DE19857946C1 - Mikroschwingspiegel - Google Patents
MikroschwingspiegelInfo
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Abstract
Es wird ein Mikroschwingspiegel mit einer freitragenden Spiegelfläche (11) vorgeschlagen, die über mindestens eine, durch mindestens einen an der Spiegelfläche (11) angebrachten Torsionsbalken (12, 12') gebildete Torsionsachse (19) mit einem die Spiegelfläche (11) zumindest bereichsweise umgebenden Tragkörper (13) verbunden ist. DOLLAR A Dabei befindet sich zwischen mindestens einem der Torsionsbalken (12, 12') und dem Tragkörper (13) ein Biegebalken (14, 14'), der eine Biegeschwingung ausführt, die eine Torsionsschwingung der Spiegelfläche (11) um die Torsionsachse (19) induziert. Damit können bei geeigneter Frequenz durch kleine Amplituden der Biegeschwingung große Amplituden der Torsionsschwingung erzielt werden.
Description
Die Erfindung betrifft einen Mikrospiegel nach Gattung des
unabhängigen Anspruches.
Derartige Mikroschwingspiegel sind beispielsweise in Form eines
abbildendes Hohlspiegels aus der Veröffentlichung "Micro-
Electro-Mechanical Focusing Mirrors", IEEE, (MEMS 1998),
Catalog. Nr. 98CH36176, Seite 460-465 von D. M. Burns und V. M.
Bright bekannt und haben vielfältige technische Einsatzgebiete
wie beispielsweise in Displays, Scannern und optischen
Überwachungssystemen. Sie werden in der Regel in
Siliziumtechnologie auf einem Siliziumwafer realisiert, wobei im
Fall von großen Spiegelflächen mit bis zu mehreren mm2
Oberfläche, wie sie für den Einsatz in Baulasern oder in
Systemen zur PKW-Innenraumüberwachung benötigt werden, häufig
die gesamte Waferdicke als Raum zur Auslenkung des Spiegels
genutzt wird. Die Anregung der Schwingung des Mikrospiegels
erfolgt dabei vielfach elektrostatisch. Eine besondere
Schwierigkeit bei derartigen Mikroschwingspiegeln mit großer
Spiegelfläche tritt bei gleichzeitig großen
Schwingungsamplituden (mehrere 10°) auf, wie sie für die
genannten Anwendungen ebenfalls vielfach erforderlich sind. Im
Fall einer elektrostatischen Anregung der Schwingung des
Mikrospiegels, die über entsprechend unterhalb des Spiegels
angebrachte Elektroden erzielt wird, sind zur Erreichung
derartiger Schwingungsamplituden Spannungen von bis zu mehreren
hundert Volt erforderlich (siehe Petersen, IBM J. Res. Develop. 24
(1980) 631; Jaecklin et al., Proc. IEEE MEMS Workshop, F1, USA
(1993) 124). Deren Einsatz im PKW-Bereich und deren Erzeugung
und Beherrschung auf einem mikromechanischen Bauteil ist
problematisch. Sofern man den Mikroschwingspiegel resonant
betreiben möchte, ist überdies eine aufwendige
Auswerteelektronik erforderlich, die kleinste
Kapazitätsänderungen zwischen Spiegelfläche und darunter
befindlicher Anregungselektrode detektiert.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es daher, einen
Mikroschwingspiegel zu schaffen, der auch bei großer
Spiegelfläche mit niedrigen Spannungen zu großen
Schwingungsamplituden angeregt werden kann, so daß auch ein
Einsatz in preisgünstigen Anwendungen möglich ist.
