surface, especially in the millimeter range, more rarely in the micrometer range.
  • Roughness is an aperiodic phenomenon in the micro or nanometer range. The exact definition of such surface properties is known to every person skilled in surface physics, tribology, mechanical engineering or materials science. In order to deal with the various deviations from the ideal surface, the term roughness is used synonymously for the superposition of all such effects in the further course of the patent specification.
  • the roughness is given either as mean roughness, quadratic roughness or as mean roughness depth.
  • the values determined for the mean roughness, the quadratic roughness and the mean roughness depth generally differ for the same measuring section or measuring surface, but are in the same order of magnitude. Therefore, the following numerical value ranges for the roughness are to be understood either as values for the mean roughness, the quadratic roughness or for the mean roughness depth.
  • the roughness of the heater surface is in particular less than 100 ⁇ m, preferably less than 10 ⁇ m, even more preferably less than 1 ⁇ m, most preferably less than 10 nm, most preferably less than 10 nm.
  • the heater can in particular be heated to a temperature greater than 25 ° C., preferably greater than 50 ° C., even more preferably greater than 200 ° C., most preferably greater than 400 ° C., most preferably greater than 600 ° C.
  • the elasticity is described by the modulus of elasticity.
  • the E-modulus of the heater is between 1 GPa and 1000 GPa, preferably between 10 GPa and 1000 GPa, more preferably between 25 GPa and 1000 GPa, most preferably between 50 GPa and 1000 GPa, most preferably between 100 GPa and 1000 GPa.
  • the modulus of elasticity of some types of steel is around 200 GPa, for example. The lower the heater's modulus of elasticity, the greater its (elastic) deformation at a given load.
  • heaters which can be elastically deformed relatively easily and therefore have a rather low modulus of elasticity.
  • the correct hardness measurement method depends on many influencing factors. The most important factors are the material to be tested and the test specimen. Metals and ceramics, i.e. solids with correspondingly high strength and / or corresponding plasticity, are mainly, but not exclusively, tested using the Rockwell, Brinell and Vickers hardening methods. The conversion of the individual hardness values is possible to a limited extent. Corresponding tables and formulas exist and are known to the person skilled in the art. It must be mentioned, however, that an exact conversion is not always possible or inaccurate. The following hardness measurement values relate to the hardness according to Vickers.
  • the Vickers hardness of the heater surface is greater than 100, preferably greater than 500, more preferably greater than 1000, most preferably greater than 5000, most preferably greater than 10,000.
  • Unalloyed steels have a Vickers hardness of approx. 150HV.
  • Martensite has a Vickers hardness of approx. 1000HV.
  • the hardness of the heater surface is preferably as great as possible in order to prevent plastic deformation, in particular on the heater surface.
  • the heater is preferably made of at least one of the following materials:
  • Metal especially o Cu, Ag, Au, Al, Fe, Ni, Co, Pt, W, Cr, Pb, Ti, Ta, Zn, Sn
  • the heater is located in a receptacle for a substrate holder, particularly preferably in a pedestal.
  • the heater is thus in particular separated from the substrate holder.
  • the heater is located in the substrate holder, that is, not in the pedestal.
  • the heater is in particular a component with a thickness in the millimeter range or in the centimeter range.
  • All devices can generally have four types of elements, (i) the fixing elements, the (ii) the deforming elements, (iii) the support elements and the (iv) limiting elements.
  • Fixing elements, the deforming elements and the support elements provided to deform the heater. To this extent, they represent the named means for deforming the heater.
  • the elements preferably have sensors which can be used to measure a force or a pressure.
  • the sensors can be arranged in or on the elements.
  • the sensors can measure the deformation, in particular the undesired deformation, of the heater or the heating surface. This is particularly important for the use of the elements to compensate for an undesired deformation of the heater due to the application of pressure, in order to determine whether the desired compensating effect is or has been achieved. In this way, a desired change in shape of the heater can also be validated or determined by the sensors.
  • the main task of the fixing elements is to anchor the heater, i.e. to fix at least one point. They are preferably positioned centrally and connected to the heater. In particular, there is preferably only one fixing element.
  • the fixing elements are preferably not connected to actuators, but can also be connected to actuators in order to position the part or parts of the heater to be fixed accordingly and to fix them in the desired manner.
  • the deformation elements are used in particular to apply force.
  • they are connected to actuators, which in particular have a very high output, and are preferably fixed on the periphery of the heater. Since they are connected to the heater, you can apply tension and pressure to it. It is also conceivable that the deforming elements introduce torques, in particular torsional moments, into the heater and deform the heater.
  • Such Verfromimplantation, especially with Torsion bars connected to corresponding actuators are preferably also arranged on the periphery of the heater.
  • the support elements are preferably located between the fixing elements in the center and the deforming elements on the periphery of the heater. They are preferably used to support the heater and, in particular, are designed in such a way that they can give way. However, it would also be conceivable that they are also connected to actuators in order to introduce forces locally.
  • the support elements can, in particular, define a maximum permitted deformation of the heater. The support elements are not connected to the heater and can therefore only apply pressure to it.
  • the delimiting elements are preferably centrally aligned rings, in particular tori (note: plurality of torus) and / or spheres.
  • the delimitation elements can define the maximum achievable, in particular technically sensible, radius of curvature of the heater.
  • the delimitation elements are not connected to the heater and are preferably also not connected to actuators.
  • the delimiting elements can also be viewed as means for deforming which, in particular, work together in combination with the other aforementioned elements.
  • the fixing elements, the Verfromimplantation and support elements are preferably rod-shaped.
  • the actuators can be mechanical and / or electrical and / or pneumatic and / or hydraulic actuators.
  • the actuators and / or the elements (means) can be equipped with sensors which can determine the undesired deformation of the heater. It is also conceivable that the actuators and / or the elements (means) can determine the external forces which act on the heater. On the basis of the forces, in particular the undesired deformation can then be determined, preferably by the control unit, and the actuators for deforming the heater can be controlled by the means.
  • deformation elements there are several deformation elements on the side of the heater facing away from the heating surface.
  • the deformation elements are in particular connected symmetrically, preferably in a grid, to the underside of the heater.
  • the deforming elements are in particular able to carry out a movement normal to the substrate fixing surface or to the heater surface, in particular not yet distorted. Since the deformation elements are connected in particular to the underside of the heater, in particular mounted, a locally dependent force can be applied to the heater. This locally applied force allows the heater to be deformed locally. By individually controlling all the corresponding deformation elements, all technically feasible and desired heater surfaces can be set and the temperature distributions can thus be generated.
  • undesired deformations of the heater that are generated by a device, in particular a bonding device, in the heater can also be compensated for or reversed in this way. Compensation of the Undesired deformation of the heater due to the application of pressure then also leads, in particular, to a more homogeneous temperature distribution.
  • deformation elements preferably only attack the edge of the rear of the heater, while further support elements are unconnected below the heater.
  • the unconnected support elements serve to support the heater. Although they are not connected to the heater, they can still subject it to pressure and deform it locally.
  • only deformation elements are preferably arranged on the periphery of the heater which, by means of correspondingly strong actuators, allow the heater to be bent at the edge.
  • the center of the heater is supported by at least one fixing element.
  • limiting elements for the maximum achievable radius of curvature of the heater are arranged below the heater.
  • the delimiting elements are, for example, centrally aligned rings, in particular tori (note: plural torus), more preferably spheres.
  • deforming elements can put a tensile load on the heater, the limiting elements limiting the curvature of the heater.
  • All embodiments of the device can in particular be flushed with a fluid, preferably a gas, most preferably a gas of high thermal conductivity, in order to optimize, in particular to maximize, the heat transfer between the curved heater and other components.
  • a fluid preferably a gas, most preferably a gas of high thermal conductivity
  • a fluid mixture in particular a gas mixture
  • Liquids especially o water and / or o oils.
  • the fluids mentioned can be combined to form fluid mixtures.
  • the fluid flow washes around the heater surface in particular in order to optimize the heat convection between the heater and in particular the platform.
  • the space around the heater that is to say the pedestal.
  • the vacuum is less than 100 mbar, preferably less than 10 "2 mbar, even more preferably less than 10 " 3 mbar, most preferably less than 10 "5 mbar, most preferably less than 10 " 7 mbar.
  • the heater can in particular be deformed locally. In particular, global, convex and concave deformations are also possible. If one considers the center of the heater surface once in the undeformed and once in the deformed state of the heater, then the absolute amount of the distance between the centers is defined as the curvature.
  • the curvature can do more preferably more than 5mm, most preferably by more than 10mm.
  • a locally resolved temperature measurement of the substrate surface takes place, which is connected to a control of the heater via a control loop.
  • the aim is to set a desired, in particular homogeneous, temperature distribution.
  • an inhomogeneous but symmetrical temperature distribution can be desired.
  • substrates can be actively stretched by temperature compensation in such a way that a distortion error, also referred to as an incoming run-out error, can be actively compensated or at least reduced before contact is made with a second substrate.
  • a substrate is loaded and fixed on a substrate holder.
  • the substrate holder can already be on the pedestal. If the substrate holder is not yet on the pedestal, it is applied and fixed there after fixing. In most cases, the substrate holder will already be fixed to the pedestal when the substrate is loaded and fixed.
  • a measuring system for measuring the temperature distribution on the substrate surface is positioned and / or activated and / or calibrated. It is conceivable that the measuring system for measuring the temperature distribution was already positioned and / or calibrated and / or activated before the substrate and / or the substrate holder were fixed. In this case, the process step is omitted.
  • the substrate surface is recorded with the measuring system in order to determine the current temperature distribution. Since the substrates are mostly charged and fixed at room temperature, and the device is in thermodynamic equilibrium with the environment at this point in time, it can be assumed that the temperature distribution is more or less homogeneous.
  • the heater is activated and set to a desired temperature.
  • the heat is now transported through the heater, the substrate holder surface pedestal, the substrate holder and the substrate.
  • a fifth process step of a first method the substrate surface is measured again with the measuring system in order to determine the current temperature distribution.
  • the temperature distribution will now generally be inhomogeneous.
  • the temperature distribution is therefore not only recorded in the fifth process step, but also analyzed in a computer system.
  • a temperature field is created and a temperature gradient field is created therefrom.
  • the heater is now deformed by the deforming elements in such a way that the deformation can be used to adapt the heat radiation and / or heat conduction so that the temperature field on the substrate surface becomes as homogeneous as possible.
  • the regulation now takes place between the fourth and fifth process step until a desired, in particular as homogeneous as possible, temperature distribution is achieved.
  • the substrate is further treated.
  • the substrate can be bonded, exposed photolithographically, coated with an embossing compound and the embossing compound embossed. Further technically meaningful further treatments of the substrate are conceivable.
  • a substrate is loaded and fixed on a substrate holder.
  • the substrate holder can already be on the pedestal. If the substrate holder is not yet on the pedestal, it is applied and fixed there after fixing. In most cases, the substrate holder will already be fixed to the pedestal when the substrate is loaded and fixed.
  • pressure is applied, in particular within a bonding device, which spreads to the heater and deforms it. Such an indirect and undesired deformation of the heater takes place in particular as a result of the application of force to the substrate or the substrate stack.
  • the undesired deformation of the heater is recorded.
  • the undesired deformation can be determined in particular by sensors or other means.
  • the deformation of the heater that has actually occurred and is recorded is recorded and analyzed in particular in the form of data.
  • an electronic data processing device can be used for this purpose.
  • the heater is deformed, in particular by the elements of the device.
  • the undesired deformation of the heater is preferably completely compensated for or at least reduced.
  • the compensation is preferably carried out by the controllable actuators of the elements. It is also conceivable that the deformation is not fully compensated, but rather that the undesired deformation of the heater is only compensated to the extent that a desired temperature and / or pressure profile is established. It is also conceivable that, depending on the selected bonding parameters, the deformation of the heater is known, in particular because a previous measurement has taken place. In this case it is not necessary to access sensor data during bonding.
  • the heater can also be compensated before and / or during the application of pressure.
  • Figure la shows a first embodiment according to the invention of a device for heating a substrate in a passive position
  • Figure lb the first embodiment of the invention of the device in an active position
  • Figure 2 shows a second embodiment of the device according to the invention
  • FIG. 3 shows a third embodiment of the device according to the invention.
  • FIG. 4 shows a fourth embodiment of the device according to the invention.
  • FIG. 1 a shows a first embodiment of the device 1 in a passive state, having a pedestal 2 with a pedestal surface 2o, a heater 3 being arranged in the pedestal 2 and a substrate holder 5 being placed and / or fixed on the pedestal 2.
  • the actual substrate 6 is fixed on the substrate holder 5.
  • the heater 3 has heating elements 4 through which heat can be generated.
  • the technical implementation of the heating elements 4 is not relevant to the embodiment.
  • the heater 3 is fixed in its height in particular by a fixing element 7.
  • the fixing element 7 is located in the center, but can of course also fix the heater 3 acentrically and / or peripherally.
  • the characteristic feature of the fixing element 7 is that at least one point of the Fleizer 3 remains fixed under a deformation, in particular is not actively deformed. In the case of a peripheral arrangement of the fixing element 7, this would in particular be several points along a ring.
  • the deformation of the heater 3 takes place via deformation elements 8 which, in particular symmetrically, are distributed over the heater bottom 3u of the heater 3 and are connected to the heater 3.
  • a relatively large free space 12 is shown between the inner platform surface 2i and the heater surface 3o.
  • This free space 12 has been shown relatively large in the figures in order to be able to show the deformation of the heater 3 better.
  • other components can also be located in this free space 12, in particular plates for temperature homogenization. All of these components can in particular be mechanically connected to one another.
  • the force or the pressure can be conducted via the substrate holder 5, the pedestal 2 to the heater 3 and deform the heater 3.
  • the platform 2 and thus the platform inner surface 2i are so strongly deformed by the application of pressure that the platform inner surface 2i contacts the heater surface 3o and thus transmits the force or pressure to the heater 3 and thus deforms the heater 3.
  • FIG. 1b shows a first embodiment of the device 1 according to the invention in an active state.
  • the deforming elements 8 are shifted as a function of position in such a way that the heater surface 3o is deformed.
  • the deformation of the heater surface 3o has to take place in such a way that the temperature on the substrate holder surface 5o, preferably on the substrate surface 6o, assumes the desired distribution, in particular a homogeneous distribution.
  • a fluid in particular in the form of a fluid flow 10, can be introduced into the pedestal 2 in order to flow around the heater 3.
  • the heat convection between the heater surface 3o and the pedestal 2 is preferably optimized, in particular increased.
  • FIG. 1c shows a first embodiment of the device 1 according to the invention in a loaded state.
  • the two substrates 6 are acted upon by a pressure device 13 with a force or a pressure.
