DE10302055A1 - Interferometrische Messvorrichtung - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf eine interferometrische Messvorrichtung zum Vermessen der Oberfläche eines Objekts (O) durch Tiefenabtastung mit einer kurzkohärenten Lichtquelle (LQ), deren abgegebenes Licht auf einen Strahlteiler (ST) zum Bilden eines über einen Objektstrahlengang (OG) auf das Objekt (O) gerichteten Objektstrahls und eines über einen Referenzstrahlengang (RG) auf eine Referenzfläche (R) gerichteten Referenzstrahls geführt ist, mit einem Bildaufnehmer (BA) zum Aufnehmen des von der Objektoberfläche und von der Referenzfläche (R) zurückgeworfenen und miteinander zur Interferenz gebrachten Lichts und mit einer Auswerteeinrichtung (A) zum Bestimmen der Oberflächenform. Ein Weißlichtinterferometer ohne mechanische Verstelleinheiten für die Tiefenabtastung wird dadurch erhalten, dass in den Objektstrahlengang und/oder den Referenzstrahlengang mindestens ein durch ein elektrisches und/oder magnetisches Feld beeinflussbares aktives optisches Element (AOE, AOE') eingebracht ist, mit dem die optische Länge des Objektlichtwegs relativ zu der optischen Länge des Referenzlichtwegs für die Tiefenabtastung veränderbar ist (Fig. 1).
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf eine interferometrische Messvorrichtung zum Vermessen der Oberfläche eines Objekts durch Tiefenabtastung mit einer kurzkohärenten Lichtquelle, deren abgegebenes Licht auf einen Strahlteiler zum Bilden eines über einen Objektstrahlengang auf das Objekt gerichteten Objektstrahls und eines über einen Referenzstrahlengang auf eine Referenzfläche gerichteten Referenzstrahls geführt ist, mit einem Bildaufnehmer zum Aufnehmen des von der Objektoberfläche und von der Referenzfläche zurückgeworfenen und miteinander zur Interferenz gebrachten Lichts und mit einer Auswerteeinrichtung zum Bestimmen der Oberflächenform.
- Derartige interferometrische Messvorrichtungen, meist als Weißlichtinterferometer bezeichnet, sind in verschiedenen Ausgestaltungen bekannt, wozu beispielsweise auf die
DE 100 47 495 A1 , dieDE 101 31 780 A1 , dieDE 100 39 239 A1 und dieDE 101 31 779 A1 mit in diesen noch weiteren genannten Druckschriften hingewiesen sei. Allen diesen interferometrischen Messvorrichtungen ist gemeinsam, dass für die Tiefenabtastung der Oberfläche der Objektlichtweg relativ zu dem Referenzlichtweg mittels einer das Objekt, die optische Abtasteinrichtung oder die Referenzfläche in Tiefenabtastrichtung (z-Richtung) bewegenden Einheit verstellt wird. Interferenzerscheinungen treten dabei bekanntlich nur innerhalb der Kohärenzlänge des von der Lichtquelle abgegebenen Lichts auf, die beispielsweise im Bereich einiger Mikrometer liegt. Die Formvermessung der Oberfläche erfolgt z.B. durch Feststellen des Interferenzmaximums mittels der Auswerteeinrichtung, aber auch andere Auswertekriterien sind denkbar. Um genaue Ergebnisse zu erhalten, kommt es insbesondere auch darauf an, die Verstelleinheit in Form einer Verstellmechanik oder einer piezo-betriebenen Einheit genau zu justieren und unempfindlich gegenüber äußeren Einflüssen zu machen, wie sie insbesondere auch bei einem Fertigungsprozess auftreten. - Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine interferometrische Messvorrichtung der eingangs genannten Art bereit zu stellen, die eine möglichst unempfindliche Tiefenabtastung ergibt.
- Vorteile der Erfindung
- Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruches 1 gelöst. Hiernach ist vorgesehen, dass in den Objektstrahlengang und/oder den Referenzstrahlengang mindestens ein durch ein elektrisches und/oder magnetisches Feld beeinflussbares aktives optisches Element eingebracht ist, mit dem die optische Länge des Objektlichtwegs relativ zu der optischen Länge des Referenzlichtwegs für die Tiefenabtastung veränderbar ist.
