DE3039283A1 - Feldemissionskathode und verfahren zu ihrer herstellung - Google Patents
Feldemissionskathode und verfahren zu ihrer herstellungInfo
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Description
BESCHREIBUNG
Die Erfindung bezieht sich auf eine Feldemissionskathode, wie sie für Elektronenstrahlkanonen in Elektronenstrahlgeräten
wie wissenschaftlichen Geräten und in Elektronenstrahllithographiegeräten verwendet werden. Die
Erfindung bezieht sich ferner auf ein Verfahren zur Herstellung 'der Feldemissionskathode.
Bei einer Feldemissionskathode wird die Emission von Elektronen bewirkt, indem ein negatives Potential an eine
nadeiförmige Spitze und ein positives Potential an eine dieser gegenüberliegende Anode gelegt wird. Damit läßt
sich ein Feldemissionselektronenmikrobild gewinnen, wenn als Anode ein fluoreszierender Schirm verwendet wird. Das
Feldemissionselektronenmikrobild zeigt üblicherweise ein geometrisches Muster, das die kristallographischen Regelmäßigkeiten
des die Spitze bildenden Metalls wiederspiegelt. Ausgedrückt in Emissionwinkel erscheint das Mikrobild
gesehen von der Spitze in einem Bereich von ungefähr 1 rad.
In der Praxis der Verwendung der Feldemissionskathode wird jedoch nur ein Bruchteil des erwähnten breiten Emissionswinkels ausgenutzt. Der Emissionswinkel wird im folgenden
unter Bezugnahme auf das Schema der Figur 1 erläutert, die eine elektronenoptisches System zur Elektroneristrahlbündelung
in einer die Feldemissionskathode verwendenden Elektronenstrahlkanone zeigt. Auf eine nadeiförmige Feldemissionskathodenspitze
1, welche auf die Mitte eines haarnadelförmigeh
Fadens 2 aufgeschweißt ist, wird die Spannung der Spannungsquelle 5, die bezüglich einer ersten Anode 3 negativ
ist, gegeben, wodurch Elektronen durch Feldemission
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aus der Spitze der Kathode 1 austreten. Die ausgetretenen Elektronen verteilen sich, wie oben erwähnt, über einen
Emissionswinkel von ungefähr 1 rad. Der Elektronenstrahl 16, der eine öffnung 15 der ersten Anode 3 durchlaufen
hat, wird durch die Wirkung einer elektrostatischen Linse, welche durch eine Potentialdifferenz zwischen der ersten
Anode 3 und einer zweiten Anode 4, die mit einer Spannungsquelle 6 verbunden sind, erzeugt wird, gebündelt, und liefert auf einer
geeigneten Konvergenzebene 17 einen feinen Elektronenstrahlpunkt.
Der Elektronenstrahlpunkt läßt sich noch weiter verfeinern, indem man die Bündelung durch Kombination magnetischer
Linsen wiederholt. Aus den im folgenden erwähnten Gründen werden die emittierten Elektronen, die als eine Elektronensonde
16 verwendet werden können, durch die öffnung der ersten Anode 3 eingegrenzt. Eine elektronenoptische Linse zeigt nämlich eine unkorrigierbare Aberration, unabhängig davon ob
es sich um eine elektrostatische oder um eine magnetische Linse handelt. Die sphärische Aberration nimmt dabei den
größten Anteil ein. Da die sphärische Aberration so groß ist, wird der ausgenützte Elektronenstrahl 16 auf die
Umgebung der optischen Achse 18 beschränkt. Wenn der Koeffizient der sphärischen Aberration mit Cs und der
öffnungswinkel des Elektronenstrahls 16 mit α bezeichnet
wird, gilt ferner, daß die Aberration durch Cs α gegeben ist. Um also einen feinen Elektronenstrahl 16 mit
möglichst geringer Aberration zu erhalten, muß der öffnungswinkel α auf einen kleinen Bereich eingeschränkt werden.
Bei in der Praxis verwendeten Geräten beträgt der öffnungswinkel α ungefähr α
< 10 rad. Nimmt man die Stromdichteverteilung in der ersten Anode 3 als gleichförmig an, dann
ist das Verhältnis von Raumwinkel der gesamten Elektronenemission (1 sr) zum Raumwinkel des durch die öffnung 15
2 gehenden Elektronenstrahls 16 (πα ) gleich dem Verhältnis
von Gesamtstrom der Feldemission zum Strom des feinen Elektronenstrahls 16. In der Praxis ist jedoch wegen der
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kristallographischen Regelmäßigkeiten die Stromdichte
in der ersten Anode 3 nicht gleichförmig. Ferner ist das axiale Azimut der Spitze 1 so gewählt, daß die Stromdichte
des Feldemissionselektronenmikrobilds im Mittelteil, hoch wird. In dem oben erwähnten FailWimtnt daher das Verhältnis
des Gesamtstroms zum ausgenutzten Strom einen Wert von ungefähr 1000 :1 an. ""·"■■■' :
Bei den in der Praxis verwendeten Geräten ist es
andererseits erforderlich, den Elektronenstrahl so fein wie möglich zu bündeln und einen-möglichst großen Strom
(im folgenden als Sondenström bezeichnet) zu ziehen. Beispielsweise
ist ein Gesamtemission&strom der Größenordnung 1 mA notwendig, um einen Sondenström der Größenordnung
0,1 μΑ zu erzielen. --" - ~:- -■-'"■'- - -- - ~ ~- ; ^
Bei einem -festen Vakuumdruck wird andererseits der Feldemissionsstrom um so stabiler, je niedriger der Strom
ist. Mit zunehmendem Strom nehmen auch die Stromschwankungen zu, d.h., der Feldemissionsstrom wird instabil. Ferner
ist für einen bestimmten Strom der Strom umso stabiler,
je geringer der Vakuumdruck ist. Wenn man also versucht, einen großen Gesamtemissionsstrom zu erzielen, werden die
Stromschwankungen so stark, daß das Gerät unbrauchbar wird. In der Praxis ist es selbst bei einem Vakuumdruck
in einer gewöhnlichen Vakuumkammer von ungefähr 6,7 · 10 Pa
— 10
(ungefähr 5 · 10 Torr) extrem schwierig, einen stabilen Feldemissionsstrom von 100 μΑ über längere Zeiten hinweg zu ziehen. Alles in allem ist'es also schwierig, größere Sondenströme zu erreichen. - - ■ --"■'-Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine neue FeIdemissionskathode, die stabil einen hohen Sondenstrom erzeugte und ein Verfahren zu ihrer Herstellung zu schaffen. Hierzu schlägt die Erfindung vor, daß ein Metall über Sauerstoff auf den Oberflächen der Kathodenspitze,in einer solchen Dicke adsorbiert wird, daß diese nicht die Dicke einer monoatomaren Lage*überschreitet, wobei das Metall
(ungefähr 5 · 10 Torr) extrem schwierig, einen stabilen Feldemissionsstrom von 100 μΑ über längere Zeiten hinweg zu ziehen. Alles in allem ist'es also schwierig, größere Sondenströme zu erreichen. - - ■ --"■'-Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine neue FeIdemissionskathode, die stabil einen hohen Sondenstrom erzeugte und ein Verfahren zu ihrer Herstellung zu schaffen. Hierzu schlägt die Erfindung vor, daß ein Metall über Sauerstoff auf den Oberflächen der Kathodenspitze,in einer solchen Dicke adsorbiert wird, daß diese nicht die Dicke einer monoatomaren Lage*überschreitet, wobei das Metall
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BAD ORIGINAL
eine Austrittsarbeit hat, die kleiner als diejenige des die Kathodenspitze bildenden Metalls ist, und ein
Oxid dieses Metalls wiederstandsfähig gegenüber hohen
Temperaturen ist, wodurch erreicht wird, daß die Austrittsarbeit
auf den Oberflächen der Kathodenspitze vermindert ist.
Die Erfindung beruht damit auf der Tatsache, daß die Erzeugung von Feldemissionselektronen in einem besonderen
engen Bereich von Kristallebenen der Kathodenspitze leicht ist, wenn die monoatomaren Schichten aus Sauerstoffmolekülen
und Metallatomen auf den Oberflächen der nadeiförmigen Feldemissionskathodenspitze
adsorbiert sind. Mit der Feldemissionskathode gemäß der Erfindung läßt sich so der Gesamtemissionsstrom
auf einen Bereich einschränken, der ausgedrückt als Feldemissionswinkel ungefähr 1/4 rad oder weniger
beträgt.
