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DE112020001216T5 - Merkmale der Waferausrichtung - Google Patents

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DE112020001216T5
DE112020001216T5 DE112020001216.6T DE112020001216T DE112020001216T5 DE 112020001216 T5 DE112020001216 T5 DE 112020001216T5 DE 112020001216 T DE112020001216 T DE 112020001216T DE 112020001216 T5 DE112020001216 T5 DE 112020001216T5
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DE
Germany
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wafer
replication
liquid droplets
optical elements
features
Prior art date
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Pending
Application number
DE112020001216.6T
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English (en)
Inventor
Nicola Spring
Uros Markovic
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ams Sensors Singapore Pte Ltd
Original Assignee
Ams Sensors Singapore Pte Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ams Sensors Singapore Pte Ltd filed Critical Ams Sensors Singapore Pte Ltd
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Abstract

Ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von optischen Elementen umfasst das Bereitstellen eines ersten Wafers mit unteren Ausrichtungsmerkmalen, die auf einer ersten Oberfläche des Substrats angeordnet sind, das Bereitstellen eines zweiten Wafers, der auf einer Replikationsseite eine Vielzahl von Replikationsabschnitten umfasst, wobei jeder Replikationsabschnitt eine Oberflächenstruktur eines der optischen Elemente definiert, wobei der erste Wafer weiterhin obere Ausrichtungsmerkmale umfasst, die auf der Replikationsseite hervorstehen, weiter als ein äußerstes Merkmal der Replikationsabschnitte vorsteht, Flüssigkeitströpfchen auf der ersten Seite des ersten Wafers ablagert und den ersten Wafer und die erste Seite des ersten Wafers zusammenbringt, wobei die oberen Ausrichtungsmerkmale die Flüssigkeitströpfchen auf den unteren Ausrichtungsmerkmalen auf der ersten Seite des ersten Wafers berühren und dadurch bewirken, dass sich der zweite Wafer durch Kapillarwirkung mit dem zweiten Wafer ausrichtet.

Description

  • TECHNIKBEREICH
  • Diese Offenbarung bezieht sich auf mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale.
  • HINTERGRUND
  • Optische Geräte, die einen oder mehrere optische Strahlungsemitter und einen oder mehrere optische Sensoren enthalten, können in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, wie z. B. Abstandsmessung, Näherungssensorik, Gestenerkennung und Bildgebung. Kleine optoelektronische Module wie Bildgebungsgeräte und Lichtprojektoren verwenden optische Baugruppen, die Linsen oder andere optische Elemente enthalten, die entlang der optischen Achse des Geräts gestapelt sind, um die gewünschte optische Leistung zu erzielen. Replizierte optische Elemente umfassen transparente diffraktive und/oder refraktive optische Elemente zur Beeinflussung eines optischen Strahls. In einigen Anwendungen können solche optoelektronischen Module in den Gehäusen verschiedener Unterhaltungselektronik, wie z. B. mobilen Computergeräten, Smartphones oder anderen Geräten, enthalten sein.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Die vorliegende Offenbarung beschreibt optische und optoelektronische Baugruppen, die Mikro-Abstandshalter enthalten, sowie Verfahren zur Herstellung solcher Baugruppen.
  • Das Substrat kann ein „Wafer“ oder ein anderes Basiselement sein, dem eine zusätzliche Struktur hinzugefügt wurde, z. B. mit einer daran haftenden Struktur aus gehärtetem Replikationsmaterial, die eine Oberfläche der mehreren optischen Elemente definiert, mit einigen lithografisch hinzugefügten oder entfernten Merkmalen (wie Öffnungen usw.) oder mit einer anderen Struktur. Das Substrat kann aus einem beliebigen Material oder einer Materialkombination bestehen.