- Durch diese Ausbildung der Messvorrichtung mit dem aktiven optischen Element wird die Tiefenabtastung ohne mechanisch bewegte Teile durchgeführt, wodurch diesbezügliche Störungen vermieden werden. Die Tiefenabtastung der Objektoberfläche wird allein durch die Ansteuerung des mindestens einen optischen Elements bewirkt, wobei mittels des Ansteuersignals die Abtastweise leicht geeignet wählbar und die Auswertung begünstigt wird.
- Eine vorteilhafte Ausführung besteht darin, dass als aktives optisches Element mindestens ein elektro-optisches Element eingesetzt ist. Beispielsweise kann hierzu ein elektrisch ansteuerbarer Kristall verwendet werden, wie er an sich aus P. Ney, A. Maillard and M.D. Fontana, J. Opt. Soc. Am. B/Vol. 7, No. 7/July 2000, Seiten 1 158 bis 1 165 bekannt ist.
- Eine weitere vorteilhafte Ausgestaltung für die Verbesserung der Messergebnisse besteht darin, dass das mindestens eine aktive optische Element in dem einen Strahlengang zur Veränderung des optischen Lichtweges für die Tiefenabtastung angeordnet ist und mindestens ein anderes aktives optisches Element in dem anderen Strahlengang für eine Farbfehlerkorrektur und/oder Abbildungsfehlerkorrektur angeordnet ist.
- Eine gezielte Beeinflussung der abtastenden Wellenfront wird dabei dadurch vermöglicht, dass das mindestens eine aktive optische Element mit einem inhomogenen elektrischen Feld zum gezielten Verformen der betreffenden Wellenfront beaufschlagt ist, wodurch eine gezielte Abstimmung auf Eigenschaften der Ober-fläche bei der Abtastung ermöglicht wird.
- Eine weitere Anpassung an eine jeweilige Messaufgabe lässt sich dadurch erreichen, dass das mindestens eine aktive optische Element mit einer inhomogenen optischen Dichte zur gezielten Beeinflussung der Wellenfront hergestellt ist. Die inhomogene optische Dichte kann beispielsweise mittels geeigneter Dotierung erreicht werden, ähnlich wie von GRIN-Linsen her bekannt.
- Weiterhin kann der Strahlengang bei der Abtastung gezielt dadurch angepasst werden, dass das mindestens eine optische Element eine Linse, Linsenanordnung, Teil einer Linsenanordnung oder zumindest Teil lichtablenkender optischer Medien ist.
- Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
-
1 eine interferometrische Messvorrichtung in schematischer Ansicht mit einem in einem Objektstrahlengang angeordneten aktiven optischen Element und -
2 eine weitere interferometrische Messvorrichtung in schematischer Ansicht mit im Referenzstrahlengang angeordnetem aktiven optischen Element. - Ausführungsbeispiel
- Wie aus
1 ersichtlich, weist die interferometrische Messvorrichtung, die insbesondere als Weißlichtinterferometer ausgebildet ist, eine Lichtquelle LQ sowie einen Strahlteiler ST zum Bilden eines zu der Oberfläche OF eines Messobjektes O verlaufenden Objektstrahlenganges OG und eines zu einer Referenzfläche R verlaufenden Referenzstrahlengangs RG aus dem von der Lichtquelle LQ abgegebenen Licht auf. Das von der Objektoberfläche OF und der Referenzfläche R reflektierte Licht wird beispielsweise an dem Strahlteiler ST oder einer anderen geeigneten Stelle überlagert und interferiert, sofern die optische Weglänge des Objektstrahlenganges OG und des Referenzstrahlenganges RG innerhalb der Kohärenzlänge des Lichts der Lichtquelle LQ (oder gegebenenfalls spektral angepassten Lichts) liegt. Die Kohärenzlänge liegt z.B. im Bereich einiger oder eniger zehn oder hundert Mikrometer. Das Maximum des Interferenzkontrasts wird erreicht, wenn der Objektstrahlengang OG und der Referenzstrahlengang RG gleiche optische Weglänge besitzen. Das überlagerte Licht wird einem Bildaufnehmer BA insbesondere einer Kamera (CCD-Kamera oder CMOS-Kamera) zuge führt und in einer angeschlossenen Auswerteeinrichtung A hinsichtlich der Form der abgetasteten Objektoberfläche 0F ausgewertet. Als Oberflächenform können z.B. eine Oberflächenrauhigkeit, und/oder gewünschte Oberflächenkonturen erfasst werden, um eine dreidimensionale Vermessung der Objektoberfläche zu erhalten. Zur Anpassung des Strahlengangs an die Objektoberfläche 0F ist in dem Objektstrahlengang OG eine geeignete Linsenanordnung L angeordnet, die mit weiteren optischen Elementen kombiniert werden kann, wie in den eingangs genannten Druckschriften näher ausgeführt. Entsprechende optische Elemente können auch in dem Referenzstrahlengang RG angeordnet sein. - Wie die
