DE3106368A1 - Plasma-anzeige - Google Patents
Plasma-anzeigeInfo
- Publication number
- DE3106368A1 DE3106368A1 DE19813106368 DE3106368A DE3106368A1 DE 3106368 A1 DE3106368 A1 DE 3106368A1 DE 19813106368 DE19813106368 DE 19813106368 DE 3106368 A DE3106368 A DE 3106368A DE 3106368 A1 DE3106368 A1 DE 3106368A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plasma display
- cathode
- plasma
- emitter
- display according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/48—Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
- H01J17/49—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Gleichstrom-Plasma-Anzeige (DC-Plasmadisplay) mit Elektroden, die durch Plasmaspritzen
hergestellt worden sind.
Elektroden für herkömmliche Gleichstrom-Plasma-Anzeigen (im folgenden: Plasma-Anzeigen) werden z.B. dadurch hergestellt,
daß man auf einem isolierenden Substrat, z.B. einer Glas- oder Keramikplatte durch Ätzen, außenstromlose Metal
lab scheidung, Galvanisieren, Beschichten oder Bedrucken mit einer Dickfilm-Drucktechnik eine etwa 75 bis 100 μπι
^5 dicke Schicht aus einer FeNi-Legierung, einer FeNiCr-Legierung
(z.B. einer 42-6-Legierung) oder dergleichen ausbildet. Diese herkömmlichen Verfahren zur Herstellung von
Elektroden haben jedoch verschiedene Nachteile. So treten z.B. bei den durch Ätzen hergestellten Elektroden Justier-Probleme
auf, die aufgrund der großen Anzahl von Teilen Schwierigkeiten beim Zusammenbau von Anzeigetafeln oder
-platten verursachen. Nach anderen Methoden hergestellte Elektroden zeichnen sich durch schlechte Haftung zwischen
den Metallteilchen aus. Insbesondere durch Abscheiden oder Galvanisieren hergestellte Elektroden haben schlechte Haltbarkeit,
da diese Methoden keine Elektroden von ausreichender Dicke ergeben.
Im folgenden wird eine herkömmliche Plasma-Anzeige anhand
der Fig. 1A und TB näher erläutert. Die Plasma-Anzeige von
Fig. 1A umfaßt eine vordere Glasplatte 1, auf deren Innenoberfläche
eine Elektrode (Anode) 2 vorgesehen ist, einen Abstandhalter 3 bildende Entladungszellen 4 und eine
hintere Glasplatte 5, auf deren Innenoberfläche eine Elektro-
de (Kathode) 6 vorgesehen ist. Die Kathode 6 wird in Form einer Schicht z.B. mit einer Dickfilm-Drucktechnik unter
130061/0502 J
Verwendung einer Ni-Paste, durch Abscheiden oder Galvanisieren hergestellt. Nach derartigen Methoden hergestellte
Elektroden haben jedoch den Nachteil, daß die Haftung zwischen den Metallteilchen schlecht ist. Elektroden, die
nach einem Dickfilm-Druckverfahren hergestellt wurden, zeichnen sich außerdem durch geringe mechanische Festigkeit
aus und durch Abscheiden, Galvanisieren etc. erhaltene Elektroden haben den Nachteil, daß ihre Haltbarkeit als
Kathode aufgrund ihrer beschränkten Dicke gering ist.
?■
Die in Fig. 1B dargestellte Plasma-Anzeige umfaßt eine
vordere Glasplatte 1, eine Kathode 6 in Form eines Bands,
einen Abstandhalter 3 bildende Entladungszellen 4, eine hintere Glasplatte 5 und eine lineare Anode 2 auf der Rück-
seite der Glasplatte 5. Um eine ausreichende Haltbarkeit
zu erzielen, wird die Kathode 6 unter Anwendung einer Ätztechnik in Form eines Bands aus einer Metallplatte, z.B.
einer 42-6-Legierungsplatte, in einer Dicke von etwa 75 \xm
hergestellt. Wie bereits erwähnt, hat dieses Verfahren je-
doch den Nachteil, daß die Justierung beim Zusammenbau einer Anzeigetafel oder -platte aufgrund der großen Anzahl
von Teilen Schwierigkeiten bereitet.
