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DE2802416A1 - Optische vorrichtung - Google Patents

Optische vorrichtung

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Publication number
DE2802416A1
DE2802416A1 DE19782802416 DE2802416A DE2802416A1 DE 2802416 A1 DE2802416 A1 DE 2802416A1 DE 19782802416 DE19782802416 DE 19782802416 DE 2802416 A DE2802416 A DE 2802416A DE 2802416 A1 DE2802416 A1 DE 2802416A1
Authority
DE
Germany
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scanning
character
lines
point
characters
Prior art date
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DE19782802416
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English (en)
Inventor
Akiyoshi Suzki
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/123Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Description

TlEDTKE - BOHLING " K.NNE - GrUPF
Dipl.-Chem. G. Biihling
_3_ Dipl.-lng. R. Kinne
2 8 0 ? A 1 6 Dipl.-lng. P. Grupe
*~ Bavarlaring 4, Postfach 20 24
8000 München 2 Tel.: (0 89) 53 96 53 Telex: 5-24845 tipat cable: Germaniapatent München
20. Januar 1978
B 8691/Canon case GP674
Canon Kabushiki Kaisha Tokyo / Japan
Optische Vorrichtung
Die Erfindung bezieht sich auf eine optische Vorrichtung zum Erfassen der Lage eines ersten Zeichens relativ zu einem zweiten Zeichen durch optisches Abtasten des ersten und des zweiten Zeichens auf einer Abtastoberfläche.
Eine Form einer solchen Vorrichtung ist in der US-PS 3 683 beschrieben, die mit "Einrichtung zum automatischen Ausrichten zweier übereinanderliegender Objekte, z.B. eines Halbleiterplättchens bzw. einer Halbleiterscheibe und einer Maske" betitelt ist. Entsprechend dieser Vorrichtung werden für Halbleiter-Bedruckung eine Maske und eine Scheibe, die auf einer Abtastoberfläche Ausrichtmarkierungen bzw. Justierzeichen haben, übereinandergelegt und diese Justierzeichen abgetastet, um ihre relativen Lagen zu erfassen, so daß die relativen Lagen der Maske und der Scheibe erfaßt werden. Das Justierzeichen der Maske wird durch einen ersten und einen zweiten Strich, die zueinander parallel verlaufen, und einen dritten und einen vierten Strich gebildet, die zueinander parallel
VII/11
809830/0846
Dresdner Bank (München) KIo. 3939 844 Postscheck (München) Kto. 670-43-804
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verlaufen und sich mit dem ersten und dem zweiten Strich unter einem rechten Winkel (90°) kreuzen. Das Justierzeichen der Scheibe besteht aus einem fünften und einem sechsten Strich, die sich unter einem rechten Winkel (90°) kreuzen.
Das Abtasten dieser Justierzeichen wird durch eine bewegliche Öffnung bewirkt, die in der Lage des vergrößerten Bildes angeordnet ist. Zur Erhöhung des Pegels des Detektorsignals ist diese bewegliche Öffnung spaltförmig ausgebildet.
Durch Ausbilden der beweglichen Öffnung in Form von Spalten, müssen zum Erfassen der sich kreuzenden Striche zwei spaltförmige Öffnungen vorgesehen werden, die sich unter einem rechten Winkel kreuzen. Ein Spalt erfaßt die Lage des Zeichens einer Orientierung und der andere Spalt erfaßt die Lage des Zeichens mit einer anderen Orientierung, die unter einem rechten Winkel zu dem ersteren Zeichen angeordnet ist.
Berücksichtigt man daher beim Stand der Technik die Lichtmenge, so ist es notwendig, eine Mehrzahl von Spalten verzusehen, welche den Aufbau des optischen Systems komplizieren.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den Nachteil der herkömmlichen Systeme zu vermeiden und ein optisches System mit einem einfachen Aufbau zu schaffen. 30
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß Punktabtasten verwendet wird und die durch dieses Punktabtasten gebildeten Abtastlinien alle die striche kreuzen, die die Zeichen bilden.