1 weiter zeigt, ist in dem Objektstrahlengang OG zum Bewirken der Tiefenabtastung (z-Richtung) der Objektoberfläche OF ein aktives optisches Element AOE angeordnet, mit dem die optische Weglänge des Objektstrahlengangs OG relativ zu dem Referenzstrahlengang RG definiert variierbar ist. Vorliegend handelt es sich beispielsweise um einen elektro-optisch wirksamen Kristall, der mittels eines elektrischen Spannungssignals bzw. des daraus resultierenden elektrischen Felds in seinem Brechungsverhalten geeignet gesteuert wird, wie an sich aus dem eingangs genannten Artikel von P. Ney et al in J. Opt. Soc. Am., 2000, Seiten 1158 bis 1165 bekannt. Auch ähnliche elektrooptisch wirksame aktive Elemente sind einsetzbar. Zudem kommen auch elektromagnetisch oder magnetisch beeinflussbare aktive optische Elemente in Betracht. Das Ansteuersignal kann dabei leicht für eine geeignete Ansteuerung des aktiven optischen Elementes AOE geformt werden und auch mit der Auswertung in der Auswerteeinrichtung A sowie mit der Ansteuerung des Bildaufnehmers BA synchronisiert werden. Dabei kann leicht auch eine Abstimmung auf eine laterale Abtastung der Objektoberfläche 0F in x-, y-Richtung vorgenommen werden. -
2 zeigt eine alternative Ausführung der interferometrischen Messvorrichtung, wobei ein aktives optisches Element AOE' in dem Referenzstrahlengang RG angeordnet ist. Das aktive optische Element AOE' in dem Referenzstrahlengang RG kann zur Kompensation von Farbfehlern oder anderen Abbildungsfehlern des in dem Objektstrahlengang OG befindlichen aktiven optischen Elementes AOE genutzt werden, wenn es in Kombination mit diesem eingesetzt ist, und/oder es kann ebenfalls zum Ändern der optischen Weglänge des Referenzstrahlengangs RG relativ zu der optischen Weglänge des Objektstrahlengangs OG genutzt werden. - Weitere Ausgestaltungsmöglichkeiten bestehen darin, dass die Linsenanordnung L zumindest teilweise als aktives optisches Element AOE ausgebildet ist. Zudem kann auch eine Kombination mit anderen, z.B. ablenkenden optischen Elementen vorgenommen werden, um eine geeignete Anpassung an eine jeweilige zu vermessende Objektoberfläche OF zu erreichen. Entsprechende Elemente können dann zur Kompensation auch in dem Referenzstrahlengang RG angeordnet werden. Denkbar ist dabei auch, ablenkende Elemente als aktive optische Elemente auszubilden. Mit derartigen Kombinationen mehrerer aktiver optischer Elemente AOE bzw. AOE' in dem Objektstrahlengang OG und/oder dem Referenzstrahlengang RG werden die Anwendungsmöglichkeiten der interferometrischen Messvorrichtung für unterschiedliche Messaufgaben erweitert.
- Werden an z.B. ein elektro-optisch wirksames aktives optisches Element AOE Signale zum Erzeugen eines inhomogenen Feldes gelegt, können auch die Wellenfronten gezielt geformt und an die Form der zu vermessenden Objektoberfläche 0F, z.B. gekrümmte Oberflächen, angepasst werden, um diese eben abbilden zu können. Die Zuführung der Signale kann dabei z.B. mittels durchsichtiger Elektroden auf den Strahldurchgangsflächen oder aber durch Anordnung auf seitlich davon befindlichen Flächen des aktiven optischen Elementes AOE vorgenommen werden.
- Eine Verformung der Wellenfronten kann auch dadurch erreicht werden, dass das aktive optische Element AOE bzw. AOE' als Kristall inhomogener optischer Dichte ausgebildet ist, ähnlich wie von GRIN-Linsen her bekannt. Auch diese Kristalle können wiederum durch homogene oder inhomogene Felder angesteuert werden. Auch hierbei ist eine Fehlerkorrektur in der vorstehend genannten Weise durchführbar.
