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DE69030348T2 - Belichtungsvorrichtung - Google Patents

Belichtungsvorrichtung

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DE69030348T2
DE69030348T2 DE1990630348 DE69030348T DE69030348T2 DE 69030348 T2 DE69030348 T2 DE 69030348T2 DE 1990630348 DE1990630348 DE 1990630348 DE 69030348 T DE69030348 T DE 69030348T DE 69030348 T2 DE69030348 T2 DE 69030348T2
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Germany
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DE1990630348
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Ryuichi C/O Canon Kabushiki Kaisha Tokyo Ebinuma
Takao C/O Canon Kabushiki Kaisha Tokyo Kariya
Nobutoshi C/O Canon Kabushiki Kaisha Tokyo Mizusawa
Shunichi C/O Canon Kabushiki Kaish Tokyo Uzawa
Yutaka C/O Canon Kabushiki Kaisha Tokyo Watanabe
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Canon Inc
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Canon Inc
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
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Description

  • Diese Erfindung bezieht sich auf eine Belichtungsvorrichtung zur lithografischen Übertragung eines Bild eines Originals wie zum Beispiel einer Maske auf ein Werkstück, welches, wie Zum Beispiel ein Wafer, mit hoher Genauigkeit zu belichten ist.
  • In letzter Zeit ist der Integrationsgrad einer integrierten Halbleiterschaltung mehr und mehr gesteigert worden, und was eine Belichtungsvorrichtung (Ausrichteinrichtung) zur Herstellung derselben anbelangt, so ist eine Vorrichtung mit einer höheren Übertragungsgenauigkeit erforderlich. Zum Beispiel ist für eine integrierte Schaltung von 256 Megabit DRAM eine Belichtungsvorrichtung erforderlich, die zum Drucken eines Musters mit einer Linienbreite in der Größenordnung von 0,25 Mikron geeignet ist.
  • Als eine Belichtungsvorrichtung für derartiges ultrafeines Musterdrucken ist eine Nah-Belichtungsvorrichtung vorgeschlagen worden, bei welcher eine Synchrotronorbitstrahlung (SOR-Röntgenstrahlen) angewandt werden.
  • Da das SOR-Licht einen flächenähnlichen Strahl aufweist, welcher in horizontaler Richtung einheitlich ist, sind die folgenden Verfahren vorgeschlagen worden, um die Belichtung eines Flächenbereichs zu gestatten:
  • (1) ein Abtast-Belichtungsverfahren, bei welchem eine Maske und ein Waf er vertikal bewegt werden, so daß deren Oberflächen mit Röntgenstrahlen von Flächenstrahlform abgetastet werden, die sich horizontal ausdehnen;
  • (2) ein Abtastspiegel-Belichtungsverfahren, bei welchem Röntgenstrahlen der Flächenstrahlform durch einen schwenkbaren Spiegel reflektiert werden, um eine Maske und einen Wafer vertikal abzutasten, und
  • (3) ein simultanes Belichtungsverfahren, bei welchem horizontal verlängerte Röntgenstrahlen mit Flächenstrahlform mit Bezug auf die vertikale Richtung mit Hilfe eines Röntgenspiegels divergierend reflektiert werden, der eine zur einer konvexen Form bearbeitete Reflexionsfläche hat, so daß die Röntgenstrahlen gleichzeitig in die gesamte Belichtungszone projiziert werden können.
  • Ein Beispiel einer Röntgenbelichtungsvorrichtung gemäß einem derartigen simultanen Belichtungsverfahren ist in der japanischen offengelegten Patentanmeldung Nr. 1-243519 offenbart worden.
  • Bei diesem Typ von Röntgenbelichtungsvorrichtung haben die Röntgenstrahlen (das für die Belichtung zu benutzende Licht) bezüglich der horizontalen Richtung (im folgenden "x-Achsen-Richtung) eine einheitliche Intensität (Beleuchtungsstärke). In bezug auf die vertikale Richtung (im folgenden "y-Achsen-Richtung) gibt es jedoch eine unregelmäßigkeit in der Intensität, wie es zum Beispiel durch eine Beleuchtungsstärke-Verteilungskurve 1i in Fig. 11A gezeigt ist, bei welcher die Intensität in dem mittleren Abschnitt hoch ist und mit dem Abstand von diesem nach oben und nach unten (y-Achsen-Richtung) abnimmt. Bei der vorhergehend erwähnten japanischen Patentanmeldung werden zwei Unterbrechungsplatten benutzt, die jeweils eine rechteckige Öffnung (Blendenöffnung) haben, und deren Bewegungsgeschwindigkeiten in die y-Achsen-Richtung werden unabhängig voneinander gesteuert, wie durch die Profile 1a und 1b in der Figur gezeigt ist, um dadurch den Betrag der Belichtung in jedem Abschnitt der Belichtungszone auf die Weise zu steuern, wie es durch eine durchgezogene Linie 1T in Fig. 11c bezeichnet ist. Insbesondere wird mit Bezug auf jeden Abschnitt in y- Achsen-Richtung die Zeit vom Beginn des Durchlassens des Belichtungslichts (Röntgenstrahlen) in Antwort auf den Durchgang einer vornliegenden Kante der Öffnung einer ersten Unterbrechungsplatte bis zum Auffangen des Belichtungslichts in Antwort auf den Durchgang einer rückwärtigen Kante der Öffnung einer zweiten Unterbrechungsplatte gesteuert, um eine genaue und einheitliche Belichtung auf der gesamten Belichtungszone zu erzielen. In diesem Fall basiert die Steuerung des Belichtungsbetrags auf der Röntgenintensitäts-Verteilungskurve (im folgenden "Profil") 1i mit Bezug auf die y-Achsen-Richtung, wie zum Beispiel in Fig. 11a gezeigt ist, wie sie in der Belichtungskurve gemessen wird.
  • Als ein Ergebnis der Untersuchungen, die in bezug auf diesen Typ von Röntgenbelichtungsvorrichtung zur weiteren Verbesserung der Übertragungsgenauigkeit vorgenommen worden sind, haben die Erfinder der vorliegenden Anmeldung festgestellt, daß eine Anderung in der Relativposition der Belichtungszone und des Röntgenflusses eine nich zu vernachlässigende Wirkung auf die Übertragungsgenauigkeit hat.