Bisher verwendete Elektrodenmaterialien, wie Fe, Ni und Cr,
haben eine Austrittsarbeit von etwa 4,5 eV, was für die Verwendung als Kathode in Gleichstrom-Plasma-Anzeigen relativ
hoch ist. Außerdem erfordern diese Materialien relativ hohe Betriebsspannungen von etwa 300 V. Eine Betriebsspannung
dieser Größe hat einen entsprechend hohen Energiever-
brauch der Plasma-Anzeige zur Folge.
Um den Energieverbrauch zu senken, ist bereits vorgeschlagen worden, Substanzen mit kleiner Austrittsarbeit als
Elektrodenmaterialien zu verwenden. Unter diesen Materialien 35
haben Hexaboride von Seltenerdelementen (z.B. LaB^ und CeB,.)
ο ο
die folgenden Eigenschaften: ■
L 130061/0502 J
L 130061/0502 J
a) Die Austrittsarbeit ist klein, z.B. 2,7 eV für LaB,;
b) der Schmelzpunkt ist hoch, z.B. 26OO°C für LaBg;
c) die elektrische Leitfähigkeit ist gut;
d) der Verschleiß durch Ionenstoß ist gering. 5
Von diesen Eigenschaften sind die niedrige Austrittsarbeit (a), die gute elektrische Leitfähigkeit (c) und der
geringe Verschleiß durch Ionenstoß (d) für die Verwendung
als Kathodenmaterial ,erwünscht. Aufgrund ihrer hohen Schmelz-.
punkte (b) ist es jedoch äußerst schwierig, Hexaboride von Seltenerdelementen auf Kathodensubstraten von Gleichstrom-Pia
sma-Anze igen abzuscheiden. Verarbeitet man z.B. das
Hexaborid zu einer Druckfarbe und beschichtet damit ein
Elektrodensubstrat nach einem üblichen Druckverfahren, so
15
läßt sich aufgrund des sehr hohen Schmelzpunkts und der Sintertemperatür des Hexaborids keine feste Haftung erzielen.
Der Zusatz eines Bindemittels kann die Entladungseigenschaften beeinträchtigen. Außerdem kann eine Hochtemperaturbehandlung
bei Gleichstrom-Plasma-Anzeigen von regulärer Struktur eine Deformation der Tafel bzw. Platte
verursachen. Aus diesen Gründen wurden hochschmelzende Materialien bisher nicht als Elektrodenmaterialien angewandt.
Ziel der Erfindung ist es, eine Gleichstrom-Plasma-Anzeige
mit niedriger Betriebsspannung und niedrigem Energieverbrauch bereitzustellen. Ferner soll die Plasma-Anzeige
eine Kathode mit hoher Haltbarkeit und hoher Verschleißfestigkeit gegen Ionenaufprall aufweisen.
30
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß man ein Material mit niedriger Austrittsarbeit durch Plasmaspritzen unter
Verwendung eines Edelgas-Entladungs-Plasmabrenners auf der Oberfläche einer Kathodensubstratschicht abscheidet. Die
Erfindung betrifft auf diese Weise hergestellte Plasma-Anzeigen, d.h. Plasma-Anzeigen mit einer Elektrode, die aus
L 130081/0502 J
« einer durch Plasmaspritzen hergestellten Metall- oder Metallegierungsschicht
besteht.
Gegenstand der Erfindung ist insbesondere eine Plasma-Anzeige
mit einer Kathodensubstratschicht, auf der eine Metallverbindungsschicht mit kleiner Austrittsarbeit durch
Plasmaspritzen abgeschieden worden ist. Das Plasmaspritzen erfolgt vorzugsweise bei einer Temperatur, bei der die Metallverbindung
geschmolzen ist. Die Metallverbindungsschicht wird vorzugsweise auf einer Kathodensubstratschicht
abgeschieden, die z.B. aus Pe, Ni, W, Cu, Cr oder Al oder einer beliebigen Metallegierung besteht. Als Metallverbindungsschichten
eignen sich z.B. Erdalkalimetalloxide, Erdalkalimetallsulfide,
Seltenerdmetallhexaboride und Mischoxide
von Aluminium mit anderen Metallen. Die Metallverbindungsschicht hat vorzugsweise eine Dicke von etwa 1 bis
50 μπι.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1A und 1B schematische Querschnitte durch Plasma-Anzeigen
mit einer Elektrode, die nach bekannten Methoden hergestellt worden ist;
Fig. 2A und 2B einen schematischen Querschnitt bzw. eine perspektivische Teilansicht einer Plasma-
Anzeige mit einer durch Plasmaspritzen hergestellten Elektrode nach einer ersten bevorzugten
Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 3 bis 5 Teilansichten einer Plasma-Anzeige mit einer durch Plasmaspritzen hergestellten
Elektrode nach einer zweiten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung und
Fig. 6A und 6B vergrößerte Querschnitte durch die Oberfläche
einer erfindungsgemäß hergestellten Kathode.
