DE10345379B3

DE10345379B3 - Storage tank for process liquids with a reduced amount of bubbles and method for operating the same

Info

Publication number: DE10345379B3
Application number: DE10345379A
Authority: DE
Inventors: Helge Hartz; Markus Nopper; Axel Preusse
Original assignee: Advanced Micro Devices Inc
Current assignee: GlobalFoundries Inc
Priority date: 2003-09-30
Filing date: 2003-09-30
Publication date: 2005-06-02
Anticipated expiration: 2023-10-01
Also published as: US20050067288A1

Abstract

Vorratstank für eine Prozessflüssigkeit mit:
einem Einlassbereich zum Empfangen der Prozessflüssigkeit;
einem Auslassbereich, der mit einer Zufuhrleitung verbindbar ist; und
einer Barriere mit einem oberen Bereich und einem unteren Bereich, wobei der untere Bereich einer Unterseite des Vorratstanks zugewandt ist, wobei die Barriere zwischen dem Einlassbereich und dem Auslassbereich angeordnet ist, und wobei der untere Bereich eine Öffnung in der Nähe eines Unterseitenbereichs des Vorratstanks definiert, um eine Fluidkommunikation zwischen dem Einlassbereich und dem Auslassbereich herzustellen.
Storage tank for a process fluid with:
an inlet area for receiving the process liquid;
an outlet portion connectable to a supply line; and
a barrier having an upper portion and a lower portion, the lower portion facing an underside of the storage tank, the barrier being disposed between the inlet portion and the outlet portion, and the lower portion defining an opening proximate a bottom portion of the storage tank, to establish fluid communication between the inlet area and the outlet area.

Description

GEBIET DER VORLIEGENDEN ERFINDUNGAREA OF PRESENT INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft generell das Gebiet der Herstellung integrierter Schaltungen und betrifft insbesondere Herstellungsprozesse, in denen das Aufbringen von Prozessflüssigkeiten, etwa Plattierungslösungen, auf die Oberfläche eines Substrats beteiligt ist.The The present invention relates generally to the field of manufacture integrated circuits and in particular relates to manufacturing processes, in which the application of process liquids, such as plating solutions, on the surface a substrate is involved.

In einer integrierten Schaltung werden eine große Anzahl von Schaltungselemente, etwa Transistoren, Kondensatoren, Widerstände und dergleichen in oder auf einem geeigneten Substrat für gewöhnlich in einer im Wesentlichen planaren Anordnung hergestellt. In vielen Stadien des Herstellungsprozesses müssen Flüssigkeiten, etwa entsalztes Wasser, spezielle Chemikalien, Schleifmittellösungen und dergleichen, Prozessanlagen zugeführt werden, um diese Prozessflüssigkeiten am Substrat bereitzustellen, um einen betrachteten Prozess durchzuführen. Eine wichtige Prozessphase während der Herstellung integrierter Schaltungen stellt der Bereich des Bildens metallenthaltender Gebiete auf einem Substrat mittels nasschemischer Prozesse, etwa dem Plattieren, dar. Auf Grund der großen Anzahl von Schaltungselementen und der erforderlichen komplexen Ausgestaltung der integrierten Schaltungen kann im Allgemeinen die elektrische Verbindung der einzelnen Schaltungselemente nicht innerhalb der gleichen Ebene hergestellt werden, in der die Schaltungselemente ausgebildet sind, sondern es sind ein oder mehrere zusätzliche "Verdrahtungs"-Schichten erforderlich, die auch als Metallisierungsschichten bezeichnet werden. Diese Metallisierungsschichten weisen im Wesentlichen Metallleitungen auf, die die elektrische Verbindung innerhalb der Ebene bereitstellen und umfassen ferner mehrere Zwischenebenenverbindungen, die auch als Kontaktdurchführungen bezeichnet werden, wobei die Metallleitungen und die Kontaktdurchführungen auch gemeinsam als Verbindungen bezeichnet werden. Des weiteren wird der Anschluss der integrierten Schaltung oder Teilen davon zur Peripherie gewöhnlich mittels mehrerer Kontaktflächen bewerkstelligt, die in technisch fortschrittlichen Bauelementen sogenannte Löthöcker tragen, die eine direkte Verbindung mit entsprechenden Bereichen eines Gehäusesubstrats mittels der Wiederverflüssigung der Löthöcker ermöglichen. Zwei häufig angewendete Techniken zum Abscheiden eines Metalls auf einem Substrat sind das Elektroplattieren und das stromlose Plattieren. Beim stromlosen Plattieren von Metall auf eine Substratoberfläche, die darauf ausgebildete Schaltungselemente und ein strukturiertes Dielektrikum oder eine Photolackschicht aufweisen kann, kann ein katalytisches Material gebildet werden, bevor die metallenthaltende Lösung mit der Substratoberfläche in Kontakt gebracht wird. Beim Elektroplattierungsprozess ist eine Stromverteilungsschicht erforderlich, um die spezifizierten Substratgebiete, die ein Metall empfangen sollen, mit einer externen Stromquelle elektrisch zu verbinden, so dass die metallenthaltende Lösung, die mit den spezifizierten Gebieten in Berührung kommt, reduziert und als ein Metall abgeschieden werden kann. Typischerweise wird der Plattierungsprozess in einer Plattierungsanlage mit einer Plattierungskammer ausgeführt, in der das Substrat mit der Plattierungslösung in Kontakt gebracht wird. Obwohl einfache Badreaktoren für diesen Zweck verwendet werden können, stellt es sich für anspruchsvolle Anforderungen heraus, dass ein Brunnen-Typ-Reaktor die bevorzugte Anlage zum Aufbringen von Metall auf ein Substrat ist. Im Allgemeinen weist eine Brunnen-Typ-Plattierungsanlage eine Prozesskammer und getrennt davon einen Vorratstank auf, der die Plattierungslösung enthält, auf, die dann mittels eines Leitungssystems zu der Prozesskammer transportiert wird. In der Prozesskammer wird die Plattierungslösung auf das Substrat aufgebracht, das mit der empfangenden Oberfläche so platziert ist, dass es dem Elektrolytstrom zugewandt ist, wobei die überschüssige Lösung in den Vorratstank zurückgeführt wird. Wie in vielen anderen Situationen, in denen ein gut definiertes Aufbringen einer Prozessflüssigkeit auf eine Substratobefläche erforderlich ist, kann eine nicht gleichförmige Verteilung der Prozessflüssigkeit über die Substratoberfläche hinweg deutlich das Ergebnis des betrachteten Prozesses beeinflussen. Im Falle des Plattierungsprozesses kann die resultierende Gleichförmigkeit der abgeschiedenen Metallschicht und/oder die Qualität deutlich von der Art und Weise abhängen, wie die Plattierungslösung auf das Substrat aufgebracht wird.In an integrated circuit, a large number of circuit elements, such as transistors, capacitors, resistors and the like in or on a suitable substrate for usually manufactured in a substantially planar arrangement. In many Stages in the manufacturing process must include liquids, such as desalinated water, special chemicals, abrasive solutions and the like, process equipment supplied Be aware of these process fluids on the substrate to perform a considered process. A important process phase during The production of integrated circuits represents the area of Forming metal-containing regions on a substrate by wet chemical Processes, such as plating dar. Due to the large number of circuit elements and the required complex design The integrated circuits can generally be the electrical connection the individual circuit elements are not within the same level be made in which the circuit elements are formed, but there are one or more additional "wiring" layers required, which are also referred to as metallization layers. These metallization layers essentially have metal lines which provide the electrical connection within the plane and further include a plurality of intermediate level interconnections, also as contact bushings be designated, wherein the metal lines and the contact bushings also be referred to collectively as compounds. Furthermore becomes the connection of the integrated circuit or parts of it to the periphery usually by means of several contact surfaces accomplished in technically advanced components wear so-called solder bumps, which connects directly to corresponding areas of a package substrate by means of re-liquefaction allow the solder bump. Two often applied techniques for depositing a metal on a substrate electroplating and electroless plating. When de-energized Plating metal on a substrate surface having formed thereon Circuit elements and a structured dielectric or a Photoresist layer may include a catalytic material are formed before the metal-containing solution with the substrate surface in contact is brought. The electroplating process is a power distribution layer required to the specified substrate areas receiving a metal are designed to electrically connect to an external power source, so that the metal-containing solution, which comes into contact with the specified areas, reduced and as a metal can be deposited. Typically, the Plating process in a plating plant with a plating chamber executed in which the substrate is brought into contact with the plating solution. Even though simple bath reactors for this purpose can be used it turns out for demanding requirements out that a well-type reactor the preferred equipment for applying metal to a substrate is. In general, a well type plating plant has a process chamber and separately therefrom, a storage tank containing the plating solution then transported by a conduit system to the process chamber becomes. In the process chamber, the plating solution on the substrate is applied so placed with the receiving surface is that it faces the electrolyte flow, wherein the excess solution in the storage tank is returned. As in many other situations where a well-defined Applying a process fluid on a Substratobefläche is required, a non-uniform distribution of the process fluid over the Substrate surface away clearly influence the outcome of the considered process. in the Trap of the plating process, the resulting uniformity the deposited metal layer and / or the quality clearly depend on the way like the plating solution is applied to the substrate.