35
809830/08*1
~5~ ' B 8691
Es ist anzumerken, daß ein Punktlicht ein Punkt ist, der keine Orientierungseigenschaften gegenüber den Zeichen aufweist, beispielsweise hat ein Punkt eine Gauss'sehe Intensitäts-Verteilung, die eine Mittensymmetrie aufweist. Das Punktabtasten erfolgt durch direktes Abtasten einer Oberfläche mittels eines Punktlichts oder durch Ausleuchten eines größeren Bereichs einer Oberfläche und Ausbilden einer Punktöffnung, beispielsweise einer kreisförmigen öffnung in derselben, die sich zur Bildlage der abzutastenden Oberfläche bewegt.
Ein Ausführungsbeipiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.
Fig. 1 zeigt einen Strahlengang in der Nähe einer
Objektivlinse zur Durchführung der Erfindung;
Fig. 2 zeigt eine vorteilhafte Anordnung der Justierzeichen und der Abtastlinien; 20
Fig. 3 zeigt ein Diagramm der bei der Ausführungsform nach Fig. 2 auftretenden Ausgangssignale;
Fig. 4 zeigt eine relative Lage der Zeichen, wenn ein Justierzeichen in x-Richtung abweicht,
Fig. 5 zeigt ein Diagramm der bei der Lage nach Fig. 4 auftretenden Ausgangssignale;
Fig. 6 zeigt eine relative Lage der Zeichen, wenn ein
Justierzeichen in y-Richtung abweicht;
Fig. 7 zeigt die bei der Lage nach Fig. 6 auftretenden
Ausgangssignale;
35
Fig. 8 zeigt ein optisches System zum Beobachten eines
Körpers an einer Mehrzahl von Stellen und zum Er-
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fassen einer Parallelverschiebungs- und einer
Verdrehkomponente;
Fig. 9 und 10 zeigen einen Fa11,in dem die Justierzeichen durch das optische System nach Fig. 8 erfaßt werden
und
Fig. 11 zeigt eine optische Anordnung der Justiervorrichtung.
10
Fig. 1 zeigt einen Teil einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, in dem 1 eine Objektivlinse ist. Ein Abtastlaserstrahl, der von einer Abtastvorrichtung, wie beispielsweise einem nicht gezeigten sich drehenden Polyeder- oder Vielfachspiegel kommt, durchläuft die Mitte 3 einer Blende 2, die in der Lage der Pupille der Objektivlinse 1 vorgesehen ist.
Die Mitte 3 der Blende 2 ist der Ausgangspunkt der Hin- und Herbewegung des Abtaststrahls. Es ist daher notwendig, den reflektierenden Punkt des sich drehenden Vielfachspiegels in der Mitte 3 der Blende 2 anzuordnen oder die Lage der Mitte 3 der Blende 2 durch eine zwischen dem Vielfachspiegel und der Blendenoberfläche angeordnete Linse konjugiert zu dem reflektierenden Punkt des Vielfachspiegels zu machen. Die Blendenoberfläche 2 fällt mit der Brennebene der Objektivlinse zusammen; diese Anordnung wird als telezentrisches optisches System bezeichnet. Durch diese Anordnung werden die Hauptlichtstrahlen von jedem der Abtaststrahlen, die von der Objektivlinse kommen, parallel zu der optischen Achse der Objektivlinse. Jeder der von der Objektivlinse kommenden Abtaststrahlen tastet die Abtastoberfläche 4 ab, die nicht unbedingt eine Oberfläche zu sein braucht; bei der Herstellung integrierter Schaltungen (I.C.) werden zum Aufeinanderpassen der Lagen der Maske und der Scheibe Maske und Scheibe gleichzeitig abgetastet. Die durch die Abtastober fläche reflektierten Lichtstrahlen laufen durch die Objektivlinse 1 wieder zu der Blende. Die reflektierten Lichtstrahlen werden in ein photoelektrisches Umwandlungs-
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system geführt, das einen herkömmlichen Halbspiegel, eine Linse und einen Photodetektor aufweist.
Ein Beispiel eines solchen optischen Systems ist in der US-Patentanmeldung 790 072 vom 22.April 1977 beschrieben.
