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DE10243737B3 - Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats mit Hilfe von Laserstrahlung - Google Patents

Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats mit Hilfe von Laserstrahlung Download PDF

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DE10243737B3 DE10243737A DE10243737A DE10243737B3 DE 10243737 B3 DE10243737 B3 DE 10243737B3 DE 10243737 A DE10243737 A DE 10243737A DE 10243737 A DE10243737 A DE 10243737A DE 10243737 B3 DE10243737 B3 DE 10243737B3
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Abstract

Eine Beschriftungsvorrichtung (1) weist einen Laser (2) auf, der einen Laserstrahl (5) emittiert. Der Laserstrahl (5) wird mit Hilfe einer Ablenkeinheit (10) auf ein Werkstück (9) gelenkt. Für den Laser (2) wird ein Excimerlaser mit einer Wellenlänge oberhalb von 200 nm gewählt, um möglichst große Ablenkwinkel zu ermöglichen.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats mit Hilfe von Laserstrahlung, mit:
    • – einem Laserstrahlung emittierenden Laser;
    • – einer Kondensiereinheit, die die Laserstrahlung zu einem Arbeitspunkt formt;
    • – eine Ablenkeinrichtung, durch die der Arbeitspunkt nach Vorgabe einer Steuervorrichtung quer zur Strahlrichtung auslenkbar ist, und
    • – eine Verschiebeeinheit, durch die der Arbeitspunkt entlang der Strahlrichtung auf das Substrat ausrichtbar ist.
  • Derartige Vorrichtungen sind aus der DE 101 48 759 A1 und aus der WO 02/30610 A1 bekannt. Die bekannten Vorrichtungen weisen einen Laser auf, dessen Laserstrahlung durch zwei im Strahlengang hintereinander angeordnete Blenden zu einem Laserstrahl mit definiertem Strahlquerschnitt geformt wird. Durch einen Galvanometerspiegel wird der Laserstrahl dann zu einem zu beschriftenden optischen Element, beispielsweise einem Brillenglas, gelenkt, das auf einem in x-, y- und z-Richtung verschiebbaren Verschiebetisch aufliegt. Durch ein einzelnes Fokussierelement wird der Laserstrahl auf die Oberfläche des zu beschriftenden optischen Elements, beispielsweise eine Sammellinse, fokussiert.
  • Die Beschriftung des optischen Elements wird durchgeführt, indem der Laserstrahl durch den Galvanometerspiegel in x- und y-Richtung ausgelenkt wird. Daneben kann der Verschiebetisch in x- und y-Richtung verschoben werden. Falls dabei der Fokus des Laserstrahls nicht mehr auf der Oberfläche des zu beschriftenden optischen Elements zu liegen kommt, wird der Verschiebetisch soweit in z-Richtung verschoben, bis der Fokus des Laserstrahls wieder auf der Oberfläche des zu beschriftenden Elements zu liegen kommt.
  • Ein Nachteil der bekannten Vorrichtungen ist, dass großflächige optische Elemente nur segmentweise bearbeitet werden können. Insbesondere ist es zur Bearbeitung von großflächigen Oberflächen nötig, den Verschiebetisch schrittweise zu verfahren, um den Laserstrahl in die Nähe des zu bearbeitenden Bereichs zu bringen. Da während des Verschiebevorgangs die Bearbeitung der Oberfläche des optischen Elements unterbrochen werden muss, geht Bearbeitungszeit verloren.
  • Ferner ist aus der EP 601 857 A1 bekannt, einen KrF-Laser, der Laserstrahlung mit einer Wellenlänge von 248 nm emittiert, zum Markieren von Brillengläsern zu verwenden.
  • Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats mit Hilfe von Laserstrahlung zu schaffen, mit denen sich großflächige optische Elemente unterbrechungsfrei bearbeiten lassen.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs gelöst. In davon abhängigen Ansprüchen sind vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildung angegeben.