Beispielsweise wurden Blasen in der Plattierungslösung als eine wesentliche Quelle für Fehler in integrierten Schaltungen erkannt, da das Vorhandensein einer Blase in dem Lösungsflüssigkeitsstrom das Abscheiden von Metall in Bereichen, die Blasen enthalten, auf der Subtratoberfläche verhindern oder verringern kann, wodurch ein fehlerhafter Chip oder ein vorzeitiger Ausfall der integrierten Schaltung hervorgerufen werden kann. Des weiteren kann das Vorhandensein von Blasen in der Plattierungslösung zu einem erhöhten Oxidie ren empfindlicher Additive, die in der Plattierungslösung enthalten sind, führen, wodurch das Verhalten der Plattierungslösung geändert und damit der gesamte Plattierungsprozess beeinflusst wird. Daher kann das Vorhandensein von Blasen in Prozessflüssigkeiten, insbesondere in Plattierungslösungen, ein großes Problem hinsichtlich der Produktionsausbeute und der Bauteilzuverlässigkeit darstellen. Insbesondere der Verlust von an sich funktionierenden Bauteilen in einem späten Herstellungsstadium, etwa bei der Herstellung von Löthöckern, kann drastisch zur Erhöhung der Produktionskosten beitragen.For example, bubbles in the plating solution have been recognized as a significant source of failure in integrated circuits because the presence of a bubble in the dissolution liquid stream can prevent or reduce the deposition of metal in areas containing bubbles on the substrate surface, creating a defective chip premature failure of the integrated circuit can be caused. Furthermore, the presence of bubbles in the plating solution can lead to increased oxidation of sensitive additives contained in the plating solution, thereby changing the behavior of the plating solution and thereby affecting the overall plating process. Therefore, the presence of bubbles in process liquids, especially in plating solutions, can be a major problem in terms of production yield and component reliability. In particular, the loss of per se functioning components in a late stage of manufacture, such as in the production of Löthö can dramatically increase production costs.

Die Patentschrift DE 698 10 999 T2 offenbart ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Entfernen von Blasen aus einer Flüssigkeit unter Verwendung von Ultraschall.The patent DE 698 10 999 T2 discloses a method and apparatus for removing bubbles from a liquid using ultrasound.

Die Patentschrift DE 32 14 635 C2 offenbart eine Entgasungsvorrichtung zur Entfernung von Blasen aus einer Lösung für die stromlose Metallisierung unter Verwendung einer porösen Trennwand.The patent DE 32 14 635 C2 discloses a degassing apparatus for removing bubbles from a solution for electroless plating using a porous partition.

Die Patentschrift DE 38 22 093 C2 offenbart ein Verfahren zur Entgasung lichtempfindlicher Überzugslösungen mittels einer Polymermembran.The patent DE 38 22 093 C2 discloses a process for degassing photosensitive coating solutions by means of a polymer membrane.

Die Patentschrift DE 195 40 010 A1 offenbart die Verwendung eines Entgasungsfilters in einer Anlage zur Halbleiterfertigung.The patent DE 195 40 010 A1 discloses the use of a degassing filter in a semiconductor manufacturing facility.

Die Patentschrift DE 691 07 685 T2 offenbart die Verwendung eines Netzes zur Entfernung von Blasen bei der Abscheidung von Verbundüberzügen.The patent DE 691 07 685 T2 discloses the use of a network to remove bubbles in the deposition of composite coatings.

Angesichts der zuvor erläuterten Sachlage besteht daher ein Bedarf für effiziente Mittel, die es ermöglichen, das Vorhandensein von Blasen in Vorratstanks und/oder Zufuhrleitungen für Prozessflüssigkeiten zu verhindern oder zumindest deutlich zu reduzieren.in view of the previously explained There is therefore a need for efficient means of the presence of bubbles in storage tanks and / or supply lines for process fluids to prevent or at least significantly reduce.

ÜBERBLICK ÜBER DIE ERFINDUNGOVERVIEW OF THE INVENTION

Im Allgemeinen richtet sich die vorliegende Erfindung an eine Technik, die es ermöglicht, den Anteil an Blasen, die in einem Vorratstank für eine Prozessflüssigkeit, etwa eine Plattierungslösung, die für die nasschemische Abscheidung von Metallschichten oder Metallgebieten auf einem Substrat erforderlich ist, vorhanden sind oder dort erzeugt werden, in deutlichem Maße zumindest zu reduzieren oder zu vermeiden. Die vorliegende Erfindung stellt einen Vorratstank mit mindestens einem Einlassbereich und einem Auslassbereich bereit und nutzt die Tatsache aus, dass ein Flüssigkeitsstrom innerhalb des Vorratstanks zwischen dem Einlassbereich und dem Auslassbereich so geführt werden kann, dass die Wahrscheinlichkeit für das Transportieren von Blasen von dem Einlassbereich zu dem Auslassbereich deutlich reduziert ist.in the In general, the present invention is directed to a technique which makes it possible the proportion of bubbles in a storage tank for a process fluid, about a plating solution, the for the wet-chemical deposition of metal layers or metal areas is required, present or generated on a substrate be, to a significant degree at least reduce or avoid. The present invention provides a storage tank with at least one inlet area and an outlet area ready and exploits the fact that a liquid flow within the storage tank between the inlet area and the outlet area so led can be that the probability of transporting bubbles from the inlet area to the outlet area is significantly reduced.

Gemäß einer anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein Vorratstank für eine Prozessflüssigkeit einen Einlassbereich zum Empfangen der Prozessflüssigkeit und einen Auslassbereich, der mit einer Zufuhrleitung verbunden werden kann. Des weiteren ist eine Barriere vorgesehen, die einen oberen Bereich und einen unteren Bereich besitzt, wobei der untere Bereich einer Unterseite des Vorratstanks zugewandt ist. Die Barriere ist zwischen dem Einlassbereich und dem Auslassbereich angeordnet und definiert mit dem unteren Bereich eine Öffnung in der Nähe der Unterseite des Vorratstanks, um eine Fluidkommunikation zwischen dem Einlassbereich und dem Auslassbereich bereitzustellen.According to one illustrative embodiment The present invention comprises a storage tank for a process fluid an inlet area for receiving the process liquid and an outlet area, which can be connected to a supply line. Furthermore a barrier is provided which has an upper area and a bottom portion has, the lower portion of a bottom facing the storage tank. The barrier is between the inlet area and the outlet area arranged and defined with the lower Area an opening near the bottom of the storage tank to provide fluid communication between to provide the inlet area and the outlet area.

Gemäß einer noch weiteren anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein Verfahren zum Betreiben eines Vorratstanks für eine Prozessflüssigkeit das Zuführen der Prozessflüssigkeit zu einem Einlassbereich des Vorratstanks und das Erzeugen einer Flüssigkeitsströmung zu einem Auslassbereich mittels einer kommunizierenden Öffnung, die in der Nähe einer Unterseite des Vorratstanks angeordnet ist, so dass Blasen im Wesentlichen daran gehindert werden, in den Auslassbereich zu wandern.According to one yet another illustrative embodiment The present invention comprises a method for operating a Storage tanks for a process fluid the feeding the process fluid to an inlet area of the storage tank and generating a Fluid flow to an outlet area by means of a communicating opening, the nearby a bottom of the storage tank is arranged so that bubbles essentially prevented from entering the outlet area hike.

In anderen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung umfasst der Vorratstank eine zweite Barriere mit einem oberen Bereich und einem unteren Bereich, wobei der untere Bereich mit der Unterseite des Vorratstanks verbunden ist und wobei der obere Bereich eine zweite Öffnung bildet, um einen Fluidströmungsweg zwischen dem Einlassbereich und dem Auslassbereich bereitzustellen.In other embodiments According to the present invention, the storage tank comprises a second barrier with an upper area and a lower area, the lower one Area is connected to the bottom of the storage tank and wherein the upper area a second opening forms a fluid flow path between the inlet area and the outlet area.