Ausführungsformen der Erfindung werden im folgenden
in Verbindung mit der beigefügten Zeichnung beschrieben. Auf dieser ist bzw. sind
Figur 1 eine Darstellung des allgemeinen Aufbaus eines optischen Systems zur Elektronenstrahlbundelung in einer Elektronenstrahlkanone, die eine Feldemissionskathode verwendet,
Figur 1 eine Darstellung des allgemeinen Aufbaus eines optischen Systems zur Elektronenstrahlbundelung in einer Elektronenstrahlkanone, die eine Feldemissionskathode verwendet,
Figur 2 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Adsorptionsmenge und der Austrittsarbeit zur
Erläuterung des Prinzips der Erfindung,
Figuren 3A und 3B schematische Darstellungen des Adsorptionszustands
bei der Feldemissionskathode gemäß der Erfindung,
Figur 4 eine Darstellung zur Erläuterung eines Herstellungsverfahrens
für die Feldemissionskathode gemäß der Erfindung,
Figuren 5A und 5B schematische Darstellungen von Feldemissionselektronenmikrobildern
der Feldemissionskathode gemäß der Erfindung,
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Figur 6 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Adsorptionsmenge und dem Feldemissionsstrom
der Feldemissionskathode gemäß der Erfindung, Figur 7 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
der Kathodentemperatur und der Winkeleingrenzung
der Feldemissionskathode gemäß der Erfindung,
Figur 8 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Kathodentemperatur und der Drift der Feldemissionskathode
gemäß der Erfindung, Figuren 9A bis 9C Darstellungen zur Veranschaulichung der
Herstellungsschritte zur Erzeugung von Feldemissions*·
kathoden gemäß weiterer Ausführungsformen der Erfindung/
Figur 10 eine Darstellung des Aufbaus zur Messung der Eigenschäften
der Feldemissionskathode der Figur 9C7 Figuren 11 und 12A bis .12E schematische Darstellungen von
Feldemissionselektronenmikrobildern der Feldemissionskathode der Figur 9C und
Figur 13A und 13B Darstellungen zur Veranschaulichung der
Herstellungsschritte zur Erzeugung von FeIdemissionskathoden
gemäß weiterer Ausführungsformen der Erfindung
.
Das Material zur Herstellung einer nadeiförmigen Kathode zur Verwendung bei der Erfindung sollte ein hochtemperatur-■
beständiges Metall, etwa Wolfram oder Molybdän, sein, das die Form einer nadeiförmigen Spitze auch beibehält, wenn
es hohen Temperaturen unterworfen worden ist, und bei dem die Oberflächen der Spitze gereinigt werden können.
Ferner muß es möglich sein, das Metall durch elektrolytisches Polieren zu einer nadeiförmigen Spitze zu verarbeiten. Auf
die sauberen Oberflächen der Spitze wird ein Metall in einer Dicke, die gleich oder größer als die Dicke einer monoatomaren
Schicht ist, aufgedampft, wobei das Metall eine Atis~ ."".
trittsarbeit hat, die geringer als diejenige des Materials der Spitze ist und sein Oxid beständig gegenüber hohen
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Temperaturen ist. Das heißt die Spitze wird, wenn sie aus Wolfram (W) oder Molybdän (Mo) besteht, mit Aluminium
(Al), Chrom (Cr), Cer (Ce), Magnesium (Mg), Titan (Ti), Silizium (Si), Zirkon (Zr), oder Hafnium (Hf) in einer
Dicke beschichtet, die gleich oder größer als die Dicke der monoatomaren Schicht ist. Dann wird in die Vakuumkammer,
in der sich die Spitze befindet, Sauerstoffgas eingeleitet, so daß eine monoatomare Schicht aus Sauerstoffmolekülen
an den Oberflächen der Spitze adsorbiert
.10 wird. Im Falle des Sauerstoff gases entspricht diese Belüftung
ungefähr 1 L (Langmuir). Daher sollte die Belüftung eine Sekunde lang durchgeführt werden, wenn der Druck
1,33 · 10~4 Pa (1 · 1O~6 Torr) beträgt, und 1OO s lang,
wenn der Druck 1,33 · 10~6 Pa (1 - 10~8 Torr) beträgt.
Danach wird das Sauerstoffgas abgepumpt und die Spitze
10 bis 60 s bei einer Temperatur von 1300 bis 1500 0C, wobei diese von der aufgedampften Substanz abhängen kann,
unter Vakuumbedingungen, unter denen die Feldemission bewirkt werden kann, wärmebehandelt, um so die Spitze; auf
die die Erfindung abzielt, auszubilden. Die so hergestellte nadeiförmige Kathodenspitze aus Wolfram oder Molybdän
emittiert Elektronen im wesentlichen allein aus der.(100)~ Ebene, womit man ein Feldelektronenmikroskop erhält, dessen
Emissionswinkel auf ungefähr 1/4 rad vermindert ist.
Die Grundlagen der Erfindung sind noch nicht in allen Einzelheiten geklärt, da der Krümmungsradius der Spitze
nur 100 nm beträgt und die Spitze, auf der Atome oder Moleküle in einer einer Monoschicht vergleichbaren Dicke adorbiert
sind, Eigenschaften zeigt, die von den Kristallebenen abhängen. Grundsätzlich jedoch kann man hinsichtlich der
Grundlagen der Erfindung von folgendem ausgehen.
Zur Vereinfachung der Beschreibung sei angenommen, daß die Spitze aus Wolfram besteht. Wenn eine Substanz mit
einer Austrittsarbeit, die kleiner als diejenige von Wolfram ist, auf die Oberfläche des Wolfram aufgedampft wird, hat
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ORIGINAL INSPECTED
die Oberflächenausferittsarbeit. -den durch Kurve 19 -.
in Figur 2 angegebenen Verlauf. Das heißt, wenn die Dicke des aufgedampften Metalls ungefähr eine 0,7 Monoschicht
von Atomen ist, nimmt die Austrittsarbeit bezüglich der Austrittsarbeit <!>
von Wolfram ihren kleinsten Wert an und nimmt dann allmählich wieder-zu. Die -Austrittsarbeit
geht ungefähr in die Sättigung, wenn die Dicke des aufgedampften
Metalls diejenige einer Monoschicht von Atomen übersteigt und nähert sich dann allmählich der Austrittsarbeit
ΦΜ des aufgedampften Metalls. Dies geht auf.die
Tatsache zurück, daß das Oberflächenpotentials auf der
Oberfläche des Wolfram sich durch die Adsorption des aufgedampften
Metalls verändert, wofür;:allgemein folgendes
angenommen wird. Die Erscheinung, die auf der Oberfläche des Wolfram stattfindet, ist ein Vielkörperproblem, das
sich aus der Bindung vieler-Atome in der Oberfläche und aus adsorbierten Atomen ergibt, und wird als System der
Bindung eines Atoms in.der Oberfläche-mit einem adsorbierten
Atom betrachtet. Das elektrische Dipolmoment, das zwischen dem Atom in der Oberfläche und dem adsorbierten
Atom entsteht, läßt sich nach Malone beruhend auf dem Konzept der Elektronegativität- folgendermaßen ausdrücken:
μ = Xad - Xo ; (1)
Hierbei bezeichnet Xad die Elektronegativität des aufgedampften Metalls und Xo die Elektronegativität von
Wolfram. Andererseits besteht die Gordy-Thomas—Beziehung
zwischen der Elektronegativität Xo und der Austrittsarbeit Φ, die folgendermaßen ausgedrückt werden.kann:
Xo = 0,44 Φ - 0,15 - (2)
Die durch die Adsorption bewirkte Änderung ΔΦ der
Austrittsarbeit ist proportionalzum JDipolmoment μ und zu
der Anzahl η von pro Einheitsflache adsorbierten Atomen
130 0 2 07 0 6S 2
BAD ORfGiNAL
und läßt sich daher ausdrücken als
ΔΦ = 2 ττμη = 2 im (Xad - Xo) (3)
Daher wird die in Figur 2 gezeigte Änderung der Austrittsarbeit durch die Aufdampfung eines Metalls mit geringerer
Austrittsarbeit als Wolfram erzeugt, d.h. erzeugt durch die Aufdampfung eines Metalls mit kleiner Elektronegativität,
bevor sich der Effekt der Adsorption als wieder positiv zeigt. Die Adsorption einer Monoschicht von Atomen ±
bedeutet, daß die Adsorption in einem Ausmaß bewirkt wird, das mit der Atomdichte auf der Oberfläche des Wolfram übereinstimmt.
Wenn das Metall in stärkerem Ausmaß als der Monoschicht von Atomen adsorbiert wird, nimmt die Anzahl
η der Atome in Gleichung (3) nicht mehr zu. Ferner nimmt die Austrittsarbeit minimale Werte über eine Atomschicht
von 0,7 bis 1 vermutlich in Folge der Tatsache an, daß die adsorbierten Atome, die auf der Wolframoberfläche
diffundieren können und beträchtliche Freiheitsgrade haben, eine Zunahme des elektrischen Dipolmoments (Moment y)
ermöglichen.
Im folgenden wird nun der Fall betrachtet, daß· nicht
nur Metall, sondern auch Sauerstoffmoleküle adsorbiert werden. Wenn, wie in Figur 3A gezeigt, zunächst Metall M
auf die Oberfläche des Wolfram aufgedampft wird und dann Sauerstoffmoleküle adsorbiert werden, wird angenommen,
daß infolge einer Chemisorptxonsreaktion, die einer gewöhnlichen Oxidation ähnelt, obwohl die Anordnung abhängig
von der Reaktivität des aufgedampften Metalls M mit Sauerstoff gas O2 unterschiedlich sein kann, die Sauerstoffatome
(-moleküle) zwischen dem Wolfram und dem aufgedampften Metall M angeordnet werden. Das Metall, das mit Sauerstoff
reaktionsfähig ist, erzeugt obige Reaktion unter in Nähe von Raumtemperatur liegenden Bedingungen. Figur 3B zeigt
ein Modell, das jedoch nicht die Einzelheiten der Bindungen veranschaulichen soll.
