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DE3206882C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Verdampfen von Material unter Vakuum - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Verdampfen von Material unter Vakuum

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DE3206882C2
DE3206882C2 DE3206882A DE3206882A DE3206882C2 DE 3206882 C2 DE3206882 C2 DE 3206882C2 DE 3206882 A DE3206882 A DE 3206882A DE 3206882 A DE3206882 A DE 3206882A DE 3206882 C2 DE3206882 C2 DE 3206882C2
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Balzers Hochvakuum 6200 Wiesbaden GmbH
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Abstract

Beim Verdampfen von Material unter Vakuum durch Beschuß desselben mit Elektronen aus einer Nieder volt bogen ent ladung ist es besonders bei Dielektriken und refraktären Metallen schwierig, auf der Oberfläche des Verdamp fungsgutes die nötige Energiedichte zu erreichen. Nach der Erfindung wird dieses Problem durch Zuführung zusätzlicher Verdampfungsleistung mittels einer Elektronenstrahlkanone mit Elektronenenergien größer als 1 keV gelöst. Dazu werden auch besondere Vorrichtungen vorgeschlagen, bei denen die Elektronenquelle der Niedervoltbogenentladung und die Elektronenkanone eine gemeinsame Achse besitzen.

Description

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Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Verdampfen von Materialien unter Vakuum durch Beschüß des zu verdampfenden Materials mit Elektronen gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1.
Bekannt sind Elektronenstrahlverdampfer mit hohem Elektronenstrom (z. B. 100 A) und relativ geringer Beschleunigungsspannung (z. B. 100 V). Als Kathoden werden hierbei entweder Hohlkathoden, die sich durch Ionenbeschuß erhitzen, oder geheizte Glühkathoden verwendet. Entladungen mit Elektronenquellen dieser Art, werden im folgenden als Niedervoltbogen bezeichnet. Dabei ist die laufende Zuführung eines inerten Gases (z. B. Argon) an die Kathode zweckmäßig und ermöglicht es, gutgebündelte Strahlen mit hoher Stromstärke bei geringer Beschleunigungsspannung zu erzeugen. Das Gas dient zur Raumladungskompensation, wobei ein Plasma entsteht Niedervoltbogen lassen sich durch Magnetfelder bündeln und zu dem zu verdampfenden Material führen und haben den großen Vorteil einer starken Aktivierung des Dampfes bzw. Restgases in der Beschichtungskammer. Der Nachteil bekannter Anordnungen zur Verdampfung mittels Niedervoltbogtns jedoch liegt darin, daß damit bisher nur elektrisch leitende Materialien verdampft werden konnten oder solche, die wenigstens bei der Verdampfungstemperatur elektrisch leitend sind. Aber auch refraktäre Metalle können damit oft nur schwer verdampft werden, da die erzielbare Leistungsdichte nicht ausreicht. Außerdem wird bei wachsender Verdampfungsgeschwindigkeit die Dampfdichte über dem zu verdampfenden Material immer größer, wobei der niederenergetische Elektronenstrahl dis Niedervoltbogens seine Energie dann zum größten Teil im Dampf verliert und also nicht mehr genügend Energie an da- zu verdampfende Maieria! abgegeben werden kann. Dies führt zu einer empfindlichen Begrenzung der im praktischen Betrieb erreichbaren Verdampfungsgeschwindigkeit
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs erwähnten Art zu entwickeln, welches weder in bezug auf die zu verdampfenden Materialien noch in bezug auf die Aktivierung des Dampfes bzw. des Restgases in der Beschichtungskammer den genannten Beschränkungen unterliegt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgernäß dadurch gelöst, daß dem zu verdampfenden Material mittels einer EIek tronenkanone mit einer Elektronenenergie größer als 1 keV zusätzliche Verdampfungsleistung zugeführt wird.
