DE655890C - Strahlungsempfindliche Halbleiterzelle - Google Patents
Strahlungsempfindliche HalbleiterzelleInfo
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Description
Die Strahlungsempfindlichkeit .von einigen elektrischen Halbleitern ist bekannt; insbesondere
weiß man, daß sich Thalliumsulfid (Tl2S) durch ein bestimmtes Oxydationsverfahren
in eine strahlungsempfindliche Verbindung mit Sauerstoff und Schwefel unbekannter
chemischer Zusammensetzung umwandeln läßt. Bisher erfolgte nun die Herstellung solcher Zellen mit einer Schwefel-Sauerstoff-Verbindung
des Thalliums als strahlungsempfindliches Mittel immer in der Weise, daß das vorher sorgfältig oxydierte Thalliumsulfid
einfach durch Aufschmieren oder Destillieren in dünner Schicht auf eine Glasoder
Quarzplatte aufgebracht wurde. Die Elektroden wurden dabei bisher stets irgendwie
willkürlich in der strahlungsempfindlichen Schicht angeordnet.
Demgegenüber ist die strahlungsempfindliche Halbleiterzelle nach der Erfindung dadurch
gekennzeichnet, daß zur Erzielung eines möglichst großen Effektes der strahlungsempfindliche
Körper aus reinem Thalliiumsulfid oder einem ähnlichen Halbleiter
mit entsprechend hohem Temperaturkoeffizienten besteht und die in einen Halbleiter unter
Anwendung von Wärme eingefügten Elektroden so ausgebildet und angeordnet sind, daß
wenigstens eine von diesen, und zwar stets die zu bestrahlende Elektrode, eine punktförmige
Sammelstelle der elektrischen Stromlinien darstellt.
Erfolgt die Bestrahlung des aus reinem Thalliumsulfid bestehenden Halbleiters oder
einem ähnlichen Halbleiter mit entsprechend hohem Temperaturkoeffizienten in dieser eben
geschilderten Weise, so tritt bei angelegter Fremdspannung an die in den Halbleitern
eingeschmolzenen Elektroden eine starke Änderung des elektrischen Widerstandes der
Zelle auf. Diese Erscheinung ist bei ultraroter Bestrahlung am stärksten im Gegensatz
zu den bekannten Kristalldetektorzellen, bei denen der strahlungsempfindliche Körper aus
Bleiglanz mit punktförmig berührender Elektrodenspitze besteht.
Neben diesem durch die Erfindung erzielten Fortschritt ist ein weiterer Vorteil dadurch
erreicht, daß als strahlungsempfindlicher Halbleiter reines Thalliumsulfid zur Anwendung gelangt und so das bisher übliche
umständliche Oxydationsverfahren überflüssig wird, bei dem schon geringe Abweichungen
von einer einmal empirisch festgestellten Norm eine erhebliche Einbuße an Strahlungsempfindlichkeit
zur Folge haben.
Um das vorstehend gekennzeichnete Ziel, nämlich ein möglichst starkes Konzentrationsgefälle der elektrischen Stromlinien an wenigstens
einer der Elektroden zu erreichen, kann
*) Von dem Patentsucher ist als der Erfinder angegeben worden:
Dr. Ferdinand Waibel in Berlin-Charlottenburg.
diese als Draht oder Band gestaltet und mit einem kurzen Endstück in den Halbleiter eingefügt
werden. Von dieser Elektrode können sich die Stromlinien dann gegen eine andere Elektrode mit größerer Oberfläche ausbreiten;
Durch den bekannten Einbau der Halbleiterzelle in ein Vakuumgefäß wird die Halbleiterschicht
vor Verunreinigung, Beschädigungen und chemischen Umsetzungen an der ίο Oberfläche bewahrt. Das gleiche läßt sich
auch in bekannter Weise durch Umgeben der strahlungsempfindlichen Schicht mit einem
inaktiven Gas, wie Stickstoff oder Edelgas, oder einer Schutzschicht aus Lack o. dgl. erreichen.
