DE10232860A1

DE10232860A1 - Process and device for cleaning the external surfaces of lithographic objectives of microlithographic projection units rinses the surfaces with cleaning fluid

Info

Publication number: DE10232860A1
Application number: DE2002132860
Authority: DE
Inventors: Dieter Schmerek; Frank Marianek; Ralf Scharnweber; Oliver Dr. Wolf
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2002-07-17
Filing date: 2002-07-17
Publication date: 2004-01-29

Abstract

A process for cleaning the external surfaces (100) of lithographic objectives of microlithographic projection units comprises leading (130) a cleaning fluid (120) to the surfaces (100) and rinsing them so that impurities are removed. An independent claim is also included for a device for the above process.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Reinigung von Außenflächen an Lithographieobjektiven mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen.The invention relates to a method and a device for cleaning external surfaces on lithography lenses microlithographic projection exposure systems.

Optische Oberflächen von Lithographiesystemen, die beispielsweise bei der Herstellung strukturierter Halbleiterbauelemente in Kontakt mit der Umgebungsatmosphäre stehen, können im Laufe der Zeit verschmutzen. Dies gilt insbesondere für die Licht-Eintrittsseite oder die Licht-Austrittsseite der letzten optischen Komponente von mikrolithographischen Projektionsobjektiven. Diese Oberfläche befindet sich bei der Chipherstellung in unmittelbarer Nähe der zu strukturierenden Substrate, die mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtet sind.Optical surfaces of lithography systems, which, for example, in the production of structured semiconductor components in contact with the surrounding atmosphere can Soiling over time. This applies in particular to the light entry side or the light exit side the last optical component of microlithographic projection lenses. This surface is in the immediate vicinity of the chip production structuring substrates with a photosensitive layer (Photoresist) are coated.

Die gegebenenfalls photoinduzierten Verunreinigungen, die sich im Betrieb mikrolithographischer Anlagen allmählich auf den optischen Außenflächen bilden oder niederschlagen, können die Leistungsfähigkeit der Anlagen, beispielsweise durch die Verursachung von Streulicht, erheblich beeinträchtigen, da sie zur Verschlechterung der Abbildungsleistung führen können. Es ist daher erforderlich, die kontaminationsanfälligen Oberflächen von Zeit zu Zeit zu reinigen.The possibly photo-induced Contamination that occurs in the operation of microlithographic systems gradually form on the optical outer surfaces or knock down, can the efficiency the systems, for example by causing stray light, significantly affect as they can lead to a deterioration in the imaging performance. It it is therefore necessary to remove the surfaces susceptible to contamination from Clean from time to time.

Bei herkömmlichen Reinigungsverfahren wird diese Reinigung von Hand durchgeführt. Dabei wird ein geeignetes Wischtuch mit einer Reinigungsflüssigkeit zur Lösung der Verunreinigung getränkt und anschließend von Hand über die verschmutzte Oberfläche gewischt. Beim Wischen kann es zu einer Beschädigung, insbesondere einem Verkratzen, verursacht durch die zum Teil noch nicht gelösten Salzkristalle, der Oberfläche kommen.In conventional cleaning processes this cleaning done by hand. This will be a suitable one Wipe with a cleaning liquid to the solution impregnated and subsequently by hand over the dirty surface wiped. Wiping can cause damage, especially damage Scratching caused by the partially undissolved salt crystals, the surface come.

Da die Reinigung von Hand durchgeführt wird, ist das Reinigungsergebnis zudem nicht reproduzierbar. Außerdem ist die Qualität der Reinigung stark von der Erfahrung und der Sorgfalt der ausführenden Person abhängig.Since the cleaning is done by hand, the cleaning result is also not reproducible. Besides, is the quality cleaning greatly from the experience and care of the performers Person dependent.

Aufgabe und LösungTask and solution

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Reinigung von Außenflächen an Lithographieobjektiven mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen sowie eine Vorrichtung zu schaffen, mit denen die oben genannten Probleme, insbesondere die Gefahr der Beschädigung der zu reinigenden optischen Oberfläche, vermieden werden können.The invention is based on the object Procedures for cleaning external surfaces Lithography objectives of microlithographic projection exposure systems as well as to provide a device with which the above Problems, especially the risk of damage to the optical system to be cleaned Surface, can be avoided.

Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 8. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche. Der Wortlaut der Ansprüche wird durch ausdrückliche Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemacht.This task is solved by a method with the features of claim 1 and an apparatus with the features of claim 8. Advantageous refinements the invention are the subject of the dependent claims. The Wording of the claims is by express Reference made to the content of the description.