In anderen speziellen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung umfasst der Einlassbereich eine Einlassleitung mit einem Endbereich, wobei eine Höhenposition einer Öffnung des Endbereichs, der in dem Einlassbereich endet, in Bezug auf einen Flüssigkeitspegel in dem Einlassbereich einstellbar ist.In other special embodiments of the According to the present invention, the inlet portion comprises an inlet duct with an end portion, wherein a height position of an opening of the End region, which ends in the inlet region, with respect to a liquid level is adjustable in the inlet region.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Weitere Vorteile, Aufgaben und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind in den angefügten Patentansprüchen definiert und gehen deutlicher aus der folgenden detaillierten Beschreibung hervor, wenn diese mit Bezug zu den begleitenden Zeichnungen studiert wird; es zeigen:Further Advantages, tasks and embodiments The present invention is defined in the appended claims and go more clearly from the following detailed description when studying with reference to the accompanying drawings becomes; show it:

1 schematisch einen Vorratstank mit einem Einlassbereich und einem Auslassbereich gemäß anschaulicher Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung; und 1 schematically a storage tank having an inlet portion and an outlet portion according to illustrative embodiments of the present invention; and

2a bis 2c schematisch einen Vorratstank oder Teile davon, der mit einer Plattierungsanlage gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung verbunden ist. 2a to 2c schematically a storage tank or parts thereof, which is connected to a plating plant according to further illustrative embodiments of the present invention.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION

Obwohl die vorliegende Erfindung mit Bezug zu den Ausführungsformen beschrieben ist, wie sie in der folgenden detaillierten Beschreibung sowie in den Zeichnungen dargestellt sind, sollte es selbstverständlich sein, dass die folgende detaillierte Beschreibung sowie die Zeichnungen nicht beabsichtigen, die vorliegenden Erfindung auf die speziellen offenbarten anschaulichen Ausführungsformen einzuschränken, sondern die beschriebenen anschaulichen Ausführungsformen stellen lediglich beispielhaft die diversen Aspekte der vorliegenden Erfindung dar, deren Schutzbereich durch die angefügten Patentansprüche definiert ist.Even though the present invention is described with reference to the embodiments, as in the following detailed description as well as in the following Drawings are shown, it should be self-evident that the following detailed description as well as the drawings not intend the present invention to the specific disclosed illustrative embodiments restrict but merely the illustrative embodiments described exemplify the various aspects of the present invention, the scope of which is defined by the appended claims is.

Wie zuvor erläutert ist, kann das Vorhandensein von Blasen in Prozessflüssigkeiten, insbesondere in Plattierungslösungen, zu einer deutlich reduzierten Produktionsausbeute führen und daher werden beträchtliche Anstrengungen unternommen, um das Erzeugen von Blasen zu verhindern und/oder um bestehende Blasen vor dem Zuführen der Prozessflüssigkeit zu dem Substrat zu entfernen. In einigen konventionellen Prozessanlagen, etwa in Lithographieanlagen, werden daher gewisse Arten von Filtern und aktiven Entgasungselementen verwendet, die jedoch einen beträchtlichen Anteil an Platz beanspruchen und die auch relativ teuer sind, wobei gleichzeitig ein relativ hohes Maß an Wartung erforderlich ist. Im Gegensatz zu diesen konventionellen Verfahren zum Entfernen von Blasen von einem Vorratstank stützt sich die vorliegende Erfindung auf die Tatsache, dass ein Fluidstromweg innerhalb eines Vorratstanks etabliert werden kann, der im Wesentlichen das Bilden von Blasen vermeidet und der ferner zu einem Entfernen bereits bestehender Blasen in der Prozessflüssigkeit führt. Mit Bezug zu den 1 und 2a bis 2c werden nunmehr weitere anschauliche Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung detaillierter beschrieben.As previously explained, the presence of bubbles in process liquids, particularly in plating solutions, can result in a significantly reduced production yield, and therefore considerable efforts are made to prevent the creation of bubbles and / or existing bubbles prior to feeding the process liquid to the process Remove substrate. Certain types of filters and active degassing elements are therefore used in some conventional process equipment, such as lithography equipment, but require a considerable amount of space and are also relatively expensive, while requiring a relatively high level of maintenance. In contrast to these conventional methods for removing bubbles from a storage tank, the present invention relies on the fact that a fluid flow path can be established within a storage tank that substantially avoids the formation of bubbles and further removes pre-existing bubbles the process liquid leads. Related to the 1 and 2a to 2c Now, further illustrative embodiments of the present invention will be described in more detail.

1 zeigt schematisch einen Vorratstank 100, der ausgebildet ist, eine spezifizierte Prozessflüssigkeit, etwa eine Plattierungslösung für ein gewünschtes Metall oder eine metallenthaltende Verbindung, zu halten, wie sie zur Herstellung von Metallisierungsschichten, Löthöckern und dergleichen erforderlich ist. Der Vorratstank 100 umfasst einen Einlassbereich 110 und einen Auslassbereich 120. Der Auslassbereich 120 kann so gestaltet sein, dass dieser mit einer Zufuhrleitung 121 verbunden werden kann, die wiederum mit einer Pumpe 122 verbunden ist. Der Einlassbereich 110 kann eine oder mehrere Einlassleitungen 111a,... 111c aufweisen, die jeweils entsprechende Endbereiche 112 mit einer Öffnung 113 aufweisen, die in dem Einlassbereich 110 enden. Der Auslassbereich 120 und der Einlassbereich 110 sind im Wesentlichen durch eine Barriere 130 mit einem oberen Bereich 131 und einem unteren Bereich 132 getrennt. Der untere Bereich 132 umfasst oder bildet mindestens eine Öffnung 133 in der Nähe einer Unterseite 101 des Vorratstanks 100, die einen Fluidströmungsweg, der als 150 bezeichnet ist, zwischen dem Einlassbereich 110 und dem Auslassbereich 120 bereitstellt. Die mindestens eine Öffnung 133 kann in der Form eines Spaltes zwischen der Unterseite 101 des Vorratstanks 110 und der Barriere 120 vorgesehen sein, oder die mindestens eine Öffnung 133 kann in Form einer oder mehrerer unterscheidbarer Öffnungen, die in dem unteren Bereich 132 in der Nähe der Unterseite 101 gebildet sind, vorgesehen sein. In diesem Zusammenhang sind die Begriffe "in der Nähe" und "nahe" so zu verstehen, dass die Öffnung 133 in der unteren Hälfte und vorzugsweise im unteren Viertel und noch besser in den unteren 10% in Bezug zu einer Höhe 102 des Vorratstanks 100 angeordnet ist. In einer speziellen Ausführungsform bildet die Öffnung 133 den einzigen Fluidströmungsweg zwischen dem Einlassbereich 110 und dem Einlassbereich 120. Die Barriere 120 kann aus einem beliebigen geeigneten Material, etwa Metall mit oder ohne geeigneter Beschichtung, Plastikmaterialien, und dergleichen aufgebaut sein, wobei vorzugsweise zumindest die Oberfläche der Barriere 130 im Wesentlichen inert ist in Bezug auf die Prozessflüssigkeit, die in dem Vorratstank 100 aufzubewahren ist. 1 schematically shows a storage tank 100 which is adapted to hold a specified process liquid, such as a plating solution for a desired metal or metal-containing compound, as required for making metallization layers, solder bumps, and the like. The storage tank 100 includes an inlet area 110 and an outlet area 120 , The outlet area 120 can be designed so that this with a supply line 121 can be connected, in turn, with a pump 122 connected is. The inlet area 110 can have one or more inlet lines 111 ... 111c each having corresponding end portions 112 with an opening 113 that in the inlet area 110 end up. The outlet area 120 and the inlet area 110 are essentially by a barrier 130 with an upper area 131 and a lower area 132 separated. The lower area 132 includes or forms at least one opening 133 near a bottom 101 of the storage tank 100 , which has a fluid flow path as the 150 is designated, between the inlet area 110 and the outlet area 120 provides. The at least one opening 133 can be in the form of a gap between the bottom 101 of the storage tank 110 and the barrier 120 be provided, or the at least one opening 133 may take the form of one or more distinguishable openings in the lower area 132 near the bottom 101 are formed, be provided. In this context, the terms "near" and "close" are to be understood as meaning the opening 133 in the lower half and preferably in the lower quarter and even better in the lower 10% with respect to a height 102 of the storage tank 100 is arranged. In a specific embodiment, the opening forms 133 the only fluid flow path between the inlet area 110 and the inlet area 120 , The barrier 120 may be constructed of any suitable material, such as metal, with or without a suitable coating, plastic materials, and the like, and preferably at least the surface of the barrier 130 is substantially inert with respect to the process liquid contained in the storage tank 100 is to be stored.

