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EP3183811A1 - Micro-acoustic component having improved temperature compensation - Google Patents

Micro-acoustic component having improved temperature compensation

Info

Publication number
EP3183811A1
EP3183811A1 EP15735958.9A EP15735958A EP3183811A1 EP 3183811 A1 EP3183811 A1 EP 3183811A1 EP 15735958 A EP15735958 A EP 15735958A EP 3183811 A1 EP3183811 A1 EP 3183811A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
layer
compensation layer
compensation
scf
component according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP15735958.9A
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Werner Ruile
Philipp Michael JÄGER
Matthias Knapp
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SnapTrack Inc
Original Assignee
SnapTrack Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SnapTrack Inc filed Critical SnapTrack Inc
Publication of EP3183811A1 publication Critical patent/EP3183811A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02818Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • H03H9/02834Means for compensation or elimination of undesirable effects of temperature influence
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02007Details of bulk acoustic wave devices
    • H03H9/02086Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • H03H9/02102Means for compensation or elimination of undesirable effects of temperature influence
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/125Driving means, e.g. electrodes, coils
    • H03H9/145Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
    • H03H9/14544Transducers of particular shape or position
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/462Microelectro-mechanical filters

Definitions

  • SAW surface acoustic wave
  • BAW bulk acoustic wave
  • the temperature coefficient of the center frequency (TCF) of SAW devices based on lithium tantalate (LT 42 ° red xy) is typically at e.g. -40 ppm / K.
  • TCF center frequency
  • Electrode materials do not remain without influence on the TCF.
  • the component has on the substrate top electrically conductive construction ⁇ element structures and on the bottom one
  • Compensating on which is mechanically firmly connected to the substrate so that a mechanical strain arises, or builds up when the temperature changes.
  • a Si0 2 layer is arranged over the component structures, which has a positive
  • Reflectivity of the electrodes is obtained only with heavy electrodes. This is unsatisfactory especially for SAW devices and insufficient for some applications.
  • a disadvantage of the temperature compensation with S1O 2 is further that its temperature compensation property is limited and by the use of S1O 2 a loss of electromechanical coupling and bandwidth, an increased Damping and the occurrence of unwanted spurious modes must be taken into account. This limits the effectively achievable TC compensation.
  • Object of the present invention is to provide new possibilities or new materials for the compensation of the temperature coefficient, with both the compensation is improved, and the associated disadvantages are reduced.
  • the invention is based on the recognition that among the materials with a negative coefficient of thermal expansion many materials can be found which have a positive temperature coefficient of their thermomechanical properties. Such materials can be used to compensate for a negative temperature coefficient of the thermomechanical properties, as is usually the case with piezoelectric materials.
  • the chemical compound is an inorganic transition metal compound or a
  • Such a device comprises at least one layer of a piezoelectric material having a pair of electrodes for exciting acoustic waves in the piezoelectric material.
  • the compensation layer is arranged on this device so that in the compensation layer
  • piezoelectric layer in which the acoustic wave is primarily generated.
  • Materials with negative coefficients of thermal expansion e.g. from the class dielectric
  • inorganic transition metal and rare earth compounds are surprisingly show a high positive temperature coefficient of their modulus of elasticity, so an increase in stiffness with increasing temperature, which is greater than the best known materials such as
  • Si02- With this high stiffness change or the associated positive temperature coefficient of the modulus of elasticity succeeds to a more effective compensation layer
  • the compensation layer is directly on the layer of the piezoelectric
  • Electrodes and compensation layer may be disposed on the same side of the piezoelectric layer. It is also possible, however, the
  • the compensation layer comprises as a rare earth compound with
  • a particularly high positive temperature coefficient of the modulus of elasticity can be achieved with an yttrium-doped one
  • the yttrium content of this compound is limited by the solubility of yttrium trifluoride in the scandium trifluoride, and theoretically may be higher if successful
  • This material shows in pure form a temperature coefficient of the modulus of about 1500 ppm / K. This temperature coefficient is more than five times as high as that of undoped S1O 2 , which is used in today's components as a compensation layer. In comparison to the previously proposed but not yet used fluorine doped S1O 2 , the temperature coefficient of the proposed yttrium-doped scandium trifluoride is more than twice as high.
  • the compensation layer has a temperature coefficient of the thermoelastic properties of> 700 ppm / K. These values are achieved by different of the mentioned materials with negative coefficients of thermal expansion.
  • the said material may be present in solid pure form, in doped form, as a mixed compound together with other oxides, halides or other crystalline compounds or it may be embedded in solid form in a crystalline matrix or preferably just in a glass. It is possible that a compensation layer which does not receive the negative expansion coefficient material in a pure form achieves a lower compensation effect than a compensation layer composed exclusively of said material. But it is also possible that a layered mixture or a layered doping even increases the desired effect. Mixtures with other substances or an embedding in a matrix may be advantageous in cases where the modification of the
  • Material is not directly suitable for layer deposition, or if layers so produced are mechanically and structurally unsuitable for remaining on the device.
  • the component is designed as a SAW component, that is to say as a component working with surface acoustic waves. It has at least one interdigital transducer on the piezoelectric layer. On the piezoelectric layer and over the interdigital transducer a compensation layer is deposited, the
  • Scandium trifluoride SCF 3 either doped (eg with YF 3 ), as mixed crystal with other oxides or halides or embedded in a crystalline matrix or in a glass.
  • the compensation layer with respect to the selection of the compensating material and with respect to its proportion in the compensation layer formed so that the temperature ⁇ coefficient of the center frequency, that is, the operative for the SAW device temperature-dependent value is already at a relative layer thickness of 5 - fully 15%
  • the relative layer thickness refers to the wavelength of a propagating ⁇ enabled in this material the acoustic wave, and outputs the layer thickness in
  • the relative layer thickness refers to the ratio of
  • the component can also be designed as a BAW component, wherein both possible embodiments are possible as SMR (solidly mounted resonator) or on the basis of resonators arranged via membranes.
  • SMR solidly mounted resonator
  • GBAW device working with guided volume waves
  • Component may be formed.
  • the devices may comprise an electrode material comprising one or more of known metals and alloys, semiconductors, and conductive borides, nitrides, carbides and mixed compounds.
  • the components according to the invention can be provided or designed for a very wide variety of applications.
  • the compensation layer comprises a material of oxide network formers.
  • These special network formers show a negative coefficient of thermal expansion, which is usually associated with an abnormal pressure behavior ("pressure softening") .
  • pressure softening an abnormal pressure behavior
  • these compounds also show an abnormal thermo-mechanical behavior, which also has a positive thermal expansion coefficient
  • Temperature coefficient of stiffness c and the modulus of elasticity is associated.
  • Figures 1 and 2 show in schematic cross section in each case a SAW device with compensation layer in
  • FIG. 3 shows a BAW component with compensation layer
  • FIG. 4 shows a GBAW component with compensation layer
  • FIG. 5 shows a further BAW component
  • FIG. 6 shows a SAW component
  • FIGS. 7a and 7b each show a SAW component with a structured compensation layer
  • FIGS. 8a to 8c show SAW or GBAW devices comprising one or more additional dielectric layers DS
  • FIG. 9 shows the course of the modulus of elasticity versus temperature in the system SC (i- X ) Y x F3 with different yttrium contents x.
  • FIG. 1 shows the simplest embodiment of a SAW component provided with a compensation layer KS. On a substrate which has at least one thin piezoelectric
  • Layer comprises, is a first electrode layer ELI
  • the substrate SU consists of lithium tantalate with a cut suitable for SAW generation and propagation.
  • LT42 has a temperature coefficient of elastic properties in the x-direction of about -40 ppm.
  • the electrode layer ELI is the
  • FIG. 2 shows a similar component in which the
  • BAW component Component in which a compensation layer KS is applied directly to a piezoelectric substrate SU.
  • a first electrode layer ELI On this exposed surface of the substrate SU is a first electrode layer ELI and on the exposed surface of the compensation layer KS is a second
  • Electrode layer EL2 arranged.
  • the thickness of Kompen ⁇ sations slaughter KS and substrate SU together determine the wavelength of the BAW device, so that at a given wavelength, a thicker compensation layer KS has a thinner substrate SU result to set the same resonance frequency in the BAW component.