  • the printing device 13 has a desired one
  • the printing device surface 13o can be flat or convex. Other forms or are also conceivable. There are various reasons for the shape of the printing device surface 13o. It would be conceivable that it was deliberately designed to be curved. It is conceivable that the high forces of the pressure device 13 cause the deformation. Another possibility would be a printing device surface 13o that is not perfectly flat. In any case, the printing device surface 13o, which is generally arbitrarily shaped, will act differently on the substrates 6, the substrate holder 5 lying thereunder, and the pedestal 2. In the event of a correspondingly large deformation, the heater 3 located underneath is also deformed. The heater 3 is also deformed in particular when there is a mechanical connection between the heater 3 and the pedestal 2.
  • the heater 3 is undesirably deformed by the pressure device 13 and the elements (7, 8, 9 and 11) are used for countercompensation, in particular for application a counterforce which compensates for the undesired deformation of the heater 3 as best as possible, in particular completely.
  • the deflections and deformations of the components 2, 3, 5 and 13 are not shown to scale for the sake of clarity. In use, the sagging and deformations will be in the nanometer to millimeter range in particular.
  • the figure lc in particular represents a state of deformation. It is clear to the person skilled in the art that the desired state is characterized in that the preforming of the components, in particular the heater 3, by the elements (7, 8, 9, 11) preferably is fully compensated.
  • the forces that can be applied by the pressure device 13 are greater than ION, preferably greater than 500N, more preferably greater than 1000N, most preferably greater than 10,000N, most preferably greater than 100,000N.
  • the representation of the substrate holder 5, the substrate 6 and the fluid flow 10 is dispensed with, since this does not result in any relevant features for the further embodiments of the devices 1, 1 ' , 1 "and 1'"'.
  • FIG. 2 shows a second embodiment of the device 1 ′, in which there are deforming elements 8 which are connected to the heater 3 only at the edge. Further support elements 9 are located, in particular symmetrically distributed, below the heater 3, but are not connected to it. The support elements 9 can also serve as supports to support the heater 3 in the non-loaded state. Furthermore, the support elements 9 can place the heater 3 under pressure but not under tension. In the practice, reference is made to the description of the previous embodiments.
  • FIG. 3 shows a third embodiment of the device 1 ′′, in which the deforming elements 8 are located exclusively on the edge.
  • the fixing element 7 preferably fixes the heater 3 again in the center. This creates an embodiment which has the heater 3 symmetrically concave and / or can curve convexly. In the practice, reference is made to the description of the previous embodiments.
  • FIG. 4 shows a fourth embodiment of the device V ′′ in which the limiting elements 11 are used to limit the maximum downward bending of the heater 3.
  • the limiting elements 11 are balls whose diameter decreases with the radial ball position.
  • Substrate holder o substrate holder surface

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Abstract

The invention relates to a device for heating a substrate, comprising a heater and a substrate holder with a substrate holder surface, the substrate to be heated being capable of being placed onto the substrate holder surface. Furthermore, the device comprises means for applying forces to the heater, and the device also comprises a control unit for controlling the means, the heater being deformable by the means.

Description

Vorrichtung und Verfahren zum Heizen eines Substrates Apparatus and method for heating a substrate
B e s c h r e i b u n g Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Heizen und zum Bearbeiten eines Substrates. The present invention relates to an apparatus and a method for heating and processing a substrate.
In der Halbleiterindustrie werden Heizer benötigt, mit deren Hilfe man in der Lage ist Substrate und Substratstapel relativ schnell und effizient zu heizen. Die Heizer werden in unterschiedlichen Technologiebereichen benötigt. Denkbar wäre beispielsweise die Anwendung in der Imprintlithographie, um ein Substrat mit der auf ihm aufgebrachten Prägemasse zu heizen, insbesondere um die Prägemasse auszuhärten. Eine weitere, denkbare Anwendung ist die Verwendung von Heizern in einer Bondvorrichtung. Eine Bondvorrichtung wird verwendet um zwei Substrate temporär oder permanent miteinander zu verbinden. Die über den Heizer eingebrachte Wärme kann verwendet werden um die notwendige Energie für einen Metalldiffusionsbond zu erzeugen. Denkbar ist auch, dass die Wärme zur Verringerung der Viskosität eines Klebers eingesetzt wird. Eine weitere Verwendungsmöglichkeit eines Heizers wäre die Anwendung in einer Debondvorrichtung, deren Zweck darin besteht, temporär gebondete Substrate wieder voneinander zu trennen. Im weiteren Verlauf des Textes wird das Wort Substrat auch als Synonym für Substratstapel bzw. für mindestens zwei übereinanderliegende Substrate, verwendet. Die erfindungsgemäßen Vorrichtungen sind vorzugsweise Bonder, insbesondere Thermoklompressionsbonder. In diesen Vorrichtungen werden Substratstapel bzw. mindestens zwei übereinanderliegede Substrate, die noch nicht notwendigerweise vorfixiert wurden, miteinander verbündet. Da der Text und die Figuren allerdings der Einfachheit wegen nur den unteren Teil einer solchen Vorrichtung aufzeigen, wird diese vereinfachte Beschreibung gewählt. In the semiconductor industry, heaters are required, with the help of which one is able to heat substrates and substrate stacks relatively quickly and efficiently. The heaters are required in different areas of technology. It would be conceivable, for example, to use imprint lithography to heat a substrate with the stamping compound applied to it, in particular to cure the stamping compound. Another conceivable application is the use of heaters in a bonding device. A bonding device is used to temporarily or permanently connect two substrates to one another. The heat introduced via the heater can be used to generate the energy required for a metal diffusion bond. It is also conceivable that the heat is used to reduce the viscosity of an adhesive. Another possible use of a heater would be its use in a debonding device, the purpose of which is to separate temporarily bonded substrates from one another. In the further course of the text, the word substrate is also used as a synonym for substrate stack or for at least two substrates lying one above the other. The devices according to the invention are preferably bonders, in particular thermo-compression bonders. In these devices, substrate stacks or at least two substrates lying one on top of the other, which have not necessarily been pre-fixed, are connected to one another. However, since the text and the figures only show the lower part of such a device for the sake of simplicity, this simplified description is chosen.
Im Stand der Technik existieren verschiedene Arten von Substrathaltern, deren Aufgabe darin besteht, Substrate unterschiedlicher Größe und Form zu fixieren. Diese Substrathalter können über einen eingebauten Heizer verfügen. Der Heizer hat die Aufgabe, den Substrathalter und damit auch das auf ihm fixierte Substrat zu heizen. In den meisten Fällen befindet sich der Heizer nicht direkt im austauschbaren Substrathalter, sondern in der Aufnahme für den Substrathalter. Der Heizer ist dann Teil der entsprchenden Vorrichtung, während Substrathalter ausgetauscht werden können. In the prior art, there are various types of substrate holders, the task of which is to fix substrates of different sizes and shapes. These substrate holders can have a built-in heater. The heater has the task of heating the substrate holder and thus also the substrate fixed on it. In most cases, the heater is not located directly in the exchangeable substrate holder, but in the receptacle for the substrate holder. The heater is then part of the corresponding device, while substrate holders can be exchanged.
Ein Problem der im Stand der Technik beschriebenen Substrathalter besteht darin, dass der Heizer keine optimale, homogene Temperaturverteilung in einem fixierten Substrat bzw. Substratstapel erzeugen kann. Die vom Heizer erzeugte Wärme muss immer durch Teile des Heizers und durch den Substrathalter strömen, bis sie das Substrat erwärmt. Entlang dieser Strecke können unterschiedliche Wärmeströme in verschiedene Richtungen verschieden schnell den Hauptwärmestrom verlassen. Das Endresultat ist eine, im Allgemeinen inhomogene oder zumindest sehr schlechte quasihomogene, Temperaturverteilung im Substrat bzw. Substratstapel. Denkbar ist sogar, dass das Substrat bzw. der Substratstapel selbst über thermische Anisotropie verfügt und die ankommende Wärme in unterschiedliche Richtungen unterschiedlich stark und schnell ableitet, was ebenfalls zu unerwünschten Effekten führen kann. One problem with the substrate holder described in the prior art is that the heater cannot generate an optimal, homogeneous temperature distribution in a fixed substrate or substrate stack. The heat generated by the heater must always flow through parts of the heater and through the substrate holder until it heats the substrate. Along this route, different heat flows in different directions can leave the main heat flow at different speeds. The end result is a generally inhomogeneous or at least very poor quasi-homogeneous temperature distribution in the substrate or substrate stack. It is even conceivable that the substrate or the substrate stack itself has thermal anisotropy and the incoming heat in different directions dissipates differently and quickly, which can also lead to undesirable effects.
Ein weiteres Problem stellt die, meistens sehr hohe, Druckbelastung dar, welcher der Heizer in manchen Vorrichtungen ausgesetzt wird. Insbesondere in Bondvorrichtungen wirken sehr hohe Kräfte bzw. Drücke auf die Substrate und damit auch auf den Substrathalter und auf das Podest auf dem der Substrathalter fixiert wird. Diese mechanische Belastung wirkt sich dann auch auf den Heizer innerhalb des Podests aus. Diese externen Kräfte bzw. Drücke führen zu einer ungewünschten Verformung des Heizer und können das Heizverhalten nachteilig beeinflussen. Another problem is the pressure load, usually very high, to which the heater is exposed in some devices. In particular in bonding devices, very high forces or pressures act on the substrates and thus also on the substrate holder and on the pedestal on which the substrate holder is fixed. This mechanical load then also affects the heater within the pedestal. These external forces or pressures lead to undesired deformation of the heater and can adversely affect the heating behavior.
In den seltensten Fällen wird eine ganze Prozesskammer auf Temperatur gebracht. In den meisten Fällen wird ein Substrathalter direkt mit Hilfe eines Heizers, insbesondere eines Flächenheizers, erwärmt. Diese Heizer sind sehr kompakte aber relativ schwere Bauteile. Da für die Erwärmung eine relativ hohe Strommenge benötigt wird, bestehen sie meistens aus dicken Spulen. Denkbar sind natürlich auch Heizer, die aus mehreren, insbesondere symmetrisch verteilten Heizelementen bestehen, die insbesondere auch einzeln angesteuert werden können. Eine Druckschrift, die eine solche Vorrichtung zeigt ist die WO2012083978A. Der Nachteil besteht darin, dass eine solche Ansteuerung auch ein entsprechend kompliziertes Steuerungssystem benötigt. In the rarest of cases, an entire process chamber is brought up to temperature. In most cases, a substrate holder is heated directly with the aid of a heater, in particular a surface heater. These heaters are very compact but relatively heavy components. Since a relatively high amount of electricity is required for heating, they usually consist of thick coils. Of course, heaters are also conceivable which consist of several, in particular symmetrically distributed, heating elements, which in particular can also be controlled individually. One document showing such a device is WO2012083978A. The disadvantage is that such a control also requires a correspondingly complicated control system.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren aufzuzeigen, welche die im Stand der Technik aufgeführten Nachteile zumindest zum Teil beseitigen, insbesondere vollständig beseitigen. Insbesondere soll eine Vorrichtung und ein Verfahren aufgezeigt werden mit deren Hilfe eine gewünschte Temperaturverteilung an einer Oberfläche, insbesondere einer Substratoberfläche, erzeugt werden kann. Die Temperaturverteilung ist vorzugsweise homogen, kann aber grundsätzlich beliebig geartet sein. Weiterhin soll eine Vorrichtung und ein Verfahren aufgezeigt werden mit deren Hilfe eine ungewünschte Verformung des Heizers kompensiert beziehungsweise ausgeglichen werden kann. It is therefore the object of the present invention to show a device and a method which at least partially eliminate, in particular completely eliminate, the disadvantages listed in the prior art. In particular, a device and a method are to be shown with the aid of which a desired temperature distribution on a surface, in particular a substrate surface, can be generated. The The temperature distribution is preferably homogeneous, but can in principle be of any type. Furthermore, a device and a method are to be shown with the aid of which an undesired deformation of the heater can be compensated or compensated for.
Die vorliegende Aufgabe wird mit den Merkmalen der nebengeordneten Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben. In den Rahmen der Erfindung fallen auch sämtliche Kombinationen aus zumindest zwei in der Beschreibung, in den Ansprüchen und/oder den Zeichnungen angegebenen Merkmalen. Bei angegebenen Wertebereichen sollen auch innerhalb der genannten Grenzen liegende Werte als Grenzwerte offenbart gelten und in beliebiger Kombination beanspruchbar sein. The present object is achieved with the features of the independent claims. Advantageous further developments of the invention are specified in the subclaims. All combinations of at least two features specified in the description, in the claims and / or in the drawings also fall within the scope of the invention. In the case of the stated value ranges, values lying within the stated limits should also apply as disclosed limit values and be claimable in any combination.
Im weiteren Verlauf des Textes werden Substrat und Substratstapel synonym verwendet. Ein Substrat kann insbesondere auch aus mehreren und zum Bearbeiten auf einem Substrathalter vorzugsweise nebeneinander angeordneten Substraten bestehen. In the further course of the text, substrate and substrate stack are used synonymously. A substrate can in particular also consist of a plurality of substrates which are preferably arranged next to one another for processing on a substrate holder.
Demnach betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zum Heizen eines Substrates, aufweisend einen Heizer und einen Substrathalter mit einer Substrathalteroberfläche, wobei das zu erhitzende Substrat auf der Substrathalteroberfläche auflegbar ist, ferner weist die Vorrichtung Mittel zur Kraftbeaufschlagung des Heizers mit Kräften auf, weiterhin weist die Vorrichtung eine Steuereinheit zur Steuerung der Mittel auf, wobei der Heizer durch die Mittel verformbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Heizen eines Substrates, insbesondere zur Erzeugnung einer vorgegebenen Soll-Temperaturverteilung in einem Substrat und/oder zur Ausgleichung einer durch externe Kräfte bewirkte Verfromung des Heizers, vorzugsweise mit der oben genannten Vorrichtung, wobei ein Heizer das Substrat heizt und ein Substrathalter das Substrat auf einer Substrathalteroberfläche hält, wobei Mittel den Heizer mit Kräften beaufschlagen, und wobei die Mittel von einer Steuereinheit gesteuert werden, und wobei der Heizer durch die Mittel verformt wird. Accordingly, the invention relates to a device for heating a substrate, comprising a heater and a substrate holder with a substrate holder surface, wherein the substrate to be heated can be placed on the substrate holder surface Control unit for controlling the means, the heater being deformable by the means. The invention also relates to a method for heating a substrate, in particular for generating a predetermined target temperature distribution in a substrate and / or for compensating for a deformation of the heater caused by external forces, preferably with the above-mentioned device, a heater heating the substrate and a substrate holder holds the substrate on a substrate holder surface, the means applying forces to the heater, the means being controlled by a control unit, and the heater being deformed by the means.
Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zum Bearbeiten und/oder zum Bonden eines Substrates vorgesehen, wobei die Vorrichtung die oben genannte Vorrichtung zum Heizen umfasst. The invention also relates to a device for processing and / or bonding a substrate, the device comprising the above-mentioned device for heating.
Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Bearbeiten und/oder zum Bonden eines Substrates, wobei das Substrat mit dem oben genannten Verfahren zum Heizen geheizt wird. The invention also relates to a method for processing and / or bonding a substrate, the substrate being heated using the above-mentioned method for heating.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass durch die Verformung des Heizers durch die Mittel (Änderung der Form und/oder lokaler sowie globlaer Positionen einzelner Flächenabschnitte des Heizers) eine Ist-Temperaturverteilung des Substrates an eine Soll- Temperaturverteilung anpassbar ist/angepasst wird. Dadurch wird das Einstellen einer gewünschten Temperaturverteilung des Substrates vorteilhaft durch eine mechanische Verformung des Heizers ermöglicht. Insbesondere kann auf eine aufwendige und komplizierte Ansteuerung einzelner Heizelemente des Heizers verzichtet werden. In a preferred embodiment of the invention it is provided that the deformation of the heater by the means (change of shape and / or local and global positions of individual surface sections of the heater) allows an actual temperature distribution of the substrate to be adapted to a target temperature distribution . As a result, the setting of a desired temperature distribution of the substrate is advantageously made possible by mechanical deformation of the heater. In particular, there is no need for an expensive and complicated control of individual heating elements of the heater.
In einer anderen bevorzugten Ausführungsform der Erfinung ist vorgesehen, dass durch die Verformung des Heizers durch die Mittel eine durch externe r- ungewünschte Verformung des Heizers ausgleichbar. Die externen Kräfte sind dabei nicht die Kräfte, welche die Mittel auf den Heizer ausüben. Insbesondere ist mit einer ungewünschten Verfromung des Heizers eine Verformung gemeint, welche in Folge eines Bondprozesses stattfindet. Dabei kann diese ungewünschte Verforumg, welche durch externe Kräfte bewirkt wird, auch vor, während oder nach dem einer Druckbeaufschlagung auf das Substrat ausgeglichen werden. Bei der Druckbeaufschlagung auf das Substrat kann es zu der ungewünschten Verformung des Heizers kommen. Durch eine gezielte Verformung des Heizers durch die Mittel kann diese ungewünschte Verformung ausgeglichen beziehungsweise kompensiert werden, zumindest verringert werden. Auf diese Weise kann vorteilhaft der ungewünschten Verformung des Heizers entgegengewirkt werden. Beispielsweise kann der Heizer so verformt werden, dass der Heizer, insbesondere einzelne Flächenabschnitte einer der Heizeroberfläche, eine gewünschte Position im Podest einnimmt und/oder ein für das Heizen des Substrates gewüschte Position einnimmt. Besonders vorteilhaft kann durch die Möglichkeit der aktiven Änderung der Form eines Heizers eine ungwollte, durch eine Druckaparatur hervorgerufene Verformung des Heizers kompensiert bzw. rückgängig gemacht werden. Die Kompensation der unerwünschten Verformung des Heizers durch eine Druckbeaufschlagung führt dann insbesondere ebenfalls zu einer homogeneren Temperaturverteilung. In another preferred embodiment of the invention it is provided that the deformation of the heater by the means causes an external r- undesired deformation of the heater can be compensated. The external forces are not the forces which the means exert on the heater. In particular, an undesired deformation of the heater means a deformation which takes place as a result of a bonding process. This undesired distortion, which is caused by external forces, can also be compensated for before, during or after the application of pressure to the substrate. When the substrate is pressurized, undesired deformation of the heater can occur. By means of a targeted deformation of the heater by the means, this undesired deformation can be compensated for, or at least reduced. In this way, the undesired deformation of the heater can advantageously be counteracted. For example, the heater can be deformed in such a way that the heater, in particular individual surface sections of one of the heater surfaces, assumes a desired position in the pedestal and / or assumes a position desired for heating the substrate. The possibility of actively changing the shape of a heater makes it particularly advantageous to compensate for or reverse an undesired deformation of the heater caused by a pressure device. Compensation for the undesired deformation of the heater by the application of pressure then also leads, in particular, to a more homogeneous temperature distribution.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Heizer durch mindesten ein mit dem Heizer verbundenes Verformelement gezielt verformbar ist/verformt wird, wobei das mindestens eine Verformelement mit mindestens einem Aktuator verbunden ist. Das Verformelement ist dabei eines der Mittel zur Verformung des Heizers. Durch das Verformelement ist der Heizer, insbesondere eine Heizeroberfläche, lokal verformbar, wobei eine besonders gezielte und gewünschte Verformung insbesondere durch Druck, Zug und/oder ein Drehmoment möglich ist. Ein weiterer vorteilhafter Aspekt der gezielten Verformung durch die Another advantageous embodiment of the invention provides that the heater can be / is deformed in a targeted manner by at least one deforming element connected to the heater, the at least one deforming element being connected to at least one actuator. The deforming element is one of the means for deforming the heater. The heater, in particular a heater surface, can be locally deformed by the deforming element, with a particularly targeted and desired deformation being possible, in particular through pressure, tension and / or a torque. Another advantageous aspect of the targeted deformation by the
/ Verformelemente besteht insbesondere darin, dass man durch die Verformelemente eine ungewünschte Verformung des Heizers, hervorgerufen durch beispielsweise die Druckbeaufschlagung auf das Substrat, ausgleichen kann. Die ungewünschte Verforumung ist dabei die Verformung, welche durch die externen Kräfte bewirkt wird. Weiterhin kann durch die gezielte Verformung durch die Verformelemente das Heizverhalten vorteilhaft angepasst werden. / Deforming elements consists, in particular, in the fact that the deforming elements can compensate for undesired deformation of the heater, caused, for example, by the application of pressure to the substrate. The undesired deformation is the deformation that is caused by the external forces. Furthermore, the targeted deformation by the deforming elements can advantageously adapt the heating behavior.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Heizer auf einer dem Substrat gegenüberliegen Seite der Substrathalteroberfläche angeordnet ist. Durch diese Anordnung kann der Heizer gezielt und insbesondere unabhängig vom Substrathalter verformt werden. Another advantageous embodiment of the invention provides that the heater is arranged on a side of the substrate holder surface opposite the substrate. With this arrangement, the heater can be deformed in a targeted manner and, in particular, independently of the substrate holder.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Heizer unabhängig von der Substrathalteroberfläche verformbar ist/verformt wird. Dadurch kann eine gewünschte Temperaturverteilung durch die Verformung des Heizers erreicht werden, ohne dass die Substrathalteroberfläche und/oder das Substrat verformt wird. Auch kann eine Kompensation der ungewünschten Verformung des Heizers vorteilhaft unabhängig von anderen Bauteilen erfolgen. Another advantageous embodiment of the invention provides that the heater is / is deformed independently of the substrate holder surface. As a result, a desired temperature distribution can be achieved by deforming the heater without the substrate holder surface and / or the substrate being deformed. Compensation for the undesired deformation of the heater can also advantageously take place independently of other components.
In einer anderen, besonders bevorzugten, Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Vorrichtung ein Podest aufweist, wobei der Substrathalter auf einer Podestoberfläche des Podestes angeordnet ist und der Heizer in dem Podest angeordnet ist. Hierdurch kann beispielsweise der Substrathalter mit einem Substrat geladen werden und anschließend auf dem Podest aufgelegt und/oder fixiert werden. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass bei dieser Anordnung die zum Verformen des Heizers notwendigen Verformelemente und insbesondere die Aktuatoren im Podest angeordnet werden können, wobei sich hierdurch ein konstruktiver Vorteil ergibt. In another, particularly preferred, embodiment of the invention it is provided that the device has a pedestal, the substrate holder being arranged on a pedestal surface of the pedestal and the heater being arranged in the pedestal. In this way, for example, the substrate holder can be loaded with a substrate and then placed and / or fixed on the pedestal. Another advantage is that with this arrangement, the necessary to deform the heater Deforming elements and in particular the actuators can be arranged in the pedestal, which results in a structural advantage.
In einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Heizer ein flächig ausgebildetes Heizelement oder mehrere insbesondere flächig angeordnete, Heizelemente aufweist. Eine flächige Form des Heizers ermöglicht dabei eine einfachere Verformung des Heizers mit einer insbesondere weniger starken Krafteinbringung auf den Heizer durch die Verformelemente. Außerdem ist der Bereich einer elastischen Verformung bei einer flächigen Form des Heizers größer als bei einer beispielsweise kubischen Form. Das gezielte Verformen des Heizers durch die Mittel wird somit mit weniger Kraftaufwand möglich und kann insbesondere genauer eingestellt werden. In another embodiment of the invention, it is provided that the heater has a flat heating element or a plurality of heating elements, in particular flatly arranged. A flat shape of the heater enables a simpler deformation of the heater with an in particular less strong application of force on the heater by the deforming elements. In addition, the area of elastic deformation is greater in the case of a flat shape of the heater than in the case of a, for example, cubic shape. The targeted deformation of the heater by the means is thus possible with less expenditure of force and can in particular be set more precisely.
In einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass mindestens ein Punkt des Heizers durch mindestens ein Fixierelement fixiert wird/ist, wobei das Fixierelement mit dem Heizer verbunden ist. Fixierelemente stellen ebenfalls ein Mittel zum Verformen des Heizers dar. Damit wird mindestens ein Punkt des Heizers nicht verformt und kann einen gleichen Abstand zum Substrat halten. Weiterhin ergeben sich vorteilhafte Verformszenarien des Heizers durch das Fixierelement, wobei beispielsweise das Fixierelement im Zentrum des Heizers angeordnet ist und insbesondere weitere Verformelemente in einem weiter außen angeordneten Bereich des Heizers Kräfte einbringen. Another embodiment of the invention provides that at least one point of the heater is / is fixed by at least one fixing element, the fixing element being connected to the heater. Fixing elements also represent a means for deforming the heater. This means that at least one point of the heater is not deformed and can maintain the same distance from the substrate. Furthermore, advantageous deformation scenarios of the heater result from the fixing element, with the fixing element, for example, being arranged in the center of the heater and, in particular, further deformation elements introducing forces in an area of the heater arranged further out.
In einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Verformung des Heizers durch mindestens ein nicht mit dem Heizer verbundenes Unterstützungselement begrenzbar ist/begrenzt wird, wobei das mindestens eine Unterstützungselement den Heizer nur auf Druck beansprucht. Unterstützungselemente stellen ebenfalls ein Mittel zum Verformen des Heizers dar. Dabei können die insbesondere nachgebend ausgelegten Unterstützungselemente eine ungewünschte, insbesondere plastische, Verformung des Heizers verhindern. Darüber hinaus können weitere Verformszenarien des Heizers durch die Anordnung der Unterstützungselemente ermöglicht werden. Another embodiment of the invention provides that the deformation of the heater can be / is limited by at least one support element not connected to the heater, the at least one support element only applying pressure to the heater. Support elements also provide a means to Deformation of the heater. The support elements, which are designed in particular to yield, can prevent undesired, in particular plastic, deformation of the heater. In addition, further deformation scenarios of the heater can be made possible by the arrangement of the support elements.
In einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Verformung des Heizers durch mindestens ein nicht mit dem Heizer verbundenes Begrenzungselement begrenzt wird/begrenzbar ist und/oder die Verformung des Heizers durch die Form des mindestens einen Begrenzungselement vorgegeben wird/vorgebbar ist. Begrenzungselemente stellen ebenfalls ein Mittel zur Verformung des Heizers dar. Begrenzungselemente werden vorzugsweise in Kombination mit mindestens einem der anderen Elemente (Mittel) verwendet, um eine gezielte Verformung des Heizers zu erreichen. Somit kann durch eine einfache konstruktive Lösung eine ungewünschte plastische Verformung des Heizers verhindert werden. Zusätzlich kann durch eine einfache konstruktive Lösung, wie beispielsweise durch kugelförmige Begrenzungselemente eine Form für die Verformung des Heizers vorgegeben werden, wobei insbesondere die Verformelemente den Heizer beispielsweise gegen die Begrenzungselemente drücken und/oder ziehen. Another embodiment of the invention provides that the deformation of the heater is limited / can be limited by at least one delimitation element not connected to the heater and / or the deformation of the heater is predetermined / can be predetermined by the shape of the at least one delimitation element. Limiting elements also represent a means for deforming the heater. Limiting elements are preferably used in combination with at least one of the other elements (means) in order to achieve a targeted deformation of the heater. An undesired plastic deformation of the heater can thus be prevented by a simple structural solution. In addition, a shape for the deformation of the heater can be specified by means of a simple structural solution, such as, for example, spherical delimiting elements, with the deformation elements in particular pressing and / or pulling the heater against the delimiting elements, for example.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass zwischen dem Heizer und anderen Bauteilen, insbesondere zwischen dem Heizer und dem Podest und/oder zwischen dem Heizer und dem Substrathalter, ein Fluidstrom spülbar ist/gespült wird, insbesondere um den Wärmeübergang zwischen dem Heizer und den anderen Bauteilen zu optimieren. Durch den Fluidstrom wird eine gleichmäßigere Erwärmung der Bauteile und insbesondere des Substrathalters ermöglicht. Die Wärmeleitfähigkeit des Fluids ist größer als 0 W/(m*K), vorzugsweise größer als 001 W/(m*K) noch bevorzugter grösßer als 0 1 W/(m*K) am bevorzugtesten größer als 1 W/(m*K). Die Wärmeleitfähigkeit von Helium liegt ca. zwischen 0.15 W/(m*K) und 0.16 W/(m*K). Another advantageous embodiment of the invention provides that a fluid flow can be / is flushed between the heater and other components, in particular between the heater and the pedestal and / or between the heater and the substrate holder, in particular around the heat transfer between the heater and optimize the other components. The fluid flow enables more uniform heating of the components and in particular of the substrate holder. The thermal conductivity of the fluid is greater than 0 W / (m * K), preferably greater than 001 W / (m * K), even more preferably greater than 0.1 W / (m * K) am most preferably greater than 1 W / (m * K). The thermal conductivity of helium is between 0.15 W / (m * K) and 0.16 W / (m * K).