Durch diese Maßnahme ist es überraschenderweise möglich, praktisch alle Materialien, das heißt auch extrem temperaturbeständige Metalle und dielektrische Materialien nicht nur mit hoher Gvfhwindigkeit zu verdampfen, sondern gleichzeitig auch eine hohe Aktivierung des Dampfes und der gegebenenfalls in der Verdampfungskammer noch befindlichen bzw. in diese zum Beispiel zwecks Durchführung einer reaktiven Verdampfung eingelassenen Gase zu erzielen. Dabei bewirkt der Elektronenstrahl mit einer kinetischen Energie der Elektronen von mehr als 1 keV die hohe Verdampfungsrate, und zwar auch bei der Verdampfung elektrisch schlecht leitender Materialien, und der Strom der niederenergetischen Elektronen, dessen Stromstärke viel höher und deren Wirksamkeit für die Aktivierung und Ionisierung gleichzeitig viel größer ist. vermag dc^i Dampfstrom bzw. dem reaktiven Gas die erwünschte Aktivierung zu erteilen.
Das erfindungsgemäße Verfahren bietet außerdem den Vorteil, daß die bei den bekannten Verfahren der Verdampfung mittels Niedervoltbogen unvermeidliche Koppelung von Prozeßparametern wie Verdampfungsgeschwindigkeit, Restgasdruck. Restgaszusammensetzung, lonisierungsdichte usw. vermieden werden kann, so daß es möglich ist, sich den Erfordernissen des jeweiligen Anwendungsfalls zum Beispiel im Rahmen eines Beschichtungsverfahrens in optimaler Weise anzupassen.
Eine weitere Erfindungsaufgabe ist es, eine für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens besonders geeignete Vorrichtung anzugeben. Diese weist eine evakuierbare Verdampfungskammer, darin eine Haltevorrichtung für ein zu verdampfendes Material so-
wie eine Elektronenquelle zum Beschüß des Materials mit Elektronen aus einer Niedervoltbogenentladung auf und ist dadurch gekennzeichnet, daß in der Verdampfungskammer zusätzlich eine Elektronenkanone zum Beschüß des Materials mit Elektronen mit einer Elektronenenergie von mehr als 1 keV vorgesehen ist Es wird empfohlen, den Strahl der höherenergetischen Elektronen durch ein Magnetfeld zu führen und zu bündeln, wobei dei öazu dienende Magnet gleichzeitig auch zur Führung und Bündelung des Strahls der Elektronen aus der Niedervoltbogenentladung dienen kann. Wegen der unterschiedlichen Elektroneneiiergien sind dafür nur besondere Feldformen und Elektronenstrahlbahnen geeignet, wie aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen ersichtlich wird.
Die F i g. 1,2 und 3 zeigen schematische Ausführungsbeispiele. bei denen an sich bekannte Elektronenquellen für eine Niedervoltbogenentladung und für einen Elektronenstrahl mit Elektronen von einigen keV in eine Verdampfungskammer eingebaut worden sind; die Fig. 1—3 zeigen drei verschiedene Anordnungsmöglichkeiten solcher Quellen. Die
Fig.4 zeigt demgegenüber eine speziellere Anordnung, bei der die beiden Elektronenstrahlen koaxial zueinander sind und der hochenergeiische Elektronenstrahl die Kathodenkammer der Niedervoltbogenentladung durchläuft.
F i g. 5 schließlich betrifft eine ähnliche Anordnung, bei der die beiden Elektronenstrahlen wiederum koaxial verlaufen, jedoch räumlich voneinander getrennt sind, wobei die Elektronenquelle der Niedervoltbogenentladung die Elektronenstrahlkanone für die Elektronen höherer Energie umfaßt
In allen Figuren ist die Kathodenkammer der Niedervoltbogenentladung mit 1 und die Elektronenstrahlkanone, welche die Elektronen höherer Energie liefert, mit 2 bezeichnet. Ferner zeigen alle Abbildungen einen Tiegel 3. in dem das zu verdampfende Material liegt, sowie einen Auffänger 4. auf dem der erzeugte Dampf kondensiert werden kann. Letzterer kann z. B. durch die von einem Träger gehaltenen Substrate gebildet werden, auf denen dünne Schichten des verdampften Materials niedergeschlagen werden sollen. Alle Figuren zeigen außerdem einen Pumpstutzen 5 zur Evakuierung der Verdampfungskammer auf einen passenden Unterdruck, z. B. auf einen Druck von 10—' mbar für die Aufdampfung von dünnen Schichten. Im letzteren Anwendungsfall wird der Substrathalter oft isoliert befestigt und während der Kondensation des Dampfes auf ein negatives Potential gelegt, um Ionen aus dem aktivierten Dampf und dem Restgas (Plasma) auf die Substrate hin zu beschleunigen; man spricht in diesem Fall von Ionenbeschichtung.