  • Figure 4 shows another type of working with acoustic waves components, namely with guided
  • the compensation layer KS is arranged in a desired layer thickness.
  • Compensation layer KS applied cladding layer ML, the has a higher velocity v (ML) of the acoustic wave than the compensation layer v (KS):
  • the speed in turn, can be adjusted accordingly
  • FIG. 5 shows a BAW component with a first one
  • Electrode layer ELI Electrode layer ELI, a piezoelectric layer SU and a second electrode layer EL2, in which the
  • Electrode layers ELI, EL 2 is applied.
  • electrode layer ELI and the second electrode layer EL2.
  • Compensating layers can be mounted as SMR (solidly mounted resonator) directly on the substrate or in
  • FIG. 6 shows another GBAW device, in which the
  • the electrode layer ELI can also be provided with a cladding layer ML.
  • Figures 7a and 7b show possibilities, such as the acoustic properties of a with a compensation layer KS
  • SAW device can be further improved. Due to the low acoustic impedance difference between electrodes and compensation layer material
  • Piezo layer and electrodes or above the compensation ⁇ layer possible. 8a-8c show such example ⁇ liable versions.
  • a dielectric layer DS is present between the first electrode layer ELI and
  • FIG. 8b shows a dielectric layer DS over the cladding layer ML
  • FIG. 8c shows an embodiment which simultaneously has two dielectric layers DS1 and DS2, as shown individually already in FIGS. 8a and 8b.
  • Scandium-yttrium trifluorides such as stiffness, are in a similar range to the previously used Si0 2 layers. At slightly higher density than the S1O 2 is expected that the remaining component ⁇ properties are not adversely affected by the new compensation layer. Because of the better
  • components are conceivable which have more than one compensation layer, or even construction ⁇ elements, the other means for reducing the

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

For a component that operates by means of acoustic waves, the invention proposes the compensation of a negative temperature coefficient of the frequency by the provision of a compensation coating on the component, said coating comprising a material based on a chemical compound of at least two elements, the compound having a negative thermal expansion coefficient.

Description

Beschreibung description
Mikroakustisches Bauelement mit verbesserter Microacoustic device with improved
Temperaturkompensation temperature compensation
Die Eigenschaften von mit akustischen Wellen arbeitenden Bauelementen wie z.B. von SAW-Bauelementen (SAW = surface acoustic wave) oder BAW Bauelementen (BAW = bulk acoustic wave) zeigen in der Regel eine Abhängigkeit von der The properties of acoustic wave devices, e.g. of SAW components (SAW = surface acoustic wave) or BAW components (BAW = bulk acoustic wave) usually show a dependence on the
Temperatur. So liegt beispielsweise der Temperaturkoeffizient der Mittenfrequenz (TCF) von SAW Bauelementen auf der Basis von Lithiumtantalat (LT 42°rot xy) typisch bei z.B. -40 ppm/K. Unterschiedliche Substrate zeigen dabei Temperature. For example, the temperature coefficient of the center frequency (TCF) of SAW devices based on lithium tantalate (LT 42 ° red xy) is typically at e.g. -40 ppm / K. Different substrates show
unterschiedliche Temperaturkoeffizienten . different temperature coefficients.
Die thermische Ausdehnung dieser Materialien hat auch eine Senkung der Dichte p zur Folge und über die Beziehung The thermal expansion of these materials also results in a decrease in density p and in the relationship
v = V(c/ p )  v = V (c / p)
einen direkten Einfluss auf die Wellengeschwindigkeit v. a direct influence on the wave velocity v.
Dadurch kompensiert sich die durch die thermische Ausdehnung erhöhte Lauflänge für die Welle. Wesentlichen Einfluss auf die Frequenz hat aber vor allem die Tatsache, dass sich mit der Temperatur auch die Steifigkeit c ändert, die in den meisten Materialien und so auch im piezoeolektrischen This compensates for the increased by the thermal expansion run length for the shaft. However, the main factor influencing the frequency is the fact that the temperature also changes the stiffness c, which in most materials and thus in the piezoelectric
Material mit ansteigender Temperatur abnimmt. Weiterhin sind auch der Piezotensor und die Permittivität des Substrats temperaturabhängig und tragen somit zum Temperaturkoeffizienten bei. Auch die Steifigkeitsänderung der Material decreases with increasing temperature. Furthermore, the piezoelectric sensor and the permittivity of the substrate are temperature-dependent and thus contribute to the temperature coefficient. Also, the stiffness change of
Elektrodenmaterialeien bleibt nicht ohne Einfluss auf den TCF. Electrode materials do not remain without influence on the TCF.
Als Problem ergibt sich daraus, dass Fertigungstoleranzen bei mit akustischen Wellen arbeitenden Bauteilen enger werden, um zum Beispiel die Bandbreiten von Filtern um die The problem arises from the fact that manufacturing tolerances in working with acoustic waves components become closer to for example, the bandwidths of filters around the
temperaturabhängigen Schwankungen zu erhöhen. Bei eng to increase temperature-dependent fluctuations. At tight
benachbarten Frequenzbändern erschwert dies die Selektivität bzw. führt bei der Produktion zu einem höheren Anteil an Bauteilen, die die erforderlichen Spezifikationen nicht mehr einhalten. Andere Spezifikationen können ohne Maßnahmen zur Kompensation des TCF nicht mehr erfüllt werden. adjacent frequency bands makes this more difficult to select or results in a higher proportion of components that no longer meet the required specifications. Other specifications can no longer be met without compensating the TCF.
In dem US Patent 7,589,452 B2 wird ein mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement vorgeschlagen, welches verschiedeneIn US Pat. No. 7,589,452 B2, an acoustic wave device is proposed, which has various types
Maßnahmen zur Absenkung des Temperaturgangs (TK Kompensation) insbesondere der Resonanzfrequenz kombiniert. Das Bauelement weist auf der Substratoberseite elektrisch leitende Bau¬ elementstrukturen und auf der Unterseite eine Measures for lowering the temperature response (TC compensation) in particular the resonance frequency combined. The component has on the substrate top electrically conductive construction ¬ element structures and on the bottom one
Kompensationsschicht auf, die mechanisch fest so mit dem Substrat verbunden ist, dass eine mechanische Verspannung entsteht, oder sich bei Temperaturänderung aufbaut. Compensating on, which is mechanically firmly connected to the substrate so that a mechanical strain arises, or builds up when the temperature changes.
Als weitere Maßnahme ist über den Bauelementstrukturen eine Si02-Schicht angeordnet, die einen positiven As a further measure, a Si0 2 layer is arranged over the component structures, which has a positive
Temperaturkoeffizient ihrer thermoelastischen Eigenschaften aufweist, der den negativen Temperaturkoeffizienten der meisten Substratmaterialien wie z.B. LT oder LN  Temperature coefficient of their thermoelastic properties, the negative temperature coefficient of most substrate materials such. LT or LN
(Lithiumniobat ) kompensiert. (Lithium niobate) compensated.
Nachteilig an dieser Lösung ist, dass die erforderliche The disadvantage of this solution is that the required
Reflektivität der Elektroden nur mit schweren Elektroden erhalten wird. Dies ist insbesondere für SAW Bauelemente unbefriedigend und für einige Anwendungen unzureichend. Reflectivity of the electrodes is obtained only with heavy electrodes. This is unsatisfactory especially for SAW devices and insufficient for some applications.
Nachteilig bei der Temperaturkompensation mit S1O2 ist weiterhin, dass dessen Temperaturkompensationseigenschaft beschränkt ist und durch den Einsatz von S1O2 ein Verlust an elektromechanischer Kopplung und Bandbreite, eine erhöhte Dämpfung als auch das Auftreten ungewünschter Störmoden in Kauf genommen werden muss. Dies beschränkt die effektiv erreichbare TK-Kompensation . A disadvantage of the temperature compensation with S1O 2 is further that its temperature compensation property is limited and by the use of S1O 2 a loss of electromechanical coupling and bandwidth, an increased Damping and the occurrence of unwanted spurious modes must be taken into account. This limits the effectively achievable TC compensation.