  • Die optischen Elemente können alle Elemente sein, die das einfallende Licht beeinflussen, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Linsen/Kollimatoren, Mustergeneratoren, Ablenker, Spiegel, Strahlteiler, Elemente zur Zerlegung der Strahlung in ihre spektrale Zusammensetzung usw. sowie Kombinationen davon. Sowohl eine nachgebildete Struktur auf einer Seite eines Substrats als auch ein Ensemble von zwei ausgerichteten nachgebildeten optischen Elementen auf zwei Seiten eines Substrats werden als „optisches Element“ bezeichnet.
  • Das Werkzeug (oder „Replikationswerkzeug“) kann aus einem ersten, harten Material bestehen, das eine starre Rückplatte bildet, und aus einem zweiten, weicheren Materialteil (Replikationsteil), der sowohl den/die Kontaktabstandshalterteil(e) als auch die Replikationsabschnitte bildet. Im Allgemeinen kann/können der/die Kontaktabstandshalter aus demselben Material bestehen wie der Teil des Werkzeugs, der die Replikationsabschnitte bildet, und kann/können lediglich strukturelle Merkmale des Werkzeugs sein (keine zusätzlichen Elemente). Alternativ können die Kontaktabstandshalterabschnitte ein zusätzliches Material umfassen, z. B. eine Beschichtung aus einem weichen und/oder klebenden Material auf einer äußersten Oberfläche.
  • Alternativ zu einem Material mit geringer Steifigkeit wie PDMS können die Kontaktabstandshalter auch einen Klebstoff, z. B. eine Klebeschicht, enthalten. Die Verwendung eines Materials mit geringer Steifigkeit für den gesamten Replikationsabschnitt des Werkzeugs ist hinsichtlich der Herstellung vorteilhaft, da kein separater Schritt zum Hinzufügen der Kontaktabstandshalter oder einer Beschichtung derselben erforderlich ist. Der gesamte Replikationsabschnitt kann in einer einzigen Form durch Replikation (Gießen, Prägen usw.) von einer Vorlage oder Untervorlage hergestellt werden, die auch den/die Kontaktabstandshalterabschnitt(e) enthält.
  • Die Kontaktabstandshalterabschnitte liegen während der Replikation an dem Substrat an, wobei sich kein Material zwischen den Kontaktabstandshalterabschnitten und dem Substrat befindet. Die Kontaktabstandshalterabschnitte können zusammenhängend sein oder eine Vielzahl diskreter Abschnitte um den Umfang herum umfassen oder über einen großen Teil des Umfangs und/oder ein Inneres der Replikationsfläche verteilt sein. Mit anderen Worten, der/die Kontaktabstandshalterabschnitt(e) kann/können in jeder beliebigen Konfiguration vorliegen, die es dem Replikationswerkzeug ermöglicht, auf dem Substrat aufzuliegen. Beispielsweise ist die Verteilung des/der Kontaktabstandshalterabschnitte(s) so, dass sich Kontaktabstandshalterabschnitte auf beiden Seiten jeder in der Ebene verlaufenden Linie durch den Massenschwerpunkt des Werkzeugs befinden. Die Abstandshalter sind so angeordnet und konfiguriert, dass, wenn das Werkzeug auf dem Substrat aufliegt, die Dicke (die z-Dimension senkrecht zur Substrat- und Werkzeugebene) durch die Abstandshalterabschnitte definiert ist.
  • In einigen Ausführungsformen umfasst ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl optischer Elemente das Bereitstellen eines ersten Wafers mit unteren Ausrichtungsmerkmalen, die auf einer ersten Oberfläche des Substrats angeordnet sind, das Bereitstellen eines zweiten Wafers, der auf einer Replikationsseite eine Vielzahl von Replikationsabschnitten umfasst, wobei jeder Replikationsabschnitt eine Oberflächenstruktur eines der optischen Elemente definiert, wobei der erste Wafer ferner obere Ausrichtungsmerkmale umfasst, die auf der Replikationsseite weiter als ein äußerstes Merkmal der Replikationsabschnitte hervorstehen, Ablagern von Flüssigkeitströpfchen auf der ersten Seite des ersten Wafers und Ausrichten des ersten Wafers und des ersten Wafers in Bezug zueinander und Zusammenbringen des ersten Wafers und der ersten Seite des ersten Wafers mit Flüssigkeitströpfchen zwischen dem ersten Wafer und dem ersten Wafer, wobei die oberen Ausrichtungsmerkmale die Flüssigkeitströpfchen auf den unteren Ausrichtungsmerkmalen auf der ersten Seite des ersten Wafers berühren und dadurch bewirken, dass sich der zweite Wafer mit dem zweiten Wafer durch Kapillarwirkung ausrichtet.