Erfindungsgemäß wird eine Außenfläche eines Lithographieobjektivs mit Hilfe eines Reinigungsfluids gereinigt, wobei das Reinigungsfluid ohne Zuhilfenahme eines Trägers, d.h. zum Beispiel einem Wischtuch, der zu reinigenden Oberfläche zugeführt wird. Als Reinigungsfluide werden dabei insbesondere solche fließfähigen oder strömungsfähigen Substanzen verwendet, die in der Lage sind, die Verunreinigungen chemisch und/oder mechanisch zu lösen. Reinigungsfluide im Sinne dieser Anmeldung können auch so zusammengesetzt sein, dass sie in der Lage sind, Beschichtungen (Coatings) zu entfernen oder zu glätten bzw. zu reparieren. In diesem Sinne kann eine Reinigung einer Außenfläche auch dadurch erfolgen, dass eine gegebenenfalls beschädigte Beschichtung einer Komponente teilweise oder ganz mit Unterstützung des Reinigungsfluids entfernt wird. Da es sich in vielen Fällen bei den Verunreinigungen im wesentlichen um wasserlösliche Substanzen handelt, sind insbesondere Wasser, Wasserdampf und/oder wasserhaltige Gemische, insbesondere mit einem oder mehreren Alkoholen, als Reinigungsfluide vorgesehen. Auch säurehaltige Flüssigkeiten, z.B. Lösungen mit Zitronensäure, sind verwendbar.According to the invention, an outer surface of a Lithography objective cleaned with the help of a cleaning fluid, the cleaning fluid without the aid of a carrier, i.e. for example a wipe that is fed to the surface to be cleaned. In particular, such flowable or flowable substances used, which are able to remove the contaminants chemically and / or to solve mechanically. Cleaning fluids in the sense of this application can also be composed in this way be able to remove coatings or smooth or to repair. In this sense, cleaning an outer surface can also be done take place that a possibly damaged coating of a component partially or entirely with support the cleaning fluid is removed. Since it is in many cases the impurities are essentially water-soluble substances, are in particular water, water vapor and / or water-containing mixtures, especially with one or more alcohols, as cleaning fluids intended. Also acidic Liquids, e.g. solutions with citric acid, are usable.

Nach der Zuführung des Reinigungsfluids werden in einem Spülschritt die Verunreinigungen durch das Reinigungsfluid gelöst. Der Spülschritt kann bei stehendem und/oder strömendem und/oder gesprühtem Reinigungsfluid durchgeführt werden. Die Reinigungswirkung basiert dabei normalerweise hauptsächlich auf der chemischen Löslichkeit der Verunreinigungen in dem Reinigungsfluid. Zusätzlich oder alternativ können Strömungskräfte zur Reinigung beitragen, die auf die Verunreinigungen aufgrund des strömenden Reinigungsfluids einwirken und die eine Ablösung der Verunreinigungen von der zu reinigenden Oberfläche bewirken bzw. unterstützen.After the supply of the cleaning fluid in one rinse step the contaminants are dissolved by the cleaning fluid. The Rinse step can with standing and / or flowing and / or sprayed Cleaning fluid carried out become. The cleaning effect is usually mainly based on chemical solubility the contaminants in the cleaning fluid. Additionally or alternatively, flow forces can be used Cleaning contributes to the contaminants due to the flowing cleaning fluid act and the a detachment of contaminants from the surface to be cleaned or support.

Nach dem Spülvorgang kann ein Abtransport des Reinigungsfluids und der darin gelösten Verunreinigungen beispielsweise dadurch erfolgen, dass das Reinigungsfluid abgesaugt, abgepumpt oder auf andere Weise abgeleitet wird.After the rinsing process, the Cleaning fluids and the contaminants dissolved therein, for example in that the cleaning fluid is sucked off, pumped out or derived in some other way.

Die oben genannten Verfahrensschritte können, insbesondere unter Verwendung weiterer Reinigungsfluide mit vorbestimmter Abfolge, wiederholt werden. Die verwendeten Reinigungsfluide sollten sich hierbei durch die in ihnen löslichen Substanzen unterscheiden.The above process steps can, in particular using other cleaning fluids with predetermined Sequence to be repeated. The cleaning fluids used should be here by the soluble in them Differentiate substances.

