DE10312742A1 - Optically pumped semiconductor laser arrangement comprises vertically emitting laser having emitter layer producing radiation, and pumped beam source for optically pumping laser - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine optisch gepumpte Halbleiterlaservorrichtung mit einem vertikal emittierenden Laser mit einer Strahlung erzeugenden Emitterschicht, und einer Pumpstrahlungsquelle zum optischen Pumpen des vertikal emittierenden Lasers.The invention relates to an optical pumped semiconductor laser device with a vertically emitting Laser with a radiation-generating emitter layer, and a Pump radiation source for optical pumping of the vertically emitting Laser.
Optisch gepumpte oberflächenemittierende Halbleiterlaser sind als Emitter infraroter Strahlung mit hoher Strahlqualität bekannt. Bei dem Versuch, derartige Konzepte für eine Emission im sichtbaren Spektralbereich anzuwenden, ergibt sich jedoch die Schwierigkeit, daß im sichtbaren Spektralbereich keine zufriedenstellend leistungsfähige Halbleiter-Pumplaser zur Verfügung stehen.Optically pumped surface emitting semiconductor lasers are known as emitters infrared radiation with high beam quality. In trying such concepts for emission in the visible spectral range However, the difficulty arises that in the visible Spectral range no satisfactorily efficient semiconductor pump laser to disposal stand.
Um diesem Problem zu begegnen, ist
vorgeschlagen worden, nichtlineare optische Elemente in den externen
Resonator eines vertikal emittierenden Infrarotlasers einzubringen.
Beispielsweise ist in der Druckschrift
In der Anordnung der
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine gattungsgemäße Halbleiterlaservorrichtung anzugeben, die eine Laseremission im sichtbaren oder ultravioletten Spektralbereich mit hoher Strahlqualität ermöglicht.The present invention is the task is based, a generic semiconductor laser device indicate a laser emission in the visible or ultraviolet Spectral range with high beam quality allows.
Diese Aufgabe wird durch die optisch gepumpte Halbleiterlaservorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Halbleiterlaservorrichtung gehen aus den Unteransprüchen 2 bis 33 hervor.This task is done by the optical pumped semiconductor laser device having the features of claim 1 solved. Advantageous embodiments and further developments of the semiconductor laser device according to the invention go from the subclaims 2 to 33.
Bei einer optisch gepumpten Halbleiterlaservorrichtung gemäß der Erfindung ist vorgesehen, daß bei einer Halbleiterlaservorrichtung der eingangs genannten Art der vertikal emittierende Laser eine Absorberschicht zur Zwei-Photonen-Absorption von Strahlung der Pumpstrahlungsquelle aufweist, deren Wellenlänge kleiner ist als die doppelte Laserwellenlänge, um Zwei-Photonen-Übergänge in der Absorberschicht anzuregen.In an optically pumped semiconductor laser device according to the invention is provided that at a semiconductor laser device of the aforementioned type of vertically emitting lasers an absorber layer for two-photon absorption of radiation of the pump radiation source whose wavelength is smaller is considered to double the laser wavelength to two-photon transitions in the To stimulate the absorber layer.
Die Erfindung beruht also darauf, eine Zwei-Photonen-Absorption zum Pumpen eines vertikal emittierenden Halbleiterlasers für eine direkte Laseremission im sichtbaren Spektralbereich, insbesondere für direkte grüne oder blaue Laseremission zu verwenden. Dabei geht die Erfindung insbesondere von der Erkenntnis aus, daß die halben Wellenlängen von verfügbaren leistungsstarken Infrarotlasern, die beispielsweise bei 808 nm oder 940 nm emittieren, ausgezeichnet zu typischen Übergängen der Halbleitersysteme für direkte grüne oder blaue Emission passen. Somit ermöglicht das optische Pumpen über eine Zwei-Photonen-Absorption eine direkte Emission grüner oder blauer Laserstrahlung aus mit Infrarotstrahlung optisch gepumpten Halbleiterkomponenten.The invention is therefore based a two-photon absorption for pumping a vertically emitting semiconductor laser for a direct Laser emission in the visible spectral range, especially for direct green or to use blue laser emission. The invention goes in particular from the knowledge that the half wavelengths from available powerful infrared lasers, for example, at 808 nm or 940 nm, excellent for typical transitions of the semiconductor systems for direct green or blue emission match. Thus allows the optical pumping over a two-photon absorption a direct emission green or blue laser radiation optically pumped with infrared radiation Semiconductor components.
