DE19615000A1 - Überzugs- und Registriermaterialien, die mit Benzotriazol-UV-Absorbern stabilisiert sind - Google Patents
Überzugs- und Registriermaterialien, die mit Benzotriazol-UV-Absorbern stabilisiert sindInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft Polymerfilmüberzugs- oder
-registrierzusammensetzungen, die gegen verhängnisvollen Aus
fall bzw. katastrophales Versagen durch die Anwesenheit ausge
wählter Benzotriazol-UV-Absorber geschützt sind.
Das US-Patent 4 278 589 beschreibt die Herstellung von 2-(2-
Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazol und 2-
(2-Hydroxy-3-tert-octyl-5-α-cumylphenyl)-2H-benzotriazol. Das
US-Patent 4 278 589 beschreibt ebenfalls die Herstellung von
2-(2-Hydroxy-3,5-di-α-cumylphenyl)-2H-benzotriazol. Diese
letztere Verbindung ist ein sehr wirksamer UV-Absorber, jedoch
ist er leider verhältnismäßig unlöslich und nur zu etwa einem
14%-Spiegel (bezogen auf das Gewicht) löslich in Xylol. Da solche aro
matischen Lösungsmittel aufgrund von Umweltbelangen mit Verbot
bedroht ist, ist eine intensive Suche nach einem wirksamen
Benzotriazol, das die allgemeine lichtstabilisierende Wirksam
keit von 2-(2-Hydroxy-3,5-di-α-cumylphenyl)-2H-benzotriazol
hat und das in umweltmäßig anerkannten Lösungsmitteln löslich
ist, erforderlich.
Die japanische Patentveröffentlichung Kokai 75/158588 be
schreibt die Herstellung von 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-methyl
phenyl)-2H-benzotriazol und 2-(2-Hydroxy-3-methyl-5-α-cumyl
phenyl)-2H-benzotriazol als wirksame UV-Absorber.
Das US-Patent 4 283 327 offenbart die Herstellung von 2-(2-
Hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazol und 5-Chlor-
2-(2-hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazol. Die
US-Patente 4 587 346, 4 675 352, 4 973 701, 5 095 062 und
5 240 975 beschreiben die Herstellung von flüssigen Benzotria
zolgemischen durch Nachalkylierung von vorgebildeten Benzo
triazolen unter Verwendung höherer Alkene und eines Säurekata
lysators. Derartige Produkte sind komplexe flüssige Gemische
von verschiedenen verwandten Benzotriazolen und sind in öko
logisch annehmbaren Lösungsmitteln löslich. Jedoch haben, wäh
rend diese UV-Absorber ziemlich löslich in ökologisch annehm
baren Lösungsmitteln sind, nicht die thermische Stabilität
der Benzotriazolverbindungen, welche in 3-Stellung durch ei
nen α-Cumylteil substituiert sind.
Die vorliegenden Benzotriazolverbindungen sind in 3-Stellung
durch eine α-Cumylgruppe und in 5-Stellung entweder durch ei
ne Alkylgruppe oder eine Alkylgruppe, substituiert durch eine
Carboxyalkylgruppe, substituiert. Diese Materialien sind in
üblichen Beschichtungslösungsmitteln löslicher als die Tris-
aryl-s-triazine, welche mit einfachen Alkylgruppen funktiona
lisiert sind. Übliche Beschichtungs- bzw. Überzugslösungsmit
tel schließen Xylol, Methylamylketon, Butylcellosolve, Butyl
carbitol und Methylisobutylketon ein. Diese Funktionalität
in Kombination mit dem hohen Molekulargewicht der Verbindun
gen schafft die vorliegenden Verbindungen mit einer niedrigen
Wanderungsneigung, wenn sie in den Basisüberzug eines Klar
beschichtungs/Basisbeschichtungs-Überzugssystem einverleibt
sind.
Das Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren
zum Schutz eines Elektroüberzugs/Basisüberzugs/Klarbeschich
tungs-Überzugssystems gegen Delaminierung aus einem Substrat
zu schaffen, indem darin ein ausgewähltes lösliches Benzotria
zol, substituiert in 3-Stellung des Phenylrings, durch eine
α-Cumylhälfte eingearbeitet wird.
Noch ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist es,
Registrier- bzw. Aufzeichnungsmaterialien zu schaffen, die
gegen die schädlichen Wirkungen von aktinischem Licht stabi
lisiert sind, wobei die ausgewählten löslichen Benzotriazole,
die in 3-Stellung des Phenylrings durch eine α-Cumylhälfte
substituiert sind, verwendet werden.
Es wird bemerkt, daß die Erfordernisse für Fahrzeuglack- und
-überzugsschichten in den letzten Jahren eine dramatische
Veränderung erfahren haben. Dies zusammen mit steigenden Um
weltbelangen bezüglich der Verwendung gewisser aromatischer
Kohlenwasserstofflösungsmittel setzte die Industrie einem
starken Druck aus, um für einige schwerwiegende Probleme mit
neuen Lösungen herauszukommen.
Die Benzotriazol-UV-Absorber waren lange eine Hauptstütze auf
diesem Gebiet mit 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α-cumyl)-phenyl]-2H-
benzotriazol als Zugpferd und Inbegriff von dem, was Benzo
triazol-UV-Absorber liefern können. Leider hat diese Verbin
dung nur eine begrenzte Löslichkeit (etwa 14 Gew.-%) in Toluol
oder Xylol und ist gering löslich in ökologisch günstigeren
Lösungsmitteln. Dies wird eine ernsthafte Beschränkung, da
die aromatischen Lösungsmittel wegen ökologischer Belange am
Ende sind. Außerdem begrenzt die verhältnismäßig niedrige
Löslichkeit dieser Verbindung sogar in aromatischen Lösungs
mitteln die Gesamtkonzentration von Benzotriazol-UV-Absorber,
welcher zu dem Überzugssystem zugesetzt werden kann. Da die
Erfordernisse der Lebenszeit für einen Fahrzeuglack sich ver
doppeln, ist die niedrige Löslichkeit dieses Benzotriazols
ein echtes Hindernis.
Glücklicherweise gibt es lösliche und thermisch stabile Ben
zotriazol-UV-Absorber, hauptsächlich die neue kristalline
Modifikation von 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-
2H-benzotriazol, welches die gleiche niedrige Flüchtigkeit
und überlegene Lichtstabilisierungswirksamkeit von 2-[2-Hy
droxy-3,5-di-(α-cumyl)-phenyl]-2H-benzotriazol hat, die je
doch in ökologisch günstigen Lösungsmitteln löslich sind und
welche zu Fahrzeuglacken in einer genügend hohen Konzentra
tion zugesetzt werden kann, um den neuen verlängerten Lebens
dauererfordernissen für solche Überzugslacke zu genügen. Dies
wird in den Arbeitsbeispielen aufgezeigt.
Solche ökologisch günstigen Lösungsmittel sind beispielswei
se Ethylacetat, Isopropylacetat, Butylacetat, Isobutylacetat,
Amylacetat, Propylacetat, Oxohexylacetat, Oxo-octylacetat,
Propylenglykolmonomethylether, Dipropylenglykolmonomethyl
ether, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Dipropylenglykol
monomethyletheracetat, Propylenglykolphenylether, Propylen
glykol-n-propylether, Propylenglykol-t-butylether, n-Amylpro
pionat, Diisobutylketon, Cyclohexanon, Methylisoamylketon,
Methylamylketon, Diisoamylketon, Methylhexylketon, Ethanol,
2-Ethylhexanol, Diacetonalkohol, Ethylamylalkohol, Propanol,
Isobutanol, Isotridecylalkohol, Butoxyethoxypropanol, Iso
butylisobutyrat, Pentandi-säuredimethylester, 3-Methoxy-
n-butylacetat, n-Amylpropionat.
Die vorliegenden Zusammensetzungen beziehen sich auch auf
eine Zusammensetzung, welche außerdem eine wirksame stabili
sierende Menge eines Trisaryl-s-triazin-, eines gehinderten
Amin- oder eines Benzofuran-2-on-Lichtstabilisators oder eine
Mischung davon enthält.
Vorzugsweise enthalten solche Zusammensetzungen zusätzlich
eine wirksame stabilisierende Menge von 2,4-Bis-(2,4-dimethyl
phenyl)-6-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-s-triazin; 2,4-Bis-
(2,4-dimethylphenyl)-6-(2-hydroxy-4-[3-(pentadecyloxy)-2-
hydroxypropoxy]-s-triazin; Bis-(1-octyloxy-2,2,6,6-tetra
methylpiperidin-4-yl)-sebacat; Bis-(1,2,2,6,6-pentamethyl
piperidin-4-yl)-sebacat; N-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-
yl-n-dodecylsuccinimid; oder N-1-Acetyl-2,2,6,6-tetramethyl
piperidin-4-yl-n-dodecylsuccinimid.
Das in solchen Überzugssystemen stabilisierte organische Ma
terial ist ein polymerer Film, der beispielsweise ein Acryl/
Melaminharz, ein Polyester/Melaminharz, ein Acryl/Urethanharz,
ein Polyester/Urethan-Harz, ein Epoxy/Säureharz oder ein si
loxanmodifiziertes Acrylharz ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Polymerfilmzusammen
setzung, welche umfaßt:
- (a) eine elektrophoretische Beschichtungsgrundierung anhaf tend an ein Metallsubstrat;
- (b) einen Basis- oder Farbüberzug, der an der elektrophoreti schen Beschichtung anhaftet und der einen filmbildenden Bin der und ein organisches Pigment oder ein anorganisches Pigment oder eine Mischung davon umfaßt;
- (c) einen klaren Überzug, der an dem Basisüberzug haftet und der einen filmbildenden Binder umfaßt und
- (d) zwischen 1 Gew.-% und 20 Gew.-% des filmbildenden Binders des das Benzotriazol enthaltenden Überzugs von wenigstens einem Benzotriazol-UV-Absorber bzw. -Absorptionsmittel der Formel I
worin
R₁ Wasserstoff oder Chloro ist,
R₂ Alkyl mit 4 bis 28 Kohlenstoffatomen oder -CmH2mCOOR₄ ist, worin m 1 bis 4 ist und R₄ Wasserstoff oder Alkyl mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen ist, und
R₃ α-Cumyl ist,
enthalten entweder in dem Basisüberzug oder dem klaren Über zug oder in beiden sowohl im Basisüberzug als auch im klaren Überzug, vorzugsweise in dem klaren Überzug.
R₁ Wasserstoff oder Chloro ist,
R₂ Alkyl mit 4 bis 28 Kohlenstoffatomen oder -CmH2mCOOR₄ ist, worin m 1 bis 4 ist und R₄ Wasserstoff oder Alkyl mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen ist, und
R₃ α-Cumyl ist,
enthalten entweder in dem Basisüberzug oder dem klaren Über zug oder in beiden sowohl im Basisüberzug als auch im klaren Überzug, vorzugsweise in dem klaren Überzug.
Vorzugsweise ist R₁ Wasserstoff, R₂ ist Alkyl mit 8 bis
12 Kohlenstoffatomen oder -CmH2mCOOR₄, wobei m 2 ist,
und R₄ Alkyl mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen ist, und R₃
ist α-Cumyl.
Besonders bevorzugt ist R₁ Wasserstoff, R₂ ist tert-Octyl,
Nonyl oder Dodecyl, und R₃ ist α-Cumyl; und besonders wenn
R₁ Wasserstoff ist, ist R₂ tert-Octyl und R₃ ist α-Cumyl.
Alkyl mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen sind beispielsweise
Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, Octyl,
Nonyl, Decyl, Undecyl, Dodecyl, Tetradecyl, Hexadecyl und
Octadecyl, und die entsprechenden verzweigten Isomeren.
Die oben beschriebene Polymerfilmzusammensetzung kann auch
eine zusätzliche Schicht zwischen der elektrophoretischen
Überzugsgrundierung und dem Basis- oder Farbüberzug enthal
ten, wobei die zusätzliche Schicht (i) einen filmbildenden
Binder und ein organisches Pigment oder ein anorganisches Pig
ment oder eine Mischung davon; und (ii) mindestens einen lös
lichen und thermisch stabilen Benzotriazol-UV-Absorber der
Formel I umfaßt. Außerdem kann diese zusätzliche Schicht auch
eine wirksame stabilisierende Menge eines gehinderten Amin-
Lichtstabilisators enthalten.
Die Überzüge bzw. Beschichtungen, welche gegen die Wirkung
von Licht und Feuchtigkeit gemäß der vorliegenden Erfindung
stabilisiert werden können, sind beispielsweise die konven
tionellen Alkydharz-Einbrennlacke bzw. ofentrocknende Lacke,
welche insbesondere zum Beschichten von Automobilen (Auto
mobil-Decklacke) verwendet werden, beispielsweise Lacke auf Basis von Alkyd/
Melaminharzen und Alkyd/Acryl/Melaminharzen (vgl. H. Wagner
und H. F. Sarx, "Lackkunstharze" (1977), Seiten 99-123). An
dere vernetzende Mittel umfassen Glykourilharze, blockierte
Isocyanate oder Epoxyharze.