Der Stromkreis des Niedervoltbogens mit der Stromquelle 10 wurde nur in den F i g. 1 und 2 eingezeichnet. Der Niedervoltbogen kann sowohl auf Schwebepotential gehalten werden, d. h. ohne Verbindung mit dem Gehäuse der Verdampfungskammer sein, oder auch mit einer Verbindung des negativen Pols der Stromquelle 10 mit dem Gehäuse betrieben werden, Der positive Pol der Stromquelle 10 kann mit einer besonderen, isoliert durch die Kammerwand hindurchgeführten Anode, oder mit dem Behälter des zu verdampfenden Materials, also dem Tiegel, verbunden werden. Da in letzterem Falle der Tiegel gleichzeitig auch Ziel des Strahls der Elektronen höherer Energie aus der Elektronenkanone 2 ist, müssen dann gegebenenfalls aus Gründen der Sicherheit Strompfade vorgesehen werden, die verhindern, daß er bei eventuellem Ausfall des Niedervoltbogens zu hohe Spannungen annehmen kann. Dazu genügt z. B. ein Überbrückungswiderstand von 22 Ohm zwischen dem Tiegel und dem Gehäuse, der für den Betrieb des Niedervoltbogens eine kaum spürbare Belastung darstellt
Weitere für den praktischen Betrieb einer Verdampfungseinrichtung nützliche Einzelheiten wurden der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt, wie z. B.
ίο Kühlwasserkanäle, Ventile zum Einlaß von Gasen in die Kathodenkammer der Niedervoltbogenentladung bzw. in die Verdampfungskammer (z. B. um dort eine reaktive Verdampfung durchzuführen). Ferner können verschiedene Hilfsspulen zur Erzeugung von Magnetfeldem vorgesehen werden, z. B. an der Kathodenkammer des Niedervoltbogens (wie in DE-OS 28 23 876 beschrieben), Hilfsvakuumpumpen für den Betrieb der Elektronenquelle der energiereichen Elektronen und verschiedene weitere Einrichtungen, wie aus der Fachliteraturja bekannt ist.
Für die Durchführung des erfindüiigsFemä8en Verfahrens werden die zu beschichtenden Substrate an der der Dampfquelle zugewandten Seite der Haltevorrichtung 4 befestigt, das zu verdampfende Material in den Tiegel 3 gegeben, sodann die Verdampfungskammer geschlossen und evakuiert Nachdem ein Druck von etwa 10-4mbar erreicht ist, läßt man in die Kathodenkammer der Niedervoltbogenentladung durch ein Ventil soviel Argon ein, daß der Druck im Rezipienten auf etwa 10-3mbar ansteigt Darauf kann der Niedervoltbogen gezündet werden, und es fließen z. B. 35 Ampere bei einer Spannung von 60 Volt zwischen Anode und Kathode. Der Substrathalter kann z. B. auf ein im Vergleich zum Bogenplasma negatives Potential gelegt werden um, wie oben erwähnt positive Ionen aus dem Plasma auf die Substrate hin zu beschleunigen.
Der Ionenstrom über dem Substrathalter gehorcht den Gesetzmäßigkeiten einer Langmuir-So.ide und beträgt in dem gewählten Beispiel 2 Ampere. Wird also das Substrat auf ein Potential von — 500 Volt gelegt, dar.,1 werden die Substrate einem Argonionenbeschuß mit einer Leistung von 1 kW ausgesetzt.
Bei Führung des Niedervoltbogens durch ein passendes Magnetfeld könnte man mit der beschriebenen An· Ordnung schon eine beachtliche Verdampfungsgeschwindigkeit erzielen: die dafür benötigten Spulen wurden jedoch im Ausführungsbeispiel nicht vorgesehen, weil mit dem erfindungsgemaßen zusätzlichen Einsatz eines Elektronenstrahls mit Elektronen höherer Energie eine viel stärkere Erhöhung der Verdampfungsgeschwindigkeit erzielt wird. Der Elektronenstrahl wird z. B. von einer sogenannten Fernfokus-Elektronenquelle er/iugt und auf das zu verdampfende Material im Tiegel gerichtet und ergibt z. B. bei einer Beschleunigungsspannung vo«: 20 kV einen Strom von 0.3 A. Infolge der mit einem fokussierten Elektronenstrahl erzielbaren Leistungsdichte beim Aufprall der Elektronen im Tiegel wird das verdampfungsgut örtlich sehr hoch erhitzt, so daß eine hohe Verdampfungsrate resultiert.
Wenn man gleichzeitig mit Beginn der Verdampfung ein Reaktionsgas in den Rezipienten einströmen Iä3t, werden sowohl die Moleküle dieses Gases als auch der Dampf aus dem verdampften Material durch die Elektronen des Niedervoltbogens und durch die Argonionen aktiviert und teilweise ionisiert. Zum Beispiel kann mit N2 als reaktivem Gas und mit Ti als Verdampfungsmaterial auf den Substraten eine Titannitridschicht -abgeschieden werden. Diese Schicht entsteht unter dem stän-
digen Aufprall von Titan-Stickstoff- und Argonionen und erhält so die gewünschte Haftfestigkeit und Dichte (Reaktive Ionenbeschichtung).
In einem zweiten Ausführungsbeispiel — siehe Fig. 2 — wurde der aus den Elektronen mit hoher Energie bestehende Elektronenstrahl durch ein Magnetfeld, dessen Feldlinien im wesentlichen senkrecht zur Zeichenebene verlaufen, auf das zu verdampfende Material gelenkt. Dabei werden die Elektronen auf ihrem Weg von der Kathode zum Tiegel um 180° abgelenkt und gleichzeitig fokussiert. Die Elektronen aus der Quelle 1 des Niedervoltbogens werden durch dieses Magnetfeld ebenfalls abgelenkt, aber wegen der kleineren Bewegungsenergie dieser Elektronen ist der Krümmungsradius ihrer Bahnen im Magnetfeld erheblich kleiner. Die Elektronen des Niedervoltbogens durchlaufen deshalb eine Art Zykloidenbahn. Die in Fig.2 eingezeichnete Bahn ist nicht die eines einzelnen Elektrons sondern zeigt den mittleren Verlauf des Niedervolt-Eiektronenstrahls an. Die Verlängerung des effektiven Weges der Elektronen infolge der Zykloidenbahnen und die daraus sich ergebende höhere Ionisation des Gases bzw. Dampfes in der Verdampfungskammer ergibt einen um 20—40 Prozent erhöhten Wert des auf den Substrathalter fließenden Stromes bei gegebener Stromstärke des Niedervoltbogens. Da das Magnetfeld, welches die Elektronen aus der Quelle 2 in den Tiegel umlenkt, den Bereich in unmittelbarer Nähe des Tiegels mit umfaßt, betrifft diese zusätzliche Ionisierung insbesondere auch den Dampf über eic m Ttegel, und eben diese besonders hohe Aktivierung des Dampfes gestattet die hohe Verdampfungsgeschwindigkeit der Verdampferquelle mit schnellen Elektronen voll auszunutzen und Schichten nach dem Ionenbeschichtungsverfahren herzustellen.
Der in F i g. 2 gezeigte Verdampfer 2, kann eine bekannte Type mit 270° Umlenkung des Elektronenstrahls sein. Die Elektronen werden hierbei mit 6—10 kV be schleunigt und die maximale Leistung beträgt 14 kW. Solche Verdampfer werden oft auch zur Herstellung von Schichten durch Aufdampfen im Hochvakuum benützt. Mit der beschriebenen Anordnung können z. B. haftieste Metallschichten auf metallischer Unterlage erzeugt werden. Hierbei wird die gleiche günstige Morphologie mit einer hohen Packungsdichte der Moleküle erzielt wie sie von Beschichtungen durch Verdampfung im Niedervoltbogen an sich bekannt sind, hier jedoch mit einer mehrfach höheren Verdampfungsgeschwindigkeit gewonnen werden.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel soll anhand der Fig. 3 erläutert werden: In diesem werden beide Elektronenstrahlen durch ein zur Kammerachse paralleles homogenes Magnetfeld von ihrer Quelle zum Verdampfertiegel geführt, welches durch die beiden Spulen 6 erzeugt wird Die niederenergetischen Elektronen des Niedervoltbogens wandern dabei im wesentlichen entlang der Feldlinien zum Tiegel, wobei Elektronen, die von dieser Ricntung abweichen auf enge Schraubenbahnen gezwungen werden. Auf diese Weise wird der Niedervoltbogen gebündelt und trifft das zu verdampfende Material mit höherer Leistungsdichte als bei den anhand der F i g. 1 und 2 beschriebenen Beispielen der Fall ist. Der Strahl der schnellen Elektronen wird dagegen schräg (aus der Zeichnungsebene heraus) zur Magnetfeldrichtung eingeschossen und erreicht den Tiegel 3 nach emer halben Schraubendrehung. Man kann so die Fokussierungseigenschaften eines homogenen Feldes bei 180° Ablenkung ausnützen.