  • Implementierungen können eines oder mehrere der folgenden Merkmale umfassen: Die Flüssigkeitströpfchen werden zwischen den optischen Elementen abgelagert. Die Flüssigkeitströpfchen werden in einem Ring um die optischen Elemente abgeschieden. Abscheiden von Flüssigkeitströpfchen auf dem zweiten Wafer. Aushärten der Flüssigkeitstropfen. Abscheiden von Flüssigkeitstropfen auf der ersten Seite des zweiten Wafers zwischen den optischen Elementen.
  • In einigen Ausführungsformen umfasst eine Vorrichtung zur Herstellung einer Vielzahl optischer Elemente einen ersten Wafer und einen zweiten Wafer, der auf einer Replikationsseite eine Vielzahl von Replikationsabschnitten umfasst, wobei jeder Replikationsabschnitt eine Oberflächenstruktur eines der optischen Elemente definiert, wobei der erste Wafer ferner mindestens ein oberes Ausrichtungsmerkmal umfasst, wobei das obere Ausrichtungsmerkmal auf der Replikationsseite hervorsteht, weiter als ein äußerstes Merkmal der Replikationsabschnitte vorsteht, wobei Flüssigkeitströpfchen auf der ersten Seite des ersten Wafers abgelagert sind und der zweite Wafer und der erste Wafer in Bezug zueinander ausgerichtet sind und den ersten und den zweiten Wafer zusammenbringen, wobei die oberen Ausrichtungsmerkmale die Flüssigkeitströpfchen auf den unteren Ausrichtungsmerkmalen auf der ersten Seite des ersten Wafers berühren und dadurch bewirken, dass sich der zweite Wafer durch Kapillarwirkung mit dem zweiten Wafer ausrichtet.
  • Implementierungen können eines oder mehrere der folgenden Merkmale umfassen: Die Flüssigkeitströpfchen werden zwischen den optischen Elementen abgelagert. Die Flüssigkeitströpfchen werden in einem Ring um die optischen Elemente abgeschieden. Abscheiden von Flüssigkeitströpfchen auf dem zweiten Wafer. Aushärten der Flüssigkeitstropfen. Abscheiden von Flüssigkeitstropfen auf der ersten Seite des zweiten Wafers zwischen den optischen Elementen.
  • Die Einzelheiten einer oder mehrerer Ausführungsformen der Erfindung sind in den beiliegenden Zeichnungen und der nachfolgenden Beschreibung dargelegt. Weitere Merkmale, Gegenstände und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung und den Zeichnungen sowie aus den Ansprüchen.
  • Figurenliste
    • zeigt ein Beispiel für einen Querschnittsaufbau von Werkzeug/Substrat für die Replikation.
    • zeigen mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale.
    • zeigen mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
  • zeigt schematisch einen Querschnitt durch ein Werkzeug 101 und ein Substrat 120. Das Werkzeug 101 umfasst in der gezeigten Ausführungsform eine starre Rückplatte 102 aus einem ersten Material, z. B. Glas, und einen Replikationsabschnitt 104 aus einem zweiten, weicheren Material, z. B. PDMS. Der Replikationsabschnitt bildet eine Replikationsfläche 108 mit einer Vielzahl von Replikationsabschnitten 106, deren Oberfläche jeweils eine (negative) Kopie einer Oberflächenform eines herzustellenden optischen Elements ist. Die Replikationsabschnitte 106 können konvex sein und somit eine konkave optische Elementoberfläche definieren, oder konvex sein und eine konkave optische Elementoberfläche definieren.