Die gemäß der Erfindung stabilisierten Lacke sind geeignet
sowohl für Metall-Lacküberzüge als auch feste Tönungs- bzw.
Schattierungs-Oberflächenlacke, insbesondere im Falle von
Ausbesserungslacken sowie verschiedene Rollen- bzw. Spu
lenbeschichtungsanwendungen (coil coating). Die gemäß der Er
findung stabilisierten Lacke werden vorzugsweise in der übli
chen Weise durch zwei Methoden aufgebracht, entweder durch
die Einfachbeschichtungsmethode oder durch die Zweifachbe
schichtungsmethode. Bei der letzteren Methode wird der pig
menthaltige Basisüberzug zuerst aufgebracht und dann darauf
ein Decküberzug eines klaren Lacks.
Es wird auch bemerkt, daß die Überzüge gemäß der vorliegen
den Erfindung nicht-sauer katalysierte, wärmegehärtete Harze
sein können, wie Epoxy-, Epoxypolyester-, Vinyl-, Alkyd-,
Acryl- und Polyesterharze, gegebenenfalls modifiziert mit
Silizium bzw. Silikon (silicon), Isocyanaten oder Isocyanu
raten. Die Epoxy- und Epoxypolyesterharze sind mit üblichen
Vernetzungsmitteln vernetzt wie Säuren, Säureanhydriden,
Aminen und dergleichen. Dementsprechend kann das Epoxid als
Vernetzungsmittel für verschiedene Acryl- oder Polyesterharz-
Systeme verwendet werden, welche durch die Anwesenheit von
reaktiven Gruppen auf der Hauptkettenstruktur modifiziert
worden sind.
Bei Verwendung in Zweifachbeschichtungsanstrichen können die
Verbindungen der vorliegenden Erfindung in den klaren Über
zug oder beiden, in dem klaren Überzug und in dem Pigment-
Basisüberzug, eingearbeitet sein.
Um eine maximale Lichtstabilisierung zu erreichen, kann die
gleichzeitige Verwendung von anderen üblichen Lichtstabilisa
toren vorteilhaft sein. Beispiele für solche Stabilisatoren
sind UV-Absorber bzw. UV-Absorptionsmittel vom Benzophenon-,
Benzotriazol-, Cyanoacrylat- oder Oxanilidtyp, oder metall
haltige Lichtstabilisatoren, beispielsweise organische Nickel
verbindungen oder gehinderte Amin-Lichtstabilisatoren. In
Zweifachbeschichtungssystemen können diese zusätzlichen Licht
stabilisatoren dem klaren Überzug oder beiden, in dem klaren
Überzug und in dem Pigment-Basisüberzug, zugesetzt sein.
Im allgemeinen werden die Verbindungen der vorliegenden Er
findung von etwa 1 Gew.-% bis etwa 20 Gew.-% des filmbilden
den Binders verwendet. Ein vorteilhafter Bereich ist von 1%
bis 5%, vorzugsweise 1.5% bis 5%.
Die entstandenen stabilisierten Zusammensetzungen gemäß der
vorliegenden Erfindung können gegebenenfalls auch von etwa
0,01% bis etwa 5%, vorzugsweise von etwa 0,025% bis etwa
2% und besonders bevorzugt von etwa 0,1% bis etwa 1%, be
zogen auf das Gewicht, an verschiedenen üblichen Zusätzen,
wie die nachstehend aufgeführten Materialien oder Mischungen
davon, enthalten.
Andere Zusammensetzungen von besonderem Interesse schließen
solche ein, welche zusätzlich einen UV-Absorber, ausgewählt
aus der Gruppe bestehend aus den Benzophenonen, Benzotriazo
len, Cyanoacrylsäurederivaten, Hydroxyaryl-s-triazinen, orga
nischen Nickelverbindungen und Oxaniliden enthalten.
Bevorzugte UV-Absorber bzw. -Absorptionsmittel sind ausge
wählt aus der Gruppe bestehend aus 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-
dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazol, 2-(2-Hydroxy-3,5-di-
tert-amylphenyl)-2H-benzotriazol, 2-[2-Hydroxy-3-tert-butyl-
5-(ω-hydroxy-octa-(ethylenoxy)-carbonyl)-ethylphenyl]-2H-
benzotriazol, 2-[2-Hydroxy-3-tert-butyl-s-(2-octyloxycarbo
nylethyl)-phenyl]-2H-benzotriazol, 4,4′-Dioctyloxyoxanilid,
2,2′-Dioctyloxy-5,5′-di-tert-butyloxanilid, 2,2′-Didodecyl
oxy-5,5′-di-tert-butyloxanilid, 2-Ethoxy-2′-ethyloxanilid,
2,6-Bis-(2,4-dimethylphenyl)-4-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl-
s-triazin, 2,6-Bis-(2,4-dimethylphenyl)-4-(2,4-dihydroxy
phenyl)-s-triazin, 2,4-Bis-(2,4-dihydroxyphenyl)-6-(4-chloro
phenyl)-, 2,6-Bis-(2,4-dimethylphenyl)-4-[2-hydroxy-4-(2-
hydroxy-3-dodecyloxypropanoxy)-phenyl]-s-triazin und 2,2′-
Dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenon.
Zusätzliche Zusammensetzungen von Interesse schließen solche
ein, welche außerdem eine wirksame stabilisierende Menge ei
nes phenolischen Antioxidans enthalten; solche, welche außer
dem ein gehindertes-Aminderivat enthalten; oder solche, wel
che außerdem einen Phosphit- oder Phosphonitstabilisator ent
halten.
Zusammensetzungen von besonderem Interesse schließen auch
solche ein, worin das organische Material ein Emaille mit
hohem Feststoffgehalt ist, der für einen industriellen An
strich bzw. Oberflächenlack verwendet wird; wird zur Rollen
bzw. Spulenbeschichtung (coil coating) verwendet; wird als
durchdringender Holzpolierlack verwendet oder wird als film
bildender Holzlack verwendet.
Wenn die vorliegenden Verbindungen auch eine reaktive funk
tionelle Gruppe enthalten, können diese Verbindungen chemisch
entweder durch Kondensations- oder freie Radikale-Additions
reaktion an das polymere Substrat gebunden sein. Dies schafft
einen nicht wandernden, nicht sublimierbaren UV-Absorptions
stabilisator. Solche reaktiven funktionellen Gruppen schließen
Hydroxy-, Carboxyl- und ethylenisch ungesättigte Teile bzw.
Hälften ein.
Die sich ergebenden stabilisierten Polymerzusammensetzungen
gemäß der Erfindung können gegebenenfalls auch von etwa 0,01%
bis 5%, vorzugsweise von etwa 0,025% bis etwa 2% und ins
besondere von etwa 0,1% bis etwa 1%, bezogen auf das Ge
wicht, an verschiedenen üblichen Zusätzen wie die unten auf
gelisteten Materialien oder Mischungen davon, enthalten.
- 1. Antioxidantien
- 1.1 Alkylierte Monophenole, beispielsweise
2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol, 2-tert-Butyl-4,6-dimethyl phenol, 2,6-Di-tert-butyl-4-ethylphenol, 2,6-Di-tert-butyl- 4-n-butylphenol, 2,6-Di-tert-butyl-4-i-butylphenol, 2,6-Di cyclopentyl-4-methylphenol, 2-(α-Methylcyclohexyl)-4,6-di methylphenol, 2,6-Di-octadecyl-4-methylphenol, 2,4,6-Tri cyclohexylphenol, 2,6-Di-tert-butyl-4-methoxymethylphenol. - 1.2 Alkylierte Hydrochinone, beispielsweise
2,6-Di-tert-butyl-4-methoxyphenol, 2,5-Di-tert-butylhydrochi non, 2,5-Di-tert-amylhydrochinon, 2,6-Diphenyl-4-octadecyloxyphenol. - 1.3 Hydroxylierte Thiodiphenylether, beispielsweise
2,2′-Thio-bis-(6-tert-butyl-4-methylphenol), 2,2′-Thio-bis- (4-octylphenol), 4,4′-Thio-bis-(6-tert-butyl-3-methylphenol), 4,4′-Thio-bis-(6-tert-butyl-2-methylphenol). - 1.4 Alkyliden-bisphenole, beispielsweise
2,2′-Methylen-bis-(6-tert-butyl-4-methylphenol), 2,2′-Methy len-bis-(6-tert-butyl-4-ethylphenol), 2,2′-Methylen-bis-[4- methyl-6-(α-methylcyclohexyl)-phenol], 2,2′-Methylen-bis-(4- methyl-6-cyclohexylphenol), 2,2′-Methylen-bis-(6-nonyl-4- methylphenol), 2,2′-Methylen-bis-[6-(α-methylbenzyl)-4-nonyl phenol], 2,2′-Methylen-bis-[6-(α,α-dimethylbenzyl)-4-nonyl phenol], 2,2′-Methylen-bis-(4,6-di-tert-butylphenol), 2,2′- Ethyliden-bis-(4,6-di-tert-butylphenol), -2,2′-Ethyliden-bis- (6-tert-butyl-4-isobutylphenol), 4,4′-Methylen-bis-(2,6-di- tert-butylphenol), 4,4′-Methylen-bis-(6-tert-butyl-2-methyl phenol), 1,1-Bis-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl) butan, 2,6-Di-(3-tert-butyl-5-methyl-2-hydroxybenzyl)-4- methylphenol, 1,1,3-Tris-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methyl phenyl)-, 1,1-Bis-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)-3- n-dodecylmercaptobutan, Ethylenglykol-bis-[3,3-bis-(3′-tert- butyl-4′-hydroxyphenyl)-butyrat], Di-(3-tert-butyl-4-hydroxy- 5-methylphenyl)-dicyclopentadien, Di-[2-(3′-tert-butyl-2′- hydroxy-5′-methylbenzyl)-6-tert-butyl-4-methylphenyl]-tere phthalat. - 1.5 Benzylverbindungen, beispielsweise
1,3,5-Tri-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-2,4,6-tri methyl-benzol, Di-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-sulfid, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl-mercapto-essigsäure-iso octylester, Bis-(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) dithiolterephthalat, 1,3,5-Tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy benzyl)-isocyanurat, 1,3,5-Tris-(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6- dimethylbenzyl)-isocyanurat, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxyben zyl-phosphorsäure-dioctadecylester, 3,5-Di-tert-butyl-4- hydroxybenzyl-phosphorsäure-monoethylester, Calciumsalz. - 1.6 Acylaminophenole, beispielsweise
4-Hydroxylaurinsäureanilid, 4-Hydroxystearinsäureanilid, 2,4-Bis-octylmercapto-6-(3,5-tert-butyl-4-hydroxyanilino)-s- triazin, Octyl-N-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-carba mat. - 1.7 Ester von β-(3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propion
säure mit einwertigen oder mehrwertigen Alkoholen, beispiels
weise
Methanol, Diethylenglykol, Octadecanol, Triethylenglykol, 1,6-Hexandiol, Pentaerythrit, Neopentylglykol, Tris-hydroxyethylisocyanurat, Thiodiethylenglykol, Di-hydroxyethyloxalsäurediamid. - 1.8 Ester von β-(5-tert-Butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl)
propionsäure mit einwertigen oder mehrwertigen Alkoholen,
beispielsweise
Methanol, Diethylenglykol, Octadecanol, Triethylenglykol, 1,6-Hexandiol, Pentaerythrit, Neopentylglykol, Tris-hydroxyethylisocyanurat, Thiodiethylenglykol, Di-hydroxyethyloxalsäurediamid. - 1.9 Amide der β-(3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)-propion
säure, beispielsweise
N,N′-Di-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionyl)-hexa methylendiamin, N,N′-Di-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl propionyl)-trimethylendiamin, N,N′-Di-(3,5-di-tert-butyl-4- hydroxyphenylpropionyl)-hydrazin.