Diese vorstehend beschriebene Anordnung hat, wie gesagt, den Vorteil, daß durch ein und dasselbe Magnetfeld die beiden Elektronenstrahlen fokussiert werden. Allerdings muß die Stärke dieses Magnetfeüies der Beschleunigungsspannung des Strahles der schnellen Elektronen sowie dessen Einschußwinkel und dem Abstand der beiden Elektronenquellen angepaßt werden. Zum Beispiel beträgt bei einem Abstand der Elektronenstrahlkanone 2 von der Kathodenkammer 1 des Niedervoltbogens von 10 cm die Höhe der Elektronenstrahlnone über dem Tiegel 40 cm, und für eine Elektronenenergie von lOkeV muß dann ein Magnetfeld von 2 · 20" JTesla ausgewählt werden. Dieser Nachteil kann aber mit der Anordnung der F i g. 4 vermieden werden, wobei beide Elektronenstrahlen eine gemeinsame Ach· se aufweisen und ebenfalls den Feldlinien des gleichen Magnetfeldes folgen, welches wieder im einfachsten Falle homogen und parallel zur Kesselachse sein kann. Der Strahl der energiereichen Elektronen wird hierbei durch die nach dem Verdampfungsrauin tu uffene Kathodenkammer 1 geführt, welche die Elektronenquelle für den Niedervoltbogen darstellt und diese kann wie auch in den bisherigen Beispielen sowohl eine Hohlkathode als auch eine Kathode mit Glühemission sein. Der Niedervoltbogen benutzt bei eingeschaltetem Magnetfeld immer die der Anode in der Verdampfungskammer zugekehrte Öffnung der Kathodenkammer, das in diese eingelassene Gas, ζ. B. Argon, aber strömt auch durch die obeS:.: Öffnung in Richtung zur Elektronenquelle 2 des Strahls der schnellen Elektronen hin aus, was stört.
Man kann diesen Effekt jedoch durch Erhöhen des Strömungswiderstandes für das Gas. ζ. Β. durch Einfügen von Blenden auf ein erträgliches Maß reduzieren.
Verglichen mit dem Ausführungsbeispiel der F i g. 3 kann im Beispiel der F i g. 4 ein für die Niedervoltbogenentladung optimales, stärkeres Magnetfeld unaDhängig eingestellt werden. Dieses stärkere Magnetfeld ist auch für den Durchtritt des Strahls der schnellen Elektronen durch die Kathodenkammer 1 von Vorteil. In der Kathodenkammer der Niedervoltbogenentladung soll sich nämlich ein Gasdruck zwischen 10-' bis 10~2 mbar einstellen. Das erfordert kleine Öffnungen. Andererseits darf der Durchtritt durch diese Kammer für den Strahl schneller Elektronen nicht durch zu kleine Öffnungen begrenzt sein. Die Erfindung ermöglicht, diese Forderungen zu erfüllen. Ein Verlust ist zwar immer noch meßbar, wenn der Querschnitt des Strahles der schnellen Elektronen von der idealen kreisförmigen Gestalt abweicht, doch wird dadurch die maximale Leistungsdichte auf dem zu verdampfenden Material kaum mehr beeinträchtigt. Beim Durchtritt durch die meist mit Edelgas gefüllte Kammer 1 tritt zwar auch eine rv'ichtungstreuung auf, aber auch deren Auswirkung auf die Verdampfungsgeschwindigkeit kann durch Einschalten des Magnets fast ganz eliminiert werden.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel zeigt die Fig.5. nämlich eine besonders bevorzugte Anordnung mit zwei in einem Magnetfeld auf derselben Achse geführten, d h. koaxialen Elektronenstrahlen. Der Niedervoltbogen wird hierbei von der Glühkathode 11 in der Ka-
thodenkammer 1 durch den Ringspalt 9 in den Rezipienten geleitet Sein weiterer Weg zum Tiegel wird durch das Magnetfeld bestimmt So behält er die durch den Ringspalt 9 aufgeprägte rohrförmige Gestalt bis zum Tiegel.
