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DE102018123482A1 - Optically variable element, security document, method for producing an optically variable element, method for producing a security document - Google Patents

Optically variable element, security document, method for producing an optically variable element, method for producing a security document Download PDF

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DE102018123482A1
DE102018123482A1 DE102018123482.1A DE102018123482A DE102018123482A1 DE 102018123482 A1 DE102018123482 A1 DE 102018123482A1 DE 102018123482 A DE102018123482 A DE 102018123482A DE 102018123482 A1 DE102018123482 A1 DE 102018123482A1
Authority
DE
Germany
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pixels
structures
virtual
pixel array
optically variable
Prior art date
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Pending
Application number
DE102018123482.1A
Other languages
German (de)
Inventor
Corrado FRASCHINA
Sebastian Mader
Harald Walter
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OVD Kinegram AG
Original Assignee
OVD Kinegram AG
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Publication date
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Priority to ARP190102702A priority patent/AR116489A1/en
Priority to CA3112507A priority patent/CA3112507A1/en
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein optisch variables Element (1a), insbesondere ein Sicherheitselement (1b) und/oder ein Dekorelement (1c), bevorzugt für Sicherheitsdokumente (1d), wobei das optisch variable Element (1a) zumindest ein Pixelarray (2) umfassend zwei oder mehrere Pixel (2aa-2dd,2e-2f) aufweist, wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) ein oder mehrere Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) aufweisen, und wobei ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) einfallende elektromagnetische Strahlung (6) in ein oder mehrere Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen. Weiter betrifft die Erfindung ein Sicherheitsdokument (1d), insbesondere umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente (1a), ein Verfahren zur Herstellung eines optisch variablen Elements (1a), vorzugsweise eines Sicherheitselements (1b) und/oder eines Dekorelements (1c), bevorzugt für Sicherheitsdokumente (1d), sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments (1d), vorzugsweise umfassend ein oder mehrere Schichten, bevorzugt umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente (1a).The invention relates to an optically variable element (1a), in particular a security element (1b) and / or a decorative element (1c), preferably for security documents (1d), the optically variable element (1a) comprising at least one pixel array (2) or two has a plurality of pixels (2aa-2dd, 2e-2f), one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) having one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f), and wherein one image, bend and / or scatter the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) of the incident electromagnetic radiation (6) in one or more solid angles. The invention further relates to a security document (1d), in particular comprising one or more optically variable elements (1a), a method for producing an optically variable element (1a), preferably a security element (1b) and / or a decorative element (1c) for security documents (1d), and a method for producing a security document (1d), preferably comprising one or more layers, preferably comprising one or more optically variable elements (1a).

Description

Die Erfindung betrifft ein optisch variables Element, insbesondere ein Sicherheitselement und/oder ein Dekorelement, ein Sicherheitsdokument, ein Verfahren zur Herstellung eines optisch variablen Elements, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments.The invention relates to an optically variable element, in particular a security element and / or a decorative element, a security document, a method for producing an optically variable element, and a method for producing a security document.

Sicherheitselemente werden verwendet, um die Fälschungssicherheit von Sicherheitsdokumenten, wie beispielsweise Banknoten, Pässen, Scheckkarten, Visa, Kreditkarten, Zertifikaten und/oder ähnlichen Wert- beziehungsweise Identifikationsdokumenten zu erhöhen und damit zu verbessern. Weiter sind die von den Sicherheitselementen bereitgestellten optisch variablen Effekte von Laien einfach und eindeutig ohne weitere technische Hilfsmittel oder mittels weiterer technischer Hilfsmittel, wie beispielsweise Kameras, erfassbar, wobei der Laie mit geringst möglichem Aufwand die Echtheit eines mit einem derartigen Sicherheitselement ausgestatteten Sicherheitsdokuments nachweisen kann und manipulative Eingriffe an dem Sicherheitsdokument und/oder gefälschte Sicherheitsdokumente möglichst umgehend erkennen kann.Security elements are used to increase and thus improve the security against forgery of security documents, such as banknotes, passports, check cards, visas, credit cards, certificates and / or similar value or identification documents. Furthermore, the optically variable effects provided by the security elements can be detected easily and unambiguously by other laymen without further technical aids or by means of further technical aids such as cameras, the layperson being able to prove the authenticity of a security document equipped with such a security element with the least possible effort and can detect manipulative interventions on the security document and / or fake security documents as soon as possible.

Als Sicherheitselemente kommen diffraktive Strukturen und Dünnfilmschichtelemente häufig zum Einsatz. Hierbei zeigen diffraktive Strukturen in Abhängigkeit vom Betrachtungswinkel Farbeffekte, wie beispielsweise einen Regenbogeneffekt. Dünnfilmschichtelemente hingegen zeichnen sich durch einen definierten Farbwechseleffekt aus. Derartige Sicherheitselemente finden beim Laien aufgrund ihrer umfassenden Verbreitung und den daraus folgenden Gewöhnungseffekt jedoch kaum mehr Beachtung.Diffractive structures and thin-film layer elements are often used as security elements. Depending on the viewing angle, diffractive structures show color effects, such as a rainbow effect. Thin-film layer elements, on the other hand, are characterized by a defined color change effect. However, due to their widespread use and the resulting habituation effect, such security elements are hardly considered by laypersons.

So ist beispielsweise aus dem Dokument DE 10 2004 016 596 A1 ein derartiges Sicherheitselement bekannt.For example, from the document DE 10 2004 016 596 A1 such a security element is known.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes optisch variables Element, ein Sicherheitsdokument umfassend ein oder mehrere verbesserte optisch variable Elemente, ein Verfahren zur Herstellung eines verbesserten optisch variablen Elements sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments umfassend ein oder mehrere verbesserte optische variable Elemente bereitzustellen. Insbesondere stellt das verbesserte optisch variable Element einen besonders einprägsamen optisch variablen Effekt bereit.The present invention is therefore based on the object of an improved optically variable element, a security document comprising one or more improved optically variable elements, a method for producing an improved optically variable element and a method for producing a security document comprising one or more improved optically variable elements to provide. In particular, the improved optically variable element provides a particularly memorable optically variable effect.

Die Aufgabe wird gelöst durch ein optisch variables Element, insbesondere ein Sicherheitselement und/oder ein Dekorelement, bevorzugt für Sicherheitsdokumente, wobei das optisch variable Element zumindest ein Pixelarray umfassend zwei oder mehrere Pixel aufweist, wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere Strukturen aufweisen, und wobei ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung in ein oder mehrere Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen.The object is achieved by an optically variable element, in particular a security element and / or a decorative element, preferably for security documents, wherein the optically variable element has at least one pixel array comprising two or more pixels, one or more pixels of the two or more pixels of the at least one a pixel array has one or more structures, and one or more structures of the electromagnetic radiation incident on the one or more structures image, diffract and / or scatter in one or more solid angles.

Weiter wird die Aufgabe gelöst durch ein Sicherheitsdokument, insbesondere umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente.The object is further achieved by a security document, in particular comprising one or more optically variable elements.

Weiter wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung eines optisch variablen Elements, vorzugsweise eines Sicherheitselements und/oder eines Dekorelements, bevorzugt für Sicherheitsdokumente, welches durch die folgenden Schritte gekennzeichnet ist:

  • - Bereitstellung zumindest eines virtuellen Pixelarray umfassend zwei oder mehrere virtuelle Pixel,
  • - Zuordnung zumindest eines Raumwinkels zu ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray,
  • - Anordnung ein oder mehrerer virtueller Feldquellen in und/oder auf zumindest einem Bereich oder zumindest einem Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels, wobei der zumindest eine Bereich oder das zumindest eine Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels in einem ersten Abstand zu den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray angeordnet ist,
  • - Berechnung ein oder mehrerer virtueller elektromagnetischer Felder ausgehend von den ein oder mehreren virtuellen Feldquellen in einem vorbestimmten Abstand von den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene,
  • - Berechnung ein oder mehrerer Phasenbilder für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray aus einem virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeld bestehend aus der Überlagerung der ein oder mehreren virtuellen elektromagnetischen Feldern in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene,
  • - Berechnung virtueller Strukturprofile für die ein oder mehreren virtuellen Pixel zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray aus den ein oder mehreren Phasenbildern,
  • - Ausbildung der virtuellen Strukturprofile der ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray in und/oder auf ein Substrat als zumindest ein Pixelarray umfassend zwei oder mehrere Pixel, wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere Strukturen aufweisen, zur Bereitstellung des optisch variablen Elements.
The object is further achieved by a method for producing an optically variable element, preferably a security element and / or a decorative element, preferably for security documents, which is characterized by the following steps:
  • Provision of at least one virtual pixel array comprising two or more virtual pixels,
  • Assignment of at least one solid angle to one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array,
  • Arrangement of one or more virtual field sources in and / or on at least one area or at least one segment of the at least one associated solid angle, the at least one area or the at least one segment of the at least one associated solid angle at a first distance from the one or more virtual ones Pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array are arranged,
  • - Calculation of one or more virtual electromagnetic fields based on the one or more virtual field sources at a predetermined distance from the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array in and / or on the one or more virtual pixels two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array,
  • - Calculation of one or more phase images for the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array from a virtual total electromagnetic field consisting of the superimposition of the one or more virtual electromagnetic fields in and / or on the one or more virtual pixels the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array,
  • Calculation of virtual structure profiles for the one or more virtual pixels two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array from the one or more phase images,
  • - Formation of the virtual structure profiles of the one or more virtual pixels of the two or more pixels of the at least one virtual pixel array in and / or on a substrate as at least one pixel array comprising two or more pixels, one or more pixels of the two or more pixels of the at least one a pixel array has one or more structures to provide the optically variable element.

Weiter wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments, insbesondere umfassend ein oder mehrere Schichten, bevorzugt umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente, wobei ein oder mehrere optisch variable Elemente als Laminierfolie und/oder als Prägefolie auf das Sicherheitsdokument und/oder auf eine oder mehrere Schichten des Sicherheitsdokuments aufgebracht werden und/oder in das Sicherheitsdokument und/oder in ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten des Sicherheitsdokuments eingebracht werden.The object is further achieved by a method for producing a security document, in particular comprising one or more layers, preferably comprising one or more optically variable elements, one or more optically variable elements as a laminating film and / or as an embossing film on the security document and / or one or more layers of the security document are applied and / or are introduced into the security document and / or into one or more layers of the one or more layers of the security document.

Ein solches optisch variables Element zeichnet sich dadurch aus, dass dieses bevorzugt zumindest ein Pixelarray umfasst, wobei das zumindest eine Pixelarray zwei oder mehrere Pixel umfassend Strukturen aufweist, wobei insbesondere jeder Pixel einfallendes Licht in vorbestimmte Raumwinkel abbildet, beugt und/oder streut. Hierbei bestimmt vorzugsweise die Größe der vorbestimmte Raumwinkel das optisch erfassbare Erscheinungsbild des zumindest einen Pixelarray. Die Richtung des durch die Strukturen abgebildeten, gebeugten und/oder gestreuten ausfallenden Lichts ist hochpräzise vorbestimmbar.Such an optically variable element is distinguished by the fact that it preferably comprises at least one pixel array, the at least one pixel array having structures comprising two or more pixels, wherein in particular each pixel images, diffracts and / or scatters incident light into predetermined solid angles. The size of the predetermined solid angle preferably determines the optically detectable appearance of the at least one pixel array. The direction of the outgoing light imaged, diffracted and / or scattered by the structures can be predetermined with high precision.

Hierdurch wird erreicht, dass das optisch variable Element für einen Betrachter und/oder Sensor erfassbare, optische Bewegungseffekte generiert, welche eine hervorragende Erfassbarkeit auf Grund einer hohen Helligkeit, Intensität und Brillanz des entsprechenden Erscheinungsbildes aufweisen.It is hereby achieved that the optically variable element generates optical movement effects which can be detected by a viewer and / or sensor and which have excellent detectability on account of the high brightness, intensity and brilliance of the corresponding appearance.

Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen bezeichnet.Advantageous embodiments of the invention are specified in the subclaims.

Es ist möglich, dass wobei ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung in ein oder mehrere Raumwinkel achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen. Hierbei sind die Strukturen insbesondere derart ausgelegt, dass sie einfallende elektromagnetische Strahlung nicht in ein oder mehrere Raumwinkel reflektieren wie beispielsweise Mikrospiegel oder Mikrofacetten.It is possible for one or more structures of the one or more structures incident electromagnetic radiation to achromatically image, bend and / or scatter in one or more solid angles. The structures are in particular designed such that they do not reflect incident electromagnetic radiation into one or more solid angles, such as micromirrors or microfacets.

Unter „Raumwinkel“ wird insbesondere üblicherweise der Flächeninhalt einer Teilfläche A einer Kugeloberfläche von einer Kugel verstanden, welcher bevorzugt durch das Quadrat des Radius R der Kugel dividiert wird. Der Raumwinkel wird insbesondere in der dimensionslosen Einheit Steradiant angegeben. Der gesamte Raumwinkel entspricht vorzugsweise der Oberfläche der Einheitskugel beziehungsweise einer Kugel mit Radius eins, also insbesondere 4π.The "solid angle" is usually the area of a partial area A a spherical surface understood by a sphere, which preferably by the square of the radius R the ball is divided. The solid angle is given in particular in the dimensionless unit steradian. The entire solid angle preferably corresponds to the surface of the unit sphere or a sphere with a radius of one, in particular 4π.

Insbesondere sind Zahlenwerte für den Raumwinkel, in welchen die Strukturen in den Pixeln Licht abbilden, beugen und/oder streuen, vorzugsweise für senkrecht auf die Strukturen einfallendes Licht definiert, wobei bevorzugt die Zahlenwerte des Raumwinkels die Richtung des Lichtkegels im Bezug zur senkrechten z-Achse angeben.In particular, numerical values for the solid angle in which the structures in the pixels represent, diffract and / or scatter light are preferably defined for light incident perpendicularly to the structures, the numerical values of the solid angle preferably reflecting the direction of the light cone in relation to the vertical z-axis specify.

Unter „Öffnungswinkel“ wird insbesondere die Breite des Lichtkegels in Bezug auf die Gerade im Zentrum des Lichtkegels verstanden. Die Richtung des Lichtkegels in Bezug auf eine Achse, insbesondere die x- bzw. y-Achse, hängt bevorzugt von dem jeweils anvisierten optischen Effekt ab, wobei die x-Achse und die y-Achse vorzugsweise senkrecht zueinander ausgerichtet sind, insbesondere in einer Ebene, welche von der x-Achse und der y-Achse aufgespannt wird, in einem Winkel von 90° zueinander ausgerichtet sind.“Opening angle” means in particular the width of the light cone in relation to the straight line in the center of the light cone. The direction of the light cone with respect to an axis, in particular the x or y axis, preferably depends on the optical effect targeted in each case, the x axis and the y axis preferably being oriented perpendicular to one another, in particular in one plane , which is spanned by the x-axis and the y-axis, are aligned at an angle of 90 ° to one another.

Vorzugsweise ist das zumindest eine Pixelarray als ein eindimensionales, zweidimensionales oder dreidimensionales, insbesondere als eine Überlagerung von ein oder mehreren eindimensionalen und/oder zweidimensionalen, Arrays oder Anordnungen oder Matrizen von Pixeln ausgebildet. The at least one pixel array is preferably designed as a one-dimensional, two-dimensional or three-dimensional, in particular as a superimposition of one or more one-dimensional and / or two-dimensional, arrays or arrangements or matrices of pixels.