Am Ende der Reinigung oder zwischen einzelnen Reinigungsschritten kann ein Trocknungsschritt erfolgen, bei dem ein Gas, insbesondere Luft, über die gereinigte Außenfläche des Lithographieobjektivs geführt wird, um Reste des Reinigungsfluids auf der zu reinigenden Oberfläche zu verdampfen. Dadurch wird z.B. eine erneute Verschmutzung, beispielsweise durch Sammeln von Staub an Resten des Reinigungsfluids, vermieden.At the end of the cleaning or between individual cleaning steps, a drying step can be carried out in which a gas, in particular air, is passed over the cleaned outer surface of the lithography objective to remove residues of the cleaning fluid evaporate on the surface to be cleaned. As a result, renewed contamination, for example by collecting dust on residues of the cleaning fluid, is avoided.

Aufgrund der trägerfreien Zuführung des Reinigungsfluids und des Spülvorgangs, bei dem die Verunreinigungen ausschließlich durch Lösen in dem Reinigungsfluid entfernt werden, ist eine mechanische Beschädigung der Oberfläche ausgeschlossen.Due to the carrier-free supply of the cleaning fluid and the rinsing process, where the contaminants are caused only by dissolving in the cleaning fluid mechanical damage to the surface is excluded.

Bei Verwendung von Wasserdampf als Reinigungsfluid sind die Temperatur, der Sättigungsgrad und die Flussgeschwindigkeit des Wasserdampfs vorteilhaft zu wählen. Die Reinigungsdauer kann dem Verschmutzungsgrad angepasst eingestellt werden.When using water vapor as Cleaning fluids are the temperature, the degree of saturation and the flow rate of water vapor to choose advantageously. The cleaning time can The degree of pollution can be adjusted accordingly.

Bei einer erfindungsgemäßen Vorrichtung erfolgt die trägerfreie Zuleitung des Reinigungsfluids mit Hilfe einer Zuleitungseinrichtung.In a device according to the invention the strapless Supply of the cleaning fluid with the aid of a supply device.

Bei einer Ausführungsform der Vorrichtung umfasst die Zuleitungseinrichtung eine oder mehrere Düsen, wobei das Reinigungsfluid, insbesondere Wasserdampf, unter Druck durch die Düse auf bzw. über die zu reinigende Oberfläche geblasen bzw. gesprüht wird. Das Reinigungsfluid schlägt sich auf der zu reinigenden Oberfläche nieder und löst die Verunreinigungen. Die mindestens eine Düse kann fest mit dem zu reinigenden Objektiv verbunden sein. Es ist auch möglich, dass sie lösbar mit dem Objektiv verbunden und nur zu Reinigungszwecken angebracht wird. Die mindestens eine Düse kann so schwenkbar befestigt sein, dass der Winkel verändert werden kann, mit dem das Reinigungsfluid auf die zu reinigende Oberfläche auftrifft. Die mindestens eine Düse kann auch ohne mechanische Verbindung mit dem Objektiv in der Nähe der zu reinigenden Fläche positioniert werden. Durch die Strömungskräfte, die durch das anströmende Reinigungsfluid hervorgerufen werden, erfolgt gleichzeitig mit der Zuführung des frischen Reinigungsfluids ein Abtransport des bereits in Kontakt mit der Oberfläche stehenden Reinigungsfluids und der darin enthaltenen Verunreinigungen. Der Abtransport kann von einer Absaugvorrichtung unterstützt werden. Insbesondere wird dadurch vermieden, dass das verunreinigte Reinigungsfluid unkontrolliert in die Umgebung gelangt und diese dabei kontaminiert.In one embodiment, the device comprises the feed device one or more nozzles, the cleaning fluid, especially water vapor, under pressure through the nozzle on or over the surface to be cleaned blown or sprayed becomes. The cleaning fluid strikes settles on the surface to be cleaned and loosens the impurities. The at least one nozzle can be firmly attached to the lens to be cleaned. It is also possible, that they're releasable attached to the lens and attached only for cleaning purposes. The at least one nozzle can be pivoted so that the angle can be changed, with which the cleaning fluid hits the surface to be cleaned. The at least one nozzle can even without mechanical connection to the lens near the cleaning surface be positioned. Due to the flow forces caused by the incoming cleaning fluid are caused at the same time as the addition of the fresh Cleaning fluids a removal of the already in contact with the surface standing cleaning fluid and the impurities it contains. The Removal can be supported by a suction device. In particular, this prevents the contaminated cleaning fluid gets into the environment in an uncontrolled manner and contaminates it.