Der erfindungsgemäße Mikrospiegel mit den kennzeichnenden
Merkmalen des Hauptanspruches, hat gegenüber dem Stand der
Technik den Vorteil, daß eine kleine Amplitude der
Biegeschwingung ausreicht, um eine große Amplitude der durch die
Biegeschwingung induzierten Torsionsschwingung der freitragenden
Spiegelfläche um die durch den Torsionsbalken definierte
Torsionsachse zu erzeugen. Insbesondere dann, wenn die Frequenz
einer Biegeschwingung mit einer Resonanzfrequenz einer
Torsionsschwingung übereinstimmt, ist die Amplitude dieser
Torsionsschwingung besonders groß. Infolge der geringen
Amplitude der Biegeschwingung ist die dadurch hervorgerufene
Vertikalbewegung des Spiegels jedoch weiterhin sehr klein, so
daß beispielsweise eine Defokussierung eines reflektierten
Lichtstrahles vernachlässigbar ist.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den
in den Unteransprüchen genannten Maßnahmen.
So kann die Spiegelfläche eine weitgehend beliebige geometrische
Form annehmen und beispielsweise eine planare Scheibe, ein
planares Rechteck, ein planares Quadrat sein oder die Form eines
abbildenden Hohlspiegels mit kreisförmiger Grundfläche haben.
Ihre Größe kann von einer typischen Seitenlänge von wenigen µm
bis zu mehreren mm reichen.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn an der Schwingspiegelfläche,
die beispielsweise die Form eines Quadrates hat, sich zwei
gegenüberliegende Torsionsbalken so angebracht sind, daß die
dadurch definierte Torsionsachse nicht mit einer Symmetrieachse
der Spiegelfläche zusammenfällt. Ebenso ist es vorteilhaft, wenn
im Fall mehrerer Torsionsachsen mindestens eine der von der
jeweiligen Zahl der Torsionsbalken gebildeten Torsionsachsen
keine Symmetrieachse der Spiegelfläche ist.
Weiterhin ist es zur Vermeidung zu großer Amplituden der die
Torsionsschwingung anregenden Biegeschwingung vorteilhaft, wenn
die Frequenz der Biegeschwingung so eingestellt ist, daß die
Resonanzfrequenzen der Biegeschwingung deutlich verschieden ist
von der Resonanzfrequenz der Torsionsschwingung, so daß es bei
einer Torsionsresonanzschwingung nicht gleichzeitig auch zu
einer Biegeresonanzschwingung kommt. Die Resonanzfrequenz der
Biegeschwingung(en) und/oder der Torsionsschwingung(en) können
dabei sehr einfach und unabhängig voneinander über die Geometrie
des Biegebalkens bzw. des Torsionsbalkens, über deren
mechanische Eigenschaften sowie deren Zusammensetzung
eingestellt werden.
Besonders einfach und effektiv läßt sich eine Torsionsschwingung
der Spiegelfläche um eine durch einen Torsionsbalken definierte
Torsionsachse über eine Biegeschwingung eines Biegebalkens
anregen, wenn der Torsionsbalken und der damit verbundene
Biegebalken nicht auf einer Linie oder Achse liegen und somit
einen spitzen oder stumpfen Winkel einschließen. Insbesondere
bei einem Winkel von 90° zwischen Torsionsbalken und Biegebalken
ist das durch die Biegeschwingung hervorgerufene Drehmoment auf
die Spiegelfläche um die Torsionsachse besonders groß.
Die Herstellung des erfindungsgemäßen Mikroschwingspiegels kann
weiterhin sehr vorteilhaft und einfach erfolgen, wenn die
Spiegelfläche, die Torsionsbalken und die Biegebalken aus einem
Siliziumwafer herausstrukturiert werden, da man sich in diesem
Fall der vielfältigen, an sich bekannten Ätztechniken und
oberflächenmikromechanischen Strukturierungsverfahren auf
Siliziumbasis bedienen kann.
Vorteilhaft ist im Fall der erfindungsgemäßen Erzeugung der
Torsionsschwingung des Mikroschwingspiegels auch, insbesondere
in Verbindung mit einer Herausstrukturierung aus einem
Siliziumwafer, daß auf dem Wafer auch eine zusätzlich
erforderliche elektrische Ansteuerung und Verschaltung des
Mikroschwingspiegels untergebracht werden kann.