Es ist möglich, dass das optisch variable Element und/oder das Sicherheitsdokument ein oder mehrere Schichten umfasst, wobei insbesondere das zumindest eine Pixelarray auf oder in zumindest einer Schicht der ein oder mehreren Schichten angeordnet ist und wobei vorzugsweise ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten ausgewählt sind aus: HRI-Schicht (HRI = High Refractive Index, Schicht mit hohem Brechungsindex im Vergleich zu einem durchschnittlichen Brechungsindex von etwa 1,5), insbesondere Schicht umfassend HRI und/oder LRI-Lackschicht (LRI = Low Refractive Index, Schicht mit niedrigem Brechungsindex im Vergleich zu einem durchschnittlichen Brechungsindex von etwa 1,5), Metallschicht, Interferenzschicht, insbesondere Interferenzschichtabfolgen, bevorzugt HLH (High-Low-High bzgl. der Brechungsindizes der jeweiligen Schichten) oder HLHLH (High-Low-High-Low-High bzgl. der Brechungsindizes der jeweiligen Schichten), weiter bevorzugt Fabry-Perot-Dreischichtsystem oder -Mehrschichtsystem, Flüssigkristallschicht, Lumineszenzschicht, insbesondere Fluoreszenzschicht, Farbschicht, insbesondere lasierende Farbschicht, Metallschicht in direktem Kontakt mit einer lasierenden Farbschicht zur Erzeugung von Plasmonenresonanz-Effekten.It is possible for the optically variable element and / or the security document to comprise one or more layers, in particular the at least one pixel array being arranged on or in at least one layer of the one or more layers, and preferably one or more layers of the one or more Layers are selected from: HRI layer (HRI = High Refractive Index, layer with a high refractive index compared to an average refractive index of approximately 1.5), in particular layer comprising HRI and / or LRI lacquer layer (LRI = Low Refractive Index, layer with a low refractive index compared to an average refractive index of approximately 1.5), metal layer, interference layer, in particular interference layer sequences, preferably HLH (high-low-high with respect to the refractive indices of the respective layers) or HLHLH (high-low-high-low- High with respect to the refractive indices of the respective layers), more preferably Fabry-Perot three-layer system or -M Layer system, liquid crystal layer, luminescent layer, in particular fluorescent layer, color layer, in particular glazing color layer, metal layer in direct contact with a glazing color layer to produce plasmon resonance effects.

Weiter ist es möglich, dass das optisch variable Element und/oder das Substrat umfassend das zumindest eine Pixelarray zwischen zwei Schichten, insbesondere zwei weiteren Schichten, eingebettet ist. Ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren weiteren Schichten sind bevorzugt als Schutzschichten, Haftvermittlerschichten beziehungsweise Haftvermittlungsschichten, Kleberschichten, Barriereschichten, Dekorschichten, Reflexionsschichten, leitfähige Schichten ausgebildet.Furthermore, it is possible for the optically variable element and / or the substrate comprising the at least one pixel array to be embedded between two layers, in particular two further layers. One or more layers of the one or more further layers are preferably formed as protective layers, adhesion promoter layers or adhesion promoter layers, adhesive layers, barrier layers, decorative layers, reflection layers, conductive layers.

Die Schichten können auf einem Trägersubstrat (beispielsweise aus Polyester, insbesondere PET), ablösbar oder nicht ablösbar angeordnet sein.The layers can be arranged detachably or non-releasably on a carrier substrate (for example made of polyester, in particular PET).

Ein oder mehrere Schichten sind vorzugsweise metallische Schichten, welche vorzugsweise jeweils nicht vollflächig, sondern lediglich partiell in dem optisch variablen Element und/oder dem Sicherheitsdokument vorgesehen sind. Die metallischen Schichten sind hierbei insbesondere opak, transluzent oder semitransparent ausgebildet. Vorzugsweise umfassen die metallischen Schichten hierbei unterschiedliche Metalle, welche unterschiedliche, insbesondere deutlich unterschiedliche, bevorzugt von einem Betrachter und/oder Sensor unterscheidbare, Reflexions- und/oder Transmissionsspektren aufweisen. Bevorzugt umfassen die Metallschichten ein oder mehrere der Metalle: Aluminium, Kupfer, Gold, Silber, Chrom, Zinn, und/oder ein oder mehrere Legierungen dieser Metalle. Weiter sind die partiell vorgesehenen metallischen Schichten bevorzugt gerastert und/oder mit lokal unterschiedlichen Schichtdicken ausgestaltet. Ein Raster kann insbesondere regelmäßig oder fraktal oder unregelmäßig, insbesondere stochastisch ausgebildet sein, und bereichsweise in der Ausbildung variieren.One or more layers are preferably metallic layers, which are preferably not provided over the entire area, but only partially in the optically variable element and / or the security document. The metallic layers are in particular opaque, translucent or semi-transparent. The metallic layers preferably comprise different metals, which have different, in particular significantly different, reflection spectra and / or transmission spectra, preferably distinguishable from a viewer and / or sensor. The metal layers preferably comprise one or more of the metals: aluminum, copper, gold, silver, chromium, tin, and / or one or more alloys of these metals. Furthermore, the partially provided metallic layers are preferably rasterized and / or configured with locally different layer thicknesses. A grid can in particular be regular or fractal or irregular, in particular stochastic, and can vary in design in some areas.

Insbesondere sind ein oder mehrere Metallschichten der Metallschichten hierbei vorzugsweise musterförmig strukturiert in der Form, dass diese ein oder mehrere Bildelemente umfassen, in denen das Metall der Metallschicht vorgesehen ist und einen Hintergrundbereich umfassen, in denen das Metall der Metallschichten nicht vorgesehen ist oder umgekehrt. Die Bildelemente können hierbei vorzugsweise in Form von alphanumerischen Zeichen, jedoch auch von Motiven, Mustern, Grafiken und komplexen Darstellung von Objekten gebildet sein.In particular, one or more metal layers of the metal layers are preferably structured in a pattern in such a way that they comprise one or more image elements in which the metal of the metal layer is provided and comprise a background area in which the metal of the metal layers is not provided or vice versa. The image elements can preferably be in the form of alphanumeric characters, but also motifs, patterns, graphics and complex representations of objects.

Vorzugsweise umfassen ein oder mehrere der Schichten ein oder mehrere Farbschichten, insbesondere lasierende Farben. Bei diesen Farbschichten handelt es sich insbesondere um Farbschichten, welche mittels eines Druckverfahrens aufgebracht werden, und welche ein oder mehrere Farbstoffe und/oder Pigmente aufweisen, welche bevorzugt in einer Bindemittelmatrix eingebunden sind. Die Farbschichten, insbesondere Farben, können transparent, klar, teilweise streuend, transluzent, intransparent, und/oder deckend sein.One or more of the layers preferably comprise one or more color layers, in particular glazing colors. These color layers are, in particular, color layers which are applied by means of a printing process and which have one or more dyes and / or pigments which are preferably incorporated in a binder matrix. The color layers, in particular colors, can be transparent, clear, partially scattering, translucent, non-transparent, and / or opaque.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere der Schichten zusätzlich zu dem zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere optisch aktive Reliefstrukturen aufweisen, welche vorzugsweise jeweils in zumindest eine Oberfläche einer Lackschicht, bevorzugt einer replizierten Lackschicht, eingebracht sind. Bei derartigen Reliefstrukturen handelt es sich insbesondere um diffraktive Reliefstrukturen, wie beispielsweise Hologramme, Beugungsgitter, fresnelsche Freiformflächen, Beugungsgitter mit symmetrischen oder asymmetrischen Profilformen und/oder Beugungsstrukturen Nullter Ordnung.It is possible for one or more of the layers to have, in addition to the at least one pixel array, one or more optically active relief structures which are each preferably introduced into at least one surface of a lacquer layer, preferably a replicated lacquer layer. Relief structures of this type are, in particular, diffractive relief structures, such as, for example, holograms, diffraction gratings, Fresnel free-form surfaces, diffraction gratings with symmetrical or asymmetrical profile shapes and / or zero-order diffraction structures.

Weiter bevorzugt handelt es sich bei den Reliefstrukturen um isotrope und/oder anisotrope streuende Mattstrukturen, Blaze-Gitter und/oder im Wesentlichen in Reflexion und/oder in Transmission wirkende Reliefstrukturen, wie beispielsweise Mikrolinsen, Mikroprismen oder Mikrospiegel. The relief structures are further preferably isotropic and / or anisotropic scattering matt structures, blaze gratings and / or relief structures acting essentially in reflection and / or in transmission, such as, for example, microlenses, microprisms or micromirrors.

Die zusätzlichen optisch aktiven Reliefstrukturen können insbesondere entweder horizontal benachbart neben dem zumindest einen Pixelarray angeordnet sein und/oder vertikal über und unterhalb dem zumindest einen Pixelarray in weiteren Schichtebenen angeordnet sein.The additional optically active relief structures can in particular either be arranged horizontally adjacent to the at least one pixel array and / or vertically above and below the at least one pixel array in further layer planes.

Unter „isotroper Intensitätsverteilung“ wird insbesondere eine Intensitätsverteilung verstanden, deren Strahlungsleistung über alle Raumwinkel gleich ist.“Isotropic intensity distribution” is understood in particular to mean an intensity distribution whose radiation power is the same over all solid angles.

Unter „anisotroper Intensitätsverteilung“ wird insbesondere eine Intensitätsverteilung verstanden, deren Strahlungsleistung sich in zumindest einem ersten Raumwinkel von zumindest einem zweiten Raumwinkel unterscheidet.“Anisotropic intensity distribution” means in particular an intensity distribution whose radiation power differs from at least a first solid angle from at least a second solid angle.

Es ist möglich, dass eine oder mehrere der Schichten ein oder mehrere Flüssigkristallschichten aufweisen, welche vorzugsweise zum einen eine von der Polarisation des einfallenden Lichts abhängige und vorzugsweise zum anderen eine wellenlängenselektive Reflexion und/oder Transmission einfallenden Lichts abhängig von der Ausrichtung der Flüssigkristalle generieren.It is possible for one or more of the layers to have one or more liquid crystal layers which, on the one hand, preferably generate incident light that is dependent on the polarization of the incident light and, on the other hand, a wavelength-selective reflection and / or transmission depending on the orientation of the liquid crystals.

Unter „HRI-Schicht“ wird insbesondere eine Schicht mit einem hohen Brechungsindex verstanden, welche beispielsweise vollständig oder teilweise aus TiO2 oder ZnS besteht oder aus einer aufgedampften Schicht aus zumindest einem Metalloxid, Metallsulfid, Titandioxid, und/oder anderen Stoffen und/oder Kombinationen aus den vorstehenden Stoffen, besteht. Insbesondere weist eine HRI-Schicht eine Schichtdicke von 10 nm bis 150 nm, auf. Die „HRI-Schicht“ kann insbesondere vollflächig oder partiell vorliegen.“HRI layer” means in particular a layer with a high refractive index, which, for example, consists entirely or partially of TiO 2 or ZnS or a vapor-deposited layer composed of at least one metal oxide, metal sulfide, titanium dioxide, and / or other substances and / or combinations consists of the above substances. In particular, an HRI layer has a layer thickness of 10 nm to 150 nm. The “HRI layer” can in particular be present over the entire area or partially.

Vorzugsweise werden die ein oder mehreren Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder das zumindest eine Pixelarray in einen Dünnschichtaufbau, insbesondere in einen Fabry-Perot-Schichtaufbau, eingebracht. Bevorzugt wird der Dünnschichtaufbau auf die ein oder mehreren Strukturen und/oder auf das zumindest eine Pixelarray aufgebracht. Insbesondere weist ein derartiger Fabry-Perot-Schichtaufbau, insbesondere zumindest bereichsweise, zumindest eine erste semitransparente Absorberschicht, zumindest eine transparente Abstandsschicht und zumindest eine zweite semitransparente Absorberschicht und/oder eine opake Reflexionsschicht auf.The one or more structures of the one or more structures and / or the at least one pixel array are preferably introduced into a thin-layer structure, in particular into a Fabry-Perot layer structure. The thin-layer structure is preferably applied to the one or more structures and / or to the at least one pixel array. In particular, such a Fabry-Perot layer structure, in particular at least in regions, has at least one first semitransparent absorber layer, at least one transparent spacer layer and at least one second semitransparent absorber layer and / or an opaque reflection layer.

Unter „Dünnschichtaufbau“ wird insbesondere ein Aufbau aus Dünnschichtelementen verstanden, welcher einen blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekt generiert, basierend auf einer Anordnung von Schichten, welche eine optische Dicke im Bereich einer halben Wellenlänge (λ/2) oder einer viertel Wellenlänge (λ/4) einfallenden Lichts beziehungsweise einer oder mehrerer einfallender elektromagnetischer Wellen aufweist. Konstruktive Interferenz in einer Interferenzschicht mit einem Brechungsindex n und einer Dicke d wird vorzugsweise mittels der folgenden Gleichung berechnet: 2 nd cos ( Θ ) = m λ ,

Figure DE102018123482A1_0001
wobei Θ der Winkel zwischen der Beleuchtungsrichtung und der Betrachtungsrichtung, A die Wellenlänge des Lichts beziehungsweise der Felder, und m eine ganze Zahl ist. Diese Schichten umfassen vorzugsweise eine Abstandsschicht, insbesondere angeordnet zwischen einer Absorptionsschicht und einer Reflexionsschicht.“Thin-film construction” means in particular a construction of thin-film elements that generates a color shift effect that is dependent on the viewing angle, based on an arrangement of layers that have an optical thickness in the range of half a wavelength (λ / 2) or a quarter wavelength (λ / 4) of incident light or one or more incident electromagnetic waves. Constructive interference in an interference layer with a refractive index n and a thickness d is preferably calculated using the following equation: 2nd nd cos ( Θ ) = m λ ,
Figure DE102018123482A1_0001
where Θ is the angle between the direction of illumination and the viewing direction, A is the wavelength of the light or the fields, and m is an integer. These layers preferably comprise a spacer layer, in particular arranged between an absorption layer and a reflection layer.

Unter „semitransparent“ wird insbesondere eine Transmissivität im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Wellenlängenbereich verstanden, welche zwischen 10% und 70%, bevorzugt zwischen 10% und 50%, liegt, wobei vorzugsweise ein nicht zu vernachlässigender Teil des einfallenden elektromagnetischen Wellen, insbesondere des einfallenden Lichts, absorbiert wird.“Semitransparent” is understood in particular to mean a transmissivity in the infrared, visible and / or ultraviolet wavelength range, which is between 10% and 70%, preferably between 10% and 50%, preferably a non-negligible part of the incident electromagnetic waves, in particular of the incident light is absorbed.

Vorzugsweise weist die erste semitransparente Absorberschicht eine Schichtdicke zwischen 5 nm und 50 nm auf. Die Absorberschicht weist bevorzugt Aluminium, Silber, Kupfer, Zinn, Nickel, Inconel, Titan und/oder Chrom auf. Vorzugsweise weist die erste semitransparente Absorberschicht im Fall von Aluminium und Chrom eine Schichtdicke zwischen 5 nm und 15 nm auf.The first semitransparent absorber layer preferably has a layer thickness between 5 nm and 50 nm. The absorber layer preferably has aluminum, silver, copper, tin, nickel, inconel, titanium and / or chromium. In the case of aluminum and chromium, the first semi-transparent absorber layer preferably has a layer thickness between 5 nm and 15 nm.