  • Durch die Verwendung eines Lasers mit einer im Vakuum gemessenen Wellenlänge oberhalb von 200 nm ist es möglich, für die Ablenkvorrichtung Spiegel auszuwählen, die auch bei Reflexionswinkeln oberhalb von 5° ein auf die Strahlleistung bezogenen Reflexionskoeffizienten von größer 95 % aufweisen. Mit derartigen Spiegeln können daher auch Ablenkwinkel > ± 5° erzielt werden. Im Vergleich zum Stand der Technik kann daher mit der Vorrichtung gemäß der Erfindung eine größere Fläche des zu beschriftenden Objekts bearbeitet werden. Bei der Vorrichtung gemäß der Erfindung ist somit kein Verschiebe tisch notwendig, durch den das zu beschriftende Objekt in x- und y-Richtung verschoben werden kann. Daher kann der Beschriftungsvorgang mit der Vorrichtung gemäß der Erfindung nahezu unterbrechungsfrei durchgeführt werden.
  • Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist der Laser ein Excimerlaser auf der Basis von KrF mit einer Wellenlänge zwischen 240 und 260 nm oder auf der Basis von XeCl mit einer Wellenlänge zwischen 300 und 320 nm. Diese Excimerlaser weisen eine besonders hohe Leistungsdichte auf. Außerdem ist die Wellenlänge so groß, dass Ablenkspiegel mit ausreichend großem Reflexionskoeffizienten zur Verfügung stehen.
  • Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform wird der Einfallswinkel, mit dem die Laserstrahlung auf einen Ablenkspiegel der Ablenkeinheit in der Ruhestellung trifft, kleiner 45° gewählt. Dies bietet den Vorteil, dass der Bereich der möglichen Ablenkwinkel größer als in dem Fall ist, in dem der Einfallswinkel 45° beträgt.
  • Nachfolgend wird die Erfindung im Einzelnen anhand der beigefügten Zeichnung erläutert. Es zeigen
  • 1 den Aufbau einer Vorrichtung zur Beschriftung eines optischen Elements;
  • 2 ein Diagramm, das den Verlauf der auf die Leistung bezogenen Transmission in Abhängigkeit von der Wellenlänge des einfallenden Lichts bei Einfallswinkeln von 22° und 52° auf einen Ablenkspiegel zeigt; und
  • 3 ein Diagramm, das den Verlauf der auf die Leistung bezogenen Transmission in Abhängigkeit von der Wellenlänge des einfallenden Lichts bei Einfallswinkeln von 30° und 60° auf einen Ablenkspiegel zeigt.
  • In 1 ist eine Beschriftungsvorrichtung 1 dargestellt. Die Beschriftungsvorrichtung 1 umfasst einen Laser 2, der Laserstrahlung 3 emittiert. Bei dem Laser 2 handelt es sich vorzugsweise um einen Excimerlaser mit einer Wellenlänge oberhalb von 200 nm, insbesondere oberhalb von 220 nm. Bei dem Laser 2 kann es sich beispielsweise um einen Excimerlaser auf der Basis von KrF mit einer Wellenlänge im Bereich von 248 nm oder um einen Excimerlaser auf der Basis von XeCl mit einer Wellenlänge im Bereich von 308 nm handeln. In Frage kommen auch Excimerlaser auf der Basis von XeF mit einer typischen Wellenlänge im Bereich von 351 nm.
  • Die vom Laser 2 emittierte Laserstrahlung 3 wird durch eine Blende 4 zu einem Laserstrahl 5 geformt. Außerdem wird die Laserstrahlung 3 durch eine bikonvexe Sammellinse 6 zu einem Arbeitspunkt 7 auf einer Oberfläche 8 eines Werkstücks 9 geformt und in Einzelfällen sogar fokussiert. Insbesondere wird die Apertur der Blende 4 von der Sammellinse 6 auf den Arbeitspunkt 7 auf der Oberfläche 8 des Werkstücks 9 abgebildet. Bei dem Werkstück 9 handelt es sich beispielsweise um ein zu beschriftendes Brillenglas aus Glas oder Kunststoff. Die Oberfläche 8 eines derartigen Werkstücks 9 ist im allgemeinen gekrümmt und nicht wie in 1 dargestellt flach.