- Werden homogene elektrische Felder zur Ansteuerung des mindestens einen aktiven optischen Elementes AOE verwendet, bleibt die Wellenfront beim Durchgang durch das Element unbeeinflusst, während sie durch Beaufschlagung mit einem inhomogenen elektrischen Feld gezielt lokal gesteuert werden kann, wodurch die Einsatzmöglichkeiten des Interferometers erweitert werden. Durch Kombination mehrerer aktiver optischer Elemente AOE bzw. AOE', die mit gleichen oder unterschiedlichen Spannungssignalen angesteuert werden, werden die Anwendungsmöglichkeiten noch erweitert, da die Wellenfronten stärker bzw. gezielter verformt werden können und auch der Tiefenabtastbereich erweitert werden kann. Beispielsweise lassen sich dabei die Eigenschaften von Streu- und Sammellinsen erzeugen und unterschiedlich miteinander kombinieren.
- Mit den beschriebenen Maßnahmen wird eine Tiefenabtastung der Objektoberfläche OF ermöglicht, ohne eine mechanische Bewegung mittels mechanischer Verstelleinheiten einzusetzen.
Claims (6)
- Interferometrische Messvorrichtung zum Vermessen der Oberfläche eines Objekts (O) durch Tiefenabtastung mit einer kurzkohärenten Lichtquelle (LQ), deren abgegebenes Licht auf einen Strahlteiler (ST) zum Bilden eines über einen Objektstrahlengang (OG) auf das Objekt (O) gerichteten Objektstrahls und eines über einen Referenzstrahlengang (RG) auf eine Referenzfläche (R) gerichteten Referenzstrahls geführt ist, mit einem Bildaufnehmer (BA) zum Aufnehmen des von der Objektoberfläche und von der Referenzfläche (R) zurückgeworfenen und miteinander zur Interferenz gebrachten Lichts und mit einer Auswerteeinrichtung (A) zum Bestimmen der Oberflächenform, dadurch gekennzeichnet, dass in den Objektstrahlengang und/oder den Referenzstrahlengang mindestens ein durch ein elektrisches und/oder magnetisches Feld beeinflussbares aktives optisches Element (AOE, AOE') eingebracht ist, mit dem die optische Länge des Objektlichtwegs relativ zu der optischen Länge des Referenzlichtwegs für die Tiefenabtastung veränderbar ist.
- Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als aktives optisches Element (AOE) mindestens ein elektrooptisches Element eingesetzt ist.
- Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine aktive optische Element (AOE, AOE') in dem einen Strahlengang (OG oder RG) zur Veränderung des optischen Lichtweges für die Tiefenabtastung angeordnet ist und das mindestens eine andere aktive optische Element (AOE', AOE) in dem anderen Strahlengang (RG oder OG) für eine Farbfehlerkorrektur und/oder Abbildungsfehlerkorrektur angeordnet ist.
- Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine aktive optische Element (AOE, AOE') mit einem inhomogenen elektrischen Feld zum gezielten Verformen der betreffenden Wellenfront beaufschlagt ist.
- Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine aktive optische Element (AOE, AOE') mit einer inhomogenen optischen Dichte zur gezielten Beeinflussung der Wellenfront hergestellt ist.
- Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine optische Element eine Linse, Linsenanordnung (L), Teil einer Linsenanordnung (L) oder zumindest Teil lichtablenkender optischer Medien ist.