  • Wenn sich zum Beispiel der Röntgenfluß um Δy verschiebt und sich folglich das Profil um Δy aus der Position der durchgezogenen Linie (Profil 1i) in die Position der gestrichelten Linie (Profil 2i) gemäß Fig. 11A verschiebt, dann ändert sich die Röntgenintensität I in der Position y um Δy(dI/dy). Demgemäß sollte, um die Anderung in der Intensität I nicht größer als 0,1 % zu halten, die folgende Beziehung erfüllt sein:
  • &Delta;y < I/10000 1/(dI/dy) = 1/1000 1/[(dI/I)/dy].
  • Wenn nun insbesondere angenommen wird, daß die Feldwinkeldimension der Belichtungszone in y-Achsen-Richtung 30 mm ist, daß das Profil 1i, wie es durch die durchgezogene Linie in Fig. 11A dargestellt ist, durch eine quadratische Funktion repräsentiert wird, welche mit Bezug auf die Mittellinie vertikal symmetrisch ist, und daß die geringste Intensität 80 % der höchsten Intensität beträgt, dann wird das folgende Verhältnis erzielt:
  • &Delta;y < 1/1000 1/(0,4/15) ÷ 0,04 mm.
  • Um folglich die Ungleichmäßigkeit der Röntgenintensität auf nicht größer als 0,1 % zu halten, muß die relative Positionsänderung &Delta;y des Röntgenflusses mit Bezug auf die Belichtungszone bei nicht größer als 40 Mikron gehalten werden.
  • Bei dem Nah-Belichtungsverfahren verursacht außerdem eine Änderung in dem Einfallswinkel des Beleuchtungslichts eine Verschlechterung der Lagegenauigkeit. Wenn zum Beispiel der Abstandsspalt G zwischen einer Maske und einem Wafer 50 Mikron beträgt, dann ist die Größenordnung, in welcher der Lagegenauigkeitsfehler &Delta;&delta; aufgrund der Änderung im Einfallswinkel auftritt, nicht größer als 0,002 Mikron, wobei die Änderung &Delta;&theta; bei dem Einfallswinkel die folgende Relation erfüllen sollte:
  • &Delta;&theta; = &Delta;&delta;/G < 0,002/50 = 4 x 10&supmin;&sup5; rad.
  • Sie sollte nicht größer als 4 x 10&supmin;&sup5; rad sein.
  • Wenn das Beleuchtungslicht außerdem einen Divergenzwinkel hat, ändert sich der Einfallswinkel der Röntgenstrahlen mit der relativen Positionsänderung &Delta;y. Wenn der Zwischenraum zwischen dem zerstreuungspunkt (z. B. der Einfallsposition der Röntgenstrahlen auf den konvexen Röntgen-Zerstreuungsspiegel) und dem zu belichtenden Oberflächenbereich 5 m ist, dann beträgt die Größe &Delta;&theta; der Änderung des Einfallswinkels:
  • &Delta;&theta; = &Delta;y/5000.
  • Eine derartige Änderung &Delta;&theta; im Einfallswinkel verursacht einen Lagegenauigkeitsfehler (Nachlauffehler) &Delta;&delta; zwischen der Maske und dem Wafer, welcher durch
  • &Delta;&delta; = &Delta;&theta; G
  • gegeben sein kann, wobei G der Abstandsspalt zwischen der Maske und dem Wafer ist. Wenn somit der Spalt G 50 Mikron beträgt, dann sollte, um den Lagegenauigkeitsfehler &Delta;&delta; nicht größer als 0,002 Mikron zu halten, die folgende Beziehung erfüllt sein:
  • &Delta;&theta; < 0,002/50 = 4 x 10&supmin;&sup5; rad.
  • Das heißt, es gilt
  • &Delta;y = 5000 &Delta;&theta; < 0,2 mm.
  • Vorher bestimmbare Faktoren für die Änderung &Delta;y sind hier: ein auf eine aus der Bewegung eines Wafertischs resultierende Anderung in der Stellung der Belichtungsvorrichtung (ungefähr 200 Mikron) zurückzuführender Faktor, eine aus einer Temperaturänderung resultierende relative Verschiebung (ungefähr 10 Mikron), eine aus Schwingungen des Bodens resultierende relative Verschiebung (ungefähr 2 Mikron) und dergleichen.
  • Es ist demgemäß eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Belichtungsvorrichtung zu schaffen, mit Hilfe von welcher ein auf eine Änderung &Delta;&theta; im Einfallswinkel zurückzuführender Lagegenauigkeitsfehler &Delta;&delta; gemäß Vorbeschreibung und/oder eine Änderung &Delta;y in der Relativposition gemäß Vorbeschreibung reduziert werden kann, durch welche ferner eine Steigerung der Übertragungsgenauigkeit erzielt wird.
  • Die Erfindung sieht eine Belichtungsvorrichtung zur Belichtung eines Substrats mit einem Bestrahlungsstrahl vor, die ein Bestrahlungssystem aufweist, das eine Synchrotronorbitstrahlungs (SOR) -Quelleneinrichtung und eine Spiegeleinheit, um das Substrat mit einem Bestrahlungsstrahl zu bestrahlen, und eine Belichtungseinheit enthält, die eine Belichtungs zone hat, um das Substrat in der Belichtungszone zu halten, wobei die SOR-Quelleneinrichtung, die Spiegeleinheit und die Belichtungseinheit unabhängig voneinander auf einem Boden befestigt sind, gekennzeichnet durch
  • eine Vielzahl von Detektoren, die in verschiedenen Positionen außerhalb der Belichtungszone angeordnet sind, um den Bestrahlungsstrahl aus dem Bestrahlungssystem zu erfassen und um Ausgangssignale zu erzeugen, eine auf die Ausgangssignale von den Detektoren ansprechende Signalverarbeitungseinrichtung, um eine Änderung in der Relativposition der Belichtungszone der Belichtungseinheit und des Bestrahlungsstrahls von der Spiegeleinheit zu erfassen, und eine Belichtungssteuereinrichtung zur Korrektur der Belichtungsbedingungen in Antwort auf eine erfaßte Änderung in der Relativposition der Belichtungszone und des Strahls, wobei die Belichtungssteuereinrichtung mindestens eine der folgenden Einrichtungen enthält,
  • eine erste Steuereinrichtung zur Einstellung einer Belichtungszeitverteilung der Belichtungseinheit, eine zweite Steuereinrichtung zur Einstellung der Positionslage einer Blendeneinbeit innerhalb der Belichtungseinheit, eine dritte Steuereinrichtung zur Einstellung der Positionslage eines Hauptkörpers der Belichtungseinheit relativ zum Boden, eine vierte Steuereinrichtung zur Einstellung der Positionslage der Spiegeleinheit und eine fünfte Steuereinrichtung zur Einstellung einer Elektronenbahn der SOR-Quelleneinrichtung.