Die zur Erzeugung einer Torsionsschwingung erforderliche
Anregung über eine Biegeschwingung kann in sehr vorteilhafter
Weise dadurch erfolgen, daß auf dem Biegebalken zumindest
einseitig mindestens ein mit dem Biegebalken verbundener
thermoelektrischer oder piezoelektrischer Biegewandler
angebracht ist, der Biegeschwingungen in dem Biegebalken
induziert. Dies kann vorteilhaft dadurch erreicht werden,
daß ein aus Silizium bestehender Biegebalken oberflächlich
dotiert wird, und somit als thermoelektrischer Biegewandler
einsetzbar ist.
Um die Resonanzfrequenz einer Torsionsschwingung der
Spiegelfläche möglichst einfach einstellen zu können, wird
vorteilhaft auf mindestens einem Torsionsbalken ein
piezoresistiver oder ein piezoelektrischer Wandler, insbesondere
in Form eines Dünnschichtwandlers angebracht, so daß dessen
elektrische Eigenschaften oder dessen Meßsignal (Piezospannung)
sich als Funktion der Amplitude und der Frequenz der
Torsionsschwingung ändern. Somit kann das elektrische Signal
dieses Wandlers auf dem Torsionsbalken in den Rückkoppelkreis
eines Resonators eingekoppelt werde, der zur Anregung der
Biegeschwingung über die auf den Biegebalken angebrachten
thermomechanischen oder piezoelektrischen Biegewandler dient.
Somit regelt das Meßsignal des die Amplitude der
Torsionsschwingung detektierenden piezoresistiven oder
piezoelektrischen Wandlers sehr vorteilhaft die Frequenz der
Biegeschwingung.
Zur Vereinfachung der elektrischen Kontaktierung der auf den
Torsionsbalken angebrachten piezoresistiven oder
piezoelektrischen Wandler und/oder zur Herstellung einer
elektrisch leitfähigen Verbindung zwischen diesen Wandlern auf
den Torsionsbalken, sowie zur Herstellung einer elektrischen
Verbindung zwischen den auf den Biegebalken zur Erzeugung der
Biegeschwingung angebrachten thermoelektrischen oder
piezoelektrischen Biegewandlern, ist es weiterhin sehr
vorteilhaft, wenn die Spiegelfläche und/oder die Torsionsbalken
und/oder die Biegebalken zumindest bereichsweise oberflächlich
metallisiert sind.
Im übrigen ist es sehr vorteilhaft, daß der erfindungsgemäße
Mikrospiegel zur Erzeugung der Torsionsschwingung lediglich
niedrige Spannungen und insbesondere keine Gegenelektrode,
beispielsweise wie im Fall einer elektrostatischen Anregung,
benötigt. Überdies kann der Herstellungsprozeß über an sich
bekannte Verfahren geführt werden, und es ist insbesondere auch
ein voll CMOS-kompatibeler Herstellungsprozeß möglich.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeichnung
und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 eine Draufsicht auf einen Mikroschwingspiegel, Fig. 2
einen Schnitt durch Fig. 1 und Fig. 3 einen Schnitt durch ein
weiteres Ausführungsbeispiel des Mikroschwingspiegels.
Die Fig. 1 und 2 erläutern ein erstes Ausführungsbeispiel des
Mikrospiegels und ein Verfahren zu seiner Herstellung. Fig. 1
zeigt einen Mikroschwingspiegel 10 mit einer Spiegelfläche 11,
die die Form eines Quadrates hat, und zwei damit verbundene
Torsionsbalken 12, 12', die sich gegenüber liegend angeordnet
sind und eine Torsionsachse 19 definieren. Die Torsionsbalken
12, 12' sind derart angebracht, daß die Torsionsachse 19 nicht
mit einer Symmetrieachse der Spiegelfläche 11 zusammenfällt, so
daß die Längenabschnitte 1 1 und 1 2 voneinander verschieden sind.