Während des Betriebs des Vorratstanks 100 wird eine spezifizierte Prozessflüssigkeit 140 in den Tank 100 eingefüllt, so dass ein gewünschter Flüssigkeitspegel in dem Tank 100 erreicht wird. In einer Ausführungsform wird der Flüssigkeitspegel und/oder die Höhenposi tion der Öffnungen 113 der Einlassleitungen 111a,... 111c so gewählt, das die Öffnungen 113 in die Prozessflüssigkeit 140 mit einem spezifizierten Abstand zu der Flüssigkeitsoberfläche eintauchen. Wenn z. B. die Prozessflüssigkeit 140 dem Tank 100 mittels der Einlassleitungen 111a,... 111c zugeführt wird, kann eine entsprechende steuerbare Pumpe (nicht gezeigt) vorgesehen sein, um die Menge an Flüssigkeit, die dem Einlassbereich 110 zugeführt wird, in Übereinstimmung mit dem Flüssigkeitsvolumen, das durch die Zufuhrleitung 121 abgeführt wird, zu steuern, um damit einen im Wesentlichen konstanten Flüssigkeitspegel innerhalb des Tanks 100 beizubehalten. Dazu kann der Vorratstank 100 einen Pegeldetektor (nicht gezeigt) aufweisen, der ausgebildet ist, ein pegelabhängiges Signal zu der steuerbaren Pumpquelle in den Einlassleitungen 111a,... 111c zu liefern. Während der Aufnahme der Flüssigkeit 140 durch die Einlassleitungen 111a,... 111c können Blasen, die irgendwo während des Transportes der Flüssigkeit 140 erzeugt werden, über die Öffnungen 113 abgegeben werden, wobei zumindest relativ große Blasen unmittelbar mit der Oberfläche der Flüssigkeit 140 in Kontakt kommen und damit wirksam entfernt werden. Ferner kann durch das Abtrennen des Einlassbereichs 110 von dem Auslassbereich 120 mittels der Barriere 130, die einen Fluidströmungsweg durch die mindestens eine Öffnung 133 in Nähe der Unterseite 101 bereitstellt, die Fluidströmung der Flüssigkeit 140 nach unten zu der Öffnung 133, wie dies durch den Pfeil 150 angedeutet ist, und somit zu einer Bewegung entgegen die Richtung des Auftriebs der Blasen gezwungen werden, wodurch deutlich die Wahrscheinlichkeit zum Transportieren von Blasen von dem Einlassbereich 110 zu dem Auslassbereich 120 durch die mindestens eine Öffnung 133 verringert wird. Somit kann die Prozessflüssigkeit 140 zu einer Prozessanlage mit einem deutlich reduzierten Anteil an Blasen geliefert werden. Des weiteren führt die Einfachheit des Aufbaus des Vorratstanks 100 zu geringen Installationskosten für die Montage der Barriere 130, und führt ferner zu einer im Wesentlichen wartungsfreien Betriebsweise mit Ausnahme der üblichen Wartungsperioden, wie sie für konventionelle Vorratstanks erforderlich sind.During operation of the storage tank 100 becomes a specified process fluid 140 in the tank 100 filled so that a desired liquid level in the tank 100 is reached. In one embodiment, the liquid level and / or the height posi tion of the openings 113 the inlet pipes 111 ... 111c so chosen, that the openings 113 into the process fluid 140 Immerse at a specified distance from the surface of the liquid. If z. B. the process fluid 140 the tank 100 by means of the inlet pipes 111 ... 111c may be provided, a corresponding controllable pump (not shown) may be provided to the amount of liquid, the inlet area 110 is supplied, in accordance with the volume of liquid passing through the supply line 121 is discharged, thereby controlling a substantially constant liquid level within the tank 100 maintain. For this purpose, the storage tank 100 a level detector (not shown) configured to provide a level dependent signal to the controllable pump source in the inlet lines 111 ... 111c to deliver. During the intake of the liquid 140 through the inlet pipes 111 ... 111c can bubbles anywhere during the transport of the liquid 140 be generated, over the openings 113 are discharged, wherein at least relatively large bubbles directly with the surface of the liquid 140 in contact and effectively removed. Furthermore, by separating the inlet area 110 from the outlet area 120 by means of the barrier 130 providing a fluid flow path through the at least one opening 133 near the bottom 101 provides the fluid flow of the liquid 140 down to the opening 133 as indicated by the arrow 150 is indicated, and thus forced to move against the direction of buoyancy of the bubbles, thereby clearly the likelihood of transporting bubbles from the inlet region 110 to the outlet area 120 through the at least one opening 133 is reduced. Thus, the process fluid 140 be delivered to a process plant with a significantly reduced proportion of bubbles. Furthermore, the simplicity of the structure of the storage tank leads 100 too low installation costs for the installation of the barrier 130 Furthermore, it leads to a substantially maintenance-free operation with the exception of the usual maintenance periods, as required for conventional storage tanks.

In anderen Ausführungsformen, in denen sich der Flüssigkeitspegel der Prozessflüssigkeit 140 während des Betriebs ändern kann, kann ein entsprechendes Höheneinstellungselement für die Einlassleitungen 111a,... 111c so vorgesehen werden, um einen vordefinierten Abstand der Öffnung 113 in Bezug auf die Flüssigkeitsoberfläche der Flüssigkeit 140 zu ermöglichen. Entsprechende Beispiele für ein Höheneinstellelement sind detailliert mit Bezug zu 2 beschrieben. Das Vorsehen eines Höheneinstellelements erlaubt eine im Wesentlichen konstante Wirkung bei dem Entfernen von Blasen in den Einlassleitungen 111a, ... 111c und/oder vermeidet im Wesentlichen die Erzeugung neuer Blasen beim Zuführen der Flüssigkeit 140 zu dem Einlassbereich 110.In other embodiments, in which the liquid level of the process liquid 140 During operation, a corresponding height adjustment element for the inlet lines 111 ... 111c be provided to a predefined distance of the opening 113 with respect to the liquid surface of the liquid 140 to enable. Corresponding examples of a height adjusting element are described in detail with reference to 2 described. The provision of a height adjusting element allows a substantially constant action in the removal of bubbles in the inlet ducts 111 , ... 111c and / or substantially eliminates the creation of new bubbles in the delivery of the liquid 140 to the inlet area 110 ,