- 1.1 Alkylierte Monophenole, beispielsweise
- 2. UV-Absorber und Lichtstabilisatoren
- 2.1 2-(2′-Hydroxyphenyl)-benzotriazole, beispielsweise die
5′-Methyl-, 3′,5′-Di-tert-butyl-, 5′-tert-butyl-, 5′-(1,1,3,3- tetramethylbutyl)-, 5-Chloro-3′,5′-di-tert-butyl-, 5-Chloro- 3′-tert-butyl-5′-methyl-, 3′-sec-Butyl-5′-tert-butyl-, 4′- Octoxy-, 3′,5′-Di-tert-amyl-, 3′,5′-Bis-(α,α-dimethylbenzyl)-, 3′-tert-Butyl-5′-(2-omega-hydroxy-octa-(ethylenoxy)-carbonyl ethyl)-, 3′-Dodecyl-5′-methyl-, und 3′-tert-Butyl-5′-(2- octyloxycarbonyl)-ethyl-, und dodecylierte 5′-Methylderivate. - 2.2.2-Hydroxybenzophenone, beispielsweise die
4-Hydroxy-, 4-Methoxy-, 4-Octoxy-, 4-Decyloxy-, 4-Dodecyl oxy-, 4-Benzyloxy-, 4,2′,4′-Trihydroxy- und 2′-Hydroxy-4,4′- dimethoxyderivate. - 2.3 Ester von gegebenenfalls substituierten Benzoesäuren,
beispielsweise
Phenylsalicylat, 4-tert-Butylphenylsalicylat, Octylphenyl salicylat, Dibenzoylresorcin, Bis-(4-tert-butylbenzoyl)-resor cin, Benzoylresorcin, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäure- 2,4-di-tert-butylphenylester und 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxy benzoesäurehexadecylester. - 2.4 Acrylate, beispielsweise
α-Cyano-β,β-diphenylacrylsäureethylester oder -isooctylester, α-Carbomethoxyzimtsäuremethylester, α-Cyano-β-methyl-p-meth oxyzimtsäuremethylester oder -butylester, α-Carbomethoxy-p- methoxyzimtsäuremethylester, N-(β-Carbomethoxy-β-cyanovinyl)- 2-methylindolin. - 2.5 Nickelverbindungen, beispielsweise
Nickelkomplexe von 2,2′-Thio-bis-[4-(1,1,3,3-tetramethyl butyl)-phenol] wie der 1 : 1- oder 1 : 2-Komplex, gegebenenfalls mit zusätzlichen Liganden wie n-Butylamin, Triethanolamin oder N-Cyclohexyldiethanolamin, Nickeldibutyldithiocarbamat, Nickelsalze von 4-Hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzylphosphon säuremonoalkylestern wie von dem Methyl-, Ethyl- oder Butyl ester, Nickelkomplexe von Ketoximen wie von 2-Hydroxy-4- methylphenylundecylketoxim, Nickelkomplexe von 1-Phenyl-4- lauroyl-5-hydroxypyrazol, gegebenenfalls mit zusätzlichen Liganden. - 2.6 Sterisch gehinderte Amine, beispielsweise
Bis-(2,2,6,6-Tetramethylpiperidyl)-sebacat, Bis-(1,2,2,6,6- pentamethylpiperidyl)-sebacat, n-Butyl-3,5-di-tert-butyl-4- hydroxybenzylmalonsäure-bis-(1,2,2,6,6-pentanmethylpiperi dyl)-ester, Kondensationsprodukt von 1-Hydroxyethyl-2,2,6,6- tetramethyl-4-hydroxypiperidin und Bernsteinsäure, Kondensa tionsprodukt von N,N′-(2,2,6,6-Tetramethylpiperidyl)-hexa methylendiamin und 4-tert-Octylamino-2,6-dichloro-s-triazin, Tris-(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)-nitrilo-triacetat, Tetra kis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butantetracarb oxylat, 1,1′-(1,2-Ethandiyl)-bis-(3,3,5,5-tetramethylpipera zinon). - 2.7 Oxalsäurediamide beispielsweise
4,4′-Di-octyloxyoxanilid, 2,2′-Di-octyloxy-5,5′-di-tert-butyl oxanilid, 2,2′-Di-dodecyloxy-5,5′-di-tert-butyloxanilid, 2-Ethoxy-2′-ethyloxanilid, N,N′-Bis-(3-dimethylaminopropyl) oxalamid, 2-Ethoxy-5-tert-butyl-2′-ethyloxanilid und seine Mischung mit 2-Ethoxy-2′-ethyl-5,4′-di-tert-butyloxanilid und Mischungen sowohl mit ortho- und para-Methoxy- als auch o- und p-ethoxydisubstituierten Oxaniliden. - 2.8 Hydroxyphenyl-s-triazine, beispielsweise
2,6-Bis-(2,4-dimethylphenyl)-4-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)- s-triazin, 2,6-Bis-(2,4-dimethylphenyl)-4-(2,4-dihydroxyphe nyl)-, 2,4-Bis-(2,4-dihydroxyphenyl)-6-(4-chlorophenyl)-, 2,4-Bis-[2-hydroxy-4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-6-(4-chloro phenyl)-s-triazin, 2,4-Bis-[2-hydroxy-4-(2-hydroxy-4-(2- hydroxyethoxy)-phenyl]-6-(2,4-dimethylphenyl)-s-triazin, 2,4-Bis-[2-hydroxy-4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-6-(4-bromo phenyl)-s-triazin, 2,4-Bis-[2-hydroxy-4-(2-acetoxyethoxy) phenyl]-6-(4-chlorophenyl)-s-triazin, 2,4-Bis-(2,4-dihydroxy phenyl)-6-(2,4-dimethylphenyl)-, 2,4-Bis-(2,4-dimethylphe nyl)-6-{2-hydroxy-4-[3-(2-ethylhexyloxy)-2-hydroxypropoxy] phenyl}-s-triazin, 2,4-Bis-(2,4-dimethylphenyl)-6-{2-hydroxy- 4-[3-(pentadecyloxy)-2-hydroxypropoxy]-phenyl}-s-triazin.
- 2.1 2-(2′-Hydroxyphenyl)-benzotriazole, beispielsweise die
- 3. Metalldesaktivatoren, beispielsweise
N,N′-Diphenyloxalsäurediamid, N-Salicylal-N′-salicyloylhydr-a zin, N,N′-Bis-salicyloylhydrazin, N,N′-Bis-(3,5-di-tert- butyl-4-hydroxyphenylpropionyl)-hydrazin, 3-Salicyloylamino- 1,2,4-triazol, Bis-benzylidenoxalsäuredihydrazid. - 4. Phosphite und Phosphonite, beispielsweise
Triphenylphosphit, Diphenylalkylphosphite, Phenyldialkyl phosphite, Tri-(nonylphenyl)-phosphit, Trilaurylphosphit, Trioctadecylphosphit, Di-stearyl-pentaerythritdiphosphit, Tris-(2,4-di-tert-butylphenyl)-phosphit, Di-isodecylpenta erythritdiphosphit, Di-(2,4-di-tert-butylphenyl)-pentaery thritdiphosphit, Tristearylsorbit-triphosphit, Tetrakis- (2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4′-diphenylylendiphosphit. - 5. Verbindungen, welche Peroxid zerstören, beispielsweise
Ester der β-Thiodipropionsäure, z. B. der Lauryl-, Stearyl-, Myristyl- oder Tridecylester, Mercaptobenzimidazol oder das Zinksalz von 2-Mercaptobenzimidazol, Zinkdibutyldithiocarba mat, Dioctadecyldisulfid, Pentaerythrit-tetrakis-(β-dodecyl mercapto)-propionat. - 6. Hydroxylamine, beispielsweise
N,N-Dibenzylhydroxylamin, N,N-Diethylhydroxylamin, N,N-Di octylhydroxylamin, N,N-Dilaurylhydroxylamin, N,N-Ditetradecyl hydroxylamin, N,N-Dihexadecylhydroxylamin, N,N-Dioctadecyl hydroxylamin, N-Hexadecyl-N-octadecylhydroxylamin, N-Hepta decyl-N-octadecylhydroxylamin, N,N-Dialkylhydroxylamin abge leitet von hydriertem Talgamin. - 7. Nitrone, beispielsweise
N-Benzyl-alpha-phenylnitron, N-Ethyl-alpha-methylnitron, N-Octyl-alpha-heptylnitron, N-Lauryl-alpha-undecylnitron, N-Tetradecyl-alpha-tridecylnitron, N-Hexadecyl-alpha-penta decylnitron N-Octadecyl-alpha-heptadecylnitron. N-Hexa decyl-alpha-heptadecylnitron, N-Octadecyl-alpha-pentadecyl nitron, N-Heptadecyl-alpha-heptadecylnitron, N-Octadecyl alpha-hexadecylnitron, Nitron abgeleitet von N,N-Dialkyl hydroxylamin abgeleitet von hydriertem Talgamin. - 8. Polyamidstabilisatoren, beispielsweise
Kupfersalze in Kombination mit Jodiden und/oder Phosphor verbindungen und Salze des zweiwertigen Mangans. - 9. Basische Co-Stabilisatoren, beispielsweise
Melamin, Polyvinylpyrrolidon, Dicyandiamid, Triallylcyanurat, Harnstoffderivate, Hydrazinderivate, Amine, Polyamide, Poly urethane, Alkali- und Erdalkalimetallsalze von höheren Fett säuren, z. B. Calciumstearat, Zinkstearat, Magnesiumstearat, Natriumricinoleat und Kaliumpalmitat, Antimonpyrocatecholat oder Zinkpyrocatecholat. - 10. Nukleierungsmittel, beispielsweise
4-tert-Butylbenzoesäure, Adipinsäure, Diphenylessigsäure. - 11. Füllstoffe und Verstärkungsmittel, beispielsweise
Calciumcarbonat, Silikate, Glasfasern, Asbest, Talk, Kaolin, Glimmer, Bariumsulfat, Metalloxide und -hydroxide, Kohlenruß, Graphit. - 12. Andere Zusätze, beispielsweise
Plastifizierungsmittel, Gleitmittel, Emulgatoren, Pigmente, optische Aufheller, flammhemmende Mittel, antistatische Mit tel, Blähmittel und Thiosynergistika wie Dilaurylthiodipro pionat oder Distearylthiodipropionat.
Das phenolische Antioxidans von besonderem Interesse ist aus
gewählt aus der Gruppe bestehend aus n-Octadecyl-3,5-di-tert-
butyl-4-hydroxyhydrocinnamat. Neopentantetrayl-tetrakis-(3,5-
di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamat), Di-n-octadecyl-3,5-
di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonat, 1,3,5-Tris-(3,5-di-
tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-isocyanuarat, Thiodiethylen-bis-
(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamat), 1,3,5-Trimethyl-
2,4,6-tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-benzol,
3,6-Dioxaoctamethylen-bis-(3-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxy
hydrocinnamat), 2,6-Di-tert-butyl-p-kresol, 2,2′-Ethyliden-
bis-(4,6-ditert-butylphenol), 1,3,5-Tris-(2,6-dimethyl-4-
tert-butyl-3-hydroxybenzyl)-isocyanurat, 1,1,3-Tris-(2-methyl-
4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)-butan, 1,3,5-Tris-[2-(3,5-di-
tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamoyloxy)-ethyl]-isocyanurat,
3,5-Di-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-mesitol, Hexa
methylen-bis-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamat), 1-
(3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxyanilino)-3,5-di-(octylthio)-s-
triazin, N,N′-Hexamethylen-bis-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy
hydrocinnamamid), Calcium-bis-(ethyl-3,5-di-tert-butyl-4-
hydroxybenzylphosphonat), Ethylen-bis-[3,3-di-(3-tert-butyl-
4-hydroxyphenyl)-butyrat], Octyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy
benzylmercaptoacetat, Bis-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydro
cinnamoyl)-hydrazid, und N,N′-Bis-[2-(3,5-di-tert-butyl-4-
hydroxyhydrocinnamoyloxy)-ethyl]-oxamid.
Ein besonders bevorzugtes phenolisches An-tioxidans ist Neo
pentantetrayl-tetrakis-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocin
namat), n-Octadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamat,
1,3,5-Trimethyl-2,4,6-tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyben
zyl)-benzol, 1,3,5-Tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)
isocyanurat, 2,6-Di-tert-butyl-p-kresol oder 2,2′-Ethyliden-
bis-(4,6-di-tert-butylphenol).