1 30020/0652
ORIGINAL IiMSPECTED
Mit der durch das Modell der Figur 3B wiedergegebenen Anordnung, die sich von der Adsorption des Metalls
allein unterscheidet, wird angenommen, daß sich die Aüstrittsarbeit
stärker ändert, als nach der Größe des Dipolmoments anzunehmen ist. Wenn der Ionenradius des adsorbierten
Metallatoms mit rM und der Ionenradius bzw. der Radius
der kovalenten Bindung des Sauerstoffatoms mit tq bezeichnet
wird, läßt sich die Änderung der Austrittsarbeit durch die folgende Beziehung angeben:
r_ + r
ΔΦ = 2 irn(Xad - Xo) —
(4)
rG
Wenn man annimmt, daß r~ gleich rM ist, dann ist
die Änderung ΔΦ etwa doppelt so groß, wie wenn die Metallatome
adsorbiert sind.
Selbst bei Verwendung von Polykristallen ist infolge
des Kornwachstums bei der Erwärmung die nadeiförmige Spitze in einem großen Korn in einem kugelförmigen Bereich eines
Krümmungsradiusses von ungefähr 100 nm enthalten. Das heißt, daß die Spitzenoberfläche in jedem Fall als eine Einkristalloberfläche
betrachtet werden kann. Es ist bekannt, daß sich die Austrittsarbeit von Wolfram abhängig von den Kristallebenen ändert, weshalb die Austrittsarbeit Φ bzw. die
Elektronegativität Xo genau genommen,abhängig von den
Kristallebenenrmit $hkn oder Xhkl bezeicllnet werden muß.
Tabelle 1 zeigt Werte für die Kristallebenen. Mit der Adsorption W-O-M gemäß Figur 3B ergibt sich, wenn sich die
Austrittsarbeit auf allen Kristallebenen gleichförmig ändert, auch nach der Adsorption keine Änderung des Feldemissionselektronenmikrobilds;
das elektrische Feld für das Ziehen des Stroms nimmt einfach ab. Wenn sich die Austrittsarbeit
jedoch gemäß Gleichung (4) ändert, ergibt sich eine offensichtlich andere Verteilung des Feldemissionselektronenmikrobilds.
Wenn ferner die Monoschichten aus Sauerstoff und Metall adsorbiert sind, bestimmt die Anzahl
1300 20/06B2
adsorbierter Atome eine atomare Dichte auf der Oberfläche
jeder der Kristallflächen, vorausgesetzt man kann die Haftungswahrscheinlichkeit für Wolfram als 1 auf jeder der
Kristallebenen annehmen, wobei die Dichte die in Tabelle 1 gezeigten Werte. Tabelle 1 stellt berechnete Beispiele dar,
wenn Cer oder Titan auf sauerstoffadsorbiertem Metall adsorbiert
ist.
(110) | Kristallebene | (100) | (111) | (611) | |
5,10 | (211) | 4,64 | 4,61 | 4,64 | |
saubere W-Ober- flache Austrittsarbeit (eV) |
14,1 | 4,69 | 10,0 | 5,8 | 3,3 |
Oberflächendichte (- 1O14/cm2) |
2,10 | 8,2 | 1,89 | 1,88 | 1,89 |
Elektronegati- vität (Pauling- Einheiten) |
2,1 | 1,92 | 3,0 | 3,7 | 4,1 |
Austrittsarbeit W-O-Ce (eV) |
3,1 | 3,3 | 3,7 | 4,1 | 4,3 |
Austrittsarbeit W-O-Ti (eV) r ι |
3,9 | ||||
Die berechneten Resultate zeigen, daß die (110)-Ebene
die kleinste Austrittsarbeit und die (100)-Ebene die zweitkleinste Austrittsarbeit hat. Dies steht im Widerspruch zu
der Tatsache, daß im Falle von Wolfram das Emissionselektronenmikrobild im wesentlichen auf die (100)-Ebene beschränkt
ist. Die Gründe hierfür sich die folgenden. Die Berechnung wurde nämlich mit einer Haftungswahrscheinlichkeit von
1 in allen Kristallebenen und mit einer atomaren Dichte η
130020/0652
auf der Oberfläche durchgeführt. Es ist jedoch anzunehmen, daß in Wirklichkeit die Haftungswahrscheinlichkeit
von der Kristallebene abhängt.. Das heißt, die (110) -Ebene ist von den Kristallebenen des Wolfram die thermisch
stabilste und bildet die ebenste und breiteste Oberfläche, wenn sie als die nadelförmige Spitze verwendet wird. Es
ist bekannt, daß die Haftungswahrscheinlichkeit auf einer solchen Ebene abnimmt, weshalb die Austrittsarbeit auf
der (110)-Ebene in Wirklichkeit nicht so kleine Werte
wie in Tabelle 1 hat. Bezüglich anderer Ebenen bestehen keine ernsthaften Unterschiede. Aus den erwähnten Gründen
ist es also halbquantitativ verständlich, daß das Emissionselektronenmikrobild
im wesentlichen auf die (100)-Ebene der Wolframspitze eingeschränkt ist, wenn Monoschichten
eines Metalls mit kleinerer Austrittsarbeit als Wolfram und von Sauerstoff adsorbiert sind. Die Austrittsarbeiten
auf der (100)-Ebene nach der Adsorption des Metalls, wie sie in Tabelle 1 angegeben sind, stehen in guter Übereinstimmung
mit Werten, die man experimentell durch die Fowler-Nordheim-Auftragung
der Feldemission erhält.
Obige Erscheinungen gelten auch für Molybdän, das eine geringfügig kleinere Austrittsarbeit als Wolfram hat.
Das gleiche gilt auch bezüglich anderer Metalle hinsichtlich der Beschränkung des Emissionselektronenmikrobilds auf
eine bestimmte Kristallebene, wobei allerdings oft das Emissionselektronenmikrobxld in einer anderen Kristallebene
erscheint.
Ferner gilt, daß die aus einem zu adsorbierenden Metall
und Sauerstoff bestehenden Monoschichten nach der Erfindung chemisch verbunden sind, wie sich aus der Analyse
mit einem Oberflächenanalysator, etwa röntgenangeregter
Photoelektronenspektroskopie, ergibt. Dies heißt.mit anderen Worten, daß die Monoschicht aus Atomen als ein Metalloxidfiliri
betrachtet werden kann. Wenn das Metall adsorbiert und in einer die der Monoschicht aus Atomen übersteigenden Dicke
oxidiert wird, nehmen jedoch die Austrittsarbeiten zu und
130020/0 652
es kommt zu keinem Elektronenaustritt, es sei denn, daß man sehr hohe elektrische Felder anlegt. Daher unterscheidet
sich die aus einem zu adsorbierenden Metall und Sauerstoff bestehende Monoschicht nach der Erfindung sehr
stark von einem Dünnfilm eines gewöhnlichen Oxids, das auf der Oberfläche der Spitze ausgebildet wird.
Die Feldemissionskathode gemäß der Erfindung wird im folgenden anhand einer Ausführungsform konkret erläutert.
Figur 4 zeigt eine Ausführungsform der Feldemissionskathode gemäß der Erfindung. Ein haarnadelförmiger Wolframdraht 2
mit einem Durchmesser von 0,15 mm wird mit aus einer Kobalt-Nickel-Legierung bestehenden Stäben 14 verschweißt, die
an einem Glasträger 7 befestigt sind. Ein <100>-orientierter Einkristall mit einem Durchmesser von 0,15 mm, der auf
den Mittelteil des haarnadelförmigen Wolframdrahts 2 aufgeschweißt
ist, wird zur Herstellung einer Spitze 1 unter Verwendung einer wässerigen NaOH-Lösung elektrolytisch
poliert. Darauf wird ein elektrischer Strom durch den haarnadelförmigen Wolframdraht 2 geschickt, um die in
einer Ultrahochvakuumkammer liegende Spitze 1 zu einer Reinigung ihrer Oberflächen plötzlich auf eine hohe Temperatur
zu erwärmen. Dabei ermöglicht die Verwendung eines fluoreszierenden Schirms als Anode die Gewinnung eines
Feldemissionselektronenmikrobilds einer sauberen Wolframoberfläche
mit der (100)-Ebene als Mitte wie es in Figur 5A gezeigt ist, wobei dort dunkle Abschnitte eine
geringe Stromdichte und Abschnitte mit horizontalen Linien, Abschnitte mit schrägen Linien und weiße Abschnitte
Stromdichten haben, die in der genannten Reihenfolge zunehmen. Der Bereich, in dem das Elektronenmikrobild
gesehen wird, entspricht einer öffnung bzw. einem Winkel von ungefähr 1 rad (1 sr als Raumwinkel) der in Figur 1
als Emissionswinkel gezeigt ist. Es wird ein Titandraht 8 eines Durchmessers von 0,3 mm zu einem Kreis eines
Durchmessers von 10 bis 15 mm an einer Stelle ausgebildet,
die sich im Abstand von ungefähr 5 mm von der Spitze zur
130020/0652
Anode 11 hin befindet, über eine Spannun.gsquelle 12
wird dem Titandraht 8 ein elektrischer Strom zugeführt, um ihn auf 1400 ° bis 1500 0C zu erwärmen, wodurch Titan
auf die Spitze 1 aufgedampft wird.
Die Aufdampfmenge läßt sich folgendermaßen steuern.