Vorzugsweise weist die transparente Abstandsschicht eine Schichtdicke zwischen 100 nm und 800 nm, insbesondere zwischen 300 nm und 600 nm, auf. Die Abstandsschicht besteht bevorzugt aus organischem Material, insbesondere aus Polymer, und/oder aus anorganischem Al2O3, SiO2 und/oder MgF2. The transparent spacer layer preferably has a layer thickness between 100 nm and 800 nm, in particular between 300 nm and 600 nm. The spacer layer preferably consists of organic material, in particular of polymer, and / or of inorganic Al 2 O 3 , SiO 2 and / or MgF 2 .

Weiter bevorzugt besteht die transparente Abstandsschicht aus einer gedruckten Polymerschicht, welche insbesondere mittels Tiefdruck, Schlitzgießen oder im Inkjet-Druck aufgebracht wird.The transparent spacer layer further preferably consists of a printed polymer layer, which is applied in particular by means of gravure printing, slot casting or inkjet printing.

Unter „opak“ wird insbesondere verstanden, dass kein Licht im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Wellenlängenbereich oder nur eine zu vernachlässigende Menge an Licht im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Wellenlängenbereich, insbesondere weniger als 10%, weiter bevorzugt weniger als 5%, insbesondere bevorzugt weniger als 2%, durch ein Substrat, insbesondere ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten, transmittiert wird.“Opaque” means in particular that no light in the infrared, visible and / or ultraviolet wavelength range or only a negligible amount of light in the infrared, visible and / or ultraviolet wavelength range, in particular less than 10%, more preferably less than 5% , particularly preferably less than 2%, is transmitted through a substrate, in particular one or more layers of the one or more layers.

Es ist möglich, dass jedem Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen zugeordnet sind, wobei die einem Pixel zugeordneten ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung in ein oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, wobei insbesondere den ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkeln jeweils eine Richtung, vorzugsweise eine vorbestimmte Richtung, zugeordnet ist.It is possible for each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array to be assigned one or more structures of the one or more structures, the one or more structures assigned to a pixel imaging, diffracting and diffracting into one or more predetermined solid angles / or scatter, in particular one direction, preferably a predetermined direction, is assigned to each of the one or more predetermined solid angles.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder ein oder mehrere zugeordnete Strukturen der ein oder mehreren zugeordneten Strukturen in ein oder mehrere Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder ein oder mehrere vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, welche sich insbesondere voneinander unterscheiden, wobei ein oder mehrere auf eine um einen Pixel angeordnete Kugel, insbesondere eine Einheitskugel mit einem Einheitsradius von 1, projizierte Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel ein oder mehrere, insbesondere gleiche oder verschiedenartige, Formen ausbilden, welche vorzugsweise jeweils ausgewählt sind aus: Kreisfläche, Ellipsenfläche, Dreiecksfläche, Quadratfläche, Rechteckfläche, Polygonfläche, Kreisringfläche.Furthermore, it is possible that one or more structures of the one or more structures and / or one or more assigned structures of the one or more assigned structures into one or more solid angles of the one or more solid angles and / or one or more predetermined solid angles of the one or Imaging, bending and / or scattering a plurality of predetermined solid angles, which differ in particular from one another, one or more solid angles of the one or more solid angles and / or predetermined solid angles being projected onto a sphere arranged around a pixel, in particular a unit sphere with a unit radius of 1 the one or more predetermined solid angles form one or more, in particular identical or different, shapes, which are preferably each selected from: circular area, elliptical area, triangular area, square area, rectangular area, polygon area, circular ring area.

Möglich ist weiter, dass ein oder mehrere Formen der ein oder mehreren Formen offen oder geschlossen sind und/oder aus ein oder mehreren Teilformen bestehen, wobei insbesondere zumindest zwei Teilformen miteinander verbunden oder überlagert sind.It is also possible that one or more forms of the one or more forms are open or closed and / or consist of one or more partial forms, in particular at least two partial forms being connected to one another or superimposed.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere der von einem Betrachter erfassbaren Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel oder vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel, in welche ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray einfallende elektromagnetische Strahlung abbilden, beugen und/oder streuen, einer Funktion folgen, wobei die Funktion derart ausgebildet ist, dass ein Betrachter die Raumwinkel oder vorbestimmten Raumwinkel als wellenförmig bewegende Helligkeitsbänder, bevorzugt sinusförmig bewegende Helligkeitsbänder, erfasst.It is also possible for one or more of the solid angles that can be detected by an observer to image the one or more solid angles or predetermined solid angles or the one or more predetermined solid angles into which one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array reflect electromagnetic radiation. bend and / or scatter, follow a function, the function being designed in such a way that a viewer detects the solid angles or predetermined solid angles as wavy moving brightness bands, preferably sinusoidal moving brightness bands.

Vorzugsweise betragen ein oder mehrere oder alle Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder ein oder mehrere oder alle vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel in zumindest einer Richtung bis zu 70°, bevorzugt bis zu 50°, weiter bevorzugt bis zu 40°. Die Aufweitung bzw. der Öffnungswinkel ein oder mehrerer oder aller Raumwinkel beträgt vorzugsweise maximal 20°, weiter bevorzugt maximal 15°, insbesondere bevorzugt maximal 10°.One or more or all solid angles of the one or more solid angles and / or one or more or all predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles in at least one direction are up to 70 °, preferably up to 50 °, more preferably up to 40 ° . The widening or the opening angle of one or more or all solid angles is preferably at most 20 °, more preferably at most 15 °, particularly preferably at most 10 °.

Es ist möglich, einfallendes Licht beziehungsweise einfallende elektromagnetische Strahlung derart in und/oder auf einen Raumwinkel von bis zu 70°, bevorzugt bis zu 50°, weiter bevorzugt bis zu 40° abzubilden, zu beugen und/oder zu streuen, dass insbesondere das hierbei generierte visuelle Erscheinungsbild hochglanzartig oder seidenmatt oder teilweise hochglanzartig und teilweise seidenmatt, bevorzugt zumindest als ein 3D-Effekt und/oder Beugungseffekt, für einen Betrachter und/oder Sensor erfassbar ist.It is possible to image, bend and / or scatter incident light or incident electromagnetic radiation in and / or to a solid angle of up to 70 °, preferably up to 50 °, more preferably up to 40 °, in particular in this case generated visual appearance glossy or semi-gloss or partially glossy and partly semi-gloss, preferably at least as a 3D effect and / or diffraction effect, can be detected by a viewer and / or sensor.

Unter einem Sensor wird insbesondere zumindest ein menschliches Auge und/oder zumindest ein flächiger Detektor, bevorzugt zumindest ein CMOS-Sensor (CMOS = Complementary Metal-Oxide Semiconductor), weiter bevorzugt zumindest ein CCD-Sensor (CCD = „Charge-Coupled Device“), verstanden. Insbesondere weist der Sensor eine spektrale Auflösung, insbesondere in dem sichtbaren elektromagnetischen Spektrum, auf. Vorzugsweise ist der Sensor ausgewählt oder kombiniert aus: Kamera, insbesondere zumindest einer Kamera umfassend zumindest einen CCD-Chip, zumindest einer IR-Kamera (IR = Infrarot), zumindest einer VIS-Kamera (VIS= Visuell), zumindest einer UV-Kamera (UV = ultraviolett), zumindest einem Photomultiplier, zumindest einem Spektrometer und/oder zumindest einem Transition-Edge-Sensor (TES).Under a sensor is in particular at least one human eye and / or at least one flat detector, preferably at least one CMOS sensor (CMOS = Complementary Metal-Oxide Semiconductor), further preferably at least one CCD sensor (CCD = "Charge-Coupled Device") , Understood. In particular, the sensor has a spectral resolution, in particular in the visible electromagnetic spectrum. The sensor is preferably selected or combined from: camera, in particular at least one camera comprising at least one CCD chip, at least one IR camera (IR = infrared), at least a VIS camera (VIS = visual), at least one UV camera (UV = ultraviolet), at least one photomultiplier, at least one spectrometer and / or at least one transition edge sensor (TES).

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder die einem Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray zugeordneten Strukturen derart ausgebildet sind, dass diese eine optisch variable Information bereitstellen, insbesondere ein oder mehrere 3D-Effekte und/oder Bewegungseffekte bereitstellen, bevorzugt achromatische oder monochromatische 3D-Effekte und/oder Bewegungseffekte bereitstellen.It is possible for one or more structures of the one or more structures and / or the structures associated with a pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array to be designed such that they provide optically variable information, in particular one or more 3D effects and / or provide motion effects, preferably achromatic or monochromatic 3D effects and / or motion effects.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder die einem Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray zugeordneten Strukturen elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung, in einem Raumwinkel, insbesondere einem punktförmigen Raumwinkel, insbesondere mit einem Öffnungswinkel nahe 0°, abbilden, beugen und/oder streuen.It is also possible for one or more structures of the one or more structures and / or the structures associated with a pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array to have electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation, in a solid angle, in particular a point-shaped solid angle, in particular with an opening angle close to 0 °, image, bend and / or scatter.

Insbesondere sind ein oder mehreren Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays umfassend ein oder mehrere zugeordnete Strukturen der ein oder mehreren zugeordneten Strukturen zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln zugeordnet, insbesondere wobei sich die Gruppen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder die Gruppen der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln voneinander unterscheiden.In particular, one or more structures of the one or more structures and / or one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array comprising one or more assigned structures of the one or more assigned structures are two or more groups of structures and / or two or assigned to several groups of pixels, in particular the groups of the two or more groups of structures and / or the groups of the two or more groups of pixels differing from one another.

Weiter ist es möglich, dass zwei oder mehrere Gruppen von Strukturen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehrere Gruppen von Pixeln der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung, in gleiche oder unterschiedliche Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, insbesondere punktförmige Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, bevorzugt verschiedenförmige Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, abbilden, beugen und/oder streuen.Furthermore, it is possible for two or more groups of structures of the two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels of the two or more groups of pixels to emit electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation, in the same or different solid angles and / or image, bend and / or scatter predetermined solid angles, in particular point solid angles and / or predetermined solid angles, preferably different solid angles and / or predetermined solid angles.

Bevorzugt stellen zwei oder mehrere Gruppen von Strukturen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehrere Gruppen von Pixeln der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln eine optische variable Information umfassend einen 3D-Effekt bereit.Preferably two or more groups of structures of the two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels of the two or more groups of pixels provide an optical variable information comprising a 3D effect.

Auch ist es möglich, dass ein oder mehrere oder alle der Strukturen elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung, diffraktiv streuen, beugen und/oder abbilden.It is also possible for one or more or all of the structures to diffractively diffract, bend and / or image electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation.

Insbesondere weist das zumindest eine Pixelarray in zumindest einer Richtung zumindest bereichsweise eine von null verschiedene Krümmung auf.In particular, the at least one pixel array has a curvature other than zero in at least one direction in at least one direction.

Unter „Krümmung“ wird insbesondere eine lokale Abweichung einer Kurve von einer Geraden verstanden. Unter der Krümmung einer Kurve wird insbesondere eine Richtungsänderung pro durchlaufender Länge und/oder Strecke eines genügend kurzen Kurvenstücks bzw. Kurvenverlaufs verstanden. Die Krümmung einer Geraden ist überall gleich null. Ein Kreis mit einem Radius R hat überall die gleiche Krümmung, nämlich 1/R. Bei den meisten Kurven ändert sich die Krümmung von Kurvenpunkt zu Kurvenpunkt. Insbesondere ändert sich die Krümmung von Kurvenpunkt zu Kurvenpunkt kontinuierlich, sodass die Kurven insbesondere keine Knicke und/oder Unstetigkeitsstellen aufweisen. Die Krümmung einer Kurve in einem Punkt P gibt somit an wie stark die Kurven der unmittelbaren Umgebung des Punktes P von einer Geraden abweicht. Der Betrag der Krümmung wird als Krümmungsradius bezeichnet und dieser entspricht dem Kehrwert des Betrages eines lokalen Radiusvektors. Der Krümmungsradius ist der Radius des Kreises, der gerade nur den Tangentialpunkt P berührt und/oder in einer lokalen Umgebung des Tangentialpunktes P die beste Näherung darstellt. Eine Kurve ist beispielsweise die zweidimensionale Oberfläche und/oder ein Segment einer Kugel oder einer Kreisfläche oder eine Kreisfläche.“Curvature” means in particular a local deviation of a curve from a straight line. The curvature of a curve is understood to mean in particular a change in direction per continuous length and / or distance of a sufficiently short curve section or curve course. The curvature of a straight line is zero everywhere. A circle with a radius R has the same curvature everywhere, namely 1 / R. For most curves, the curvature changes from curve point to curve point. In particular, the curvature changes continuously from curve point to curve point, so that the curves in particular have no kinks and / or discontinuities. The curvature of a curve at point P thus indicates how strongly the curves of the immediate vicinity of point P deviate from a straight line. The amount of curvature is called the radius of curvature and this corresponds to the reciprocal of the amount of a local radius vector. The radius of curvature is the radius of the circle that just touches the tangential point P and / or is the best approximation in a local environment of the tangential point P. A curve is, for example, the two-dimensional surface and / or a segment of a sphere or a circular surface or a circular surface.

Vorzugsweise beträgt zumindest eine laterale Abmessung ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray zwischen 5 µm und 500 µm, bevorzugt zwischen 10 µm und 300 µm, weiter bevorzugt zwischen 20 µm und 150 µm.At least one lateral dimension of one or more pixels of the two or more pixels in the at least one pixel array is preferably between 5 μm and 500 μm, preferably between 10 μm and 300 μm, more preferably between 20 μm and 150 μm.

Es ist möglich, dass eine oder mehrere laterale Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray in eine oder mehrere Raumrichtungen in dem zumindest einen Pixelarray, insbesondere zumindest bereichsweise, periodisch, nicht-periodisch, pseudozufällig und/oder zufällig variieren.It is possible that one or more lateral dimensions of one or more pixels of the two or more pixels in the at least one pixel array in one or more spatial directions in the at least one vary a pixel array, in particular at least in regions, periodically, non-periodically, pseudorandomly and / or randomly.

Unter zufälliger Variation wird insbesondere verstanden, dass die der Variation, insbesondere die mit der Variation verknüpften Werte, zugrundeliegende Verteilung vorzugsweise eine Zufallsverteilung ist.Random variation is understood in particular to mean that the distribution on which the variation, in particular the values associated with the variation, is based is preferably a random distribution.

Unter pseudo-zufälliger Variation wird insbesondere verstanden, dass die der Variation, insbesondere die mit der Variation verknüpften Werte, zugrundeliegende Verteilung vorzugsweise eine Pseudozufallsverteilung ist.Pseudo-random variation is understood in particular to mean that the distribution on which the variation, in particular the values associated with the variation, is based is preferably a pseudo-random distribution.

Unter periodischer Variation wird insbesondere verstanden, dass sich die Variation, insbesondere die mit der Variation verknüpften Werte, vorzugsweise regelmäßig, insbesondere in regelmäßigen räumlichen und/oder zeitlich Abstände, wiederholen.Periodic variation is understood in particular to mean that the variation, in particular the values associated with the variation, are preferably repeated regularly, in particular at regular spatial and / or temporal intervals.

Unter nicht-periodischer Variation wird insbesondere verstanden, dass sich die Variation, insbesondere die mit der Variation verknüpften Werte, vorzugsweise regelmäßig, insbesondere in regelmäßigen räumlichen und/oder zeitlich Abstände, nicht wiederholen.Non-periodic variation is understood in particular to mean that the variation, in particular the values associated with the variation, preferably do not repeat regularly, in particular at regular spatial and / or temporal intervals.