Die gehinderte Aminverbindung von besonderem Interesse ist ausgewählt aus der Gruppe
bestehend aus Bis-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-seba
cat, Bis-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)-sebacat, Di-
(1,2,2,6,6-Pentamethylpiperidin-4-yl)-(3,5-di-tert-butyl-4-
hydroxybenzyl)-butylmalonat, 4-Benzoyl-2,2,6,6-tetramethyl
piperidin, 4-Stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin, 3-n-
Octyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triaza-spiro[4.5]decan-2,4-
dion, Tris-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-nitrilotriace
tat, 1,2-Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-3-oxopiperazin-4-yl)-ethan,
2,2,4,4-Tetramethyl-7-oxa-3,20-diaza-21-oxodispiro[5.1.11.2]
heneicosan, Polykondensationsprodukt von 2,4-Dichloro-6-
tert-octylamino-s-triazin und 4,4′-Hexamethylen-bis-(amino-
2,2,6,6-tetramethylpiperidin), Polykondensationsprodukt von
1-(2-Hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethyl-4-hydroxypiperidin und
Bernsteinsäure, Polykondensationsprodukt von 4,4′-Hexamethy
len-bis-(amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidin) und 1,2-Dibromo
ethan, Tetrakis-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-1,2,3,4-
butantetracarboxylat, Tetrakis-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperi
din-4-yl)-1,2,3,4-butantetracarboxylat, Polykondensationspro
dukt von 2,4-Dichloro-6-morpholino-s-triazin und 4,4′-Hexa
methylen-bis-(amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidin), N,N′,N′′,N′′′
Tetrakis-[4,6-bis-(butyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-
amino-s-triazin-2-yl]-1,10-diamino-4,7-diazadecan, gemischtes
[2,2,6,6-Tetramethylpiperidin-4-yl/β,β,β′,β′-Tetramethyl-
3,9-(2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan)-diethyl]-1,2,3,4-
butantetracarboxylat, gemischtes [1,2,2,6,6-Pentamethyl
piperidin-4-yl/β,β,β′,β′-tetramethyl-3,9-(2,4,8,10-tetraoxa
spiro[5.5]undecan)-diethyl]1,2,3,4-butantetracarboxylat,
Octamethylen-bis-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-carboxylat),
4,4′-Ethylen-bis-(2,2,6,6-tetramethylpiperazin-3-on),
N-2,2,6,6-Tetramethylpiperidin-4-yl-n-dodecylsuccinimid,
N-1,2,2,6,6-Pentamethylpiperidin-4-yl-n-dodecylsuccinimid,
N-1-Acetyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl-n-dodecylsuccin
imid, 1-Acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triaza
spiro[4.5]decan-2,4-dion, Di-(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethyl
piperidin-4-yl)-sebacat, Di-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetra
methylpiperidin-4-yl)-succinat, 1-Octyloxy-2,2,6,6-tetra
methyl-4-hydroxypiperidin, Poly{[6-tert-octylamino-s-tria
zin-2,4-diyl][2-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperi
din-4-yl)-imino-hexamethylen-[4-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-
tetramethylpiperidin-4-yl)-imino], 2,4,6-Tris-[N-(1-cyclo
hexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-n-butylamino]-
s-triazin, 2,4-Bis-[N-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl
piperidin-4-yl)-n-butylamino]-6-[di-(2-hydroxyethyl)-amino]-
s-triazin, und 2,4-Bis-[N-(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethyl
piperidin-4-yl)-n-butylamino]-6-[di-(2-hydroxyethyl)-amino]-
s-triazin.
Eine besonders bevorzugte gehinderte Aminverbindung ist Bis-
(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-sebacat, Bis-(1,2,2,6,6-
pentamethylpiperidin-4-yl)-sebacat, Di-(1,2,2,6,6-pentamethyl
piperidin-4-yl) (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-butyl
malonat, das Polykondensationsprodukt von 1-(2-Hydroxyethyl)-
2,2,6,6-tetramethyl-4-hydroxypiperidin und Bernsteinsäure,
das Polykondensationsprodukt von 2, 4-Dichloro-6-tert-octyl
amino-s-triazin und 4′4′-Hexamethylen-bis-(amino-2,2,6,6-
tetramethylpiperidin), N,N′,N′′,N′′′-Tetrakis-[(4,6-bis-(butyl-
(2,2.6, 6-tetramethylpiperidin-4-yl)-amino)-s-triazin-2-yl]-
1,10-diamino-4,7-diazadecan, Di-(1-octyloxy-2,2,6,6-tetra
methylpiperidin-4-yl)-sebacat, Di-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-
tetramethylpiperidin-4-yl)-succinat, 1-Octyloxy-2,2,6,6-
tetramethyl-4-hydroxypiperidin, Poly-{[6-tert-octylamino-s-
triazin-2,4-diyl][2-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpipe
ridin-4-yl)-imino-hexamethylen-[4-(1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-
tetramethylpiperidin-4-yl)-imino] oder 2,4.6-Tris-[N-(1-
cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-n-butyl
amino]-s-triazin.
Die bei der vorliegenden Erfindung verwendeten Benzotriazole
können nach üblichen und bekannten Methoden hergestellt wer
den. Beispiele solcher Methoden sind in den Herstellungsbei
spielen 1 bis 9 angegeben. Die besonders bevorzugte kristal
line Modifikation von 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octyl
phenyl)-2H-benzotriazol, die in dem Bereich von 109 bis 111°C
schmilzt und ein Röntgenbeugungsbild hat, das bei Verwendung
von Cu-Kα-Strahlung erhalten wird, welches die unten angege
benen Beugungswinkel (2 Θ) zeigt,
kann erhalten werden, indem diese Verbindung in einem aroma
tischen Lösungsmittel aufgelöst und die Verbindung durch Zu
gabe eines niederen Alkanols ausgefällt wird; oder durch Kri
stallisieren oder Umkristallisieren der Verbindung aus einem
niederen Alkanol allein oder in Verbindung mit einer geringen
Menge eines aromatischen Lösungsmittels.
Vorzugsweise umfaßt das Verfahren das Kristallisieren oder
Umkristallisieren dieser Verbindung aus einem Alkanol mit 1
bis 4 Kohlenstoffatomen entweder allein oder in Verbindung
mit einer geringen Menge eines aromatischen Lösungsmittels.
Aromatische Lösungsmittel, welche in dem obigen Verfahren
verwendet werden können, sind beispielsweise Toluol oder
Xylol. Bei Verwendung in einer geringen Menge kann eine sol
che geringe Menge beispielsweise bis zu 15% oder vorzugs
weise 5 bis 15 Vol.-% des Gesamtvolumens des verwendeten
Lösungsmittels sein.
Einige Alkanole, die bei dem vorliegenden Verfahren brauch
bar sind, sind beispielsweise Methanol, Ethanol, n-Propanol,
Isopropanol, 1-Butanol, sec-Butylalkohol oder Isobutylalko
hol. Vorzugsweise ist das Alkanol ein Alkanol mit 2, 3 oder
4 Kohlenstoffatomen; ganz bevorzugt Isopropanol oder 1-Buta
nol.
Noch ein anderer Aspekt der vorliegenden Erfindung ist die
Anwendung der vorliegenden Verbindungen der Formel I in Regi
strier- bzw. Aufzeichnungsmaterialien. Die Registriermateria
lien gemäß der Erfindung sind geeignet für druckempfindliche
Kopiersysteme. Photokopiersysteme unter Verwendung von Mikro
kapseln, hitzeempfindliche Kopiersysteme, photographische
Materialien und Tintenstrahldruck bzw. Tintensprühdruck.
Die Registriermaterialien gemäß der Erfindung zeichnen sich
durch eine unerwartete Verbesserung in der Qualität, insbe
sondere im Hinblick auf Lichtechtheit bzw. Lichtbeständigkeit
aus.
Die Registriermaterialien gemäß der Erfindung haben den für
den besonderen Zweck bekannten Aufbau. Sie bestehen aus einem
üblichen Träger, beispielsweise Papier oder Plastikfilm, der
mit einer oder mehreren Schichten überzogen wurde. In Abhän
gigkeit vom Typ des Materials enthalten diese Schichten die
geeigneten notwendigen Komponenten, im Falle von photographi
schen Materialien beispielsweise Silberhalogenidemulsionen,
Farbkuppler, Farbstoffe und dergleichen. Ein Material, beson
ders geeignet für Tintendruck, hat eine Schicht, die auf ei
nem üblichen Träger besonders absorptionsfähig für Tinte ist.
Unbeschichtetes Papier kann auch für Tintendruck verwendet
werden. In diesem Falle wirkt das Papier gleichzeitig als
Trägermaterial und als tintenabsorbierende Schicht. Geeigne
tes Material für Tintendruck ist beispielsweise in dem US-
Patent 5 073 448 (hier als Referenz einbezogen) beschrieben.
Das Registriermaterial kann auch transparent sein, wie bei
spielsweise im Falle von Projektionsfilmen.
Die Verbindungen der Formel I können in das Trägermaterial
einverleibt werden gleich bei der Produktion des letzteren,
bei der Produktion von Papier, beispielsweise wird es dem
Papierbrei zugesetzt. Eine zweite Methode der Anwendung ist
es, das Trägermaterial mit einer wäßrigen Lösung der Verbin
dungen der Formel I aufzusprühen, oder die Verbindungen der
Formel I der Überzugszusammensetzung zuzusetzen.
Die Überzugszusammensetzungen, die für transparente Regi
striermaterialien zur Projektion geeignet bestimmt sind, kön
nen keinerlei Teilchen enthalten, die das Licht streuen, wie
Pigmente und Füllstoffe.
Die farbbindende Überzugszusammensetzung kann eine Anzahl von
anderen Zusätzen enthalten, beispielsweise Antioxidantien,
Lichtstabilisatoren (einschließlich UV-Absorptionsmitteln,
welche nicht zu den UV-Absorptionsmitteln gemäß der Erfindung
gehören), Viskositätsverbesserer, fluoreszierende Aufheller,
Biozide und/oder antistatische Mittel.
Die Überzugszusammensetzung wird gewöhnlich folgendermaßen
hergestellt: Die wasserlöslichen Komponenten, beispielsweise
der Binder, werden in Wasser gelöst und zusammengerührt. Die
festen Komponenten, beispielsweise Füllstoffe und andere be
reits beschriebene Zusätze, werden in diesem wäßrigen Medium
dispergiert. Die Dispersion wird vorteilhaft mittels Vorrich
tungen durchgeführt, beispielsweise Ultraschallproben, Turbi
nenrührer, Homogenisatoren, Kolloidmühlen, Kugelmühlen, Sand
mühlen, Hochgeschwindigkeitsrührer und dergleichen. Es ist ein
besonderer Vorteil der Verbindungen der Formel I, daß sie in
die Überzugszusammensetzung leicht einverleibt werden können.
Das Registriermaterial gemäß der vorliegenden Erfindung
enthält vorzugsweise 1 bis 5000 mg/m², insbesondere 50 bis
1200 mg/m², an einer Verbindung der Formel I.
Wie bereits erwähnt, umfassen die Registriermaterialien gemäß
der Erfindung ein weites Gebiet. Die Verbindungen der Formel
I können beispielsweise bei druckempfindlichen Kopiersystemen
verwendet werden. Sie können entweder in das Papier eingeführt
werden, um die mikroeingekapselten Farbvorläufer vor Licht zu
schützen, oder in den Binder der Entwicklerschicht, um die
dort gebildeten Farbstoffe zu schützen.
Photokopiersysteme unter Verwendung von lichtempfindlichen
Mikrokapseln, welche durch Druck entwickelt werden, sind in
den US-Patenten 4 416 966, 4 483 912, 4 352 200, 4 535 050,
4 5365 463, 4 551 407, 4 562 137 und 4 608 330 sowie in den
EP-Veröffentlichungen EP-A-139 479, EP-A-162 664, EP-A-164
931, EP-A-237 024, EP-A-237 025 oder EP-A-260 129 beschrieben.
In all diesen Systemen können die Verbindungen der Formel I
in die farbaufnehmende Schicht gegeben werden. Die Verbindun
gen der Formel I können jedoch auch in die Geberschicht gege
ben werden, um die Farbbildner vor Licht zu schützen.
Photographische Materialien, welche stabilisiert werden kön
nen, sind photographische Farben und Schichten, welche solche
Farben oder Farbstoffe oder Vorläufer davon enthalten, bei
spielsweise photographisches Papier und Filme. Geeignete Ma
terialien sind beispielsweise in dem US-Patent 5 364 749 be
schrieben (das hier als Referenz einbezogen wird). Die Ver
bindungen der Formel I wirken hier als UV-Filter gegen elek
trostatische Blitze. In farbphotographischen Materialien
werden Kuppler und Farbstoffe auch gegen photochemische Zer
setzung geschützt.
Die Verbindungen der Formel I können für alle Typen von farb
photographischen Materialien verwendet werden. Beispielsweise
können sie für Farbpapier, Farbumkehrpapier, Direktpositiv-
Farbmaterial, Farbnegativfilm, Farbpositivfilm, Farbumkehr
film, usw. verwendet werden. Sie können vorzugsweise unter
anderem für photographisches Farbmaterial verwendet werden,
welches ein Umkehrsubstrat oder Positivformen enthält.
Farbphotographische Registriermaterialien enthalten gewöhn
lich auch einen Träger, eine blauempfindliche und/oder grün
empfindliche und/oder rotempfindliche Silberhalogenidemul
sionsschicht und gewünschtenfalls eine Schutzschicht, wobei
die Verbindungen der Formel I vorzugsweise entweder in der
grünempfindlichen oder rotempfindlichen Schicht oder in einer
Schicht zwischen der grünempfindlichen und der rotempfindli
chen Schicht sind, oder in einer Schicht oberhalb der Silber
halogenidemulsionsschichten.
Die Verbindungen der Formel I können auch in Registriermate
rialien verwendet werden, die auf dem Prinzip der Photopoly
merisation, Photoplastifizierung oder dem Brechen von Mikro
kapseln basieren, oder in Fällen, in denen wärmeempfindliche
und lichtempfindliche Diazoniumsalze, Leukofarbstoffe mit ei
nem Oxidationsmittel oder Farblactone mit Lewis-Säuren ver
wendet werden.