In einer anderen vorteilhaften Ausführungform der Erfindung ist vorgesehen, dass auf dem Heizer, insbesondere auf der Heizeroberfläche, eine Platte angeordnet ist. Die Platte befindet sich über dem Heizer und wirkt sich insbesondere positiv auf eine Temperaturhomogenisierung aus. Die Platte besteht vorzugsweise aus einem der folgenden Materialien: Another advantageous embodiment of the invention provides that a plate is arranged on the heater, in particular on the heater surface. The plate is located above the heater and has a particularly positive effect on temperature homogenization. The plate is preferably made of one of the following materials:
• Metall, insbesondere o Kupfer o Kupfer-Molybdän Legierung • Metal, especially o copper o copper-molybdenum alloy
• Legierung, insbesondere o Stahl • Alloy, especially o steel
• Kohlenstoff, insbesondere o Graphit. • Carbon, especially o graphite.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass ein Heizen des Substrates mit den folgenden Schritten, insbesondere mit dem folgenden Ablauf, durchgeführt wird: Another advantageous embodiment of the invention provides that the substrate is heated with the following steps, in particular with the following sequence:
(i) Positionieren und/oder Fixieren des Substrates auf einer Substrathalteroberfläche eines Substrathalters,(i) Positioning and / or fixing the substrate on a substrate holder surface of a substrate holder,
(ii) Ermitteln einer Ist-Temperaturverteilung des Substrates, insbesondere auf der Substratoberfläche, (ii) Determining an actual temperature distribution of the substrate, in particular on the substrate surface,
(iii) Auf Grundlage einer Analyse der Ist-Temperaturverteilung im Vergleich zu einer Soll-Temperaturverteilung Verformen des Heizers druch die Mittel, wobei die Mittel durch die Steuereinheit gesteuert werden, so dass durch das Verformen des Heizers die Ist-Temperaturverteilung des Substrates gezielt an die vorgegebene Soll-Temperaturverteilung angepasst wird. (iii) On the basis of an analysis of the actual temperature distribution compared to a target temperature distribution, deforming the heater by the means, the means being controlled by the control unit, so that the actual temperature distribution of the substrate by deforming the heater is specifically adapted to the specified target temperature distribution.
Dabei ist das Substrat auf einer Substrathalteroberfläche eines Substrathalters positionierbar und/oder fixierbar. Dabei ist weiterhin eine Ist- Temperaturverteilung des Substrates, insbesondere auf der Substratoberfläche, ermittelbar. Weiterhin ist auf der Grundlage der Analyse der Temperaturverteilung im Vergleich zu einer Soll-Temperaturverteilung der Heizer verformbar, so dass durch eine Änderung der Form des Heizers die Ist-Temperaturverteilung des Substrates geziehlt an die vorgegebene Soll- Temperaturverteilung anpassbar ist. Hierdurch ergibt sich beispielsweise der Vorteil, dass ein Heizen des Substrates in mehreren und insbesondere effizienteren Schritten geheizt werden kann. Zusätzlich findet eine noch gezieltere und insbesondere vorteilhafte gleichmäßige Erwärmung des Substrates statt. The substrate can be positioned and / or fixed on a substrate holder surface of a substrate holder. An actual temperature distribution of the substrate, in particular on the substrate surface, can also be determined. Furthermore, on the basis of the analysis of the temperature distribution in comparison to a target temperature distribution, the heater can be deformed so that the actual temperature distribution of the substrate can be adapted to the specified target temperature distribution by changing the shape of the heater. This has the advantage, for example, that the substrate can be heated in several and, in particular, more efficient steps. In addition, there is an even more targeted and particularly advantageous uniform heating of the substrate.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass ein Heizen des Substrates mit den folgenden Schritten, insbesondere mit dem folgenden Ablauf, durchgeführt wird: i) Positionieren und/oder Fixieren des Substrates auf einer Substrathalteroberfläche eines Substrathalters, ii) Ermitteln einer ungewünschten Verformung des Heizers, insbesondere der Heizeroberfläche, iii) Auf Grundlage einer Analyse der durch die externen Kräfte bewirkte Verformung des Heizers Verformen des Heizers durch die Mittel, wobei die Mittel durch die Steuereinheit gesteuert werden, so dass durch das Verformen des Heizers die durch externe Kräfte bewirkte Verfromung des Heizers ausgeglichen wird. Another advantageous embodiment of the invention provides that the substrate is heated with the following steps, in particular with the following sequence: i) positioning and / or fixing the substrate on a substrate holder surface of a substrate holder, ii) determining an undesired deformation of the heater, in particular the heater surface, iii) On the basis of an analysis of the deformation of the heater caused by the external forces. Deformation of the heater by the means, the means being controlled by the control unit, so that the deformation of the heater caused by external forces Deformation of the heater is compensated.
Dabei wird insbesondere die ungewünschte Verformung des Heizers, insbesondere hervorgerufen durch externe Kräfte in Folge eines Bondvorganges des Substrates, durch Sensoren oder sonstige Mittel ermittelt. Die Sonsoren oder sonstigen Mittel sind vorzugsweise in oder an den Elementen angeordent. Die ungewüsnchte Verfromung kann auch durch visuelle Mittel ermittelt werden. Vorzugsweise wird die tatsächliche auftretende Verformung des Heizers vermessen. Dabei kann die ungewünschte Verformung vor, während oder nach dem Bonden vermessen werden. Ein gezieltes Verformen des Heizers durch die Mittel auf Grundlage von empirischen oder berechneten Werten vor dem Bonden ist ebenfalls denkbar. Das Verformen des Heizers wirkt vorzugsweise der ungewünschten Verformung entgegen, so dass der Heizer beziehungsweise die Heizeroberfläche eine gewünschte Position einnimmt. Dabei können auch nur lokale Abschnitte des Heizers verformt werden. Durch diese Kompensation der ungewünschten Verformung kann auch auf die Temeraturverteilung des Substrates vorteilhaft einfluss gneommen werden. Die ermittelte, unerwünschte Verformung des Heizers kann dann bei einem eigentlichen Bondprozess durch die Elemente (Verform-, Fixier-, Unterstützungs- und/oder Begrenzungselement) kompensiert werden, sodass der Heizer keine oder zumindest eine geringere Verformung, insbesondere gegenüber einer gewünschten Form des Heizers, aufweist. In diesem Fall werden die Elemente primär für die Aufhebung bzw. Kompensation einer unerwünschten Verformung und aller damit einhergehenden Nachteile eingesetzt. In particular, the undesired deformation of the heater, in particular caused by external forces as a result of a Bonding process of the substrate, determined by sensors or other means. The sensors or other means are preferably arranged in or on the elements. The undesired shape can also be determined by visual means. The actual deformation of the heater that occurs is preferably measured. The undesired deformation can be measured before, during or after bonding. A targeted deformation of the heater by the means on the basis of empirical or calculated values before bonding is also conceivable. The deformation of the heater preferably counteracts the undesired deformation, so that the heater or the heater surface assumes a desired position. Only local sections of the heater can be deformed. This compensation for the undesired deformation can also advantageously influence the temperature distribution of the substrate. The determined, undesired deformation of the heater can then be compensated for by the elements (deforming, fixing, supporting and / or limiting element) during an actual bonding process, so that the heater has no or at least less deformation, in particular compared to a desired shape of the heater , having. In this case, the elements are primarily used to cancel or compensate for undesired deformation and all the associated disadvantages.
Ein vorteilhafter Aspekt der Erfindung besteht insbesondere darin, dass man durch die Verformelemente, insbesondere angetrieben von Aktuatoren, einen Einfluss auf die Form und/oder Position der Oberfläche des Heizers und damit auf das Abstrahlungs- und Wärmeleitungsverhalten nehmen kann. Durch die gezielte Einstellung des Abstrahlungsverhaltens kann damit die Temperaturverteilung eingestellt werden. Insbesondere kann dabei auf die Verwendung mehrerer, vereinzelter Heizelemente im Heizer, die gezielt angesteuert werden werden, verzichtet werden. Der Heizer benötigt bevorzugt nur ein einziges, insbesondere vollflächiges oder den Heizer durchziehendes, Heizelement, insbesondere eine gewöhnliche Heizspule. Es ist jedoch auch denkbar, dass der Heizer aus mehreren flächig angeordneten Heizelementen besteht. One advantageous aspect of the invention is that the deformation elements, in particular driven by actuators, can influence the shape and / or position of the surface of the heater and thus the radiation and heat conduction behavior. The temperature distribution can be adjusted through the targeted adjustment of the radiation behavior. In particular, the use of several, isolated heating elements in the heater, which are controlled in a targeted manner, can be dispensed with. The heater preferably only needs a single, in particular full-area or one that runs through the heater, Heating element, especially an ordinary heating coil. However, it is also conceivable that the heater consists of several heating elements arranged over a large area.
Weiterhin ist ein vorteilhafter Aspekt der Erfindung, dass eine ungewünschte Verformung des Heizers durch die Mittel ausgleichbar beziehugnsweise kompensierbar ist. Furthermore, an advantageous aspect of the invention is that an undesired deformation of the heater can be compensated or compensated for by the means.
Vorrichtung contraption
Die Erfindung sieht insbesondere vor Verformelemente, insbesondere durch Aktuatoren betrieben, auf mindestens einer Seite eines Heizers zu positionieren und damit den Heizer und somit auch die Heizoberfläche zu verformen. Der Heizer kann dabei insbesondere Teil eines Substrathalters sein. Vorzugsweise wird der Heizer in einem Podest, auf dem der Substrathalter fixiert gelagert werden kann, eingebaut. Durch die Veränderung der Heizeroberfläche werden die Abstrahlungs- und Wärmeleitungscharakteristik des Heizers und damit auch die Temperaturverteilung angepasst. The invention provides in particular to position deforming elements, in particular operated by actuators, on at least one side of a heater and thus to deform the heater and thus also the heating surface. The heater can in particular be part of a substrate holder. The heater is preferably installed in a pedestal on which the substrate holder can be stored in a fixed manner. By changing the heater surface, the radiation and heat conduction characteristics of the heater and thus also the temperature distribution are adapted.
Dabei kann es auch vorgesehen sein, dass der Heizer oder ein zusätzlicher Heizer oberhalb des Substrates angeordnet ist. Eine Heizoberfläche eines oberhalb des Substrates angeordneten Heizers kann insbesondere auch durch eine Veränderung der Heizeroberfläche die Abstrahlungs- und Wärmeleitungscharakteristik des Heizers und damit auch die Temperaturverteilung anpassen. In einer alternativen Anordnung fixiert ein Substrathalter das Substrat an einer nach unten ausgerichteten Substrathalteroberfläche durch insbesondere Ansaugen oder durch eine magnetische Kraft. In einer solchen alternativen Anordnung kann der Heizer entsprechend oberhalb des Substrathalters angeordnet sein. Ein wichtiger physikalischer Aspekt für die Strahlungseigenschaft der Heizeroberfläche ist deren Rauhigkeit. Der Begriff der Rauhigkeit wird zuerst allgemein definiert. Danach erfolgt eine Wertebereichangabe für die Rauhigkeit der Heizeroberfläche. It can also be provided that the heater or an additional heater is arranged above the substrate. A heating surface of a heater arranged above the substrate can, in particular, also adapt the radiation and heat conduction characteristics of the heater and thus also the temperature distribution by changing the heater surface. In an alternative arrangement, a substrate holder fixes the substrate on a substrate holder surface that is oriented downward, in particular by suction or by a magnetic force. In such an alternative arrangement, the heater can be arranged correspondingly above the substrate holder. An important physical aspect for the radiation properties of the heater surface is its roughness. The term roughness is first defined in general terms. This is followed by a value range specification for the roughness of the heater surface.
Im weiteren Verlauf wird die Ebenheit als Maß für die Perfektion einer planaren Fläche, insbesondere eine Oberfläche, verwendet. Abweichungen von einer planaren Oberfläche ergeben sich durch Welligkeiten und Rauhigkeiten. Die Welligkeit einer Oberfläche zeichnet sich durch eine gewisse periodische Anhebung und Absenkung der Oberfläche, insbesondere im Millimeterbereich, seltener im Mikrometerbereich, aus. Rauhigkeit hingegen ist ein aperiodisches Phänomen im Mikro- bzw. Nanometerbereich. Die genaue Definition derartiger Oberflächeneigenschaften ist jedem Fachmann der Oberflächenphysik-, Tribologie, des Maschinenbaus oder der Werkstoffwissenschaften bekannt. Um die unterschiedlichen Abweichungen von der idealen Oberfläche zu behandeln, wird im weiteren Verlauf der Patentschrift der Begriff der Rauheit synonym für die Überlagerung aller derartigen Effekte verwendet. Die Rauheit wird entweder als mittlere Rauheit, quadratische Rauheit oder als gemittelte Rauhtiefe angegeben. Die ermittelten Werte für die mittlere Rauheit, die quadratische Rauheit und die gemittelte Rauhtiefe unterscheiden sich im Allgemeinen für dieselbe Messstrecke bzw. Messfläche, liegen aber im gleichen Größenordnungsbereich. Daher sind die folgenden Zahlenwertebereiche für die Rauheit entweder als Werte für die mittlere Rauheit, die quadratische Rauheit oder für die gemittelte Rauhtiefe zu verstehen. In the further course, the flatness is used as a measure of the perfection of a planar surface, in particular a surface. Deviations from a planar surface result from waviness and roughness. The waviness of a surface is characterized by a certain periodic raising and lowering of the surface, especially in the millimeter range, more rarely in the micrometer range. Roughness, on the other hand, is an aperiodic phenomenon in the micro or nanometer range. The exact definition of such surface properties is known to every person skilled in surface physics, tribology, mechanical engineering or materials science. In order to deal with the various deviations from the ideal surface, the term roughness is used synonymously for the superposition of all such effects in the further course of the patent specification. The roughness is given either as mean roughness, quadratic roughness or as mean roughness depth. The values determined for the mean roughness, the quadratic roughness and the mean roughness depth generally differ for the same measuring section or measuring surface, but are in the same order of magnitude. Therefore, the following numerical value ranges for the roughness are to be understood either as values for the mean roughness, the quadratic roughness or for the mean roughness depth.
Die Rauheit der Heizeroberfläche ist insbesondere kleiner als 100 pm, vorzugsweise kleiner als 10 μm, noch bevorzugter kleiner als 1 μm, am bevorzugtesten kleiner als l OOnm, am allerbevorzugtesten kleiner als 10nm. Der Heizer kann insbesondere auf eine Temperatur größer 25°C, vorzugsweise größer 50°C, noch bevorzugter größer 200°C, am bevorzugtesten größer 400°C, am allerbevorzugtesten größer 600°C geheizt werden. The roughness of the heater surface is in particular less than 100 μm, preferably less than 10 μm, even more preferably less than 1 μm, most preferably less than 10 nm, most preferably less than 10 nm. The heater can in particular be heated to a temperature greater than 25 ° C., preferably greater than 50 ° C., even more preferably greater than 200 ° C., most preferably greater than 400 ° C., most preferably greater than 600 ° C.
Die Elastizität wird durch den E-Modul beschrieben. Der E-Modul des Heizers liegt dabei zwischen 1 GPa und 1000 GPa, bevorzugt zwischen 10 GPa und 1000 GPa, mit größerem Vorzug zwischen 25 GPa und 1000 GPa, mit größtem Vorzug zwischen 50 GPa und 1000 GPa, am bevorzugtesten zwischen 100 GPa und 1000 GPa. Der E-Modul von einigen Stahlsorten liegt beispielsweise bei um die 200 GPa. Je geringer der E-Modul des Heizers, desto größer seine (elastische) Verformung bei vorgegebener Belastung. The elasticity is described by the modulus of elasticity. The E-modulus of the heater is between 1 GPa and 1000 GPa, preferably between 10 GPa and 1000 GPa, more preferably between 25 GPa and 1000 GPa, most preferably between 50 GPa and 1000 GPa, most preferably between 100 GPa and 1000 GPa. The modulus of elasticity of some types of steel is around 200 GPa, for example. The lower the heater's modulus of elasticity, the greater its (elastic) deformation at a given load.