Weiter ist es möglich, dass eine oder mehrere laterale Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray in eine oder mehrere Raumrichtungen in dem zumindest einen Pixelarray, insbesondere zumindest bereichsweise, maximal um ±70%, bevorzugt maximal um ±50%, um einem Mittelwert herum variieren.Furthermore, it is possible that one or more lateral dimensions of one or more pixels of the two or more pixels in the at least one pixel array in one or more spatial directions in the at least one pixel array, in particular at least in regions, by a maximum of ± 70%, preferably a maximum of ± 50% to vary around an average.

Bevorzugt sind ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray, insbesondere zumindest bereichsweise, periodisch, nicht-periodisch, zufällig und/oder pseudozufällig in dem zumindest einen Pixelarray angeordnet.One or more pixels of the two or more pixels are preferably arranged in the at least one pixel array, in particular at least in regions, periodically, non-periodically, randomly and / or pseudorandomly in the at least one pixel array.

Es ist möglich, dass die Pixel in dem Pixelarray eine Parkettierung ausformen. Als Parkettierung wird hierbei vorzugsweise eine lückenlose und überlappungsfreie Überdeckung einer Ebene durch gleichförmige oder unterschiedliche Teilflächen - hier insbesondere die Pixel - verstanden. Die Teilflächen bzw. Pixel können insbesondere komplexe Umrissformen aufweisen. Vorteilhafterweise weist die Parkettierung vorzugsweise keine Periodizität auf, sondern ist insbesondere aperiodisch. In einer Ausgestaltungsform stellt die Parkettierung bevorzugt eine Penrose-Parkettierung dar. In einer weiteren Ausgestaltungform ist die Parkettierung vorzugsweise aus vektorartigen flächigen, insbesondere aus länglichen, Pixeln aufgebaut. Die Form der länglichen Pixel kann hierbei insbesondere zumindest stückweise gerade Außenkanten aufweisen, sie kann vorzugsweise aber auch als Freiform vorliegen. Bevorzugt weisen derartige vektorartige flächige Pixel abgerundete Ecken und geschwungene Kanten auf, wobei weiter bevorzugt mehr als 50%, insbesondere bevorzugt mehr als 70%, der Ecken und Kanten des Pixelarrays abgerundet bzw. geschwungen sind. Unter einer abgerundeten Ecke wird vorzugsweise verstanden, dass die Ecke einen Kurvenradius von mindestens 2 µm, bevorzugt mindestens 5 µm, insbesondere mindestens 10 µm, aufweist. Gleichzeitig soll der Kurvenradius insbesondere maximal 300 µm, bevorzugt maximal 200 µm, insbesondere maximal 100 µm, sein.It is possible for the pixels in the pixel array to form a tiling. In this case, parquetry is preferably understood to mean a gapless and overlap-free covering of a plane by uniform or different partial areas - here in particular the pixels. The partial areas or pixels can in particular have complex outline shapes. The tiling advantageously has no periodicity, but is in particular aperiodic. In one embodiment, the tiling preferably represents a Penrose tiling. In a further embodiment, the tiling is preferably constructed from vector-like flat, in particular elongated, pixels. The shape of the elongated pixels can in particular have straight outer edges, at least in parts, but it can preferably also be in the form of a free form. Such vector-like flat pixels preferably have rounded corners and curved edges, more preferably more than 50%, particularly preferably more than 70%, of the corners and edges of the pixel array being rounded or curved. A rounded corner is preferably understood to mean that the corner has a curve radius of at least 2 μm, preferably at least 5 μm, in particular at least 10 μm. At the same time, the curve radius should in particular be a maximum of 300 μm, preferably a maximum of 200 μm, in particular a maximum of 100 μm.

Weiter bevorzugt sind ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray entlang von Kurven oder Kurvensegmenten oder Kreisbahnen oder Kreisbahnsegmenten angeordnet. Bevorzugt sind die Umrissformen der Teilflächen bzw. Pixel als Kurvensegmente oder Kreisbahnsegmente ausgestaltet, die insbesondere eine lückenlose Aneinanderreihung ermöglichen. Wird der den Pixeln zugeordnete vorbestimmte Raumwinkel vorzugsweise in Schritten von bevorzugt kleiner 10°, besonders bevorzugt kleiner 5°, insbesondere bevorzugt kleiner 2°, von einem Pixel zum nächsten Pixel verändert, kann so für einen Betrachter bevorzugt ein quasikontinuierlicher Bewegungsablauf eines einzelnen Punktes, beispielsweise ein Fine-Line Movement, bereitgestellt werden. Insbesondere durch Kombination von für einen Betrachter sichtbarer Punkte zu einem Muster, Motiv, Symbol, Icon, Bild, alphanumerischen Zeichen, Freiform, Quadrat, Kreis, Rechteck oder Polygon kann ein Bewegungsablauf entlang einer Kurve, eines Kurvensegments, einer Kreisbahn oder eines Kreisbahnsegments erzielt werden.More preferably, one or more pixels of the two or more pixels are arranged in the at least one pixel array along curves or curve segments or circular paths or circular path segments. The contour shapes of the partial areas or pixels are preferably designed as curve segments or circular path segments, which in particular enable a seamless sequence. If the predetermined solid angle assigned to the pixels is changed from one pixel to the next pixel preferably in steps of preferably less than 10 °, particularly preferably less than 5 °, particularly preferably less than 2 °, a quasi-continuous movement sequence of a single point, for example, can thus be performed for a viewer a fine-line movement. In particular, by combining points visible to a viewer to form a pattern, motif, symbol, icon, image, alphanumeric characters, free form, square, circle, rectangle or polygon, a sequence of movements along a curve, a curve segment, a circular path or a circular path segment can be achieved .

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays, eine Gitterperiode bzw. einen mittleren Abstand der Strukturerhebungen insbesondere kleiner als die Hälfte, bevorzugt kleiner als dem Drittel, weiter bevorzugt kleiner als dem Viertel, der maximalen lateralen Abmessung der zwei oder mehreren Pixel, bevorzugt jedem der zwei oder mehreren Pixel, des zumindest einen Pixelarrays aufweisen.It is also possible for one or more structures of the one or more structures of the two or more pixels of the at least one pixel array, a grating period or an average spacing of the structure elevations to be in particular less than half, preferably less than third, more preferably less than the quarter, the maximum lateral dimension of the two or more pixels, preferably each of the two or more pixels, of the at least one pixel array.

Weiter ist es auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen eine beschränkte maximale Strukturtiefe aufweisen, wobei die beschränkte maximale Strukturtiefe insbesondere kleiner als 15 µm, bevorzugt kleiner als 10 µm, weiter bevorzugt kleiner gleich 7 µm, noch weiter bevorzugt kleiner gleich 4 µm, insbesondere bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist. Furthermore, it is also possible for one or more structures of the one or more structures to have a limited maximum structure depth, the limited maximum structure depth in particular less than 15 μm, preferably less than 10 μm, more preferably less than or equal to 7 μm, even more preferably less is 4 µm, particularly preferably less than or equal to 2 µm.

Insbesondere sind ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen derart ausgebildet, dass die beschränkte maximale Strukturtiefe der ein oder mehreren Strukturen für mehr als 50% der Pixel, insbesondere für mehr als 70% der Pixel, bevorzugt für mehr als 90% der Pixel, des zumindest einen Pixelarray kleiner gleich 15 µm, insbesondere kleiner gleich 7 µm, bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.In particular, one or more structures of the one or more structures are designed such that the limited maximum structure depth of the one or more structures for more than 50% of the pixels, in particular for more than 70% of the pixels, preferably for more than 90% of the pixels, of the at least one pixel array is less than or equal to 15 µm, in particular less than or equal to 7 µm, preferably less than or equal to 2 µm.

Bevorzugt sind ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen derart ausgebildet, dass die beschränkte maximale Strukturtiefe der ein oder mehrerer Strukturen für alle Pixel des zumindest einen Pixelarrays kleiner gleich 15 µm, insbesondere kleiner gleich 7 µm, bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.One or more structures of the one or more structures are preferably designed such that the limited maximum structural depth of the one or more structures for all pixels of the at least one pixel array is less than or equal to 15 μm, in particular less than or equal to 7 μm, preferably less than or equal to 2 μm.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen zueinander unterschiedlich oder ähnlich oder gleich oder identisch sind.It is also possible for one or more structures of the one or more structures to be different or similar or identical or identical to one another.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als achromatisch beugende Strukturen, vorzugsweise als Blaze-Gitter, insbesondere lineare Blaze-Gitter, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Gitterperiode der achromatisch beugenden Strukturen größer als 3 µm, bevorzugt größer als 5 µm, ist und/oder wobei insbesondere mehr als 70% der Pixel, weiter bevorzugt mehr als 90% der Pixel, insbesondere bevorzugt jedes Pixel, der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray mindestens zwei Gitterperioden umfasst. Die Gitterperiode ist vorzugsweise zusammen mit der Gittertiefe und der Ausrichtung des Gitters in der x/y-Eben definiert, in welchen Raumwinkel das in dem jeweiligen Pixel vorliegende Gitter insbesondere einfallendes Licht achromatisch beugt. Die Ausrichtung des Gitters in der x/y-Ebene wird bevorzugt auch als Azimutwinkel bezeichnet.It is also possible for one or more structures of the one or more structures to be designed as achromatic diffractive structures, preferably as blaze gratings, in particular linear blaze gratings, the grating period of the achromatic diffractive structures in particular being greater than 3 μm, preferably greater than 5 µm, and / or wherein in particular more than 70% of the pixels, more preferably more than 90% of the pixels, particularly preferably each pixel which comprises two or more pixels of the at least one pixel array has at least two grid periods. The grating period is preferably defined together with the grating depth and the orientation of the grating in the x / y plane, in which solid angle the grating present in the respective pixel diffracts achromatic light, in particular incident light. The orientation of the grating in the x / y plane is preferably also referred to as the azimuth angle.

Insbesondere sind die achromatisch beugenden Strukturen in ein oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray mit weiteren Mikrostrukturen und/oder Nanostrukturen, insbesondere linearen Gitterstrukturen, bevorzugt Kreuzgitterstrukturen, weiter bevorzugt Subwellenlängengitterstrukturen, überlagert.In particular, the achromatic diffractive structures in one or more pixels of the two or more pixels in the at least one pixel array are overlaid with further microstructures and / or nanostructures, in particular linear grating structures, preferably cross-grating structures, more preferably sub-wavelength grating structures.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als konvex oder konkav wirkende Mikrolinsen und/oder Teilbereiche von Mikrolinsen, insbesondere als reflektiv wirkende Mikrolinsen und/oder Teilbereiche von Mikrolinsen, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Fokuslänge der ein oder mehreren Strukturen zwischen 0,04 mm bis 5 mm, insbesondere 0,06 mm bis 3 mm, bevorzugt 0,1 mm bis 2 mm, beträgt und/oder wobei insbesondere die Fokuslänge in einer Richtung X und/oder Y durch die Gleichung f X ,Y = Δ X ,Y / 2 tan ( ϕ X ,Y / 2 )

Figure DE102018123482A1_0002
bestimmt ist, wobei bevorzugt ΔX,Y die jeweilige laterale Abmessung ein oder mehrerer Pixels der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays in die Richtung X beziehungsweise in die Richtung Y ist und ϕX,Y der jeweilige Raumwinkel in die Richtung X beziehungsweise in die Richtung Y ist, in welche die ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung abbilden, beugen und/oder streuen.It is possible that one or more structures of the one or more structures are designed as convex or concave microlenses and / or subregions of microlenses, in particular as reflective microlenses and / or subregions of microlenses, in particular the focus length of the one or more Structures between 0.04 mm to 5 mm, in particular 0.06 mm to 3 mm, preferably 0.1 mm to 2 mm, and / or wherein in particular the focus length in a direction X and / or Y by the equation f X , Y = Δ X , Y / 2nd tan ( ϕ X , Y / 2nd )
Figure DE102018123482A1_0002
is determined, wherein Δ X, Y is preferably the respective lateral dimension of one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array in the direction X or in the direction Y and ϕ X, Y is the respective solid angle in the direction X or in is the direction Y in which the incident one or more structures emit, diffuse and / or scatter electromagnetic radiation.

Weiter bevorzugt sind ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als Zylinderlinse ausgebildet, wobei insbesondere eine Fokuslänge der ein oder mehreren Strukturen unendlich groß ist.More preferably, one or more structures of the one or more structures are designed as a cylindrical lens, in particular a focal length of the one or more structures being infinitely large.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen, insbesondere reflektiv wirkende Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Gitterlinien der Fresnelschen Mikrolinsenstrukturen als gekrümmte Gitterlinien ausgebildet sind und/oder Gitterlinien mit variierenden Gitterperioden aufweisen und/oder wobei insbesondere jedes Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays, vorzugsweise in zumindest einer Raumrichtung, mindestens zwei Gitterperioden umfasst.Furthermore, it is possible for one or more structures of the one or more structures to be designed as Fresnel microlens structures, in particular reflective Fresnel microlens structures, the grating lines of the Fresnel microlens structures in particular being designed as curved grating lines and / or having grating lines with varying grating periods and / or in particular each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array, preferably in at least one spatial direction, comprises at least two grid periods.

Zur Berechnung des Mikrostrukturprofils für Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen wird vorzugsweise jedem Pixel in Abhängigkeit des zugeordneten Raumwinkels und der lateralen Abmessung des Pixels genau eine virtuelle Feldquelle zugeordnet. Die virtuelle Feldquelle strahlt insbesondere eine virtuelle Kugelwelle ab. Das Phasenbild des von der virtuellen Feldquelle abgestrahlte virtuelle elektromagnetische Feld wird bevorzugt in der Fläche des Pixels berechnet und vorzugsweise linear in ein virtuelles Strukturprofil umgewandelt, wobei insbesondere ein Phasenwert von 0 der minimalen Strukturtiefe und ein Phasenwert von 2*Pi der maximalen virtuellen Strukturtiefe entspricht.To calculate the microstructure profile for Fresnel microlens structures, each pixel is preferably accurate depending on the associated solid angle and the lateral dimension of the pixel assigned a virtual field source. The virtual field source emits in particular a virtual spherical wave. The phase image of the virtual electromagnetic field emitted by the virtual field source is preferably calculated in the area of the pixel and is preferably converted linearly into a virtual structure profile, a phase value of 0 corresponding in particular to the minimum structure depth and a phase value of 2 * Pi to the maximum virtual structure depth.

Vorzugsweise sind ein oder mehrere oder alle Strukturen der ein oder mehreren Strukturen weniger bevorzugt als Mikrospiegel und/oder Mikroprismen ausgebildet, welche Licht bevorzugt achromatisch reflektieren, insbesondere nicht als Mikrospiegel und/oder Mikroprismen ausgebildet, welche Licht bevorzugt achromatisch reflektieren.One or more or all of the structures of the one or more structures are preferably less preferably in the form of micromirrors and / or microprisms which preferably reflect light achromatically, in particular not in the form of micromirrors and / or microprisms which preferably reflect light achromatically.

Weiter bevorzugt bilden ein oder mehrere oder alle Strukturen der ein oder mehreren Strukturen einfallendes Licht diffraktiv ab.More preferably, one or more or all of the structures of the one or more structures light incidently diffractive.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen eine Anzahl von mindestens 2 Erhebungen, insbesondere mindestens 3 Erhebungen, bevorzugt mindestens 4 Erhebungen, vorzugsweise pro Pixel, aufweisen.It is possible that one or more structures of the one or more structures have a number of at least 2nd Surveys, in particular at least 3 surveys, preferably at least 4 surveys, preferably per pixel.