An die Spitze 1 wird mittels einer Spannungsquelle 5 eine so hohe Spannung gelegt, daß der elektrische Strom, den
der die Anode bildende fluoreszierende Schirm 11 erhält,
ungefähr 0,1 μΑ beträgt^ Mit dem Aufdampfen: von Titan
nimmt bestimmt durch die in Figur 2 dargestellte Aus- m trittsarbeit der elektrische Strom zu, d.h., der elektrische
Strom hat entsprechend dem Verlauf der Austrittsarbeit
in Figur 2 durch ein Minimum, wie in Figur 6 gezeigt, ein Maximum und nähert sich dann einem bestimmten Wert
an. Das Maximum kann als 0,7 Monoschicht von Atomen betrachtet werden bzw. die Monoschicht von Atomen läßt sich
direkt aus dem Wendepunkt der Kurve der Figur 6 auffinden. Titan sollte in einer solchen Menge aufgedampft werden, daß
es eine Minimummonoschicht von Atomen bildet. Eine überschüssige
Abscheidung durch die Aufdampfung kann durch einen nachfolgenden Schritt der Verdampfung vermindert werden.
Danach wird zur Bewirkung einer Belüftung von wenigstens ungefähr 1 Langmuir Sauerstoffgas eingeleitet. Danach
wird der Sauerstoff zur Herstellung des ursprünglichen Vakuumdruckes wieder evakuiert und im Wolframfaden 2
über eine Spannungsquelle 13 zur Erwärmung der Spitze 1 ein elektrischer Strom erzeugt. Die Aufheiztemperatur und
die Aufheizzeit hängen von der Menge des durch die Aufdampfung abgeschiedenen Titans und dem Ausmaß, in dem
es dem Sauerstoffgas ausgesetzt ist,ab, sollte jedoch
üblicherweise im Bereich zwischen 1300 und 1500 0C für
10 bis 60 s liegen. Auch bei einer unter 1300 0C liegenden
Temperatur kann die Behandlung im gleichen Ausmaß bewirkt werden, wenn die Erwärmung über längere Zeiten fortgesetzt
wird, dies ist jedoch ineffizient. Unter einer.
Temperatur von 800 C zeigt die Wärmebehanldung keinen .
130020/06S2
Effekt. Deshalb sollte die Wärmebehandlung bei einer
Temperatur von mehr als 800 C durchgeführt werden. Wenn andererseits die Temperatur höher als 1500 0C ist, dann
kommt es zu einer Zerstörung der adsorbierten Schicht, wenn die Erwärmung auf mehr als 60 s ausgedehnt wird.
Bei obigem Herstellungsschritt kann ferner die Spitze 1 auf eine geeignete Temperatur erwärmt werden, indem
dem Faden 2 zur weiteren Förderung der Oxidation ein Strom zugeführt wird, nachdem die Spitze 1 dem Sauerstoffgas ausgesetzt
worden ist. Figur 5B zeigt ein Feldemissionselektronenmikrobild der so hergestellten Feldemissionskathode.
Bei dem Elektronenmikrobild der sauberen Oberfläche, das in Figur 5A gezeigt ist, ist die Stromdichte auf der
zentralen (100)-Ebene sehr gering, während sich in Figur 5B das Elektronenmikrobild als auf einen Punkt mit der (100)-Ebene
als Mitte beschränkt zeigt. Der Emissionswinkel entspricht der Verteilung des Elektronenmikrobilds.
Daher ist, wenn der Emissionswinkel in Figur 5A 1 rad ist, der Emissiönswinkel in Figur 5B ungefähr 1/5 rad.
Das gleiche gilt auch, wenn ein Zirkondraht oder ein Hafniumdraht anstelle des Titandrahts oder wenn der Titan-:
draht, Zirkondraht und Hafniumdraht in geeigneter Kombination verwendet werden.
Gemäß Figur 4 besteht eine weitere Ausführungsform in der Verwendung einer Heizung 9 aus einem Wolframdraht
oder dergleichen mit einem Durchmesser von 0,1 bis 0,3 mm anstelle des Titandrahts 8. In diesem Fall wurde ein Metall
10, das Aluminium Magnesium, Cer, Silizium oder Chrom oder eine Kombination dieser Metalle sein kann, durch Aufdampfen
auf der Heizung 9 abgeschieden. Auch wenn die Abscheidungsmenge durch Aufdampfen nicht in der gleichen Weise wie
bei der Verwendung eines Titandrahts bewirkt werden kann, sollte die Temperatur des aufzudampfenden Metalls korrekt gemessen
werden, um vertrauend auf Annahmen bezüglich des Dampfdurchs eine Monoschicht von Atomen aufzudampfen. Die
übrige Behandlung ist die gleiche wie bei der davor erwähnten Ausführungsform.
13 0-0 20/0662
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird
das Metall nicht durch Aufdampfen adsorbiert, sondern es wird eine wasserlösliche Verbindung, etwa ein Nitrat, d.h. AlNO-
oder MgNO-w oder ein Carbonat in Wasser bis zur Sättigung
aufgelöst und die Spitze 1 in die wässerige Lösung getaucht. Nachdem die Spitze 1 trocken ist, wird sie in das Gerät
eingesetzt, das in üblicher Weise evakuiert wird. Durch Wärmebehandlung bei 1300 0C bis 1500 0C unter Hochvakuumbedingungen
läßt sich ein allein auf die (100)-Ebene begrenztes Emissionselektronenmikrobild gewinnen, ohne daß
die Notwendigkeit besteht, Saustoffgas einzuleiten. Da Sauerstoff oft nur beschränkt verfügbar ist, wird eine Behandlung
durchgeführt, die dem oben erwähnten Aussetzen am Sauerstoffgas entspricht. Gemäß der vorliegenden
Ausführungsform wird Sauerstoff durch die durch die
Erwärmung bewirkte Zersetzung MgNOn —■*■ MgO + NO2 gebildet
so daß ein Aussetzen an Sauerstoffgas oft nicht erforderlich ist.
Das nach obiger Ausführungsform gewonnene Elektronenmikrobild
ergibt einen Emissionswinkel· von 1/4 bis 1/5 rad oder kleiner, was eine Erhöhung der Ausbeute des Sondenstroms
in Bezug auf den Gesamtemissionsstrom ermöglicht.
Ferner wird dadurch ein bislang schwierig zu erzielender großer Sondenstrom möglich, ohne daß der Gesamtemissionsstrom
erhöht werden muß. Bei Anwendung in einer Elektronenstrahlapparatur muß der Gesamtemissionsstrim 30 μΑ sein,
wenn ein Sondenstrom von 0,1 μΑ mit dem öffnungswinkel α.
der Figur 1 von ungefähr 1 . 10 rad gezogen werden soll. Wenn eine übliche
<310>-orientierte Spitze aus Wolfram oder
Molybdän, die das größte Verhältnis von Gesamtemissionsstrom zu Sondenstrom ergibt, verwendet wird, ist dagegen ein
Gesamtemissionsstrom von 1 mA notwendig, um auf einen gleichen Sondenstrom zu kommen. Bei Mehrzweckgeräten, wie
Elektronenmikroskopen und Elektronenstrahllithographiegeräten, ist es jedoch sehr schwierig, einen Gesaititemissionsstrom
von 1 mA aus der Feldemissionskathode zu ziehen, da
1300 2 0/0652
es eine technische Grenze für das in der Elektronenkanonenkammer
herstellbare Ultrahochvakuum gibt.
Wie obiger Vergleich zeigt, ist es dagegen mit der erfindungsgemäßen Kathode möglich, ohne Schwierigkeiten
einen großen Sondenstrom zu erreichen, wie er bislang nur schwierig zu erzielen war.
Die gemäß der Erfindung verwendete Spitze besteht im wesentlichen aus Wolfram oder Molybdän. Die Spitze kann
jedoch auch kombiniert mit irgendeinem anderen Material etwa dem unten erwähnten zu adsorbierenden Metall verwendet
werden, vorausgesetzt, daß es einer Feldemissionskathode anpaßbar ist.
Die Anforderungen an das Metall, damit es zur Adsorbierung verwendet werden kann, sind, daß (i) das Metall eine
Austrittsarbeit haben sollte, die kleiner als diejenige des Spitzenmaterials ist, daß (ii) das Oxid des adsorbierten
Metalls gegenüber hohen Temperaturen beständig sein sollte, wobei angenommen ist, daß das mit dem Sauerstoff gekoppelte
Metall im Hinblick auf eine hohe Temperaturbeständigkeit dem Oxid dieses Metalls äquivalent ist, und
(iii) das Metall wie in den vorstehenden Ausführungsformen
dargelegt nach einem möglichst einfachen Verfahren adsorbiert werden sollte.
Die Spitze gemäß der Erfindung hat eine geringe Austrittsarbeit verglichen mit nicht besonders behandelten
Spitzen aus Wolfram oder Molybdän und bewirkt daher eine starke Abnahme des Emissionsstroms, wenn sie bei Raumtemperatur
verwendet wird. Um die Stromdrift möglichst gering zu halten, sollte die Spitze gemäß der Erfindung
bei einer Temperatur von 750 ° bis 1000 0C eingesetzt werden,
um stabile Stromeigenschaften über längere Zeiten hinweg zu erhalten. Dieser Temperaturbereich wird so bestimmt,
daß (i) die Untergrenze für die Heiζtemperatur relativ zu
der Stromabnahme bestimmt wird, die durch durch die Spitze adsorbierte Restgasmoleküle im Vakuum verursacht wird, d.h.
so, daß der Strom, nach dem ein bestimmter Wert durchlaufen ist,
130020/0652
nicht mehr abnimmt, und daß (ii) die Obergrenze für die Heiztemperatur
so bestimmt wird, daß die aus einem adsorbierten Metall und Sauerstoff bestehende Monoschicht gemäß der
Erfindung nicht thermisch zersetzt wird.