Der vertikal emittierende Halbleiterlaser enthält dazu zumindest eine Absorberschicht, die die Pumpstrahlung in Zwei-Photonen-Prozessen absorbiert und zumindest eine Emitterschicht, in der sich die in den Absorberschichten erzeugten Ladungsträgerpaare sammeln, rekombinieren und eine der Bandlücke entsprechende Strahlung emittieren.The vertically emitting semiconductor laser contains to at least one absorber layer, the pump radiation in two-photon processes absorbed and at least one emitter layer, in which the in collect charge carrier pairs generated by the absorber layers, recombine and one of the bandgaps emit appropriate radiation.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Halbleiterlaservorrichtung ist vorgesehen, daß die Emitterschicht des vertikal emittierenden Lasers zur Emission von Strahlung im sichtbaren Spektralbereich, insbesondere im grünen oder blauen Spektralbereich eingerichtet ist.In a preferred embodiment the semiconductor laser device is provided that the emitter layer of the vertically emitting laser for the emission of radiation in the visible spectral range, especially in the green or blue spectral range is set up.
Die Pumpstrahlungsquelle emittiert bevorzugt Pumpstrahlung im infraroten Spektralbereich, was die Nutzung weit verbreiteter und leistungsfähiger Infrarotlaser erlaubt. Mit Vorteil ist die Pumpstrahlungsquelle in der Erfindung durch einen Diodenlaser, insbesondere durch einen Hochleistungsdiodenlaser gebildet.The pump radiation source emits prefers pump radiation in the infrared spectral range, causing the use more widespread and powerful Infrared laser allowed. An advantage is the pump radiation source in the invention by a diode laser, in particular by a High-power diode laser formed.
Die Emitterschicht des vertikal emittierenden Lasers enthält bevorzugt GaN, AlGaN, InGaN, AlInGaN, AlN InN, ZnS, ZnSe, ZnCdS ZnCdSe ZnMgSe oder ZnMgSSe. Die Absorberschicht des vertikal emittierenden Lasers enthält bevorzugt ebenfalls GaN, AlGaN, InGaN, AlInGaN, AlN InN, ZnS, ZnSe, ZnCdS ZnCdSe ZnMgSe oder ZnMgSSe. Allerdings unterscheidet sich in der Regel die Zusammensetzung der Absorberschicht von der Zusammensetzung der Emitterschicht, um so eine geeignet kleinere Bandlücke der Emitterschicht zu erzeugen.The emitter layer of the vertically emitting laser contains preferably GaN, AlGaN, InGaN, AlInGaN, AlN InN, ZnS, ZnSe, ZnCdS ZnCdSe ZnMgSe or ZnMgSSe. The absorber layer of the vertically emitting Lasers contains also prefers GaN, AlGaN, InGaN, AlInGaN, AlN InN, ZnS, ZnSe, ZnCdS ZnCdSe ZnMgSe or ZnMgSSe. However, it differs in the Usually the composition of the absorber layer of the composition the emitter layer so as to have a suitably smaller bandgap of Emitter layer to produce.
Durch Pumpstrahlungsquellen mit einer Wellenlänge von 808 nm können beispielsweise im Materialsystem (In)GaN in der Absor berschicht Übergänge bei 404 nm gepumpt werden, durch Pumpstrahlungsquellen mit einer Wellenlänge von 940 nm im Materialsystem (In)GaN oder im Materialsystem Zn(Cd)Se Übergänge bei 470 nm, oder durch Pumpstrahlungsquellen mit einer Wellenlänge von 980 nm im Materialsystem (In)GaN oder im Materialsystem Zn(Cd)Se Übergänge bei 490 nm.By pumping radiation sources with a wel For example, in the material system (In) GaN in the absorber layer transitions at 404 nm can be pumped, by pump radiation sources with a wavelength of 940 nm in the material system (In) GaN or in the material system Zn (Cd) Se transitions at 470 nm, or by pump radiation sources with a wavelength of 980 nm in the material system (In) GaN or in the material system Zn (Cd) Se transitions at 490 nm.