Die Torsionsbalken 12, 12' sind weiterhin jeweils mit einem
Biegebalken 14, 14' verbunden. Der Winkel zwischen
Torsionsbalken 12, 12' und Biegebalken 14, 14' beträgt jeweils
90°. Die Biegebalken 14, 14' sind weiterhin mit einem die
Spiegelfläche 11 zumindest bereichsweise umgebenden Tragkörper
13 verbunden, so daß die Spiegelfläche 11 freitragend ist und
Torsionsschwingungen um die Torsionsachse 19 ausführen kann. Die
Spiegelfläche 11 hat eine Kantenlänge von ca. 500 µm. Die
Siegelfläche 11 kann aber auch eine Kantenlänge von wenigen µm
bis zu mehreren mm aufweisen. Die Spiegelfläche 11, die
Biegebalken 14, 14', die Torsionsbalken 12, 12' und der
Tragkörper 13 bestehen im wesentlichen aus Silizium. Der
Mikroschwingspiegel 10 ist insbesondere aus einem Siliziumwafer
oder einem SOI-Wafer ("silicon-on-insulator")
herausstrukturiert.
Zur Herstellung einer leitfähigen Verbindung und/oder zur
Gewährleistung optimaler Reflektionseigenschaften beispielsweise
im infraroten Wellenlängenbereich, ist die Spiegelfläche 11
oberflächlich vorzugsweise mit Gold metallisiert. Die
Torsionsbalken 12, 12' sind oberflächlich mit einem an sich
bekannten piezoresistiven oder piezoelektrischen Material als
piezoresistiver oder piezoelektrischer Dünnschichtwandler 16
beschichtet, der als integrierter Dehnungsaufnehmer dient, so
daß eine Torsion der Torsionsbalken 12, 12' über damit
einhergehende mechanische Spannungen in den Dünnschichtwandlern
16 eine Widerstandsänderung oder die Erzeugung einer
piezoelektrischen Spannung hervorruft, deren Größe proportional
der Amplitude der Torsionsschwingung ist und deren Periodizität
der Schwingungsperiode der Torsionsschwingung um die
Torsionsachse 19 entspricht. Geeignete Materialien für den
piezoresistiven oder piezoelektrischen Dünnschichtwandler 16
sind beispielsweise ZnO, AlN, dotiertes Silizium oder PZT. Der
Dünnschichtwandler 16 kann dabei in Form einer Brücke aus
mehreren Einzelwiderständen aufgebaut sein oder die gesamte
Torsionsbalkenoberfläche als Widerstandsbahn nutzen.
Zur Verbindung der Dünnschichtwandler 16 auf den
Torsionsbalken 12, 12' mit einer nicht dargestellten äußeren
elektrischen Verschaltung verläuft auf den Biegebalken 14,
14' jeweils eine Leiterbahn 25, die die Dünnschichtwandler
16 mit elektrischen Anschlußkontakten 19' verbindet. Die
Leiterbahn 25 ist wiederum in an sich bekannter Weise
beispielsweise über eine
Oberflächenmetallisierung der Biegebalken 14, 14' hergestellt,
die insbesondere aus dem gleichen Metall wie die
Oberflächenmetallisierung 17 der Spiegelfläche 11 besteht, und
ist mit Hilfe einer geeigneten Maskierung strukturiert worden.
Auf den Biegebalken 14, 14' befindet sich jeweils ein
thermomechanischer oder piezoelektrischer Biegewandler 15, der
mit den Biegebalken innig verbunden ist. Dieser Biegewandler 15
ist ebenfalls über auf den Biegebalken 14, 14' verlaufenden
Leiterbahnen 25, die ebenfalls über eine
Oberflächenmetallisierung erzeugt wurden, mit elektrischen
Anschlußkontakten 18 verbunden, so daß ein Anschluß an eine
äußere elektrische Verschaltung möglich ist.