Wenn, wie oben erwähnt, ein <1OO>-orientierter Einkristall
für die aus Wolfram oder Molybdän bestehende Spitze verwendet wird, gelangt die Mitte des Emissionswinkels
in Übereinstimmung mit der optischen Achse, was große praktische Vorteile ergibt. Abhängig vom Zweck kann jedoch
die Mitte des <310>-orientierten Emissionswinkels geringfügig
gegenüber der optischen Achse versetzt sein.
Ferner wurden Experimente betreffend die Beziehung zwischen der Heiztemperatur und der Stromkennlinie für
eine Feldemissionskathode durchgeführt, bei der Zirkon das zu adsorbierende Metall war. Dabei ergaben sich die
folgenden Resultate.
Figur 7 zeigt den Zusammenhang zwischen der Kathodentemperatur und der Winkeleingrenzung. Das Verhältnis von
-4 Sondenstrom mit einem zentralen Raumwinkel· von 1,5 - 10 sr zum gesamten Emissionsstrom wird als Maß für die Winkeleingrenzung
verwendet. Wie aus dem Verlauf der Kurve 20 ersichtlich ist, nehmen, wenn die Temperatur der Kathode
1200 K überschreitet, die Elektronen durch thermionische Emission von Elektronen zusätzlich zu den durch Feldemission·-erzeugten
Elektronen zu, so daß der Effekt der Winkeleinschränkung
schlagartig abfällt. Ohne daß dies dargestellt ist, nimmt der Sondenstrom mit der Heiζtemperatur der Kathode zu.
Wenn die Temperatur jedoch 1500 K überschreitet, nimmt der Sondenstrom infolge der Tatsache ab, daß durch die
hohe Temperatur die adsorbierte Schicht aus Zirkon zerstört wird.
Der instabile Strom, der gezogen wird, d.h. die Drift zeigt an, daß die Grenze für die Kathodentemperatur in
einem tieferen Temperaturbereich liegt. Figur 8 gibt graphisch experimentelle Ergebnisse wieder, die die Beziehung
zwischen der Drift und der Kathodentemperatur
130020/0652
(Helligkeitstexnperatur) zeigen. Dabei wird ein Betrieb über mehr als vier Stunden als Langzeitbetrieb betrachtet,
wobei der Betrieb unter ültrahochvakuumbedingungen von
6,5 · 10 Pa (5 · 1O~9 Torr) durchgeführt wird. Der
Verlauf der Kurve 21 zeigt, daß die Drift stark zunimmt, wenn die Kathodentemperatur 1110 K überschreitet. Wenn der
Betrieb unter Hochvakuumbedingungen von mehr als 6,5 · 1Q"~
Pa (5 · 10"9 Torr) aber weniger als 1,3 - 1O~7 Pa (1 · 1θ"8
Torr) durchgeführt wird, bleibt der Driftzustand gut bei Temperaturen bis hinauf zu 1250 K. Wie aus Figur 7 ersichtlich,
nimmt jedoch die Winkeleingrenzung innerhalb dieses Temperaturbereichs ab und es ergeben sich praktische
Probleme. Die Drift nimmt andererseits auch wieder zu, wenn die Kathodentemperatur weiter abnimmt. Der Grund liegt darin, daß
im Vakuum vorhandenes Restgas auf der Oberfläche der Spitze 1 adsorbiert wird, und die Austrittsarbeit erhöht. Je besser
das Vakuum ist, desto geringer ist auch die Drift. Die üntergrenze für die Kathodentemperatur ist jedoch selbst
— 9 — 11
bei einem Vakuum von ungefähr 1,3 ■ 10 Pa (1 · 10 Torr) das den besten heute erreichbaren Wert darstellt, 1000 K.
Das heißt, wenn die Kathode bei einer Helligkeitstemperatur zwischen 1000 und 1110 K betrieben wird, ist es möglich,
unter Hochvakuumbedingungen einen stabilen Elektronenstrahl mit guter Winkeleingrenzung zu bekommen. Das gleiche gilt
auch, wenn Hafnium anstelle von Zirkon verwendet wird.
Bei der erwähnten Feldemissionskathode, an der eine Monoschicht aus Atomen adsorbiert ist, wird die Stabilität
verbessert, wenn die Spitze bei einer geeigneten Temperatur zur Verminderung der Drift des EmissionsStroms verwendet
wird. Die optimale Heiζtemperatur ändert sich mit dem verwendeten
Material und dem Vakuumdruck. Da ferner die Anhaftung in einer Dicke einer monoatomaren Schicht bewirkt
wird, verkürzt sich die Lebensdauer, wenn die Heiztemperatur
zu hoch ist. Wenn das durch Aufdampfen aufgebrachte Metall einen verhältnismäßig hohen Schmelzpunkt hat, wird
jedoch der ..-Strom stabil, wenn auf 1000 0C oder mehr erwärmt
130020/0652
wird. Um diesen Zustand über längere Zeiten aufrecht zu
erhalten, muß das Metall laufend in dem Maße, wie das Verschwinden durch Verdampfen erfolgt, ergänzt werden, damit
die Monoschicht aus Atomen zu allen Zeiten stabil auf den Spitzenoberflächen, auch wenn die Spitze auf hohe Temperaturen
erwärmt ist, adsorbiert ist.
Zu diesem Zweck wird gemäß der Ausführungsform der
Erfindung eine Feldemissionskathode des Typs erzeugt, bei welchem die atomare Monoschicht durch Adsorption von Monoschichten
aus molekularem Sauerstoff und Metallatomen auf der Spitzenoberfläche der Feldemissionskathode zur
Anhaftung gebracht wird, wodurch Feldemissionselektronen auf einem engen Bereich einer bestimmten Kristallebene der
Spitze erzeugt v/erden, um so den Emissionswinkel auf ungefähr 1/4 rad, d.h. den Gesamtemissionsstrom, einzugrenzen.
Damit ferner das Metall dauernd mit der Geschwindigkeit,
mit der es durch Verdampfung verschwindet, auch beim Betreiben der Feldemissionskathode bei hohen Temperaturen
stabil ergänzt wird, wird ein hochtemperaturbeständiger
feiner Metalldraht zu einem haarnadelförmigen Faden geformt, ein Metallteil mit dem Faden verschränkt, wobei das
Metall eine Austrittsarbeit hat, die geringer als diejenige der im Scheitel des Fadens angebrachten Spitze ist, und
sein Oxid beständig gegen hohe Temperaturen ist, und schließlich wird das Metallteil· unter Hochvakuumbedingungen
erwärmt um damit wenigstens eine Verbindung zwischen dem. Faden und dem Metallteil auszubilden.
Im folgenden wird nun die Erfindung im einzelnen erläutert.
Es wird Wolfram oder Molybdän als Material für die Feldemissionskathode verwendet. Ein polykristalliner Draht
eines Durchmessers von 0,15 mm wird zu einem haarnadelförmigen
Faden 2 geformt und ein <100>-orientierter Einkristall mit dem Mittelteil des Fadens 2 verbunden und sein Spitzenabschnitt
mit einer wässerigen NaOH-Lösung zur Herstellung der Spitze 1 elektrolytisch poliert. Figur 9A zeigt diesen
130020/0652
Zustand, wobei 1 eine Spitze aus Wolfram oder Molbydän, 2 einen haarnadelförmigen Faden aus polykristallinen!
Wolfram- oder Molybdändraht, 14 aus einer Kobalt-Nickel-Legierung bestehende und mit dem Faden verbundene Stäbe,
und 7 eine Glasbasis bezeichnet. Wie aus Figur 9B ersichtlich, wird das eine Ende eines Hafniumdrahtes 23
eines Durchmessers von ungefähr 80 μπι mit dem einen
Stab 14 punktverschweißt um den haarnadelförmigen Faden
2 gewickelt und mit seinem anderen Ende mit dem anderen Stab 14 punktverschweißt.Ein elektrische Strom wird von
einer Spannungsquelle 13 unter Hochvakuumbedingungen auf die Stäbe 14 geliefert und der Hafniumdraht 23 erwärmt
bis er schmilzt. Wenn der Hafniumdraht schmilzt, wird die Temperatur schlagartig weiter angehoben. Dies ist
mit bloßen Auge zu erkennen. Sobald der Hafniumdraht geschmolzen ist, sollte der Strom unterbrochen werden. Auf
diese Weise wird eine Feldemissionskathode der in Figur 9C gezeigten Form hergestellt. Das heißt also, der Hafniumdraht
23 wird etwa im Mittelteil des haarnadelförmigen Abschnitts des Drahts 2 geschmolzen und bildet eine kugelförmige
Vorratsquelle 24. Der Hafniumdraht 23 auf der Seite der Stäbe 14 wird nicht geschmolzen, sondern bleibt
mit den Stäben 14 in der Form eines Drahtes verbunden. Der Augenblick,in dem der Hafniumdraht 23 schmilzt, kann,
wie oben erwähnt, mit bloßem Auge wahrgenommen werden. Wenn der Hafniumdraht unter Verwendung einer Konstantspannungsquelle
13 erwämrt wird, läßt sich der Moment, in dem der Draht schmilzt, leicht auch an der Stromänderung
erkennen.