Zur Sammlung der auf die Zelle auf treffenden Strahlen und einer damit verbundenen
Vergrößerung des Effektes ist die bestrahlte Elektrode an ihrem mit dem Halbleiter in
elektrischer Verbindung stehenden Ende mit einem kugeligen oder fast kugeligen Vollkörper
aus Glas oder einem die auftreffende Strahlung wenig absorbierenden Stoff, z. B.
Korund, Flußspat o. dgl., umgeben, der die auf die Vorrichtung fallende Strahlung nach
dem dahinterliegenden kurzen Ende der Elektrode hin sammelt. Durch Vorsehung eines
weiteren Vollkörpers aus einem entsprechenden Stoff zwischen der Wandung des die
Zellenanordnung aufnehmenden Gefäßes und dem Halbleiter kann die Konzentration der
Strahlung gegen das bestrahlte Ende der einen Elektrode noch erhöht werden.
Um eine schnelle Abkühlung des HaIbleiters zu erreichen, ist dieser vorteilhaft in
einen guten Wärmeleiter eingebettet.
Die Zeichnung veranschaulicht fünf Ausführungsbeispiele des Gegenstandes nach der
Erfindung. Insbesondere zeigen: Fig. ι eine in einen evakuierten Kolben
eingeschlossene Halbleiterzelle mit einer punktförmigen und einer ausgebreiteten Elektrode
in schematischer Darstellung,
Fig. 2 und 3 in zylinderförmige gasgefüllte Gefäße eingeschlossene Halbleiterzellen mit
einer punktförmigen und einer ausgebreiteten Elektrode in schematischer Darstellung,
Fig. 4 eine in einen evakuierten Glaskolben eingeschlossene Halbleiterzelle mit zwei
punktförmigen Elektroden in schematischer Darstellung und
Fig. 5 eine mit einem besonderen Wärmeleiter verbundene Halbleiterzelle mit einer
punktförmigen und einer ausgebreiteten Elektrode im Querschnitt.
Nach der* Fig. 1 liegt an der Wandung eines Glaskolbens 1 ein erstarrter Tropfen
von Thalliumsulfid 2; in ihn ist als eine der beiden Elektroden eine Drahtschleife 4 eingebettet.
In die innere Oberfläche des Thalliumsulfidtropfens 2 ist das kurze, z. B. aus Platin oder Nickel bestehende Endstück der
anderen Elektrode 3 auf irgendeine Weise unter Anwendung von Wärme eingefügt, also
eingeschmolzen. Bei dieser Anordnung erf.'iblgt die Ausbreitung der elektrischen Stromlinien
etwa längs der Mantellinien eines stumpfen Kegels. In Berührung mit der Oberfläche
des Thalliumsulfidtropfens 2 ist das kurze Endstück der Elektrode 3 mit einem
kugeligen oder fast kugeligen Vollkörper 5 aus Glas oder einem die auftreffende Strahlung
wenig absorbierenden Stoff zu einem bereits ausführlich geschilderten Zweck umgeben.
In der Fig. 2 ist die Halbleiterzelle in ein zylinderförmig gestaltetes und mit einem
inaktiven Glas, z.B. Helium oder Stickstoff, gefülltes Gefäß 1 eingeschlossen. In Übereinstimmung
mit dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 ist die Elektrode 4 wieder
als Draht, Blech oder Folie in Schleifenform in einen Thalliumsulfidtropfen 2 eingeschmolzen,
der sich an einem Ende des abgerundet zugeschmolzenen zylindrischen Gefäßes befindet. Die Elektrode 3 besteht aus
einem in das Glas 6 eingeschmolzenen Draht, der am Ende der Glasumhüllung über diese
hinausragt, gegen das Ende der Wandung des Gefäßes 1 stößt und hier mit dem Thalliumsulfid
einen punktartigen Kontakt bildet. Die zur Strahlungskonzentration dienende kleine
Glaskugel 5 ist bei diesem Ausführungsbeispiel außerhalb des Zellengefäßes angeordnet.