Bei einer Ausführungsform der Vorrichtung umfasst die Zuleitungseinrichtung einen Objektivaufsatz mit einer Öffnung zur Aufnahme der zu reinigenden Außenfläche. Der Objektivaufsatz ist derart am Objektiv befestigbar, dass ein geschlossener Hohlraum in Verbindung mit der zu reinigenden Außenfläche entsteht. Die zu reinigende Außenfläche bildet eine Begrenzungsfläche des Hohlraums.In one embodiment, the device comprises the feed device has a lens attachment with an opening Inclusion of the outer surface to be cleaned. The Lens attachment can be attached to the lens in such a way that a closed one Cavity is created in connection with the outer surface to be cleaned. The one to be cleaned The outer surface forms a boundary surface of the cavity.

Der Objektivaufsatz kann eine oder mehrere Öffnungen zur Zu- bzw. Ableitung des Reinigungsfluids enthalten. Das Reinigungsfluid kann unter Verwendung einer Pumpe zugeführt werden.The lens attachment can be a or multiple openings included for supplying and discharging the cleaning fluid. The cleaning fluid can be delivered using a pump.

Der Objektivaufsatz kann mit mechanischen Befestigungsmitteln, wie beispielsweise Verschraubungen, insbesondere aber magnetisch oder mittels Vakuumansaugung am Objektiv befestigbar sein.The lens attachment can be attached with mechanical fasteners, such as screw connections, but especially magnetic or be attachable to the lens by means of vacuum suction.

Die vorstehenden und weiteren Merkmale gehen außer aus den Ansprüchen auch aus der Beschreibung und den Zeichnungen hervor, wobei die einzelnen Merkmale jeweils für sich allein oder zu mehreren in Form von Unterkombinationen bei einer Ausführungsform der Erfindung und auf anderen Gebieten verwirklicht sein und vorteilhafte sowie für sich schutzfähige Ausführungen darstellen können.The above and other features go except from the claims also from the description and the drawings, the individual Characteristics for each alone or in several in the form of sub-combinations one embodiment of the invention and in other fields be realized and advantageous also for yourself protectable versions can represent.

Kurzbeschreibung der ZeichnungenSummary of the drawings

Vorteilhafte, nachfolgend beschriebene Ausführungsformen der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt, in denen zeigen:Advantageous, described below embodiments The invention is illustrated in the drawings, in which:

1 eine Vorrichtung zur Reinigung von Außenflächen an Lithographieobjektiven mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen gemäß einer Ausführungsform der Erfindung, 1 a device for cleaning external surfaces on lithography objectives of microlithographic projection exposure systems according to an embodiment of the invention,

2 eine Vorrichtung zur Reinigung von Außenflächen an Lithographieobjektiven mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung. 2 a device for cleaning external surfaces on lithography objectives of microlithographic projection exposure systems according to a further embodiment of the invention.

1 zeigt in einem Schnittbild schematisch eine zu reinigende Außenfläche 100 eines mikrolithographischen Projektionsobjektivs 101 und eine Vorrichtung 110 zur Reinigung der Außenfläche 100 gemäß einer Ausführungsform der Erfindung. Die zu reinigende Außenfläche 100 ist die ebene Lichtaustrittseite einer transparenten, planparallelen Abschlussplatte 102 des Projektionsobjektivs 101. Die Vorrichtung 110 ist im Bereich der zu reinigenden Außenfläche 100 angeordnet und ist mit einem Befestigungsmittel 140 am Projektionsobjektiv 101 befestigt. 1 shows schematically in a sectional view an outer surface to be cleaned 100 of a microlithographic projection lens 101 and a device 110 for cleaning the outside surface 100 according to an embodiment of the invention. The outside surface to be cleaned 100 is the flat light exit side of a transparent, plane-parallel cover plate 102 of the projection lens 101 , The device 110 is in the area of the outer surface to be cleaned 100 arranged and is with a fastener 140 on the projection lens 101 attached.

Die Vorrichtung 110 umfasst eine Dampferzeugungseinrichtung 120, eine Zuleitung 130, eine Düse 131 und eine optionale Absaugeinrichtung 150.The device 110 comprises a steam generating device 120 , a supply line 130 , a nozzle 131 and an optional suction device 150 ,

Die Dampferzeugungseinrichtung 120 umfasst eine Dampferzeugungskammer 121 zur Aufnahme eines zu verdampfenden Mediums 160, eine Heizung 122, einen Schließer 123, eine Eintrittsöffnung 124, ein erstes Ventil 125, eine Austrittsöffnung 126 und ein zweites Ventil 127.The steam generator 120 includes a steam generating chamber 121 to hold a medium to be evaporated 160 , a heater 122 , a closer 123 , an entrance opening 124 , a first valve 125 , an outlet opening 126 and a second valve 127 ,

Die Düse 131 ist über die Zuleitung 130 mit der Austrittsöffnung 126 der Dampferzeugungseinrichtung 120 verbunden.The nozzle 131 is about the supply line 130 with the outlet opening 126 the steam generator 120 connected.