Der Draht 23 muß nicht notwendigerweise in die Form einer kugelförmigen Abgabe- bzw. Vorratsquelle 24 geschmolzen
werden; es sollte wenigstens ein Zusammenführungsabschnitt
zwischen dem Faden 2 und dem Hafniumdraht 23 ausgebildet werden. Kurz gesagt heißt dies, daß der Zusammenführungsabschnitt
die gleiche Funktion wie die Abgabequelle 24 zeigt.
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Ferner müssen nicht beide Enden des Hafniumdrahts notwendigerweise mit den Stäben 14, 14, punktverschweißt
sein, sondern sie können auch in einem freien Zustand vorliegen. In diesem Fall wird der Zusammenführungsabschnitt
zwischen dem Faden 2 und dem Hafniumdraht 23 durch Heizen des Fadens 2 durch den elektrischen Strom bewirkt. Der
Hafniumdraht 23 kann durch eine andere Spannungsquelle erwärmt werden. Ferner kann der Hafniumdraht nicht nur
durch elektrischen Strom, sondern auch durch einen Gasbrenner oder dergleichen erwämrt werden.
Der Hafniumdraht 23 muß nicht um den gesamten Faden 2, sondern kann auch nur auf der einen Seite um diesen gewickelt
sein. In diesem Fall wird nur ein Zusammenführungsabschnitt bzw. nur eine Abgabequelle ausgebildet.
Die gemäß Figur 9C aufgebaute Feldemissionskathode wird gemäß Figur 10 in einer Hochvakuumkammer angeordnet,
um die Grundeigenschaften der Feldemission zu messen. Bei Erwärmung der Feldemissionskathode der Figur 9C im Vakuum
kommt es zu einer Diffusion der Abgabequelle 24 aus Hafnium auf der Oberfläche des haarnadelförmigen Fadens 2 aus Wolfram
oder Molybdän, wodurch die Oberfläche der Einkristallspitze 1 bedeckt wird. Wenn nach Figur 10 zur Aufheizung der Spitze
1 auf ungefähr 1400 0C dem Faden 2 ein elektrischer Strom
unter gleichzeitigem Anlegen einer Hochspannung an den Faden 2 mittels einer Spannungsquelle 5 zugeführt wird, erhält
man ein Feldemissionselektronenmikrobild auf einer Anodenplatte 11, deren Oberfläche mit einem fluoreszierenden Material
beschichtet ist. In der Mitte der Anodenplatte 11 ist ein kleines Loch 26 ausgebildet, durch das man einen
Öffnungswinkel von 20 mrad von der Spitze 1 sieht, und
auf das kleine Loch 26 einfallende Elektronen werden in einem Faraday-Käfig 27 aufgefangen und mittels eines Mikroampermeters
28 gemessen.
Wenn Sauerstoffgas zur Verminderung des Emissionswinkeis
eingeführt und der Partialdruck des Sauerstoff-
— 5 —7
gases auf 2,0 · 10 Pa (1,5 · 10 Torr) eingestellt wird,
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ist die Austrittsarbeit minimal und man erhält ein FeIdemissionselektronenmikrobild
mit verminderem Emissionswinkel, wie es in Figur 11 gezeigt ist. Wenn die Spitze
allein aus einem Einkristall aus Wolfram besteht, besitzt die Emission einen Öffnungswinkel von ungefähr 1 rad,
wie durch die gestrichelten Linien in Figur 10 angegeben ist. In Figur 11 beträgt der öffnungswinkel ungefähr 1/4 rad.
Bei einer Temperatur von 1400 0C werden ein Elektronenmikrobild
(gestrichelte Linien in seitlicher Richtung in Figur 11) und Feldemissionselektronenmikrobilder aus vier (100)-Ebenen
auf der Seite der Spitze im Bereich auf der Außenseite des öffnungswinkels von 1 rad beobachtet, wenn auch die Stromdichten
sehr gering sind. Das zentrale winkelmäßig eingegrenzte Feldemissionselektronenmikrobild hat Stromdichten in
. den ringförmigen ümfangsbereichen, die zwei- bis viermal größer als diejenige des zentralen Teils sind. Der Strom ist jedoch
zum Zentrum hin mehrere Male stabiler. Bei der vorliegenden Ausführungsform beträgt der mit dem Faraday-Käfig 27 gemessene
Sondenstrom 1 μΑ, wenn der mit der Anodenplatte 11 gemessene Gesamtemissionsstrom 200 μΑ (einschließlich
thermischer Elektronen von 50 μΑ an der Außenseite des Elektronenmikrobilds)
beträgt, was der Situation entpsricht, wenn ein Gesamtemissionsstrom von ungefähr 1 itiA mit
der oben erwähnte <310>-orientierte Wolframspitze gezogen wird. Obwohl nicht speziell erwähnt, ist die Stromstabilität
in diesem Zustand vergleichbar mit der der Emission von thermischen Elektronen; Δίρ/Ιρ (Änderung Δίρ relativ zum
Sondenstrom Ip) ist bei einem Sondenstrom von 1 μΑ kleiner
als 1 %. Ferner, was die erfindungsgemäße Feldemissionskathode eindrucksvoll unterschiedlich zu einer herkömmlichen
Feldemissionskathode macht, ist der Umstand, daß Sauer-
—7 —7 stoffgas der Größenordnung 1,3 · 10 Pa (10 Torr)
dauernd eingeführt wird, um den Emissionswinkel zu vermindern und die Stabilität zu erhöhen. Der Anteil des auf
thermische Elektronenemission zurückgehenden Stroms im gesamten Emissionsstrom nimmt zu, wenn die Kathode bei
130020/06S2
höheren Temperaturen betrieben wird. Daher ergibt sich,
obwohl das Verhältnis winkelmäßiger Einschränkung ausgedrückt durch das Verhältnis von Gesamtemissionsstroin zu
Sondenstrom scheinbar abnehmen kann, kein Problem,.da das Ziel darin besteht, einen Sondenstrom erhöhter Stabilität
zu erreichen.
Im Falle der Spitze mit gemäß Figur 11 vermindertem Emissionswinkel und der kleinsten Austrittsarbeit existiert
eine Beziehung zwischen der Temperatur der Spitze und dem Partialdruck von Sauerstoff. Im Falle der Hafniumspitze betrug der Druck 5,3 · 1O~ Pa (4 · 10~ Torr)
bei einer Spitzentemperatur von 1200 0C, 8,0 · 10~ Pa
(6 - 10 Torr) bei einer Spitzentemperatur von 1300 0C, 3,7 ·
— R —7
10 Pa (2,8-10 Torr) bei einer Spitzentemperatur von 1500 C
und 2,0- 10 Pa (1,5*10 Torr) bei einer Spitzentemperatur
von 1400°C. In der Praxis besteht jedoch keine Notwendigkeit, die Spitzentemperatur und den Sauerstoffpartialdruck, wie sie
durch die Korrelation gegeben sind, genau einzuhalten. Außerdem trägt das Verhältnis der Emissionswinkeleinschränkung
nicht zur Erhöhung der Stabilität des Sondenstroms bei.
Die Kathode kann daher über erhebliche Bereiche von Spitzentemperatur
und Sauerstoffpartialdruck verwendet werden. Wenn jedoch kein Sauerstoffgas eingeführt wird (bzw. wenn
kein Sauerstoffpartialdruck als Restgas vorhanden ist)
kommt es, wie in Figur 12A gezeigt, zu einer Anhaftung von
Hafnium nur an der (100)-Ebene von Wolfram. Figur 12C
zeigt ein winkelmäßig eingeschränktes Feldemissionselektronenmikrobild, wenn die Austrittsarbeit auf der (100)-Ebene
minimal ist, Figur 12B zeigt ein winkelmäßig eingeschränktes Feldemissionselektronenmikrobild, wenn der Partialdruck
von Sauerstoff bei einer gegebenen Spitzentemperatur kleiner
als der der Figur 12C ist, und Figur 12C zeigt ein
winkelmäßig eingeschränktes Feldemissionselektronenmikrobild,
wenn der Partialdruck von Sauerstoff hoch ist.. Wie in Figur 11 gezeigt, hat die zentrale (100)-Ebene eine
Stromdichte, die die Hälfte bis ein Viertel derjenigen
130020/06S2
des umgebenden Ringabschnitts ist, zeigt jedoch ganz ausgezeichnete Stabilität, Hinsichtlich der Figuren 12B
bis 12D erscheint auch das Thermoemissionselektronenmikrobild, wie es in Figur 11 gezeigt ist, bei einer Temperatur
von mehr als 1400 0C, ist aber nicht dargestellt. Figur
12E gibt grob die Stärken der Stromdichte wieder.
Die Stabilität des Stromes nimmt auch nicht ab, wenn man noch andere Gase als Sauerstoff zugegen sein läßt.
Wenn beispielsweise Luft (die Sauerstoff, Stickstoff, Wasser und dergleichen enthält) als Restgas in einer einem Druck
— S —7
von 5,3 · 10 Pa (4 · 10 Torr) entsprechenden Menge zugegen ist, kann die Kathode stabil bei einer Spitzentemperatur
von 15000C betrieben werden, indem man Sauerstoff
gas in einer Menge zuführt, die einem Druck von 2,7 * 10 Pa (2 * 10 Torr) entspricht. Selbst bei gewöhnlichen
Feldemissionskathoden werden die Eigenschaften durch Gase wie Kohlenmonoxid (CO) oder Kohlendioxid (CO2) nicht beeinträchtigt.
Eine weitere Ausführungsform behandelt den Fall, daß
Zirkon anstelle von Hafnium verwendet wird. Die Spitze dieser Ausführungsform kann nach genau dem gleichen Verfahren,
wie es durch die Figuren 9A bis 9C zum Ausdruck kommt, hergestellt werden. Die Erwärmungstemperatur zur Herstellung
der Spitze in den Schritten der Figuren 9B und 9C kann um einen Betrag gesenkt werden, der gleich der Differenz
zwischen dem Schmelzpunkt von Hafnium und dem Schmelzpunkt von Zirkon ist. Wenn die Feldemission in der gleichen Weise
wie in Figur 10 bewirkt wird, ergeben sich Feldemissionselektronenmikrobilder, die genau die gleichen wie die der
Figuren 11 und Figuren 12A bis 12D sind. Ferner ist die
Beziehung zwischen der Spitzentemperatur und dem Partialdruck von Sauerstoff, die die minimale Austrittsarbeit
ergibt, im Anfangsstadium der Benutzung nahezu gleich der von Hafnium. Nach einem Einsatz der Kathode von 1 bis 2
Stunden jedoch kann der Sauerstoffpartxaldruck auf 1/3 bis
1/4 gesenkt werden, während die Spitzentemperatur konstant
130020/0652
gehalten wird. Nach einem Einsatz der Kathode über 3 bis 4 Stunden kann der Sauerstoffpartialdruck auf
ungefähr 1/10 des Anfangsdrucksgesenkt werden. Im stationären Betrieb muß der Sauerstoffpartialdruck.1/10
bis 1/100 verglichen mit dem Fall von Hafnium sein. Dies geht vermutlich auf die Tatsache zurück, daß im Falle von
Zirkon die Oxidation in der Diffusionsabgabequelle in gewissem Maße beschleunigt wird.
Eine weitere Ausführungsform der Erfindung behandelt
den Fall, daß Titan verwendet wird. Auch in diesem Fall wird die Kathodenspitze wie bei Verwendung von Zirkon
oder Hafnium hergestellt. Ein großer Vorteil, den Titan mit sich bringt, besteht jedoch darin, daß die Kathode
bei einer Temperatur von ungefähr 1100 C stabil arbeitet/ ohne daß Sauerstoff besonders zugeführt werden muß.
Auch wenn ein Draht einer binären Legierung oder ein Draht einer ternären Legierung aus Hafnium, Zirkon oder
Titan verwendet wird, oder auch wenn zwei oder drei Metalldrähte, bestehend'aus Hafnium, Zirkon oder Titan, verschränkt
bzw. miteinander verwickelt verwendet werden, ergeben sich die gleichen Wirkungen wie oben.
Nach den Ausführungsformen der Erfindung muß die Spitze, die als Feldemissionskathode verwendet wird,
in den Grundzügen die Form der Figur 9C haben; die Reihenfolge der Herstellungsschritte spielen keine große Rolle.
So können die Vorgänge der Figuren 9B und 9C vor dem Anbringen des haarnadelförmigen Fadens 2 aus Wolfram oder
Molybdän durchgeführt werden, oder der Einkristalldraht 1 kann am Faden 2 befestigt werden, gefolgt vom elektrolytischen
Polieren, oder die Vorgänge der Figuren 9B und 9C können durchgeführt werden, nachdem der Einkristalldraht
1 am haarnadelförmigen Draht 2 angebracht ist, gefolgt vom elektrolytischen Polieren.
Neben dem Umwickeln des Drahtes aus Hafnium, Zirkon oder Titan um den haarnadelförmigen Faden 2 ist es auch
zulässig, einen Draht 23 aus Hafnium, Zirkon oder Titan an einer Seite oder, beider» sei ten,, des haarnadelförmigen
Fadens 2, wie dies in Figur 13A gezeigt ist, anzubringen
und damit eine sphärische Abgabequelle 24, wie sie in Figur 13B gezeigt ist, auszubilden. Die Abgabequelle muß nicht
in einer Kugel ausgebildet werden, sondern kann einfach am Faden angebracht sein. Ferner kann der Einkristalldraht
vor oder nach der Herstellung der kugelförmigen Abgabequelle zur Spitze 1 elektrolytisch poliert werden.
Gemäß der Erfindung reicht die Spitzentemperatur, bei
der der Strom stabil gehalten werden kann, von 860 0C bis
1500 0C, auch wenn Hafnium, Zirkon oder Titan verwendet
wird. Der dabei benötigte Partialdruck von Sauerstoff hängt dabei, wie oben erwähnt, von der Spitzentemperatur
und der Art der Spitze ab, sollte aber so gewählt werden, daß er innerhalb eines geeigneten Bereichs von weniger als
—5 — 7
6,7 · 10 Pa (5 · 10 Torr),.abhängig von der Spitzentemperatur
und der Art der Spitze, liegt.
Was die Lebensdauer der erfindungsgemäß hergestellten Spitze anbelangt, so hat die Hafniumspitze die längste
Lebensdauer, die Zirkonspitze die zweitlängste Lebensdauer und die Titanspitze die drittlängste Lebensdauer, vorausgesetzt,
daß sie bei der gleichen Temperatur eingesetzt werden. So zeigt beispielsweise die Zirkonspitze der Ausführungsform
der Figur 9C eine Lebensdauer von mehr als 10000 Stunden, wenn sie bei einer Temperatur von 1500 0C
verwendet wird. Daneben wird die Form der Spitze nicht beeinträchtigt und es ergeben sich keine Probleme in der
Praxis. Die mögliche üntergrenze für die Arbeitstemperatur
ist so, daß sie am niedrigsten für Titan, am zweitniedrigsten für Zirkon und am drittniedrigsten für Hafnium ist.
Ferner ist die erfindungsgemäß hergestellte Spitze
am besten geeignet, wenn ein großer Sondenstrom mit einem Fleckdurchmesser von ungefähr 0,1 μΐη, wie bei einem Elektronenstrahllithographiegerät,
gewünscht wird. Man erhielt einen Sondenstrom mit einer Änderung (Drift) seines Pegels
von weniger als 1 % pro Stunde und mit KurζZeitschwankungen
(Rauschen) von weniger als 1 %, was weitaus besser als
130020/0652
CöP'tf
die Stabilität ist, die jemals mit herkömmlichen Feldemissionskathoden
erreicht wurde.
Gemäß der Erfindung, wie sie vorstehend in ihren Einzelheiten dargelegt wurde, wird eine Feldemissionskathode
geschaffen, die ihrem Wesen nach eine Elektronenquelle hoher Helligkeit ist, welche einen hohen Sondenstrom
bei ausgezeichneter Langzeitstabilität und ausgezeichneter Lebensdauer erzeugt, ohne daß sie von der Qualität
des Vakuums (Restgase oder dergleichen) beeinträchtigt wird -
Dr.Ki/Ug
130020/0662
Claims (14)
- PATENTANWÄLTESCHIFF ν. FÜNER STREHL SCHÜBEL-HOPF EBBINGHAUS FINCKMARIAHILFPLATZ 2 A 3, MÖNCHEN 90 POSTADRESSE: POSTFACH 95 01 6O, D-8OOO MÖNCHEN 95HITACHI, LTD. 17. Oktober 1980DEA-25 322Feldemissionskathode und Verfahren zu ihrer HerstellungPATENTANSPRÜCHEnl Feldemissionskathode mit einem Heizdraht, der Haarnadelform hat und aus einem hochtemperaturbeständigen feinen Metalldraht besteht, und einer Spitze, welche aus einem hochtemperaturbeständigen Metall besteht und am Scheitel des Fadens angebracht ist, so daß in einem elektrischen Feld Elektronen an ihrer Spitze austreten, dadurch gekennzeichnet , daß zur Verminderung der Austrittsarbeit an der Oberfläche der Spitze (1) ein Metall über Sauerstoff an der Oberfläche der Spitze in einer Dicke, die nicht die Dicke einer atomaren Monoschicht überschreitet, adsorbiert ist, wobei das Metall eine Austrittsarbeit hat, die kleiner als die Austrittsarbeit des die Spitze bildenden Metalls ist und ein Oxid des Metalls beständig gegen hohe Temperaturen ist.130020/0652
- 2. Feldemissionskathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Spitze (1) aus einem Einkristall aus Wolfram oder Molybdän besteht, und daß das adsorbierte Metall Chrom, Aluminium, Cer, Magnesium, Titann Zirkon oder Hafnium ist.
- 3. Feldemissionskathode nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß der die Spitze (1) bildende Einkristall ein <100>-orientierter Kristall ist.
- 4. Feldemissionskathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das adsorbierte Metall in der adsorbierten Schicht direkt durch Aufdampfen auf die Oberfläche der Spitze (1) abgeschieden ist. · "
- 5. Feldemissionskathode nach Anspruch t, dadurch g e kenn zeichnet , daß das adsorbierte Metall in der adsorbierten Schicht von einem Metall geliefert wird, das an dem Faden (2) angefügt ist.
- 6. Feldemissionskathode nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß das adsorbierte Metall in der adsorbierten Schicht Titan, Zirkon oder Hafnium ist.
- 7. Verfahren zur Herstellung einer Feldemissionskathode, gekennzeichnet durch das Ausbilden eines Fadens durch Bringen eines feinen Metalldrahtes mit Beständig-1300 2 0/0652keit gegenüber hohen Temperaturen in die Form einer Haarnadel; das Anbringen einer Spitze aus einem Metall mit Beständigkeit gegen hohe Temperaturen im Bereich des Scheitels des Fadens; das Aufdampfen eines Metalls auf die Oberfläche der Spitze in einem Vakuum, wo Feldemission auftreten kann, wenigstens in einer Dicke, die gleich der Dicke einer Monoschicht von Atomen ist, wobei das Metall eine Austrittsarbeit hat, die kleiner als die Austrittsarbeit des die Spitze bildenden Metalls ist, und ein Oxid des Metalls beständig gegen hohe Temperaturen ist; das Adsorbieren-von Sauerstoff an der Oberfläche der Spitze in einer Dicke die gleich der Dicke der Monoschicht aus Atomen ist, durch Einführen einer geeigneten Menge an Sauerstoffgas in das Vakuum; das Evakuieren des Sauerstoffgases zur erneuten Herstellung einer Vakuumatmosphäre, in der Feldemission auftreten kann, und das Erwärmen der Spitze auf eine Temperatur zwischen 1300 und 1600 0C über 10 bis 60 Sekunden, hinweg.
- 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , daß zwischen dem Adsorbieren und dem Evakuieren die Spitze auf eine geeignete Temperatur erwärmt wird.
- 9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Spitze aus einem Wolfram- oder Molybdäneinkristall angebracht wird, und daß als aufzudampfendes Metall wenigstens eines der Metalle Chrom, Aluminium,130020/0652Cer, Magnesium, Titan, Silizium, Zirkon und Hafnium verwendet wird.
- 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß als Einkristall ein <100>-orientierter Kristall verwendet wird.
- 11. Verfahren zur Herstellung einer Feldemissionskathode, gekennzeichnet durch das Ausbilden eines Fadens durch Bringen eines feinen Metalldrahts mit Beständigkeit gegen hohe Temperaturen in die Form einer Haarnadel; das Anbringen einer Spitze aus einem Metall mit Beständigkeit gegen hohe Temperaturen im Bereich des Scheitels des Fadens; das Anbringen eines Metallteils am Faden, wobei das Metallteil eine Austrittsarbeit hat, die kleiner als die Austrittsarbeit des die Spitze bildenden Metalls ist und ein Oxid des Metallteils gegen hohe Temperaturen beständig ist; und das Erwärmen der Spitze auf eine Temperatur von 860 ° bis 1500 0C in einer Vakuumatmosphäre, in der Feldemission möglich ist und in die Sauerstoffgas unter Aufrechterhaltung eines Partialdrucks desselben von wenigerals 6,7 · 10~5 Pa (5 · 10 Torr) eingeführt wird.
- 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet , daß die Spitze nach dem Anbringen des Metallteils angebracht wird.130020/0662
- 13. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß als Spitze ein Wolfram- oder Molybdäneinkristall verwendet wird und daß als Metall für das Metallteil wenigstens eines der Metalle Titan, Zirkon und Hafnium verwendet wird.
- 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß als Einkristall ein <100>-orientierter Kristall verwendet wird.130020/0652ORIGINAL IMSPECTED
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54134167A JPS6054735B2 (ja) | 1979-10-19 | 1979-10-19 | 電界放射陰極 |
JP13641079A JPS5661733A (en) | 1979-10-24 | 1979-10-24 | Field emission cathode and its manufacture |
JP4559180A JPS56143638A (en) | 1980-04-09 | 1980-04-09 | Fabrication of field emission cathode |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3039283A1 true DE3039283A1 (de) | 1981-05-14 |
DE3039283C2 DE3039283C2 (de) | 1989-03-16 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803039283 Granted DE3039283A1 (de) | 1979-10-19 | 1980-10-17 | Feldemissionskathode und verfahren zu ihrer herstellung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4379250A (de) |
DE (1) | DE3039283A1 (de) |
NL (1) | NL8005772A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015114843B4 (de) * | 2015-09-04 | 2019-11-21 | Tim Dahmen | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Proben durch ein Teilchenstrahlmikroskop |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3332549A1 (de) * | 1983-09-09 | 1985-03-28 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Verfahren und vorrichtung zur vermeidung von kathodenschaeden beim einschalten von feldemissionsstrahlern |
US5089292A (en) * | 1990-07-20 | 1992-02-18 | Coloray Display Corporation | Field emission cathode array coated with electron work function reducing material, and method |
US5449968A (en) * | 1992-06-24 | 1995-09-12 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Thermal field emission cathode |
JP3264775B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2002-03-11 | 電気化学工業株式会社 | 熱電界放射電子銃 |
US5616926A (en) * | 1994-08-03 | 1997-04-01 | Hitachi, Ltd. | Schottky emission cathode and a method of stabilizing the same |
JPH08180824A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-12 | Hitachi Ltd | 電子線源、その製造方法、電子線源装置及びそれを用いた電子線装置 |
JPH08250054A (ja) * | 1995-03-14 | 1996-09-27 | Hitachi Ltd | 拡散補給型電子線源およびそれを用いた電子線装置 |
US5727978A (en) * | 1995-12-19 | 1998-03-17 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method of forming electron beam emitting tungsten filament |
TW341709B (en) * | 1996-06-12 | 1998-10-01 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Method of making a needle electrode |
US5798524A (en) * | 1996-08-07 | 1998-08-25 | Gatan, Inc. | Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope |
US6184524B1 (en) | 1996-08-07 | 2001-02-06 | Gatan, Inc. | Automated set up of an energy filtering transmission electron microscope |
US6091190A (en) * | 1997-07-28 | 2000-07-18 | Motorola, Inc. | Field emission device |
JPH1196892A (ja) | 1997-09-17 | 1999-04-09 | Nec Corp | フィールドエミッタ |
JPH11246300A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-09-14 | Canon Inc | チタンナノ細線、チタンナノ細線の製造方法、構造体及び電子放出素子 |
US6525461B1 (en) * | 1997-10-30 | 2003-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Narrow titanium-containing wire, process for producing narrow titanium-containing wire, structure, and electron-emitting device |
US6376337B1 (en) * | 1997-11-10 | 2002-04-23 | Nanodynamics, Inc. | Epitaxial SiOx barrier/insulation layer |
US6649824B1 (en) | 1999-09-22 | 2003-11-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion device and method of production thereof |
JP4648527B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2011-03-09 | 新日本無線株式会社 | カソードの製造方法 |
US6559582B2 (en) * | 2000-08-31 | 2003-05-06 | New Japan Radio Co., Ltd. | Cathode and process for producing the same |
EP1207545A3 (de) * | 2000-11-17 | 2007-05-23 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Fesstellung und Anwendung eines Betriebszustands eines thermischen Feldemissionsemitter |
US9159527B2 (en) * | 2003-10-16 | 2015-10-13 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Systems and methods for a gas field ionization source |
DE102007042108B4 (de) * | 2007-09-05 | 2010-02-11 | Siemens Ag | Elektronenquelle mit zugehöriger Messwerterfassung |
JP5203456B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2013-06-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、及びその制御方法 |
US9138831B2 (en) * | 2008-06-27 | 2015-09-22 | Lincoln Global, Inc. | Addition of rare earth elements to improve the performance of self shielded electrodes |
JP5363413B2 (ja) | 2010-05-10 | 2013-12-11 | 電気化学工業株式会社 | 電子源 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1290637B (de) * | 1964-11-02 | 1969-03-13 | Field Emission Corp | Feldemissionskathode |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3814975A (en) * | 1969-08-06 | 1974-06-04 | Gen Electric | Electron emission system |
US3809899A (en) * | 1972-08-17 | 1974-05-07 | Tektronix Inc | Electron-beam tube including a thermionic-field emission cathode for a scanning electron microscope |
US4137476A (en) * | 1977-05-18 | 1979-01-30 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Thermionic cathode |
US4325000A (en) * | 1980-04-20 | 1982-04-13 | Burroughs Corporation | Low work function cathode |
US4324999A (en) * | 1980-04-30 | 1982-04-13 | Burroughs Corporation | Electron-beam cathode having a uniform emission pattern |
-
1980
- 1980-10-17 DE DE19803039283 patent/DE3039283A1/de active Granted
- 1980-10-17 US US06/198,176 patent/US4379250A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-10-20 NL NL8005772A patent/NL8005772A/nl not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1290637B (de) * | 1964-11-02 | 1969-03-13 | Field Emission Corp | Feldemissionskathode |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Journal of Applied Physics, Vol. 43, Nr. 4, 1972, S. 1600 - 1604 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015114843B4 (de) * | 2015-09-04 | 2019-11-21 | Tim Dahmen | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Proben durch ein Teilchenstrahlmikroskop |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL8005772A (nl) | 1981-04-22 |
US4379250A (en) | 1983-04-05 |
DE3039283C2 (de) | 1989-03-16 |
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