Auch andere Schichten mit positivem Temperaturkoeffizienten wie z.B. GeÜ2 und Fluor- oder Bor-dotiertes S1O2 wurden bereits zur Kompensation der temperaturabhängigen Other layers with a positive temperature coefficient such as GeÜ 2 and fluorine- or boron-doped S1O 2 have already been used to compensate for the temperature-dependent
Eigenschaften vorgeschlagen. Properties proposed.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, neue Möglichkeiten bzw. neue Materialien zur Kompensation des Temperaturkoeffizienten anzugeben, mit der sowohl die Kompensation verbessert wird, als auch die damit verbundenen Nachteile reduziert werden. Object of the present invention is to provide new possibilities or new materials for the compensation of the temperature coefficient, with both the compensation is improved, and the associated disadvantages are reduced.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Bauelement den Merkmalen nach Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte This object is achieved by a device according to the features of claim 1. advantageous
Ausgestaltungen der Erfindung sind den Unteransprüchen entnehmen . Embodiments of the invention are described in the dependent claims.
Die Erfindung basiert auf der Erkenntnis, dass unter den Materialien mit einem negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten viele Materialen aufgefunden werden können, die einen positiven Temperaturkoeffizienten ihrer thermomechanischen Eigenschaften aufweisen. Solche Materialien können zur Kompensation eines negativen Temperaturkoeffizienten der thermomechanischen Eigenschaften eingesetzt werden, wie es in der Regel bei piezoelektrischen Materialien auftritt . The invention is based on the recognition that among the materials with a negative coefficient of thermal expansion many materials can be found which have a positive temperature coefficient of their thermomechanical properties. Such materials can be used to compensate for a negative temperature coefficient of the thermomechanical properties, as is usually the case with piezoelectric materials.
Es wird vorgeschlagen, auf einem mit akustischen Wellen arbeitenden Bauelement eine Kompensationsschicht It is proposed on a working with acoustic waves device, a compensation layer
aufzubringen, die ein dielektrisches Material auf der Basis einer chemischen Verbindung mindestens zweier Elemente umfasst, welche einen negativen thermischen Ausdehnungs¬ koeffizienten aufweist. Gemäß einer Ausführung ist die chemische Verbindung eine anorganische Übergangsmetallverbindung oder eine Apply a dielectric material on the base a chemical compound comprising at least two elements, which has a negative thermal expansion ¬ coefficient. According to one embodiment, the chemical compound is an inorganic transition metal compound or a
Seltenerdverbindung. Aber es sind auch Verbindungen anderer Substanzklassen geeignet. Ein solches Bauelement umfasst zumindest eine Schicht eines piezoelektrischen Materials mit einem Elektrodenpaar zur Anregung von akustischen Wellen in dem piezoelektrischen Material. Die Kompensationsschicht ist auf diesem Bauelement so angeordnet, dass sich in der Kompensationsschicht Rare earth compound. But compounds of other substance classes are also suitable. Such a device comprises at least one layer of a piezoelectric material having a pair of electrodes for exciting acoustic waves in the piezoelectric material. The compensation layer is arranged on this device so that in the compensation layer
zumindest ein Teil der Energie der akustischen Welle at least part of the energy of the acoustic wave
befindet. Dies erfordert eine relative Nähe zur located. This requires relative proximity to the
piezoelektrischen Schicht, in der die akustische Welle primär erzeugt wird. Materialien mit negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten die z.B. aus der Klasse dielektrischer piezoelectric layer in which the acoustic wave is primarily generated. Materials with negative coefficients of thermal expansion, e.g. from the class dielectric
anorganischer Übergangs-metall und Seltenerdverbindungen ausgewählt sind, zeigen überraschenderweise einen hohen positiven Temperaturkoeffizienten ihres E-Moduls, also eine Steifigkeitserhöhung mit zunehmender Temperatur, die größer ist als die besten bisher bekannten Materialien wie inorganic transition metal and rare earth compounds are surprisingly show a high positive temperature coefficient of their modulus of elasticity, so an increase in stiffness with increasing temperature, which is greater than the best known materials such as
beispielsweise das für diesen Zweck bislang eingesetzte Si02- Mit dieser hohen Steifigkeitsänderung beziehungsweise dem dazugehörigen positiven Temperaturkoeffizienten des E-Moduls gelingt es, eine effektivere Kompensationsschicht zu For example, the previously used for this purpose Si02- With this high stiffness change or the associated positive temperature coefficient of the modulus of elasticity succeeds to a more effective compensation layer
realisieren . Damit ist es weiterhin möglich, Temperaturkoeffizienten der Frequenz vollständig zu kompensieren und noch dazu mit einer Kompensationsschicht einer geringeren Dicke als die bisher bekannten Materialien. Mit einer dünneren Kompensations- schicht werden dabei gleichzeitig die Probleme der bisherigen bekannten Kompensationsschichten reduziert. Insbesondere werden die nachteiligen Effekte wie die Reduktion der realize. Thus, it is also possible to completely compensate for temperature coefficients of the frequency and even more so with a compensation layer of a smaller thickness than the previously known materials. At the same time, the problems of the previously known compensation layers are reduced with a thinner compensation layer. In particular, the adverse effects such as the reduction of
piezoelektrischen Kopplung und der mit der Kompensationsschicht in Kauf zu nehmenden akustischen Dämpfung geringer. piezoelectric coupling and with the compensation layer to be accepted acoustic attenuation lower.
Ein weiterer Vorteil der aufgefundenen Verbindungsklasse besteht darin, dass sich die Verbindungen in der Regel mit herkömmlichen aus der Halbleitertechnik bekannten Another advantage of the class of compounds found is that the compounds are typically known in conventional semiconductor art
Abscheideverfahren in kontrollierter Weise aufbringen lassen. Damit sind sie auch verfahrenstechnisch gut geeignet, um auf einem mit akustischen Wellen arbeitenden Bauelement Apply deposition in a controlled manner. Thus, they are also technically well suited to work on a working with acoustic waves device
aufgebracht zu werden. to get upset.
In einer Ausgestaltung der Erfindung wird die Kompensations- schicht direkt auf der Schicht des piezoelektrischen In one embodiment of the invention, the compensation layer is directly on the layer of the piezoelectric
Materials aufgebracht. Elektroden und Kompensationsschicht können auf der gleichen Seite der piezoelektrischen Schicht angeordnet sein. Möglich ist es jedoch auch, die  Applied material. Electrodes and compensation layer may be disposed on the same side of the piezoelectric layer. It is also possible, however, the
Kompensationsschicht unterhalb der piezoelektrischen Schicht und die Elektroden oberhalb der piezoelektrischen Schicht anzuordnen. Weiterhin ist es möglich, die Elektroden zwischen piezoelektrischer Schicht und Kompensationsschicht Compensation layer below the piezoelectric layer and to arrange the electrodes above the piezoelectric layer. Furthermore, it is possible to use the electrodes between the piezoelectric layer and the compensation layer
vorzusehen. Eine weitere prinzipiell mögliche Variante besteht darin, die Elektroden auf der Kompensationsschicht aufzubringen, die wiederum auf der piezoelektrischen Schicht abgeschieden ist. In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst die Kompensationsschicht als Seltenerdverbindung mit provided. Another possible variant is to apply the electrodes to the compensation layer, which in turn is deposited on the piezoelectric layer. In a preferred embodiment of the invention, the compensation layer comprises as a rare earth compound with
negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten ein Glas, das auf Scandiumtrifluorid SCF3 basiert. Dieses Material ist ausreichend hart, mechanisch stabil und lässt sich sehr gut abscheiden . negative thermal expansion coefficient a glass based on scandium trifluoride SCF 3 . This material is sufficiently hard, mechanically stable and can be deposited very well.
Ein besonders hoher positiver Temperaturkoeffizient des E- Moduls lässt sich mit einem Yttrium-dotierten A particularly high positive temperature coefficient of the modulus of elasticity can be achieved with an yttrium-doped one
Scandiumtrifluorid der Formel SC(i-X)YxF3 erzielen, wobei der durch den Koeffizienten x ausgedrückte Yttriumanteil -S 0,25 eingestellt ist, so dass die Beziehung 0 < x -S 0,25 gilt. Scandium trifluoride of the formula SC (i- X ) Y x F 3 , wherein the expressed by the coefficient x yttrium content -S 0,25 is set, so that the relationship 0 <x -S 0,25 applies.