2a zeigt schematisch eine Plattierungsanlage 260 mit Prozesskammern 261a, 261b, die mit entsprechenden Zufuhrleitungen 262a, 262b und entsprechenden Auslassleitungen 211a, 211b verbunden sind. Die Prozesskammern 261a, 261b können als Brunnen-artige Plattierungsanlage ausgebildet sein, in denen ein Substrat in Position gehalten werden kann, so dass dieses die Plattierungslösung aufnehmen kann, die durch die Zufuhrleitungen 262a, 262b geliefert wird. Die Plattierungsanlage 260 kann ferner eine Verteilungsleitung 263 aufweisen, die mit ihrer Ausgangsseite mit den Zufuhrleitungen 262a, 262b und mit ihrer Eingangsseite mit einer Zufuhrleitung 221 einschließlich einer Pumpe 222 verbunden ist. Ferner kann ein Filter 223 in der Zufuhrleitung 221 vorgesehen sein. Die Plattierungsanlage 260 umfasst ferner einen Vorratstank 200, der in einer Ausführungsform (nicht gezeigt) im Wesentlichen die gleiche Konfiguration aufweisen kann, wie sie zuvor mit Bezug zu 1 beschrieben ist. In der gezeigten Ausführungsform umfasst der Vorratstank 200 einen Einlassbereich 210 und einen Auslassbereich 220 mit einer ersten Barriere 230, die zwischen dem Einlassbereich 210 und dem Auslassbereich 220 angeordnet ist. Die erste Barriere umfasst einen oberen Bereich 231 und einen unteren Bereiche 232, wobei der untere Bereich 232 mindestens eine Öffnung 233 aufweist oder definiert, um einen Fluidströmungsweg von dem Einlassbereich 210 zu dem Auslassbereich 220 bereitzustellen. Hinsichtlich der Anzahl und der Lage der mindestens einen Öffnung 233 und hinsichtlich der Konfiguration der ersten Barriere 230 gelten im Wesentlichen die gleichen Kriterien, wie sie zuvor mit Bezug zu der in 1 dargestellten Barriere 130 dargelegt sind. Der Vorratstank 200 umfasst ferner eine zweite Barriere 270, die zwischen der ersten Barriere 230 und dem Auslassbereich 220 angeordnet ist, wobei die zweite Barriere einen unteren Bereich 272 und einen oberen Bereich 271 aufweist, der eine Öffnung 273 enthält oder bildet, um einen Fluidströmungsweg von dem Einlassbereich 210 zu dem Auslassbereich 220 über einen Zwischenbereich 215 bereitzustellen. 2a schematically shows a plating plant 260 with process chambers 261a . 261b connected to appropriate supply lines 262a . 262b and corresponding outlet lines 211 . 211b are connected. The process chambers 261a . 261b may be formed as a fountain-like plating apparatus in which a substrate may be held in position so that it can receive the plating solution passing through the supply lines 262a . 262b is delivered. The plating plant 260 can also be a distribution line 263 have, with their output side with the supply lines 262a . 262b and with its input side with a supply line 221 including a pump 222 connected is. Furthermore, a filter 223 in the supply line 221 be provided. The plating plant 260 further includes a storage tank 200 which in one embodiment (not shown) may have substantially the same configuration as previously described with reference to 1 is described. In the embodiment shown, the storage tank comprises 200 an inlet area 210 and an outlet area 220 with a first barrier 230 that is between the inlet area 210 and the outlet area 220 is arranged. The first barrier includes an upper area 231 and a lower areas 232 , where the lower area 232 at least one opening 233 or defined to a fluid flow path from the inlet region 210 to the outlet area 220 provide. With regard to the number and location of the at least one opening 233 and regarding the configuration of the first barrier 230 Essentially, the same criteria apply as previously described with reference to in 1 represented barrier 130 are set out. The storage tank 200 further includes a second barrier 270 that is between the first barrier 230 and the outlet area 220 is arranged, wherein the second barrier has a lower area 272 and an upper area 271 having an opening 273 contains or forms a fluid flow path from the inlet region 210 to the outlet area 220 over an intermediate area 215 provide.

Es sollte beachtet werden, dass die Öffnung 273 so aufzufassen ist, dass hierbei eine beliebige physikalische Öffnung, die in dem oberen Bereich 271 gebildet ist, mit eingeschlossen und ebenso eine Öffnung mit eingeschlossen, die durch eine reduzierte Höhe der zweiten Barriere 270 in Bezug auf einen gewünschten Flüssigkeitspegel 274 gebildet wird, unabhängig davon, ob eine Flüssigkeit 240 tatsächlich in dem Tank 200 enthalten ist oder nicht. Somit ist eine "wirksame" vertikale Größe der mindestens einen Öffnung 273 durch die Konfiguration des oberen Bereichs 271 und den Flüssigkeitspegel 277 definiert. In einer speziellen Ausführungsform ist die zweite Barriere 270 so gestaltet, dass die Öffnung 273 in Form einer oder mehrerer Öffnungen in dem oben definierten Sinne den einzigen Fluidströmungsweg von dem Zwischenbereich 215, der durch die erste Barriere 230 und die zweite Barriere 270 definiert ist, zu dem Auslassbereich 220 bereitstellt. Dabei kann die vertikale Größe der Öffnung 273 so gewählt werden, dass Blasen in der Flüssigkeit 240, die durch die Öffnung 273 strömen, effektiv mit der Oberfläche der Flüssigkeit 270 in Kontakt kommen, wodurch die Blasen von der Flüssigkeit 240 entfernt werden. In einer speziellen Ausführungsform ist die Öffnung 273, zumindest teilweise, durch einen Spalt zwischen einem entsprechenden Endbereich des oberen Bereichs 271 und dem gewünschten Flüssigkeitspegel 274 gebildet, wodurch eine erhöhte Wahrscheinlichkeit hervorgerufen wird, dass Blasen mit der Oberfläche der Flüssigkeit 240 während der Flüssigkeitsströmung durch die Öffnung 273 in Kontakt kommen.It should be noted that the opening 273 is to be understood that in this case any physical opening in the upper area 271 is formed, including and also including an opening formed by a reduced height of the second barrier 270 with respect to a desired liquid level 274 is formed, regardless of whether a liquid 240 actually in the tank 200 is included or not. Thus, an "effective" vertical size of the at least one opening 273 through the configuration of the upper area 271 and the liquid level 277 Are defined. In a specific embodiment, the second barrier is 270 designed so that the opening 273 in the form of one or more openings in the sense defined above, the single fluid flow path from the intermediate region 215 passing through the first barrier 230 and the second barrier 270 is defined to the outlet area 220 provides. This can be the vertical size of the opening 273 be chosen so that bubbles in the liquid 240 passing through the opening 273 flow effectively with the surface of the liquid 270 come into contact, reducing the bubbles from the liquid 240 be removed. In a specific embodiment, the opening is 273 at least partially, through a gap between a corresponding end region of the upper region 271 and the desired liquid level 274 formed, whereby an increased probability is caused that bubbles with the surface of the liquid 240 during the fluid flow through the opening 273 get in touch.

In anderen Ausführungsformen (nicht gezeigt) können zwei oder mehrere Zwischenbereiche 215 vorgesehen sein, indem nacheinander eine erste Barriere 230 mit einer Öffnung 233 an dem unteren Bereich 223 und eine zweite Barriere 270 mit einer Öffnung 273 in dem oberen Bereich 271 so angeordnet sind, dass diese einen im Wesentlichen zickzackförmigen Strömungsweg von dem Einlassbereich 210 zu dem Auslassbereich 220 definieren. Auf diese Weise wird die Fähigkeit zum Entfernen von Blasen im Vergleich zu einem einzelnen Zwischenbereich 215, wie er in 2a gezeigt ist, erhöht.In other embodiments (not shown), two or more intermediate regions may be included 215 be provided by successively a first barrier 230 with an opening 233 at the bottom 223 and a second barrier 270 with an opening 273 in the upper area 271 are arranged so that they have a substantially zigzag flow path from the inlet region 210 to the outlet area 220 define. In this way, the ability to remove bubbles compared to a single intermediate area 215 as he is in 2a shown is increased.