  • Der Replikationsabschnitt 104 hat Kontaktabstandshalterabschnitte 112, die als peripher angeordnet dargestellt sind. Die Kontaktabstandshalterabschnitte 112 sind die Strukturen des Replikationswerkzeugs 101, die am weitesten in z-Richtung herausragen. Die Kontaktabstandshalterabschnitte sind im Wesentlichen flach und können daher während der Replikation an dem Substrat 120 anliegen, wobei sich kein Material zwischen den Kontaktabstandshalterabschnitten 112 und dem Substrat 120 befindet. Die Kontaktabstandshalterabschnitte 112 können z. B. einen Ring um den Umfang der Replikationsfläche 108 bilden, können eine Vielzahl diskreter Abschnitte um den Umfang umfassen oder können eine Vielzahl diskreter Abschnitte umfassen, die über einen großen Teil des Umfangs und/oder einen Innenraum der Replikationsfläche 108 verteilt sind.
  • Das Substrat 120 hat eine erste Seite (z. B. die Substratoberfläche 126) und eine zweite Seite und kann aus jedem geeigneten Material bestehen, z. B. aus Glas. Auf dem Substrat 120 ist ferner eine Struktur aufgebracht, an der das Abbild ausgerichtet werden soll. Die Struktur kann z. B. aus einer in der x-y-Ebene strukturierten Beschichtung 122 bestehen, wie z. B. einer Blende mit Öffnungen oder einem strukturierten IR-Filter usw. Die Struktur kann zusätzlich oder alternativ weitere Merkmale wie Markierungen usw. aufweisen. Zusätzlich oder alternativ kann die Struktur eine gehärtete Replikationsmaterialstruktur umfassen, die eine Oberfläche der optischen Elemente bildet.
  • Zur Replikation der Replikationsoberfläche 108 des Werkzeugs 101 wird Replikationsmaterial 124 auf das Substrat 120 oder das Werkzeug 101 oder sowohl das Werkzeug 101 als auch das Substrat 120 aufgebracht. Ein solches Aufbringen des Replikationsmaterials 124 kann das Aufbringen einer Vielzahl von Portionen des Replikationsmaterials 124, eine Portion für jeden der Replikationsabschnitte, auf das Werkzeug 101 und/oder das Substrat 120 umfassen (obwohl in der Figur eine einzelne Portion des Replikationsmaterials 124 dargestellt ist). Jede Portion kann z. B. durch Spritzen oder Strahlen eines Tropfens oder einer Vielzahl von Tropfen durch ein Dispensierwerkzeug aufgebracht werden, das z. B. in einer tintenstrahldruckerähnlichen Weise arbeiten kann. Jede Portion kann optional aus einer Vielzahl von Unterportionen bestehen, die nur während der Replikation miteinander in Kontakt kommen. Im Allgemeinen bestehen die Tröpfchen aus Epoxid.
  • Nach dem Auftragen des Replikationsmaterials 124 werden das Substrat 120 und das Werkzeug 101 zueinander ausgerichtet. Zu diesem Zweck kann ein Verfahren verwendet werden, das demjenigen ähnelt, das in sogenannten Maskenausrichtern verwendet wird. Der Ausrichtvorgang kann das Ausrichten mindestens eines bestimmten Merkmals (vorzugsweise werden zwei Merkmale verwendet) des Werkzeugs 101 und/oder des Substrats 120 mit mindestens einem bestimmten Merkmal des Substrats 120 bzw. des Werkzeugs 101 oder mit einem Referenzpunkt einer Ausrichtvorrichtung umfassen. Geeignete Merkmale hierfür sind wohldefinierte Elemente der Struktur selbst (z. B. eine definierte Ecke einer strukturierten Beschichtung oder eine Linsenspitze etc.), gezielt angebrachte Ausrichtmarken, ggf. auch Kanten etc. des Basiselements etc. Zum Ausrichten gehört auch, wie in der Technik bekannt, die exakte Parallelisierung der Werkzeug- und Substratflächen zur Vermeidung von Keilfehlern; eine solche Parallelisierung kann vor der x-y-Ausrichtung erfolgen.