Der Yttriumgehalt dieser Verbindung ist durch die Löslichkeit von Yttriumtrifluorid in dem Scandiumtrifluorid begrenzt und kann theoretisch auch höher sein, wenn es gelingt The yttrium content of this compound is limited by the solubility of yttrium trifluoride in the scandium trifluoride, and theoretically may be higher if successful
entsprechende Materialien herzustellen. produce appropriate materials.
Besonders positive und vorteilhafte Eigenschaften zeigt ein Yttrium-dotiertes Scandiumtrifluorid mit einem Yttriumanteil von ca. 20 %, bei dem also gilt: x = 0,2. Dieses Material zeigt in Reinform einen Temperaturkoeffizienten des E-Moduls von ca. 1500 ppm/K. Dieser Temperaturkoeffizienten ist mehr als fünfmal so hoch wie der von undotiertem S1O2, welches bei heutigen Bauelementen als Kompensationsschicht Anwendung findet. Im Vergleich zu dem bisher nur vorgeschlagenen aber überhaupt noch nicht eingesetzten fluordotiertem S1O2 liegt der Temperaturkoeffizient des vorgeschlagenen Yttriumdotierten Scandiumtrifluorids mehr als doppelt so hoch. Für eine daraus hergestellte Kompensationsschicht bedeutet dies, dass der gleiche Kompensationseffekt mit einer nur halb so hohen Schichtdicke erreicht wird, als dies bisher bei bekannten Kompensationsmaterialien der Fall war. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist die Kompensationsschicht einen Temperaturkoeffizienten der thermoelastischen Eigenschaften von > 700 ppm/K auf. Diese Werte werden von verschiedenen der genannten Materialien mit negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten erreicht. Particularly advantageous and advantageous properties are exhibited by an yttrium-doped scandium trifluoride having an yttrium content of about 20%, in which therefore x = 0.2. This material shows in pure form a temperature coefficient of the modulus of about 1500 ppm / K. This temperature coefficient is more than five times as high as that of undoped S1O 2 , which is used in today's components as a compensation layer. In comparison to the previously proposed but not yet used fluorine doped S1O 2 , the temperature coefficient of the proposed yttrium-doped scandium trifluoride is more than twice as high. For a compensation layer produced therefrom, this means that the same compensation effect is achieved with a layer thickness that is only half as high as was previously the case with known compensation materials. According to a preferred embodiment, the compensation layer has a temperature coefficient of the thermoelastic properties of> 700 ppm / K. These values are achieved by different of the mentioned materials with negative coefficients of thermal expansion.
Mit den vorgeschlagenen Verbindungen können auch With the proposed compounds can also
Kompensationsschichten mit einem Temperaturkoeffizienten der thermoelastischen Eigenschaften von > 1000 ppm/K erhalten werden . Compensation layers with a temperature coefficient of the thermoelastic properties of> 1000 ppm / K can be obtained.
Das genannte Material kann dabei in fester Reinform, in dotierter Form, als Mischverbindung zusammen mit anderen Oxiden, Halogeniden oder anderen kristallinen Verbindungen vorliegen oder es kann in fester Form in eine kristalline Matrix oder vorzugsweise eben in ein Glas eingebettet sein. Es ist möglich, dass eine Kompensationsschicht, die das Material mit negativem Ausdehnungskoeffizienten nicht in Reinform erhält, einen geringeren Kompensationseffekt erzielt als eine Kompensationsschicht, die ausschließlich aus dem genannten Material besteht. Es ist aber auch möglich, dass eine geschichtete Mischung oder eine geschichtete Dotierung den gewünschten Effekt sogar erhöht. Mischungen mit anderen Substanzen oder eine Einbettung in eine Matrix können in den Fällen von Vorteil sein, in denen die Modifikation des The said material may be present in solid pure form, in doped form, as a mixed compound together with other oxides, halides or other crystalline compounds or it may be embedded in solid form in a crystalline matrix or preferably just in a glass. It is possible that a compensation layer which does not receive the negative expansion coefficient material in a pure form achieves a lower compensation effect than a compensation layer composed exclusively of said material. But it is also possible that a layered mixture or a layered doping even increases the desired effect. Mixtures with other substances or an embedding in a matrix may be advantageous in cases where the modification of the
Materials nicht direkt zur Schichtabscheidung geeignet ist, bzw. wenn so erzeugte Schichten mechanisch und strukturell zum Verbleib auf dem Bauelement ungeeignet sind. Material is not directly suitable for layer deposition, or if layers so produced are mechanically and structurally unsuitable for remaining on the device.
Der Begriff Schichtbildung bezieht sich dabei auf eine für ein Bauelement geeignete Schicht einer ausreichenden Härte und einer geeigneten physikalischen Konsistenz. In einer Ausführungsform ist das Bauelement als SAW- Bauelement, also als ein mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bauelement ausgebildet. Es weist zumindest einen interdigitalen Wandler auf der piezoelektrischen Schicht auf. Auf der piezoelektrischen Schicht und über dem interdigitalen Wandler ist eine Kompensationsschicht abgeschieden, die The term layer formation refers to a suitable for a device layer of sufficient hardness and a suitable physical consistency. In one embodiment, the component is designed as a SAW component, that is to say as a component working with surface acoustic waves. It has at least one interdigital transducer on the piezoelectric layer. On the piezoelectric layer and over the interdigital transducer a compensation layer is deposited, the
Scandiumtrifluorid SCF3 enthält, entweder dotiert (z. B. mit YF3) , als Mischkristall mit anderen Oxiden oder Halogeniden oder eingebettet in eine kristalline Matrix oder in ein Glas. Die Kompensationsschicht ist bezüglich der Auswahl des kompensierenden Materials und bezüglich dessen Anteil in der Kompensationsschicht so ausgebildet, dass der Temperatur¬ koeffizient der Mittenfrequenz, also der für das SAW- Bauelement maßgebliche temperaturabhängige Wert bereits bei einer relativen Schichtdicke von 5 - 15 % vollständig Scandium trifluoride SCF 3 , either doped (eg with YF 3 ), as mixed crystal with other oxides or halides or embedded in a crystalline matrix or in a glass. The compensation layer with respect to the selection of the compensating material and with respect to its proportion in the compensation layer formed so that the temperature ¬ coefficient of the center frequency, that is, the operative for the SAW device temperature-dependent value is already at a relative layer thickness of 5 - fully 15%
kompensiert ist. Die relative Schichtdicke bezieht sich dabei auf die Wellenlänge einer in diesem Material ausbreitungs¬ fähigen akustischen Welle und gibt die Schichtdicke in is compensated. The relative layer thickness refers to the wavelength of a propagating ¬ enabled in this material the acoustic wave, and outputs the layer thickness in
Prozent der Wellenlänge an. Percent of the wavelength.
Es gibt auch Problemstellungen, die eine Überkompensation des TK erfordern, so dass auch eine höhere Schichtdicke der There are also problems that require overcompensation of the TK, so that a higher layer thickness of the
Kompensationsschicht eingestellt werden kann. Die relative Schichtdicke bezieht sich dabei auf das Verhältnis der Compensation layer can be adjusted. The relative layer thickness refers to the ratio of
Schichtdicke zur Wellenlänge der im Material ausbreitungs¬ fähigen akustischen Welle bei Mittenfrequenz des Bauelements. Die Schichtdicke einer solchen erfindungsgemäßen Layer thickness to the wavelength of the material propagation ¬ enabled acoustic wave at the center frequency of the device. The layer thickness of such inventive
Kompensationsschicht ist geringer als die herkömmlicher Compensation layer is lower than the conventional one
Kompensationsschichten. Dennoch kann eine vollständige Compensation layers. Nevertheless, a complete
Kompensation des Temperaturkoeffizienten der Mittenfrequenz erreicht werden. Das Bauelement kann auch als BAW Bauelement ausgebildet sein, wobei beide möglichen Ausführungen als SMR (solidly mounted resonator) oder auf der Basis von über Membranen angeordneten Resonatoren möglich sind. Weiter kann das Bauelement als GBAW Bauelement (mit geführten Volumenwellen arbeitendes Compensation of the temperature coefficient of the center frequency can be achieved. The component can also be designed as a BAW component, wherein both possible embodiments are possible as SMR (solidly mounted resonator) or on the basis of resonators arranged via membranes. Next, the device as GBAW device (working with guided volume waves
Bauelement) ausgebildet sein. Component) may be formed.