L . lOhnci/ncn«! —'
130061/0502
In den Fig. 2Α und 2B ist eine erste erfindungsgemäße Ausführungsform
einer Plasma-Anzeige dargestellt/ die eine vordere Glasplatte T, eine Anode 2 auf der Innenoberfläche
der vorderen Glasplatte 1/ einen Abstandhalter 3 bildende
Entladungszellen 4, eine der Anode 2 zugewandte Kathode 16 auf der Innenoberfläche der hinteren Glasplatte 15 und
einen der Entladungszelle 4 zugewandten Emitter 17 auf der Kathode 16 umfaßt. Die Kathode besteht entweder aus Reinmetallen,
wie Fe, Ni, W, Cu, Cr oder Al, oder einer Metalllegierung,
wie FeNi, 'und wird durch Plasmaspritzen hergestellt.
In diesem Fall können jedoch auch herkömmliche Techniken, z.B. Ätzen, Dickfilm-Druck, Galvanisieren oder
Beschichten, angewandt werden.
Auf der Kathode 16 werden der Entladungszelle 4 zugewandt durch Plasmaspritzen Bereiche eines Materials mit kleiner
Austrittsarbeit abgeschieden. Diese Bereiche, die eine Dicke von etwa 1 bis 50 μπι, vorzugsweise 10 bis 50 μΐη haben,
bilden den Emitter 17. Bei der Herstellung der Kathode 16
durch Plasmaspritzen, bei dem das Metallpulver geschmolzen wird, kann die Dicke auf das gewünschte Maß erhöht werden,
und es ist möglich, Kathoden mit einer Dicke von bis zu 300 μπι oder mehr herzustellen. Die erhaltene Kathode zeichnet
sich durch gute Haltbarkeit aus. Für die erfindungsge-
mäße Plasma-Anzeige reichen jedoch Kathodenstärken von nur etwa 1 bis 50 μπι aus.
Bevorzugte Beispiele für Materialien mit kleiner Austrittsarbeit, die zur Herstellung des Emitters 17 verwendet wer-30
den können, sind (1) Oxide von Erdalkalimetallen, wie BaO,
(2) Sulfide von Erdalkalimetallen, wie BaS,
(3) Mischoxide von Erdalkalimetallen und Aluminium und
(4) Hexaboride von Seltenerdelementen, wie LaB, und CeB,-.
O O
L 130061/0B02 J
1 Obwohl es nicht möglich ist, bei Elektroden der genannten
Materialien (1), (2) oder (3) einen kontinuierlichen Entladungsstrom zu erhalten, da diese elektrische Isolatoren
darstellen, ermöglicht das Plasmaspritzen unter Verwendung eines Plasmabrenners, durch den ein Inertgas (z.3. ein
Edelgas) geleitet wird, außerordentlich hohe Plasmatemperaturen von einigen 1000 bis zu einigen 10 0000C, so daß die
Materialien (1), (2) und (3) leicht geschmolzen werden können. Außerdem kann das Material auf die Oberfläche des
Kathodensubstratmetali's geschleudert werden und haftet darauf in geschmolzenem Zustand. Bei den durch Plasmaspritzen
hergestellten Plasma-Anzeigen ist es daher nicht notwendig, eine Hochtemperaturbehandlung durchzuführen.