  • Bei dem vorhergehend beschriebenen Aufbau sind Beleuchtungsdetektoren an mindestens zwei Punkten innerhalb des Beleuchtungslichtstroms angeordnet, der eine Unregelmäßigkeit in der Intensität aufweist. Im Ergebnis kann für alle Detektoren die Änderung in der Intensität des Beleuchtungslichts als eine Beleuchtungsstärke-Änderungskomponente der gleichen Proportion erfaßt werden. Die Anderung in der Relativposition des Beleuchtungslichtstroms und der Beleuchtungszone wird jedoch für alle Detektoren als eine Beleuchtungsstärke-Änderungskomponente mit unterschiedlichen Proportionen erfaßt. Folglich ist es durch die Unterscheidung dieser Komponenten möglich, die Änderung der Intensität des Beleuchtungslichts ebenso wie die Änderung in der Relativposition des Beleuchtungslichtstroms und der Belichtungszone zu erfassen.
  • Da ferner jeder Detektor außerhalb der Belichtungszone angeordnet ist, gibt es keine Überlagerung mit dem Belichtungsvorgang. Folglich ist es möglich, die Änderung in der Intensität des Beleuchtungslichts sowie die Änderung in der Relativposition des Beleuchtungslichts und der Belichtungszone mit jeder gewünschten zeitlichen Abstimmung oder auf Echtzeitweise zu erfassen.
  • Nun wird ein besonderes Beispiel erklärt. Es wird nun angenommen, daß relativ zu einer Beleuchtungslichtquelle, die ein Profil hat, wie es in Fig. 3 gezeigt ist, an den Punkten A und B jeweils ein erster und ein zweiter Beleuchtungsstärke-Detektor angeordnet sind, und daß die Ausgangswerte des ersten und zweiten Detektors A und B zur Zeit t = 0 durch IA0 bzw. IB0 bezeichnet werden. Wenn die Ausgangswerte des ersten und zweiten Detektors A und B zur Zeit t = t, nachdem sich das Profil um &Delta;y geändert hat und die sich Intensität des Beleuchtungslichts um f(t) geändert (abgeschwächt) hat, durch IA bzw. IB bezeichnet werden, dann werden durch lineare Annäherung mit Bezug auf &Delta;y die folgenden Beziehungen geschaffen:
  • IA = (IA0 + kA&Delta;y)f(t) ...(1)
  • IB (IB0 + kB&Delta;y)f(t) ...(2)
  • wobei
  • Bei Lösung der Gleichungen (1) und (2) folgt, daß
  • f(t) = (1/D) (kBIA-kAIB) ...(3)
  • &Delta;y = 1/f(t) (1/D)(IA0IB-IB0IA) ...(4)
  • wobei
  • D = IA0kB-IB0kA.
  • Wenn D = 0, sind sowohl f(t) als auch &Delta;y unbestimmt.
  • Die vorhergehenden Lösungen können wie folgt umgeschrieben werden:
  • f(t) = [1/(&alpha;-&beta;)] (&alpha;iA-&beta;iB) ...(5)
  • &Delta;y = 1/f(t) [&alpha;&beta;/(&alpha;-&beta;](iB-iA) ...(6)
  • wobei
  • Daraus ist ersichtlich, daß die auf die Zeit des Belichtungslichtstroms zurückzuführende Abschwächung f(t) als gewichtetes Mittel erfaßt werden kann, während die Änderung &Delta;y in der Relativposition des Beleuchtungslichtstroms als eine Differenz erfaßt werden kann.
  • In Übereinstimmung mit diesem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist es gemäß Vorbeschreibung möglich, eine Änderung in der Intensität des Beleuchtungslichts sowie auch eine Anderung in der Relativposition des Beleuchtungslichtstroms und der Belichtungszone zu einer gewünschten Zeit zu erfassen.
  • Folglich ist es durch Einstellen der Belichtungszeit in Übereinstimmung mit der Anderung der Intensität des Be leuchtungslichts möglich, den Betrag der Belichtung auf Echtzeitweise zu steuern, und deshalb ist es möglich, eine Verschlechterung der Übertragungsgenauigkeit zu vermeiden, die auf eine Anderung im Belichtungsbetrag zurückzuführen ist, die aus einer Anderung der Intensität des Beleuchtungslichts resultiert.
  • Ferner kann unter Anwendung eines Erfassungsausgangswerts, der sich auf die relative Positionsänderung zwischen dem Beleuchtungslichtstrom und der Belichtungszone bezieht, eine Lichtunterbrechungsplatten-Antriebstabelle zum Festhalten des Antriebszustands der Blendenunterbrechungsplatte verschoben werden, kann die Lage der Blendeneinheit eingestellt werden, kann die Lage des Hauptkörpers der Belichtungsvorrichtung eingestellt werden, kann die Lage des Röntgenspiegels eingestellt werden oder kann die Elektronenbahn der SOR-Einrichtung eingestellt werden, um den Belichtungszustand auf der Belichtungszone korrigierend zu steuern. Bei einer derartigen Vorgehensweise kann der Zustand der Belichtung auf kontinuierliche Weise optimal bei behalten werden, und im Ergebnis dessen ist eine weitere Verbesserung der Übertragungsgenauigkeit erzielbar.
  • Außerdem kann die Frequenz der Profilmessung in der Belichtungszone verringert werden, um den Durchsatz der Vorrichtung zu verbessern.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung enthält eine Belichtungsbetrag-Steuereinrichtung, die dazu angepaßt ist, eine Belichtungszeitverteilung entsprechend einer Ungleichmäßigkeit des Beleuchtungslichts in einer eindimensionalen Richtung einzustellen, um über eine Belichtungszone hinweg einen einheitlichen Belichtungsbetrag zu schaffen, und eine Positionsbezugspunkt-Steuereinrichtung, die betätigbar ist, um einen Positionsbezugspunkt für die Belichtungsbetrag- Steuereinrichtung mit Bezug auf einen Rahmen der Belichtungsvorrichtung in die eindimensionale Richtung zu verschieben. Eine Belichtungsvorrichtung mit einer steuerbaren Belichtungszeitverteilung ist zum Beispiel in der EP-A-0359370 (zum gegenwärtigen Prioritätsdatum nicht veröffentlicht) und in der JP-A 1 243 519 beschrieben.