Die Bauelemente können ein Elektrodenmaterial aufweisen, das eines oder mehrere aus bekannten Metallen und Legierungen, Halbleitern sowie aus leitfähigen Boriden, Nitriden, Carbiden und Mischverbindungen umfasst. The devices may comprise an electrode material comprising one or more of known metals and alloys, semiconductors, and conductive borides, nitrides, carbides and mixed compounds.
Die erfindungsgemäßen Bauelemente können für die verschiedensten Anwendungen vorgesehen bzw. ausgelegt werden. Möglich ist beispielsweise eine Verwendung der erfindungsgemäßen Bauelemente als Resonator, DMS Filter oder Laddertypefilter . The components according to the invention can be provided or designed for a very wide variety of applications. For example, it is possible to use the components according to the invention as a resonator, DMS filter or ladder type filter.
In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Kompensationsschicht ein Material aus oxidischen Netzwerkbildnern. Diese speziellen Netzwerkbildner zeigen einen negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten, welcher meist auch mit einem anormalen Druckverhalten („pressure softening") einhergeht. Derartige Verbindungen zeigen auch ein anormales thermo- mechanisches Verhalten, das auch mit einem positiven In a further embodiment, the compensation layer comprises a material of oxide network formers. These special network formers show a negative coefficient of thermal expansion, which is usually associated with an abnormal pressure behavior ("pressure softening") .These compounds also show an abnormal thermo-mechanical behavior, which also has a positive thermal expansion coefficient
Temperaturkoeffizienten der Steifigkeit c und des E-Moduls einhergeht . Temperature coefficient of stiffness c and the modulus of elasticity is associated.
Bekannt für ihr besonders stark anormales thermomechanisches Verhalten und ihren positiven Temperaturkoeffizienten der Steifigkeit c und des E-Moduls sind insbesondere die iso¬ strukturellen Wolframate ZrW2Ü8 und HfW20s. Für ZrW2Ü8 wurde bereits dessen anormales thermomechanisches Verhalten der elastischen Konstanten nachgewiesen. Weitere Beispiele für oxidische Netzwerkbildner mit negativem thermischen Ausdehnungskoeffizienten sind Z rMo20s , HfMo20s , S CW3O12 , AIW3O12 , Zr (W04) (P04) 2 . Known for their particularly strong abnormal thermomechanical behavior and their positive temperature coefficient of stiffness c and the modulus of elasticity are in particular the iso ¬ structural tungstates ZrW2Ü8 and HfW20s. For ZrW2Ü8 its abnormal thermomechanical behavior of the elastic constants has already been detected. Further examples of oxidic network formers with negative coefficients of thermal expansion are Z rMo20s, HfMo20s, S CW3O12, AlW3O12, Zr (W0 4 ) (P0 4 ) 2.
Auch aus anderen Substanzklassen sind Materialien mit negativem thermischen Ausdehnungskoeffizienten bekannt, wie etwa viele Zeolithe oder B2O3 . Nichtoxidische Netzwerkbildner bzw. Glasbildner, die Also from other classes of substances materials with a negative coefficient of thermal expansion are known, such as many zeolites or B2O 3 . Non-oxidic network formers or glass formers, the
vergleichbare Eigenschaften wie oben genannt aufweisen, sind fluorbasierte Verbindungen S cF3 -BaF2 ~ YF3 , S cF3 -BaF2 ~ Z nF2 , S CF3 - BaF2-InF3, ScF3-MgF2, YbF3-ScF3, LuF3-ScF3, Zn(CN)2 und BeF2 sowie einige Cyanide wie z.B. Zn(CN) 2 - Alle diese are fluorine-based compounds S cF 3 -BaF 2 - YF 3 , S cF 3 -BaF 2 - Z nF 2, S CF 3 - BaF 2 - InF 3 , ScF 3 -MgF 2 , YbF 3 - SF 3 , LuF 3 -ScF 3 , Zn (CN) 2 and BeF 2 and some cyanides such as Zn (CN) 2 - All of these
Verbindungen weisen negative Temperaturkoeffizienten der thermischen Ausdehnung aus und sind daher prinzipiell auch zur Verwendung in Kompensationsschichten auf mit akustischen Wellen arbeitenden Bauelementen geeignet. Im Gegensatz dazu zeigen typische Glasbildner wie S 1 O2 , GeÜ2 , B2O3 usw. ein PTE Verhalten (positive thermal expansion) , wenn auch ein Compounds exhibit negative temperature coefficients of thermal expansion and are therefore in principle also suitable for use in compensation layers on components working with acoustic waves. In contrast, typical glass formers such as S 1 O 2, GeO 2, B2O 3 , etc., exhibit a PTE (positive thermal expansion) behavior, albeit one
geringes . low.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungs¬ beispielen und der dazugehörigen Figuren näher erläutert. Die Figuren sind nur schematisch ausgeführt und dienen allein dem besseren Verständnis der Erfindung. Die Figuren sind daher insbesondere nicht maßstabsgetreu, da einzelne Teile The invention is further illustrated by execution ¬ examples and the associated figures. The figures are only schematically and serve only for a better understanding of the invention. The figures are therefore in particular not true to scale, as individual parts
vergrößert oder verkleinert dargestellt sein können. can be shown enlarged or reduced.
Dementsprechend sind den Figuren weder relative noch absolute Maßangaben zu entnehmen. Accordingly, the figures neither relative nor absolute dimensions are shown.