Nach derartigen Anregungen läßt sich aus den Emitterschichten grüne oder blaue Emission erzielen, beispielsweise bei Wellenlängen oberhalb von 404 nm bzw. oberhalb von 460 nm im Materialsystem (In)GaN oder oberhalb von 460 nm im Materialsystem Zn(Cd)Se.After such suggestions can be Green from the emitter layers or blue emission, for example at wavelengths above from 404 nm or above 460 nm in the material system (In) GaN or above 460 nm in the material system Zn (Cd) Se.
Die Emitterschicht und/oder die Absorberschicht der Halbleiterlaservorrichtung weist zweckmäßig eine Quantentopf- oder eine Mehrfachquantentopf-Struktur auf.The emitter layer and / or the absorber layer The semiconductor laser device expediently has a quantum well or a multiple quantum well structure.
Die Quantentopfschichten der Einfach- oder Mehrfachquantentopfstruktur können auch gleichzeitig als Emitter- und Absorberschichten fungieren. Dies ist beispielsweise dann der Fall, wenn höhere energetische Zustände eines Quantentopfs durch Zwei-Photonenabsorption angeregt werden und nach einer Relaxation in ein tieferes Niveau die Laseremission aus demselben Quantentopf erfolgt.The quantum well layers of the single or multiple quantum well structure may also simultaneously Emitter and absorber layers act. This is for example then the case, if higher energetic conditions of a quantum well are excited by two-photon absorption and after relaxation to a lower level the laser emission from the same quantum well.
In einer bevorzugten Ausgestaltung der Halbleiterlaservorrichtung ist vorgesehen, daß der vertikal emittierende Laser eine hochreflektierende Spiegelschicht aufweist. Die hochreflektierende Spiegelschicht kann dabei mit Vorteil durch einen verteilten Bragg-Reflektor gebildet sein. Bei bestimmten Anordnungen kann es jedoch auch zweckmäßig sein, die hochreflektierende Spiegelschicht als eine nachträglich aufgebrachte dielektrische Beschichtung des vertikal emittierenden Lasers auszubilden.In a preferred embodiment the semiconductor laser device is provided that the vertical emitting laser has a highly reflective mirror layer. The highly reflective mirror layer can thereby with advantage be formed a distributed Bragg reflector. For certain arrangements but it may also be appropriate the highly reflective mirror layer as a subsequently applied form dielectric coating of the vertically emitting laser.
In diesem Zusammenhang ist bei einer erfindungsgemäßen Halbleiterlaservorrichtung vorzugsweise ein externer Reflektor vorgesehen, der zusammen mit der hochreflektierenden Spiegelschicht einen Laserresonator bildet.In this context is at a According to the invention semiconductor laser device preferably provided an external reflector, which together with the highly reflective mirror layer forms a laser resonator.
Besonders hohe Verstärkung wird erzielt, wenn die Emitterschicht oder, falls mehr als eine Emitterschicht vorgesehen sind, mehrere Emitterschichten in solchen Bereichen angeordnet sind, in denen die Feldstärke des stehenden Resonatorfeldes maximal ist.Especially high gain is achieved when the emitter layer or, if more than one emitter layer are provided, a plurality of emitter layers arranged in such areas are in which the field strength of the resonator standing field is maximum.
Gemäß einer vorteilhaften Weiterentwicklung enthält der vertikal emittierende Laser der Halbleiterlaservorrichtung mehrere Emitterschichten, die in vertikaler Richtung einen Abstand aufweisen, der der Hälfte der Laserwellenlänge entspricht. Dadurch kann in einfacher Weise sichergestellt werden, daß die Feldstärkenmaxima des stehenden Resonatorfeldes gerade mit den Positionen der Emitterschichten zusammenfallen.According to an advantageous development contains the vertical emitting laser of the semiconductor laser device more Emitter layers that are spaced apart in the vertical direction the half the laser wavelength equivalent. This can be ensured in a simple manner that the Field intensity maxima of the resonator standing just coincide with the positions of the emitter layers.