  • Im Anschluss an die Ausrichtung werden das Substrat 120 und das Werkzeug 101 zusammengeführt, wobei die Kontaktabstandshalterteile 112 an der Substratoberfläche anliegen und (falls vorhanden, zusammen mit den schwimmenden Abstandshaltern) die z-Dimension definieren und auch das Werkzeug gegen x-y-Bewegungen sperren. Danach wird die Substrat-Werkzeug-Baugruppe aus der Ausrichtstation entnommen und an eine Härtestation übergeben.
  • Der Replikationsabschnitt 104 des Werkzeugs oder zumindest eine Oberfläche der Kontaktabstandshalterabschnitte 112 besteht aus einem Material mit einer vergleichsweise geringen Steifigkeit, so dass er sich unter „normalen“ Bedingungen, bei denen beispielsweise kein größerer Druck als der durch die Schwerkraft des auf dem Substrat aufliegenden Werkzeugs oder umgekehrt verursacht wird, an Unebenheiten auf einer Mikrometer- und/oder Submikrometer-Skala anpassen und somit eine innige Verbindung mit der Substratoberfläche bilden kann. Darüber hinaus kann der Replikationsabschnitt des Werkzeugs oder zumindest die Oberfläche des Kontaktabstandsabschnitts eine vergleichsweise geringe Oberflächenenergie aufweisen, um eine solche Anpassung an Rauheiten im Mikrometer- und/oder Submikrometerbereich günstig zu gestalten. Ein bevorzugtes Beispiel für ein solches Material ist Polydimethylsiloxan PDMS.
  • Zu den vorherigen Replikationsschritten gehört das Aushärten des Replikationsmaterials 124, nachdem das Replikationswerkzeug 101 und das Basiselement mit dem Replikationsmaterial 124 dazwischen zueinander bewegt wurden, und das anschließende Entfernen des Replikationswerkzeugs 101.
  • Um einen Stapel optischer Elemente zu erstellen, der aus mehreren Substraten (oder Wafern) besteht, müssen die Substrate ausgerichtet werden, bevor sie relativ zueinander fixiert werden. Um die Substrate zueinander auszurichten, wird üblicherweise ein Maskenausrichtungssystem verwendet, das auf einem Bildverarbeitungssystem und Passermarken basiert.
  • zeigen mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale 190, die zum Ausrichten optischer Elemente wie gehärteter Replikationsmerkmale 140 und anderer Strukturen verwendet werden. Diese mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 können für die Ausrichtung entweder auf einem Wafer oder auf Modul- oder Stackebene verwendet werden. Die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 können durch Replikation, Photolithographie oder eine Kombination aus beidem erzeugt werden.
  • zeigen ein erstes Beispiel für mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale 190, einschließlich unterer Merkmale 192 und oberer Merkmale 194 auf der unteren bzw. oberen Oberfläche 200 und 201 sowie einen Flüssigkeitstropfen 196. Die unteren Merkmale 192 und oberen Merkmale 194 sind Positiv- und Negativmerkmale (mit einigen zusätzlichen Strömungskontrollstrukturen und einem definierten Abstand), die auf beiden Seiten der Elemente erzeugt werden, die ausgerichtet werden müssen (z. B. gehärtete Replikationsmerkmale 140, die in der Nähe oder entfernt von den mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmalen 190 vorhanden sein können). Ein Flüssigkeitstropfen 196 wird dann auf eines oder beide der unteren Merkmale 192 und oberen Merkmale 194 aufgetragen. Die untere Fläche 200 und die obere Fläche 201 werden in die Nähe zueinander gebracht, so dass die unteren Merkmale 192 und die oberen Merkmale 194 nahezu in Kontakt gebracht werden.