Weiter ist es möglich, dass mehr als 70% der Pixel, insbesondere mehr als 90% der Pixel, der zwei oder mehreren Pixel in dem zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen aufweisen, welche eine Anzahl von mindestens 2 Erhebungen, insbesondere mindestens 3 Erhebungen, bevorzugt mindestens 4, vorzugsweise pro Pixel, aufweisen.Furthermore, it is possible that more than 70% of the pixels, in particular more than 90% of the pixels, of the two or more pixels in the at least one pixel array have one or more structures of the one or more structures, which have a number of at least 2nd Elevations, in particular at least 3 elevations, preferably at least 4, preferably per pixel.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen, insbesondere in ein oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays, als chromatische Gitterstrukturen, insbesondere als lineare Gitter, bevorzugt als lineare Gitter mit einem sinusförmigen Profil, und/oder Nanotext und/oder Spiegelflächen, ausgebildet sind.It is also possible that one or more structures of the one or more structures, in particular in one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array, as chromatic grating structures, in particular as linear grids, preferably as linear grids with a sinusoidal profile, and / or nanotext and / or mirror surfaces.

Weiter ist es auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als Subwellenlängengitter, insbesondere als lineare Subwellenlängengitter und/oder als Mottenaugen-artige Strukturen, ausgebildet sind, wobei bevorzugt die Gitterperiode der Subwellenlängengitter, insbesondere der linearen Subwellenlängengitter und/oder der Mottenaugen-artigen Strukturen, weniger als 450 nm beträgt und/oder wobei insbesondere zumindest ein derartiges Pixelarray einen für einen Betrachter erfassbaren optisch variablen Effekt, insbesondere einen für einen Betrachter erfassbaren zusätzlichen optisch variablen Effekt, beim Kippen des optisch variablen Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray bereitstellt.Furthermore, it is also possible for one or more structures of the one or more structures to be designed as sub-wavelength gratings, in particular as linear sub-wavelength gratings and / or as moth-eye-like structures, preferably the grating period of the sub-wavelength gratings, in particular the linear sub-wavelength gratings and / or the Moth-eye-like structures is less than 450 nm and / or wherein in particular at least one such pixel array has an optically variable effect that can be detected by a viewer, in particular an additional optically variable effect that can be detected by a viewer, when the optically variable element and / or the at least is tilted provides a pixel array.

Vorzugsweise sind ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen mit einer Metallschicht versehen und/oder absorbieren einfallende elektromagnetische Strahlung, wobei insbesondere die zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays in Reflexion für einen Betrachter in dunkelgrau bis schwarz erfassbar sind.Preferably, one or more structures of the one or more structures are provided with a metal layer and / or absorb incident electromagnetic radiation, in particular the two or more pixels of the at least one pixel array can be detected in reflection by a viewer in dark gray to black.

Insbesondere weisen ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen eine HRI-Schicht auf, wobei insbesondere die zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays in Reflexion für einen Betrachter farbig erfassbar sind.In particular, one or more structures of the one or more structures have an HRI layer, wherein in particular the two or more pixels of the at least one pixel array can be detected in color by a viewer in reflection.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung pseudo-zufällig oder zufällig in alle Raumrichtungen abbilden, beugen und/oder streuen, wobei das zumindest eine Pixelarray insbesondere ein oder mehreren Pixel, in Reflexion für einen Betrachter isotrop weiß, bevorzugt isotrop achromatisch, erfassbar ist.It is possible for one or more structures of the electromagnetic radiation incident on the one or more structures to represent, diffuse and / or scatter pseudo-randomly or randomly in all spatial directions, the at least one pixel array, in particular one or more pixels, being isotropic in reflection for a viewer white, preferably isotropically achromatic, is detectable.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen bei einer Verbiegung des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray einen optisch variablen Effekt bereitstellen, wobei insbesondere ein erstes Motiv in einem nicht gebogenen Zustand des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray erfassbar ist und ein zweites Motiv in einem gebogenen Zustand des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray erfassbar ist.Furthermore, it is possible for one or more structures of the one or more structures to provide an optically variable effect when the element and / or the at least one pixel array is bent, in particular a first motif in a non-bent state of the element and / or of the at least one a pixel array can be detected and a second motif can be detected in a bent state of the element and / or of the at least one pixel array.

Beispielsweise können die Motive bei Betrachtung beziehungsweise bei Erfassung durch einen Betrachter und/oder einen Sensor die Form von einem/einer oder mehreren Buchstaben, Porträts, Landschafts- oder Bauwerksdarstellungen, Bildern, Barcode, QR-Code, alphanumerischen Zeichen, Schriftzeichen, geometrische Freiformen, Quadraten, Dreiecken, Kreisen, gekrümmten Linien und/oder Umrissen oder die Form von Kombinationen von ein oder mehreren der vorstehenden Formen annehmen.For example, the motifs, when viewed or captured by a viewer and / or a sensor, can take the form of one or more letters, portraits, landscapes or buildings, images, barcodes, QR codes, alphanumeric characters, characters, geometric free forms, squares, triangles, circles, curved lines and / or outlines or take the form of combinations of one or more of the above shapes.

Unter „Freiform“ wird insbesondere eine offene oder geschlossene zweidimensionale Fläche in einem dreidimensionalen Raum verstanden, welche eben oder in zumindest einer Richtung gekrümmt ist. Beispielsweise sind die Oberfläche oder ein Segment einer Kugel oder die Oberfläche oder ein Segment eines Torus geschlossene Freiformflächen. Eine Sattelfläche oder eine gekrümmte Kreisfläche sind beispielsweise offene Freiformflächen.“Freeform” means in particular an open or closed two-dimensional surface in a three-dimensional space, which is flat or curved in at least one direction. For example, the surface or a segment of a sphere or the surface or a segment of a torus are closed free-form surfaces. A saddle surface or a curved circular surface are, for example, open free-form surfaces.

Es ist auch möglich, dass sich die ein oder mehreren Motive jeweils aus einem oder mehreren Mustern zusammensetzen und/oder überlagern, wobei die Muster vorzugsweise eine Geometrie und/oder Form aufweisen, welche insbesondere jeweils ausgewählt oder kombiniert werden aus: Linie, Gerade, Motiv, Bild, Dreieck, Barcode, QR-Code, Welle, Viereck, Vieleck, gekrümmte Linie, Kreis, Oval, Trapez, Parallelogramm, Raute, Kreuz, Sichel, Aststruktur, Stern, Ellipse, Zufallsmuster, Pseudo-Zufallsmuster, Mandelbrotmenge, insbesondere Fraktal oder Apfelmännchen, wobei sich die Muster insbesondere überlagern und/oder ergänzen.It is also possible for the one or more motifs to be composed and / or superimposed on one or more patterns, the patterns preferably having a geometry and / or shape, which in particular are selected or combined from: line, straight line, motif , Image, triangle, barcode, QR code, wave, square, polygon, curved line, circle, oval, trapezoid, parallelogram, rhombus, cross, sickle, branch structure, star, ellipse, random pattern, pseudo-random pattern, amount of almond bread, especially fractal or apple men, the patterns in particular overlaying and / or complementing each other.

Im Folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen des Sicherheitsdokuments genannt.Preferred embodiments of the security document are mentioned below.

Vorzugsweise weist das Sicherheitsdokument in ein oder mehreren Bereichen, insbesondere in ein oder mehreren streifenförmigen Bereichen, bevorzugt in ein oder mehreren fadenförmigen Bereichen, ein oder mehrere optisch variable Elemente auf. Einzelne optisch variablen Elemente können dabei insbesondere voneinander beabstandet sein und zwischen den optisch variablen Elementen vorzugsweise nicht optisch variable Bereich angeordnet sein. Alternativ dazu ist es möglich, dass einzelne optisch variable Elemente bevorzugt direkt aneinander angrenzen und/oder ineinander übergehen und insbesondere gemeinsam ein optisch variables Kombinationselement ausbilden.The security document preferably has one or more optically variable elements in one or more areas, in particular in one or more strip-like areas, preferably in one or more thread-like areas. Individual optically variable elements can in particular be spaced apart from one another and preferably non-optically variable regions can be arranged between the optically variable elements. As an alternative to this, it is possible for individual optically variable elements to preferably adjoin and / or merge directly with one another and, in particular, to jointly form an optically variable combination element.

Insbesondere sind ein oder mehrere Bereiche der ein oder mehreren Bereiche umfassend jeweils ein oder mehrere optisch variablen Elemente in Streifenform und/oder in Patch-Form ausgebildet.In particular, one or more areas of the one or more areas each comprising one or more optically variable elements in the form of strips and / or patches.

Bevorzugt sind ein oder mehrere optische variable Elemente bei Betrachtung des Sicherheitsdokuments entlang eines durch das Sicherheitsdokument aufgespannten Flächennormalenvektors zumindest teilweise überlappend angeordnet.When viewing the security document, one or more optically variable elements are preferably arranged at least partially overlapping along an area normal vector spanned by the security document.

Im Folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen des Verfahrens zur Herstellung eines optisch variablen Elements genannt.Preferred embodiments of the method for producing an optically variable element are mentioned below.

Es ist möglich, dass jedem Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray zumindest ein Raumwinkel zugeordnet wird. It is possible that at least one solid angle is assigned to each pixel of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array.

Es ist möglich, dass jedes Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere, einfallendes Licht gerichtet abbildende, beugende und/oder streuende Strukturen, insbesondere Mikrostrukturen, umfasst, wobei derartige Strukturen einfallendes Licht, bevorzugt sehr effizient, in ein oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, insbesondere auf einen Punkt im Raum fokussiert, wobei ein solcher Punkt beispielsweise ein Fokuspunkt sein kann.It is possible that each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array comprises one or more structures, in particular imaging, diffractive and / or scattering structures, in particular microstructures, with incident light, such structures, preferably very efficiently, in or depict, bend and / or scatter a plurality of predetermined solid angles, the one or more predetermined solid angles, in particular focused on a point in space, such a point being a focus point, for example.

Vorzugsweise sind für jedes Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel derart ausgebildet, dass die von den Pixeln umfassten Mikrostrukturen einfallendes Licht in diese vorbestimmten Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, wobei bevorzugt ein oder mehrere Effekte, insbesondere ein oder mehrere statische oder variable optische Effekte, generiert werden.For each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array, one or more predetermined solid angles of the one or more solid angles are preferably designed in such a way that the microstructures comprised by the pixels map, diffract and / or scatter incident light into these predetermined solid angles, preferably one or more effects, in particular one or more static or variable optical effects, are generated.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein vorbestimmtes, von einem Betrachter oder einem Sensor erfassbares 3D-Objekt generieren, wobei vorzugsweise unterschiedliche Gruppen von ein oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray umfassend ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen, insbesondere umfassend ein oder mehrere unterschiedliche Strukturen, einfallendes Licht in ein oder mehrere, insbesondere unterschiedliche, vorbestimmte Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel, bevorzugt ein oder mehrere Raumwinkel, abbilden, beugen und/oder streuen.Furthermore, it is possible for one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array to generate a predetermined 3D object that can be detected by a viewer or a sensor, preferably different groups of one or more pixels of the two or more pixels of the at least one depict and diffract a pixel array comprising one or more structures of the one or more structures, in particular comprising one or more different structures, incident light into one or more, in particular different, predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles, preferably one or more solid angles / or sprinkle.

Vorzugsweise korrelieren ein oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel, welche insbesondere ein oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray zugeordnet sind, vorzugsweise mit einer lokalen, zumindest in eine Raumrichtung verlaufenden Krümmung eines 3D-Objekts. Das für einen Betrachter virtuell erkennbare 3D-Objekt umfasst hierbei insbesondere eine Vielzahl von Lichtpunkten, welche bevorzugt ausfallendes Licht aufweisen, welches bevorzugt als einfallendes Licht von den ein oder mehreren Strukturen der ein oder mehreren Strukturen abgebildet, gebeugt und/oder gestreut wurde. Jedem Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ist vorzugsweise jeweils ein Lichtpunkt zugeordnet und/oder generiert jeweils einen Lichtpunkt, wobei ein oder mehrere Lichtpunkte der Vielzahl von Lichtpunkten insbesondere einander überlappen, bevorzugt einander nicht überlappen. Preferably, one or more predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles, which in particular are assigned to one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array, preferably correlate with a local curvature of a 3D object that extends at least in one spatial direction. The 3D object that is virtually recognizable for an observer in this case comprises in particular a multiplicity of light points, which preferably have incident light, which was preferably imaged, diffracted and / or scattered by the one or more structures of the one or more structures. A light point is preferably assigned to each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array and / or generates a light point, one or more light points of the plurality of light points in particular overlapping one another, preferably not overlapping one another.

Bevorzugt werden ein oder mehrere oder alle Strukturen der ein oder mehreren Strukturen mittels ein oder mehrerer Computer, insbesondere umfassend zumindest einen Prozessor und zumindest einen Speicher, bevorzugt umfassend zumindest einen Grafikprozessor und zumindest einen Speicher, berechnet. Insbesondere im Unterschied zu den aus dem Stand der Technik bekannten Computer-generierten Hologrammen (CGH) wird nicht der Gesamteffekt, beispielsweise das virtuelle 3D-Objekt oder der achromatische Bewegungseffekt, insgesamt bzw. gemeinsam berechnet. Erfindungsgemäß wird vorzugsweise für jedes Pixel die jeweilige Struktur separat berechnet, welche das Licht in die vorgegebene Richtung achromatisch abbildet, beugt und/oder streut. Jeder Pixel wirkt im Wesentlichen insbesondere unabhängig von den anderen Pixeln. Das erfindungsgemäße Zusammenspiel der optischen Wirkung aller Pixel des zumindest einen Pixelarrays ergibt vorzugsweise den gewünschten Gesamteffekt des zumindest einen Pixelarrays.One or more or all of the structures of the one or more structures are preferably calculated by means of one or more computers, in particular comprising at least one processor and at least one memory, preferably comprising at least one graphics processor and at least one memory. In particular, in contrast to the computer-generated holograms (CGH) known from the prior art, the overall effect, for example the virtual 3D object or the achromatic movement effect, is not calculated overall or together. According to the invention, the respective structure is preferably calculated separately for each pixel, which images, diffracts and / or scatters the light achromatically in the predetermined direction. Each pixel essentially acts independently of the other pixels. The interaction according to the invention of the optical effect of all pixels of the at least one pixel array preferably results in the desired overall effect of the at least one pixel array.

Für die Berechnung des Sicherheits- und/oder Dekorelements wird jedem Pixel des zumindest einen Pixelarray ein Raumwinkel zugeordnet, in den die Mikrostruktur das Licht abbilden, beugen und/oder streuen soll. Der jeweilige zugeordnete Raumwinkel korreliert vorzugsweise direkt mit der lokalen Krümmung des zumindest einen Pixelarrays.For the calculation of the security and / or decorative element, a solid angle is assigned to each pixel of the at least one pixel array, in which the microstructure is to image, diffract and / or scatter the light. The respective associated solid angle preferably correlates directly with the local curvature of the at least one pixel array.

Es ist möglich, dass der zumindest eine zugeordnete Raumwinkel und/oder der zumindest eine Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels das zumindest eine Segment aufspannt, wobei insbesondere das zumindest eine Segment zumindest einem Segment einer Kugel, bevorzugt zumindest einem konischen Segment, entspricht, wobei der halbe Öffnungswinkel des zumindest einen Segments kleiner als 20°, bevorzugt kleiner als 15°, weiter bevorzugt kleiner als 10°, ist.It is possible for the at least one associated solid angle and / or the at least one region of the at least one associated solid angle to span the at least one segment, in particular the at least one segment corresponding to at least one segment of a sphere, preferably at least one conical segment, the half the opening angle of the at least one segment is less than 20 °, preferably less than 15 °, more preferably less than 10 °.