  • Die auf die Oberfläche 8 des Werkstücks 9 zu schreibenden Zeichen werden aufgebracht, indem der Laserstrahl 5 von einer Ablenkeinheit 10 nach Vorgabe einer nicht dargestellten Steuervorrichtung in eine Querrichtung 11 ausgelenkt wird. Bei der Ablenkeinheit 10 kann es sich zum Beispiel um ein einachsiges oder zweiachsiges Spiegelgalvanometer handeln. Ein einachsiges Spiegelgalvanometer genügt, wenn zum Beispiel nur ein Punkt-Strich-Code auf die Oberfläche 8 des Werkstücks 9 aufgebracht werden soll. Für alphanumerische Zeichen ist jedoch im Allgemeinen ein Zweiachsen-Spiegelgalvanometer erforderlich.
  • Wenn der Laserstrahl 5 in die Querrichtung 11 ausgelenkt wird, liegt der Arbeitspunkt 7 nicht länger auf der Oberfläche 8 des Werkstücks 9. Denn der Arbeitspunkt 7 bewegt sich auf einer auf den Drehpunkt der Spiegelfläche der Ablenkeinheit 10 zentrierten Kugelfläche. Verstärkt wird dieser Effekt durch die Tatsache, dass die Oberfläche 8 beispielsweise bei Brillengläsern nicht plan, sondern gekrümmt ist, so dass auch bei einer Ablenkeinheit, die die Lage des Arbeitspunktes in z-Richtung bei der Auslenkung in x- und y-Richtung unverändert lässt, eine Verschiebung in z-Richtung erforderlich ist. Daher ist vorgesehen, das Werkstück 9 auf einem Stelltisch 12 in eine Strahlrichtung 13 so zu verfahren, dass der Arbeitspunkt 7 des Laserstrahls 5 stets auf die Oberfläche 8 ausgerichtet ist.
  • Daneben ist es auch möglich, den Stelltisch 12 in Bezug auf die Sammellinse 6 ortsfest entlang der optischen Achse anzuordnen und im Strahlengang zwischen der Blende 4 und der Sammellinse 6 ein Teleskop 14 vorzusehen, durch das der Arbeitspunkt 7 bei Bedarf so verschoben wird, dass er auf der Oberfläche 8 des Substrats 9 zu liegen kommt.
  • Die Apertur der Blende 4 beträgt typischerweise 800 um. Der Abstand f1 zwischen der Blende 4 und der Hauptebene der Sammellinse 6 entlang der optischen Achse, die sogenannte Gegenstandsweite, beträgt etwa 500 mm. Der Abstand f2 zwischen der Hauptebene der Sammellinse 6 und dem fokussierten Arbeitspunkt 7, die sogenannte Bildweite, beträgt entlang der optischen Achse etwa 50 mm. Daraus folgt ein Abbildungsverhältnis von 1:10. Da durch die Sammellinse 6 die Apertur der Blende 4 auf den Arbeitspunkt 7 abgebildet wird, ergibt sich für den Arbeitspunkt 7 ein Durchmesser von etwa 80 μm.
  • Falls die Gegenstandsweite f1 gleich der blendenseitigen Brennweite und die Bildweite f2 gleich der wekstückseitigen Brennweite der Sammellinse 9 ist, liegt der werkstückseitige Fokus in der Bildebene der Blende 4 und der Arbeitspunkt 7 ist zugleich der Fokus.