Während des Betriebs der Plattierungsanlage 260 wird die Flüssigkeit 240 mit dem gewünschten Flüssigkeitspegel 274 dem Tank 200 mittels der Auslassleitungen 211a, 211b oder durch andere Flüssigkeitszufuhrleitungen (nicht gezeigt) zugeführt. Danach wird die Pumpe 222 aktiviert, um einen Strom der Flüssigkeit 240 über die Zufuhrleitung 221, die Verteilerleitung 263 und die Zufuhrleitungen 262a, 262c zu den Prozesskammern 261a, 261b zu erzeugen. Überschüssige Flüssigkeit, die während des Plattierungsprozesses in den Prozesskammern 261a, 261b nicht verbraucht wird, wird über die Auslassleitungen 211a, 211b abgeführt und wird dem Einlassbereich 210 über die Öffnungen 213 zugeführt, die in der Höhe so eingestellt sind, dass sie unterhalb des gewünschten Flüssigkeitspegels 274 bleiben. Wie zuvor mit Bezug zu 1 erläutert ist, können die Auslassleitungen 211a, 211b entsprechende Endbereiche 212 mit einem gebogenen Bereich aufweisen, der in ei ner speziellen Ausführungsform in einer im Wesentlichen U-förmigen Konfiguration vorgesehen ist. Blasen mit moderater Größe, die während des Transports der Flüssigkeit 240 von den Prozesskammer 261a, 261b zu dem Einlassbereich 210 erzeugt werden, werden wirksam auf Grund der Nähe der Position der Öffnungen 213 zu der Flüssigkeitsoberfläche entfernt. Ferner wird die Erzeugung weiterer Blasen während der Abgabe der Flüssigkeit 240 in den Einlassbereich 210 wirksam unterdrückt. Da der Fluidströmungsweg von dem Einlassbereich 210 zu dem Zwischenbereich 215 im Wesentlichen durch die Öffnung 233 bestimmt ist, ist die Wahrscheinlichkeit für das Transportieren von Blasen innerhalb des Flüssigkeitsstromes deutlich reduziert, da die Blasen dazu neigen, an die Oberfläche aufzusteigen. Anschließend wird der Flüssigkeitsstrom gezwungen, sich nach oben zu bewegen, da der Fluidströmungsweg von dem Zwischenbereich 215 zu dem Auslassbereich 220 im Wesentlichen durch die Öffnung 273 bestimmt ist, wobei die verbleibenden Blasen wirksam mit der Flüssigkeitsoberfläche in Kontakt gebracht werden, wodurch weiterhin Blasen aus dem Flüssigkeitsstrom entfernt werden. Schließlich wird die Flüssigkeit 240 in die Zufuhrleitung 221 in der Nähe der Unterseite des Tankes 200 eingesaugt, wodurch die Wahrscheinlichkeit für das Transportieren verbleibender Blasen weiter reduziert wird, da die Blasen vorzugsweise an der Oberfläche der Flüssigkeit 240 bleiben. Somit wird die Flüssigkeit 240 mit einer deutlich reduzierten Menge an Blasen den Prozesskammern 261a, 261b zugeführt, wodurch eine verbesserte Qualität plattierter Metallgebiete auf Grund des Fehlens von Blasen auf der Substratoberfläche erreicht wird. Ferner bewirkt der reduzierte Anteil an Blasen in der Zufuhrleitung 221, der Verteilerleitung 263 und den Zufuhrleitungen 262a, 262b eine Verringerung nachteiliger Reaktionen der Additive, die in der Flüssigkeit 240 enthalten sind, so dass die Stabilität des Plattierungsprozesses verbessert ist. Wie zuvor dargelegt ist, kann die Wirksamkeit beim Entfernen von Blasen noch erhöht werden, indem zwei oder mehr Zwischenbereiche 215 bereitgestellt werden, so dass sich mit dem Flüssigkeitsstrom bewegenden Blasen gezwungen werden, sich periodisch an die Flüssigkeitsoberfläche und gegen ihren eigenen Auftrieb zu der Unterseite des Tanks 200 zu bewegen.During operation of the plating plant 260 becomes the liquid 240 with the desired liquid level 274 the tank 200 by means of the outlet pipes 211 . 211b or through other liquid supply lines (not shown). After that the pump will start 222 activated to a stream of liquid 240 via the supply line 221 , the distribution line 263 and the supply lines 262a . 262c to the process chambers 261a . 261b to create. Excess liquid during the plating process in the process chambers 261a . 261b is not consumed, is via the outlet pipes 211 . 211b dissipated and becomes the inlet area 210 over the openings 213 fed, which are adjusted in height so that they are below the desired liquid level 274 stay. As before with reference to 1 is explained, the outlet pipes 211 . 211b corresponding end regions 212 having a bent portion provided in a specific embodiment in a substantially U-shaped configuration. Bubbles of moderate size during transport of the fluid 240 from the process chamber 261a . 261b to the inlet area 210 be generated due to the proximity of the position of the openings 213 removed to the liquid surface. Furthermore, the generation of additional bubbles during the discharge of the liquid 240 in the inlet area 210 effectively suppressed. As the fluid flow path from the inlet area 210 to the intermediate area 215 essentially through the opening 233 is determined, the likelihood of transporting bubbles within the liquid stream is significantly reduced because the bubbles tend to rise to the surface. Thereafter, the fluid flow is forced to move upwardly as the fluid flow path from the intermediate region 215 to the outlet area 220 essentially through the opening 273 with the remaining bubbles effectively brought into contact with the liquid surface, thereby further removing bubbles from the liquid stream. Finally, the liquid 240 into the supply line 221 near the bottom of the tank 200 sucked, whereby the probability for transporting remaining bubbles is further reduced, since the bubbles preferably at the surface of the liquid 240 stay. Thus, the liquid becomes 240 with a significantly reduced amount of bubbles in the process chambers 261a . 261b which results in improved quality of plated metal regions due to the lack of bubbles on the substrate surface. Furthermore, the reduced proportion of bubbles in the supply line 221 , the distribution line 263 and the supply lines 262a . 262b a reduction of adverse reactions of the additives contained in the liquid 240 are included, so that the stability of the plating process is improved. As previously stated, the effectiveness in removing bubbles can be further enhanced by having two or more intermediate regions 215 so that bubbles moving with the liquid stream are forced to periodically contact the liquid surface and against their own buoyancy to the bottom of the tank 200 to move.

Es sollte beachtet werden, dass die Form der ersten und der zweiten Barriere 230 und 270 so gewählt werden kann, wie es für die Herstellung der Barrieren 230, 270 und die Montage innerhalb des Vorratstanks 200 als geeignet erachtet wird. Beispielsweise können Halteelemente – integral oder separat – an den Barrieren ausgebildet werden oder können an diesen befestigt werden, wie dies für ein zuverlässiges Befestigen der Barrieren 230, 270 erforderlich ist. Des weiteren kann die Form der Barrieren in Hinblick auf Kriterien, etwa reduzierter Strömungswiderstand, Blaseneinfangvermögen, und dergleichen ausgewählt werden. Beispielsweise können Seitenwände der Barrieren in Bezug auf den Fluidströmungsweg geneigt und Ränder, die die Öffnungen 233 und 237 definieren können abgerundet werden, um den Strömungswiderstand zu verringern und um die Bildung einer turbulenten Strömung zu reduzieren. In anderen Beispielen können überhängende Bereiche an der ersten und der zweiten Barriere 230, 270 vorzugsweise in der Nähe der entsprechenden Öffnungen 233, 273 vorgesehen werden, um restliche Blasen einzufangen.It should be noted that the shape of the first and the second barrier 230 and 270 can be chosen as it is for the production of the barriers 230 . 270 and the assembly inside the storage tank 200 is considered suitable. For example, holding elements - integral or separate - can be formed on the barriers or can be attached to them, as for a reliable fixing of the barriers 230 . 270 is required. Further, the shape of the barriers may be selected in view of criteria such as reduced flow resistance, bubble trapping ability, and the like. For example, sidewalls of the barriers may be inclined with respect to the fluid flow path and edges that define the openings 233 and 237 can be rounded to reduce flow resistance and to reduce the formation of turbulent flow. In other examples, overhanging areas may be at the first and second barriers 230 . 270 preferably near the corresponding openings 233 . 273 be provided to capture residual bubbles.

In einigen Ausführungsformen können siebartige Elemente (nicht gezeigt) an der Öffnung 233 und/oder 273 vorgesehen sein, wobei die Größe der einzelnen Siebelemente so gewählt ist, um im Wesentlichen den Durchgang von Blasen mit einer vordefinierten Größe zu verhindern. In einigen Ausführungsformen kann der Flüssigkeitspegel 274 im Wesentlichen konstant gehalten werden, indem kontinuierlich zusätzliche Flüssigkeit 240 dem Tank 200 zugeführt werden, wodurch die Menge an Flüssigkeit kompensiert wird, die während des Plattierungsprozesses in den Prozesskammern 261a und 261b verbraucht wird. Dazu kann ein zusätzlicher Vorratstank (nicht gezeigt) bereitgestellt werden und kann mit dem Vorratstank 200, vorzugsweise an dem Einlassbereich 210 verbunden werden, wobei eine steuerbare Pumpe in Kombination mit einem Pegeldetektor (nicht gezeigt) eine geeignete Steuerung der Zufuhr an zusätzlicher Flüssigkeit 240 ermöglicht. In anderen Ausführungsformen können entsprechende Höheneinstellelemente für die Endbereiche 212 und/oder die erste Barriere 230 und/oder die zweite Barriere 270 vorgesehen sein, wie dies mit Bezug zu den 2b und 2c beschrieben ist, um die blasenentfernende Wirkung einem variierenden Flüssigkeitspegel 274 anzupassen.In some embodiments, sieve-like elements (not shown) may be attached to the opening 233 and or 273 be provided, wherein the size of the individual sieve elements is selected so as to substantially prevent the passage of bubbles of a predefined size. In some embodiments, the liquid level 274 be kept substantially constant by adding additional liquid 240 the tank 200 are supplied, whereby the amount of liquid is compensated during the plating process in the process chambers 261a and 261b is consumed. For this purpose, an additional storage tank (not shown) can be provided and can with the storage tank 200 , preferably at the inlet area 210 connected, wherein a controllable pump in combination with a level detector (not shown) a suitable control of the supply of additional liquid 240 allows. In other embodiments, corresponding height adjustment elements for the end regions 212 and / or the first barrier 230 and / or the second barrier 270 be provided as related to the 2 B and 2c described the bubble-removing effect a varying liquid level 274 adapt.