Bei Verwendung eines piezoelektrischen Biegewandlers 15 werden
in diesen zunächst über eine von außen anliegende elektrische
Spannung mechanische Spannungen induziert, die aufgrund des
innigen Kontaktes mit den Biegebalken 14, 14' auch in diesen auf
der Oberseite mechanische Spannungen induzieren, so daß es zu
einer Verbiegung der Biegebalken 14, 14' kommt. Verändert sich
die äußere elektrische Spannung periodisch an dem Biegewandler
15, so wird somit eine Biegeschwingung der Biegebalken 14, 14'
induziert, deren Schwingungsamplitude eine Richtung parallel zu
der Flächennormale der Spiegelfläche 11 hat. Die Richtung,
Amplitude und Periode dieser Verbiegung bzw. Biegeschwingung der
Biegebalken 14, 14' ist über die Polarität, Stärke und Periode
der anliegenden elektrischen Spannung steuerbar.
Verwendet man in einem alternativen Ausführungsbeispiel einen
thermoelektrischen Biegewandler 15, so wird entsprechend die
Biegeschwingung über eine äußere elektrische Spannung erregt,
die zu einer oberflächlichen Erwärmung der Biegebalken 14, 14'
und somit ebenfalls zu mechanischen Spannungen und einer
Verbiegung der Biegebalken 14, 14' führt. Die thermomechanischen
Biegewandler 15 werden ebenfalls in an sich bekannter Weise
durch eine Oberflächenbeschichtung der Biegebalken 14, 14' mit
einem thermoelektrischen oder piezoelektrischen Material
beschichtet. Geeignete Materialien hierfür sind beispielsweise
ZnO, AlN, PZT oder ein einfaches Metall in Form einer
Widerstandsschicht. Insbesondere können die Dünnschichtwandler
16 und die Biegewandler 15 beide auch als piezoelektrische
Dünnschichtwandlerwandler aus dem gleichen Material ausgeführt
sein, so daß der Dünnschichtwandler 16 zur Detektion der
Torsionsschwingung und der Biegewandler 15 zur Erregung der
Biegeschwingung dient.
Ein weiteres und besonders günstiges Ausführungsbeispiel sieht
vor, daß der Torsionsbalken 12, 12' und/oder der Biegebalken 14,
14' zumindest bereichsweise oberflächlich dotiertes Silizium
aufweisen, so daß diese dotierte Siliziumschicht als
Piezowiderstand den piezoresistiven Dünnschichtwandler 16
und/oder den thermomechanischen Biegewandler 15 bildet.
Die über die Biegebalken 14, 14' erzeugte Biegeschwingung
induziert über die damit verbundenen Torsionsbalken 12, 12'
aufgrund der vertikalen Bewegung der Spiegelfläche 11 und deren
Trägheit ein Drehmoment, was zu einer Torsionsschwingung der
Spiegelfläche 11 um die Torsionsachse 19 führt. Dieses
Drehmoment ist dann besonders groß, wenn die Torsionsachse 19
nicht mit einer Symmetrieachse der Spiegelfläche 11
zusammenfällt. Die Torsionsschwingung entsteht jedoch auch,
falls die Torsionsachse 19 eine Symmetrieachse ist, da sich in
diesem Fall die Spiegelfläche 11 bei der Biegeschwingung in
einem sehr labilen Gleichgewicht befindet.
Um eine möglichst große Schwingungsamplitude der
Torsionsschwingung zu erreichen, ist es zweckmäßig, die Frequenz
der anregenden Biegeschwingung so zu wählen, daß diese mit einer
Resonanzfrequenz der Torsionsschwingung zusammenfällt.
Gleichzeitig sollte jedoch die dazu erforderliche
Anregungsfrequenz nicht gleichzeitig auch eine Resonanzfrequenz
der Biegeschwingung sein, da dies zu einer großen Amplitude der
Biegeschwingung führt. Apparativ läßt sich die Resonanzfrequenz
der Torsions- und Biegeschwingung über die Dimensionierung und
die Zusammensetzung der Spiegelfläche 11, der Biegebalken 14,
14' und der Torsionsbalken 12, 12' leicht unabhängig voneinander
einstellen.