Fig. 6A ist ein vergrößerter Querschnitt durch eine auf der Oberfläche eines Kathodensubstratmetalls durch Plasmaspritzen
aufgebrachte Schicht aus einer Erdalkalimetallverbindung. Die Bezugszeichen 16, .171 und 172 bezeichnen
das Kathodensubstratmetall, die durch Schmelzen verklebten
Teilchen der Erdalkalimetallverbindung bzw. kleinere freie Erdalkalimetallteilchen. Die durch Schmelzen verklebten Erdalkalimetallverbindungsteilchen
171 auf der Oberfläche des Kathodensubstratmetalls 16 liegen übereinander und bilden
dadurch eine poröse Schicht. Die kleineren Erdalkalimetallteilchen
172 sind zwischen den Erdalkalimetallverbindungsteilchen 171 vorhanden. Es kann daher ein kontinuierlicher
Strom erzeugt werden, obwohl die Erdalkalimetallverbindung 171 elektrisch nichtleitfähig ist. Der porösen Schicht aus
den Erdalkalimetallverbindungsteilchen 171 und den freien Erdalkalimetallteilchen 172 kann auch auf geeignete Weise ein Mstall
(elektrischer Leiter) mit kleiner Austrittsarbeit einverleibt werden.
Beim Abscheiden von Oxiden oder Sulfiden von Erdalkalimetallen
oder .Mischoxiden dieser Erdalkalimetalle mit Aluminium durch Plasmaspritzen auf das Substratmetall werden z.B.
L 130061/0502 J
* elementares Mg oder MgCO-. durch Oxidation bzw. Zersetzung in
MgO überführt. Diese Verbindungenkönnen daher erfindungsgemäß verwendet werden. Ebenfalls von der Erfindung umfaßt sind
Ausführungsformen, in denen Verbindungen beim Plasmaspritzen in Oxide oder Sulfide von Erdalkalimetallen oder Mischoxide
von Erdalkalimetallen und Aluminium überführt werden.
Hexaboride von Seltenerdelementen sind elektrisch leitfähig und bilden außerdem eine poröse Schicht, wenn sie durch
Plasmaspritzen auf die Oberfläche des Kathodensubstratinetalls
aufgebracht werden. Fig. 6B zeigt eine Seltenerdmetallhexaborid-Schicht,
in der die Bezugszeichen 16' und 173 das Kathodensubstratmetall bzw. das Seltenerdmetall-
hexaborid bezeichnen.
15
15
Fig. 3 zeigt eine Kathodenstruktur einer Plasma-Anzeige gemäß einer zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsform. In
dieser Ausführungsform sind mehrere bandartige Metallkathodenstreifen 26 auf der hinteren Glasplatte 25 vorge-
sehen und in geeigneten Abständen unter Bildung von Löchern ausgeschnitten. Eine der vorstehend genannten
Emittersubstanzen mit kleiner Austrittsarbeit wird zur Bildung des Emitters 27 durch Plasmaspritzen in den Löchern
20 abgeschieden. Das Kathodensubstratmetall und der
Emitter 27 sind so ausgebildet, daß sich eine im wesentlichen ebene Oberfläche ergibt.
Fig. 4 zeigt eine Kathodenstruktur einer Plasma-Anzeige
gemäß einer dritten erfindungsgemäßen Ausführungsform. In
30
dieser Ausführungsform sind mehrere bandartige Metallkathodenstreifen
36 auf der hinteren Glasplatte vorgesehen, und der Emitter 37 wird auf der Oberfläche der bandartigen
Metallkathodenstreifen 36 durch Plasmaspritzen ausgebildet.
L 130061/0502 J
ί ι η f π ρ ti
- ΊΟ -
In der in Fig. 5 gezeigten vierten erfindungsgemäßen Ausführungsform
wird auf der hinteren Glasplatte 45 ein Leitermuster 48 durch Plasmaspritzen ausgebildet und ein
Kathodenmuster 49 ist mit dem Leitermuster 48 durch ein Anschlußteil 50 verbunden, das ebenfalls durch Plasmaspritzen
erhalten wurde. Das Leitermuster 48 kann auch durch übliche Techniken, z.B. durch Ätzen, Dickfilmdruck,
Galvanisieren oder Beschichten, hergestellt werden.
f ■
Bei Anwendung einer Kathode der beschriebenen Struktur in einer Gleichstrom-Plasma-Anzeige treffen Gasionen in der Röhre gegen die genannte Verbindung mit kleiner Austrittsarbeit und verursachen eine Elektronenemission. Die Anzeige kann daher bei niedrigen Spannungen von nur etwa
Bei Anwendung einer Kathode der beschriebenen Struktur in einer Gleichstrom-Plasma-Anzeige treffen Gasionen in der Röhre gegen die genannte Verbindung mit kleiner Austrittsarbeit und verursachen eine Elektronenemission. Die Anzeige kann daher bei niedrigen Spannungen von nur etwa
1S 100 V stabil betrieben werden. Bei zu kleinen Dicken der
Verbindungsschicht wird der Verschleiß durch Ionenaufprall signifikant und die Lebensdauer der Anzeige kann
entsprechend verkürzt werden. Andererseits ist es bei zu großen Dicken nicht möglich, den Abstand der Entladungs-
*® zellen der Plasma-Anzeige zu verringern, da die Verbindungsschicht
auf einem dünnen Metallsubstrat aufgebracht ist. In der Praxis werden daher Dicken der Verbindungsschicht von vorzugsweise etwa 1 bis 50 μπι angewandt.