  • Die Leistungsdichte der Excimerlaser mit einer Wellenlänge oberhalb von 200 nm ist so groß, dass die Größe der Apertur der Blende 4 durchaus weiter verkleinert werden kann. Denn auch bei einer verkleinerten Apertur der Blende 4 steht immer noch genügend Leistung im Arbeitspunkt 7 zur Verfügung. Infolgedessen lässt sich auch das Abbildungsverhältnis f2/f1 vergrößern, ohne dass der Arbeitspunkt 7 vergrößert wird. Somit ist es möglich, den Abstand zwischen der Hauptebene der Sammellinse 6 und dem Arbeitspunkt 7 bei gleichbleibendem Abstand zwischen Ablenkeinheit 10 und Sammellinse 6 zu vergrößern. Ein größerer Abstand zwischen der Sammellinse 6 und dem Arbeitspunkt 7 auf der Oberfläche 8 des Werkstücks 9 ist jedoch gleichbedeutend mit einer Vergrößerung der Arbeitsfläche, die vom Laserstrahl 5 durch Auslenken der Ablenkspiegel in der Ablenkeinheit 10 abgedeckt werden kann. Da der Abstand zwischen der Ablenkeinheit 10 und der Sammellinse 6 gleich gehalten werden kann, wird dabei keine Sammellinse mit einem größeren Durchmesser benötigt. Bei der hier beschriebenen Beschriftungsvorrichtung 1 kann daher das Abbildungsverhältnis größer 1:10 und der Abstand zwischen der Sammellinse 6 und der Blende 4 kleiner 500 mm gewählt werden.
  • Eine Leistungsabschwächung im Arbeitspunkt 7 ist sinnvoll, wenn zum Beispiel Brillengläser aus Kunststoff beschriftet werden sollen. Zu diesem Zweck kann im Strahlengang des Laserstrahls 5 ein Abschwächer vorgesehen sein, der immer dann in den Strahlengang des Laserstrahls 5 eingebracht wird, wenn Brillengläser aus Kunststoff beschriftet werden sollen. Wenn dagegen die Beschriftungsvorrichtung 1 ausschließlich zum Bearbeiten von Brillengläsern aus Kunststoff verwendet wird, kann die Abschwächung auch durch eine Verkleinerung der Apertur der Blende 4 und eine Vergrößerung des Abbildungsverhältnisses f2/f1 erzielt werden, so dass im Ergebnis eine größere Fläche am Werkstück 9 vom Laserstrahl 5 bearbeitet werden kann.
  • Darüber hinaus können wegen der Beschränkung auf Wellenlängen oberhalb von 200 nm für die Ablenkeinheit 10 Ablenkspiegel verwendet werden, die in einem sich über 30° erstreckenden Winkelbereich des Einfallswinkels einen Reflexionskoeffizienten größer 95 % aufweisen. Dies sei anhand der 2 und 3 näher erläutert.
  • 2 und 3 stellen Messdiagramme dar, in denen die auf die Leistung bezogene Transmission verschiedener für die Ablenkeinheit 19 geeigneter Spiegel gegen die Wellenlänge für unterschiedliche Einfallswinkel aufgetragen ist. Als Einfallswinkel sei der Winkel zwischen der Normalen der Spiegelfläche und der Strahlrichtung des einfallenden Strahls definiert.
  • Der grundsätzliche Aufbau der vermessenen Ablenkspiegel ist dem Fachmann bekannt und als solcher nicht Gegenstand der Anmeldung. Der Aufbau dieser Ablenkspiegel umfasst mehrere dielektrische Schichten auf einem Glassubstrat, die unterschiedliche Brechungsindices aufweisen. Durch eine geeignete Wahl der Dicke der Schichten und der Brechungsindices wird erreicht, dass die Reflektivität in einem bestimmten Wellenlängenbereich maximale Werte annimmt. Wenn die Wellenlänge größer 200 nm, insbesondere größer 220 nm gewählt wird, können die Schichtdicken und die Brechungsindices so gewählt werden, dass der sich ergebende Ablenkspiegel für einen großen Bereich von Ablenkwinkeln einsetzbar ist.
  • 2 zeigt ein Messdiagramm, in dem die Transmission eines auf einen Einfallswinkel von 37° optimierten Ablenkspiegels bei den Einfallswinkeln 22° und 52° in Abhängigkeit von der Wellenlänge des einfallenden Lichts dargestellt ist.