In dem Laserresonator sind in bevorzugten Ausgestaltungen ein oder mehrere weitere optische Elemente angeordnet, insbesondere ein optisch nichtlinearer Kristall, ein Modulator, ein Etalon oder ein doppelbrechendes Filter.In the laser resonator are in preferred embodiments one or more further optical elements arranged, in particular an optically non-linear crystal, a modulator, an etalon or a birefringent filter.
Beispielsweise kann in dem Laserresonator mit Vorteil ein optisch nichtlinearer Kristall zur Frequenzverdopplung der Laserwellenlänge in den ultravioletten Spektralbereich vorgesehen sein. Dadurch wird ein optisch gepumpter Halbleiterlaser mit hoher Strahlqualität und mit Emission im UV geschaffen.For example, in the laser resonator with Advantage of an optically nonlinear crystal for frequency doubling the laser wavelength be provided in the ultraviolet spectral range. This will an optically pumped semiconductor laser with high beam quality and with Emission created in the UV.
In einer bevorzugten Ausgestaltung ist bei einer erfindungsgemäßen Halbleiterlaservorrichtung zum frontalen Pumpen vorgesehen, daß die Pumpstrahlungsquelle so angeordnet ist, daß die Pumpstrahlung unter einem Winkel ϕ, mit 0 < ϕ < 90°, auf die emittierende Oberfläche des vertikal emittierenden Lasers trifft. Der Winkel ϕ stellt dabei den Winkel zwischen dem einfallenden Pumpstrahl und der Normalen auf die emittierende Oberfläche des vertikal emittierenden Lasers dar.In a preferred embodiment is in a semiconductor laser device according to the invention for frontal pumps provided that the Pump radiation source is arranged so that the pump radiation under a Angle φ, with 0 <φ <90 °, on the emitting surface of the vertically emitting laser hits. The angle φ represents while the angle between the incident pump beam and the normal on the emitting surface of the vertically emitting laser.
Die Emitterschicht und die Absorberschicht des vertikal emittierenden Lasers sind beim frontalen Pumpen vorzugsweise auf einem Siliziumkarbid-Substrat aufgebracht, um eine gute Wärmeabführung der durch nichtstrahlende Prozesse erzeugten Verlustwärme zu gewährleisten.The emitter layer and the absorber layer of the vertically emitting lasers are preferred in frontal pumping Applied to a silicon carbide substrate to ensure good heat dissipation to ensure heat loss generated by non-radiative processes.
Um eine erhöhte Ausnutzung der Pumpstrahlung zu erreichen, ist gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Anordnung zum frontalen Pumpen eine mit der Pumplichtquelle zusammenwirkende optische Anordnung vorgesehen, die die Pumpstrahlung zwei- oder mehrfach durch die Absorberschicht führt. Im einfachsten Fall kann die optische Anordnung lediglich aus einem Spiegel bestehen, der den von dem vertikal emittierenden Laser reflektierten Anteil der Pumpstrahlung auf den Vertikalemitter zurückreflektiert und ein zweites Mal in die Absorberschicht einkoppelt.To an increased utilization of the pump radiation to reach is according to one preferred embodiment of the arrangement for frontal pumping a provided with the pump light source cooperating optical arrangement, the pump radiation two or repeatedly through the absorber layer leads. In the simplest case can the optical arrangement consist only of a mirror, the reflected by the vertically emitting laser portion of Pump radiation reflected back to the vertical emitter and a second Engage in the absorber layer.
Nach einer anderen bevorzugten Ausgestaltung ist bei einer erfindungsgemäßen Halbleiterlaservorrichtung zum rückseitigen Pumpen vorgesehen, daß die Emitterschicht und die Absorberschicht des vertikal emittierenden Lasers auf einem für die Pumpstrahlung transparenten Substrat aufgebracht sind, und daß die Pumpstrahlungsquelle so angeordnet ist, daß die Pumpstrahlung unter einem Winkel ϕ, mit 0 <= ϕ < 90°, auf die rückseitige Oberfläche des Substrats auftrifft. Der Winkel ϕ stellt dabei den Winkel zwischen dem einfallenden Pumpstrahl und der Normalen auf die Substratoberfläche dar.According to another preferred embodiment is in a semiconductor laser device according to the invention to the back Pumps provided that the Emitter layer and the absorber layer of the vertically emitting Lasers on a for the pump radiation transparent substrate are applied, and that the pump radiation source is arranged so that the Pump radiation at an angle φ, with 0 <= φ <90 °, on the rear surface of the substrate. The angle φ represents the Angle between the incident pump beam and the normal the substrate surface represents.