Daher werden bevorzugt Heizer verwendet, die sich relativ leicht elastisch verformen lassen und daher einen eher geringen E-Modul besitzen. It is therefore preferred to use heaters which can be elastically deformed relatively easily and therefore have a rather low modulus of elasticity.
Für die Härte existieren verschiedene, technologische Kenngrößen. Das korrekte Härtemessverfahren hängt von vielen Einflussfaktoren ab. Die wichtigsten Faktoren sind das zu prüfende Material, sowie der Prüfkörper. Metalle und Keramiken, also Festkörper mit entsprechend hoher Festigkeit und/oder entsprechendem Plastizitätsvermögen, werden vorwiegend, aber nicht ausschließlich mit Härteverfahren nach Rockwell, Brinell und Vickers getestet. Die Umrechnung der einzelnen Härtemesswerte ist bedingt möglich. Entsprechende Tabellen und Formeln existieren und sind dem Fachmann bekannt. Es muss allerdings erwähnt werden, dass eine exakte Umrechnung nicht immer möglich bzw. ungenau ist. Folgende Härtemessewerte beziehen sich auf die Härte nach Vickers. There are various technological parameters for hardness. The correct hardness measurement method depends on many influencing factors. The most important factors are the material to be tested and the test specimen. Metals and ceramics, i.e. solids with correspondingly high strength and / or corresponding plasticity, are mainly, but not exclusively, tested using the Rockwell, Brinell and Vickers hardening methods. The conversion of the individual hardness values is possible to a limited extent. Corresponding tables and formulas exist and are known to the person skilled in the art. It must be mentioned, however, that an exact conversion is not always possible or inaccurate. The following hardness measurement values relate to the hardness according to Vickers.
Die Vickershärte der Heizeroberfläche ist größer als 100, vorzugsweise größer als 500, noch bevorzugter größer als 1000, am bevorzugtesten größer als 5000, am allerbevorzugtesten größer als 10000. Unlegierte Stähle haben eine Vickershärte von ca. 150HV. Martensit hat eine Vickershärte von ca. 1000HV. Vorzugsweise ist die Härte der Heizeroberfläche möglichst groß um plastische Verformung, insbesondere an der Heizeroberfläche zu verhindern. The Vickers hardness of the heater surface is greater than 100, preferably greater than 500, more preferably greater than 1000, most preferably greater than 5000, most preferably greater than 10,000. Unalloyed steels have a Vickers hardness of approx. 150HV. Martensite has a Vickers hardness of approx. 1000HV. The hardness of the heater surface is preferably as great as possible in order to prevent plastic deformation, in particular on the heater surface.
Der Heizer besteht vorzugsweise aus mindestens einem der folgenden Materialien: The heater is preferably made of at least one of the following materials:
• Metall, insbesondere o Cu, Ag, Au, Al, Fe, Ni, Co, Pt, W, Cr, Pb, Ti, Ta, Zn, Sn• Metal, especially o Cu, Ag, Au, Al, Fe, Ni, Co, Pt, W, Cr, Pb, Ti, Ta, Zn, Sn
• Keramik, insbesondere o Hochleistungskeramik • Ceramics, especially o high-performance ceramics
• Legierung, insbesondere o Stahl. • Alloy, especially o steel.
In einer bevorzugten Ausführungsform befindet sich der Heizer in einer Aufnahme für einen Substrathalter, besonders bevorzugt in einem Podest. Der Heizer ist damit insbesondere vom Substrathalter getrennt. In a preferred embodiment, the heater is located in a receptacle for a substrate holder, particularly preferably in a pedestal. The heater is thus in particular separated from the substrate holder.
In einer anderen Ausführungsform befindet sich der Heizer im Substrathalter, das heißt nicht im Podest. In another embodiment, the heater is located in the substrate holder, that is, not in the pedestal.
Im weiteren Verlauf des Textes werden nun unterschiedliche Ausführungsformen beschrieben, um den Heizer zu verformen. Der Heizer ist insbesondere ein Bauteil, mit einer Dicke im Millimeterbereich beziehungsweise im Zentimeterbereich. In the further course of the text, different embodiments will now be described in order to deform the heater. The heater is in particular a component with a thickness in the millimeter range or in the centimeter range.
Alle Vorrichtungen können im Allgemeinen über vier Arten von Elementen verfügen, (i) den Fixierelementen, den (ii) den Verformelementen, (iii) den Unterstützungselementen und den (iv) Begrenzungselementen. Dabei sind die Fixierelemente, die Verformelemente und die Unterstützungselemente dazu vorgesehen den Heizer zu verformen. Sie stellen insofern die benannten Mittel zum Verformen des Heizers dar. All devices can generally have four types of elements, (i) the fixing elements, the (ii) the deforming elements, (iii) the support elements and the (iv) limiting elements. There are those Fixing elements, the deforming elements and the support elements provided to deform the heater. To this extent, they represent the named means for deforming the heater.
Die Elemente verfügen vorzugsweise über Sensoren, mit deren Hilfe eine Kraft bzw. ein Druck vermessen werden kann. Die Sensoren können dabei in oder an den Elementen angeordnet sein. Die Sensoren können die Verformung, insbesondere die ungewünschte Verformung, des Heizers bzw. der Heizfläche vermessen. Das ist insbesondere für die Verwendung der Elemente zur Kompensation einer unerwünschten Verformung des Heizers durch eine Druckbeaufschlagung von Bedeutung um festzustellen, ob die erwünschte kompensierende Wirkung erreicht wird bzw. erreicht wurde. Auch kann auf diese Weise eine gewünschte Formänderung des Heizers durch die Sensoren validiiert bzw. festgestellt werden. The elements preferably have sensors which can be used to measure a force or a pressure. The sensors can be arranged in or on the elements. The sensors can measure the deformation, in particular the undesired deformation, of the heater or the heating surface. This is particularly important for the use of the elements to compensate for an undesired deformation of the heater due to the application of pressure, in order to determine whether the desired compensating effect is or has been achieved. In this way, a desired change in shape of the heater can also be validated or determined by the sensors.
Die Fixierelemente haben die Hauptaufgabe, den Heizer zu verankern, d.h. mindestens einen Punkt zu fixieren. Sie sind vorzugsweise zentrisch positioniert und mit dem Heizer verbunden. Insbesondere gibt es bevorzugt nur ein Fixierelement. Die Fixierelemente sind vorzugsweise nicht mit Aktuatoren verbunden, können jedoch auch mit Aktuatoren verbunden sein, um den zu fixierenden Teil oder die zu fixierenden Teile des Heizers, entsprechend zu positionieren und in gewünschter Weise festzulegen. The main task of the fixing elements is to anchor the heater, i.e. to fix at least one point. They are preferably positioned centrally and connected to the heater. In particular, there is preferably only one fixing element. The fixing elements are preferably not connected to actuators, but can also be connected to actuators in order to position the part or parts of the heater to be fixed accordingly and to fix them in the desired manner.
Die Verformelemente dienen insbesondere der Kraftbeaufschlagung. Sie sind insbesondere mit Aktuatoren, die insbesondere über eine sehr hohe Leistung verfügen, verbunden und werden vorzugsweise an der Peripherie des Heizers fixiert. Da sie mit dem Heizer verbunden sind können sie diesen mit Zug- und Druck beaufschlagen. Denkbar ist auch, dass die Verformelemente Drehmomente, insbesondere Torsionsmomente, in den Heizer einbringen und den Heizer verformen. Solche Verfromelemente, insbesondere mit entsprechenden Aktuatoren verbundene Torsionsstäbe, sind bevorzugt ebenfalls an der Peripherie des Heizers angeordnet. The deformation elements are used in particular to apply force. In particular, they are connected to actuators, which in particular have a very high output, and are preferably fixed on the periphery of the heater. Since they are connected to the heater, you can apply tension and pressure to it. It is also conceivable that the deforming elements introduce torques, in particular torsional moments, into the heater and deform the heater. Such Verfromelemente, especially with Torsion bars connected to corresponding actuators are preferably also arranged on the periphery of the heater.
Die Unterstützungselemente befinden sich vorzugsweise zwischen den Fixierelementen im Zentrum und den Verformelemente an der Peripherie des Heizers. Sie dienen vorzugsweise der Unterstützung des Heizers, sind insbesondere so konstruiert, dass sie nachgeben können. Denkbar wäre allerdings auch, dass sie ebenfalls mit Aktuatoren verbunden sind, um Kräfte lokal einzubringen. Die Unterstützungselemente können insbesondere eine maximal erlaubte Verformung des Heizers festzulegen. Die Unterstützungselemente sind nicht mit dem Heizer verbunden und können diesen daher nur mit Druck beaufschlagen. The support elements are preferably located between the fixing elements in the center and the deforming elements on the periphery of the heater. They are preferably used to support the heater and, in particular, are designed in such a way that they can give way. However, it would also be conceivable that they are also connected to actuators in order to introduce forces locally. The support elements can, in particular, define a maximum permitted deformation of the heater. The support elements are not connected to the heater and can therefore only apply pressure to it.
Bei den Begrenzungselementen handelt es sich vorzugsweise um zentrisch ausgerichtete Ringe, insbesondere Tori (Anm.: Mehrzahl von Torus) und/oder um Kugeln. Insbesondere können die Begrenzungselemente den maximal erreichbaren, insbesondere technisch sinnvollen, Krümmungsradius des Heizers festlegen. Die Begrenzungselemente sind insbesondere nicht mit dem Heizer verbunden und sind vorzugsweise auch nicht mit Aktuatoren verbunden. Insofern können die Begrenzungselemente ebenfalls als Mittel zum Verformen angesehen werden, welche insbesondere in Kombiantion mit den anderen zuvorbenannten Elementen zusammen wirken. The delimiting elements are preferably centrally aligned rings, in particular tori (note: plurality of torus) and / or spheres. In particular, the delimitation elements can define the maximum achievable, in particular technically sensible, radius of curvature of the heater. In particular, the delimitation elements are not connected to the heater and are preferably also not connected to actuators. In this respect, the delimiting elements can also be viewed as means for deforming which, in particular, work together in combination with the other aforementioned elements.
Die Fixierelemente, die Verfromelemente und Unterstützungselemente sind vorzugsweise stangenförmig ausgebildet. Sehr viele Aktuatoren, insbesondere Linearaktuatoren, besitzen bereits stangenförmige Kolben. Diese Kolben könnten im Sinne der Ausführungsformen bereits Fixierelement, als Verformelemente oder als Unterstützungselement interpretiert werden. Denkbar ist allerdings auch, dass die Kolben von Aktuatoren mit den Elementen verbunden werden. Fixierelemente und die Verformelemente sind insbesondere zusätzlich mit dem Heizer verbunden. The fixing elements, the Verfromelemente and support elements are preferably rod-shaped. Very many actuators, in particular linear actuators, already have rod-shaped pistons. In the sense of the embodiments, these pistons could already be interpreted as fixing elements, as deformation elements or as support elements. However, it is also conceivable that the pistons of actuators with the Elements are connected. Fixing elements and the deforming elements are in particular additionally connected to the heater.
Bei den Aktuatoren kann es sich um mechanische, und/oder elektrische, und/oder pneumatische und/oder hydraulische Aktuatoren handeln. Insbesondere können die Aktuatoren und/oder die Elemente (Mittel) mit Sensoren ausgestattet sein, welche die ungewünschte Verformung des Heizers bestimmen können. Weiterhin ist denkbar, dass die Aktuatoren und/oder die Elmente (Mittel) die externen Kräfte bestimmen können, welche auf den Heizer wirken. Auf Grundlage der Kräfte kann dann insbesondere die ungewünschte Verformung, vorzugsweise durch die Steuereinheit ermittelt werden und die Aktuatoren zur Verformung des Heizers durch die Mittel angesteuert werden. The actuators can be mechanical and / or electrical and / or pneumatic and / or hydraulic actuators. In particular, the actuators and / or the elements (means) can be equipped with sensors which can determine the undesired deformation of the heater. It is also conceivable that the actuators and / or the elements (means) can determine the external forces which act on the heater. On the basis of the forces, in particular the undesired deformation can then be determined, preferably by the control unit, and the actuators for deforming the heater can be controlled by the means.
In einer bervorzugten Ausführungsform befinden sich mehrere Verformelemente auf der, der Heizfläche abgewandten Seite des Heizers. Die Verformelemente sind insbesondere symmetrisch, vorzugsweise in einem Raster, mit der Unterseite des Heizers verbunden. Die Verformelemente sind insbesondere in der Lage, eine Bewegung normal zur Substratfixieroberfläche bzw. zur, insbesondere noch nicht verzerrten, Heizeroberfläche durchzuführen. Da die Verformelemente insbesondere mit der Heizerunterseite, insbesondere gelagert, verbunden sind, kann eine örtlich abhängige Kraft auf den Heizer aufgebracht werden. Diese örtlich aufgebrachte Kraft erlaubt die lokale Verformung des Heizers. Durch die individuelle Ansteuerung aller entsprechenden Verformelemente können alle technisch machbaren und gewünschten Heizeroberflächen eingestellt und damit die Temperaturverteilungen erzeugt werden. Insbesondere können auf diese Weise auch ungewünschte Verformungen des Heizers, die durch eine Vorrichtung, insbesondere eine Bondvorrichtung im Heizer erzeugt werden kompensiert bzw. rückgängig gemacht werden. Die Kompensation der ungeünschten Verformung des Heizers durch eine Durckbeaufschlagung führt dann insbesondere ebenfalls zu einer homogeneren Temperaturverteilung. In a preferred embodiment, there are several deformation elements on the side of the heater facing away from the heating surface. The deformation elements are in particular connected symmetrically, preferably in a grid, to the underside of the heater. The deforming elements are in particular able to carry out a movement normal to the substrate fixing surface or to the heater surface, in particular not yet distorted. Since the deformation elements are connected in particular to the underside of the heater, in particular mounted, a locally dependent force can be applied to the heater. This locally applied force allows the heater to be deformed locally. By individually controlling all the corresponding deformation elements, all technically feasible and desired heater surfaces can be set and the temperature distributions can thus be generated. In particular, undesired deformations of the heater that are generated by a device, in particular a bonding device, in the heater can also be compensated for or reversed in this way. Compensation of the Undesired deformation of the heater due to the application of pressure then also leads, in particular, to a more homogeneous temperature distribution.