Außerdem können sie in Registriermaterialien für Farbdiffu
sionstransferdruck, Wärmetransferwachsdruck und Punktmatrix
druck und zur Verwendung mit elektrostatischen, elektrographi
schen, elektrophoretischen, magnetographischen und laser
elektrophotographischen Druckern und Stiftplottern verwendet
werden. Von den obigen sind Registriermaterialien für Farb
diffusionstransferdruck bevorzugt, wie beispielsweise in EP-
A-507 734 beschrieben.
Die Verbindungen der Formel I können auch in Tinten, vorzugs
weise für Tintenstrahldruck, eingesetzt werden, wie beispiels
weise in dem US-Patent 5 098 477 beschrieben (welches hier als
Referenz einbezogen wird). Ein weiterer Gegenstand der vor
liegenden Erfindung ist daher eine Tinte, die mindestens eine
Verbindung der Formel I als Stabilisator enthält. Die Tinte,
insbesondere zum Tintenstrahldruck, enthält vorzugsweise Was
ser. Tinten, die den Stabilisator der Formel I in einer Kon
zentration von 0,01 bis 20 Gew.-%, insbesondere von 0,5 bis
10 Gew.-%, enthalten, sind ebenfalls bevorzugt.
Röntgenbeugungsaufnahmen werden auf einem Philips Nerelco-
Röntgenstrahlendiffraktometer unter Verwendung der Cu-Kα-
Strahlung mit einem Nickelfilter registriert. Alle Proben
haben eine einheitliche Teilchengröße von 40 bis 75 Mikron.
Dies ist die gleiche Teilchengrößenverteilung, die mit der
vorbekannten Verbindung des Beispiels 2 erhalten wurde.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern
und sollen die Natur oder den Bereich der vorliegenden Erfin
dung in keiner Weise beschränken.
In einen 5-l-Dreihalskolben, der mit einem Rührer, Thermo
meter, Rückflußkühler und Stickstoffeinlaß versehen ist,
werden 380 g (0,8 Mol) 2-Nitro-2′-hydroxy-3′-α,α-dimethyl
benzyl-5′-tert-octylazobenzol und 1200 ml Toluol eingespeist.
Zu der entstandenen Lösung werden 240 ml Isopropanol und 240
ml Wasser gegeben. Eine Stickstoffatmosphäre wird eingeführt
und 160 ml 50,1%iges wäßriges Natriumhydroxid wird zugesetzt.
Ein Kolben, enthaltend 158,2 g (2,42 Grammatom) Zink wird mit
dem Reaktionsgefäß verbunden und der Zinkstaub wird portions
weise zu dem Reaktionsgemisch während eines Zeitraums von
90 Minuten zugesetzt. Die Innentemperatur wird zwischen 40
und 45°C während der Zugabe und während einer weiteren Stun
de gehalten und dann wird das Gemisch während 3 Stunden bei
70°C erhitzt. Die Mischung wird auf Raumtemperatur abgekühlt
und mit 600 ml konzentrierter Salzsäure angesäuert. Die Zink
aufschlämmung wird durch Filtrieren entfernt. Das Produkt ist
in der organischen Schicht enthalten, welche mit vier 340 ml-
Portionen verdünnter Salzsäure gewaschen und dann über was
serfreiem Natriumsulfat getrocknet werden. Das organische
Lösungsmittel wird im Vakuum entfernt und ergibt ein Rohpro
dukt als viskosen Sirup.
Eine 300-g-Probe des Rohprodukts wird in 300 ml Xylol gelöst.
Zu dieser Lösung werden dann unter Rühren 600 ml Ethanol ge
geben, um 254 g der neuen löslichen kristallinen Modifikation
der Verbindung der Formel I mit einem Schmelzpunkt von 109°C
bis 111°C zu ergeben; sie zeigt nur einen Fleck bei der
Dünnschichtchromatographie.
Analyse berechnet für C₂₉H₃₅N₃O:
berechnet:
C = 78,9; H = 8,0; N = 9,5;
gefunden:
C = 78,7; H = 8,1; N = 9,6.
berechnet:
C = 78,9; H = 8,0; N = 9,5;
gefunden:
C = 78,7; H = 8,1; N = 9,6.
Dieses Produkt hat ein Röntgenbeugungsbild, erhalten unter
Verwendung von Cu-Kα-Strahlung, welches Beugungswinkel (2Θ)
wie nachstehend angegeben zeigt:
Die in Beispiel 1 hergestellte Verbindung wird zu einer
Schmelze erhitzt und dann wieder verfestigen gelassen. Das
erhaltene amorphe Material hat einen Schmelzpunkt von 59°C
bis 74°C. Die Dünnschichtchromatographie zeigt einen Fleck,
der mit demjenigen, der aus dem Produkt von Beispiel 1 erhal
ten wurde, identisch ist.
Die Röntgenbeugung zeigt ein Muster ohne bestimmte Merkmale,
was die amorphe Natur der in diesem Beispiel erhaltenen Ver
bindung bestätigt.
Die Titelverbindung wird gemäß dem allgemeinen Verfahren von
Beispiel 1 als bernsteinfarbenes Harz hergestellt, wo jedoch
die Reduktion des entsprechenden o-Nitroazabenzolzwischen
produkts unter Verwendung der katalytischen Hydrierung durch
geführt wird.
Analyse berechnet für C₃₀H₃₇N₃O:
berechnet:
C = 79,1; H = 8,2; N = 9,2;
gefunden:
C = 79,5; H = 8,5; N = 9,0.
Analyse berechnet für C₃₀H₃₇N₃O:
berechnet:
C = 79,1; H = 8,2; N = 9,2;
gefunden:
C = 79,5; H = 8,5; N = 9,0.
Die Titelverbindung wird hergestellt durch katalytische
Hydrierung der o-Nitroazobenzolverbindung, die in Beispiel 1
verwendet wird, als Feststoff von gebrochenem Weiß. Eine
100-g-Probe dieses Feststoffs wird aus 100 ml Isopropanol
umkristallisiert, wieder aus 100 ml 19 : 1 Isopropanol:Toluol
und schließlich aus 100 ml 9 : 1 Isopropanol:Toluol, um 78 g
der Titelverbindung zu ergeben, die bei 109°C bis 111°C
schmilzt und die gleiche kristalline Modifikation und Rönt
genbeugungsmuster hat wie die in Beispiel 1 hergestellte
Verbindung.
Die Titelverbindung wird gemäß dem allgemeinen Verfahren von
Beispiel 1 als bernsteinfarbenes Harz hergestellt.
Die Titelverbindung wird gemäß dem allgemeinen Verfahren von
Beispiel 1 als bernsteinfarbenes Harz hergestellt.
H-NMR-Daten in CDCl₃ (ppm): 0,8-0,9 Triplett; 1,3-1,42 Singulett; 7,14-7,30 Komplex; 7,44 Komplex; 7,48-7,64 meta- Dublett; 7,86 Komplex; 8,20-8,34 meta-Dublett; 11,38-11,46 Singulett; die Daten sind im Einklang mit der Titelverbindung.
H-NMR-Daten in CDCl₃ (ppm): 0,8-0,9 Triplett; 1,3-1,42 Singulett; 7,14-7,30 Komplex; 7,44 Komplex; 7,48-7,64 meta- Dublett; 7,86 Komplex; 8,20-8,34 meta-Dublett; 11,38-11,46 Singulett; die Daten sind im Einklang mit der Titelverbindung.
Die Titelverbindung wird gemäß dem allgemeinen Verfahren von
Beispiel 1 als bernsteinfarbenes Harz hergestellt, jedoch
wird die Reduktion der entsprechenden o-Nitroazobenzolver
bindung unter Verwendung der katalytischen Hydrierung durch
geführt.
Nach dem allgemeinen Verfahren der Beispiele 1 und 4 werden
die folgenden Verbindungen der Formeln
hergestellt.
Beispiel: | |
R | |
8 | |
-CH₂CH₂COOCH₃ | |
9 | -CH₂CH₂COOC₈H₁₇ |
Um einen UV-Absorptionsstabilisator in die wärmegehärteten
Acrylharzsysteme mit hohem Feststoffgehalt einzuverleiben,
muß der UV-Absorber in einem geeigneten organischen Lösungs
mittel löslich sein. Bisher haben Lösungsmittel wie die aro
matischen Kohlenwasserstoffe, Toluol oder Xylol eine reich
liche Löslichkeit für solche UV-Absorber geschaffen, sogar
das gering lösliche 2-(2-Hydroxy-3,5-di-α-cumylphenyl)-2H-
benzotriazol.
Jedoch bedeutet der aus Umweltgründen mögliche schrittweise
Rückzug solcher aromatischer Kohlenwasserstofflösungsmittel,
der Trend zu Überzügen mit höherem Feststoffgehalt und die
wachsenden Anforderungen der Automobilindustrie für Auto
lackierungen, welche bis zu zehn Jahren halten sollen, daß
ein löslicherer, nichtflüchtiger, jedoch ebenso wirksamer UV-
Absorber benötigt wird. Außerdem muß der UV-Absorber in ei
nem umweltfreundlicheren Lösungsmittel löslich sein.
Die verhältnismäßige Löslichkeit von fünf verschiedenen Benzo
triazol-UV-Absorbern in sieben typischen organischen Lösungs
mitteln wird gemessen, indem der Benzotriazol-UV-Absorber in
50 ml bis 100 ml von sieben verschiedenen Lösungsmitteln ge
löst wird, bis die Lösungen übersättigt sind. Dies wird daran
gesehen, wenn das Benzotriazol sich auf dem Boden des Test
kolbens abzusetzen beginnt. Die übersättigten Lösungen wer
den über Nacht ungestört stehengelassen. Dann wird die obere
Schicht dekantiert und filtriert. Das sich ergebende Filtrat,
welches das Benzotriazol gelöst in dem Lösungsmittel enthält,
wird dreifach auf Prozent Feststoffe getestet unter Verwen
dung der ASTM Testmethode D 2369-81. Je höher der gefundene
Prozentsatz an Feststoffen ist, zeigt er ein löslicheres
Benzotriazol an. Die Ergebnisse sind in der nachfolgenden
Tabelle angegeben.
Xylol ist ein gewöhnliches Lösungsmittel und gilt als HAP-
Lösungsmittel (Hazardous Air Pollutant = gefährlicher Luft
verschmutzer). Als solches wird Xylol rasch als Lösungsmit
tel für alle Typen von Überzügen schrittweise zurückgenommen
und ein geeigneter Lösungsmittelersatz wird zwingend vorge
schrieben.
Die anderen vorstehend in der Tabelle aufgezählten Lösungs
mittel sind gegenwärtig für eine Regelung oder Entfernung
nicht ins Auge gefaßt und werden in der Lack- bzw. Beschich
tungsindustrie üblicher.
Der neuerliche Trend in der Beschichtungsindustrie ist es,
die Feststoffüberzüge zu erhöhen, was sogar weniger Lösungs
mittel zum Auflösen des UV-Absorbers bedeutet. Das Bedürfnis
nach einem löslicheren, nichtflüchtigen UV-Absorber ist ganz
offensichtlich.
Die Prüfung der Daten in der Tabelle zeigt, daß der UV-Absor
ber A klarerweise wenig löslich in jedem der Lösungsmittel
ist als dies die UV-Absorber B bis D ist. Tatsächlich enthebt
die Löslichkeit des UV-Absorbers A in irgendeinem Lösungsmit
tel anders als Xylol im wesentlichen von der Berücksichtigung
als praktischer Stabilisator in den neuen lang andauernden
Automobillacken bzw. -beschichtungen unter den oben aufge
zählten Beschränkungen.
Die UV-Absorber B bis D haben auch die ausgezeichnete Nicht
flüchtigkeit, die vom UV-Absorber A gezeigt ist. Diese Kom
bination von Eigenschaften macht UV-Absorber B bis D zu ersten
Kandidaten zur Verwendung in Automobil-Langzeitüberzügen mit
hohem Feststoffgehalt.
Die amorphe Modifikation von 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-
octylphenyl)-2H-benzotriazol, hergestellt wie in Beispiel 2,
zeigt im wesentlichen die gleichen Löslichkeitsparameter in
den verschiedenen Lösungsmitteln, wie dies in Beispiel 10 für
die neue kristalline Modifikation von 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-
5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazol, hergestellt in Beispiel
1 oder 4, ersichtlich ist, mit der Ausnahme, daß die amorphe
Form von 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzo
triazol sich sehr viel leichter und rascher in den Nicht-HAP-
Lösungsmitteln löst. Dies ist ein deutlicher Vorteil zur Ver
wendung der amorphen Verbindung von Beispiel 2 bei prakti
schen Anwendungen.