  • Die unteren und oberen Merkmale 192, 194 erzeugen Kapillarkräfte, wenn sie nahe genug zusammengebracht werden. Unter Kapillarwirkung versteht man die Fähigkeit einer Flüssigkeit, in engen Räumen ohne die Unterstützung von oder sogar gegen äußere Kräfte wie die Schwerkraft zu fließen; in diesem Fall befindet sich der enge Raum zwischen den unteren Merkmalen 192 und den oberen Merkmalen 194. Lokale Änderungen der Kapillarkraft verändern die Vorzugsrichtung der Flüssigkeitsströmung. Der Flüssigkeitstropfen 196 wird versuchen, die Positionen der unteren und oberen Merkmale 192, 194 auszugleichen, um die Kapillarkräfte auszugleichen. Die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 nutzen den Flüssigkeits-Kapillardruck, um die oberen und unteren Oberflächen 200, 201 selbstorganisierend zu machen.
  • Je kleiner der Abstand zwischen den Oberflächen ist, desto größer ist die Wirkung des Kapillardrucks. Daher sind im Mikrometermaßstab, wie er hier vorliegt, die Kapillarkräfte hoch. Die unteren und oberen Merkmale 192, 194 sind so geformt, dass die Abstände zwischen ihnen variieren, ebenso wie der Kontaktwinkel zwischen der Flüssigkeit und der Luft außerhalb der unteren und oberen Merkmale 192, 194. Diese physikalische Veränderung bewirkt, dass sich die Kapillarkraft sehr schnell und lokal ändert; die Flüssigkeitstropfen 196 drängen daraufhin die unteren und oberen Merkmale 192, 194 zu verschieben, um die Kräfte auszugleichen und dadurch die Oberflächen auszurichten.
  • In einigen Ausführungsformen kann das Flüssigkeitströpfchen 196 aus Wasser, Öl oder einer anderen Flüssigkeit bestehen. Das Flüssigkeitströpfchen 196 kann aus einer Flüssigkeit bestehen, die verdampft oder dispergiert.
  • In einigen Ausführungsformen kann der Flüssigkeitstropfen 196 ein härtbares Material sein. In solchen Fällen kann der Flüssigkeitstropfen 196, sobald die obere und untere Oberfläche 200, 201 ausgerichtet sind, z. B. durch UV-Licht oder ein anderes Aushärtungsverfahren ausgehärtet werden. Die Ausrichtung der Ober- und Unterseite 200, 201 wird dadurch fixiert.
  • Je nach Struktur und Größe der Elemente können mehrere mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale 190 verwendet werden. Die Merkmale können unterschiedlich definiert sein, um die Ausrichtung hauptsächlich in seitliche Richtungen zu erzwingen oder auch eine Komponente enthalten, die die Elemente zusammenzieht.
  • In einigen Ausführungsformen können sich die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 in einem umlaufenden Ring befinden, der die optischen Elemente auf einer oder mehreren der oberen und unteren Flächen 201, 200 umgibt. In diesem Fall bleiben die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 mit ausgehärteten Flüssigkeitstropfen 196 an Ort und Stelle, beeinträchtigen aber nicht die optische Leistung der optischen Merkmale, da sie nur am Umfang vorhanden sind.
  • zeigen ein zweites Beispiel für mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale 190, ähnlich denen in . Die Ausrichtungsmerkmale 190 umfassen untere Merkmale 192 und obere Merkmale 194 auf der unteren bzw. oberen Oberfläche 200 bzw. 201 und einen Flüssigkeitstropfen 196. Bei den unteren Merkmalen 192 und oberen Merkmalen 194 handelt es sich um positive und negative Merkmale (mit einigen zusätzlichen Strömungskontrollstrukturen und einem definierten Abstand), die auf beiden Seiten der Elemente erzeugt werden, die ausgerichtet werden müssen (z. B. gehärtete Replikationsmerkmale 140, die in der Nähe oder entfernt von den mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmalen 190 vorhanden sein können). Ein Flüssigkeitstropfen 196 wird dann auf eines oder beide der unteren Merkmale 192 und oberen Merkmale 194 aufgetragen. Die untere Fläche 200 und die obere Fläche 201 werden in die Nähe zueinander gebracht, so dass die unteren Merkmale 192 und die oberen Merkmale 194 nahezu in Kontakt gebracht werden.