2b zeigt schematisch einen Teil des Einlassbereichs 210 gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Wie gezeigt ist, umfasst der Einlassbereich 210 die Auslassleitungen 211a, 211b und 211c, wobei die Endbereiche 212 der Leitungen 211a, 211b einen gebogenen Bereich aufweisen, so dass eine im Wesentlichen U-förmige Konfiguration oder eine siphon-artige Konfiguration gebildet wird. Die Auslassleitung 211c kann einen Endbereich 212 mit einer nicht-siphonartigen Konfiguration aufweisen, etwa einer im Wesentlichen linearen Konfiguration in der Nähe der Ausgangsöffnung 213. Die Endbereiche 212 der Auslassleitungen 211a,... 211c umfassen ferner flexible Bereiche 214, beispielsweise in Form eines blasebalgartigen Bereichs oder in der Form eines flexiblen Schlauches, der in einfacher Weise in einer beliebigen erforderlichen Weise gebo gen werden kann. Ferner umfasst der Einlassbereich 210 ein Höhenjustierelement 216 mit einem Schwimmkörper 217 und einem Halteelement 218. Das Halteelement 218 kann an dem Schwimmkörper 217 und dem Endbereich 212 so befestigt sein, um einen definierten Abstand 202 zwischen der Öffnung 213 und dem Flüssigkeitspegel 274 zu bewahren. In einer speziellen Ausführungsform ist das Halteelement 218 so ausgestaltet, dass der Abstand 202 in einfacher Weise auf einen beliebigen gewünschten Wert angepasst werden kann, bevor der Vorratstank 200 mit der Flüssigkeit 240 gefüllt wird. Nach dem Einstellen des Abstandes 202 stellt der Schwimmkörper 217 sicher, dass der gewünschte Abstand 202 im Wesentlichen während des Betriebs des Vorratstanks 200 beibehalten wird, unabhängig von einer Änderung des Flüssigkeitspegels 274. Somit kann das Abgeben der Flüssigkeit 240 in den Einlassbereich 210 entsprechend dem vordefinierten Abstand 202 durchgeführt werden, wobei der Abstand 202 gleich oder unterschiedlich für unterschiedliche Auslassleitungen 211a,... 211c gewählt werden kann. Beispielsweise kann die Flüssigkeit 240 eine Zusammensetzung unterschiedlicher Materialien repräsentieren, wobei eine oder mehrere dieser Materialien von einigen der Auslassleitungen 211a,... 211c geliefert werden, wobei eine Differenz in der Viskosität und/oder dem Druck und/oder der Menge einen unterschiedlichen Abstand 202 in Bezug auf den Flüssigkeitspegel 274 der zusammengesetzten Flüssigkeit 240 erfordern kann. In anderen Ausführungsformen können, wenn die Auslassleitungen die überschüssige Plattierungslösung von den Prozesskammern 261a, 261b zu dem Einlassbereich 210 zuführen, unterschiedliche Prozessrezepte in den einzelnen Prozesskammern das Abgeben der Prozessflüssigkeit unter sehr unterschiedlichen Umständen erforderlich machen. Beispielsweise kann eine große Menge überschüssiger Flüssigkeit durch eine der Auslassleitungen im Vergleich zu anderen Auslassleitungen abgegeben werden, oder die Menge und/oder die Größe der Blasen, die in einer Prozesskammer erzeugt werden, ist deutlich unterschiedlich zu anderen Prozesskammern, wodurch ebenfalls eine unterschiedliche Einstellung des Abstandes 202 erforderlich sein kann. In einigen Ausführungsformen wird ein Führungselement 219 bereitgestellt, beispielsweise in Form entsprechend dimensionierter Führungsbleche, um die laterale Bewegung des Schwimmkörpers 217 einzuschränken, wodurch auch die laterale Position der Endbereiche 212 und damit der Öffnungen 213 der entsprechenden Auslassleitungen 211a,... 211c stabilisiert wird. Somit wird ein einfaches Mittel zum Einstellen der Höhe 202 bereitgestellt, wobei im Wesentlichen keine Wartung für das Höhenjustierelement 216 erforderlich ist, da dieses Element aus beständigen Materialien, etwa Metall, beschichtetes Metall, Plastikmaterialien und dergleichen hergestellt werden kann. 2 B schematically shows a part of the inlet area 210 according to further illustrative embodiments of the present invention. As shown, the inlet area comprises 210 the outlet pipes 211 . 211b and 211c , where the end areas 212 the lines 211 . 211b have a bent portion so that a substantially U-shaped configuration or a siphon-like configuration is formed. The outlet pipe 211c can have an end area 212 having a non-siphon-like configuration, such as a substantially linear configuration near the exit port 213 , The end areas 212 the outlet pipes 211 ... 211c also include flexible areas 214 For example, in the form of a bellows-like area or in the form of a flexible hose, which can be gebo conditions in a simple manner in any required manner. Furthermore, the inlet area comprises 210 a height adjustment element 216 with a float 217 and a holding element 218 , The holding element 218 can on the float 217 and the end area 212 be so attached to a defined distance 202 between the opening 213 and the liquid level 274 to preserve. In a specific embodiment, the retaining element 218 designed so that the distance 202 can be easily adjusted to any desired value before the storage tank 200 with the liquid 240 is filled. After setting the distance 202 represents the float 217 ensure that the desired distance 202 substantially during operation of the storage tank 200 is maintained, regardless of a change in the liquid level 274 , Thus, the dispensing of the liquid 240 in the inlet area 210 according to the predefined distance 202 be performed, the distance 202 the same or different for different outlet lines 211 ... 211c can be chosen. For example, the liquid 240 represent a composition of different materials, with one or more of these materials from some of the exhaust ducts 211 ... 211c be supplied, wherein a difference in the viscosity and / or the pressure and / or the amount of a different distance 202 in terms of liquid level 274 the composite liquid 240 may require. In other embodiments, if the outlet lines may contain the excess plating solution from the process chambers 261a . 261b to the inlet area 210 different process recipes in the individual process chambers require the dispensing of the process fluid under very different circumstances. For example, a large amount of excess liquid may be discharged through one of the outlet conduits as compared to other outlet conduits, or the amount and / or size of bubbles generated in a process chamber is significantly different than other process chambers, which also results in a different setting of the distance 202 may be required. In some embodiments, a guide element 219 provided, for example in the form of appropriately sized guide plates to the lateral movement of the float 217 which also limits the lateral position of the end regions 212 and thus the openings 213 the corresponding outlet pipes 211 ... 211c is stabilized. Thus, a simple means for adjusting the height 202 provided with substantially no maintenance for the height adjustment 216 is required, since this element can be made of durable materials, such as metal, coated metal, plastic materials and the like.