Beschichtete Platten werden durch Sprühauftrag eines 1,8 bis
2,0 mil (0,072 bis 0,102 mm) dicken Films eines Modell HAPS-
elastisch nachgiebigen wärmegehärteten klaren Acrylmelamin
überzugs mit hohem Feststoffgehalt, enthaltend 2 Gew.-% eines
Teststabilisators, über einem handelsüblichen silbermetallic-
Basisüberzug, naß-auf-naß, direkt auf 4′′ × 12′′ (10,16 cm ×
30,48 cm) UNIPRIME-Platten von Advanced Coating Technology,
Inc., enthaltend eine elektrophoretische Beschichtungsgrundie
rung, hergestellt. Die überzogenen Platten werden dann
bei 250°F (121°C) während 30 Minuten eingebrannt. Die über
zogenen Platten werden dann in einem Ci-65-Bewitterungsappa
rat (Atlas Electric Devices) gemäß ASTM G 26-90 exponiert.
Der Glanz der exponierten Platten wird in Intervallen von
300 Stunden gemessen. Ein höherer Glanz zeigt einen größeren
Beschichtungsschutz an, der durch den löslichen Benzotriazol-
UV-Absorber gewährt wird.
Die vorliegenden löslichen Verbindungen der Formel I schaf
fen Überzüge bzw. Beschichtungen mit guter Glanzbeibehaltung
bzw. -erhaltung.
Da tatsächlich eine sehr viel höhere Konzentration an lösli
chem Benzotriazol zweckmäßig in den Überzug eingearbeitet
werden kann, schaffen die löslichen Benzotriazole eine Glanz
beibehaltung für das wärmegehärtete Acrylüberzugssystem mit
hohem Feststoffgehalt, weit jenseits derjenigen, die erhalten
wird, wo nur eine begrenzte Menge an Benzotriazol aufgrund von
Löslichkeitsbegrenzungen möglich ist.
Beschichtete Platten, hergestellt wie in Beispiel 12, werden
ebenfalls in einer QUV-Expositionsvorrichtung (Q Panel Co.)
gemäß ASTM G 53 exponiert. Der 20°-Glanz wird wiederum in
300-Stunden-Abständen gemessen, wobei höhere Glanzwerte ei
nen größeren Schutz der Beschichtung anzeigen.
Die vorliegenden löslichen Verbindungen der Formel I schaffen
Überzüge mit guter Glanzbeibehaltung.
Da tatsächlich eine viel höhere Konzentration an löslichem
Benzotriazol zweckmäßig in den Überzug eingearbeitet werden
kann, schaffen die löslichen Benzotriazole eine Glanzbeibe
haltung für das wärmegehärtete Acrylüberzugssystem mit hohem
Feststoffgehalt weit jenseits derjenigen, die erhalten wird,
wenn nur eine begrenzte Menge an Benzotriazol aufgrund der
Löslichkeitsbegrenzungen möglich ist.
Tatsächlich zeigen Platten, die mit einem löslichen Benzo
triazol-UV-Absorber der Formel I stabilisiert sind, eine
mindestens 50%ige Glanzbeibehaltung nach 3000 Stunden in der
QUV-Expositionsvorrichtung.
Überzogene Platten werden hergestellt durch Aufsprühen eines
1,8 bis 2,0 mil (0,036 bis 0,051 mm) dicken Films eines Mo
dell HAPS-elastisch nachgiebigen klaren Acrylurethanüberzugs
mit hohem Feststoffgehalt, enthaltend einen Teststabilisator,
über einem im Handel zugänglichen silbermetallic-Basisüberzug,
naß-auf-naß, direkt über 4′′ × 12′′ (10,16 cm × 30,48 cm) UNI
PRIME®-Platten, erhalten von Advanced Coating Technology,
Inc., enthaltend eine Elektrophoresegrundierung. Die überzoge
nen Platten werden dann bei 250°F (121°C) während 30 Minu
ten gebrannt. Die überzogenen Platten werden dann in einer
Ci-65-Bewitterungsvorrichtung (Atlas Electric Devices) gemäß
ASTM G 26-90 exponiert. Der Glanz der exponierten Platten wird
in Intervallen von 300 Stunden gemessen. Höherer Glanz zeigt
den größeren Schutz an, der dem Überzug durch den löslichen
Benzotriazol-UV-Absorber gewährt wurde.
Die vorliegenden löslichen Verbindungen der Formel I schaffen
Überzüge mit guter Glanzbeibehaltung.
Tatsächlich schaffen, da eine viel höhere Konzentration an
löslichem Benzotriazol in den Überzug bequem eingearbeitet werden
kann, die löslichen Benzotriazole eine Glanzbeibehaltung für
das wärmegehärtete Acrylüberzugssystem mit hohem Feststoff
gehalt, welche weit jenseits derjenigen liegt, die erhalten
wird, wenn nur eine begrenzte Menge an Benzotriazol aufgrund
von Löslichkeitsbegrenzungen möglich ist.
Beschichtete Platten, hergestellt wie in Beispiel 14, werden
auch in einem QUV-Expositionsapparat (Q Panel Co.) gemäß ASTM
G 53 exponiert. Der 20°-Glanz wird wiederum in Intervallen
von 300 Stunden gemessen, wobei die höheren Glanzwerte den
größeren Schutz des Überzugs anzeigen.
Die vorliegenden löslichen Verbindungen der Formel I schaffen
Überzüge mit guter Glanzbeibehaltung.
Da tatsächlich eine viel höhere Konzentration an löslichem
Benzotriazol zweckmäßig in den Überzug eingearbeitet werden
kann, schaffen die löslichen Benzotriazole eine Glanzbeibe
haltung für das wärmegehärtete Acrylüberzugssystem mit hohem
Feststoffgehalt weit jenseits derjenigen, die erhalten wird,
wenn nur eine begrenzte Menge an Benzotriazol aufgrund der
Löslichkeitsbegrenzungen möglich ist.
Beschichtete Quarzmikroskop-Objektträger werden hergestellt
durch Sprühauftrag eines 0,9 bis 1,0 mil (0,018 bis 0,026 mm)
dicken Films eines Modell HAPS-elastisch nachgiebigen klaren
wärmegehärteten Acrylmelaminüberzugs, enthaltend einen UV-
Testabsorber. Die beschichteten Quarzobjektträger werden dann
bei 250°F (121°C) während 30 Minuten gebrannt. Die optische
Dichte der Filme wird dann bei 345 nm gemessen.
Die überzogenen Quarzobjektträger werden dann in einem QUV-
Exponierungsapparat (Q Panel Co.) gemäß ASTM G 53 exponiert.
Die optische Dichte wird dann wiederum in Intervallen von
1000 Stunden gemessen, wobei höhere Werte optischer Dichte
einen größeren Schutz des Überzugs anzeigen.
Die vorliegenden löslichen Verbindungen der Formel I schaffen
Überzüge mit höheren Werten optischer Dichte in allen Inter
vallen.
Tatsächlich schaffen, da eine viel höhere Konzentration an
löslichem Benzotriazol in die Beschichtung zweckmäßig einge
arbeitet werden kann, die löslichen Benzotriazole eine UVA-
Retention bzw. -Beibehaltung für das wärmegehärtete Acryl
überzugssystem mit hohem Feststoffanteil, die weit jenseits
derjenigen liegt, die erhalten wird, wo nur eine begrenzte
Menge an Benzotriazol möglich ist aufgrund von Löslichkeits
begrenzungen.
Es werden überzogene Quarzmikroskop-Objektträger hergestellt
gemäß den Angaben von Beispiel 16. Diese überzogenen Objekt
träger werden auch in einem Ci-65-Bewitterungsmesser (Atlas
Electric Devices) gemäß ASTM G-26-90 exponiert. Die optische
Dichte wird in Intervallen von 1000 Stunden gemessen, wobei
die höheren Werte optischer Dichte einen größeren Schutz des
Überzugs anzeigen.
Die vorliegenden löslichen Verbindungen der Formel I schaffen
Werte mit höherer optischer Dichte in allen Intervallen.
Tatsächlich schaffen die löslichen Benzotriazole, da eine
viel höhere Konzentration des löslichen Benzotriazols zweck
mäßig in den Überzug eingearbeitet werden kann, UVA-Beibe
haltung für das wärmegehärtete Acrylüberzugssystem mit hohem
Feststoffgehalt, welche weit jenseits derjenigen liegt als
diejenige, wo nur eine begrenzte Menge von Benzotriazol auf
grund von Löslichkeitsbegrenzungen möglich ist.
Die Menge von UV-Absorber, welche in der nachstehenden Ta
belle gezeigt ist, wird in 2 ml Ethylacetat gelöst. 1 ml
dieser Lösung wird mit 9 ml einer wäßrigen Gelatinelösung
vermischt (umfassend 27,6 g/l Gelatine und 6,8 g/l einer 8
%igen wäßrigen Lösung von 4,8-Diisobutylnaphthalin-2-sul
fonsäure (Natriumsalz) als Benetzungsmittel). Dieses Gemisch
wird während 3 Minuten mittels Ultraschall emulgiert. 7,5 ml
dieser UV-Absorberemulsion werden mit 4,5 ml einer wäßrigen
Härtungsmittellösung (umfassend 0,24% 2-Hydroxy-4,6-dichlo
ro-s-triazin, Kaliumsalz) vermischt. 8 ml dieser Emulsion
werden auf eine Polyesterbasis (13 cm × 18 cm) gegossen. Der
Gießling wird während 7 Tagen bei Raumtemperatur gehärtet.
Ein UV-Spektrometer wird dann verwendet, um die Werte für
die maximale Dichte in dem Bereich von 330 bis 380 nm zu be
stimmen. Die Probe wird dann in einer Atlas-Expositionsein
heit exponiert mit einer Gesamtheit von 30, 60, 90 bzw. 120
kJ/cm², die maximale Dichte wird wieder gemessen und die Dif
ferenz (- ΔD in %) zwischen den entsprechenden Werten wird
berechnet. Je kleiner der ΔD-Wert ist, umso stabiler ist der
UV-Absorber.
Es ist klar, daß die UV-Absorber A, B und C nicht so licht
beständig sind wie die UV-Absorber D und E.
Verwendete Verbindungen:
A 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazol, Verbindung von Beispiel 4,
B 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-nonylphenyl)-2H-benzotriazol, Verbindung von Beispiel 3,
C 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-dodecylphenyl)-2H-benzotriazol, Verbindung von Beispiel 7,
D 2-(2-Hydroxy-3,5-di-α-cumylphenyl)-2H-benzotriazol, im Han del erhältlich unter der Bezeichnung Tinuvin® 900 von der Ciba-Geigy Corporation (als Vergleich); und
E Bis-(1-Octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-sebacat, im Handel erhältlich unter der Bezeichnung Tinuvin® 123 von der Ciba-Geigy Corporation.
A 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazol, Verbindung von Beispiel 4,
B 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-nonylphenyl)-2H-benzotriazol, Verbindung von Beispiel 3,
C 2-(2-Hydroxy-3-α-cumyl-5-dodecylphenyl)-2H-benzotriazol, Verbindung von Beispiel 7,
D 2-(2-Hydroxy-3,5-di-α-cumylphenyl)-2H-benzotriazol, im Han del erhältlich unter der Bezeichnung Tinuvin® 900 von der Ciba-Geigy Corporation (als Vergleich); und
E Bis-(1-Octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-sebacat, im Handel erhältlich unter der Bezeichnung Tinuvin® 123 von der Ciba-Geigy Corporation.
Ein klarer Überzug wird hergestellt, indem 60 Teile Acrylpoly
ol mit 40 Teilen Resimene® 747 (Hexamethoxymethylmelamin,
Monsanto) zusammen mit einem sauren Katalysator und Fließhil
fen vermischt werden. Der Basisüberzug ist ein Acrylmelamin.
Der schwarze Basisüberzug wird auf etwa 0,6 mil Dicke aufge
sprüht. Der klare Überzug wird auf den schwarzen Basisüberzug
aufgesprüht während der Basisüberzug noch feucht ist, um einen
klaren Überzug von 2 mil Dicke zu ergeben.
Der Basisüberzug enthält keinen UV-Absorber oder gehindertes
Amin. Die Löslichkeit der Verbindung D und Verbindung A wird
maximiert durch Zugabe der UV-Absorber-Testverbindung zu dem
klaren Überzug, der hinreichend Butylacetatlösungsmittel ent
hält, so daß der klare Überzug eine Viskosität hat, die er
laubt, daß er versprüht wird.
Ebenfalls werden zu Vergleichszwecken eine nicht stabilisier
te Formulierung und eine Formulierung, welche die Verbindung
A enthält, bei dem normalen Spiegel von 3% oder 4% mit oder
ohne gehindertes Amin getestet.
Bei diesem Test wird ein silbermetallic-Acryl/Melaminbasis
überzug, der keinen Lichtstabilisator enthält, verwendet.