  • Die unteren und oberen Merkmale 192, 194 erzeugen Kapillarkräfte, wenn sie nahe genug zusammengebracht werden. Unter Kapillarwirkung versteht man die Fähigkeit einer Flüssigkeit, in engen Räumen ohne die Unterstützung von oder sogar gegen äußere Kräfte wie die Schwerkraft zu fließen; in diesem Fall befindet sich der enge Raum zwischen den unteren Merkmalen 192 und den oberen Merkmalen 194. Lokale Änderungen der Kapillarkraft verändern die Vorzugsrichtung der Flüssigkeitsströmung. Der Flüssigkeitstropfen 196 wird versuchen, die Positionen der unteren und oberen Merkmale 192, 194 auszugleichen, um die Kapillarkräfte auszugleichen. Die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 nutzen den Flüssigkeits-Kapillardruck, um die oberen und unteren Oberflächen 200, 201 selbstorganisierend zu machen.
  • Je kleiner der Abstand zwischen den Oberflächen ist, desto größer ist die Wirkung des Kapillardrucks. Daher sind im Mikrometermaßstab, wie er hier vorliegt, die Kapillarkräfte hoch. Die unteren und oberen Merkmale 192, 194 sind so geformt, dass die Abstände zwischen ihnen variieren, ebenso wie der Kontaktwinkel zwischen der Flüssigkeit und der Luft außerhalb der unteren und oberen Merkmale 192, 194. Diese physikalische Veränderung bewirkt, dass sich die Kapillarkraft sehr schnell und lokal ändert; die Flüssigkeitstropfen 196 drängen daraufhin die unteren und oberen Merkmale 192, 194 zu verschieben, um die Kräfte auszugleichen und dadurch die Oberflächen auszurichten.
  • In einigen Ausführungsformen kann das Flüssigkeitströpfchen 196 aus Wasser, Öl oder einer anderen Flüssigkeit bestehen. Das Flüssigkeitströpfchen 196 kann aus einer Flüssigkeit bestehen, die verdampft oder dispergiert.
  • In einigen Ausführungsformen kann der Flüssigkeitstropfen 196 ein härtbares Material sein. In solchen Fällen kann der Flüssigkeitstropfen 196, sobald die obere und untere Oberfläche 200, 201 ausgerichtet sind, z. B. durch UV-Licht oder ein anderes Aushärtungsverfahren ausgehärtet werden. Die Ausrichtung der Ober- und Unterseite 200, 201 wird dadurch fixiert.
  • Je nach Struktur und Größe der Elemente können mehrere mikrofluidische Ausrichtungsmerkmale 190 verwendet werden. Die Merkmale können unterschiedlich definiert sein, um die Ausrichtung hauptsächlich in seitliche Richtungen zu erzwingen oder auch eine Komponente enthalten, die die Elemente zusammenzieht.
  • In einigen Ausführungsformen können sich die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 in einem umlaufenden Ring befinden, der die optischen Elemente auf einer oder mehreren der oberen und unteren Flächen 201, 200 umgibt. In diesem Fall bleiben die mikrofluidischen Ausrichtungsmerkmale 190 mit ausgehärteten Flüssigkeitstropfen 196 an Ort und Stelle, beeinträchtigen aber nicht die optische Leistung der optischen Merkmale, da sie nur am Umfang vorhanden sind.
  • Die hier beschriebenen Merkmale der Replikationsfertigung ermöglichen vorteilhaft die Erstellung von dicht gepackten Layouts mit, und Modulen oder Stapeln, bei denen optische Strukturen und mechanische (z. B. Abstandshalter) oder elektrische Funktionalität (z. B. Bondpads) kombiniert werden. Die Merkmale können genutzt werden, um dichtere Layouts zu erzeugen, Packages mit Augensicherheitsfunktionen zu erstellen, die Anzahl der Prozessschritte durch Entlüftung der Kanalerzeugung zu reduzieren und die Präzision zu erhöhen.