In einer anderen bevorzugten Ausführungsform greifen Verformelmente vorzugsweise nur am Rand der Heizerrückseite an, während sich weitere Unterstützungselemente unverbunden unterhalb des Heizers befinden. Die unverbundenen Unterstützungselemente dienen der Unterstützung des Heizers. Obwohl sie mit dem Heizer nicht verbunden sind, können sie diesen dennoch auf Druck beanspruchen und lokal verformen. In another preferred embodiment, deformation elements preferably only attack the edge of the rear of the heater, while further support elements are unconnected below the heater. The unconnected support elements serve to support the heater. Although they are not connected to the heater, they can still subject it to pressure and deform it locally.
In einer anderen Ausführungsform sind vorzugsweise nur Verformelmente an der Peripherie des Heizers angeordnet, die über entsprechend starke Aktuatoren eine Verbiegung des Heizers am Rand erlauben. Gleichzeitig wird das Zentrum des Heizers von mindestens einem Fixierelement gestützt. In another embodiment, only deformation elements are preferably arranged on the periphery of the heater which, by means of correspondingly strong actuators, allow the heater to be bent at the edge. At the same time, the center of the heater is supported by at least one fixing element.
In einer anderen Ausführungsform sind Begrenzungselemente für den maximal erreichbaren Krümmungsradius des Heizers unterhalb des Heizers angeordnet. Bei den Begrenzungselementen handelt es sich beispielsweise um zentrisch ausgerichtete Ringe, insbesondere Tori (Anm.: Mehrzahl von Torus), noch bevorzugter um Kugeln. Beispielsweise können Verformelemente den Heizer auf Zug belasten, wobei die Begrenzungselemente die Krümmung des Heizers begrenzen. In another embodiment, limiting elements for the maximum achievable radius of curvature of the heater are arranged below the heater. The delimiting elements are, for example, centrally aligned rings, in particular tori (note: plural torus), more preferably spheres. For example, deforming elements can put a tensile load on the heater, the limiting elements limiting the curvature of the heater.
Alle Ausführungsformen der Vorrichtung können insbesondere mit einem Fluid, vorzugsweise einem Gas, am bevorzugtesten mit einem Gas hoher thermischer Leitfähigkeit, gespült werden, um den Wärmeübergang zwischen dem gekrümmten Heizer und anderen Bauteilen zu optimieren, insbesondere zu maximieren. Denkbar ist auch die Verwendung eines Fluidgemisches, insbesondere eines Gasgemisches. Insbesondere können vorzugsweise A A ~ • Gas, insbesondere o Edelgas, vorzugsweise All embodiments of the device can in particular be flushed with a fluid, preferably a gas, most preferably a gas of high thermal conductivity, in order to optimize, in particular to maximize, the heat transfer between the curved heater and other components. The use of a fluid mixture, in particular a gas mixture, is also conceivable. In particular, AA ~ • Gas, especially o noble gas, preferably
■ Helium, ■ helium,
■ Argon und/oder ■ Argon and / or
■ Krypton; o Molekulare Gase, vorzugsweise ■ krypton; o Molecular gases, preferably
■ Kohlenstoffdioxid und/oder ■ carbon dioxide and / or
■ Sauerstoff; ■ oxygen;
• Flüssigkeiten, insbesondere o Wasser und/oder o Öle. • Liquids, especially o water and / or o oils.
Die gennannten Fluide können zu Fluidgemischen kombiniert werden. Der Fluidstrom umspült insbesondere die Heizeroberfläche, um die Wärmekonvektion zwischen dem Heizer und insbesondere dem Podest zu optimieren. The fluids mentioned can be combined to form fluid mixtures. The fluid flow washes around the heater surface in particular in order to optimize the heat convection between the heater and in particular the platform.
In einer weiteren Ausführungsform ist auch eine Evakuierung des Raumes um den Heizer, also des Podests, möglich. Das Vakuum ist dabei kleiner als 100 mbar, vorzugsweise kleiner als 10"2 mbar, noch bevorzugter kleiner als 10"3 mbar, am bevorzugtesten weniger als 10"5mbar, am allerbevorzugtesten kleiner als 10'7 mbar. In a further embodiment, it is also possible to evacuate the space around the heater, that is to say the pedestal. The vacuum is less than 100 mbar, preferably less than 10 "2 mbar, even more preferably less than 10 " 3 mbar, most preferably less than 10 "5 mbar, most preferably less than 10 " 7 mbar.
Der Heizer kann insbesondere lokal verformt werden. Insbesondere sind auch globale, konvexe und konkave Verformungen möglich. Betrachtet man das Zentrum der Heizeroberfläche einmal im unverformten und einmal im verformten Zustand des Heizers, dann ist der Absolutbetrag der Distanz zwischen den Zentren als Krümmung definiert. Die Krümmung kann um mehr bevorzugtesten mehr als 5mm, am allerbevorzugtesten um mehr als 10mm geändert werden. The heater can in particular be deformed locally. In particular, global, convex and concave deformations are also possible. If one considers the center of the heater surface once in the undeformed and once in the deformed state of the heater, then the absolute amount of the distance between the centers is defined as the curvature. The curvature can do more preferably more than 5mm, most preferably by more than 10mm.
Verfahren Procedure
In einem ersten Verfahren zum Heizen eines Substrates insbesondere mit einer der zuvor beschriebenen Vorrichtung erfolgt eine örtlich aufgelöste Temperaturvermessung der Substratoberfläche, die über eine Regelschleife mit einer Steuerung des Heizers verbunden ist. Ziel ist die Einstellung einer gewünschten, insbesondere homogenen, Temperaturverteilung. Für viele Anwendungen kann aber gerade eine inhomogene aber symmetrische Temperaturverteilung gewünscht sein. Denkbar wäre beispielsweise die Einstellung einer radialsymmetrischen, inhomogenen Temperaturverteilung, bei der die Temperatur im Zentrum und am Rand ein Extremum einnimmt und dazwischen linear abnimmt. Damit können Substrate aktiv durch Temperaturkompensation so gedehnt werden, dass ein Verzerrungsfehler, auch als incoming run-out Fehler bezeichnet, aktiv vor der Kontaktierung mit einem zweiten Substrat kompensiert oder zumindest verringert werden kann. In a first method for heating a substrate, in particular with one of the devices described above, a locally resolved temperature measurement of the substrate surface takes place, which is connected to a control of the heater via a control loop. The aim is to set a desired, in particular homogeneous, temperature distribution. For many applications, however, an inhomogeneous but symmetrical temperature distribution can be desired. For example, it would be conceivable to set a radially symmetrical, inhomogeneous temperature distribution in which the temperature in the center and at the edge assumes an extreme and decreases linearly in between. In this way, substrates can be actively stretched by temperature compensation in such a way that a distortion error, also referred to as an incoming run-out error, can be actively compensated or at least reduced before contact is made with a second substrate.
In einem Verfahren zum Heizen können sämtliche der folgenden Prozessschritte durchgeführt werden, es können aber auch insbesondere einzelne Prozessschritte ausgelassen werden und insbesondere die Reihenfolge der Prozessschritte geändert werden. All of the following process steps can be carried out in a method for heating, but it is also possible, in particular, to omit individual process steps and, in particular, to change the sequence of the process steps.
In einem ersten Prozessschritt eines ersten Verfahrens wird ein Substrat auf einen Substrathalter geladen und fixiert. Der Substrathalter kann sich dabei bereits auf dem Podest befinden. Sollte sich der Substrathalter noch nicht auf dem Podest befinden, wird er nach der Fixierung dort aufgebracht und fixiert. In den meisten Fällen wird der Substrathalter bereits am Podest fixiert sein, wenn das Substrat geladen und fixiert wird. In einem zweiten Prozessschritt eines ersten Verfahrens wird ein Messsystem zur Vermessung der Temperaturverteilung an der Substratoberfläche positioniert und/oder aktiviert und/oder kalibriert. Denkbar ist, dass das Messsystem zur Vermessung der Temperaturverteilung bereits vor der Fixierung des Substrats und/oder des Substrathalters positioniert und/oder kalibriert und/oder aktiviert wurde. In diesem Fall entfällt der Prozessschritt. In a first process step of a first method, a substrate is loaded and fixed on a substrate holder. The substrate holder can already be on the pedestal. If the substrate holder is not yet on the pedestal, it is applied and fixed there after fixing. In most cases, the substrate holder will already be fixed to the pedestal when the substrate is loaded and fixed. In a second process step of a first method, a measuring system for measuring the temperature distribution on the substrate surface is positioned and / or activated and / or calibrated. It is conceivable that the measuring system for measuring the temperature distribution was already positioned and / or calibrated and / or activated before the substrate and / or the substrate holder were fixed. In this case, the process step is omitted.
In einem dritten Prozessschritt eines ersten Verfahrens erfolgt eine Aufnahme der Substratoberfläche mit dem Messsystem um die aktuelle Temperaturverteilung zu ermitteln. Da die Substrate meistens bei Raumtemperatur geladen und fixiert werden, und sich die Vorrichtung zu diesem Zeitpunkt im thermodynamischen Gleichgewicht mit der Umgebung befindet, ist davon auszugehen, dass die Temperaturverteilung mehr oder weniger homogen ist. In a third process step of a first method, the substrate surface is recorded with the measuring system in order to determine the current temperature distribution. Since the substrates are mostly charged and fixed at room temperature, and the device is in thermodynamic equilibrium with the environment at this point in time, it can be assumed that the temperature distribution is more or less homogeneous.
In einem vierten Prozessschritt eines ersten Verfahrens wird der Heizer aktiviert und auf eine gewünschte Temperatur eingestellt. Der Wärmetransport erfolgt nun durch den Heizer, die Substrathalteroberfläche Podest, den Substrathalter und das Substrat. In a fourth process step of a first method, the heater is activated and set to a desired temperature. The heat is now transported through the heater, the substrate holder surface pedestal, the substrate holder and the substrate.
In einem fünften Prozessschritt eines ersten Verfahrens erfolgt erneut die Vermessung der Substratoberfläche mit dem Messsystem, um die aktuelle Temperaturverteilung zu ermitteln. Im Unterschied zum dritten Prozessschritt wird die Temperaturverteilung nun im Allgemeinen inhomogen sein. Die Temperaturverteilung wird im fünften Prozessschritt daher nicht nur aufgenommen, sondern auch in einem Computersystem analysiert. Insbesondere erfolgt eine Erstellung eines Temperaturfeldes und daraus eines Temperaturgradientenfeldes. In einem sechsten Prozessschritt eines ersten Verfahrens wird nun der Heizer durch die Verformelemente so verformt, dass durch die Verformung die Wärmestrahlung und/oder Wärmeleitung so angepasst werden kann, dass das Temperaturfeld an der Substratoberfläche möglichst homogen wird. Nun erfolgt die Regelung zwischen vierten und fünften Prozessschritt, bis eine gewünschte, insbesondere eine möglichst homogene, Temperaturverteilung erreicht wird. In a fifth process step of a first method, the substrate surface is measured again with the measuring system in order to determine the current temperature distribution. In contrast to the third process step, the temperature distribution will now generally be inhomogeneous. The temperature distribution is therefore not only recorded in the fifth process step, but also analyzed in a computer system. In particular, a temperature field is created and a temperature gradient field is created therefrom. In a sixth process step of a first method, the heater is now deformed by the deforming elements in such a way that the deformation can be used to adapt the heat radiation and / or heat conduction so that the temperature field on the substrate surface becomes as homogeneous as possible. The regulation now takes place between the fourth and fifth process step until a desired, in particular as homogeneous as possible, temperature distribution is achieved.
In einem weiteren siebten Prozessschritt eines ersten Verfahrens erfolgt eine Weiterbehandlung des Substrats. Insbesondere kann das Substrat gebondet, photolithographisch belichtet, mit einer Prägemasse beschichtet und die Prägemasse geprägt werden. Weitere technisch sinnvolle Weiterbehandlungen des Substrates sind denkbar. In a further seventh process step of a first method, the substrate is further treated. In particular, the substrate can be bonded, exposed photolithographically, coated with an embossing compound and the embossing compound embossed. Further technically meaningful further treatments of the substrate are conceivable.
In einem zweiten Verfahren zum Heizen eines Substrates insbesondere mit einer der zuvor beschriebenen Vorrichtung wird eine ungewünschte Verformung des Heizers durch eine Verformung des Heizers kompensiert. Dabei können sämtliche der folgenden Prozessschritte durchgeführt werden, es können aber auch insbesondere einzelne Prozessschritte ausgelassen werden und insbesondere die Reihenfolge der Prozessschritte geändert werden. In a second method for heating a substrate, in particular with one of the devices described above, an undesired deformation of the heater is compensated for by a deformation of the heater. All of the following process steps can be carried out, but it is also possible, in particular, to omit individual process steps and, in particular, to change the order of the process steps.
In einem ersten Prozessschritt eines zweiten Verfahrens wird ein Substrat auf einen Substrathalter geladen und fixiert. Der Substrathalter kann sich dabei bereits auf dem Podest befinden. Sollte sich der Substrathalter noch nicht auf dem Podest befinden, wird er nach der Fixierung dort aufgebracht und fixiert. In den meisten Fällen wird der Substrathalter bereits am Podest fixiert sein, wenn das Substrat geladen und fixiert wird. In einem zweiten Prozessschritt eines zweiten Verfahrens erfolgt eine Druckbeaufschlagung, insbesondere innerhalb einer Bondvorrichtung, welche sich bis zum Heizer ausbreitet und diesen verformt. Eine solche indirekte und unerwünschte Verformung des Heizers erfolgt insbesondere durch die eine Kraftbeaufschlagung auf das Substrat bzw. den Substratstapel. In a first process step of a second method, a substrate is loaded and fixed on a substrate holder. The substrate holder can already be on the pedestal. If the substrate holder is not yet on the pedestal, it is applied and fixed there after fixing. In most cases, the substrate holder will already be fixed to the pedestal when the substrate is loaded and fixed. In a second process step of a second method, pressure is applied, in particular within a bonding device, which spreads to the heater and deforms it. Such an indirect and undesired deformation of the heater takes place in particular as a result of the application of force to the substrate or the substrate stack.
In einem dritten Prozessschritt eines zweiten Verfahrens wird die ungewünschte Verformung des Heizers erfasst. Dabei kann die ungewünschte Verforung insbesondere durch Sensoren oder sonstige Mitte ermittelt werden. Die tatsächlich aufgetretene und erfasste Verformung des Heizers wird insbesondere in Form von Daten erfasst und analysiert. Hierzu kann insbesondere eine elektronische Datenverarbeitungsvorrichtung verwendet werden. In a third process step of a second method, the undesired deformation of the heater is recorded. The undesired deformation can be determined in particular by sensors or other means. The deformation of the heater that has actually occurred and is recorded is recorded and analyzed in particular in the form of data. In particular, an electronic data processing device can be used for this purpose.