Weiter ist es möglich, dass die virtuellen Feldquellen, welche insbesondere in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen des zumindest einen Segments und/oder auf dem zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels angeordnet sind, in zumindest einer Richtung periodisch und/oder pseudo-zufällig und/oder zufällig auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels angeordnet sind.Furthermore, it is possible for the virtual field sources, which are arranged in particular in and / or on one or more partial areas of the at least one segment and / or on the at least one area of the at least one associated solid angle, periodically and / or pseudo in at least one direction randomly and / or randomly arranged on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least segment and / or of the at least one area of the at least one associated solid angle.

Es ist auch möglich, dass die Abstände benachbarter virtueller Feldquellen zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels liegen, und/oder dass die Abstände benachbarter virtueller Feldquellen insbesondere im Mittel zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels liegen.It is also possible for the distances between adjacent virtual field sources to be between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm, in and / or on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment and / or the at least one area of the at least one associated solid angle are located, and / or that the distances between adjacent virtual field sources are in particular between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm, in and / or on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment and / or of the at least one area of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es auch möglich, dass die Anordnung der virtuellen Feldquellen, insbesondere der virtuellen Punktfeldquellen, als ein Kreuzraster, bevorzugt einem äquidistanten Kreuzraster, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels erfolgt, wobei der Abstand benachbarter virtueller Feldquellen zueinander zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, beträgt und/oder wobei der Winkel zwischen zwei benachbarten virtuellen Feldquellen zueinander, insbesondere relativ zur Position der jeweiligen ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray, kleiner als 1°, vorzugsweise kleiner als 0,5°, ist.Furthermore, it is also possible for the arrangement of the virtual field sources, in particular the virtual point field sources, as a cross-pattern, preferably an equidistant cross-pattern, in and / or on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment and / or of the at least one an area of the at least one assigned solid angle takes place, the distance between adjacent virtual field sources from one another being between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, and / or with the angle between two adjacent virtual field sources from one another, in particular relative to the position of the respective one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array, is less than 1 °, preferably less than 0.5 °.

Es ist weiter möglich, dass der halbe Öffnungswinkel eines kugelförmigen Segments und/oder des zumindest einen Segments einer Kugel kleiner 20°, insbesondere kleiner 15°, bevorzugt kleiner 10°, ist, wobei ein oder mehrere Punktfeldquellen der ein oder mehrere auf dem kugelförmigen Segment und/oder dem zumindest einen Segment einer Kugel vorzugsweise auf einem räumlich äquidistanten Kreuzraster angeordnet, wobei der Winkel zwischen zwei benachbarten Punktfeldquellen, insbesondere räumlich benachbarten Punktfeldquellen, bevorzugt kleiner als 1°, weiter bevorzugt kleiner als 0,5°, ist.It is also possible that the half opening angle of a spherical segment and / or the at least one segment of a sphere is less than 20 °, in particular less than 15 °, preferably less than 10 °, wherein one or more point field sources of the one or more on the spherical segment and / or the at least one segment of a sphere are preferably arranged on a spatially equidistant cross grid, the angle between two adjacent point field sources, in particular spatially adjacent point field sources, preferably less than 1 °, being further preferred is less than 0.5 °.

Vorzugsweise weisen ein oder mehrere virtuelle Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen eine Anordnung in Form von Mikrosymbolen auf, insbesondere ausgewählt aus: Buchstabe, Porträt, Bild, alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, geometrische Freiform, Quadrat, Dreieck, Kreis, gekrümmte Linie, Umriss.One or more virtual field sources of the one or more virtual field sources preferably have an arrangement in the form of microsymbols, in particular selected from: letter, portrait, image, alphanumeric character, character, geometric free form, square, triangle, circle, curved line, outline.

Weiter bevorzugt liegen die lateralen Abmessungen der Mikrosymbole zwischen 0,1° und 10°, insbesondere zwischen 0,2° und 5°.The lateral dimensions of the microsymbols are more preferably between 0.1 ° and 10 °, in particular between 0.2 ° and 5 °.

Bevorzugt sind eine erste Gruppe von ein oder mehreren virtuellen Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen aus einem Abstand von 0,3 m, insbesondere von 0,15 m bis 0,45 m, nicht auf einen Schirm projizierbar und/oder eine zweite Gruppe von ein oder mehreren virtuellen Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen aus einem Abstand von 1,0 m, insbesondere von 0,8 m bis 1,2 m, auf einen Schirm projizierbar.A first group of one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources from a distance of 0.3 m, in particular from 0.15 m to 0.45 m, are preferably not projectable on a screen and / or a second group of one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources can be projected onto a screen from a distance of 1.0 m, in particular from 0.8 m to 1.2 m.

Insbesondere bevorzugt weist das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, die gleiche Intensität und/oder die gleiche Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels auf.The virtual electromagnetic field, which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, particularly preferably has the same intensity and / or the same intensity distribution over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one segment and / or over the at least one area of the at least one associated solid angle.

Unter „Intensität“ wird insbesondere der Anteil der gesamten Strahlungsleistung verstanden, welche von einer oder mehreren der virtuellen Feldquellen in einen vorbestimmten Raumwinkel emittiert wird, wobei die Strahlungsleistung insbesondere als die Energiemenge betrachtet wird, welche innerhalb eines vorbestimmten Zeitintervalls von einem elektromagnetischen Feld, insbesondere von einer elektromagnetischen Welle, transportiert wird. Die Strahlungsleistung wird vorzugsweise in der Einheit Watt angegeben.“Intensity” is understood in particular to mean the proportion of the total radiation power which is emitted by one or more of the virtual field sources in a predetermined solid angle, the radiation power being viewed in particular as the amount of energy which is generated by an electromagnetic field, in particular by, within a predetermined time interval an electromagnetic wave. The radiation power is preferably specified in the unit watts.

Es ist möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von zwei oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, unterschiedliche Intensitäten und/oder unterschiedliche Intensitätsverteilungen über ein oder mehrere Raumwinkel, insbesondere über den gesamten Raumwinkel, und/oder über den zumindest einen Bereich und/oder über das zumindest eine Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.It is possible for the virtual electromagnetic field, which emanates from two or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, to have different intensities and / or different intensity distributions over one or more solid angles, in particular over the entire solid angle, and / or over the at least one area and / or over the at least one segment of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, eine Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist, welche gaußförmig oder supergaußförmig verteilt ist.Furthermore, it is possible for the virtual electromagnetic field, which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, to distribute an intensity over the at least one associated solid angle and / or over the at least one segment and / or over the has at least one area of the at least one associated solid angle, which is distributed in a Gaussian or super Gaussian shape.

Es ist auch möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von zwei oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, unterschiedliche Intensitäten und/oder unterschiedliche Intensitätsverteilungen über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.It is also possible for the virtual electromagnetic field, which originates from two or more of the virtual field sources, in particular from all of the virtual field sources, to have different intensities and / or different intensity distributions over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one segment and / or over the at least one area of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es auch möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welche von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, eine isotrope oder eine anisotrope Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkels und/oder über den zumindest einen Bereich und/oder über das zumindest eine Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.Furthermore, it is also possible for the virtual electromagnetic field which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, to have an isotropic or anisotropic intensity distribution over the at least one associated solid angle and / or over the at least one area and / or via the at least one segment of the at least one associated solid angle.

Insbesondere bilden ein oder mehrere virtuelle Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen, insbesondere alle der virtuellen Feldquellen, virtuelle Punkfeldquellen aus, wobei die virtuellen Punkfeldquellen vorzugsweise virtuelle Kugelwellen abstrahlen.In particular, one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources, in particular all of the virtual field sources, form virtual point field sources, the virtual point field sources preferably emitting virtual spherical waves.

Unter „Kugelwelle“ oder „virtueller Kugelwelle“ wird eine Welle verstanden, welche sich von einer Feldquelle, insbesondere einer virtuellen Feldquelle, in den gesamten Raumwinkel, insbesondere in einem Raumwinkel von 4π, in konzentrischen Wellenfronten ausbreitet, wobei die Feldquelle bevorzugt als punktförmige Quelle der Kugelwelle verstanden wird. “Spherical wave” or “virtual spherical wave” is understood to mean a wave which propagates from a field source, in particular a virtual field source, into the entire solid angle, in particular at a solid angle of 4π, in concentric wave fronts, the field source preferably being the point source of the Spherical wave is understood.

Es ist möglich, dass die ein oder mehreren virtuellen Feldquellen, insbesondere ein oder mehrere virtuelle Punktfeldquellen, jeweils ein oder mehrere virtuelle Felder der ein oder mehreren virtuellen Felder als virtuelle Kugelwellen aus einem Abstand von 1 m, insbesondere zu ein oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray abstrahlen. Hierbei wird vorzugsweise eine gleich helle Fläche und/oder eine Fläche homogener Intensität in einem Abstand von 1 m zu den ein oder mehreren Pixel erzeugt, wobei die Größe und/oder Form der Fläche durch den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über das zumindest eine Segment und/oder durch den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels bestimmt wird.It is possible that the one or more virtual field sources, in particular one or more virtual point field sources, each have one or more virtual fields of the one or more virtual fields as virtual spherical waves from a distance of 1 m, in particular to one or more pixels of the two or emit several pixels of the at least one pixel array. In this case, an area of equal brightness and / or an area of homogeneous intensity is preferably generated at a distance of 1 m from the one or more pixels, the size and / or shape of the area being determined by the at least one associated solid angle and / or by the at least one Segment and / or is determined by the at least one area of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es möglich, dass insbesondere das resultierende, zumindest eine Pixelarray und/oder das resultierende optisch variable Element bei einem Abstand von 30 cm, bevorzugt bei einem typischen und/oder normalen Leseabstand oder Betrachtungsabstand eines menschlichen Betrachters und/oder Sensors, visuell bevorzugt nicht als Abbildung, sondern weiter bevorzugt als Streuung erfasst wird. Insbesondere bei einem Abstand von 1 m wird die Fläche, insbesondere die gleich helle Fläche und/oder die Fläche homogener Intensität, sichtbar.Furthermore, it is possible that in particular the resulting, at least one pixel array and / or the resulting optically variable element at a distance of 30 cm, preferably at a typical and / or normal reading distance or viewing distance of a human viewer and / or sensor, preferably not visually as an image, but more preferably as scatter. In particular at a distance of 1 m, the area, in particular the equally bright area and / or the area of homogeneous intensity, becomes visible.

Auch ist es möglich, einzelne virtuelle Punktfeldquellen zu deaktivieren, wobei vorzugsweise die deaktivierten Punktfeldquellen in einem Abstand von 1 m als ein oder mehrere Motive, insbesondere als Text, auf der gleich hellen Fläche und/oder in der Fläche homogener Intensität für einen Betrachter und/oder Sensor erfassbar sind. Insbesondere strahlt eine deaktivierte Feldquelle und/oder Punktfeldquelle keine virtuellen elektromagnetischen Felder ab. Ein Betrachter und/oder ein Sensor ist insbesondere nicht in der Lage, das durch die deaktivierten Punktfeldquellen verursachte Fehlen einzelner Lichtpunkte in einem Abstand von 30 cm zu erfassen, wobei derart vorteilhaft Information in dem zumindest einen Pixelarray und/oder dem optisch variablen Element versteckt werden können.It is also possible to deactivate individual virtual point field sources, preferably the deactivated point field sources at a distance of 1 m as one or more motifs, in particular as text, on the same bright area and / or in the area of homogeneous intensity for a viewer and / or sensor can be detected. In particular, a deactivated field source and / or point field source does not emit any virtual electromagnetic fields. A viewer and / or a sensor is, in particular, unable to detect the absence of individual light points caused by the deactivated point field sources at a distance of 30 cm, with information advantageously being hidden in the at least one pixel array and / or the optically variable element can.

Weiter ist es auch möglich, die virtuellen Punktfeldquellen derart in dem zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder in dem zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels anzuordnen, dass vorzugsweise ein Motiv, insbesondere ein Bild, in einem Abstand von 1 m von ein oder mehreren Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays generiert wird und/oder bevorzugt von einem Betrachter und/oder einem Sensor erfassbar ist. Furthermore, it is also possible to arrange the virtual point field sources in the at least one associated solid angle and / or in the at least one area of the at least one associated solid angle in such a way that preferably a motif, in particular an image, at a distance of 1 m from one or more Pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array are generated and / or can preferably be detected by an observer and / or a sensor.

Vorzugsweise wird das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ausgehend von einer i-ten virtuellen Punktfeldquelle am Ort (xi, yi, zi) zumindest einer Koordinate (xh, yh, zh), insbesondere einer Koordinate (xh, yh, zh=0) = (xh, yh), in und/oder auf ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, mittels der Gleichung U i ( x h , y h ) = e x p ( i k r ) r ,   r = ( x h x i ) 2 + ( y h y i ) 2 + z i 2 ,

Figure DE102018123482A1_0003
berechnet.The virtual electromagnetic field U i is preferably based on an i-th virtual point field source at the location (x i , y i , z i ) of at least one coordinate (x h , y h , z h ), in particular one coordinate (x h , y h , z h = 0) = (x h , y h ), in and / or on one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the by the at least one virtual pixel array spanned area, in particular plane, by means of the equation U i ( x H , y H ) = e x p ( i k r ) r , r = ( x H - x i ) 2nd + ( y H - y i ) 2nd + e.g. i 2nd ,
Figure DE102018123482A1_0003
calculated.

Es ist möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen umfasst, welche insbesondere im sichtbaren Spektralbereich von 380 nm bis 780 nm, bevorzugt von 430 nm bis 690 nm, bevorzugt in ein oder mehreren Teilen eines infraroten, sichtbaren beziehungsweise visuellen, und/oder ultravioletten Spektralbereichs liegen, wobei ein oder mehrere, jeweils benachbarte Wellenlängen der ein oder mehreren Wellenlängen, bevorzugt in dem sichtbaren Spektralbereich, vorzugsweise äquidistant, zueinander beabstandet sind.It is possible for the virtual electromagnetic field U i to comprise one or more wavelengths, which in particular in the visible spectral range from 380 nm to 780 nm, preferably from 430 nm to 690 nm, preferably in one or more parts of an infrared, visible or visual, and / or ultraviolet spectral range, wherein one or more, respectively adjacent wavelengths of the one or more wavelengths, preferably in the visible spectral range, preferably equidistant, are spaced apart.

Es ist weiter möglich, dass die ein oder mehreren Wellenlängen, insbesondere ein oder mehrere Wellenlängen der ein oder mehreren virtuellen elektromagnetischen Wellen, bevorzugt ein oder mehrere Wellenlängen des einfallenden Lichts beziehungsweise der einfallenden elektromagnetischen Strahlung, aus dem infraroten und/oder sichtbaren und/oder ultravioletten Spektrum, insbesondere aus dem elektromagnetischen Spektrum, ausgewählt sind.It is further possible that the one or more wavelengths, in particular one or more wavelengths of the one or more virtual electromagnetic waves, preferably one or more wavelengths of the incident light or the incident electromagnetic radiation, from the infrared and / or visible and / or ultraviolet Spectrum, in particular from the electromagnetic spectrum, are selected.