  • Eine durchgezogene Kurve 15 in 2 gibt die Transmission bei einem Einfallswinkel von 22° an. Eine in 2 gestrichelt eingezeichnete Kurve 16 zeigt den Verlauf des Transmissionskoeffizienten bei einem Einfallswinkel von 52°. Daneben deutet eine durchgezogene Linie 17 einen Wellenlängenbereich 18 an, in dem die unter einem Einfallswinkel von 22° einfallende Strahlung in der Praxis reflektiert wird. In gleichem Maße umrandet eine gestrichelt eingezeichnete Linie 19 einen Wellenlängenbereich 20, in dem die unter einem Einfallswinkel von 52° einfallende Strahlung in der Praxis reflektiert wird.
  • Ein in 2 schraffiert eingezeichneter Überlappungsbereich 21, der auf die Wellenlänge von 248 nm zentriert ist, veranschaulicht denjenigen Wellenlängenbereich, in dem für alle Einfallswinkel zwischen 22° und 52° Reflexion stattfindet. Aus dem Überlappungsbereich lässt sich entnehmen, dass der vermessene Spiegel in der Lage ist, einfallende Laserstrahlung mit einer Wellenlänge zwischen 240 und 256 nm, in einem Winkelbereich zwischen 22° und 52° mit einem Intensitätsverlust kleiner 10% zu reflektieren. Insbesondere ist der vermessene Spiegel in der Lage, einfallendes Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm in einem Winkelbereich zwischen 22° und 52° mit einem Intensitätsverlust kleiner 5% zu reflektieren.
  • In 3 ist ein weiteres Messdiagramm eines weiteren auf einen Einfallswinkel von 45° optimierten Ablenkspiegels dargestellt, in dem eine durchgezogene Kurve 22 den Verlauf der auf die Strahlleistung bezogenen Transmission bei einem Einfallswinkel von 30° in Abhängigkeit von der Wellenlänge des einfallenden Lichts zeigt. Eine weitere gestrichelt dargestellte Kurve 23 zeigt den Verlauf der Transmission bei einem Einfallswinkel von 60° in Abhängigkeit von der Wellenlänge des einfallenden Lichts. Eine durchgezogene Linie 24 begrenzt wie in 2 einen Wellenlängenbereich 25, in dem unter einem Einfallswinkel von 30° einfallende Strahlung in der Praxis reflektiert wird. Eine gestrichelt eingezeichnete Linie 26 umrandet schließlich einen Wellenlängenbereich 27, in dem unter einem Einfallswinkel von 60° einfallende Strahlung in der Praxis reflektiert wird.
  • Ein auf die Wellenlänge von 248 nm zentrierter, in 3 schraffiert eingezeichneter Überlappungsbereich 28 veranschaulicht den Wellenlängenbereich, in dem unter einem Einfallswinkel zwischen 30° und 60° einfallende Strahlung weitgehend reflektiert wird. Anhand des Überlappungsbereichs 28 lässt sich ablesen, dass mit dem vermessenen Ablenkspiegel einfallendes Licht mit einer Wellenlänge zwischen 242 nm und 252 nm bei Einfallswinkeln zwischen 30° und 60° mit einem Intensitätsverlust kleiner 10% reflektiert werden kann. Insbesondere ist der vermessene Spiegel in der Lage, einfallendes Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm in einem Winkelbereich zwischen 30° und 60° mit einem Intensitätsverlust kleiner 5% zu reflektieren.
  • Man beachte, dass der Überlappungsbereich 28 eine deutlich geringere Breite als der Überlappungsbereich 21 aufweist. Es ist daher von Vorteil, wenn der Einfallswinkel in der Ruhestellung des Ablenkspiegels möglichst klein ist. Bevorzugt wird daher ein Einfallswinkel im Bereich zwischen 40° und 30°, der für die Auslenkung des Laserstrahls 5 um ± 15° variiert wird.
  • Die hier gemachten Ausführungen zu den Ablenkspiegeln im Wellenlängenbereich von 248 nm gelten entsprechend für die Wellenlängenbereiche in der Nähe von 308 nm und 351 nm.