  • Eine solche Belichtungsbetrag-Steuereinrichtung kann eine Blendeneinrichtung, die eine Lichtunterbrechungsplatte hat, und eine Antriebseinrichtung enthalten, um die Lichtunterbrechungsplatte in Ubereinstimmung mit einer Antriebskurve der Ungleichmäßigkeit der Intensität anzutreiben, während die Positionsbezugspunkt-Steuereinrichtung betätigbar ist, um einen Bezugspunkt der Antriebskurve zu verschieben.
  • Bei einem anderen Ausführungsbeispiel ist ein Abschnitt der Blendeneinrichtung, die eine Lichtunterbrechungsplatte enthält, als eine einheitliche Struktur ausgebildet, und eine derartige Blendeneinheit wird relativ zu dem Rahmen der Belichtungsvorrichtung in die eindimensionale Richtung bewegt oder sie wird alternativ dazu auf drehende Weise um die optische Achse des Beleuchtungslichts bewegt.
  • Der Positionsbezugspunkt kann zum Beispiel in Übereinstimmung mit einem Signal eingestellt werden, das zum Beispiel durch die Erfassung einer relativen Änderung in der Lage zwischen dem Hauptkörper der Belichtungsvorrichtung, der den Rahmen einschließt, und einem Boden ermittelt wird, auf welchem ein Beleuchtungssystem einschließlich einer SOR- Einrichtung (Beleuchtungslichtquelle) angeordnet ist.
  • Bei dem vorhergehend beschriebenen Aufbau wird dann, wenn die Positionsbezugspunkt-Steuereinrichtung den Positionsbezugspunkt für die Belichtungsbetrag- Steuereinrichtung mit Bezug auf den Rahmen der Belichtungsvorrichtung verschiebt, die Belichtungszeitverteilung des Beleuchtungslichts in der Belichtungszone verschoben. Folglich ist es durch die Erfassung der relativen Positionsänderung &Delta;y zwischen dem Beleuchtungslicht und der Belichtungszone und dann durch die Verschiebung des Positionsbezugspunkts in Übereinstimmung mit einem entsprechenden Erfassungssignal, um die Belichtungszeitverteilung zu verschieben, möglich, die aus der Positionsänderung &Delta;y resultierende Ungleichmäßigkeit in der Belichtung zu kompensieren.
  • Ferner gibt es bei einer Anordnung, bei welcher der Positionsbezugspunkt durch relative Verschiebung des Hauptkörpers der Belichtungsvorrichtung und des Beleuchtungssystems verschoben wird, den zusätzlichen Vorteil, daß der auf die Positionsänderung &Delta;y zurückzuführende Lagegenauigkeitsfehler reduziert werden kann.
  • Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung werden nun mit Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben.
  • Fig. 1 ist eine schematische und in Form eines Diagramms ausgebildete Ansicht einer Röntgen-Ausrichteinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
  • Fig. 2 ist eine schematische Darstellung, welche die Positionsbeziehung zwischen einem Beleuchtungslicht, einer Belichtungszone und Röntgenintensitäts-Detektoren in der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1 veranschaulicht.
  • Fig. 3 ist eine Darstellung, die ein Beispiel eines Röntgenprofils zeigt.
  • Fig. 4 ist eine Darstellung, um das Prinzip der Erfassung der Abweichung zwischen dem Beleuchtungslicht und einer Belichtungszone um eine optische Achse herum zu erklären.
  • Fig. 5 ist eine schematische und in Form eines Diagramms ausgebildete Ansicht einer Röntgen-Ausrichteinrichtung gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
  • Fig. 6 - 10 sind schematische und in Form eines Diagramms ausgebildete Ansichten, die jeweils Röntgen-Ausrichteinrichtungen gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung zeigen.
  • Fig. 11a - 11c sind jeweils grafische Ansichten, um die Betätigung einer Ausrichteinrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zu erklären, wobei Fig. 11A eine Beleuchtungsintensitätsverteilung (Profil) zeigt, Fig. 11b eine Blendenantriebskurve zeigt und Fig. 11c eine Belichtungszeitverteilung zeigt.
  • In Fig. 1, die eine Röntgen-Ausrichteinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt, bezeichnet das Bezugszeichen 11 eine SOR-Einrichtung, welche auf einem Tisch 12 angeordnet ist und welche dazu angepaßt ist, aus einem Emissionspunkt 13 Röntgenstrahlen 14 zu emittieren. Mit 21 ist ein erster Spiegel bezeichnet, der eine konvex geformte Reflexionsfläche zum Aufweiten des Stroms der SOR-Röntgenstrahlen 14 hat, welche die Form eines flächenförmigen Strahls haben, der in y-Achsen-(vertikaler) Richtung in x-Achsen- (horizontaler) Richtung verlängert ist. Mit 22 ist ein zweiter Spiegel zum Reflektieren des Röntgenstroms 15 bezeichnet, der divergierend aus dem ersten Spiegel 21 austritt, so daß sich seine Mittelachse horizontal (in Z-Achsen-Richtung) erstreckt. Der durch den zweiten Spiegel 22 reflektierte Röntgenstrom wird als Beleuchtungslicht 16 in einen Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper 40 eingegeben.
  • Mit 23 ist eine Spiegelkammer, die den ersten Spiegel 21 und den zweiten Spiegel 22 mit einer gewünschten Vakuumumgebung umschließt, mit 24 ist eine erste Spiegelantriebseinrichtung Spiegel, welche zur Einstellung der Lage des ersten Spiegels 21 benutzt wird, mit 25 ist eine zweite Spiegelantriebseinrichtung, welche zur Einstellung der Lage des zweiten Spiegels 22 benutzt wird, und mit 26 ist eine Spiegelhalterung bezeichnet.