An einem Beispiel für Justierzeichen auf zwei Werkstücken, beispielsweise Maske und Scheibe, wird erläutert, wie die Zeichen optisch zu lesen sind. Bei dem I.C.-Drucken müssen Maske und Scheibe in einer vorbestimmten Beziehung angeordnet werden; während dieses Vorganges werden bei dem Kontaktverfahren oder dem Nahabstandsverfahren Maske und Scheibe parallel in einem gegenseitigen Abstand von einigen zehn um gehalten, wohingegen beim Projektionsverfahren Maske und Scheibe konjugiert zueinander gehalten werden.
Fig. 2 zeigt eine Abbildung, wo Maske und Scheibe beobachtet werden, während sie in dem oben erwähnten Zustand gehalten werden. Mit anderen Worten, das Muster der Scheibe wird durch die Objektivlinse 1 durch die Maske hindurch gesehen. In dieser Figur ist auf der Maske ein Justierzeichen 5 ausgebildet, das einen ersten Strich 6 und einen zweiten Strich 7 aufweist, die parallel zueinander verlaufen, und einen dritten Strich 8 und vierten Strich 9, die parallel zueinander verlaufen, wobei der erste und der zweite Strich oder ihre Verlängerungen sich mit dem dritten und vierten Strich unter einem rechten Winkel kreuzen. Auf der Scheibe ist ein Justierzeichen 10 ausgebildet, das einen fünften und einen sechsten Strich 11 und 12 aufweist, wobei diese Striche oder ihre Verlängerungen sich in einem rechten Winkel kreuzen. Die Abtastlinien 13 werden durch die Bewegung des punktförmigen Abtastlaserstrahls gebildet, der durch die Objektivlinse 1 ringförmig auf die Abtastoberfläche 4 fokussiert ist. Die Abtastlinien 13 kreuzen sich mit den Strichen 6, 7, 8 und 9 sowie 11 und 12 unter einem Winkel von 45°. Die relativen Lagender Zeichen 5 und 10 in
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χ- und y-Richtung werden durch Abtasten der Zeichen 5 und 10 mit Hilfe des Punktlaserstrahls erfaßt.
Fig. 3 zeigt Detektorsignale, wenn die Zeichen 5 und 10 abgetastet werden, während sie in den in Fig. 2 gezeigten relativen Lagen gehalten werden, wobei angenommen ist, daß in diesen Lagen die Zeichen 5 und 10 sich in ihren justierten Lagen befinden. In Fig. 3 zeigt die Ordinate Zeiten, wobei t^, t,, t., tfi, t„ und t,- je den Abtastzeiten
des ersten bis sechsten Strichs 6, 7, 8, 9, 11 und 12 entsprechen. Zu den Zeiten t1, ,tfi werden die jeweiligen
Strich-Detektorsignale erhalten, wohingegen coA, .. . f W5. di_e Zeitintervalle zwischen den Detektorsignalen sind. Folglich, wenn das Zeichen 5 relativ zu dem Zeichen 10 in x-und/oder y-Richtung abweicht, werden die Zeitintervalle <*>A und ajs und die Zeitintervalle rc-, und urs unterschiedlich. Es folgt daher, daß, wenn eine Differenz zwischen den Intervallen υΐΛ und M2 und «rlf und ωε auftritt, die Zeichen 5 und 10 nicht in ihren korrekten Lagen justiert sind.
Nachstehend folgen Erläuterungen zum Verfahren des Erfassens der Größen der Abweichungen in x- und y-Richtung.
Zur Vereinfachung der Erläuterung wird angenommen,
daß die Abtastlinie 13 mit der Richtung der y-Achse zusammenfällt, die Zeichen 5 und 10 die Abtastlinie 13 unter einem Winkel von 45° kreuzen und der Scheitel B1 des Zeichens 10 in der Mitte zwischen den Scheiteln A1 und A2 des Zeichens 5 liegt, wenn die Lagen der Zeichen 5 und 10 vollständig
justiert sind.
Die Figuren 4 bis 7 zeigen, wie die Abweichungen der Zeichen 5 und 10 in einem solchen, zuvor erwähnten System
zu finden sind. In diesen Figuren wird der mittlere Punkt 35
B„ zwischen A1 und A2 als eine Lage angenommen, die von dem Scheitel des Zeichens. 10 eingenommen werden soll. In Fig.