Die Erfindung ist auf beliebige Typen von Gleichstrom-Plasma-Anzeigen
anwendbar, solange diese eine flache Struktur haben. Beispielsweise kann zur Herstellung von Buchstaben-Displays
mit Elektroden in Matrixform oder von Balken-Displays mit parallelen streifenförmigen Elektroden
eine gleichförmige erfindungsgemäße Kathodenschicht angewandt werden.
Obwohl im vorstehenden die Anwendung des Plasmaspritzens
näher erläutert wurde, ist die Erfindung hierauf nicht
beschränkt, sondern es können beliebige andere Methoden angewandt werden, die dieselben Effekte wie das Plasmaspritzen
ergeben.
L 130061/0502 J
Erfindungsgemäß werden Gleichstrom-Plasma-Anzeigen mit
wesentlich niedrigerer Betriebsspannung und geringerem Energieverbrauch als herkömmliche Anzeigen bereitgestellt,
die leicht und einfach unter Verwendung von Erdalkalimetalloxiden oder -sulfiden, Mischoxiden dieser Erdalkalimetalle
mit Aluminium oder Hexaboriden von Seltenerdmetallen mit kleiner Austrittsarbeit, geringem Verschleiß durch
Ionenaufprall und hohem Schmelzpunkt in einem Kathodensubstrat in Form einer porösen Schicht z.B. durch Plasmaspritzen
hergestellt!*werden können, ohne daß eine spezielle Hochtemperaturbehandlung erforderlich wäre. Die erfindungsgemäße
Plasma-Anzeige hat somit zahlreiche Vorteile und kann z.B. direkt in hochintegrierte Schaltkreise
(LSI) eingebaut werden.
L 130061/0502 J
Claims (9)
- OKAYA ELECTRIC INDUSTRIES CQ., LTD. Tokyo, Japan11 Plasma-Anzeige "
15PatentansprüchePlasma-Anzeige mit einer vorderen Glasplatte, auf deren Innenoberfläche eine Anode vorgesehen ist, einen Abstandhalter bildenden Entladungszellen und einer hinteren Glasplatte, auf deren Innenoberfläche eine Kathode vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode eine Kathodensubstratschicht (16, 26, 36, 48) und einen Emitter (17, 27, 37, 49) umfaßt, wobei der Emitter eine auf der KathodensubstratsGhicht durch Plasmaspritzen erzeugte Metallverbindungsschicht umfaßt. - 2. Plasma-Anzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodensubstratschicht (16, 26, 36, 48) entweder aus einem Reinmetall aus der Gruppe Fe, Ni, W, Cu, Cr und Al oder einer Metallegierung besteht.35130061/0502
- 3. Plasma-Anzeige nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodensubstratschicht (16, 26, 36, 48) durch Plasmaspritzen hergestellt worden ist.
- 4. Plasma-Anzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitter (17, 27, 37, 49) aus einem Erdalkalimetalloxid, Erdalkalimetallsulfid, Seltenerdmetallhexaborid oder einem Mischoxid von Aluminium und anderen Metallen hergestellt worden ist. -
- 5. Plasma-Anzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitter (17, 27, 37, 49) eine Dicke von 1 bis 50 μΐη hat.
- 6. Plasma-Anzeige nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet/ daß das Plasmaspritzen bei ausreichend hoher Temperatur durchgeführt worden ist, um das Emitter-Material zu schmelzen.
- 7. Plasma-Anzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 6,dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodensubstratschicht (16, 26, 36, 48) in Form mindestens eines Streifens vorliegt.
- 8. Plasma-Anzeige nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitter (17, 27, 37, 49) in Form von mehreren scheibenförmigen Bereichen auf der Kathodensubstratschicht 16, 26, 36, 48) ausgebildet ist.