Unter einem infraroten Spektrum werden vorzugsweise eine oder mehrere Teile des Infrarotbereichs des elektromagnetischen Spektrums verstanden, wobei das infrarote Spektrum insbesondere aus einem oder mehreren Teilen des Wellenlängenbereichs von 780 nm bis 1400 nm ausgewählt ist. An infrared spectrum is preferably understood to mean one or more parts of the infrared range of the electromagnetic spectrum, the infrared spectrum being selected in particular from one or more parts of the wavelength range from 780 nm to 1400 nm.

Unter einem sichtbaren Spektrum werden vorzugsweise ein oder mehrere Teile des sichtbaren Bereichs des elektromagnetischen Spektrums verstanden, wobei das sichtbare Spektrum insbesondere aus einem oder mehreren Teilen des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm ausgewählt ist. Insbesondere ist ein sichtbares Spektrum für das unbewaffnete menschliche Auge erfassbar.A visible spectrum is preferably understood to mean one or more parts of the visible range of the electromagnetic spectrum, the visible spectrum being selected in particular from one or more parts of the wavelength range from 380 nm to 780 nm. In particular, a visible spectrum can be detected by the unarmed human eye.

Unter einem ultravioletten Spektrum werden vorzugsweise ein oder mehrere Teile des Ultraviolettbereichs des elektromagnetischen Spektrums verstanden, wobei das ultraviolette Spektrum insbesondere aus einem oder mehreren Teilen des Wellenlängenbereichs von 250 nm bis 380 nm ausgewählt ist.An ultraviolet spectrum is preferably understood to mean one or more parts of the ultraviolet range of the electromagnetic spectrum, the ultraviolet spectrum being selected in particular from one or more parts of the wavelength range from 250 nm to 380 nm.

Eine Berechnung ein oder mehrerer virtueller Strukturprofile der ein oder mehreren virtuellen Strukturprofile ein oder mehrerer oder aller virtueller Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray für ein oder mehrere Wellenlängen, insbesondere für mehrere Wellenlängen im sichtbaren Spektralbereich zwischen 380 nm und 780 nm, bevorzugt zwischen 430 nm und 690 nm, ist möglich, wobei die ein oder mehreren Wellenlängen vorzugsweise mit einer gleich hohen Effizienz berechnet werden. Die wellenlängenabhängigen Teilfelder Ui werden insbesondere mit der Effizienz gewichtet und summiert.A calculation of one or more virtual structure profiles of the one or more virtual structure profiles of one or more or all virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array for one or more wavelengths, in particular for several wavelengths in the visible spectral range between 380 nm and 780 nm , preferably between 430 nm and 690 nm, is possible, the one or more wavelengths preferably being calculated with an equally high efficiency. The wavelength-dependent subfields Ui are weighted and summed in particular with the efficiency.

Bevorzugt werden die ein oder mehreren virtuellen Strukturprofile für mindestens fünf über den sichtbaren Spektralbereich verteilte Wellenlängen berechnet, wobei die resultierenden, ausgebildeten Strukturen einfallendes Licht achromatisch und vorteilhafterweise ohne störende diffraktive Farbeffekte in zumindest einen vorbestimmten Raumwinkels abbilden, beugen und/oder streuen.The one or more virtual structure profiles are preferably calculated for at least five wavelengths distributed over the visible spectral range, the resulting, formed structures imaging, diffracting and / or scattering incident light achromatically and advantageously without disturbing diffractive color effects in at least one predetermined solid angle.

Vorzugsweise werden die mindestens fünf Wellenlängen gleichmäßig über den sichtbaren Spektralbereich verteilt gewählt. In einer alternativen Ausgestaltungsform werden vorzugsweise mindestens sechs Wellenlängen auf den Flanken der Empfindlichkeitskurve der menschlichen Photorezeptoren gewählt und bevorzugt je zwei Wellenlängen auf je einer Flanke jedes Photorezeptor. Für den blauen Rezeptor werden die zwei Wellenlängen bevorzugt im Bereich 420 nm bis 460 nm gewählt, und/oder für den grünen Rezeptor werden die zwei Wellenlängen bevorzugt im Bereich 470 nm bis 530 nm gewählt, und/oder für den roten Rezeptor werden die zwei Wellenlängen bevorzugt im Bereich 560 nm bis 630 nm gewählt.The at least five wavelengths are preferably selected to be distributed uniformly over the visible spectral range. In an alternative embodiment, at least six wavelengths on the flanks of the sensitivity curve of the human photoreceptors are preferably selected and preferably two wavelengths on each flank of each photoreceptor. For the blue receptor, the two wavelengths are preferably selected in the range 420 nm to 460 nm, and / or for the green receptor, the two wavelengths are preferably selected in the range 470 nm to 530 nm, and / or for the red receptor, the two wavelengths preferably selected in the range 560 nm to 630 nm.

Insbesondere ist die zumindest eine Wellenlänge in dem Wellenvektor, bevorzugt dem Wellenvektor k = 2 x π / λ, enthalten.In particular, the at least one wavelength is contained in the wave vector, preferably the wave vector k = 2 x π / λ.

Weiter ist es möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen umfasst, welche insbesondere im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Spektralbereich liegen, wobei ein oder mehrere, jeweils benachbarte Wellenlängen der ein oder mehreren Wellenlängen, bevorzugt in dem infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Spektralbereich, vorzugsweise äquidistant, zueinander beabstandet sind.Furthermore, it is possible for the virtual electromagnetic field U i to comprise one or more wavelengths, which are in particular in the infrared, visible and / or ultraviolet spectral range, one or more, in each case adjacent, wavelengths of the one or more wavelengths, preferably in the infrared, visible and / or ultraviolet spectral range, preferably equidistant, are spaced apart.

Vorzugsweise wird das virtuelle elektromagnetische Gesamtfeld Up in und/oder auf ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, mittels der Gleichung U p ( x p , y p ) = U r * ( x p , y p ) i = 1 N p U i ( x p , y p )

Figure DE102018123482A1_0004
berechnet, wobei insbesondere die virtuellen elektromagnetischen Felder Ui ausgehend von i = 1, ..., Np virtuellen Punktfeldquellen an zumindest einer Koordinate (xp, yp, zp=0) = (xp, yp) und/oder insbesondere die optionale Referenzwelle Ur*, bevorzugt die zumindest eine optionale Referenzwelle Ur*, an zumindest einem Punkt oder für die Parameter (xp, yp) in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, berechnet werden.The virtual total electromagnetic field U p is preferably in and / or on one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array. using the equation U p ( x p , y p ) = U r * ( x p , y p ) i = 1 N p U i ( x p , y p )
Figure DE102018123482A1_0004
calculated, in particular the virtual electromagnetic fields U i starting from i = 1, ..., N p virtual point field sources at at least one coordinate (x p , y p , z p = 0) = (x p , y p ) and / or in particular the optional reference wave U r *, preferably the at least one optional reference wave U r *, at at least one point or for the parameters (x p , y p ) in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual ones Pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array.

Es ist möglich, dass die zumindest eine optionale Referenzwelle derart gewählt wird, dass für ein oder mehrere virtuelle Feldquellen der ein oder mehreren Feldquellen die entsprechenden Intensitäten und Phasen ideal kompensiert werden. Hierbei kann die zumindest eine optionale Referenzwelle beispielsweise die einfallende elektromagnetische Strahlung von einer Spotlampe in einem Abstand von 1,5 m von dem zumindest einen Pixelarray und/oder dem optisch variablen Element simulieren. Insbesondere ist die Phase der zumindest einen optionalen Referenzwelle in ein oder mehreren Phasenbildern der ein oder mehreren Phasenbilder zur Berechnung der virtuellen Strukturprofile für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray enthalten.It is possible that the at least one optional reference wave is selected such that the corresponding intensities and phases for one or more virtual field sources of the one or more field sources ideally be compensated. Here, the at least one optional reference wave can, for example, simulate the incident electromagnetic radiation from a spot lamp at a distance of 1.5 m from the at least one pixel array and / or the optically variable element. In particular, the phase of the at least one optional reference wave is contained in one or more phase images of the one or more phase images for calculating the virtual structure profiles for the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array.

Insbesondere werden ein oder mehrere Phasenbilder der ein oder mehreren Phasenbilder in ein virtuelles Strukturprofil umgewandelt, bevorzugt linear in ein virtuelles Strukturprofil umgewandelt, wobei ein Phasenwert von 0 der minimalen Tiefe und ein Phasenwert von 2π der maximalen Tiefe der ausgebildeten ein oder mehreren Strukturen ein oder mehrerer oder aller Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray entsprechen.In particular, one or more phase images of the one or more phase images are converted into a virtual structure profile, preferably linearly converted into a virtual structure profile, with a phase value of 0 of the minimum depth and a phase value of 2π of the maximum depth of the formed one or more structures of one or more or all pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array.

Vorzugsweise wird die Umwandlung der Phasenbilder für jedes Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays durchgeführt, wobei insbesondere jedem Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays jeweils ein oder mehrere Phasenbilder der ein oder mehreren Phasenbilder zugeordnet sind.The conversion of the phase images is preferably carried out for each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array, with in particular each pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array being assigned one or more phase images of the one or more phase images.

Es ist auch möglich, dass das virtuelle Strukturprofil ein oder mehrerer virtueller Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray mittels Laserbelichtung und Entwicklung auf eine mit Photoresist beschichtete Platte oder mittels Elektronenstrahl-Lithographie als die ein oder mehreren Strukturen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ausgebildet wird. Eine weitere Herstellmethode ist insbesondere Laserablation, beispielsweise direkt in Polymer- oder Glas- oder Metallsubstrate, insbesondere in Polycarbonate (PC) oder Polymethylmethacrylate (PMMA) oder Kupfer.It is also possible that the virtual structure profile of one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array by means of laser exposure and development on a plate coated with photoresist or by means of electron beam lithography as the one or more structures of one or more pixels the two or more pixels of the at least one pixel array is formed. Another production method is in particular laser ablation, for example directly in polymer or glass or metal substrates, in particular in polycarbonates (PC) or polymethyl methacrylates (PMMA) or copper.

Weiter ist es auch möglich, dass ein oder mehrere in einem oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray umfasste beziehungsweise ausgebildete Strukturen eine optische Tiefe, insbesondere eine optische Tiefe in Luft oder Polymer, von der halben mittleren Wellenlänge des virtuellen elektromagnetischen Feldes und/oder des virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeldes aufweisen.Furthermore, it is also possible for one or more structures which are comprised or formed in one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array to have an optical depth, in particular an optical depth in air or polymer, of half the mean wavelength of the virtual electromagnetic field and / or the virtual total electromagnetic field.

Unter optischer Tiefe wird insbesondere ein dimensionsloses Maß dafür verstanden, in welchem Maß ein physikalisches Medium und/oder Stoff elektromagnetische Wellen beziehungsweise elektromagnetische Strahlung verzögert.Optical depth is understood in particular to mean a dimensionless measure of the extent to which a physical medium and / or substance delays electromagnetic waves or electromagnetic radiation.

Bevorzugt weisen ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen eine optische Tiefe entsprechend der halben mittleren Wellenlänge der berechneten virtuellen elektromagnetischen Felder auf. Vorzugsweise werden die Felder für ein ganzzahliges Vielfaches der Betrachtungswellenlänge berechnet und auch realisiert, z.B. berechnet für 5 x 550 nm = 2750 nm und realisiert 1375 nm tief. Dies hat insbesondere den Vorteil, dass die Strukturen weniger diffraktiv wirken und somit achromatischer erscheinen.One or more structures of the one or more structures preferably have an optical depth corresponding to half the mean wavelength of the calculated virtual electromagnetic fields. The fields are preferably calculated and also implemented for an integer multiple of the observation wavelength, e.g. calculated for 5 x 550 nm = 2750 nm and realizes 1375 nm deep. This has the particular advantage that the structures appear less diffractive and thus appear more achromatic.

Insbesondere unterscheiden sich die Strukturen von konventionellen Hologrammen durch die derart erhöhte Tiefe, bevorzugt optische Tiefe, wobei die Strukturen hierbei insbesondere nicht rein beugend und/oder diffraktiv wirken. Weiter sind die Strukturen derart klein und flach, dass diese insbesondere nicht rein refraktiv wirken und sich hierbei vorzugsweise von Mikrospiegeln unterscheiden. Die im Vergleich zu Mikrospiegeln geringere Strukturtiefe reduziert vorzugsweise die notwendige Dicke der Sicherheitsmerkmale und erlaubt zusätzlich insbesondere eine einfachere Herstellung in der Massenproduktion. Bei den Strukturen handelt es sich bevorzugt um sogenannte „multi-order diffractive elements“, welche Eigenschaften von konventionellen Hologrammen und von konventionellen Mikrospiegeln aufweisen.In particular, the structures differ from conventional holograms by the increased depth, preferably optical depth, in which case the structures in particular do not have a purely diffractive and / or diffractive effect. Furthermore, the structures are so small and flat that, in particular, they do not have a purely refractive effect and are preferably different from micromirrors. The smaller structure depth in comparison to micromirrors preferably reduces the necessary thickness of the security features and additionally allows, in particular, simpler manufacture in mass production. The structures are preferably so-called “multi-order diffractive elements”, which have properties of conventional holograms and of conventional micromirrors.

Im Folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen des Verfahrens zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments, insbesondere umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente, genannt.Preferred embodiments of the method for producing a security document, in particular comprising one or more optically variable elements, are mentioned below.

Vorzugsweise werden die ausgebildeten Strukturprofile in beziehungsweise auf ein opakes oder transparentes Substrat, insbesondere in beziehungsweise auf opake oder transparente Papier- oder Polymerdokumente oder in beziehungsweise auf opake oder transparente Papier- oder Polymerbanknoten eingebracht oder appliziert.The structural profiles formed are preferably introduced or applied in or on an opaque or transparent substrate, in particular in or on opaque or transparent paper or polymer documents or in or on opaque or transparent paper or polymer bank notes.

Insbesondere werden die Strukturprofile mittels der Verfahren Galvanik, Rekombination und Roll-to-Roll Replikation in eine Schicht auf einer Folie, insbesondere in eine zumindest eine Replikationsschicht und/oder in eine Metallschicht und/oder in eine transparente hochbrechende oder niedrigbrechende Schicht eingebracht. Im Falle der Replikationsschicht kann diese insbesondere nachträglich mit einer Metallschicht und/oder einer transparenten hochbrechenden oder niedrigbrechenden Schicht versehen werden, sodass die Metallschicht und/oder die transparente hochbrechende oder niedrigbrechende Schicht vorzugsweise dem Strukturprofil der Replikationsschicht folgt.In particular, the structure profiles are by means of the electroplating, recombination and roll-to-roll replication processes in a layer on a film, in particular in an at least one replication layer and / or in a metal layer and / or in a transparent high-index or low-index layer brought in. In the case of the replication layer, it can in particular be subsequently provided with a metal layer and / or a transparent high-index or low-index layer, so that the metal layer and / or the transparent high-index or low-index layer preferably follows the structure profile of the replication layer.

Unter einer „hochbrechenden Schicht“ wird insbesondere eine Schicht mit einem hohen Brechungsindex, insbesondere mit einem Brechungsindex von größer als 1,5, bevorzugt von größer als 1,7, verstanden.A “high refractive index layer” is understood in particular to mean a layer with a high refractive index, in particular with a refractive index greater than 1.5, preferably greater than 1.7.

Unter „niedrigbrechender Schicht“ wird insbesondere eine Schicht mit einem niedrigen Brechungsindex, insbesondere mit einem Brechungsindex von kleiner als 1,5, bevorzugt von kleiner als 1,4, verstanden.“Low-refractive index layer” means in particular a layer with a low refractive index, in particular with a refractive index of less than 1.5, preferably less than 1.4.