  • Die hier beschriebene Beschriftungsvorrichtung 1 eignet sich auch für das Aufbringen einer Mikrocodierung auf die Oberfläche 8 des Werkstücks 9. Eine solche Mikrocodierung besteht beispielsweise aus mikroskopischen Abweichungen von Bildpunkten eines Rasterbildes. Mit der hier beschriebenen Beschriftungsvorrichtung 1 können derartige Mikrocodierungen auch großflächig vorgenommen werden, ohne dass Synchronisations markierungen oder Positionsmarkierungen eingearbeitet werden müssen, da die Beschriftungsvorrichtung 1 ohne einen quer zur Strahlrichtung bewegbaren Stelltisch auskommt.
  • Es sei angemerkt, dass anstelle von Excimerlaser auch Festkörperlaser mit einer Wellenlänge oberhalb von 200 nm für die Beschriftungsvorrichtung 1 in Frage kommen. Die Laser können unabhängig vom Typ gepulst oder kontinuierlich betrieben werden. Bei der Verwendung von Excimerlasern erfolgt der Betrieb vorzugsweise gepulst. Alphanummerische Zeichen werden dann durch eine Vielzahl von einzelnen, auf das Substrat abgebildeten Punkten dargestellt. Da die Form der Rasterpunkte durch die Form des Arbeitspunkts 7 gegeben ist, muss die Apertur der Blende 4 entsprechend der gewünschenten Form des Arbeitspunkts, also im Allgemeinen kreisförmig, gewählt werden.
  • Schließlich sei noch angemerkt, dass die Sammellinse 6 grundsätzlich auch durch einen abbildenden Spiegel, zum Beispiel einen Parabolspiegel, ersetzt werden kann. Dies bietet den Vorteil, dass robuste Spiegel anstelle der im UV-Bereich anfälligen Transmissionsoptik verwendet werden können. Die Sammellinse 6 kann auch durch eine Anordnung mehrerer abbildender Elemente ersetzt werden.
  • In jedem Fall lassen sich mit der beschriebenen Vorrichtung und dem Verfahren Graviervorgänge auf der Oberfläche eines Substrats in guter Qualität ausführen.

Claims (8)

  1. Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats (9) mit Hilfe von Laserstrahlung (3, 5) mit: – einem Laserstrahlung (3, 5) emittierenden Laser, – einer Kondensiereinheit (6), die die Laserstrahlung (3, 5) zu einem Arbeitspunkt (7) formt, – einer Ablenkeinrichtung (10), durch die der Arbeitspunkt nach Vorgabe einer Steuervorrichtung quer zur Strahlrichtung auslenkbar ist, und – eine Verschiebeeinheit (12, 14), durch die der Arbeitspunkt (7) entlang der Strahlrichtung auf das Substrat (9) ausrichtbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass die von einem Excimerlaser (2) emittierte Laserstrahlung (3, 5) eine Wellenlänge größer 200 nm aufweist und durch die Ablenkeinheit (10) um einen Auslenkwinkel ± 15° mit einem Intensitätsverlust kleiner 10% auslenkbar ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Laserstrahlung (5) auf einen Ablenkspiegel der Ablenkeinheit (10) in Ruhestellung unter einem Einfallswinkel zwischen 30° und 45° trifft.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der durch die Kondensiereinheit (6) eine Apertur einer Blende (4) auf einen Arbeitspunkt (7) auf der Oberfläche (8) des Substrats (9) abbildbar ist.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 3, bei der die Abbildung der Apertur der Blende (4) auf den Arbeitspunkt (7) mit einem Abbildungsverhältnis größer 1:20 erfolgt.
  5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der die Laserstrahlung (3,5) auf den Arbeitspunkt (7) fokussiert ist.
  6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der der Laser (2) ein Excimerlaser auf der Basis von KrF ist.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der der Laser (2) ein Excimerlaser auf der Basis von XeCl ist.
  8. Verwendung der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 zum Markieren von Brillengläsern.
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