- 9. Plasma-Anzeige nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodensubstratschicht (16, 26, 36, 48) mehrere im wesentlichen kreisförmige öffnungen (20) aufweist, in denen der Emitter (27) angeordnet ist.130061/0502 J
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2179080A JPS56118243A (en) | 1980-02-22 | 1980-02-22 | Cathode for dc type gas discharge indication panel and manufacture |
JP2178980A JPS56118238A (en) | 1980-02-22 | 1980-02-22 | Cathode for dc type gas discharge indication panel and manufacture |
JP56002838A JPS57115747A (en) | 1981-01-12 | 1981-01-12 | Gas electric-discharge display panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3106368A1 true DE3106368A1 (de) | 1982-01-07 |
DE3106368C2 DE3106368C2 (de) | 1987-04-09 |
Family
ID=27275542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3106368A Expired DE3106368C2 (de) | 1980-02-22 | 1981-02-20 | Gleichstrom-Gasentladungsanzeigevorrichtung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4393326A (de) |
DE (1) | DE3106368C2 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3151101A1 (de) * | 1981-04-28 | 1982-11-11 | Okaya Electric Industries Co, Ltd., Tokyo | Gleichstrom-gasentladungsanzeige |
EP0159199A2 (de) * | 1984-04-19 | 1985-10-23 | Sony Corporation | Verfahren zur Herstellung von Anzeigeentladungsgeräten |
EP0160459A2 (de) * | 1984-04-19 | 1985-11-06 | Sony Corporation | Verfahren zur Herstellung von Anzeigeentladungsgeräten |
FR2690273A1 (fr) * | 1992-01-07 | 1993-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | Dispositif de cathode à décharge et procédé pour sa fabrication. |
EP0827176A2 (de) * | 1996-08-16 | 1998-03-04 | Tektronix, Inc. | Zerstäubungsfeste, leitende Überzüge mit verbesserter Elektronenemittierung für Kathodenelektroden in Gleichstromplasma-Adressierungsvorrichtungen |
EP0833362A2 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-01 | Tektronix, Inc. | Struktur einer plasmagesteuerten Flüssigkristallanzeigetafel (PALC) mit einer Füllung von wasserstoffdopiertem Helium |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61284030A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-15 | Hitachi Ltd | 気体放電表示パネル用陰極 |
US4990876A (en) * | 1989-09-15 | 1991-02-05 | Eastman Kodak Company | Magnetic brush, inner core therefor, and method for making such core |
KR920010723B1 (ko) * | 1990-05-25 | 1992-12-14 | 삼성전관 주식회사 | 플라즈마 표시소자 |
DE4409832A1 (de) * | 1993-04-02 | 1994-10-06 | Okaya Electric Industry Co | Anzeigevorrichtung vom Gasentladungstyp und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US5557168A (en) * | 1993-04-02 | 1996-09-17 | Okaya Electric Industries Co., Ltd. | Gas-discharging type display device and a method of manufacturing |
US5646482A (en) * | 1995-05-30 | 1997-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ADC gas discharge image display device having cathode material dimensional constraints |
TW368671B (en) * | 1995-08-30 | 1999-09-01 | Tektronix Inc | Sputter-resistant, low-work-function, conductive coatings for cathode electrodes in DC plasma addressing structure |
US5982095A (en) * | 1995-09-19 | 1999-11-09 | Lucent Technologies Inc. | Plasma displays having electrodes of low-electron affinity materials |
KR19980065367A (ko) * | 1996-06-02 | 1998-10-15 | 오평희 | 액정표시소자용 백라이트 |
US6077617A (en) * | 1998-08-26 | 2000-06-20 | Board Of Regents Of The University Of Nebraska | Rare-earth boride thin film system |
US6025038A (en) * | 1998-08-26 | 2000-02-15 | Board Of Regents Of The University Of Nebraska | Method for depositing rare-earth boride onto a substrate |
US20050208218A1 (en) * | 1999-08-21 | 2005-09-22 | Ibadex Llc. | Method for depositing boron-rich coatings |
US6801001B2 (en) * | 2000-10-27 | 2004-10-05 | Science Applications International Corporation | Method and apparatus for addressing micro-components in a plasma display panel |