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---|---|---|---|
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---|---|
US (1) | US7142310B2 (de) |
DE (1) | DE10302055B4 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004053420A1 (de) * | 2004-11-05 | 2006-05-24 | Robert Bosch Gmbh | Interferometer mit einem Höhenadapter zur Vermessung einer Oberflächenkontur eines Messobjektes |
DE102006016132A1 (de) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
DE102006016131A1 (de) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
WO2012171935A3 (de) * | 2011-06-15 | 2013-02-28 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur optischen dreidimensionalen vermessung eines dentalen objekts |
DE102014225169A1 (de) | 2014-12-08 | 2016-06-09 | Robert Bosch Gmbh | Pneumatischer Messdorn und Messsystem |
CN106338251A (zh) * | 2016-08-11 | 2017-01-18 | 北京航空航天大学 | 基于arm的一体化白光干涉测试仪 |
US10006545B2 (en) | 2013-05-09 | 2018-06-26 | Mahle International Gmbh | Running set, piston bushing and engine block |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7397540B2 (en) * | 2006-08-21 | 2008-07-08 | The Boeing Company | Phase diversity ranging sensor |
DE102007008604A1 (de) | 2007-02-22 | 2008-08-28 | Daimler Ag | Verfahren zur Bewertung von Strukturen auf Oberflächen |
US8233696B2 (en) | 2007-09-22 | 2012-07-31 | Dynamic Micro System Semiconductor Equipment GmbH | Simultaneous wafer ID reading |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3849003A (en) * | 1970-03-25 | 1974-11-19 | Philips Corp | Interferometer apparatus for measuring the roughness of a surface |
EP0126475B1 (de) * | 1983-05-21 | 1989-03-15 | Firma Carl Zeiss | Verfahren und Vorrichtung zum berührungsfreien Messen der Ist-Position und/oder des Profils rauher Oberflächen |
DE4336318A1 (de) * | 1993-10-25 | 1995-04-27 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zur Frequenzverschiebung von Licht, insbesondere in einem interferometrischen Meßsystem |
DE10047495A1 (de) * | 1999-10-09 | 2001-10-25 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Messvorrichtung zur Formvermessung |
DE10131779A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-02-28 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Messvorrichtung |
DE10039239A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-03-07 | Bosch Gmbh Robert | Optische Messvorrichtung |
DE10131780A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-03-07 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Messvorrichtung |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6134003A (en) * | 1991-04-29 | 2000-10-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and apparatus for performing optical measurements using a fiber optic imaging guidewire, catheter or endoscope |
US6381015B1 (en) * | 1997-05-26 | 2002-04-30 | Hitachi, Ltd. | Inspection apparatus using optical interferometer |
-
2003
- 2003-01-21 DE DE10302055A patent/DE10302055B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-01-21 US US10/762,889 patent/US7142310B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3849003A (en) * | 1970-03-25 | 1974-11-19 | Philips Corp | Interferometer apparatus for measuring the roughness of a surface |
EP0126475B1 (de) * | 1983-05-21 | 1989-03-15 | Firma Carl Zeiss | Verfahren und Vorrichtung zum berührungsfreien Messen der Ist-Position und/oder des Profils rauher Oberflächen |
DE4336318A1 (de) * | 1993-10-25 | 1995-04-27 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zur Frequenzverschiebung von Licht, insbesondere in einem interferometrischen Meßsystem |
DE10047495A1 (de) * | 1999-10-09 | 2001-10-25 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Messvorrichtung zur Formvermessung |
DE10131779A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-02-28 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Messvorrichtung |
DE10131780A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-03-07 | Bosch Gmbh Robert | Interferometrische Messvorrichtung |
DE10039239A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-03-07 | Bosch Gmbh Robert | Optische Messvorrichtung |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
in: J. Opt. Soc. Am. B/Vol. 17, No. 7, 2000, S. 1158 - 1165 * |
NEY, P. et al: Accurate interferometric method for the measurement of electrooptic coefficients: application to a singlebarium borate crystal * |
NEY, P. et al: Accurate interferometric method for the measurement of electrooptic coefficients: application to a singlebarium borate crystal; in: J. Opt. Soc. Am. B/Vol. 17, No. 7, 2000, S. 1158 - 1165 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004053420A1 (de) * | 2004-11-05 | 2006-05-24 | Robert Bosch Gmbh | Interferometer mit einem Höhenadapter zur Vermessung einer Oberflächenkontur eines Messobjektes |
DE102004053420B4 (de) * | 2004-11-05 | 2007-04-19 | Robert Bosch Gmbh | Interferometer mit einem Höhenadapter zur Vermessung einer Oberflächenkontur eines Messobjektes |
DE102006016132A1 (de) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
DE102006016131A1 (de) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
WO2012171935A3 (de) * | 2011-06-15 | 2013-02-28 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur optischen dreidimensionalen vermessung eines dentalen objekts |
US9980651B2 (en) | 2011-06-15 | 2018-05-29 | Sirona Dental Systems Gmbh | Method for the optical three-dimensional measurement of a dental object |
US10006545B2 (en) | 2013-05-09 | 2018-06-26 | Mahle International Gmbh | Running set, piston bushing and engine block |
DE102014225169A1 (de) | 2014-12-08 | 2016-06-09 | Robert Bosch Gmbh | Pneumatischer Messdorn und Messsystem |
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