Der Strahl der höherenergetischen Elektronen verläuft zuerst in einem gekühlten oder hochtemperaturfesien Rohr 7, welches durch die Kathodenkammer 1 hindurchragt und gleichzeitig die Quelle und die Beschleu-
nigungsstrecke des hochenergetischen Elektronenstrahls gegen den erhöhten Gasdruck in der Kathodenkammer der Niedervoltbogenentladung abschirmt. Auf diese Weise genügt eine Hochvakuumpumpe mit einem Saugvermögen von 100 Liter pro Sek., die am Pumpstutzen 8 angeschlossen wird, um ein hinreichendes Druckverhältnis zwischen den beiden Elektronenstrahlquellf/;-zu erzwingen. Der in den Rezipienten eintretende Strahl hochenergetischer Elektronen erreicht auf nahezu geradem Wege, durch das Magnetfeld geführt, das zu verdampfende Material im Tiegel. Seitfe Bahn verläuft dabei in dem durch den Niedervoltbogen gebildeten umhüllenden Rohr. Das Magnetfeld, das der Bündelung und Führung des Strahls der hochenergetischen Elektronen dient, bewirkt gleichzeitig auch eine entsprechende Bündelung der Elektronen der Niedervoltbogenentladung. Da die Raumladung in der Verdampfungskammer durch Ionen kompensiert ist, welche aus GäbiTiölekijieri erzeugt würden, die aus dem Vcrdamp· fungsgut stammen, ist die auf diesem erzielbare Energiedichte sehr hoch. Damit wird beispielsweise bei der Verdampfung von Titan eine Erhöhung der Verdampfungsgeschwindigkeit um den Faktor 25 gegenüber der bei der reinen Niedervoltbogen-Verdampfung erzielbarerc Geschwindigkeit erreicht.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
30
35
40
45
50
55
60
65

Claims (8)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Verdampfen von Material unter Vakuum durch Beschüß des zu verdampfenden Materials mit Elektronen aus einer Niedervoltbogenentladung zwischen einer Kathode und einer in der Verdampfungskammer befindlichen Anode, dadurch gekennzeichnet, daß dem zu verdampfenden Material mittels einer Elektronen-Strahlkanone mit Elektronenenergien größer als 1 keV zusätzliche Verdampfungsleistung zugeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß während des Betriebes laufend Gas dem Verdampfungsraum zugeführt und dieser durch Pumpen unter einem für den vorgesehenen Verdampfungsprozeß hinreichenden Vakuum gehalten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daS ein Tiegel mit dem zu verdampfenden Material als Anode für den Niedervoltbogen verwendet wird.
4. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer evakuierbaren Verdampfungskammer, darin angeordneter Haltevorrichtung für ein zu verdampfendes Material und mit einer Elektronenkanone zum Beschüß des Materials mit Elektronen mit einen Elektronenenergie von mehr als 1 keV, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich eine Elektroi -r.quelle zum Beschüß des Materials mit Elektronen aus einer Niedervoltbogenentladung vorgesehen ist.
5. Vorrichtung nach Ansjvuch Λ, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle als Glühkathode ausgebildet und in einer von der Verdampfungskammer getrennten, mit dieser über eine Wandöffnung in Verbindung stehenden Kammer angeordnet ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel zur Erzeugung eines Magnetfeides zur gleichzeitigen Führung und Bündelung der Niedervoltbogenentladung und des Strahls der Elektronenkanone vorgesehen sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle zum Beschüß des Materials mit Elektronen aus einer Niedervoltbogenentladung und die Elektronenkanone eine gemeinsame Achse besitzen.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle der Niedervoltbogenentladung die Elektronenkanone umgibt.
DE3206882A 1981-03-13 1982-02-26 Verfahren und Vorrichtung zum Verdampfen von Material unter Vakuum Expired DE3206882C2 (de)

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