In einem vierten Prozessschritt eines zweiten Verfahrens wird der Heizer verformt, insbesondere durch die Elemente der Vorrichtung. Dabei wird die ungewünschte Verformung des Heizers vorzugsweise vollständig kompensiert oder zumindest verringert. Die Kompensation erfolgt vorzugsweise durch die ansteuerbaren Aktuatoren der Elemente. Denkbar ist auch, dass nicht eine vollstänidge Kompensation der Verformung durchgeführt wird sondern die unerwünschte Verformung des Heizer nur soweit kompensiert wird, dass sich ein gewünschtes Temperatur- und/oder Druckprofil einstellt. Denkbar ist auch, dass, abhängig von den gewählten Bondparametern die Verformung des Heizers bekannt ist, insbesondere weil eine vorherige Vermessung erfolgt ist. In diesem Fall ist es nicht notwendig auf Sensordaten während des Bondens zurückzugreifen. Eine Kompensation des Heizers kann auch bereits vor und/oder während der Druckbeaufschlagung erfolgen. Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie anhand der Zeichnungen. Die zeigen in: In a fourth process step of a second method, the heater is deformed, in particular by the elements of the device. The undesired deformation of the heater is preferably completely compensated for or at least reduced. The compensation is preferably carried out by the controllable actuators of the elements. It is also conceivable that the deformation is not fully compensated, but rather that the undesired deformation of the heater is only compensated to the extent that a desired temperature and / or pressure profile is established. It is also conceivable that, depending on the selected bonding parameters, the deformation of the heater is known, in particular because a previous measurement has taken place. In this case it is not necessary to access sensor data during bonding. The heater can also be compensated before and / or during the application of pressure. Further advantages, features and details of the invention emerge from the following description of preferred exemplary embodiments and on the basis of the drawings. The show in:
Figur la eine erste erfindungsgemäße Ausführungsform einer Vorrichtung zum Heizen eines Substrates in einer passiven Position,Figure la shows a first embodiment according to the invention of a device for heating a substrate in a passive position,
Figur lb die erste erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung in einer aktiven Position, Figure lb the first embodiment of the invention of the device in an active position,
Figur l c die erste erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung in einer belasteten Position, Figure lc the first embodiment of the invention of the device in a loaded position,
Figur 2 eine zweite erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung,Figure 2 shows a second embodiment of the device according to the invention,
Figur 3 eine dritte erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung und FIG. 3 shows a third embodiment of the device according to the invention and
Figur 4 eine vierte erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung.FIG. 4 shows a fourth embodiment of the device according to the invention.
In den Figuren sind gleiche Bauteile oder Bauteile mit der gleichen Funktion mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet. In the figures, the same components or components with the same function are identified by the same reference symbols.
Die Figur la zeigt eine erste Ausführungsform der Vorrichtung 1 in einem passiven Zustand, aufweisend ein Podest 2 mit einer Podestoberfläche 2o, wobei in dem Podest 2 ein Heizer 3 angeordnet ist und auf dem Podest 2 ein Substrathalter 5 abgelegt und/oder fixiert werden kann. Das eigentliche Substrat 6 wird auf dem Substrathalter 5 fixiert. Der Heizer 3 verfügt über Heizelemente 4, durch die Wärme erzeugt werden kann. Für die Ausführungsform ist die technische Umsetzung der Heizelemente 4 nicht von Relevanz. Der Heizer 3 wird insbesondere von einem Fixierelement 7 in seiner Höhe fixiert. Das Fixierelement 7 befindet sich im Zentrum, kann den Heizer 3 aber natürlich auch azentrisch und/oder peripher fixieren. FIG. 1 a shows a first embodiment of the device 1 in a passive state, having a pedestal 2 with a pedestal surface 2o, a heater 3 being arranged in the pedestal 2 and a substrate holder 5 being placed and / or fixed on the pedestal 2. The actual substrate 6 is fixed on the substrate holder 5. The heater 3 has heating elements 4 through which heat can be generated. The technical implementation of the heating elements 4 is not relevant to the embodiment. The heater 3 is fixed in its height in particular by a fixing element 7. The fixing element 7 is located in the center, but can of course also fix the heater 3 acentrically and / or peripherally.
In einer anderen, nicht dargestellten, Ausführungsform ist es möglich, dass das Fixierelement 7 bis zum Podest 2 reicht und in diesem fixiert wird um die Stabilität der Vorrichtung zu erhöhen. Der Übersichtlichkeit halber wird auf eine derartige Darstellung in den Figuren allerdings verzichtet. In another, not shown, embodiment, it is possible that the fixing element 7 extends to the platform 2 and is fixed in this around the Increase the stability of the device. For the sake of clarity, however, such a representation is dispensed with in the figures.
Das charakteristische Merkmal des Fixierelement 7 besteht darin, dass mindestens ein Punkt des Fleizers 3 unter einer Verformung fixiert bleibt, insbesondere nicht aktiv verformt wird. Bei einer peripheren Anordnung von Fixierelement 7 wären das insbesondere mehrere Punkte entlang eines Rings. Die Verformung des Heizers 3 erfolgt über Verformelemente 8, welche, insbesondere symmetrisch, über die Heizerunterseite 3u des Heizers 3 verteilt und mit dem Heizer 3 verbunden sind. The characteristic feature of the fixing element 7 is that at least one point of the Fleizer 3 remains fixed under a deformation, in particular is not actively deformed. In the case of a peripheral arrangement of the fixing element 7, this would in particular be several points along a ring. The deformation of the heater 3 takes place via deformation elements 8 which, in particular symmetrically, are distributed over the heater bottom 3u of the heater 3 and are connected to the heater 3.
In den Figuren wird ein relativ großer Freiraum 12 zwischen der Podestinnenoberfläche 2i und der Heizeroberfläche 3o dargestellt. Dieser Freiraum 12 wurde in den Figuren relativ groß abgebildet, um die Verformung des Heizers 3 besser darstellen zu können. In einigen Ausführungsformen können sich in diesem Freiraum 12 noch andere Bauteile befinden, insbesondere Platten zur Temperaturhomogenisierung. Alle diese Bauteile können insbesondere miteinander mechanisch verbunden sein. Bei einer Druckbeaufschlagung auf das Substrat 6 kann die Kraft bzw. der Druck über den Substrathalter 5, das Podest 2 bis auf den Heizer 3 geleitet werden und den Heizer 3 verformen. Insbesondere ist es möglich, dass durch eine Druckbeaufschlagung das Podest 2 und damit die Podestinnenoberfläche 2i so stark verformt werden, dass die Podestinnenoberfläche 2i die Heizeroberfläche 3o kontaktiert und somit die Kraft bzw den Druck auf den Heizer 3 überträgt und den Heizer 3 damit verformt. Insbesondere bei den Ausführungsformen, in denen das Fixierelement 7 mechanisch mit dem Heizer 3 und dem Podest 2 verbunden ist, führt dies zu einer starken Verformung des Heizers 3 bei der Druckbeaufschlagung auf das Substrat. In den Figuren wird bewusst auf die Darstellung einer mechanischen Verbindung zwischen dem Podest 2 und dem Heizer 3 verzichtet um die Übersichtlichkeit zu verbessern. Die Figur lb zeigt eine erste erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung 1 in einem aktiven Zustand. Die Verformelemente 8 werden positionsabhängig so verschoben, dass sich die Heizeroberfläche 3o verformt. Die Verformung der Heizeroberfläche 3o hat dabei so zu erfolgen, dass die Temperatur an der Substrathalteroberfläche 5o, vorzugsweise an der Substratoberfläche 6o, die gewünschte Verteilung, insbesondere eine homogene Verteilung, einnimmt. Optional kann ein Fluid, insbesondere in Form eines Fluidstroms 10, in das Podest 2 eingebracht werden, um den Heizer 3 zu umströmen. Vorzugsweise wird insbesondere die Wärmekonvektion zwischen der Heizeroberfläche 3o und dem Podest 2 optimiert, insbesondere erhöht. In the figures, a relatively large free space 12 is shown between the inner platform surface 2i and the heater surface 3o. This free space 12 has been shown relatively large in the figures in order to be able to show the deformation of the heater 3 better. In some embodiments, other components can also be located in this free space 12, in particular plates for temperature homogenization. All of these components can in particular be mechanically connected to one another. When pressure is applied to the substrate 6, the force or the pressure can be conducted via the substrate holder 5, the pedestal 2 to the heater 3 and deform the heater 3. In particular, it is possible that the platform 2 and thus the platform inner surface 2i are so strongly deformed by the application of pressure that the platform inner surface 2i contacts the heater surface 3o and thus transmits the force or pressure to the heater 3 and thus deforms the heater 3. In particular in the embodiments in which the fixing element 7 is mechanically connected to the heater 3 and the pedestal 2, this leads to a strong deformation of the heater 3 when pressure is applied to the substrate. In the figures, a mechanical connection between the pedestal 2 and the heater 3 is deliberately omitted in order to improve clarity. FIG. 1b shows a first embodiment of the device 1 according to the invention in an active state. The deforming elements 8 are shifted as a function of position in such a way that the heater surface 3o is deformed. The deformation of the heater surface 3o has to take place in such a way that the temperature on the substrate holder surface 5o, preferably on the substrate surface 6o, assumes the desired distribution, in particular a homogeneous distribution. Optionally, a fluid, in particular in the form of a fluid flow 10, can be introduced into the pedestal 2 in order to flow around the heater 3. In particular, the heat convection between the heater surface 3o and the pedestal 2 is preferably optimized, in particular increased.
Die Figur lc zeigt eine erste erfindungsgemäße Ausführungsform der Vorrichtung 1 in einem belasteten Zustand. Die zwei Substrate 6 werden von einer Druckvorrichtung 13 mit einer Kraft bzw. einem Druck beaufschlagt. Die Druckvorrichtung 13 besitzt dabei eine gewünschteFIG. 1c shows a first embodiment of the device 1 according to the invention in a loaded state. The two substrates 6 are acted upon by a pressure device 13 with a force or a pressure. The printing device 13 has a desired one
Druckvorrichtungsoberfläche 13o. Die Durckvorrichtungsoberfläche 13o kann eben oder konvex ausgebildet sein. Andere Formen oder sind ebenfalls denkbar. Es gibt unterschiedliche Gründe für die Form der Druckvorrichtungsoberfläche 13o. Denkbar wäre, dass sie bewusst gekrümmt gestaltet wurde. Denkbar ist, dass die hohen Kräfte der Druckvorrichtung 13 die Verformung verursachen. Eine weitere Möglichkeite wäre eine nicht perfekt eben erzeugte Druckvorrichtungsoberfläche 13o. Auf alle Fälle wird die, im allgemeinen beliebig geformte Druckvorrichtungsoberfläche 13o unterschiedlich stark auf die Substrate 6, den darunerliegenden Substrathalter 5, sowie das Podest 2 wirken. Bei einer entsprechend großen Verformung wird auch der darunter liegende Heizer 3 mitverformt. Der Heizer 3 wird insbesondere dann mitverformt, wenn eine mechanische Verbindung zwischen dem Heizer 3 und dem Podest 2 besteht. In diesem Fall wird der Heizer 3 durch die Druckvorrichtung 13 unerwünscht verformt und die Elemente (7, 8, 9 und 1 1) dienen der Gegenkompensation, insbesondere der Aufbringung einer Gegenkraft, welche die unerwünschte Verformung des Heizers 3 bestmöglich, insbesondere vollständig, kompensiert. Die Durchbiegungen und Verformungen der Bauteile 2, 3 ,5 und 13 sind der Übersichtlichkeit halber nicht maßstabsgetreu dargestellt. In der Anwendung werden die Durchbeigungen und Verformungen insbesondere im Nanometer- bis Millimeterbereich liegen. Die Figur lc stellt insbesondere einen Verformungszustand dar. Dem Fachmann auf dem Gebiet ist klar, dass sich der gewünschte Zustand dadurch auszeichnet, dass die Vorformung der Bauteile, insbesondere des Heizers 3, durch die Elemente (7, 8, 9, 1 1) vorzugsweise gänzlich kompensiert wird. Die von der Druckvorrichtung 13 aufbringbaren Kräfte sind größer als ION, vorzugsweise größer als 500N, noch bevorzugter größer als 1000N, am bevorzugtesten größer als 10000N, am allerbevorzugtesten größer als 100000N. Printing device surface 13o. The printing device surface 13o can be flat or convex. Other forms or are also conceivable. There are various reasons for the shape of the printing device surface 13o. It would be conceivable that it was deliberately designed to be curved. It is conceivable that the high forces of the pressure device 13 cause the deformation. Another possibility would be a printing device surface 13o that is not perfectly flat. In any case, the printing device surface 13o, which is generally arbitrarily shaped, will act differently on the substrates 6, the substrate holder 5 lying thereunder, and the pedestal 2. In the event of a correspondingly large deformation, the heater 3 located underneath is also deformed. The heater 3 is also deformed in particular when there is a mechanical connection between the heater 3 and the pedestal 2. In this case, the heater 3 is undesirably deformed by the pressure device 13 and the elements (7, 8, 9 and 11) are used for countercompensation, in particular for application a counterforce which compensates for the undesired deformation of the heater 3 as best as possible, in particular completely. The deflections and deformations of the components 2, 3, 5 and 13 are not shown to scale for the sake of clarity. In use, the sagging and deformations will be in the nanometer to millimeter range in particular. The figure lc in particular represents a state of deformation. It is clear to the person skilled in the art that the desired state is characterized in that the preforming of the components, in particular the heater 3, by the elements (7, 8, 9, 11) preferably is fully compensated. The forces that can be applied by the pressure device 13 are greater than ION, preferably greater than 500N, more preferably greater than 1000N, most preferably greater than 10,000N, most preferably greater than 100,000N.
In den weiteren Figuren wird auf die Darstellung des Substrathalters 5, des Substrats 6 und auf den Fluidstrom 10 verzichtet, da sich daraus keine relevanten Merkmale für die weiteren Ausführungsformen der Vorrichtungen 1 , 1 ', 1" und 1''' ergeben. In the further figures, the representation of the substrate holder 5, the substrate 6 and the fluid flow 10 is dispensed with, since this does not result in any relevant features for the further embodiments of the devices 1, 1 ' , 1 "and 1'"'.
Die Figur 2 zeigt eine zweite Ausführungsform der Vorrichtung 1 ', bei der es Verformelemente 8 gibt, die ausschließlich am Rand mit dem Heizer 3 verbunden sind. Weitere Unterstützungselemente 9 befinden sich, insbesondere symmetrisch verteilt, unterhalb des Heizers 3, sind mit diesem aber nicht verbunden. Die Unterstützungselemente 9 können gleichzeitig als Stützen dienen um den Heizer 3 im nicht belasteten Zustand zu stützen. Des Weiteren können die Unterstützungselemente 9 den Heizer 3 örtlich auf Druck aber nicht auf Zug beanspruchen. Im Übringen wird auf die Beschreibung zu den vorherigen Ausführungsformen verwiesen. FIG. 2 shows a second embodiment of the device 1 ′, in which there are deforming elements 8 which are connected to the heater 3 only at the edge. Further support elements 9 are located, in particular symmetrically distributed, below the heater 3, but are not connected to it. The support elements 9 can also serve as supports to support the heater 3 in the non-loaded state. Furthermore, the support elements 9 can place the heater 3 under pressure but not under tension. In the practice, reference is made to the description of the previous embodiments.