Bei dem rückseitigen Pumpen des vertikal emittierenden Lasers ist das Substrat bevorzugt durch ein hochtransparentes Saphirsubstrat oder ein undotiertes, transparentes SiC-Substrat gebildet.In the case of the rear-side pumping of the vertically emitting Lasers, the substrate is preferred by a highly transparent sapphire substrate or an undoped, transparent SiC substrate.
In einer bevorzugten Weiterbildung kann die Pumpstrahlungsquelle der frontal oder rückseitig gepumpten Halbleiterlaservorrichtung einen externen Pumpresonator aufweisen, der reso natorintern ein aktives Element (= das zu pumpende Halbleiterelement) enthält. Es kann ebenfalls mit Vorteil vorgesehen sein, daß die Pumpstrahlungsquelle resonant an einen externen Pumpresonator hoher Güte gekoppelt ist, wobei der externe Pumpresonator ein aktives Element enthält.In a preferred refinement, the pump radiation source of the semiconductor laser device pumped on the front or on the back can have an external pump resonator which contains an active element (= the semiconductor element to be pumped) inside the resonator. It can also be provided with advantage that the pump radiation source resonantly is coupled to a high-quality external pump resonator, wherein the external pump resonator contains an active element.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist bei einer erfindungsgemäßen Halbleiterlaservorrichtung die Pumpstrahlungsquelle zum lateralen Pumpen des vertikal emittierenden Lasers angeordnet und koppelt Pumpstrahlung über eine erste Seitenfläche des vertikal emittierenden Lasers in die Absorberschicht ein.In a further preferred embodiment is in a semiconductor laser device according to the invention the pump radiation source for laterally pumping the vertically emitting Laser arranged and couples pump radiation over a first side surface of the vertically emitting laser in the absorber layer.
Zur Erhöhung und Bündelung der im Halbleiterlaser laufenden Strahlungsintensität kann der vertikal emittierende Laser in diesem Fall Wellenleiterschichten zur lateralen Führung der eingekoppelten Pumpstrahlung aufweisen.To increase and bundle in the semiconductor laser ongoing radiation intensity For example, the vertically emitting laser may include waveguide layers in this case for lateral guidance having the coupled pump radiation.
Darüber hinaus kann eine der ersten Seitenfläche gegenüber liegende zweite Seitenfläche des vertikal emittierenden Lasers zur Reflexion der Pumpstrahlung verspiegelt sein, so daß ein Zweifachdurchgang der Pumpstrahlung durch das aktive Medium erreicht wird.In addition, one of the first side surface across from lying second side surface of the vertically emitting laser for reflection of the pump radiation be mirrored so that a Double passage of the pump radiation through the active medium achieved becomes.
Besonders effizient wird die Anregung, wenn die Pumpstrahlungsquelle einen externen Pumpresonator aufweist, der durch eine Endfacette der Pumpstrahlungsquelle und die verspiegelte zweite Seitenfläche des vertikal emittierenden Lasers gebildet ist. Die zur Verfügung stehende Leistung kann durch diese Maßnahme erhöht werden.Particularly efficient is the suggestion if the pump radiation source has an external pump resonator, through an end facet of the pump radiation source and the mirrored second side surface of the vertically emitting laser is formed. The available Performance can be through this measure elevated become.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist eine zweite Pumpstrahlungsquelle zum lateralen Pumpen des vertikal emittierenden Lasers vorgesehen, die Pumpstrahlung über eine dritte Seitenfläche des vertikal emittierenden Lasers in die Absorberschicht einkoppelt, um einen Überlappbereich mit der Strahlung der ersten Pumpstrahlungsquelle zu bilden. In dem Überlappungsbereich verdoppelt sich bei gleicher Pumpleistung der beiden Pumpstrahlungsquellen die Intensität und führt so zu einer deutlich erhöhten Zwei-Photonen-Absorption.In a particularly preferred embodiment is a second pump radiation source for lateral pumping of the vertical emissive laser provided, the pump radiation over a third side surface of the vertically emitting laser is coupled into the absorber layer, around an overlap area with form the radiation of the first pump radiation source. In the overlap area doubles at the same pump power of the two pump radiation sources the intensity and leads so to a significantly increased Two-photon absorption.