2c zeigt schematisch einen Teil des Vorratstanks 200 gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. In den in 2c dargestellten Ausführungsformen umfasst die zweite Barriere 270 einen flexiblen Bereich 275 an dem unteren Bereich 272, so dass eine Bewegung der zweiten Barriere 270 zumindest in vertikaler Richtung möglich ist. Zum Beispiel kann der flexible Bereich 275 in der Form einer blasbalgähnlichen Konfiguration vorgesehen sein, oder der flexible Bereich 275 kann mittels eines beliebigen flexiblen Materials vorgesehen sein, das leicht biegbar ist, um damit eine gewisse Beweglichkeit zumindest in der vertikalen Richtung bereitzustellen. Ein Höhenjustierelement 216a ist an der zweiten Barriere 270 mittels einem entsprechenden Halteelement 218a befestigt. Das Höhenjustierelement 216a umfasst einen Schwimmkörper 217a, der so gestaltet ist, um ausreichend Auftrieb in Bezug auf die Flüssigkeit 240 zu liefern, so dass damit die zweite Barriere 270 getragen werden kann, um damit eine im Wesentlichen konstante vertikale Position und damit die "effektive" vertikale Größe der Öffnung 273 in Bezug auf den Flüssigkeitspegel 274 konstant zu halten. Mittels des Höhenjustierelements 216a kann die vertikale Größe 202a der Öffnung 273, die von der zweiten Barriere 270 und dem Flüssigkeitspegel 274 definiert ist, auf einen beliebigen gewünschten Wert eingestellt und während des Betriebs des Vorratstanks 200 auf diesen gewünschten Wert nahezu konstant gehalten werden, ähnlich wie dies mit Bezug zu 2b beschrieben ist. Wenn mehrere zweite Barrieren 270 vorgesehen sind, können die einzelnen Abmessungen 202a in einer beliebig gewünschten Weise eingestellt werden, um damit die Wirksamkeit bei der Reduzierung des Anteils an Blasen in der Plattierungsanlage 260 zu verbessern. In anderen Ausführungsformen kann die erste Barriere 230 ein Höhenjustierelement 216b einschließlich eines Halteelements 218b, das mit der ersten Barriere 230 gekoppelt ist, und eine Justierschraube 217b aufweisen, die so ausgebildet ist, um zusammen mit dem Halteelement 218b eine vertikale Bewegung der ersten Barriere 230 beim Drehen der Schraube 217b zu ermöglichen. Auf diese Weise kann die vertikale Größe 202b der Öffnung 233 entsprechend den Prozesserfordernissen eingestellt werden. 2c schematically shows a part of the storage tank 200 according to further illustrative embodiments of the present invention. In the in 2c illustrated embodiments includes the second barrier 270 a flexible area 275 at the bottom 272 , making a movement of the second barrier 270 at least in the vertical direction is possible. For example, the flexible area 275 be provided in the form of a bellows-like configuration, or the flexible area 275 may be provided by means of any flexible material which is easily bendable so as to provide some mobility at least in the vertical direction. A height adjustment element 216a is at the second barrier 270 by means of a corresponding retaining element 218a attached. The height adjustment element 216a includes a float 217a which is designed to provide sufficient buoyancy with respect to the liquid 240 to deliver, making it the second barrier 270 can be worn so as to have a substantially constant vertical position and thus the "effective" vertical size of the opening 273 in terms of liquid level 274 to keep constant. By means of the height adjustment element 216a can be the vertical size 202a the opening 273 that from the second barrier 270 and the liquid level 274 is set to any desired value and during operation of the storage tank 200 be kept almost constant to this desired value, similar to that with reference to 2 B is described. If several second barriers 270 are provided, the individual Abmessun gene 202a can be adjusted in any desired manner so as to reduce the amount of bubbles in the plating plant 260 to improve. In other embodiments, the first barrier may be 230 a height adjustment element 216b including a holding element 218b that with the first barrier 230 coupled, and an adjustment screw 217b which is designed to be together with the holding element 218b a vertical movement of the first barrier 230 when turning the screw 217b to enable. In this way, the vertical size 202b the opening 233 be adjusted according to the process requirements.

Es sollte beachtet werden, dass die mit Bezug zu den 1, 2a bis 2c beschriebenen Ausführungsformen leicht in beliebiger geeigneter Weise kombiniert werden können, um die Wirksamkeit beim Unterdrücken von Blasen in der Prozessflüssigkeit, die einer Prozessanlage zugeführt wird, etwa der Plattierungsanlage 260, zu erhöhen.It should be noted that with reference to the 1 . 2a to 2c described embodiments can be readily combined in any suitable manner to the effectiveness in suppressing bubbles in the process liquid, which is fed to a process plant, such as the plating plant 260 to raise.

Es gilt also: die vorliegende Erfindung stellt äußerst effiziente Mittel zum Entfernen von Blasen in einem Vorratstank bereit, indem der Fluidströmungsweg innerhalb des Vorratstanks mittels mindestens einer Barriere gesteuert wird, um damit wirksam das Wandern von Blasen von einem Einlassbereich zu einem Auslassbereich des Vorwärtstanks zu unterdrücken. Mittels mindestens einer weiteren Barriere wird der Flüssigkeitsstrom gezwungen, zumindest teilweise in der Nähe der Flüssigkeitsoberfläche zu strömen, um damit die Wahrscheinlichkeit deutlich zu erhöhen, dass Blasen mit der Oberfläche in Kontakt kommen und damit von dem Flüssigkeitsstrom entfernt werden. In speziellen Ausführungsformen wird die Zufuhr der Flüssigkeit in den Einlassbereich des Vorratstanks so bewerkstelligt, dass die Flüssigkeit unterhalb des Flüssigkeitsspiegels in den Einlassbereich eingeleitet wird. Obwohl eine hohe Wirksamkeit bei Entfernen von Blasen erreicht wird, ist im Wesentlichen kein zusätzlicher Wartungsaufwand erforderlich, anders als bei konventionellen Blasenentfernungsmitteln mit aktiven Komponenten, etwa aktiven Entgasungselementen. Des weiteren kann die Verwendung teurer Filterelemente deutlich reduziert oder vollständig unnötig sein auf Grund der Konfiguration des Vorratstanks gemäß der vorliegenden Erfindung.It Thus, the present invention provides extremely efficient means for Remove bubbles in a storage tank ready by moving the fluid flow path controlled within the storage tank by means of at least one barrier In order to effectively make the migration of bubbles from an inlet area effective to an outlet area of the forward tank to suppress. By means of at least one further barrier, the liquid flow forced to flow at least partially near the liquid surface to thus significantly increasing the likelihood that bubbles will come into contact with the surface and thus of the liquid flow be removed. In specific embodiments, the feed the liquid into the inlet area of the storage tank so accomplished that the Liquid below of the liquid level is introduced into the inlet area. Although high in effectiveness Removal of bubbles is achieved is essentially no additional Maintenance required, unlike conventional bubble removal products with active components, such as active degassing elements. Furthermore can significantly reduce the use of expensive filter elements or Completely unnecessary be due to the configuration of the storage tank according to the present Invention.

Weitere Modifizierungen und Variationen der vorliegenden Erfindung werden für die Fachmann angesichts dieser Beschreibung offenkundig. Daher ist diese Beschreibung als lediglich anschaulich und für die Zwecke gedacht, dem Fachmann die allgemeine Art und Weise des Ausführens der vorliegenden Erfindung zu vermitteln. Selbstverständlich sind die hierin gezeigten und beschriebenen Formen der Erfindung als die gegenwärtig bevorzugten Ausführungsformen zu betrachten.Further Modifications and variations of the present invention will become for the One skilled in the art in light of this description. Therefore, this is Description as merely illustrative and intended for the purpose, the expert the general manner of carrying out the present invention to convey. Of course are the forms of the invention shown and described herein as the present preferred embodiments consider.

Claims

Storage tank for a process fluid With: an inlet area for receiving the process liquid; one Outlet area connectable to a supply line; and one Barrier with an upper area and a lower area, where the lower area faces an underside of the storage tank, the barrier between the inlet area and the outlet area is arranged, and wherein the lower portion has an opening in nearby a bottom portion of the storage tank defined to a fluid communication between the inlet area and the outlet area.

The storage tank according to claim 1, wherein the inlet area an intake pipe end portion in the inlet portion ends.

The storage tank of claim 2, further comprising a height adjustment element which is connected to the end region and designed in such a way that around a height an inlet opening the end of a liquid level in the inlet area.

The storage tank according to claim 2, wherein the end portion has a bent portion.

The storage tank according to claim 4, wherein the bent Area a substantially U-shaped configuration having.

The storage tank according to claim 1, further comprising second barrier with an upper area and a lower area has, wherein the lower portion with an underside of the storage tank is connected, and wherein the upper portion of the second barrier a second opening defined to a fluid flow path between the inlet area and the outlet area.

The storage tank according to claim 6, further comprising a second Höhenjustierelement which is coupled to the second barrier, wherein the second height adjustment element is adapted to a position of the second opening one liquid level in the storage tank.

The storage tank according to claim 1, which is formed is a plating solution take.

A method of operating a storage tank for a process fluid, the method comprising: Supplying the process liquid to an inlet area of the storage tank; and generating a liquid flow to an outlet region by means of a communicating aperture disposed proximate a bottom surface of the reservoir tank to substantially prevent the migration of bubbles into the outlet region.

The method of claim 9, further comprising: Setting a height an opening an intake pipe opening in the intake area such that these at a predefined distance below a liquid surface of the process liquid is arranged.

The method of claim 10, further comprising: To lead the liquid flow between the inlet region and the outlet region so that this partly nearby the liquid surface flows to increase Bubbles in the liquid stream to remove.

The method of claim 11, further comprising adjusting a distance of the liquid flow, the at least partially nearby the liquid surface flows on includes a predefined value.

The method of claim 9, wherein the process liquid a process chamber is fed to a plating plant.