In der Dampferzeugungseinrichtung 120 wird das zu verdampfende Medium 160, insbesondere Wasser und/oder ein oder mehrere Alkohole, durch die Heizung 122 soweit erhitzt, bis sich in der Dampferzeugungskammer 121 oberhalb des zu verdampfenden Mediums 160 Dampf bildet. Durch die Eintrittsöffnung 124 und das erste Ventil 125 wird ein Gas, insbesondere Luft, eingeleitet. Durch Öffnen und Schließen des ersten Ventils 125 kann der Gaseintritt ermöglicht oder unterbunden werden. Bei geöffnetem Schließer 123 reichert sich das eingeleitete Gas mit dem Dampf an. Bei geöffnetem zweitem Ventil 127 und ausreichendem Druck in der Dampferzeugungskammer 121 entweicht das Gas-Dampfgemisch durch das zweite Ventil 127, die Austrittsöffnung 126 und die Zuleitung 130 zur Düse 131. Das Reinigungsfluid besteht folglich in dieser Ausführungsform aus einem Gas-Dampfgemisch.In the steam generator 120 becomes the medium to be evaporated 160 , in particular water and / or one or more alcohols, by the heater 122 heated until it is in the steam generating chamber 121 above the medium to be evaporated 160 Steam forms. Through the entry opening 124 and the first valve 125 a gas, in particular air, is introduced. By opening and closing the first valve 125 the gas entry can be enabled or prevented. Beige open closer 123 the introduced gas is enriched with the steam. With the second valve open 127 and sufficient pressure in the steam generation chamber 121 the gas-vapor mixture escapes through the second valve 127 , the outlet opening 126 and the supply line 130 to the nozzle 131 , In this embodiment, the cleaning fluid consequently consists of a gas / vapor mixture.

Die Düse 131 leitet das Gas-Dampfgemisch an die zu reinigende Außenfläche 100 des Lithographieobjektivs. Die Zuleitung kann kontinuierlich oder gepulst erfolgen. Ein Pulsen wird insbesondere durch periodisches Öffnen und Schließen des zweiten Ventils 127 erreicht. Über die Länge der Zuleitung 130 kann die Temperatur des Gas-Dampfgemischs beeinflusst werden.The nozzle 131 directs the gas-steam mixture to the external surface to be cleaned 100 of the lithography lens. The supply line can be continuous or pulsed. Pulsing is achieved in particular by periodically opening and closing the second valve 127 reached. Over the length of the supply line 130 the temperature of the gas-vapor mixture can be influenced.

Das Gas-Dampfgemisch, welches der zu reinigenden Außenfläche 100 zugeleitet wird, löst die Verunreinigungen sowohl chemisch als auch mechanisch, da durch das strömende Reinigungsfluid Strömungskräfte auf die Verunreinigungen wirken, die das Lösen bzw. Ablösen der Verunreinigungen unterstützen bzw. bewirken. Das Gas-Dampfgemisch und die darin enthaltenen Verunreinigungen werden anschließend von einer optionalen Absaugeinrichtung 150 abgesaugt.The gas-vapor mixture, which is the outer surface to be cleaned 100 is fed, the contaminants dissolve both chemically and mechanically, since the flowing cleaning fluid causes flow forces on the contaminants, which support or bring about the loosening or detachment of the contaminants. The gas-vapor mixture and the impurities it contains are then removed by an optional suction device 150 aspirated.

Nach der Reinigung kann mit Hilfe des Schließers 123 das zu verdampfende Medium 160 vom Gasstrom abgetrennt werden. Bei geschlossenem Schließer 123 wird das Gas ohne Dampfzusatz über die Außenfläche 100 des Lithographieobjektivs geblasen. Dadurch wird die Außenfläche 100 schnell abgetrocknet.After cleaning, you can use the closer 123 the medium to be evaporated 160 be separated from the gas stream. When the closer is closed 123 the gas is added to the outside surface without adding steam 100 blown of the lithography lens. This will make the outside surface 100 dried quickly.