Nach der Fig. 3 liegt die Elektrode 4 in dem im Zellengefäß 1 befindlichen Thalliumsulfid
2 ebenfalls wieder als Drahtschlinge angeordnet. Durch den Boden des Zellengefäßes
und einen dort zwischen der Gefäßwandung und dem Thalliumsulfid 2 vorgesehenen vollen aoo
Glaskörper 7 hindurch ist die andere Elektrode 3 geführt, die wieder nur mit einem
kurzen Endstück in Kontakt mit dem Thalliumsulfid steht. In diesem Falle ist die zur
Strahlungskonzentration dienende und die Oberfläche des Thalliumsulfides berührende
Glaskugel 5 in das Innere des Thalliumsulfides eingebettet.
Die Einrichtung nach Fig. 4 stimmt weitgehend mit der Anordnung nach Fig. 1 überein.
Ein wichtiger Unterschied besteht jedoch darin, daß bei der Einrichtung nach Fig. 4 zwei punktförmige Elektroden 3 und 4
in den Thalliumsulfidtropfen eingefügt sind. Hierbei ist jedes der beiden Enden der Elektroden
mit kugelförmigen, die Halbleiterschicht berührenden Strahlungssammlern umgeben.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 5 liegt das geschmolzene Thalliumsulfid 2 in
einem metallischen Napf 4, der die eine Elektrode bildet und gleichzeitig zur Ableitung
der Wärme von der Halbleiterzelle dient. Von oben ragt in das Thalliumsulfid die an
ihrem unteren Ende mit einem kugeligen Strahlungssammler 5 umgebene Elektrode 3 hinein. Um die Abkühlung der aus elektrischen
oder optischen Ursachen hervorgerufenen Erwärmung möglichst schnell erfolgen zu lassen, ist die Kontaktspitze der Elektrode
3 möglichst bis auf den Boden des Napfes geführt, der durch ein Glimmer- oder Emailstück 8 gegen die nahe benachbarte
Spitze der Elektrode 3 isoliert ist.
Die der Belichtung ausgesetzten Elektroden sind jeweils in Abhängigkeit von der
Form des einfallenden Strahlenbündels als eingeschmolzene kurze band-, röhren- oder
ringförmige Stückchen ausgebildet oder bestehen aus einem feinen Drahtnetz. Weitere
Elektrodenformen sind durch in eine Unterlage eingefügte feine Metallstriche oder Metallraster
zu ereichen. Die Träger dieser Elektroden bildet entweder die Außenwand des Zellengefäßes oder ein in den Halbleiter
eingefügter besonderer Stützkörper.
Für eine gewünschte Wärmeableitung kann nicht nur, wie schon erwähnt wurde, durch
Verbindung der Halbleiterzelle mit einem besOnders guten Wärmeleiter, sondern auch
durch eine zweckmäßige Formgebung des Zellengefäßes Sorge getragen werden. Auf diese Weise ist es möglich, die Energieleistungen
der Zelle durch hohe Spannungen oder große Strahlungsmengen zu erhöhen, ohne daß ihre Empfindlichkeit dadurch beeinträchtigt
wird.
Bei Verwendung von mehr als zwei Elektroden in einem einzigen Halbleiter können
diese in Anpassung an den Gebrauchszweck parallel oder hintereinander geschaltet werden.