  • Mit 30 ist eine Blendeneinheit bezeichnet, welche einen Blendenständer 31 und an dem Ständer 31 befestigte Blendenwellen 32 und 33 sowie Blendenfolien 34 und 35 aufweist, welche jeweils zwischen den Blendenwellen 32 - 32 und den Blendenwellen 33 - 33 ausgespannt sind. Die Blendenfolien 34 und 35 sind durch endlose Stahlbänder mit rechtwinkligen Öffnungen (nicht gezeigt) vorgesehen, die Seiten haben, die mit Bezug auf die y-Achsen-Richtung jeweils länger als die Größe der Belichtungszone sind.
  • Mit 41 ist eine Maske, auf welcher ein zu übertragendes Muster unter Anwendung eines für Röntgenstrahlen nicht durchlässigen Materials wie zum Beispiel Gold ausgebildet ist, mit 42 ist ein beweglicher Maskentisch, um auf diesem die Maske 41 zu tragen, mit 43 ist eine Masken-Einspannvorrichtung zum Halten der Maske 41 auf dem Mäskentisch 42, mit 44 ist ein Wafer, auf welchen ein Bild der Maske 41 zu übertragen ist, mit 45 ist ein beweglicher Wafertisch, auf dem der Wafer 44 getragen wird und der in x-Achsen-Richtung und y-Achsen-Richtung beweglich ist, mit 46 ist eine Wafer-Einspannvorrichtung zum Halten des Waf ers 44 auf dem Wafertisch 45, mit 47 ist ein Ausrichteinrichtungs-Rahmen, auf welchem zum Beispiel der Maskentisch 42 und der Wafertisch befestigt sind, mit 48 ist eine Ausrichteinrichtungs- Basis, auf welcher der Ausrichteinrichtungs-Rahmen 47 angeordnet ist, und mit 49 sind Luftfedern zum Lagern der Ausrichteinrichtungs-Basis 48 auf einem Boden 1 bezeichnet. Die Ausrichteinrichtungs-Basis 48 wird mit Hilfe von mindestens drei Luftfedern 49 an mindestens drei Punkten gelagert.
  • Mit so ist eine Heliumkammer bezeichnet, welche die Blendeneinheit 30, die auf dem Maskentisch 42 angeordnete Maske 41 und den auf dem Wafertisch 45 angeordneten Waf er 44 mit einer gewünschten Heliumgasumgebung umschließt. Mit 51 und 52 sind Rohrleitungs-Abstandsringe bezeichnet, welche die Spiegelkammer 23 mit der Heliumkammer 50, d. h. dem Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper 40 verbinden, während die jeweiligen Umgebungen zurückgehalten werden. Mit 53 ist ein Faltenbalg zur flexiblen Verbindung der Spiegelkammer 23 mit dem Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper 40 bezeichnet, und mit 54 ist ein Berylliumfenster bezeichnet, welches dazu dient, das Beleuchtungslicht 16 durchzulassen, aber die Vakuumumgebung in der Spiegelkammer 23 von der Heliumumgebung in der Heliumkammer 50 zu isolieren. Auf der Seite des Berylliumfensters 54 mit der Spiegelkammer 23 sind Röntgenintensitäts-Detektoren 61 zur Erfassung des Beleuchtungs lichts vorgesehen, wobei diese Detektoren oberhalb und unterhalb des Beleuchtungslichts 16 angeordnet sind, so daß sie nicht das auf die Belichtungszone gerichtete Beleuchtungslicht 16 blockieren.
  • Fig. 2 veranschaulicht die Positionsbeziehung zwischen dem Beleuchtungslicht 16, der Belichtungszone und den Röntgenintensitäts-Detektoren 61 in der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1. In Fig. 2 ist die Belichtungszone mit 201 bezeichnet und ist eine Röntgen-Erfassungszone mit 202 bezeichnet. Das Beleuchtungslicht 16 beleuchtet einen Bereich, welcher sowohl die Belichtungszone 201 als auch die Röntgen-Erfassungszone 202 einschließt. Wie veranschaulicht ist, sind in vier Ecken der Fläche, welche außerhalb der Belichtungszone 201 ist, aber welche innerhalb der Röntgen-Erfassungszone 202 ist, vier Röntgenintensitäts-Detektoren 61 (61a, 61b, 61c und 61d) jeweils in einer Ecke vorgesehen.
  • Unter erneutem Bezug auf Fig. 1 ist mit 62 eine Röntgenintensitätserfassungs-Schaltungseinrichtung bezeichnet, welche zu betätigen ist, um auf der Basis der Ausgangswerte der vier Röntgenintensitäts-Detektoren 61 eine Röntgenintensitätsinformation zu schaffen. Mit 63 ist eine Röntgenintensitätsabschwächungs-Berechnungseinrichtung zur Ausführung der Berechnung auf der Basis des Ausgangswerts der Röntgenintensitätserfassungs-Schaltungseinrichtung 62 in Übereinstimmung mit Gleichung (3) oder (5) gemäß Vorbeschreibung, um dadurch die Quantität f(t) der Abschwächung der Röntgenintensität zu berechnen. Mit 64 ist eine Blendenantriebstabelle-Korrektureinrichtung zur Korrektur der Blendenantriebstabelle auf der Basis der erfaßten Röntgenintensitätsabschwächung f(t) bezeichnet. Mit 65 ist eine Blenden-Steuereinrichtung zur Steuerung der Position oder Bewegungsgeschwindigkeit der Blendenöffnung auf der Basis der Blendenantriebstabelle zu verschiedenen Zeitpunkten bezeichnet.
  • Mit 66 ist eine Berechnungseinrichtung fur eine relative Positionsverschiebung zur Berechnung der Größe &Delta;y der Änderung in der Relativposition des Beleuchtungslichts 16 relativ zu dem Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper 40 (d. h., der Belichtungszone) bezeichnet. Mit 67 ist eine Ausrichtein richtungspositions-Steuereinrichtung bezeichnet, welche betätigbar ist, um die Menge der Luftzufuhr zu jeder Luftfeder auf der Basis der erfaßten Größe &Delta;y der relativen Positionsänderung einzustellen, um dadurch die Lage des Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper 40 zu steuern, um die Größe &Delta;y der Positionsänderung zu minimieren. Mit 68 werden Luftmengen-Einstellmechanismen für die Luftfedern bezeichnet.
  • Bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1 wird zuerst eine auf einem Schlitten (nicht gezeigt) befestigte Röntgen- Beleuchtungseinrichtung (nicht gezeigt) längs der y-Achsen- Richtung auf abtastende Weise in der Belichtungszone 202 bewegt, um ein Beleuchtungsstärkeprofil zu erzeugen, wie es in Fig. 3 gezeigt ist. Zum Zeitpunkt dieser Erzeugung des Profils liest die Röntgenintensitäts-Erfassungseinrichtung 62 die Ausgangswerte der Röntgenintensitäts-Detektoren 61a - 61d ein und erzeugt eine Information entsprechend der jeweiligen Erfassungs-Ausgangswerte. Die Röntgenintensitätsabschwächung-Berechnungseinrichtung 63 und die Berechnungseinrichtung 66 für die relative Positionsänderung berechnen einen Mittelwert der erfaßten Ausgangswerte der Röntgenintensitäts-Detektoren 61a und 61c sowie einen Mittelwert der Erfassungs-Ausgangswerte der Detektoren 61b und 61d, und speichert diese als die vorhergehend beschriebenen Werte IA0 bzw. IB0. Es ist hier festzustellen, daß die Ausgangswerte der gepaarten Röntgenintensitäts-Detektoren 61a und 61c sowie die Ausgangswerte der gepaarten Detektoren 61b und 61d im voraus kalibriert werden, so daß sich die Ausgangswerte der gepaarten Detektoren auf dem gleichen Niveau befinden, wenn die Lage des Ausrichteinrichtungs- Hauptkörpers 40 exakt auf diesem Standardzustand eingestellt wird.
  • Währenddem Belichtungsschritt liest die Röntgenintensitäts-Erfassungseinrichtung 62 die Ausgangswerte der Röntgenintensitäts-Detektoren 61a - 61d wunschgemäß zum Beispiel zu einem Zeitpunkt direkt vor der Ausführung der Belichtung eines ersten Beschußbereichs jedes Wafers ein, während andererseits die Rontgenintensitätsabschwächungs- Berechnungseinrichtung 63 und die Berechnungseinrichtung 66 für die relative Positionsänderung die Größe der Abschwächung f(t) und die Größe der relativen Positionsänderung &Delta;y auf der Basis der erfaßten Information und der Werte IA0 und IB0 berechnen.
  • Wenn andererseits das Beleuchtungslicht 16 relativ zur der Belichtungszone 201 auf drehende Weise um die z-Achse (die optische Achse des Beleuchtungslichts 16) abgelenkt wird, wie in Fig. 4 zu sehen ist, gibt es eine Differenz zwischen den Ausgangswerten der Röntgenintensitäts-Detektoren 61a und 61c. Außerdem gibt es eine Differenz zwischen den Ausgangswerten der Detektoren 61b und 61d. Folglich wird auf der Basis einer Differenz zwischen (i), dem Mittelwert der Erfassungs-Ausgangswerte der Detektoren 61a und 61b, und (ii), dem Mittelwert der Erfassungs-Ausgangswerte der Detektoren 61c und 61d auch die Berechnungseinrichtung 66 für die relative Positionsänderung betätigt, um die Drehabweichung &Delta;wz um die z-Achse zu berechnen.
  • Die Blendenantriebstabelle-Korrektureinrichtung 64 korrigiert die Blendenantriebstabelle auf der Basis der Größe f(t) der Röntgenintensitätsabschwächung, und die Blenden- Steuereinrichtung 65 steuert die Belichtungszeit auf der Basis der Blendenantriebstabelle. Dadurch ist es möglich, den Betrag der Belichtung auf genaue Weise zu korrigieren, selbst wenn sich die Röntgenintensität aufgrund der Abschwächung oder dergleichen ändert. Des weiteren stellt die Ausrichteinrichtungspositions-Steuereinrichtung 67 die Menge der Luftzufuhr zu jeder Luftfeder auf der Basis der relativen Positionsänderung &Delta;y und der Drehabweichung &Delta;wz ein, um dadurch die Lage des Ausrichteinrichtungs-Hauptkörpers 40 zu steuern. Dadurch kann die Relativposition des Beleuchtungslichts 16 und des Ausrichteinrichtungs-Hauptkörpers 40, und zwar die Belichtungszone konstant aufrecht erhalten werden, und deshalb können die Bedingungen zur Belichtung jedes Wafers konstant beibehalten werden, um den Übertragungsfehler zu minimieren.
  • Fig. 5 veranschaulicht den Aufbau einer Röntgen-Ausrichteinrichtung gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Bei der Ausrichteinrichtung dieses Beispiels wird der Positionsbezugspunkt für jede der Blendenfolien 34 und 35 um die Größe &Delta;y der Änderung in der Relativposition des Beleuchtungslichts in y-Achsen-Richtung verschoben, um dadurch über die Belichtungszone 201 hinweg eine Gleichmäßigkeit in dem Betrag der Belichtung zu erzielen. Wie insbesondere in Fig. 11A zu sehen ist, wird eine Abweichung &Delta;y eines aus der Änderung &Delta;y in der Relativposition resultierenden augenblicklichen Profils 1i durch die Verschiebung der jeweiligen Positionsbezugspunkte der Blendenfolien 34 und 35 in y-Achsen-Richtung kompensiert, wie in Fig. 11b gezeigt ist, um dadurch die Position der vornliegenden Kante 1a der Blendenöffnung in die Position 2a und die Position der rückwärtige Kante 1b in die Position 2b jeweils um einen Betrag &Delta;y zu verschieben. Im Ergebnis dessen wird die Zeit vom Durchgang der vornliegenden Kante 2a der Blendenöffnung bis zum Durchgang der rückwärtigen Kante 2b von dieser in Übereinstimmung mit der Größe der Verschiebung des Profils 2i um "2T" verschoben, wie in Fig. 11c zu sehen ist, wodurch über die gesamte Belichtungszone 201 hinweg ein einheitlicher Belichtungsbetrag erzielt wird. Da die Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 5, verglichen mit dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1, derart angeordnet ist, daß die Blendenantriebstabelle 64 auf der Basis von sowohl der Röntgenintensitätsabschwächungs-Berechnungseinrichtung 63 als auch der Berechnungseinrichtung 66 für die relative Positionsänderung korrigiert wird, ist es nicht notwendig, die Ausrichteinrichtungspositions-Steuereinrichtung 67 oder die Luftzufuhr-Einstelleinrichtung 68 zur Korrektur von &Delta;y zu benutzen. Folglich gibt es bei einer solchen Ausrichteinrichtung, welche nicht mit diesen Mechanismen ausgestattet ist, einen Effekt der Vereinfachung des Aufbaus. Bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 5 wird der Nachlauffehler jedoch nicht korrigiert.
  • Fig. 6 zeigt den Aufbau eines dritten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung. Bei der Ausrichteinrichtung gemäß diesem Beispiel werden sowohl die relative Positionsverschiebung &Delta;y als auch die Drehabweichung Awz durch die Steuerung der Lage des zweiten Spiegels 22 kompensiert, um dadurch eine einheitliche Belichtung zu erzielen. Anstelle der Ausrichteinrichtungspositions-Steuereinrichtung 67 gemäß dem Ausführungsbeispiel in Fig. 1 ist das vorliegende Ausführungsbeispiel mit einer Spiegellage-Steuereinrichtung 768 zur Steuerung der zweiten Spiegelantriebseinrichtung 25 ausgestattet. In diesem Fall gibt es die Möglichkeit zur Vereinfachung des Aufbaus. Der Nachlauffehler wird jedoch nicht korrigiert.
  • Fig. 7 zeigt ein viertes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Die Ausrichteinrichtung gemäß diesem Beispiel hat den gleichen Aufbau wie die Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1, außer daß sich die Röntgenintensitäts-Detektoren 61 auf der Seite der Berylliumfensters 54 befinden, auf welcher der Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper 40 angeordnet ist. Da bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1 die Röntgenintensitäts-Detektoren 61 in einem Ultrahochvakuum angeordnet sind, kann eine verbesserte Lebensdauer des Detektors erwartet werden. Da andererseits bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 7 das sichtbare Licht durch das Berylliumfenster 54 abgefangen wird, kann eine verbesserte Erfassungsgenauigkeit des Detektors 61 erwartet werden.
  • Bei den Ausrichteinrichtungen gemäß Fig. 5 und 6 können wie bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 7 die Röntgenintensitäts-Detektoren 61 auf der Seite des Berylliumfensters 54 angeordnet sein, auf welcher sich der Ausrichteinrichtungs- Hauptkörper 40 befindet.
  • Fig. 8 zeigt ein fünftes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Bei der Ausrichteinrichtung gemäß diesem Beispiel ist die Blendeneinheit 30 unter der Eingriffnahme einer Blendenlage-Steuereinrichtung 931 an dem Blendenständer 31 befestigt, und die Röntgenintensitäts-Detektoren 61 sind auf der Blendeneinheit 30 angeordnet. Außerdem ist anstelle der Spiegellage-Steuereinrichtung 768 gemäß Fig. 6 eine Blendenlage-Steuereinrichtung 969 vorgesehen, welche zu betätigen ist, um die Blendenlage-Steuereinrichtung 931 auf der Basis der relativen Positionsänderung &Delta;y und der Drehabweichung &Delta;&theta; (&Delta;wz) anzutreiben, die mittels der Berechnungseinrichtung 66 für die relative Positionsänderung erfaßt werden. Bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 8 bewirkt die Blendenlage-Steuereinrichtung 931 auf der Basis der relativen Positionsverschiebung &Delta;y und der Drehabweichung &Delta;&theta; eine Drehbewegung der Blendeneinheit 30 um die optische Achse (z-Achse) oder deren vertikale Bewegung in y- Achsen-Richtung. Ähnlich wie bei den Ausrichteinrichtungen gemäß Fig. 5 und 6 ermöglicht dies die Realisierung einer einheitlichen Belichtung in der Belichtungszone 201.
  • Fig. 9 zeigt ein sechstes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Vergleichen mit dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 8 ist die Ausrichteinrichtung gemäß diesem Beispiel mit einer Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper-Steuereinrichtung 67 sowie Luftmengen-Einstellmechanismen 68 für die Luftfedern ausgestattet, so daß die Verschiebung &Delta;y durch eine vertikale Bewegung des Ausrichteinrichtungs-Hauptkörpers 40 kompensiert werden kann, während die Abweichung &Delta;&theta; durch eine drehende Bewegung der Blendeneinheit 30 um die optische Achse kompensiert werden kann. Bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 9 sind, ähnlich wie bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1, sowohl die Erzielung einer gleichmäßigen Belichtung als auch die Verhinderung des Nachlauffehlers möglich.
  • Fig. 10 zeigt ein siebtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Verglichen mit dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 9 sind bei der Ausrichteinrichtung dieses Beispiels die Ausrichteinrichtungs-Hauptkörper-Steuereinrichtung 67 und die Luftmengen-Einstellmechanismen weggelassen, so daß die Verschiebung &Delta;y, ähnlich wie bei der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 5, durch Verschiebung der Positionsbezugspunkte der Blendenfolien 34 und 35 kompensiert werden. Die Vorteile und Nachteile der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 10 im Vergleich mit der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 9 sind die gleichen wie die der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 5 im Vergleich mit der Ausrichteinrichtung gemäß Fig. 1.
  • Während die Erfindung mit Bezug auf die hierin offenbarten Bauformen beschrieben wurde, ist sie nicht auf die dargelegten Details eingeschränkt, und diese Erfindung ist dazu vorgesehen, derartige Modifikationen oder Änderungen abzudecken, wie sie innerhalb des Geltungsbereichs der folgenden Ansprüche auftreten können.

Claims (8)

1. Belichtungsvorrichtung zur Belichtung eines Substrats (44) mit einem Bestrahlungsstrahl, die ein Bestrahlungssystem aufweist, das eine Synchrotronorbitstrahlungs(SOR)- Quelleneinrichtung (11) und eine Spiegeleinheit (23), um das Substrat mit einem Bestrahlungsstrahl zu bestrahlen, und eine Belichtungseinheit (40) enthält, die eine Belichtungszone hat, um das Substrat in der Belichtungszone zu halten, wobei die SOR-Quelleneinrichtung (11), die Spiegeleinheit (23) und die Belichtungseinheit (40) unabhängig voneinander auf einem Boden (1) befestigt sind,
gekennzeichnet durch
eine Vielzahl von Detektoren (61), die in verschiedenen Positionen außerhalb der Belichtungszone angeordnet sind, um den Bestrahlungsstrahl aus dem Bestrahlungssystem zu erfassen und um Ausgangssignale zu erzeugen, eine auf die Ausgangssignale von den Detektoren (61) ansprechende Signalverarbeitungseinrichtung (62, 63, 66), um eine Änderung in der Relativposition der Belichtungszone der Belichtungseinheit (40) und des Bestrahlungsstrahls aus der Spiegeleinheit (23) zu erfassen, und eine Belichtungssteuereinrichtung zur Korrektur der Belichtungsbedingungen in Antwort auf eine erfaßte Änderung in der Relativposition der Belichtungszone und des Strahls, wobei die Belichtungssteuereinrichtung mindestens eine der folgenden Einrichtungen enthält, eine erste Steuereinrichtung (30 - 35, 64, 65) zur Einstellung einer Belichtungszeitverteilung der Belichtungseinheit,
eine zweite Steuereinrichtung (969) zur Einstellung der Positionslage einer Blendeneinheit (30 - 35) innerhalb der Belichtungseinheit (40),
eine dritte Steuereinrichtung (67, 68) zur Einstellung der Positionslage eines Hauptkörpers der Belichtungseinheit (40) relativ zum Boden,
eine vierte Steuereinrichtung (768) zur Einstellung der Positionslage der Spiegeleinheit (23) und
eine fünfte Steuereinrichtung zur Einstellung einer Elektronenbahn der SOR-Quelleneinrichtung (11).
2. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, bei welcher die erste Steuereinrichtung (30 - 35, 64, 65) eine Blende (34, 35) der Blendeneinheit (30 - 35) zum abwechselnden Unterbrechen und Durchlassen des Bestrahlungsstrahls, eine Antriebseinrichtung (65) zum Antrieb der Blende (34, 35) auf der Basis einer Datentabelle, die gespeicherte Daten enthält, um mindestens (a) die Relativposition und/oder (b) die Bewegungsgeschwindigkeit der Blende (34, 35) zu bestimmen, und eine Steuereinrichtung (64) zur Verstellung der Daten in der Tabelle auf der Basis eines Ausgangswerts aus der Signalverarbeitungseinrichtung (62, 63, 66) aufweist, der eine Änderung in der Relativposition repräsentiert.
3. Vorrichtung gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2, bei welcher die Detektoren (61) an zwei Punkten außerhalb der Belichtungszone, auf entgegengesetzten Seiten der Ebene der Synchrotronstrahlung angeordnet sind.
4. Belichtungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, bei welcher die Belichtungssteuereinrichtung aufweist, die erste Steuereinrichtung (30 - 35, 64, 65), die dazu angepaßt ist, eine Belichtungszeitverteilung entsprechend einer Ungleichmäßigkeit des Beleuchtungslichts in einer eindimensionalen Richtung einzustellen, wobei die Belichtungszeitverteilung relativ zu einem Positionsbezugspunkt definiert wird, um über eine Belichtungszone hinweg einen einheitlichen Betrag der Belichtung zu schaffen, und eine Positionsbezugspunkt-Steuereinrichtung, die betätigbar ist, um den Positionsbezugspunkt auf der Basis eines Ausgangswerts aus der Signalverarbeitungseinrichtung (62, 63, 66), der eine Änderung der Relativposition repräsentiert, mit Bezug auf einen Rahmen der Belichtungsvorrichtung in einer Dimension zu verschieben.
5. Vorrichtung gemäß Anspruch 4, bei welcher die erste Steuereinrichtung (30 - 35, 64, 65) die Blendeneinheit (30-35), die eine Lichtunterbrechungsplatte hat, und eine Antriebseinrichtung (65) enthält, um die Lichtunterbrechungsplatte in Übereinstimmung mit einer Antriebskurve entsprechend der Ungleichmäßigkeit der Intensität anzutreiben, und bei welcher die Positionsbezugspunkt-Steuereinrichtung betätigbar ist, um einen Bezugspunkt der Antriebskurve zu verschieben.
6. Vorrichtung gemäß Anspruch 4, bei welcher die erste Steuereinrichtung (30 - 35, 64, 65) die Blendeneinheit (30 - 35) enthält, welche relativ zu einem Rahmen der Belichtungsvorrichtung beweglich ist, und bei welcher die Positionsbezugspunkt-Steuereinrichtung die zweite Steuereinrichtung (969) enthält, die betätigbar ist, um die Blendeneinheit (30 - 35) in der einen Dimension anzutreiben.
7. Belichtungsvorrichtung gemäß Anspruch 6, bei welcher die zweite Steuereinrichtung (969) betätigt wird, um die Blendeneinheit (30 - 35) auf drehende Weise um eine optische Achse des Bestrahlungsstrahls zu bewegen.
8. Belichtungseinheit zum Gebrauch in einer SOR-Belichtungsvorrichtung, wobei die Belichtungseinheit enthält, eine Vielzahl von Detektoren (61), die in verschiedenen Positionen außerhalb der Belichtungszone angeordnet sind, um den Bestrahlungsstrahl einer SOR-Einrichtung zu erfassen,
eine auf die Ausgangssignale der Detektoren (61) ansprechende Signalverarbeitungseinrichtung (62, 63, 66), um
eine Änderung in der Relativposition der Belichtungszone und des Bestrahlungsstrahls zu erfassen,
einen Wafertisch (45) und einen Maskentisch (42), die in der Belichtungszone angebracht sind, um einen Wafer (44) mit einem Maskenmuster (41) zu belichten, und
eine Belichtungssteuereinrichtung zur Korrektur der Belichtungsbedingungen in Antwort auf eine erfaßte Änderung in der Relativposition der Belichtungszone und des Bestrahlungsstrahls,
wobei die Belichtungssteuereinrichtung mindestens eine der folgenden Einrichtungen enthält,
eine erste Steuereinrichtung (30 - 35, 64, 65) zur Einstellung einer Belichtungszeitverteilung der Belichtungseinheit (40),
eine zweite Steuereinrichtung (969) zur Einstellung der Positionslage einer Blendeneinheit (30 - 35) innerhalb der Belichtungseinheit (40),
eine dritte Steuereinrichtung (67, 68) zur Einstellung der Positionslage eines Hauptkörpers der Belichtungseinheit (40),
eine vierte Steuereinrichtung (768) zur Einstellung der Positionslage eines Spiegels, der zum Ausrichten des Bestrahlungsstrahls in Richtung auf die Belichtungszone dient und unabhängig von der Belichtungseinheit (40) be festigt ist, und
eine fünfte Steuereinrichtung zur Einstellung einer Elektronenbahn der SOR-Quelleneinrichtung, die unabhängig von der Belichtungseinheit (40) befestigt ist.
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