2 zeigt in einem Schnittbild schematisch den austrittsseitigen Endbereich eines mikrolithographischen Projektionsobjektivs 201, bei dem in einer Fassung 202 eine planparallele Abschlussplatte 203 gehalten ist, deren Lichtaustrittsseite 200 behandelt werden soll. Zur Reinigung bzw. zur Behandlung der Lichtaustrittsseite 220 ist eine Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung vorgesehen. 2 shows schematically in a sectional view the exit-side end region of a microlithographic projection objective 201 , in which in a version 202 a plane-parallel end plate 203 is held, the light exit side 200 to be treated. For cleaning or treating the light exit side 220 a device according to an embodiment of the invention is provided.

Die Reinigungsvorrichtung umfasst einen massiven topfförmigen Objektivaufsatz 210 mit einer kreisrunden Bodenplatte 211 und einem einstöckig mit der Bodenplatte ausgebildeten, hochgezogenen Rand 212, der eine ebene Oberseite 213 der Bodenplatte 211 umschließt. In der Nähe des Randes 212 ist an der Oberseite 213 eine umlaufende Nut vorgesehen, in die ein Dichtring 214 eingelegt ist. Eine Zuleitungseinrichtung 215 zur Zuleitung von Reinigungsfluid in den vom Rand 212 umschlossenen Bereich hat einen oder mehrere von der Seite in das Innere der Bodenplatte 211 führende, parallel zur Oberseite 213 verlaufende Zuleitungskanäle 216, von denen Zuleitungskanalabschnitte 217 senkrecht in Richtung Oberseite 213 abzweigen, wo sie in Zuleitungsöffnungen 218 münden. Die Zuleitungsöffnungen 218 können auch in Düsenform, gegebenenfalls mit variabler Düsenöffnung ausgebildet sein, so dass das Fluid gegebenenfalls zerstäubt werden kann. Es ist eine Vielzahl von Zuleitungskanalabschnitten 217 vorgesehen, wobei die Zuleitungsöffnungen 218 ein regelmäßiges Raster an der Oberseite 213 bilden. Eine Ableitungseinrichtung 220 ist entsprechend aufgebaut und hat mehrere von der Oberseite 213 in das Innere der Bodenplatte 211 führende Ableitungskanalabschnitte 221, die jeweils zwischen den Zuleitungskanalabschnitten 217 angeordnet sind und zu einem oder mehreren horizontalen Ableitungskanälen 223 führen, die am Rande des Objektivaufsatzes 210 ins Freie münden. Ableitungsöffnungen 222 sind ebenfalls rasterartig angeordnet und jeweils zwischen benachbarten Zuleitungsöffnungen 218 mit Abstand zu diesen angeordnet. Die Kanäle der Zuleitungseinrichtung 215 stehen innerhalb des Objektivaufsatzes 210 nicht mit den Kanälen der Ableitungseinrichtung 220 in Verbindung, da die Kanäle der Zuleitungseinrichtung 215 und die Kanäle der Ableitungseinrichtung 220 im Objektivaufsatz 210 räumlich zueinander versetzt angeordnet sind.The cleaning device comprises a solid cup-shaped lens attachment 210 with a circular base plate 211 and a raised edge formed in one piece with the base plate 212 which is a flat top 213 the bottom plate 211 encloses. Near the edge 212 is at the top 213 a circumferential groove is provided, into which a sealing ring 214 is inserted. A supply device 215 for supplying cleaning fluid from the edge 212 enclosed area has one or more from the side inside the bottom plate 211 leading, parallel to the top 213 running supply ducts 216 , of which supply duct sections 217 vertically towards the top 213 branch where they are in supply openings 218 lead. The supply openings 218 can also be designed in the form of a nozzle, optionally with a variable nozzle opening, so that the fluid can be atomized if necessary. It is a variety of inlet duct sections 217 provided, the supply openings 218 a regular grid on the top 213 form. A discharge device 220 is constructed accordingly and has several from the top 213 inside the bottom plate 211 leading drainage duct sections 221 , each between the supply duct sections 217 are arranged and to one or more horizontal discharge channels 223 lead that on the edge of the lens attachment 210 lead into the open. drain holes 222 are also arranged in a grid pattern and each between adjacent supply openings 218 arranged at a distance from these. The channels of the supply device 215 stand within the lens attachment 210 not with the channels of the discharge device 220 in connection because the channels of the supply device 215 and the channels of the derivation device 220 in the lens attachment 210 are spatially offset from each other.