US6822626B2 (en) | 2000-10-27 | 2004-11-23 | Science Applications International Corporation | Design, fabrication, testing, and conditioning of micro-components for use in a light-emitting panel |
US6935913B2 (en) * | 2000-10-27 | 2005-08-30 | Science Applications International Corporation | Method for on-line testing of a light emitting panel |
US6762566B1 (en) | 2000-10-27 | 2004-07-13 | Science Applications International Corporation | Micro-component for use in a light-emitting panel |
US6764367B2 (en) | 2000-10-27 | 2004-07-20 | Science Applications International Corporation | Liquid manufacturing processes for panel layer fabrication |
US6796867B2 (en) * | 2000-10-27 | 2004-09-28 | Science Applications International Corporation | Use of printing and other technology for micro-component placement |
US7288014B1 (en) | 2000-10-27 | 2007-10-30 | Science Applications International Corporation | Design, fabrication, testing, and conditioning of micro-components for use in a light-emitting panel |
US6620012B1 (en) | 2000-10-27 | 2003-09-16 | Science Applications International Corporation | Method for testing a light-emitting panel and the components therein |
US6612889B1 (en) | 2000-10-27 | 2003-09-02 | Science Applications International Corporation | Method for making a light-emitting panel |
US6545422B1 (en) * | 2000-10-27 | 2003-04-08 | Science Applications International Corporation | Socket for use with a micro-component in a light-emitting panel |
US6570335B1 (en) | 2000-10-27 | 2003-05-27 | Science Applications International Corporation | Method and system for energizing a micro-component in a light-emitting panel |
US20050189164A1 (en) * | 2004-02-26 | 2005-09-01 | Chang Chi L. | Speaker enclosure having outer flared tube |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2136102A1 (de) * | 1970-09-28 | 1972-09-07 | Owens Illinois Inc | Gasentladungsspeicher- und Anzeigefeld mit niedrigeren Betriebsspannungen |
DE2247670A1 (de) * | 1971-09-29 | 1973-04-12 | Nippon Electric Co | Gasentladungsvorrichtung |
DE2309530A1 (de) * | 1972-02-28 | 1973-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Tafellichtstrahler |
DE2427239A1 (de) * | 1974-06-06 | 1975-12-18 | Owens Illinois Inc | Wahlweise ansteuerung der entladungsstelle bei mit gasentladung arbeitenden anzeige-/speichervorrichtungen |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3697793A (en) * | 1970-02-09 | 1972-10-10 | Hughes Aircraft Co | Ion beam deflection system |
US3943394A (en) * | 1971-12-03 | 1976-03-09 | Owens-Illinois, Inc. | Gaseous discharge display/memory panel with dielectric layer |
US4340840A (en) * | 1980-04-21 | 1982-07-20 | International Business Machines Corporation | DC Gas discharge display panel with internal memory |
-
1981
- 1981-02-20 DE DE3106368A patent/DE3106368C2/de not_active Expired
- 1981-02-20 US US06/236,379 patent/US4393326A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2136102A1 (de) * | 1970-09-28 | 1972-09-07 | Owens Illinois Inc | Gasentladungsspeicher- und Anzeigefeld mit niedrigeren Betriebsspannungen |
DE2247670A1 (de) * | 1971-09-29 | 1973-04-12 | Nippon Electric Co | Gasentladungsvorrichtung |
DE2309530A1 (de) * | 1972-02-28 | 1973-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Tafellichtstrahler |
DE2427239A1 (de) * | 1974-06-06 | 1975-12-18 | Owens Illinois Inc | Wahlweise ansteuerung der entladungsstelle bei mit gasentladung arbeitenden anzeige-/speichervorrichtungen |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DE-Z: ETZ-B, Bd. 15, 1963, H. 1, S. 6 - 9 * |
H. Drost, Plasmachemie, Berlin, 1978, S. 150, 151, 156, 157 * |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3151101A1 (de) * | 1981-04-28 | 1982-11-11 | Okaya Electric Industries Co, Ltd., Tokyo | Gleichstrom-gasentladungsanzeige |
EP0159199A2 (de) * | 1984-04-19 | 1985-10-23 | Sony Corporation | Verfahren zur Herstellung von Anzeigeentladungsgeräten |
EP0160459A2 (de) * | 1984-04-19 | 1985-11-06 | Sony Corporation | Verfahren zur Herstellung von Anzeigeentladungsgeräten |