Figuren 1 und 2 zeigen im schematischen Querschnitt jeweils ein SAW-Bauelement mit Kompensationsschicht in Figures 1 and 2 show in schematic cross section in each case a SAW device with compensation layer in
unterschiedlicher Anordnung, Figur 3 zeigt ein BAW-Bauelement mit Kompensationsschicht, different arrangement, FIG. 3 shows a BAW component with compensation layer,
Figur 4 zeigt ein GBAW-Bauelement mit Kompensationsschicht, FIG. 4 shows a GBAW component with compensation layer,
Figur 5 zeigt ein weiteres BAW-Bauelement, Figur 6 zeigt ein SAW-Bauelement , FIG. 5 shows a further BAW component, FIG. 6 shows a SAW component,
Figuren 7a und 7b zeigen jeweils ein SAW-Bauelement mit strukturierter KompensationsSchicht , FIGS. 7a and 7b each show a SAW component with a structured compensation layer,
Figuren 8a bis 8c zeigen SAW oder GBAW-Bauelemente, die eine oder mehrere zusätzliche dielektrische Schichten DS Figures 8a to 8c show SAW or GBAW devices comprising one or more additional dielectric layers DS
aufweisen, exhibit,
Figur 9 zeigt den Verlauf des E-Moduls über die Temperatur im System SC(i-X)YxF3 mit unterschiedlichem Yttriumgehalten x. Figur 1 zeigt die einfachste Ausführungsform eines mit einer Kompensationsschicht KS versehenen SAW-Bauelements . Auf einem Substrat, welches zumindest eine dünne piezoelektrische FIG. 9 shows the course of the modulus of elasticity versus temperature in the system SC (i- X ) Y x F3 with different yttrium contents x. FIG. 1 shows the simplest embodiment of a SAW component provided with a compensation layer KS. On a substrate which has at least one thin piezoelectric
Schicht umfasst, ist eine erste Elektrodenschicht ELI Layer comprises, is a first electrode layer ELI
angeordnet, die in Form von kammartig ineinander geschobener Kammelektroden ausgebildet sind. Das Substrat SU besteht insbesondere aus Lithiumtantalat mit einem für die SAW- Erzeugung und Ausbreitung geeigneten Schnitt. LT42 weist beispielsweise einen Temperaturkoeffizienten der elastischen Eigenschaften in x-Richtung von circa -40 ppm auf. Um diesen zu kompensieren, ist über der Elektrodenschicht ELI die arranged, which are formed in the form of comb-like nested comb electrodes. In particular, the substrate SU consists of lithium tantalate with a cut suitable for SAW generation and propagation. For example, LT42 has a temperature coefficient of elastic properties in the x-direction of about -40 ppm. To compensate for this, above the electrode layer ELI is the
Kompensationsschicht KS in einer geeigneten Dicke angeordnet, die entsprechend den gewünschten Kompensationsgrad in der Dicke bemessen wird. Figur 2 zeigt ein ähnliches Bauelement, bei dem die Compensation layer KS arranged in a suitable thickness, which is sized according to the desired degree of compensation in thickness. FIG. 2 shows a similar component in which the
Kompensationsschicht KS jedoch auf einer Oberfläche des Compensation layer KS, however, on a surface of the
Substrats aufgebracht ist, die der mit der Elektrodenschicht versehenen Oberfläche gegenüberliegt. Wird die Dicke der piezoelektrischen Schicht geeignet dünn gewählt, so kann auch mit dieser Anordnung eine gute Kompensation des Temperaturkoeffizienten der Frequenz erreicht werden. Figur 3 zeigt ein mit akustischen Volumenwellen arbeitendesSubstrate is applied, which is opposite to the provided with the electrode layer surface. If the thickness of the piezoelectric layer is chosen to be suitably thin, a good compensation of the temperature coefficient of the frequency can also be achieved with this arrangement. Figure 3 shows a working with bulk acoustic waves
Bauelement (BAW-Bauelement ) bei dem eine Kompensationsschicht KS direkt auf ein piezoelektrisches Substrat SU aufgebracht ist. Auf diese freiliegende Oberfläche des Substrats SU ist eine erste Elektrodenschicht ELI und auf die freiliegende Oberfläche der Kompensationsschicht KS ist eine zweite Component (BAW component) in which a compensation layer KS is applied directly to a piezoelectric substrate SU. On this exposed surface of the substrate SU is a first electrode layer ELI and on the exposed surface of the compensation layer KS is a second
Elektrodenschicht EL2 angeordnet. Die Dicke von Kompen¬ sationsschicht KS und Substrat SU zusammen bestimmen die Wellenlänge des BAW-Bauelements , so dass bei einer gegebenen Wellenlänge eine dickere Kompensationsschicht KS ein dünneres Substrat SU zur Folge hat, um die gleiche Resonanzfrequenz im BAW-Bauelement einzustellen. Electrode layer EL2 arranged. The thickness of Kompen ¬ sationsschicht KS and substrate SU together determine the wavelength of the BAW device, so that at a given wavelength, a thicker compensation layer KS has a thinner substrate SU result to set the same resonance frequency in the BAW component.
Figur 4 zeigt eine weitere Gattung von mit akustischen Wellen arbeitenden Bauelementen, nämlich ein mit geführten Figure 4 shows another type of working with acoustic waves components, namely with guided
akustischen Wellen arbeitendes Bauelement, ein sogenanntesacoustic waves working device, a so-called
GBAW-Bauelement . Bei diesem sind auf einem piezoelektrischen Substrat SU wieder Elektroden in einer insbesondere GBAW device. In this case, on a piezoelectric substrate SU again electrodes in a particular
strukturierten ersten Elektrodenschicht ELI angeordnet. structured first electrode layer ELI arranged.
Darüber ist die Kompensationsschicht KS in einer gewünschten Schichtdicke angeordnet. In addition, the compensation layer KS is arranged in a desired layer thickness.
Den Abschluss des Bauelements bildet eine über der The completion of the device forms an over the
Kompensationsschicht KS aufgebrachte Mantelschicht ML, die eine höhere Geschwindigkeit v(ML) der akustischen Welle aufweist als die Kompensationsschicht v(KS): Compensation layer KS applied cladding layer ML, the has a higher velocity v (ML) of the acoustic wave than the compensation layer v (KS):
v (ML) > v (KS) .  v (ML)> v (KS).
Die Geschwindigkeit wiederum lässt sich gemäß The speed, in turn, can be adjusted accordingly
v = V(c/ p )  v = V (c / p)
über die Dichte p oder die Steifigkeit c der verwendeten Materialien entsprechend einstellen. Dadurch ist gesichert, dass die Führung der akustischen Welle überwiegend innerhalb von Substrat und Kompensationsschicht stattfindet. Darüber hinaus ist die Dicke der Mantelschicht so hoch bemessen, dass an der von der Piezoschicht bzw. der von der Kompensations¬ schicht weg weisenden Oberfläche der Mantelschicht praktisch keine akustische Bewegung bzw. Schwingung auftreten kann. Figur 5 zeigt ein BAW-Bauelement mit einer ersten adjust the density p or the stiffness c of the materials used accordingly. This ensures that the guidance of the acoustic wave predominantly takes place within the substrate and the compensation layer. Moreover, the thickness of the cladding layer is as high dimensioned such that at the can occur virtually no acoustic movement or vibration of the piezoelectric layer or of the side facing away from the compensation ¬ layer surface of the cladding layer. FIG. 5 shows a BAW component with a first one
Elektrodenschicht ELI, einer piezoelektrischen Schicht SU und einer zweiten Elektrodenschicht EL2, bei der die  Electrode layer ELI, a piezoelectric layer SU and a second electrode layer EL2, in which the
Kompensationsschicht KS außen auf eine der beiden Compensation layer KS outside on one of the two
Elektrodenschichten ELI, EL 2 aufgebracht ist. Electrode layers ELI, EL 2 is applied.
Es besteht natürlich auch die Möglichkeit, die Of course there is also the possibility of the
Kompensationsschicht KS irgendwo zwischen der ersten Compensation layer KS somewhere between the first
Elektrodenschicht ELI und der zweiten Elektrodenschicht EL2 anzuordnen. Als weitere Möglichkeit können mehrere To arrange electrode layer ELI and the second electrode layer EL2. As another possibility several can
Kompensationsschichten KS unterschiedlicher Dicke verwendet werden. BAW Bauelemente mit einer oder mehreren solcher Compensation layers KS of different thickness can be used. BAW components with one or more such
Kompensationsschichten können als SMR (solidly mounted resonator) direkt auf dem Substrat aufsitzend oder in Compensating layers can be mounted as SMR (solidly mounted resonator) directly on the substrate or in
Membranausführung ausgebildet sein. Membrane design be formed.
Figur 6 zeigt ein weiteres GBAW-Bauelement , bei dem die Figure 6 shows another GBAW device, in which the
Kompensationsschicht zwischen dem piezoelektrischen Substrat und der ersten Elektrodenschicht ELI angeordnet ist. Oberhalb der Elektrodenschicht ELI kann - wie in Figur 6 dargestellt - auch eine Mantelschicht ML angeordnet sein. Compensation layer between the piezoelectric substrate and the first electrode layer ELI is arranged. Above As is shown in FIG. 6, the electrode layer ELI can also be provided with a cladding layer ML.
Figuren 7a und 7b zeigen Möglichkeiten, wie die akustischen Eigenschaften eines mit einer Kompensationsschicht KS Figures 7a and 7b show possibilities, such as the acoustic properties of a with a compensation layer KS
versehenen SAW-Bauelements weiter verbessert werden können. Die durch den geringen akustischen Impedanzunterschied zwischen Elektroden und Kompensationsschichtmaterial provided SAW device can be further improved. Due to the low acoustic impedance difference between electrodes and compensation layer material
verminderte Reflektivität der Elektroden wird durch eine zusätzliche, durch Strukturierung der Kompensationsschicht KS geschaffene Reflexion wiederhergestellt. Zu diesem Zweck werden parallel zu den Elektrodenfingern Vertiefungen (Figur 7a) bzw. Verdickungen (Figur 7b) in die Oberfläche der Reduced reflectivity of the electrodes is restored by an additional reflection created by structuring the compensation layer KS. For this purpose, depressions (FIG. 7a) or thickenings (FIG. 7b) are introduced parallel to the electrode fingers into the surface of the
Kompensationsschicht KS eingebracht, die Reflexionsstellen für die akustische Welle bilden und die im selben Raster wie die Elektrodenfinger angeordnet sind und daher die Compensation layer KS introduced, forming the reflection points for the acoustic wave and which are arranged in the same grid as the electrode fingers and therefore the
Reflektivität der an den Elektrodenfingern verstärken. Increase the reflectivity of the electrode fingers.