Um die Torsionsschwingung in Resonanz betreiben zu können, wird
das von dem oder den piezoresistiven oder piezoelektrischen
Dünnschichtwandlern 16 gelieferte Meßsignal, das proportional
zur Amplitude der Torsionsschwingung ist, in an sich bekannter
Weise in den Rückkoppelzweig eines in die äußere elektrische
Schaltung integrierten Resonators eingekoppelt, der über die
thermoelektrischen oder piezoelektrischen Dünnschichtwandler 15
die Biegeschwingung der Biegebalken 14, 14' induziert und nach
Amplitude und Frequenz bestimmt. Somit wird über diese
integrierte Regelung, die Frequenz zur Erregung der
Biegeschwingung so gesteuert, daß sich die Torsionsschwingung in
Resonanz befindet.
Das erläuterte Ausführungsbeispiel läßt sich im übrigen in
offensichtlicher Weise dahingehend modifizieren, daß, bei
ausreichender mechanischer Stabilität des Torsionsbalkens 16 und
des Biegebalkens 14, die Spiegelfläche 11 nur mit einem
Torsionsbalken 16 verbunden ist, der über seine Richtung
gleichzeitig die Torsionsachse 19 definiert und der die
Spiegelfläche 11 frei trägt. Ansonsten ist der Aufbau in diesem
Fall analog dem erläuterten Ausführungsbeispiel. Diese
Konstruktion ist jedoch mechanisch störanfälliger und die
erzeugte Torsionsschwingung ist instabiler.
Weiterhin kann die Spiegelfläche 11, die im übrigen nahezu jede
geometrische Form annehmen kann, beispielsweise auch mit vier
Torsionsbalken versehen sein, die beispielsweise zwei zueinander
senkrechte Torsionsachsen definieren und die jeweils mit einem
zugehörigen Biegebalken verbunden sind. In diesem Fall lassen
sich beispielsweise zwei Torsionsschwingungen unterschiedlicher
oder gleicher Frequenz überlagern, so daß die Spiegelfläche 11
ähnlich der Bahnkurve einer Lissajou-Figur beispielsweise Licht
nicht mehr nur innerhalb einer Ebene reflektiert, sondern den
gesamten darüberliegenden Raum erfassen kann. Dabei können beide
Torsionsschwingungen weitgehend unabhängig voneinander erregt
und gesteuert werden, wobei ihre Schwingungsfrequenzen sich
unter anderem aufgrund der Geometrie und der Anordnung der
Torsionsbalken an der Spiegelfläche 11 ergeben.
Die Fig. 2 zeigt zur Verdeutlichung des Ausbaus des
Mikrospiegels 10 einen Schnitt durch Fig. 1 entlang der
eingezeichneten Schnittlinie. Die Spiegelfläche 11 ist
oberflächlich mit einer Oberflächenmetallisierung 17
versehen. Der Mikrospiegel 10 ist dabei in an sich bekannter
Weise aus einem Siliziumwafer herausstrukturiert worden, der
aus einer Basisschicht 23 aus Silizium besteht, auf der sich
eine Trennschicht 22 aus einem Siliziumoxid befindet, auf
der wiederum eine weitere Siliziumschicht 21 nach der Art
eines SOI-Wafers ("Silicon-on-Insulator") aufgebracht ist.
Das Herausstrukturieren des Mikrospiegels 10 erfolgt nun
derart, daß zunächst auf der Oberfläche die Wandler 15, 16,
die Oberflächenmetallisierung 17, die Leiterbahnen 25 und die
Kontaktflächen 18, 19' aufgebracht werden. Danach wird in
dem Wafer rückseitig, beispielsweise durch naßchemisches,
anisotropes Ätzen, eine Grube 20 geöffnet und es werden auf
der Oberfläche des Wafers über an sich bekannte
Maskiertechniken und mittels bekannter Siliziumätzverfahren
die Spiegelfläche 11, die Torsionsbalken 12, 12' und die
Biegebalken 14, 14'
herausstrukturiert. Im letzten Verfahrensschritt werden dann
beispielsweise durch rückseitiges selektives Ätzen der
Trennschicht 22 aus Siliziumoxid die Spiegelfläche 11, die
Biegebalken 14, 14' und die Torsionsbalken 12; 12' freigelegt,
so daß diese freitragend mit dem Tragkörper 13 verbunden sind.