Die Testverbindungen A bis D werden zu einem wärmegehärteten Modell-Acryl/
Melaminharz oder Acryl/Urethanharz mit hohem Feststoffgehalt zugesetzt, die als der
klare Überzug unter Verwendung von Butylacetat (ein Nicht-
HAPS-Lösungsmittel) verwendet wird.
19. Unter Verwendung der Testmethode 1 in einem wärmegehär
teten klaren Acrylüberzug/schwarzer Basisüberzug mit hohem
Feststoffgehalt werden die folgenden Werte für 20°-Glanzbei
behaltung nach Exposition der Proben in einem QUV (FS40-Lam
pen) während der in der folgenden Tabelle angegebenen Stun
den erhalten.
a Der Wert für Probe II war noch 65 nach 3770 Stunden.
Die maximale Menge der Verbindung A, welche in dem Harz ge
löst werden kann, beträgt 4 Gew.-% und die maximale Menge der
Verbindung D, welche in dem Harz gelöst werden kann, beträgt
2,27 Gew-%.
Aus diesen Daten ist ersichtlich, daß die Verbindung A in
dem Harzsystem löslicher ist und daß sie der Verbindung D
nach dem Stand der Technik weit überlegen ist, welche in dem
Harzsystem eine begrenzte Löslichkeit hat, wobei 20° Glanz
des Harzsystems aufrechterhalten blieben, wenn sie allein
verwendet wurde oder besonders, wenn sie in Verbindung mit
einem gehinderten Aminstabilisator verwendet wurde.
Tatsächlich kann die Verbindung A den Überzug für mindestens
3770 Stunden schützen, während das Maximum, was die Verbin
dung D bieten kann, 3162 Stunden ist. Dies ist eine 20%ige
bessere 20°-Glanzretention bzw. Glanzbeibehaltung, welche
durch die Verbindung A geboten wird.
Bei Verwendung in Verbindung mit Verbindung E, gibt die Ver
bindung A ebenfalls eine 21% bessere 20°-Glanzbeibehaltung
nach 4602 Stunden Exposition als dies die Verbindung D mit
Verbindung E gewährt.
20. Unter Verwendung der Testmethode 2 in einem wärmegehär
teten klaren Acrylüberzug/schwarzer Basisüberzug mit hohem
Feststoffgehalt werden die folgenden Werte für 60°- und 20°-
Glanzbeibehaltung und Bildunterscheidung nach Exposition der
Proben in einem Xenonbogen (CAM 180) während der in den fol
genden Tabellen angegebenen Stunden erhalten.
Bei dieser Testmethode wird der UV-Absorber in einem Nicht-
HAPS-Lösungsmittel Butylacetat gelöst und dann zu dem Harz
system zugesetzt, wie dies in der Industrie normalerweise ge
tan wird. Die begrenzte Löslichkeit der Verbindung D in Butylacetat erlaubt,
daß nur 0,24 Gew.-% der Verbindung D auf Basis der Harzfest
stoffe in dem Überzug vorhanden sind. Die größere Löslichkeit
der Verbindung D in Butylacetat erlaubt es, daß 1,2 Gew.-%
der Verbindung A, basierend auf den Harzfeststoffen, in dem
Überzug vorhanden sind. Die noch größere Löslichkeit der Ver
bindungen B und C in Butylacetat erlaubt es, daß 3 Gew.-%
der Verbindung B oder Verbindung C, basierend auf Harzfest
stoffen, in dem Überzug vorhanden sind.
In jedem Falle boten die löslicheren Verbindungen A, B oder
C eine weit größere 60°- oder 20°-Glanzbeibehaltung und weit
größere Bildunterscheidung als die weniger lösliche Verbin
dung D.
21. Unter Verwendung der Testmethode 2 in einem Modell 2K
Acryl/Urethan-Oberflächenlack bzw. -Anstrich werden die folgenden
Werte für 20°-Glanzbeibehaltung und Bildunterscheidung nach
Exposition der Proben in einem Xenonbogen (CAM 180) während
der in den folgenden Tabellen angegebenen Stunden erhalten.
Bei dieser Testmethode wird der UV-Absorber in einem Nicht-
HAPS-Lösungsmittel Butylacetat gelöst und dann zu dem Harz
system gegeben, wie dies normalerweise in der Industrie ge
tan wird. Die begrenzte Löslichkeit der Verbindung D in Bu
tylacetat erlaubt es, daß nur 0,24 Gew.-% der Verbindung D,
basierend auf Harzfeststoffen, in dem Überzug vorliegen. Die
größere Löslichkeit der Verbindung A in Butylacetat erlaubt,
daß 1,2 Gew.-% der Verbindung A, basierend auf Harzfeststof
fen, in dem Überzug vorliegen. Die noch größere Löslichkeit
der Verbindungen B und C in Butylacetat erlaubt es, daß 3
Gew.-% der Verbindung B oder Verbindung C, basierend auf
Harzfeststoffen, in dem Überzug vorliegen.
In jedem Fall ergaben die löslicheren Verbindungen A, B oder
C weit größere 20°-Glanzbeibehaltung und eine weit größere
Bildunterscheidung als die weniger lösliche Verbindung D.
Claims (16)
1. Eine Polymerfilmzusammensetzung, umfassend
- (a) eine elektrophoretische Beschichtungsgrundierung an haftend an ein Metallsubstrat;
- (b) einen Basis- oder Farbüberzug, der an dem elektropho retischen Überzug haftet und der einen filmbildenden Binder und ein organisches Pigment oder ein anorgani sches Pigment oder eine Mischung davon umfaßt;
- (c) einen klaren Überzug, der an dem Basisüberzug anhaf tet und der einen filmbildenden Binder umfaßt und
- (d) zwischen 1 Gew.-% und 20 Gew.-% des filmbildenden
Binders des Überzugs, der das Benzotriazol enthält,
von wenigstens einem Benzotriazol-UV-Absorber der
Formel I
worin
R₁ Wasserstoff oder Chloro ist
R₂ Alkyl mit 4 bis 28 Kohlenstoffatomen oder -CmH2m-COOR₄ ist, wobei m = 1 bis 4 ist und R₄ Wasserstoff oder Alkyl mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen ist, und
R₃ α-Cumyl ist;
enthalten sowohl in dem Basisüberzug oder dem klaren
Überzug oder in beiden, Basisüberzug und klarem Überzug.
2. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, welche eine zusätzliche
Schicht zwischen der elektrophoretischen Beschichtungs
grundierung und dem Basis- oder Farbüberzug enthält, wobei
die zusätzliche Schicht umfaßt:
- (i) einen filmbildenden Binder und ein organisches Pig ment oder ein anorganisches Pigment oder eine Mischung davon und
- (ii) wenigstens einen löslichen und thermisch stabilen Ben zotriazol-UV-Absorber der Formel I gemäß Anspruch 1.
3. Zusammensetzung gemäß Anspruch 2, worin die zusätzliche
Schicht auch einen gehinderten Amin-Lichtstabilisator ent
hält.
4. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin die Menge der Kom
ponente (d) zwischen 1 Gew.-% und 5 Gew.-% des filmbilden
den Binders beträgt.
5. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin in der Komponente
(d) R₁ Wasserstoff ist, R₂ ist Alkyl mit 8 bis 12 Koh
lenstoffatomen oder -CmH2m-COOR₄, wobei m = 2 ist und
R₄ Alkyl mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen ist, und R₃ ist
α-Cumyl.
6. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin in der Komponente
(d) R₁ Wasserstoff ist, R₂ ist tert-Octyl, Nonyl oder
Dodecyl, und R₃ ist α-Cumyl.
7. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin die Komponente (d)
in den klaren Überzug einverleibt ist.
8. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin der filmbildende
Binder ein wärmegehärtetes Acryl/Melamin- oder Acryl/
Urethanharz mit hohem Feststoffgehalt ist.
9. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, welche zusätzlich ent
weder in dem Basisüberzug oder dem klaren Überzug oder in
beiden, Basisüberzug und klaren Überzug, einen gehinder
ten Amin-Lichtstabilisator enthält.
10. Stabilisierte Zusammensetzung, welche umfaßt:
- (a) ein Registriermaterial, und
- (b) wenigstens einen Benzotriazol-UV-Absorber der Formel I
worin
R₁ Wasserstoff oder Chloro ist
R₂ Alkyl mit 4 bis 28 Kohlenstoffatomen oder -CmH2m-COOR₄ ist, wobei m = 1 bis 4 ist und R₄ Wasserstoff oder Alkyl mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen ist, und
R₃ α-Cumyl ist.
11. Zusammensetzung gemäß Anspruch 10, worin in Komponente (b)
R₁ Wasserstoff ist, R₂ ist Alkyl mit 8 bis 12 Kohlen
stoffatomen oder -CmH2m-COOR₄, wobei m = 2 ist und
R₄ Alkyl mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen ist, und R₃
ist α-Cumyl.
12. Zusammensetzung gemäß Anspruch 10, worin in der Komponen
te (b) R₁ Wasserstoff ist, R₂ ist tert-Octyl, Nonyl
oder Dodecyl, und R₃ ist α-Cumyl.
13. Zusammensetzung gemäß Anspruch 10, worin das Registrier
material für Tintenstrahldruck geeignet ist.
14. Zusammensetzung gemäß Anspruch 10, worin das Registrier
material ein photographisches Material ist.
15. Zusammensetzung gemäß Anspruch 10, worin das Registrier
material für Farbstoffdiffusionstransferdruck geeignet
ist.