4 v/eicht das Zeichen 10 um den Betrag Δχ von B„
ab; in Fig. 6 weicht das
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Zeichen 10 um den Betrag ^y von BQ ab. In Fig. 4, wo das Zeichen 10 um Δ -χ. abweicht, nehmen die Ausgangssignale
"T1 und (A)5- um denselben Betrag zu, während die Ausgangssignale CAr3^ und imh um denselben Betrag abnehmen, der wie in Fig. 5 gezeigt gleich dem vergrößerten Betrag ist. In Fig. 6 nehmen die Ausgangssignale oder Zeitintervalle
urA und nr^ um denselben Betrag ab und die Ausgangssignale wP und (ats nehmen um denselben Betrag zu, wobei beide Beträge dieselben sind. Wie erläutert,hängen die Kom-
'0 binationen der Zeitintervalle, die verringert oder vergrößert werden, unterschiedlich von den Richtungen der Abweichungen Δ χ oder £.y ab, die durch die folgenden einfachen Gleichungen beschrieben werden.
(ω-ω ).(ω ω )
A* = k 77 —
ΔΥ = k ς *
k ist eine proportionale Konstante zwischen dem Impulsintervall w und dem Betrag der Abweichung und ist proportional zur Abtastgeschwindigkeit des Laserlichtpunkts. Es ist leicht zu verstehen, daß, wenn die Lageeinstellungen der Zeichen 5 und 10 beendet sind, der Scheitel B1 des Zeichens 10 mit BQ zusammenfälltfund «^ = ur w = w sowie Ax= Ay=O werden.
Es ist anzumerken, daß, wenn es einen Bearbeitungsfehler bei der Herstellung einer Maske oder dem Strecken einer Scheibe gibt, so daß eine Abweichung oder Verschiebung zwischen einem Justierzeichen und dem wirklichen Element auf tritt, das wirkliche Element selbst dann abweichen wird, wenn die Justierzeichen zusammenfallen, so daß man A x= A Y=O erhält. Dies wird allgemein als Versetzungs- oder Off-Set-Betrag bezeichnet. In diesem Fall kann durch Vorgeben der Abweichung zwischen dem Justierzeichen und dem wirklichen Element die Beziehung unter den Zeit- oder Impulsintervallen «^ bis e#r durch die zuvor erwähnten Berechnungsgleichungen für Δ χ und Δ y leicht erhalten werden.
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In dem Ausführungsheispiel der Erfindung wird ein Laser als eine Lichtquelle verwendet und das Abtastlicht wird aus Laserlichtpunkten zusammengesetzt. Es ist sehr schwierig, durch eine herkömmliche Lichtquelle die Oberfläche eines Gegenstandes mit einer großen Lichtmenge zu beleuchten und ftir eine hohe Meßgenauigkeit einen kleinen punktförmigen Durchmesser auszublenden. Ein Laserstrahl hat jedoch eine hohe Leuchtdichte und ein gutes Richtvermögen , so daß er die Bedinqungen befriedigend erfüllt. Die Technik des Punktabtastens eines Substrates wird durch Verwenden einesLaserstrahls ein sehr wirksames Mittel, wie in diesem Ausführungsbeispiel gezeigt wird.
In den obigen Ausf ührungsbeipielen v/erden die Parallelabweichungs-Anteile in x-und y-Richtung der Maske und der Scheibe durch Erfassen der Abweichungen in x- und y-Richtung der Zeichen 5 und 10 .festgestellt. Di Wirklichkeit muß jedoch zur Einstellung der Lage eines zweidimensionalen Körpers, wie beispielsweise einer Maske und einer Scheibe, auch der Dreh-Anteil θ erfaßt werden. Zum Bestimmen des Dreh-Anteils sollten mehrere Lagen, beispielsweise der Maske und der Scheibe, erfaßt werden. Fig. 8 zeigt diese Ermittlung bei der zwei verschiedene Lagen 24 und 25 auf der Maske 20 durch die Objektivlinsen 22 und 23 beobachtet werden. In den Lagen 24 und 25 sind die Justierzeichen erfindungsgemäß angeordnet und in den entsprechenden Lagen der Scheibe 21 gibt es auch Justierzeichen, obwohl die letzteren Zeichen nicht gezeigt sind. Die Fig. 9 und 10 zeigen durch Zusammensetzen des halben Bildfeldes der Objektivlinse 22 und desjenigen der Objektivlinse 23 die Muster der Maske und der Scheibe. Ein solches Beobachtungsverfahren wird als Schnittbild- oder Schnittfeldverfahren bezeichnet., in Fig. 9 sind die Abtastlinien 13 parallel zu der Feld-Schnittlinie angeordnet und die Zeichen 5 und 10 nach Fig. 2 kreuzen die Linien 13. In Fig. 10 ist die Abtastlinie 13 senkrecht zur Feld-Schnittlinie,und
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die Orientierungen der Zeichen 5 und 10 sind um 90° von
denen nach Fig. 9 verschieden.