  • Es wurde eine Reihe von Ausführungsformen der Erfindung beschrieben. Dennoch versteht es sich, dass verschiedene Modifikationen vorgenommen werden können, ohne vom Geist und Umfang der Erfindung abzuweichen. Dementsprechend sind andere Ausführungsformen innerhalb des Anwendungsbereichs der folgenden Ansprüche.

Claims (12)

  1. Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von optischen Elementen, wobei das Verfahren umfasst: Bereitstellen eines ersten Wafers mit unteren Ausrichtungsmerkmalen, die auf einer ersten Oberfläche des Substrats angeordnet sind; Bereitstellen eines zweiten Wafers, der auf einer Replikationsseite eine Vielzahl von Replikationsabschnitten aufweist, wobei jeder Replikationsabschnitt eine Oberflächenstruktur eines der optischen Elemente definiert, wobei der erste Wafer ferner obere Ausrichtungsmerkmale aufweist, die auf der Replikationsseite weiter als ein äußerstes Merkmal der Replikationsabschnitte hervorstehen; Ablagerung von Flüssigkeitströpfchen auf der ersten Seite des ersten Wafers; und Ausrichten des ersten Wafers und des ersten Wafers in Bezug zueinander und Zusammenbringen des ersten Wafers und der ersten Seite des ersten Wafers, wobei sich Flüssigkeitströpfchen zwischen dem ersten Wafer und dem ersten Wafer befinden, wobei die oberen Ausrichtungsmerkmale die Flüssigkeitströpfchen auf den unteren Ausrichtungsmerkmalen auf der ersten Seite des ersten Wafers berühren und dadurch bewirken, dass sich der zweite Wafer mit dem zweiten Wafer durch Kapillarwirkung ausrichtet.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Flüssigkeitströpfchen zwischen den optischen Elementen abgelagert werden.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Flüssigkeitströpfchen in einem die optischen Elemente umgebenden Ring abgelagert werden.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche umfasst das Abscheiden von Flüssigkeitströpfchen auf dem zweiten Wafer.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche umfasst das Härten der Flüssigkeitströpfchen.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche umfasst das Abscheiden von Flüssigkeitströpfchen auf der ersten Seite des zweiten Wafers zwischen den optischen Elementen.
  7. Vorrichtung zur Herstellung einer Vielzahl von optischen Elementen, wobei die Vorrichtung umfasst: einen ersten Wafer; und einen zweiten Wafer, der auf einer Replikationsseite eine Vielzahl von Replikationsabschnitten aufweist, wobei jeder Replikationsabschnitt eine Oberflächenstruktur eines der optischen Elemente definiert, wobei der erste Wafer ferner mindestens ein oberes Ausrichtungsmerkmal aufweist, wobei das obere Ausrichtungsmerkmal auf der Replikationsseite weiter als ein äußerstes Merkmal der Replikationsabschnitte hervorsteht; mit Flüssigkeitströpfchen, die auf der ersten Seite des ersten Wafers abgelagert sind, und dem zweiten Wafer und dem ersten Wafer, die in Bezug zueinander ausgerichtet sind, und dem Zusammenbringen des ersten und zweiten Wafers, wobei die oberen Ausrichtungsmerkmale die Flüssigkeitströpfchen auf den unteren Ausrichtungsmerkmalen auf der ersten Seite des ersten Wafers berühren und dadurch bewirken, dass sich der zweite Wafer durch Kapillarwirkung mit dem zweiten Wafer ausrichtet.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 7, wobei die Flüssigkeitströpfchen zwischen den optischen Elementen abgelagert werden.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, wobei die Flüssigkeitströpfchen in einem die optischen Elemente umgebenden Ring abgeschieden werden.
  10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, bei der Flüssigkeitströpfchen auf dem zweiten Wafer abgeschieden werden.
  11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, umfassend das Härten der Flüssigkeitströpfchen.
  12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, bei der Flüssigkeitströpfchen auf der ersten Seite des zweiten Wafers zwischen den optischen Elementen abgeschieden werden.
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