Auch in diesem Zusammenhang kann mit Vorteil vorgesehen sein, daß eine der dritten Seitenfläche gegenüber liegende vierte Seitenfläche des vertikal emittierenden Lasers zur Reflexion der Pumpstrahlung verspiegelt ist. Auch die zweite Pumpstrahlungsquelle kann einen externen Pumpresonator aufweisen, der durch eine Endfacette der zweiten Pumpstrahlungsquelle und die verspiegelte vierte Seitenfläche des vertikal emittierenden Lasers gebildet ist.Also in this context can be provided with advantage that a the third side surface across from lying fourth side surface of the vertically emitting laser for reflection of the pump radiation is mirrored. The second pump radiation source can also have a external pump resonator passing through an end facet of the second Pump radiation source and the mirrored fourth side surface of the vertically emitting laser is formed.
Es versteht sich, daß auch mehr als zwei Pumpstrahlungsquellen vorgesehen sein können, um besonders große Intensitäten im Kreuzungspunkt der Strahlengänge zu erhalten. Beispielsweise kann der vertikal emittierende Laser in Form eines Hexagons ausgeführt sein, in das über drei Seitenflächen Pumpstrahlung eingekoppelt wird, und bei dem die drei jeweils gegenüberliegenden Seitenflächen verspiegelt sind.It is understood that more can be provided as two pump radiation sources to particularly large intensities in the intersection of the beam paths to obtain. For example, the vertically emitting laser executed in the form of a hexagon be in that over three side surfaces pump radiation is coupled, and in which the three opposite each faces are mirrored.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist der vertikal emittierende Laser für die Pumpstrahlung als ein Resonator hoher Güte ausgebildet, in den die Pumpstrahlung resonant einkoppelbar ist.According to another preferred Embodiment of the invention is the vertically emitting laser for the Pump radiation formed as a resonator of high quality, in which the Pumping radiation is resonant coupled.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen, Merkmale und Details der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen, der Beschreibung der Ausführungsbeispiele und den Zeichnungen.Further advantageous embodiments, Features and details of the invention will become apparent from the dependent claims, the Description of the embodiments and the drawings.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher erläutert. Es sind jeweils nur die für das Verständnis der Erfindung wesentlichen Elemente dargestellt.The invention will be described below of exemplary embodiments explained in more detail in connection with the drawings. There are only each the for the understanding the invention essential elements shown.
Dabei zeigtIt shows
Das Scheibenelement
Im Ausführungsbeispiel sind Absorber-
und Emitterschichten jeweils durch Mehrfachquantentopf-Strukturen
auf Basis des InGaN-Materialsystems gebildet und zur Zwei-Photonen-Anregung
eines Übergangs
bei 404 nm (entsprechend zwei 808 nm-Photonen) und zur Emission im blauen
Spektralbereich oberhalb von 404 nm ausgelegt. Auf dem Bereich aktiver
Schichten ist eine optische dielektrische Beschichtung
Der externe Resonatorspiegel
Zusätzlich zu den bereits bei
Darüber hinaus ist in dem durch
die Spiegel
Ein Ausführungsbeispiel mit rückseitigem Pumpen
ist in der
Die Endfläche
Die verspiegelte Endfläche
Ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung
ist in
Im Überlappungsbereich
Es versteht sich, daß die in der Beschreibung, in den Zeichnungen sowie in den Ansprüchen offenbarten Merkmale der Erfindung sowohl einzeln als auch in jeder möglichen Kombination für die Verwirklichung der Erfindung wesentlich sein können.It is understood that the in the description, in the drawings and in the claims disclosed Features of the invention both individually and in every possible Combination for the realization of the invention may be essential.
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