Die eine Seite und die andere Seite der geteilten
Felder werden rechtes und linkes Feld genannt. Es gibt
verschiedpne Verfahren zum Abtasten der rechten und linken Felder. Gemäß Fig. 9 besteht das einfachste Verfahren darin, eine Mehrzahl von Strahlen zu bilden und zum Abtasten der rechten und linken Felder diese Strahlen aufzuteilen. Eine Mehrzahl von Strahlen kann leicht durch Verwenden einer
Mehrzahl von Lichtquellen oder einer einzigen Lichtquelle erhalten werden, die durch ein Strahlteilungselement,
beispielsweise einen Strahlteiler oder einen Kristall, aufgeteilt wird. Die Mehrzahl von Strahlen wird auf jedes Feld qerichtet. Ein Alternativ-Verfahren besteht darin, unter
Zeitverschiebung jedes Feld getrennt abzutasten. In diesem Fall ist eine einzige Lichtquelle ausreichend,und es ist
nicht notwendig, den Strahl aufzuteilen.
In dem Fall nach Fig. 10 ist dieses Alternativ-Verfahren vorzuziehen. Mit anderen Worten v/erden das linke und rechte Feld abwechselnd abgetastet. Dies ist leicht durchführbar, wenn nach Herstellung einer Überlappung zwischen
?[- dem rechten und dem linken Feld die Abtastung mittels des optischen Systems durchgeführt wird.
Fig. 11 zeigt ein Beispiel, wo die Photodetektorvorrichtung des US-Patentanmeldung 790 072 auf die Erfindung angewandt wird. In dieser Figur befindet sich unter einer Maske 55 eine nicht gezeigte Scheibe. Durch die Objektivlinsen 54 werden zwei Punkte auf der Maske beobachtet. Um beide Punkte gleichzeitig zu beobachten, wird jede Hälfte der durch die zwei Objektivlinsen 54 erzeugten Bilder durch ein Feldzusammensetzungs-Prisma 53 zusammengesetzt. Die in den Fig. 9,10 gezeigte Schnittlinie, die die rechten und . linken Felder in der Mitte unterteilt, ist die Kantenlinie 53a des Prismas 53. 58 ist ein Beobachtungssystem und 57 ein Beleuchtungssystem für visuelle Beobachtung.
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Dieses optische System wird durch den von einem Laser 51 kommenden Strahl abgetastet; in dem Fall nach Fig. 11 wird dies durch Drehen eines Vielecks 52 erreicht. Im Hinblick auf die Drehrichtung gemäß Fig. 11 erfolgt die Bewegung des Laserstrahls senkrecht zur Kantenlinie 53a, wobei durch visuelle Beobachtung das in Fig. 10 gezeigte Bild erhalten wird,
Somit werden in dem Beispiel nach Fig. 8 die Maske und die Scheibe an jeweils zwei Abschnitten gemessen, so daß man die Abweichungen der Maske in x- und y-Richtung relativ zu der Scheibe erhält. Diese Größen der Abweichungen werden als Δ xrechts'4xlinks' ^rechts und ^links bezeichnet. Der Abstand zwischen den zwei Zeichen beträgt 2R. Die Abweichungen Δ X/ Ay und Δ θ der Maske gegenüber der Scheibe betragen dann ^rechts + ^xlinks
ή χ=
Λ Y=
^'rechts
Yrechts ^ Ylinks
,
β θ = tan =
κ.
In Fig. 8 wird ein nicht gezeigtes Antriebssystem verwendet, das die Abweichungen durch Kompensieren der Werte korrigiert, bis Maske und Scheibe fluchten.