In Verbindung mit der Erfindung sind auch zusätzliche In connection with the invention are also additional
dielektrische Schichten DS zwischen Piezokristall/ dielectric layers DS between piezocrystal /
Piezoschicht und Elektroden oder oberhalb der Kompensations¬ schicht möglich. Figuren 8a bis 8c zeigen solche beispiel¬ haften Ausführungen. So ist in Figur 8a eine dielektrische Schicht DS zwischen erster Elektrodenschicht ELI und Piezo layer and electrodes or above the compensation ¬ layer possible. 8a-8c show such example ¬ liable versions. Thus, in FIG. 8 a, a dielectric layer DS is present between the first electrode layer ELI and
Kompensationsschicht KS angeordnet. In Figur 8b ist eine dielektrische Schicht DS über der Mantelschicht ML Compensation layer KS arranged. FIG. 8b shows a dielectric layer DS over the cladding layer ML
angeordnet. Figur 8c zeigt eine Ausführung, die gleichzeitig zwei dielektrische Schichten DS1 und DS2 aufweist, wie sie einzeln bereits in den Figuren 8a und 8b dargestellt sind. Figur 9 zeigt den Verlauf des E-Moduls in Abhängigkeit von der Temperatur im System SC(i-X)YxF3 für verschiedene Parameter x entsprechend einem Yttriumanteil zwischen 0 und 25 %. Es zeigt sich, dass für einen Yttriumgehalt von 20 % (x = 0,2) der stärkste Anstieg des E-Moduls im Temperaturbereich von 300 - 500 K ergibt, so dass dieses Material den höchsten positiven Temperaturkoeffizienten des E-Moduls aufweist und bestens für die Verwendung in einer Kompensationsschicht in einem mit akustischen Wellen arbeitenden Bauelement geeignet ist. Dabei zeigt das reine Scandiumtrifluorid zwar einen negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten, aber nur einen gegen Null gehenden Temperaturkoeffizienten des E- Moduls . arranged. FIG. 8c shows an embodiment which simultaneously has two dielectric layers DS1 and DS2, as shown individually already in FIGS. 8a and 8b. FIG. 9 shows the profile of the modulus of elasticity as a function of the temperature in the system SC ( i- X ) Y x F 3 for various parameters x corresponding to an yttrium content of between 0 and 25%. It turns out that for an yttrium content of 20% (x = 0.2) the strongest increase in the modulus of elasticity in the temperature range of 300-500 K, so that this material has the highest positive temperature coefficient of the modulus of elasticity and is best suited for use in a compensation layer in an acoustic wave device. Although the pure scandium trifluoride shows a negative thermal expansion coefficient, but only a zero temperature coefficient of the modulus of elasticity.
Aus der Grafik, beziehungsweise den zugrundeliegenden From the graphic, or the underlying
Versuchen ergibt sich für das gemischte Scandium-Yttrium- Trifluorid mit einem Yttriumanteil zwischen 20 und 25 ~6 ein Temperaturkoeffizient der Mittenfrequenz von circa 1500 ppm/K. Fluordotiertes S1O2 dagegen zeigt einen Koeffizienten < 700 ppm/K während undotiertes S1O2 einen Temperatur¬ koeffizienten < 300 ppm/K aufweist. Im Vergleich zu heute gebräuchlichen Kompensationsschichten aus undotiertem S1O2 ergibt sich damit eine Verbesserung der Kompensation um den Faktor 5. For the mixed scandium-yttrium trifluoride with an yttrium content between 20 and 25 ~ 6, a temperature coefficient of the center frequency of about 1500 ppm / K is obtained. Fluorine-doped S1O 2, however, shows a coefficient <700 ppm / K during undoped S1O 2 ¬ a temperature coefficient of <300 ppm / K. Compared to today common compensation layers of undoped S1O 2, this results in an improvement of the compensation by a factor of 5.
Die Materialeigenschaften insbesondere des gemischten The material properties in particular of the mixed
Scandium-Yttrium-Trifluorids , wie zum Beispiel Steifigkeit, bewegen sich in einem vergleichbaren Rahmen wie die bislang verwendeten Si02-Schichten . Bei etwas höherer Dichte als das S1O2 lässt sich erwarten, dass auch die übrigen Bauelement¬ eigenschaften durch die neue Kompensationsschicht nicht nachteilig beeinflusst werden. Da wegen der besseren Scandium-yttrium trifluorides, such as stiffness, are in a similar range to the previously used Si0 2 layers. At slightly higher density than the S1O 2 is expected that the remaining component ¬ properties are not adversely affected by the new compensation layer. Because of the better
Kompensation nur eine niedrigere Schichtdicke der Compensation only a lower layer thickness of
Kompensationsschicht erforderlich ist, lässt sich vielmehr eine wesentliche Verbesserung der akustischen Eigenschaften erwarten . Die Erfindung ist nicht auf die in den Ausführungsbeispielen näher beschriebenen Ausführungen beschränkt, die nur beispielhafte Ausführungen von mit akustischen Wellen Compensation layer is required, one can expect a significant improvement in the acoustic properties. The invention is not limited to the embodiments described in more detail in the exemplary embodiments, the only exemplary embodiments of acoustic waves
arbeitenden Bauelementen mit einer Kompensationsschicht angeben. Prinzipiell sind auch Bauelemente denkbar, die mehr als eine Kompensationsschicht aufweisen, oder auch Bau¬ elemente, die noch andere Mittel zur Reduzierung des specify working components with a compensation layer. In principle, components are conceivable which have more than one compensation layer, or even construction ¬ elements, the other means for reducing the
Temperaturkoeffizienten der Mittenfrequenz aufweisen, insbesondere Verspannungsschichten . Have temperature coefficient of the center frequency, in particular stress layers.

Claims

Patentansprüche claims
. Mit akustischen Wellen arbeitendes Bauelement, , Acoustic wave device,
mit einer Schicht (SU) eines piezoelektrischen Materials  with a layer (SU) of a piezoelectric material
mit zumindest einem Paar von Elektroden (EL,EL1,EL2) zur Anregung von akustischen Wellen in dem  with at least one pair of electrodes (EL, EL1, EL2) for exciting acoustic waves in the
piezoelektrischen Material  piezoelectric material
mit einer Kompensationsschicht (KS) , die so im Bauelement angeordnet ist, dass sich in der  with a compensation layer (KS), which is arranged in such a way that in the
Kompensationsschicht zumindest ein Teil der Energie der akustischen Welle befindet,  Compensation layer is at least part of the energy of the acoustic wave,
wobei die Kompensationsschicht ein dielektrisches Material auf der Basis einer chemischen Verbindung zumindest zweier Elemente umfasst, die einen negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist .  wherein the compensation layer comprises a dielectric material based on a chemical compound of at least two elements having a negative thermal expansion coefficient.
Bauelement nach Anspruch 1, Component according to Claim 1,
bei dem die Kompensationsschicht (KS) direkt auf der Schicht des piezoelektrischen Materials aufgebracht ist, wobei die Elektroden (EL, ELI , EL2 ) auf der piezoelektrischen Schicht (SU) , auf der  in which the compensation layer (KS) is applied directly to the layer of the piezoelectric material, wherein the electrodes (EL, ELI, EL2) on the piezoelectric layer (SU), on the
Kompensationsschicht (KS) oder zwischen diesen beiden Schichten angeordnet sind.  Compensation layer (KS) or between these two layers are arranged.
3. Bauelement nach Anspruch 1 oder 2, 3. Component according to claim 1 or 2,
bei dem die Kompensationsschicht (KS) als  in which the compensation layer (KS) as
Seltenerdverbindung Scandiumtrifluorid SCF3 umfasst. Rare earth compound scandium trifluoride SCF 3 .