Claims (6)
- Patentansprüche:i. Strahlungsempfindliche Halbleiterzelle, dadurch gekennzeichnet, daß der strahlungsempfindliche Körper aus reinem Thalliumsulfid oder einem ähnlichen Halbleiter mit entsprechend hohem Temperaturkoeffizienten besteht, in welches eine oder mehrere Elektroden derart eingeschmolzen sind, daß wenigstens um eine der Elektroden ein starkes Konzentrationsgefälle der elektrischen Stromlinien ent- · steht und bei angelegter Fremdspannung unter Belichtung der punktförmigen Berührungsstelle der einen oder mehrerer Elektroden mit dem strahlungsempfindliehen Körper eine starke Änderung des elektrischen Widerstandes der Zelle stattfindet.
- 2. Halbleiterzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine der Elektroden mit großer Oberfläche in Kontakt mit dem Halbleiter steht.
- 3. Halbleiterzelle nach den Ansprüchen ι oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiter in ein Vakuumgefäß eingebaut oder mit einem inaktiven Gas oder einer Schutzschicht umgeben ist.
- 4. Halbleiterzelle nach den Ansprüsprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens die eine der Elektroden an ihrem mit dem Halbleiter in elektrischer Verbindung stehenden Ende mit einem kugeligen oder fast kugeligen Vollkörper aus Glas oder einem die auftreffende Strahlung wenig absorbierenden Stoff umgeben ist, der die auf die Vorrichtung fallende Strahlung nach dem dahinterliegenden kurzen Ende der Elektrode hin sammelt.
- 5. Halbleiterzelle nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens die eine der Elektroden durch einen zwischen der Gefäßwandung und dem Halbleiter befindlichen vollen Körper aus Glas oder einem die auftreffende Strahlung wenig absorbierenden Stoff hindurchgeführt ist.
- 6. Halbleiterzelle nach den Ansprüchen ι bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiter mit einem guten Wärmeleiter verbunden ist.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES114517D DE655890C (de) | 1934-06-28 | 1934-06-28 | Strahlungsempfindliche Halbleiterzelle |
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DES114517D DE655890C (de) | 1934-06-28 | 1934-06-28 | Strahlungsempfindliche Halbleiterzelle |
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Publication Number | Publication Date |
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DE655890C true DE655890C (de) | 1938-01-25 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE655890C (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE940666C (de) * | 1948-12-07 | 1956-03-22 | Electronique Moderne Sarl L | Schaltung zum Betrieb photoelektrischer Zellen |
US2964636A (en) * | 1956-06-05 | 1960-12-13 | Eastman Kodak Co | Optically immersed photoconductive cells |
US2983888A (en) * | 1954-09-29 | 1961-05-09 | Barnes Eng Co | Bolometer |
DE1117790B (de) * | 1957-09-03 | 1961-11-23 | Nat Res Dev | Zur Herstellung von Photohalbleiterzellen, Strahlungsfiltern od. dgl. geeignetes Halbleitermaterial |
DE1188833B (de) * | 1952-04-12 | 1965-03-11 | Immanuel Broser Dr Ing | Verfahren zur Messung geringer Strahlenintensitaeten, insbesondere von Roentgen- und Gammastrahlen |
-
1934
- 1934-06-28 DE DES114517D patent/DE655890C/de not_active Expired
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE940666C (de) * | 1948-12-07 | 1956-03-22 | Electronique Moderne Sarl L | Schaltung zum Betrieb photoelektrischer Zellen |
DE1188833B (de) * | 1952-04-12 | 1965-03-11 | Immanuel Broser Dr Ing | Verfahren zur Messung geringer Strahlenintensitaeten, insbesondere von Roentgen- und Gammastrahlen |
US2983888A (en) * | 1954-09-29 | 1961-05-09 | Barnes Eng Co | Bolometer |
US2964636A (en) * | 1956-06-05 | 1960-12-13 | Eastman Kodak Co | Optically immersed photoconductive cells |
DE1117790B (de) * | 1957-09-03 | 1961-11-23 | Nat Res Dev | Zur Herstellung von Photohalbleiterzellen, Strahlungsfiltern od. dgl. geeignetes Halbleitermaterial |
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