Wie vorstehend erläutert, ist es gemäß der Erfindung
durch Verwenden von Lichtpunktabtasten möglich, den beim herkömmlichen Verfahren beim Abtasten in zwei Richtungen mit einer Mehrzahl von Spalten auftretenden komplizierten Aufbau zu vermeiden. Wirksames Lichtpunktabtasten mit hoher
Genauigkeit kann durch einen Laserlichtpunkt erzielt werden, der eine genügend große Lichtmenge zum Bestimmen der Lage eines Körpers ergibt, der beobachtet werden soll.
809830/0848
"'S" B 8691
Zusammengefaßt wird bei der erfindungsgemäßen optischen Vorrichtung die Lage eines zweiten Zeichens relativ zu einem ersten Zeichen durch optisches Abtasten des ersten und des zweiten Zeichens auf einer Abtastoberfläche erfaßt. Das erste und das zweite Zeichen werden durch ein punktförmiges Abtastlicht abgetastet und die von dem ersten und dem zweiten Zeichen reflektierten Lichter werden durch einen photoelektrischen Detektor erfaßt. Die relativen Lagen des ersten und des zweiten Zeichens werden aufgrund der erfaßten Signale in Übereinstimmung gebracht.
809830/084S

Claims (6)

X D« VT C* Patentanwälte: TlEDTKE - DÜHLING - KlNNE - URUPF. Dipl.-Ing. H. Tiedtke Dipl.-Chem. G. Bühling Dipl.-Ing. R. Kinne 2 8 O ? 4 1 8 Dipl.-Ing. P. Grupe Bavariaring 4, Postfach 20 24 8000 München 2 Tel.: (0 89) 53 96 53 Telex: 5-24845 tipat cable: Germaniapatent München 20. Januar 19 B 86 9 1/Canon case GP6 Patentansprüche
1. Optische Vorrichtung, gekennzeichnet durch eine Lichtquelle (5 1) zur Erzeugung eines stationären Stahles; ein optisches Abtastsystem (52,5 3,54) für die Umwandlung des stationären Strahls in einen sich auf einer Abtastoberfläche bewegenden Lichtpunkt ;
ein auf der Abtastoberfläche angeordnetes Material (20, 21, 55), das ein erstes und zweiteis Zeichen (5, 10) hat, die durch den sich bewegenden Lichtpunkt abgetastet werden, wobei das erste Zeichen (5) vier Striche (6,7,8,9) hat, von denen die ersten beiden (6,7) und die zweiten beiden (8,()) jeweils in bestimmtem Abstand parallel verlaufen, wobei sich die ersten beiden Striche oder deren Verlängerungen mit den zweiten beiden Strichen oder deren Verlängerungen unter einem vorbestimmten Winkel
2^ kreuzen, wobei das zweite Zeichen (10) einen fünften und einen sechsten Strich (11, 12) hat, die oder deren Verlängerungen sich unter einem vorbestimmten Winkel kreuzen,und wobei der erste bis sechste Strich eine durch die Bewegung des Abtastpunktes gebildete Abtastlinie (13) unter einem gewünschten Winkel kreuzen;
einen photoelektrischen Detektor, der Licht voti dem ersten und dem zweiten Zeichen empfängt; und
eine Rechenvorrichtung, die die relativen Lagen des ersten und des zweiten Zeichens aufgrund der durch den photoelektrischen Detektor erfaßten signale mißt.
VII/11
809830/084β
OroJliior liu.k (M .iirlion) Kto. 3J33 3-14 Po,i5ciie(k (Münrl)-i:i) HIi -J/1 ti Ji I
_2- B 8691
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Abtastpunkt ein Laserstrahlpunkt ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Zeichen (5) auf einem ersten Werkstück (20, 55) und das zweite Zeichen (10) auf einem zweiten Werkstück (21) ausgebildet ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und zweite Werkstück entlang einer Mehrzahl
von Abtastlinien in unterschiedlichen Lagen abtastbar sind und auf dem ersten und dem zweiten Werkstück eine Mehrzahl von ersten und zv/eiten Zeichen entlang dieser Abtastlinien ausgebildet sind.
15
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jeder der vorbestimmten Winkel 00° beträgt.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der gewünschte Winkel 45" beträgt.
Dl)
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