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|
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Families Citing this family (90)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
CH693032A5 (de) * | 1996-11-07 | 2003-01-31 | Ciba Sc Holding Ag | Benzotriazol-UV-Absorptionsmittel mit erhöhter Haltbarkeit. |
US6166218A (en) * | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
US5977219A (en) * | 1997-10-30 | 1999-11-02 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
EP0975421B1 (de) | 1997-04-15 | 2014-06-18 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von wenig staubenden stabilisatoren |
DE19723779A1 (de) * | 1997-06-06 | 1998-12-10 | Agfa Gevaert Ag | Inkjet-System |
US6383716B1 (en) | 1997-08-22 | 2002-05-07 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Stable photosensitive resin composition |
JP3448851B2 (ja) * | 1997-11-28 | 2003-09-22 | タキロン株式会社 | 添加剤含有樹脂成形品及びその製造方法 |
US5948150A (en) * | 1998-05-05 | 1999-09-07 | Hewlett-Packard Company | Composition to improve colorfastness of a printed image |
WO2000014126A1 (de) * | 1998-09-09 | 2000-03-16 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Photostabiles chromophor-system |
EP1099982B1 (de) * | 1999-02-19 | 2009-04-29 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Stabile lichtempfindliche harzzusammensetzung |
DE60003748T2 (de) * | 1999-04-23 | 2004-03-18 | Nippon Mitsubishi Oil Corp. | UV-absorbierende Harzzusammensetzung |
US6187845B1 (en) * | 1999-05-03 | 2001-02-13 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, red-shifted, photostable benzotriazole UV absorbers and laminated articles derived therefrom |
US6245915B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Asymmetrical bisbenzotriazoles substituted by a perfluoroalkyl moiety |
DE60028755T2 (de) * | 1999-05-03 | 2007-06-14 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Stabilisierte klebzusammensetzung mit hochlöslichen, rotverschobenen, photostabilen benzotriazolen uv-absorbente und daraus gewonnene laminerte gegenstände |
US6268415B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-07-31 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, photostable benzotriazole UV absorbers and laminated articles derived therefrom |
AU774383B2 (en) * | 1999-07-12 | 2004-06-24 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Use of mixtures of micropigments for preventing tanning and for lightening skin and hair |
BR0108013B1 (pt) * | 2000-02-01 | 2011-05-03 | método de proteção de conteúdos contra os efeitos prejudiciais de radiação ultravioleta. | |
US6451887B1 (en) * | 2000-08-03 | 2002-09-17 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazoles containing α-cumyl groups substituted by heteroatoms and compositions stabilized therewith |
US6392056B1 (en) | 2000-08-03 | 2002-05-21 | Ciba Specialty Chemical Corporation | 2H-benzotriazole UV absorders substituted with 1,1-diphenylalkyl groups and compositions stabilized therewith |
US6387992B1 (en) | 2000-11-27 | 2002-05-14 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Substituted 5-heteroaryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2h-benzotriazole UV absorbers, a process for preparation thereof and compositions stabilized therewith |
US6649770B1 (en) * | 2000-11-27 | 2003-11-18 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Substituted 5-aryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole UV absorbers, compositions stabilized therewith and process for preparation thereof |
CA2431999C (en) * | 2001-01-16 | 2010-04-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Ink-jet ink and recording material |
JP4993421B2 (ja) * | 2001-06-07 | 2012-08-08 | 株式会社Adeka | 合成樹脂組成物 |
US20050171253A1 (en) * | 2002-02-19 | 2005-08-04 | Andrews Stephen M. | Containers or films comprising hydroxyphenlbenzotriazole uv absorbers for protecting contents against the effects of uv radiation |
US20050209252A1 (en) * | 2002-03-29 | 2005-09-22 | Che-Ming Teng | Cancer treatment |
WO2003105538A1 (en) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Siba Spelcialty Chemicals Holding Inc. | Electroluminescent device |
KR100950626B1 (ko) * | 2002-06-24 | 2010-04-01 | 메르크 파텐트 게엠베하 | Uv-안정화 입자 |
DE10228186A1 (de) * | 2002-06-24 | 2004-01-22 | Merck Patent Gmbh | UV-stabilisierte Partikel |
DE10243438A1 (de) * | 2002-09-18 | 2004-03-25 | Merck Patent Gmbh | Oberflächenmodifizierte Effektpigmente |
CN100358952C (zh) * | 2002-12-20 | 2008-01-02 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 喷墨油墨及记录材料 |
AU2003303818A1 (en) * | 2003-01-29 | 2004-08-23 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Ink-jet ink and recording material |
KR101114272B1 (ko) | 2003-02-26 | 2012-03-28 | 시바 홀딩 인크 | 수 혼화성의 입체적으로 속박된 하이드록시 치환된 알콕시아민 |
US7153588B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-12-26 | 3M Innovative Properties Company | UV resistant naphthalate polyester articles |
US6974850B2 (en) * | 2003-05-30 | 2005-12-13 | 3M Innovative Properties Company | Outdoor weatherable photopolymerizable coatings |
JP4018674B2 (ja) * | 2003-08-04 | 2007-12-05 | キヤノン株式会社 | インク用被記録媒体の製造方法 |
WO2005032835A1 (en) | 2003-10-03 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film B.V. | Recording medium |
WO2005032833A1 (en) | 2003-10-03 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film B.V. | Recording medium |
DE10358092A1 (de) * | 2003-12-10 | 2005-07-14 | Merck Patent Gmbh | Oberflächenmodifizierte Partikel |
US20060083940A1 (en) * | 2004-04-30 | 2006-04-20 | Solomon Bekele | Ultraviolet light absorbing composition |
US20060008588A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-01-12 | Marc Chilla | Process for the production of multi-layer coatings |
US7595011B2 (en) | 2004-07-12 | 2009-09-29 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized electrochromic media |
US7968151B2 (en) * | 2004-07-12 | 2011-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of multi-layer coatings |
US20060068116A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Marc Chilla | Process for the production of multi-layer coatings in light metallic color shades |
US8865262B2 (en) * | 2004-09-27 | 2014-10-21 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Process for producing multi-layer coatings in light metallic color shades |
EP1794220A1 (de) * | 2004-09-30 | 2007-06-13 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Verfahren zum nachfüllen oder einführen von lichtstabilisatoren |
US20060122293A1 (en) * | 2004-12-03 | 2006-06-08 | Rick Wilk | Ultraviolet light absorber stabilizer combination |
US20060134334A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Marc Chilla | Process for the production of primer surfacer-free multi-layer coatings |
US20060177639A1 (en) * | 2005-02-04 | 2006-08-10 | Elzen Kerstin T | Process for the production of primer surfacer-free multi-layer coatings |
US7910211B2 (en) * | 2005-06-20 | 2011-03-22 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of multi-layer coatings |
US20070071901A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Giannoula Avgenaki | Process for the production of multi-layer coatings |
TWI434073B (zh) * | 2006-01-06 | 2014-04-11 | Sumitomo Chemical Co | 多層光擴散板 |
JP4821597B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2011-11-24 | 住友化学株式会社 | 多層光拡散板 |
US20070238814A1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Basf Corporation | Method of making coating compositions |
US20070260012A1 (en) * | 2006-05-05 | 2007-11-08 | Algrim Danald J | HAPs free coating composition and film thereof |
KR100836571B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-06-10 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한반도체 소자 |
TW200829637A (en) * | 2007-01-03 | 2008-07-16 | Double Bond Chemical Ind Co Ltd | Liquid containing 2-(-hydroxyl-3-α-cumylphenyl-5-tertiery-octylphenyl) -2-hydrogen-benzotriazole |
JP5419871B2 (ja) | 2007-06-29 | 2014-02-19 | バーゼル・ポリオレフィン・イタリア・ソチエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | 非フェノール系安定剤を含む照射ポリオレフィン組成物 |
US20090047092A1 (en) * | 2007-08-15 | 2009-02-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated fasteners |
US20100056680A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Amorphous compound and stabilizer for polymers containing the amorphous compound |
US7847103B2 (en) * | 2008-10-04 | 2010-12-07 | Chia-Hu Chang | Ultraviolet light absorbing ketones of 2-(2-hydroxyphenyl) benzotriazole |
WO2010072592A1 (en) | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Basf Se | Method of improving scratch resistance and related products and uses |
US8268202B2 (en) | 2009-07-07 | 2012-09-18 | Basf Se | Potassium cesium tungsten bronze particles |
FR2955038B1 (fr) * | 2010-01-11 | 2012-05-11 | Commissariat Energie Atomique | Nanoparticules anti-uv |
US20120329885A1 (en) * | 2011-06-23 | 2012-12-27 | Chia-Hu Chang | Ultraviolet light absorbing compounds based on benzyl substituted 2-(2- hydroxyphenyl) benzotriazoles |
JP5879170B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2016-03-08 | 積水化学工業株式会社 | 熱硬化性フラン樹脂組成物及びこれを用いたフラン樹脂積層体 |
US9394244B2 (en) | 2012-10-23 | 2016-07-19 | Basf Se | Ethylenically unsaturated oligomers |
US20160040300A1 (en) * | 2013-03-16 | 2016-02-11 | Prc- Desoto International, Inc. | Azole Compounds as Corrosion Inhibitors |
CA2923385C (en) | 2013-09-27 | 2023-04-04 | Basf Se | Polyolefin compositions for building materials |
US10294423B2 (en) | 2013-11-22 | 2019-05-21 | Polnox Corporation | Macromolecular antioxidants based on dual type moiety per molecule: structures, methods of making and using the same |
TWI685524B (zh) | 2013-12-17 | 2020-02-21 | 美商畢克美國股份有限公司 | 預先脫層之層狀材料 |
BR112018001130B1 (pt) | 2015-07-20 | 2022-06-14 | Basf Se | Artigo retardador de chama, composição retardadora de chama, e, uso de uma composição |
CN105694099B (zh) * | 2016-03-09 | 2017-03-15 | 天津利安隆新材料股份有限公司 | 一种用于聚合物的添加剂 |
KR102588712B1 (ko) | 2017-06-02 | 2023-10-17 | 코베스트로 (네덜란드) 비.브이. | 광섬유용의 내열성 방사선 경화성 코팅 |
JP7364239B2 (ja) | 2017-11-03 | 2023-10-18 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. | 液体放射線硬化性sap組成物でコーティングされたファイバーを含む水遮断システム |
KR20210018337A (ko) | 2018-06-01 | 2021-02-17 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 광섬유 코팅용 방사선 경화성 조성물 및 이로부터 제조된 코팅 |
CN112771108B (zh) | 2018-08-22 | 2023-05-05 | 巴斯夫欧洲公司 | 稳定的滚塑聚烯烃 |
US11964906B2 (en) | 2018-08-30 | 2024-04-23 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber |
EP3867207A1 (de) | 2018-12-03 | 2021-08-25 | Ms Holding B.V. | Gefüllte strahlungshärtbare zusammensetzungen zur beschichtung von optischen fasern und daraus hergestellte beschichtungen |
US20230220239A1 (en) | 2019-03-18 | 2023-07-13 | Basf Se | Uv curable compositions for dirt pick-up resistance |
US10894858B2 (en) | 2019-05-24 | 2021-01-19 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
WO2020239563A1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
EP3976877B1 (de) | 2019-05-31 | 2023-07-05 | The Procter & Gamble Company | Verfahren zur herstellung eines ablenkelementes |
US20220282064A1 (en) | 2019-07-30 | 2022-09-08 | Basf Se | Stabilizer composition |
CN114207063B (zh) | 2019-07-31 | 2023-07-25 | 科思创(荷兰)有限公司 | 具有多功能长臂低聚物的涂覆光纤用辐射固化组合物 |
CN115427853A (zh) | 2020-04-03 | 2022-12-02 | 科思创(荷兰)有限公司 | 自我修复光纤和用于制造其的组合物 |
EP4126542A1 (de) | 2020-04-03 | 2023-02-08 | Covestro (Netherlands) B.V. | Mehrschichtige optische vorrichtungen |
CN119032070A (zh) | 2022-04-21 | 2024-11-26 | 科思创(荷兰)有限公司 | 用于涂覆光纤的低挥发性可辐射固化组合物 |
WO2023209004A1 (en) | 2022-04-29 | 2023-11-02 | Ineos Styrolution Group Gmbh | Acrylonitrile styrene acrylate copolymer composition with improved uv resistance |
WO2023209007A1 (en) | 2022-04-29 | 2023-11-02 | Ineos Styrolution Group Gmbh | Acrylonitrile styrene acrylate (asa) copolymer composition having good uv resistance with reduced uv absorber content |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH410968A (de) * | 1961-06-16 | 1966-04-15 | Geigy Ag J R | Verfahren zur Herstellung von substituierten 2-(2'-Hydroxyphenyl)-benztriazolverbindungen |
JPS4967378A (de) * | 1972-11-02 | 1974-06-29 | ||
JPS565279B2 (de) * | 1974-08-15 | 1981-02-04 | ||
US4355071A (en) * | 1978-05-03 | 1982-10-19 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Clear coat/color coat finish containing ultraviolet light stabilizer |
EP0006564B1 (de) * | 1978-06-26 | 1981-12-30 | Ciba-Geigy Ag | 2-(2-Hydroxy-3.5-disubstituiertes-phenyl)-2H-benzotriazol und damit stabilisierte Mischungen |
US4278589A (en) * | 1978-06-26 | 1981-07-14 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US4283327A (en) * | 1979-01-25 | 1981-08-11 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(2-Hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole stabilized compositions |
US4315848A (en) * | 1979-05-10 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US4347180A (en) * | 1979-05-16 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
EP0036117B1 (de) * | 1980-03-14 | 1986-02-05 | Spezial-Papiermaschinenfabrik August Alfred Krupp GmbH & Co | Druckempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
US4559293A (en) * | 1983-04-08 | 1985-12-17 | Kimoto & Co., Ltd. | Photosensitive recording material developable with aqueous neutral salt solution |
DE3328771A1 (de) * | 1983-08-10 | 1985-02-28 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von sauerstoff enthaltenden verbindungen |
US4675352A (en) * | 1985-01-22 | 1987-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
US4587346A (en) * | 1985-01-22 | 1986-05-06 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
US4760148A (en) * | 1985-09-03 | 1988-07-26 | Ciba-Geigy Corporation | 5-aralkyl substituted 2H-benzotriazoles and stabilized compositions |
JPS62262777A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Kansai Paint Co Ltd | 防食塗膜形成法 |
US5096977A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-17 | Atochem North America, Inc. | Process for preparing polymer bound UV stabilizers |
US5240975A (en) * | 1988-04-11 | 1993-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid substituted 2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions |
US4973701A (en) * | 1988-04-11 | 1990-11-27 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid substituted 2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing the liquid mixtures |
US5095062A (en) * | 1988-04-11 | 1992-03-10 | Ciba-Geigy Corporation | Stabilized compositions containing liquid substituted 2H-benzotriazole mixtures |
US5045396A (en) * | 1988-11-23 | 1991-09-03 | Ppg Industries, Inc. | UV resistant primer |
US5199979A (en) * | 1988-11-25 | 1993-04-06 | Ppg Industries, Inc. | UV resistant, abrasion resistant coatings |
US5098477A (en) * | 1988-12-14 | 1992-03-24 | Ciba-Geigy Corporation | Inks, particularly for ink printing |
DE58907949D1 (de) * | 1988-12-14 | 1994-07-28 | Ciba Geigy Ag | Aufzeichnungsmaterial für Tintenstrahldruck. |
DE59208921D1 (de) * | 1991-06-03 | 1997-10-30 | Ciba Geigy Ag | UV-Absorber enthaltendes photographisches Material |
US5354794A (en) * | 1993-02-03 | 1994-10-11 | Ciba-Geigy Corporation | Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with S-triazine UV absorbers |
DE4404081A1 (de) * | 1994-02-09 | 1995-08-10 | Basf Ag | UV-stabilisierte Polyoxymethylenformmassen |
EP0698637A3 (de) * | 1994-08-22 | 1996-07-10 | Ciba Geigy Ag | Mit ausgewählten 5-substituierten Benzotriazol-UV-Absorbern stabilisierte Polyurethane |
US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
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1995
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