4. Bauelement nach Anspruch 3, 4. Component according to claim 3,
bei dem die Kompensationsschicht (KS) als  in which the compensation layer (KS) as
Seltenerdverbindung ein mit Yttrium dotiertes SCF3 der Formel SC( i-X)YxF3 aufweist, wobei der durch den Koeffizienten x ausgedrückte Yttriumanteil durch die Beziehung 0 < x -S 0,25 definiert ist. Rare Earth Compound Yttrium-doped SCF 3 of the formula SC ( i- X ) Y x F 3 , wherein the proportion of yttrium expressed by the coefficient x is defined by the relationship 0 <x -S 0.25.
Bauelement nach Anspruch 4, Component according to Claim 4,
bei dem die Kompensationsschicht (KS) als  in which the compensation layer (KS) as
Seltenerdverbindung ein mit Yttrium dotiertes S CF3 der Formel Sc( i-x)YxF3 aufweist, wobei x = 0,2. Rare earth compound has an yttrium-doped S CF 3 of the formula Sc ( ix) Y x F 3 , where x = 0.2.
Bauelement nach einem der Ansprüche 3 - 5, Component according to one of claims 3 - 5,
bei dem die S CF3 umfassende Kompensationsschicht (KS) ein Glas ist. wherein the S CF 3 comprehensive compensation layer (KS) is a glass.
Bauelement nach einem der Ansprüche 1 - 6, Component according to one of claims 1 - 6,
bei dem die Kompensationsschicht (KS) einen  in which the compensation layer (KS) a
Netzwerkbildner umfasst.  Network creator includes.
Bauelement nach einem der Ansprüche 1 - 7, Component according to one of claims 1 - 7,
bei dem Kompensationsschicht (KS) einen positiven Temperaturkoeffizienten der thermoelastischen  at the compensation layer (KS) a positive temperature coefficient of the thermoelastic
Eigenschaften größer 700 ppm/K aufweist.  Properties greater than 700 ppm / K has.
Bauelement nach einem der Ansprüche 1 - 8, Component according to one of claims 1 - 8,
- ausgebildet als SAW Bauelement,  - designed as a SAW component,
- mit zumindest einem interdigitalen Wandler auf oder über der piezoelektrischen Schicht (SU)  with at least one interdigital transducer on or above the piezoelectric layer (SU)
- mit einer über der piezoelektrischen Schicht und dem interdigitalen Wandler abgeschiedenen  - With a deposited over the piezoelectric layer and the interdigital transducer
Kompensationsschicht (KS) , die S CF3 in Reinform, dotiert, als Mischkristall mit anderen Oxiden oder Halogeniden, oder eingebettet in eine kristalline Matrix oder ein Glas enthält - wobei die der Temperaturkoeffizient der Compensating layer (KS) containing S CF 3 in pure form, doped, as a mixed crystal with other oxides or halides, or embedded in a crystalline matrix or a glass - where the temperature coefficient of the
Mittenfrequenz mit einer Schichtdicke von 5-20% bezogen auf die Wellenlänge bei Mittenfrequenz des Bauelements vollständig kompensiert ist.  Center frequency with a layer thickness of 5-20% based on the wavelength at the center frequency of the device is fully compensated.
10. Bauelement wie Anspruch 9, 10. component as claim 9,
das aber als BAW Bauelement ohne interdigitalen Wandler aber mit zwei Elektrodenschichten (EL1,EL2) ausgebildet ist.  but as a BAW device without interdigital transducer but with two electrode layers (EL1, EL2) is formed.
11. Bauelement nach Anspruch 1, 2 oder 8, 11. The component according to claim 1, 2 or 8,
bei dem die Kompensationsschicht (KS) als Material mit dem negativen thermischen Ausdehnungskoeffizienten eine der folgenden Verbindungen umfasst: ZrW208, ZrMo208, HfW208 HfMo208, ScW30i2, in which the compensation layer (KS) comprises as material with the negative coefficient of thermal expansion one of the following compounds: ZrW 2 0 8 , ZrMo 2 0 8 , HfW 2 0 8 HfMo 2 0 8 , ScW 3 0i 2 ,
AlW30i2, Zr (W04) (P04) 2 , ScF3-BaF2-YF3, ScF3-BaF2-ZnF2, ScF3-BaF2-InF3, ScF3-MgF2, YbF3-ScF3, LuF3-ScF3, AlW 3 0i 2 , Zr (WO 4 ) (PO 4 ) 2, ScF 3 -BaF 2 -YF 3 , ScF 3 -BaF 2 -ZnF 2 , ScF 3 -BaF 2 -InF 3 , ScF 3 -MgF 2 , YbF 3 -ScF 3 , LuF 3 -ScF 3 ,
Zn(CN)2, BeF2, B203 und Zeolith. Zn (CN) 2 , BeF 2 , B 2 O 3 and zeolite.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107060592B (en) * 2016-12-21 2018-05-25 重庆金华兴门业有限公司 Extension spring-type inside contracts door
CN107871813B (en) * 2017-11-17 2020-08-11 中国电子科技集团公司第二十六研究所 Temperature compensation layer planarization method of temperature compensation type surface acoustic wave device
WO2019108758A1 (en) * 2017-12-01 2019-06-06 Skyworks Solutions, Inc. Alternative temperature compensating materials to amorhphous silica in acoustic wave resonators
CN108866677A (en) * 2018-07-05 2018-11-23 合肥萃励新材料科技有限公司 A kind of ZrW2O8The preparation method of sub-micron fibers
WO2020132999A1 (en) * 2018-12-26 2020-07-02 天津大学 Resonator with temperature compensation layer, and filter
WO2022224740A1 (en) * 2021-04-22 2022-10-27 株式会社村田製作所 Ladder-type filter
CN117716272A (en) * 2021-08-19 2024-03-15 松下知识产权经营株式会社 Driving element
CN117833855B (en) * 2024-03-04 2024-10-15 深圳新声半导体有限公司 Acoustic wave device

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3965444A (en) * 1975-01-03 1976-06-22 Raytheon Company Temperature compensated surface acoustic wave devices
JPH08181562A (en) * 1994-12-21 1996-07-12 Meidensha Corp Surface acoustic wave element
JP2000196410A (en) 1998-12-31 2000-07-14 Kazuhiko Yamanouchi High-stability and high-coupling surface acoustic wave substrate, surface acoustic wave filter using the same and surface acoustic wave function element
US7391285B2 (en) * 2003-10-30 2008-06-24 Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd Film acoustically-coupled transformer
US7019605B2 (en) * 2003-10-30 2006-03-28 Larson Iii John D Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth
US7358831B2 (en) * 2003-10-30 2008-04-15 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with simplified packaging
JP2006033748A (en) * 2004-07-21 2006-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Thin film bulk acoustic resonator
DE102004045181B4 (en) 2004-09-17 2016-02-04 Epcos Ag SAW device with reduced temperature response and method of manufacture
JP5039362B2 (en) * 2006-11-07 2012-10-03 太陽誘電株式会社 Elastic wave device
JP5190841B2 (en) * 2007-05-31 2013-04-24 独立行政法人産業技術総合研究所 Piezoelectric thin film, piezoelectric body and manufacturing method thereof, and piezoelectric resonator, actuator element, and physical sensor using the piezoelectric thin film
JP2008125130A (en) * 2008-02-08 2008-05-29 Murata Mfg Co Ltd Surface acoustic wave device and its manufacturing method
JP2014027639A (en) * 2012-07-24 2014-02-06 Kazuhiko Yamanouchi Temperature ultrahigh stability thin film structure pseudo surface acoustic wave substrate and surface acoustic wave function element employing the substrate
CN102904546B (en) * 2012-08-30 2016-04-13 中兴通讯股份有限公司 The adjustable piezoelectric acoustic wave resonator of a kind of temperature compensation capability
CN103684336B (en) * 2012-08-31 2017-01-11 安华高科技通用Ip(新加坡)公司 Resonator device with electrode comprising embedded type temperature compensation layer
DE102012111889B9 (en) * 2012-12-06 2014-09-04 Epcos Ag Electroacoustic transducer
US9401691B2 (en) * 2014-04-30 2016-07-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator device with air-ring and temperature compensating layer

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None *
See also references of WO2016026612A1 *

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