EP0159199A3 (en) * | 1984-04-19 | 1987-04-29 | Sony Corporation | Methods of producing discharge display devices |
EP0160459A3 (en) * | 1984-04-19 | 1987-05-13 | Sony Corporation | Methods of producing discharge display devices |
FR2690273A1 (fr) * | 1992-01-07 | 1993-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | Dispositif de cathode à décharge et procédé pour sa fabrication. |
EP0827176A2 (de) * | 1996-08-16 | 1998-03-04 | Tektronix, Inc. | Zerstäubungsfeste, leitende Überzüge mit verbesserter Elektronenemittierung für Kathodenelektroden in Gleichstromplasma-Adressierungsvorrichtungen |
EP0827176A3 (de) * | 1996-08-16 | 2000-03-08 | Tektronix, Inc. | Zerstäubungsfeste, leitende Überzüge mit verbesserter Elektronenemittierung für Kathodenelektroden in Gleichstromplasma-Adressierungsvorrichtungen |
EP0833362A2 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-01 | Tektronix, Inc. | Struktur einer plasmagesteuerten Flüssigkristallanzeigetafel (PALC) mit einer Füllung von wasserstoffdopiertem Helium |
EP0833362A3 (de) * | 1996-09-30 | 1998-12-02 | Tektronix, Inc. | Struktur einer plasmagesteuerten Flüssigkristallanzeigetafel (PALC) mit einer Füllung von wasserstoffdopiertem Helium |
US6137550A (en) * | 1996-09-30 | 2000-10-24 | Tektronix, Inc. | Structure for a PALC display panel having a helium filling doped with hydrogen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3106368C2 (de) | 1987-04-09 |
US4393326A (en) | 1983-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3106368C2 (de) | Gleichstrom-Gasentladungsanzeigevorrichtung | |
DE69633054T2 (de) | Abstandshalterstruktur für eine flache anzeigevorrichtung und herstellungsverfahren dafür | |
DE68916875T2 (de) | Bildanzeigegerät und Verfahren zur Herstellung desselben. | |
DE69032003T2 (de) | Plasmaanzeigetafel und herstellungsverfahren derselben | |
DE3151101C2 (de) | Gleichspannungs-Gasentladungsanzeigevorrichtung | |
DE69513235T2 (de) | Fluoreszente Schirmstruktur und Feldemissionanzeigevorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE69814664T2 (de) | Feldemissionsvorrichtungen | |
DE69510522T2 (de) | Feldeffekt-Elektronenquelle und Verfahren zur Herstellung; Anwendung in Anzeigevorrichtungen mit Kathodolumineszenz | |
DE69510521T2 (de) | Feldeffekt-Elektronenquelle und Herstellungsverfahren dazu, Anwendung in Anzeigevorrichtungen mit Kathodolumineszenz | |
EP0170130B1 (de) | Leuchtschirm für Bildanzeigegeräte und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69016235T2 (de) | Hochtemperaturbauteil. | |
DE69529547T2 (de) | Bilderzeugungsgerät und Verfahren zur Herstellung | |
DE69601957T2 (de) | Wellenförmige Stützsäulen einer Feldemissionsvorrichtung mit einer diskontinuierlichen leitfähigen Schicht | |
DE2945995A1 (de) | Oxidbeschichtete kathode fuer elektronenroehre | |
EP0142765A2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Anzeigevorrichtung und danach hergestellte Anzeigevorrichtung | |
DE2541925A1 (de) | Elektrischer kontakt und verfahren zur herstellung desselben | |
DE3324968C2 (de) | ||
DE2240824A1 (de) | Mehrstrahl-kathodenstrahlroehre | |
DE102006030822A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktstruktur einer Solarzelle | |
DE19749004C2 (de) | Herstellungsverfahren für eine elektrisch leitfähige Verbindung zwischen einem keramischen und einem metallischen Bauteil | |
EP0204198A1 (de) | Kanalstruktur eines Elektronenvervielfachers | |
DE2160284A1 (de) | Elektroplattierverfahren | |
DE2710086A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer neuen kathode fuer kathodenstrahlroehren | |
DE2501885A1 (de) | Elektronendurchlaessiges fenster und verfahren zu dessen herstellung | |
DE2615681C2 (de) | Anzeigevorrichtung mit einem Gasentladungsraum als Elektronenquelle, mit einem Elektronennachbeschleunigungsraum und mit einem Leuchtschirm |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |