DE3051150C2

DE3051150C2 - Base plate for electrolytic refining

Info

Publication number: DE3051150C2
Application number: DE19803051150
Authority: DE
Inventors: Hiroaki Matsuo; Satoshi Arita; Kiyomi Touge; Akio Shida; Sigenobu Yamaura
Original assignee: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Current assignee: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date: 1979-09-20
Filing date: 1980-09-17
Publication date: 1989-10-26
Also published as: DE3035019A1; FI67096B; BE885313A; DE3035019C2; CA1169025A; FI802937A; FI67096C; IT1130839B; AU6243080A; IT8068439A0; AU526408B2

Description

Die Erfindung betrifft eine Basisplatte mit zwei Großflä chen und seitlich umlaufenden Kanten für die elektrolyti sche Raffination, bestehend aus leitendem Material, bei der auf den Großflächen eine Metallschicht abgeschieden wird und die Kanten einen Isolierrahmen tragen.The invention relates to a base plate with two large surfaces and peripheral edges for the electrolytic refining, consisting of conductive material, at which deposited a metal layer on the large areas and the edges carry an insulating frame.

Bei der üblichen elektrolytischen Raffination werden Nichteisenmetalle gewonnen, indem zunächst ein bestimm tes Nichteisenmetall auf einer in eine Elektrolysezelle eingebauten Basisplatte (Kathodenplatte) elektrolytisch ausgefällt wird, wobei die Kathodenplatte mit einer elek trolytisch darauf abgeschiedenen Metallschicht als Ergeb nis erhalten wird. Anschließend wird die Metallschicht von der Basisplatte abgeschält, indem eine Abstreifvor richtung, zum Beispiel ein Keilschaber, eine Klinge oder dergleichen, zwischen Basisplatte und Metallschicht ein geführt wird.In the usual electrolytic refining Non-ferrous metals are obtained by first a certain non-ferrous metal on an electrolysis cell built-in base plate (cathode plate) electrolytically is precipitated, the cathode plate with an elec trolytically deposited metal layer as a result nis is obtained. Then the metal layer peeled from the base plate by a wiper direction, for example a wedge scraper, a blade or the like, between the base plate and metal layer to be led.

Die Fig. 1a und 1b sind eine Schnittansicht und eine Seitenansicht zweier beispielhafter Kathodenplatten A′ und A′′, bei denen automatische Abstreifvorrichtungen für das Abschälen der Metallschicht 2′ oder 2′′ von der Basis platte 1′ bzw. 1′′ eingesetzt werden. FIGS. 1a and 1b are a sectional view and a side view of two examples of cathode plates A 'and A''in which automatic stripping devices for the peeling of the metal layer 2' or 2 '' of the base plate 1 'and 1''are used .

Bei der Kathodenplatte A′ wird die Metallschicht 2′ im Bereich ihres oberen Endes mittels eines Hammers oder dergleichen oder mittels eines Luftstrahls oder derglei chen mit einer mechanischen oder pneumatischen Aufschlag kraft bearbeitet, wobei sich feine Zwischenräume, d. h. Spalte und Risse, an der oberen Grenzfläche 5′ zwischen Grundplatte 1′ und Metallschicht 2′ bilden, worauf eine nicht dargestellte Abstreifvorrichtung, lotrecht abwärts wirkend in diese Spalte und Risse eingeführt wird.In the cathode plate A ' , the metal layer 2' is machined in the region of its upper end by means of a hammer or the like or by means of an air jet or the like with a mechanical or pneumatic impact force, with fine gaps, ie gaps and cracks, at the upper interface 5 'form between base plate 1' and metal layer 2 ' , whereupon a stripping device, not shown, acting vertically downward is introduced into these gaps and cracks.

Bei der Kathodenplatte A′ ist es jedoch nachteilig, daß die Grenzfläche 5′ unbestimmt ist, weil der Randbereich 3′, wie aus der Zeichnung hervorgeht, einen spitzen Win kel zur Basisplatte 1′ bildet, wodurch das Einführen oder Ansetzen der Abstreifvorrichtung erschwert wird.In the cathode plate A ' , however, it is disadvantageous that the interface 5' is indefinite, because the edge region 3 ' , as can be seen from the drawing, forms an acute angle to the base plate 1' , which makes the introduction or attachment of the stripping device difficult.

Im Fall der Kathodenplatte A′′ wird dagegen ein schmäle rer Abschnitt 6′′ an einem Teil der Seitenkante der Basis platte 1′′ angeformt und mit einem beide Seitenflächen dieses Abschnittes 6′′ abdeckenden, U-profilförmigen Iso liermaterialstück 4′′ bedeckt, wobei die Stärke des Iso liermaterials eine Dicke entsprechend derjenigen der Ba sisplatte 1′′ (vgl. Fig. 1b) oder eine geringere Dicke be sitzt. Sodann wird auf der Basisplatte 1′′ eine Metall schicht 2′′ ausgefällt.In the case of the cathode plate A '' , on the other hand, a narrow section 6 '' is formed on part of the side edge of the base plate 1 '' and is covered with a U-profile-shaped insulating material piece 4 '' covering both side surfaces of this section 6 '' , wherein the thickness of the insulating material has a thickness corresponding to that of the base plate 1 '' (see. Fig. 1b) or a smaller thickness be sits. Then a metal layer 2 '' is precipitated on the base plate 1 '' .

Zum Abstreifen oder Abschälen werden hierauf feine Risse oder Spalte an der Grenzfläche 5′′ zwischen Basisplatte 1′′ und Metallschicht 2′′, wie bekannt, erzeugt, worauf eine Abstreifvorrichtung eingeführt und zunächst gemäß Fig. 1b nach links und dann lotrecht bewegt wird.For stripping or peeling, fine cracks or gaps at the interface 5 '' between base plate 1 '' and metal layer 2 '' , as is known, are produced, whereupon a stripping device is introduced and first moved to the left and then perpendicularly according to FIG. 1b.

Bei der Kathodenplatte gemäß Fig. 1b, deren Grenzfläche 5′′ deutlicher ist bei der Fig. 1a, kann die Abstreifvor richtung sicher angesetzt werden, doch ist sie mit dem Mangel behaftet, daß das Isoliermaterialstück 4′′ auf grund von Stößen während des Transports, Korrosion durch den Elektrolyten und dergl. von der Basisplatte 1′′ herab fallen kann, so daß das Ansetzen der Abstreifvorrichtung weiter erschwert ist. In einem solchen Fall ist es daher erforderlich, ein neues Isoliermaterialstück 4′′ aufzu setzen, um Schwierigkeiten zu vermeiden.In the cathode plate of FIG. 1b, the interface 5 '' is clearer in Fig. 1a, the Abstreifvor direction can be safely applied, but it is afflicted with the lack that the piece of insulating material 4 '' due to bumps during transport , Corrosion due to the electrolyte and the like can fall down from the base plate 1 '' , so that the application of the stripping device is further complicated. In such a case, it is therefore necessary to put a new piece of insulating material 4 '' to avoid difficulties.

Darüber hinaus wird in der US-PS 42 07 147 eine Basis platte vorgeschlagen, die aus leitendem Material be steht. Die Kanten tragen einen Isolierrahmen, der am Rand der Basisplatte in Form einer randseitigen Ver dickung verankert ist. Nachteilig ermöglicht dieser Iso lierrahmen nicht das Ansetzen einer Abschälvorrichtung.In addition, in US-PS 42 07 147 a basis plate proposed to be made of conductive material stands. The edges carry an insulating frame, which on Edge of the base plate in the form of an edge Ver Thickening is anchored. Disadvantageously, this iso lierrahmen not the attachment of a peeling device.

Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, eine verbesserte Basisplatte zu schaffen, mit welcher die Mängel der bisherigen Platten dieser Art vermieden wer den und das Abschälen einer Metallschicht mittels einer Abstreifvorrichtung über einen langen Betriebszeitraum einfach durchzuführen ist.The invention is therefore based on the object to create an improved base plate with which the Deficiencies in previous records of this type are avoided and peeling off a metal layer using a Scraper over a long period of operation is easy to do.

Diese Aufgabe wird bei einer Basisplatte der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß an einer Seitenkante oder im Kopfbereich ein Isoliermaterialstück randseitig in der Basisplatte unter gleichbleibender Dicke veran kert ist, und daß sich auf beiden Seiten der Basisplatte zwischen der sich bildenden Metallschicht und der Basis platte am Rande des Isoliermaterialstücks sich ein keil förmiger Spalt bildet, in den eine Abschälvorrichtung einführbar ist. Insbesondere tritt bei dieser Ausgestal tung in keinem Fall die Störung auf, daß das Isoliermate rialstück unter dem auf die Grundplatte ausgeübten Schlag oder infolge von Korrosion an der Grundplatte her abfällt, weil das Isoliermaterialstück mittels seiner in den durchgehenden Öffnungen in der Basisplatte veranker ten Abschnitte starr mit der Basisplatte verbunden ist. Infolgedessen kann die erfindungsgemäße Basisplatte über lange Zeiträume hinweg wiederholt benutzt werden. This task is the beginning of a base plate mentioned type solved in that on a side edge or in the head area an edge of insulating material in the base plate with the same thickness kert is, and that on both sides of the base plate between the metal layer that forms and the base a wedge on the edge of the piece of insulating material forms a gap in which a peeling device can be introduced. In particular, this configuration occurs tion in no case the disturbance that the Isoliermate rial piece under that exerted on the base plate Impact or due to corrosion on the base plate drops because the insulating material piece by means of its in the through openings in the base plate th sections is rigidly connected to the base plate. As a result, the base plate according to the invention can be used repeatedly for long periods of time.

Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsformen der Er findung im Vergleich zum Stand der Technik anhand der Zeichnungen im einzelnen erläutert. Es zei genThe following are preferred embodiments of the Er Compared to the prior art based on the Drawings explained in detail. It shows gene

Fig. 1a und 1b einen lotrechten Schnitt durch den Oberteil bzw. einen Querschnitt durch einen Seitenabschnitt jeweils einer Basisplatte als Beispiel für den Stand der Technik, Fig. 1a and 1b is a vertical section through the upper part and a cross-section through a side portion of each of a base plate as an example of the prior art,

Fig. 2a und 2b eine Darstellung einer Ausführungsform einer Basisplatte gemäß Erfindung bzw. einen in vergrößertem Maßstab gehaltenen Schnitt längs der Linie II-II in Fig. 2a, FIGS. 2a and 2b is a representation of an embodiment of a base plate according to the invention and a section held in an enlarged scale along the line II-II in Fig. 2a,

Fig. 3a eine Ansicht einer Basisplatte gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung, Fig. 3a shows a view of a base plate according to another embodiment of the invention,

Fig. 3b einen in vergrößertem Maßstab gehaltenen Schnitt längs der Linie III-III in Fig. 3a, FIG. 3b a held on an enlarged scale section of the line III-III along in Fig. 3a,

Fig. 4 und 5 Teilaufsichten auf zwei weitere Ausfüh rungsformen der erfindungsgemäßen Basis platte. FIGS. 4 and 5 are plan views of two further part exporting approximately forms the base plate of the present invention.

In den Fig. 2 und 3 ist jeweils eine Basisplatte 1 dargestellt. Gemäß Fig. 2 ist die Platte 1 über ihrer rechten Seitenkante mit einem Isoliermaterialstück 4 versehen, während das Stück 4 bei der Ausführungsform gemäß Fig. 3 über dem Mittelbereich der Basisplatte 1 angeordnet ist. Da das Isoliermaterialstück erfindungs wesentlich ist, wird es im folgenden näher erläutert.In FIGS. 2 and 3, a base plate 1 is shown respectively. Referring to FIG. 2, the plate 1 is provided on its right side edge with a Isoliermaterialstück 4, while the piece 4 in the embodiment of Fig. 3 is disposed above the central portion of the base plate 1. Since the piece of insulating material is essential to the invention, it is explained in more detail below.

Das in den vergrößerten Schnittansichten der Fig. 2a und 3a dargestellte Isoliermaterialstück 4 besteht aus einem Kunststoff, etwa Epoxy- oder Polyesterharz, oder aus Gummi, wobei es teilweise in Öffnungen 5 in einem auf etwa 2 mm verdünnten Abschnitt der eine Normaldicke von 6 mm besitzenden Basisplatte 1 verankert oder eingebet tet ist. Die beiden Seiten des Isoliermaterialstücks 4 sind somit unter Umfassung des dünnen Abschnittes der Basisplatte 1 zwischen den eingebetteten Abschnitten miteinander verbunden, wobei die Gesamtdicke des Isolier materialstücks 4 praktisch derjenigen der Basisplatte 1 entspricht. In Fig. 3b ist ein herkömmlicher Isolier rahmen 6 zur Trennung der Metallschichten auf beiden Seiten angedeutet.The insulating material piece 4 shown in the enlarged sectional views of FIGS . 2a and 3a consists of a plastic, such as epoxy or polyester resin, or of rubber, it partially in openings 5 in a section thinned to about 2 mm and having a normal thickness of 6 mm Base plate 1 is anchored or embedded tet. The two sides of the insulating material piece 4 are thus connected to one another by enclosing the thin section of the base plate 1 between the embedded sections, the total thickness of the insulating material piece 4 practically corresponding to that of the base plate 1 . In Fig. 3b, a conventional insulating frame 6 for separating the metal layers on both sides is indicated.

Da bei der beschriebenen Ausführungsform das Isoliermate rialstück 4 an beiden Seiten der Basisplatte 1 ange bracht und mit dieser durch in den durchgehenden Öffnun gen 5 verankerte Abschnitte verbunden ist, kann das Iso liermaterialstück 4 auch dann nicht von der Basisplatte 1 herabfallen, wenn letztere einer Schlageinwirkung oder Korrosion ausgesetzt ist.Since in the described embodiment rialstück the Isoliermate 4 on both sides of the base plate 1 is introduced and with this by gene in the through Öffnun 5 anchored portions are connected, the Iso may not liermaterialstück 4 and then from the base plate 1 from falling when the latter is impacted or is exposed to corrosion.

Bei Verwendung der Basisplatte 1 mit dem vorstehend be schriebenen Aufbau hebt sich gemäß Fig. 2b der Randab schnitt 3 der sich bei der elektrolytischen Raffination bildenden Metallschicht 2 unter einem stumpfen Winkel von der Basisplatte 1 ab, wobei sich zwischen Metall schicht und Platte ein keilförmiger Spalt C bildet, der sich für das Einführen oder Ansetzen einer Abschälvor richtung eignet.When using the base plate 1 with the structure described above, the edge section 3 of FIG. 2b that forms during the electrolytic refining forms a metal layer 2 at an obtuse angle from the base plate 1 , with a wedge-shaped gap between the metal layer and the plate C forms, which is suitable for the introduction or preparation of a peeling device.

Im folgenden ist das Abschälen der Metallschicht 2 von der mit dem Isoliermaterialstück 4 versehenen Basisplat te 1 mittels einer Bearbeitungsvorrichtung beschrieben. Die erste Ausführungsform bezieht sich dabei auf die Ba sisplatte 1 gemäß Fig. 2.The peeling of the metal layer 2 from the base plate 1 provided with the insulating material piece 4 is described below by means of a processing device. The first embodiment relates to the base plate 1 according to FIG. 2.

In den Fig. 4 und 5 sind Basisplatten 1 mit unterschied lich geformten Isoliermaterialstücken 4 dargestellt.In Figs. 4 and 5, the base plates 1 are shown with different Lich shaped Isoliermaterialstücken 4.

Claims

Base plate with two large surfaces and laterally encircling the edges for electrolytic refining, consisting of conductive material in which a metal layer is deposited on the large surfaces and the edges carry an insulating frame, characterized in that an insulating material piece ( 4 ) is anchored in the base plate ( 1 ) at a constant thickness, and that a wedge-shaped gap (C) forms in both sides of the base plate between the metal layer that forms and the base plate at the edge of the insulating material piece, into which a peeling device tion can be introduced.