Ein alternatives Herstellungsverfahren geht von einem
Siliziumwafer aus, auf dem zunächst eine Trennschicht
beispielsweise aus Si3N4, SiO2, Siliziumoxynitrid oder einem
leitfähigen Material aufgebracht wird. Im Fall, daß die
Trennschicht elektrisch leitend ist, wird zusätzlich eine
weitere Isolationsschicht auf der Trennschicht aufgebracht. Das
weitere Herstellungsverfahren des Mikrospiegels 10 ist dann
analog wie im ersten Herstellungsverfahren.
Eine dritte Variante eines Herstellungsverfahrens des
Mikrospiegels 10 wird anhand der Fig. 3 erläutert. Dabei wird
auf einer Basisschicht 23 aus Silizium eine Opferschicht 24
abgeschieden, die aus einem selektiv wegätzbaren Werkstoff wie
SiO2 oder porösem Silizium besteht, und die nach dem
Herausstrukturieren der Spiegelfläche 11, der Torsionsbalken 12,
12', der Biegebalken 14, 14', dem Aufbringen der
Oberflächenmetallisierung 17, der Leiterbahnen 25, der
Kontaktflächen 18, 19' und der Wandler 15, 16 beispielsweise
über einen an sich bekannten, für die Opferschicht 24 selektiven
Ätzprozeß entfernt wird, so daß unter der Spiegelfläche 11 ein
Hohlraum 27 entsteht. Dieses Herstellungsverfahren ist voll
CMOS-kompatibel, da dazu kein naßchemisches Siliziumätzen
erforderlich ist, so daß die Herstellung des Mikrospiegels 10
problemlos in eine bestehende Halbleiterlinie implementiert
werden kann. Dabei wird gleichzeitig eine deutliche Reduzierung
der Maskenzahl erreicht, da keine Elektrodenflächen unterhalb
der Spiegelfläche 11 benötigt werden.
Die Regelung der Biegeschwingung und die gesamte äußere
elektrische Schaltung können im übrigen ebenfalls auf dem Wafer
angeordnet werden, aus dem auch der Mikroschwingspiegel 10
herausstrukturiert wurde.
Claims (15)
1. Mikroschwingspiegel mit einer freitragenden Spiegelfläche
(11), die über mindestens eine, durch mindestens einen an der
Spiegelfläche (11) angebrachten Torsionsbalken (12, 12')
gebildete Torsionsachse (19) mit einem die Spiegelfläche (11)
zumindest bereichsweise umgebenden Tragkörper (13) verbunden
ist, dadurch gekennzeichnet, daß sich mindestens zwischen einem
der Torsionsbalken (12, 12') und dem Tragkörper (13) ein
Biegebalken (14, 14') befindet, der eine Biegeschwingung
ausführt, die eine Torsionsschwingung der Spiegelfläche (11) um
die Torsionsachse (19) induziert.
2. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß mindestens eine der Torsionsachsen (19)
keine Symmetrieachse der Spiegelfläche (11) ist.
3. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Torsionsachse (19) durch zwei
gegenüberliegende Torsionsbalken (12, 12') gebildet ist.
4. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Biegeschwingung mit einer Frequenz
erfolgt, die einer Torsionsresonanzfrequenz der
Torsionsschwingung um die Torsionsachse (19) entspricht.
5. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Frequenz der Biegeschwingung so
eingestellt ist, daß die Resonanzfrequenz der Biegeschwingung
deutlich verschieden ist von der Resonanzfrequenz der
Torsionsschwingung.
6. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Amplitude der Biegeschwingung erheblich
kleiner als die Amplitude der Torsionsschwingung ist.
7. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die durch die Längsachse des Biegebalkens
(14, 14') definierte Richtung von der Richtung der Torsionsachse
(19) verschieden ist.
8. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1 oder 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Biegebalken (14, 14') und der
Torsionsbalken (12, 12') in einem Winkel von 90° miteinander
verbunden sind.
9. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spiegelfläche (11) und/oder der
Torsionsbalken (12, 12') und/oder der Biegebalken (14, 14')
zumindest bereichsweise oberflächlich metallisiert sind.
10. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spiegelfläche (11) und/oder der
Torsionsbalken (12, 12') und/oder der Biegebalken (14, 14')
Silizium enthält oder aus Silizium besteht.
11. Mikroschwingspiegel nach mindestens einem der
vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem
Biegebalken (14, 14') zumindest einseitig mindestens ein mit dem
Biegebalken (14, 14') verbundener thermoelektrischer oder
piezoelektrischer Biegewandler (15) angebracht ist, der über
eine äußere elektrische Schaltung die Biegeschwingungen in dem
Biegebalken (14, 14') induziert.
12. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß auf dem Torsionsbalken (12, 12') zumindest
bereichsweise ein piezoresistiver oder ein piezoelektrischer
Wandler (16) angebracht ist, der insbesondere die Amplitude der
Torsionsschwingung detektiert.
13. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß der Torsionsbalken (12, 12') und/oder der
Biegebalken (14, 14') aus Silizium bestehen, das oberflächlich
derart dotiert ist, daß die dotierte Siliziumschicht als
Piezowiderstand den piezoresistiven Wandler (16) und/oder den
thermomechanischen Biegewandler (15) bildet.
14. Mikroschwingspiegel nach mindestens einem der
vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, der
piezoresistive oder piezoelektrische Wandler (16) auf dem
Torsionsbalken (12, 12') sich im Rückkoppelzweig eines
Resonators befinden, der den thermomechanischen oder
piezoelektrischen Biegewandler (15) auf dem Biegebalken (14,
14') steuert, so daß das Meßsignal des die Amplitude der
Torsionsschwingung detektierenden piezoresistiven oder
piezoelektrischen Wandlers (16) die Frequenz der Biegeschwingung
regelt.
15. Mikroschwingspiegel nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß dieser durch an sich bekannte
oberflächenmikromechanische Strukturierungsverfahren,
insbesondere Siliziumätztechniken, auf einem Siliziumwafer
ausgebildet ist, auf dem auch eine erforderliche elektrische
Ansteuerung und Verschaltung untergebracht ist.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19857946A DE19857946C1 (de) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Mikroschwingspiegel |
PCT/DE1999/003725 WO2000036452A1 (de) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | Mikroschwingspiegel |
JP2000588635A JP4416330B2 (ja) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | マイクロ振動ミラー |
EP99964371A EP1057068B1 (de) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | Mikroschwingspiegel |
US09/622,387 US6449079B1 (en) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | Deflectable micro-mirror |
DE59913347T DE59913347D1 (de) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | Mikroschwingspiegel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19857946A DE19857946C1 (de) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Mikroschwingspiegel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE19857946C1 true DE19857946C1 (de) | 2000-01-20 |
Family
ID=7891220
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19857946A Expired - Lifetime DE19857946C1 (de) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Mikroschwingspiegel |
DE59913347T Expired - Lifetime DE59913347D1 (de) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | Mikroschwingspiegel |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE59913347T Expired - Lifetime DE59913347D1 (de) | 1998-12-16 | 1999-11-24 | Mikroschwingspiegel |
Country Status (5)
Country | Link |
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US (1) | US6449079B1 (de) |
EP (1) | EP1057068B1 (de) |
JP (1) | JP4416330B2 (de) |
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