Zur Vorbereitung des Reinigungsvorganges wird der Objektivaufsatz 210 so an der Unterseite des Projektionsobjektives 201 befestigt, dass der Dichtring 214 an die Unterseite der Fassung 202 angepresst wird. Dadurch entsteht in dem vom Dichtring 214 umschlossenen Bereich ein flüssigkeitsdicht abgeschlossener Hohlraum 224, der nach oben von der zur reinigenden Lichtaustrittsseite 200 und nach unten von der Obersei te 213 des Objektivaufsatzes 210 mit den Zuleitungsöffnungen 218 und den entsprechenden Ableitungsöffnungen 222 begrenzt wird. Dann wird das Reinigungsfluid, welches gegebenenfalls temperiert sein kann, mit Hilfe einer nicht gezeigten Pumpe über die Kanäle der Zuleitungseinrichtung 215 in den geschlossenen Hohlraum 224 geleitet. Durch die gleichmäßige Verteilung von Zuleitungsöffnungen 218 ist eine gleichmäßige Befüllung gewährleistet, wobei bei geeignet großem Zuleitungsdruck die zu reinigende Oberfläche 200 gleichmäßig mit Reinigungsfluid besprüht werden kann. Die Kanäle der Ableitungseinrichtung 220 sind zunächst mit Hilfe einer nicht gezeigten Absperreinrichtung verschlossen, so dass der Hohlraum 224 vollständig gefüllt wird. Dabei wird die vom Dichtring 214 eingeschlossene Außenfläche 200 des Lithographieobjektives 201 inklusive der zu reinigenden Außenfläche 200 vollständig mit dem Reinigungsfluid benetzt. Eine vollständige Befüllung ist nicht zwingend; es ist auch möglich, die Oberflächenbehandlung mit Sprühnebel durchzuführen.The lens attachment is used to prepare the cleaning process 210 so on the bottom of the projection lens 201 attached that the sealing ring 214 to the bottom of the socket 202 is pressed. This creates in the seal ring 214 enclosed area a liquid-tight cavity 224 that goes up from the cleaning light exit side 200 and down from the top 213 of the lens attachment 210 with the supply openings 218 and the corresponding discharge openings 222 is limited. Then the cleaning fluid, which can optionally be temperature-controlled, is pumped through the channels of the feed device with the aid of a pump, not shown 215 in the closed cavity 224 directed. Thanks to the even distribution of supply openings 218 uniform filling is ensured, with the surface to be cleaned being cleaned at a suitably high supply pressure 200 can be sprayed evenly with cleaning fluid. The channels of the discharge device 220 are initially closed using a shut-off device, not shown, so that the cavity 224 is completely filled. This is from the sealing ring 214 enclosed outer surface 200 of the lithography lens 201 including the outer surface to be cleaned 200 completely wetted with the cleaning fluid. Complete filling is not mandatory; it is also possible to carry out the surface treatment with spray mist.

Als Reinigungsfluid wird eine Mischung aus Wasser und Alkohol verwendet. Nach der vollständigen Füllung des Hohlraums 224 lösen sich in einem Spülschritt die Verunreinigungen in dem Reinigungsfluid. Anschließend wird das Reinigungsfluid mit den darin enthaltenen Verunreinigungen über die Kanäle der Ableitungseinrichtung 220 abtransportiert. Der Spülschritt kann auch kontinuierlich bei fließendem Reinigungsfluid oder in Intervallen mit jeweils fließendem oder stehendem Reinigungsfluid durchgeführt werden. In jedem Fall ist durch die gleichmäßige Verteilung und räumliche Nähe von Zuleitungsöffnungen 218 und Ableitungsöffnungen 222 eine gleichmäßige Beströmung der zu reinigenden Außenfläche mit frischem Reinigungsfluid und eine gleichmäßige Abfuhr von verbrauchtem Reinigungsfluid möglich.A mixture of water and alcohol is used as the cleaning fluid. After the cavity is completely filled 224 the impurities in the cleaning fluid dissolve in a rinsing step. The cleaning fluid with the impurities contained therein is then passed through the channels of the discharge device 220 removed. The rinsing step can also be carried out continuously with flowing cleaning fluid or at intervals with flowing or standing cleaning fluid become. In any case, due to the even distribution and spatial proximity of supply openings 218 and discharge openings 222 A uniform flow of fresh cleaning fluid onto the outer surface to be cleaned and a uniform removal of used cleaning fluid is possible.