Die Figur 3 zeigt eine dritte Ausführungsform der Vorrichtung 1", bei der sich die Verformelemente 8 ausschließlich am Rand befinden. Das Fixierelement 7 fixiert den Heizer 3 vorzugsweise wieder zentrisch. Dadurch wird eine Ausführungsform geschaffen. die den Heizer 3 symmetrisch konkav und/oder konvex krümmen kann. Im Übringen wird auf die Beschreibung zu den vorherigen Ausführungsformen verwiesen. FIG. 3 shows a third embodiment of the device 1 ″, in which the deforming elements 8 are located exclusively on the edge. The fixing element 7 preferably fixes the heater 3 again in the center. This creates an embodiment which has the heater 3 symmetrically concave and / or can curve convexly. In the practice, reference is made to the description of the previous embodiments.
Die Figur 4 zeigt eine vierte Ausführungsform der Vorrichtung V " in der Begrenzungselemente 11 verwendet werden um die maximale Verbiegung des Heizers 3 nach unten zu Begrenzen. Im dargestellten Fall handelt es sich bei den Begrenzungselemente 1 1 um Kugeln deren Durchmesser mit der radialen Kugelposition abnimmt. Im Übringen wird auf die Beschreibung zu den vorherigen Ausführungsformen verwiesen. FIG. 4 shows a fourth embodiment of the device V ″ in which the limiting elements 11 are used to limit the maximum downward bending of the heater 3. In the case shown, the limiting elements 11 are balls whose diameter decreases with the radial ball position. In the practice, reference is made to the description of the previous embodiments.
/\ Vorrichtung und Verfahren zum Heizen eines Substrates / \ Apparatus and method for heating a substrate
B e zu g s z e i chenl i s t e 1, 1', 1", 1'" Vorrichtung References to 1, 1 ', 1 ", 1'" device
Podest 0 Podestoberfläche 1 Podestinnenoberfläche Platform 0 Platform surface 1 Platform inner surface
Heizer o Heizer ober fläche u Heizerunterseite Heater o Heater surface u Heater underside
Heizelemente Heating elements
Substrathalter o Substrathalter ober fläche Substrate holder o substrate holder surface
Substrat o Substratoberfläche Substrate o substrate surface
Fixierelement Fixing element
Verformelement Deformation element
Unterstützungselement 0 Fluidstrom 1 Begrenzungselement 2 Freiraum 3 Druckvorrichtung 3o Druckvorrichtungsoberfläche Support element 0 fluid flow 1 delimiting element 2 free space 3 pressure device 3o pressure device surface

Claims

Vorrichtung und Verfahren zum Heizen eines Substrates P at entan s p rü ch e Device and method for heating a substrate P at entan sp rü ch e
1. Vorrichtung (1, 1', 1", 1'") zum Heizen eines Substrates (6), aufweisend: i) Einen Heizer (3), ii) Einen Substrathalter (5) mit einer Substrathalteroberfläche (5o), wobei das zu erhitzende Substrat (6) auf der Substrathalteroberfläche (5o) auflegbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (1, 1', 1", lr") ferner aufweist: iii) Mittel (7, 8, 9, 11), zur Beaufschlagung des Heizers (3) mit Kräften, iv) Eine Steuereinheit zur Steuerung der Mittel (7, 8, 9, 11), wobei der Heizer (3) durch die Mittel (7, 8, 9) verformbar ist. 1. Device (1, 1 ', 1 ", 1'") for heating a substrate (6), comprising: i) a heater (3), ii) a substrate holder (5) with a substrate holder surface (5o), the The substrate (6) to be heated can be placed on the substrate holder surface (5o), characterized in that the device (1, 1 ', 1 ", 1 r ") further comprises: iii) means (7, 8, 9, 11), for applying forces to the heater (3), iv) a control unit for controlling the means (7, 8, 9, 11), the heater (3) being deformable by the means (7, 8, 9).
2. Vorrichtung (1 , 1 1 ", 1 " ') nach Anspruch 1 , wobei durch die Verformung des Heizers (3) durch die Mittel (7, 8 , 9, 11) eine Ist- Temperaturverteilung des Substrates (6) an eine Soll- Temperaturverteilung anpassbar ist. 2. Device (1, 1 1 ", 1" ') according to claim 1, wherein by the deformation of the heater (3) by the means (7, 8, 9, 11) an actual temperature distribution of the substrate (6) to a Target temperature distribution is adjustable.
3. Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1" ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei durch die Verformung des Heizers (3) durch die Mittel (7, 8, 9, 11) eine durch externe Kräfte bewirkte Verformung des Heizers (3) ausgleichbar ist. 3. Device (1, 1 ', 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the deformation of the heater (3) by the means (7, 8, 9, 11) is a deformation caused by external forces of the heater (3) can be compensated.
4. Vorrichtung (1 , 1 ', 1 ", 1" ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1" ') mindestens ein mit dem Heizer (3) verbundenes Verformelement (8) aufweist, wobei das mindestens eine Verformelement (8) mit mindestens einem Aktuator verbunden ist, so dass der Heizer (3) gezielt verformbar ist. 4. Device (1, 1 ', 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the device (1, 1 ', 1 ", 1 "' ) at least one deforming element connected to the heater (3) ( 8), the at least one deforming element (8) being connected to at least one actuator, so that the heater (3) can be deformed in a targeted manner.
5. Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1" ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Heizer (3) auf einer dem Substrat (6) gegenüberliegenden Seite der Substrathalteroberfläche (5o) angeordnet ist. 5. Device (1, 1 ', 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the heater (3) is arranged on a side of the substrate holder surface (5o) opposite the substrate (6).
6. Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1 '") nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Heizer (3) unabhängig von der Substrathalteroberfläche (5o) verformbar ist. 6. Device (1, 1 ', 1 ", 1'") according to at least one of the preceding claims, wherein the heater (3) is deformable independently of the substrate holder surface (5o).
7. Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1 '") nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1 '") ein Podest (2) aufweist, wobei der Substrathalter (5) auf einer Podestoberfläche (2o) des Podestes (2) angeordnet ist und der Heizer (3) in dem Podest (2) angeordnet ist. 7. Device (1, 1 ', 1 ", 1'") according to at least one of the preceding claims, wherein the device (1, 1 ', 1 ", 1'") has a pedestal (2), wherein the substrate holder ( 5) is arranged on a platform surface (2o) of the platform (2) and the heater (3) is arranged in the platform (2).
8. Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1" ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Heizer (3) ein flächig ausgebildetes Heizelement (4) oder mehrere flächig angeordnete Heizelemente (4) aufweist. 8. Device (1, 1 ', 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the heater (3) is flat formed heating element (4) or a plurality of flatly arranged heating elements (4).
9. Vorrichtung (1 , V , 1", 1" ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Vorrichtung (1 , D, 1" , 1"') mindestens ein Fixierelement (7) aufweist, wobei das mindestens eine Fixierelement (7) mit dem Heizer (3) verbunden ist und mindestens einen Punkt des Heizers (3) fixiert. 9. Device (1, V, 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the device (1, D, 1 " , 1"' ) has at least one fixing element (7), the at least one fixing element (7) is connected to the heater (3) and fixed at least one point of the heater (3).
10. Vorrichtung (1 , 1 ', 1 ", 1 " ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1 '") mindestens ein nicht mit dem Heizer (3) verbundenes Unterstützungselement (9) aufweist, wobei das mindestens eine Unterstützungselement (9) den Heizer (3) nur auf Druck beanspruchen kann und/oder nur die Verformung des Heizers (3) begrenzen kann.10. Device (1, 1 ', 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the device (1, 1 ', 1 ", 1 ' ") has at least one support element not connected to the heater (3) (9), wherein the at least one support element (9) can only load the heater (3) under pressure and / or can only limit the deformation of the heater (3).
1 1. Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1" ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Vorrichtung (1 , D, 1", D") mindestens ein nicht mit dem Heizer (3) verbundenes Begrenzungselement (1 1) aufweist, wobei das mindestens eine Begrenzungselement (1 1) die Verformung des Heizers (3) begrenzen kann und/oder durch die Form des Begrenzungselements (11) die Verformung vorgeben kann. 1 1. Device (1, 1 ', 1 ", 1"') according to at least one of the preceding claims, wherein the device (1, D, 1 ", D") has at least one limiting element (3) not connected to the heater (3). 1 1), wherein the at least one delimitation element (1 1) can limit the deformation of the heater (3) and / or can specify the deformation through the shape of the delimitation element (11).
12. Vorrichtung (1 , D, 1", 1 '") nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zwischen dem Heizer (3) und anderen Bauteilen, insbesondere zwischen dem Heizer (3) und dem Podest (2) und/oder zwischen dem Heizer (3) und dem Substrathalter (5), ein Fluidstrom (10) spülbar ist, insbesondere um den Wärmeübergang zwischen dem Heizer (3) und den anderen Bauteilen zu optimieren. 12. Device (1, D, 1 ", 1 '") according to at least one of the preceding claims, wherein between the heater (3) and other components, in particular between the heater (3) and the pedestal (2) and / or between the heater (3) and the substrate holder (5), a fluid flow (10) can be flushed, in particular to optimize the heat transfer between the heater (3) and the other components.
13. Vorrichtung (1 , D, 1", D") nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Vorrichtung (1 , 1 ', 1", \ " r) ferner aufweist: Eine Platte, wobei die Platte zwischen dem Heizer (3) und dem Substrathalter (5) angeordnet ist. 13. Device (1, D, 1 ", D") according to at least one of the preceding claims, wherein the device (1, 1 ', 1 ", \" r ) further comprises: A plate, the plate being arranged between the heater (3) and the substrate holder (5).
14. Verfahren zum Heizen eines Substrates (6), insbesondere zur Erzeugung einer vorgegebenen Soll-Temperaturverteilung in einem Substrat (6) und/oder zur Ausgleichung einer durch externe Kräfte bewirkte Verformung des Heizers (3), vorzugsweise mit einer Vorrichtung (1 , 1 ' , 1 ", 1 ' ' ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein Heizer (3) das Substrat (6) heizt und ein Substrathalter (5) das Substrat (6) auf eine Substrathalteroberfläche (5o) hält, dadurch gekennzeichnet, dass Mittel (7, 8, 9, 11) den Heizer (3) mit Kräften beaufschlagen, und wobei die Mittel (7, 8, 9, 11) von einer Steuereinheit gesteuert werden, und wobei der Heizer (3) durch die Mittel (7, 8, 9, 1 1) verformt wird. 14. A method for heating a substrate (6), in particular for generating a predetermined target temperature distribution in a substrate (6) and / or for compensating for a deformation of the heater (3) caused by external forces, preferably with a device (1, 1 ' , 1 ", 1 ''') according to at least one of the preceding claims, wherein a heater (3) heats the substrate (6) and a substrate holder (5) holds the substrate (6) on a substrate holder surface (5o), characterized that means (7, 8, 9, 11) act on the heater (3) with forces, and wherein the means (7, 8, 9, 11) are controlled by a control unit, and wherein the heater (3) by the means (7, 8, 9, 1 1) is deformed.
15. Verfahren nach Anspruch 14 mit den folgenden Schritten, insbesondere mit dem folgenden Ablauf: i) Positionieren und/oder Fixieren des Substrates (6) auf einer Substrathalteroberfläche (5o) eines Substrathalters (5), ii) Ermitteln einer Ist-Temperaturverteilung des Substrates, insbesondere auf der Substratoberfläche (6o), iii)Auf Grundlage einer Analyse der Ist-Temperaturverteilung im Vergleich zu einer Soll-Temperaturverteilung Verformen des Heizers (3) druch die Mittel (7, 8, 9, 11), wobei die Mittel (7, 8, 9, 1 1) durch die Steuereinheit gesteuert werden, so dass durch das Verformen des Heizers (3) die Ist- Temperaturverteilung des Substrates (6) gezielt an die vorgegebene Soll-Temperaturverteilung angepasst wird. 15. The method according to claim 14 with the following steps, in particular with the following sequence: i) positioning and / or fixing the substrate (6) on a substrate holder surface (5o) of a substrate holder (5), ii) determining an actual temperature distribution of the substrate , in particular on the substrate surface (6o), iii) On the basis of an analysis of the actual temperature distribution in comparison to a target temperature distribution, deforming the heater (3) by the means (7, 8, 9, 11), the means (7 , 8, 9, 11) can be controlled by the control unit, so that the actual temperature distribution of the substrate (6) is specifically adapted to the specified target temperature distribution by the deformation of the heater (3).
16. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 14 oder 15 mit den folgenden Schritten, insbesondere mit dem folgenden Ablauf: i) Positionieren und/oder Fixieren des Substrates (6) auf einer Substrathalteroberfläche (5o) eines Substrathalters (5), ii) Ermitteln einer durch externe Kräfte bewirkte Verformung des Heizers (3), insbesondere der Heizeroberfläche (3o), iii)Auf Grundlage einer Analyse der durch die externen Kräfte bewirkte Verformung des Heizers (3) Verformen des Heizers (3) durch die Mittel (7, 8, 9, 11), wobei die Mittel (7, 8, 9,16. The method according to at least one of claims 14 or 15 with the following steps, in particular with the following sequence: i) positioning and / or fixing the substrate (6) on a substrate holder surface (5o) of a substrate holder (5), ii) determining a Deformation of the heater (3) caused by external forces, in particular the heater surface (3o), iii) On the basis of an analysis of the deformation of the heater (3) caused by the external forces, deformation of the heater (3) by the means (7, 8, 9, 11), the means (7, 8, 9,
11) durch die Steuereinheit gesteuert werden, so dass durch das Verformen des Heizers (3) die durch externe Kräfte bewirkte Verfromung des Heizers (3) ausgeglichen wird. 11) can be controlled by the control unit, so that the deformation of the heater (3) caused by external forces is compensated for by the deformation of the heater (3).
17. Vorrichtung zum Bearbeiten und/oder zum Bonden eines Substrates (6), umfassend eine Vorrichtung (1, 1 ', 1", V") gemäß wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche. 17. Device for processing and / or for bonding a substrate (6), comprising a device (1, 1 ', 1 ", V") according to at least one of the preceding claims.
18. Verfahren zum Bearbeiten und/oder zum Bonden eines Substrates (6), insbesondere mit einer Vorrichtung (1 , 1 ', 1", 1 ' ' ') nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Substrat mit einem Verfahren gemäß wenigstes einem der Ansprüche 14, 15 und/oder 16 geheizt wird. 18. A method for processing and / or bonding a substrate (6), in particular with a device (1, 1 ', 1 ", 1 ''' ) according to at least one of the preceding claims, wherein the substrate with a method according to at least one of claims 14, 15 and / or 16 is heated.
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