Die Reinigung kann danach nochmals durchgeführt werden, insbesondere unter Verwendung eines weiteren Reinigungsfluids, das in der La ge ist, andersartige Verunreinigungen zu lösen. Es kann nützlich sein, vor einem Wechsel des Reinigungsfluids einen Trocknungsschritt, z.B. durch Einblasen von Stickstoff oder Luft durchzuführen. Nach Durchführung der Reinigung kann die Vorrichtung vom Lithographieobjektiv 201 entfernt werden. Beiden Ausführungsformen der Erfindung ist gemeinsam, dass keine mechanischen Kräfte durch Wischen auf die zu reinigende Oberfläche wirken. Die Reinigung erfolgt berührungslos, schonend und mit reproduzierbarer Qualität.The cleaning can then be carried out again, in particular using another cleaning fluid which is in the position to dissolve other types of impurities. It can be useful to carry out a drying step, for example by blowing in nitrogen or air, before changing the cleaning fluid. After performing the cleaning, the device can be removed from the lithography lens 201 be removed. Both embodiments of the invention have in common that no mechanical forces act on the surface to be cleaned by wiping. Cleaning is carried out without contact, gently and with reproducible quality.

Claims

Process for cleaning external surfaces on lithography lenses microlithographic projection exposure equipment, the process with the following steps: - Deliver a cleaning fluid on the outer surface of the lithography objective to be cleaned, and - rinse the Outer surface of the Lithography lens with the cleaning fluid such that contamination on the outer surface of the Lithography lens can be solved by the cleaning fluid.

A method according to claim 1, characterized in that the Cleaning fluid and the impurities it contains from the external surface to be cleaned Lithography lens can be derived.

A method according to claim 1 or 2, characterized in that the steps are carried out at least one more time, in particular using at least one further cleaning fluid, that is composed in such a way that any remaining contamination is at least partially solved and be removed.

Method according to one of the preceding claims, which the cleaning fluid is sprayed or inflated under pressure onto the surface to be cleaned becomes.

Method according to one of the preceding claims, characterized characterized in that a mixture of alcohol, especially methanol, and water is used.

Method according to one of the preceding claims, characterized characterized in that water vapor is used as the cleaning fluid.

Method according to one of the preceding claims, characterized characterized that the outer surface of the Lithography lenses after cleaning by supplying gas, especially air, is dried.

Device for cleaning external surfaces ( 100 . 200 ) on lithography lenses ( 101 . 201 ) microlithographic projection exposure systems with at least one supply device ( 131 . 215 ) for supplying a cleaning fluid to the outer surface to be cleaned ( 100 . 200 ) of the lithography lens ( 101 . 201 ).

Device according to claim 8, characterized by at least one nozzle ( 131 ), through which a cleaning fluid reaches the outer surface to be cleaned ( 100 . 200 ) of the lithography lens ( 101 . 201 ) it can be fed that contamination on the outer surface ( 100 . 200 ) of the lithography lens ( 101 . 201 ) are chemically and / or mechanically soluble in the cleaning fluid.

Device according to claim 8 or 9, characterized by at least one suction device ( 150 ) to drain the cleaning fluid and the impurities it contains.

Device according to one of claims 8 to 10, characterized by a lens attachment ( 210 ), which has an opening for receiving the outer surface to be cleaned ( 100 . 200 ) and in this way on the lens ( 101 . 201 ) can be fastened such that a closed cavity ( 224 ) in front of the surface to be cleaned ( 100 . 200 ) arises, whereby the cavity ( 224 ) can be filled with at least one cleaning fluid such that impurities on the outer surface ( 100 . 200 ) of the lithography lens ( 101 . 201 ) can be solved by the cleaning fluid.

Apparatus according to claim 11, characterized in that the lens attachment ( 210 ) magnetically on the lithography lens ( 101 . 201 ) can be attached.

Device according to claim 11 or 12, characterized in that the objective attachment ( 210 ) with the help of a vacuum suction on the lithography lens ( 101 . 201 ) can be attached.

Device according to one of claims 11 to 13, characterized in that the lens attachment ( 210 ) a supply device ( 215 ) with at least one in the cavity ( 224 ) opening duct section ( 217 ), preferably a plurality of distributed feed channel sections ( 217 ) are provided for even filling of the cavity.

Device according to one of claims 11 to 14, characterized by a discharge device ( 220 ) that are used to remove the cleaning fluid and the impurities it contains from the cavity ( 224 ) is trained.

Apparatus according to claim 15, characterized in that the derivation device ( 220 ) several alternating with supply duct sections ( 217 ) arranged discharge duct sections ( 221 ) having.

Device according to claim 15 or 16, characterized in that the cavity ( 224 ) with the discharge device open ( 220 ) can be flushed through with at least one cleaning fluid.