Unter Brechungsindex oder Brechzahl oder optischer Dichte wird bevorzugt eine, insbesondere dimensionslose, optische Materialeigenschaft verstanden, welche insbesondere angibt, um welchen Faktor die Wellenlänge und/oder die Phasengeschwindigkeit einer elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung in einem Material kleiner ist als im Vakuum. Bei einem Übergang einer elektromagnetischen Welle zwischen Materialien und/oder Stoffen mit unterschiedlichen Brechungsindizes wird die elektromagnetische Welle gebrochen und/oder gestreut, insbesondere reflektiert.Refractive index or refractive index or optical density is preferably understood to mean an, in particular dimensionless, optical material property, which in particular indicates the factor by which the wavelength and / or the phase velocity of an electromagnetic wave or electromagnetic radiation in a material is smaller than in a vacuum. When an electromagnetic wave passes between materials and / or substances with different refractive indices, the electromagnetic wave is refracted and / or scattered, in particular reflected.

Insbesondere weist die Folie eine HRI-Schicht (HRI = High Refractive Index = Hoher Brechungsindex; HRI-Schicht = hochbrechende Schicht) auf. Eine derartige hochbrechende Schicht ist insbesondere aus ZnS oder TiO2 ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich weist die Folie bevorzugt eine Metallschicht auf, insbesondere eine Metallschicht ausgewählt aus den folgenden Metallen: Aluminium, Kupfer, Gold, Silber, Chrom, Zinn, und/oder ein oder mehrere Legierungen dieser Metalle. Die HRI-Schicht und/oder Metallschicht wird vorzugsweise nach einem Roll-to-Roll-Replikationsschritt auf und/oder in ein oder mehrere Strukturprofile der ein oder mehreren Strukturprofile auf der Folie aufgebracht.In particular, the film has an HRI layer (HRI = High Refractive Index = high refractive index; HRI layer = high refractive index layer). Such a high-index layer is formed in particular from ZnS or TiO 2 . Alternatively or additionally, the film preferably has a metal layer, in particular a metal layer selected from the following metals: aluminum, copper, gold, silver, chromium, tin, and / or one or more alloys of these metals. After a roll-to-roll replication step, the HRI layer and / or metal layer is preferably applied to and / or into one or more structural profiles of the one or more structural profiles on the film.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder das zumindest eine Pixelarray in zumindest einen Fensterbereich, insbesondere in beziehungsweise auf zumindest einen Fensterbereich einer ID1-Karte, oder in beziehungsweise auf ein transparentes Substrat, insbesondere in beziehungsweise auf eine transparente Polymerbanknote, eingebracht oder appliziert werden, wodurch die ein oder mehreren Strukturen und/oder das zumindest eine Pixelarray zumindest von der Vorder- und Rückseite und/oder bei Durchlichtbetrachtung erfassbar ist. Der zumindest eine Fensterbereich weist insbesondere eine Durchbrechung des Substrats und/oder einen nicht durchbrochenen transparenten Bereich des Substrats auf.It is possible for one or more structures of the one or more structures and / or the at least one pixel array to be in at least one window area, in particular in or on at least one window area of an ID1 card, or in or on a transparent substrate, in particular in or on a transparent polymer banknote can be introduced or applied, whereby the one or more structures and / or the at least one pixel array can be detected at least from the front and back and / or when viewed through transmitted light. The at least one window area has, in particular, an opening in the substrate and / or an uninterrupted transparent area in the substrate.

Unter „transparent“ wird insbesondere eine Transmissivität im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Wellenlängenbereich verstanden, welche zwischen 70% und 100%, bevorzugt zwischen 80% und 95%, liegt, wobei vorzugsweise ein zu vernachlässigender Teil der einfallenden elektromagnetischen Strahlung, insbesondere des einfallenden Lichts, absorbiert wird.“Transparent” means in particular a transmissivity in the infrared, visible and / or ultraviolet wavelength range, which is between 70% and 100%, preferably between 80% and 95%, preferably a negligible part of the incident electromagnetic radiation, in particular the incident light is absorbed.

Unter einer „ID1-Karte“ ist insbesondere ein Sicherheitsdokument oder eine Karte mit einer Abmessung von 85,6 mm x 53,99 mm verstanden, wobei die Abmessungen des Sicherheitsdokuments oder der Karte dem ID1-Format entsprechen.An “ID1 card” is understood in particular to mean a security document or a card with a dimension of 85.6 mm × 53.99 mm, the dimensions of the security document or the card corresponding to the ID1 format.

Insbesondere werden ein oder mehrere optisch variable Elemente, vorzugsweise zu Dekorationszwecken und/oder zu Identifizierungszwecken, in und/oder auf Verpackungen aller Art eingebracht und/oder aufgebracht.In particular, one or more optically variable elements, preferably for decoration purposes and / or for identification purposes, are introduced and / or applied in and / or on packaging of all kinds.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere optisch variable Elemente insbesondere passergenau beziehungsweise registergenau in und/oder auf ein Substrat und/oder ein oder mehrere weitere Schichten, insbesondere relativ zueinander und/oder zu weiteren Sicherheitselementen und/oder weiteren Dekorelements und/oder zu den Rändern des Substrats und/oder der ein oder mehreren Schichten, eingebracht und/oder aufgebracht beziehungsweise appliziert wird.It is possible for one or more optically variable elements, in particular in register or register accuracy, in and / or on a substrate and / or one or more further layers, in particular relative to one another and / or to further security elements and / or further decorative elements and / or to the Edges of the substrate and / or one or more layers are introduced and / or applied or applied.

Unter Register oder Passer bzw. Registergenauigkeit oder Passergenauigkeit oder Positionsgenauigkeit ist insbesondere eine Lagegenauigkeit zweier oder mehrerer Elemente und/oder Schichten relativ zueinander zu verstehen. Dabei soll sich die Registergenauigkeit vorzugsweise innerhalb einer vorgegebenen Toleranz bewegen und dabei bevorzugt möglichst hoch sein. Gleichzeitig ist die Registergenauigkeit von mehreren Elementen und/oder Schichten zueinander weiter bevorzugt ein wichtiges Merkmal, um insbesondere die Prozesssicherheit zu erhöhen. Die lagegenaue Positionierung kann dabei insbesondere mittels sensorischer, vorzugsweise optisch detektierbarer Passermarken oder der Positionsmarkierungen erfolgen. Diese Passermarken oder Positionsmarkierungen können dabei entweder spezielle separate Elemente oder Bereiche oder Schichten darstellen oder selbst Teil der zu positionierenden Elemente oder Bereiche oder Schichten sein.Register or register or register accuracy or register accuracy or position accuracy is to be understood in particular as a positional accuracy of two or more elements and / or layers relative to one another. The register accuracy should preferably be within a predetermined tolerance and should preferably be as high as possible. At the same time, the register accuracy of several elements and / or layers relative to one another is preferably an important feature, in particular to increase process reliability. The positionally accurate positioning can take place in particular by means of sensory, preferably optically detectable registration marks or the position markings. This Registration marks or position markings can either represent special separate elements or areas or layers or can themselves be part of the elements or areas or layers to be positioned.

Es ist möglich, dass das Substrat vor oder nach Einbringen der virtuellen Strukturprofile mit einer lasierenden Farbschicht versehen wird, welche die Funktion eines Farbfilters aufweist. Das Versehen mit einer lasierenden Farbschicht kann vor oder nach Einbringen der virtuellen Strukturprofile und Aufbringen einer Metallschicht und/oder einer transparenten hoch- oder niedrigbrechenden Schicht erfolgen. Beispielsweise ändert die lasierende Farbschicht das achromatische weiße Erscheinungsbild des zumindest einen Pixelarrays und/oder optisch variablen Elements für einen Betrachter und/oder Sensor in ein monochromatisches Erscheinungsbild.It is possible that the substrate is provided with a glazing color layer, which has the function of a color filter, before or after the introduction of the virtual structure profiles. A glazing color layer can be provided before or after the introduction of the virtual structure profiles and application of a metal layer and / or a transparent high or low refractive index layer. For example, the glazing color layer changes the achromatic white appearance of the at least one pixel array and / or optically variable element for a viewer and / or sensor to a monochromatic appearance.

Im Folgenden wird die Erfindung anhand von mehreren Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der beiliegenden Zeichnungen beispielhaft erläutert. Dabei zeigen:

  • 1 zeigt eine schematische Darstellung eines Sicherheitsdokuments.
  • 1a zeigt eine schematische Darstellung eines Sicherheitsdokuments.
  • 2 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 3 zeigt einen schematischen Querschnitt eines optisch variablen Elements.
  • 4 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 5 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 6 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 7 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 8 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 9 zeigt eine schematische Darstellung eines Pixelarrays.
  • 10 zeigt eine schematische Darstellung eines Pixels.
  • 11 zeigt eine schematische Darstellung eines Pixels.
  • 12 zeigt eine schematische Darstellung eines Pixels.
  • 12a zeigt eine schematische Darstellung eines Pixels.
  • 13 zeigt ein Foto sowie Mikroskopbilder eines optisch variablen Elements.
  • 14 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 15 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 16 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 17 zeigt ein Foto eines optisch variablen Elements.
  • 18 zeigt Mikroskopbilder eines Pixelarrays.
  • 19 zeigt eine schematische Darstellung eines optisch variablen Elements.
  • 20 zeigt ein Foto eines optisch variablen Elements.
  • 21 zeigt Mikroskopbilder eines Pixelarrays.
  • 22 zeigt ein Foto eines optisch variablen Elements.
  • 23 zeigt ein Foto eines optisch variablen Elements.
In the following, the invention is explained by way of example using several exemplary embodiments with the aid of the accompanying drawings. Show:
  • 1 shows a schematic representation of a security document.
  • 1a shows a schematic representation of a security document.
  • 2nd shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 3rd shows a schematic cross section of an optically variable element.
  • 4th shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 5 shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 6 shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 7 shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 8th shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 9 shows a schematic representation of a pixel array.
  • 10th shows a schematic representation of a pixel.
  • 11 shows a schematic representation of a pixel.
  • 12th shows a schematic representation of a pixel.
  • 12a shows a schematic representation of a pixel.
  • 13 shows a photo and microscope images of an optically variable element.
  • 14 shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 15 shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 16 shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 17th shows a photo of an optically variable element.
  • 18th shows microscope images of a pixel array.
  • 19th shows a schematic representation of an optically variable element.
  • 20th shows a photo of an optically variable element.
  • 21 shows microscope images of a pixel array.
  • 22 shows a photo of an optically variable element.
  • 23 shows a photo of an optically variable element.

1 zeigt ein Sicherheitsdokument 1d, insbesondere eine Banknote, umfassend ein Substrat 10 in Aufsicht, welches ein streifenförmiges Sicherheitselement 1b' aufweist, wobei für einen Betrachter bei Betrachtung des Sicherheitselements 1b' in Auflicht und/oder Durchlicht Bewegungseffekte und/oder optisch in Betrachtungsrichtung virtuell vorspringende und/oder von der Betrachtungsrichtung zurückspringende 3D-Elemente erfassbar sind. Derartige optische Effekte sind vorzugsweise abhängig von dem Kippwinkel und/oder dem Betrachtungswinkel relativ zu der durch das Substrat 10 aufgespannten Ebene. 1 shows a security document 1d , in particular a banknote, comprising a substrate 10th in supervision, which is a strip-shaped security element 1b ' has, for a viewer when looking at the security element 1b ' in incident light and / or transmitted light, motion effects and / or optically virtually protruding and / or recessing 3D elements in the viewing direction can be detected. Such optical effects are preferably dependent on the tilt angle and / or the viewing angle relative to that through the substrate 10th spanned level.

Es ist möglich, dass das Sicherheitsdokument 1d in oder außerhalb des streifenförmigen Bereichs 1b' ein oder mehrere weitere optisch variable Elemente und/oder optisch invariable Sicherheitselemente aufweist, die insbesondere mit dem Sicherheitselement 1b' teilweise oder ganz überlappen können. It is possible that the security document 1d in or outside of the striped area 1b ' has one or more further optically variable elements and / or optically invariable security elements, in particular with the security element 1b ' can partially or completely overlap.

Weiter ist es möglich, dass in und/oder auf dem Sicherheitsdokument 1d ein oder mehrere weitere Bereiche umfassend jeweils weitere ein oder mehrere optisch variablen Elemente in Streifenform und/oder in Patch-Form ausgebildet sind.It is also possible that in and / or on the security document 1d one or more further areas each comprising further one or more optically variable elements in strip form and / or in patch form.

Auch ist es möglich, dass ein oder mehrere optische variable Elemente bei Betrachtung des Sicherheitsdokuments 1d, insbesondere mittels eines Betrachters und/oder eines Sensors, entlang eines durch das Sicherheitsdokument 1d aufgespannten Flächennormalenvektors zumindest teilweise überlappend angeordnet sind.It is also possible that one or more optical variable elements when viewing the security document 1d , in particular by means of a viewer and / or a sensor, along one through the security document 1d spanned surface normal vector are at least partially overlapping.

Das streifenförmige Sicherheitselement 1b umfasst weiter zwei optisch variable Elemente 1a, welche insbesondere jeweils zumindest ein Pixelarray umfassend zwei oder mehrere Pixel aufweist. Ein optisch variables Element der zwei optisch variablen Elemente ist in Form eines Motivs umfassend die Sonne ausgebildet und ein weiteres optisch variables Element der zwei optisch variablen Elemente ist in Form eines Motivs umfassend eine Vielzahl von zehn voneinander beabstandeten wellenförmigen Linien beziehungsweise dünnen Streifen ausgebildet. Derartige Motive sind insbesondere ausgewählt aus: Muster, Buchstaben, Porträts, Bilder, alphanumerische Zeichen, Schriftzeichen, Landschaftsdarstellungen, Bauwerksdarstellungen, geometrische Freiformen, Quadraten, Dreiecken, Kreisen, gekrümmten Linien und/oder Umrissen.The strip-shaped security element 1b also includes two optically variable elements 1a , which in particular has at least one pixel array comprising two or more pixels. An optically variable element of the two optically variable elements is designed in the form of a motif comprising the sun and a further optically variable element of the two optically variable elements is designed in the form of a motif comprising a plurality of ten spaced apart wavy lines or thin strips. Such motifs are selected in particular from: patterns, letters, portraits, pictures, alphanumeric characters, characters, landscape representations, building representations, geometric free forms, squares, triangles, circles, curved lines and / or outlines.

Weiter umfasst das streifenförmige Sicherheitselement 1b' mehrere Sicherheitselemente 8, welche als die Zahlenabfolge „45“, zwei wolkenartige Motive, ein flugzeugförmiges Motiv, ein segelschiffförmiges Motiv und eine mit zwei horizontalen Linien durchzogene Buchstabenabfolge „UT“ ausgestaltet sind. Die Zahlenfolge „45“ und die mit zwei horizontalen Linien durchzogene Buchstabenabfolge „UT“ können beispielsweise als demetallisierte Bereiche realisiert sein und die zwei wolkenartigen Motive, das flugzeugförmige Motiv sowie das segelschiffförmige Motiv können insbesondere mit farbintensiven diffraktiven Strukturen realisiert sein.The strip-shaped security element also comprises 1b ' several security elements 8th which as the sequence of numbers " 45 ", Two cloud-like motifs, an airplane-shaped motif, a sailing-ship-shaped motif and a letter sequence" UT "with two horizontal lines. The sequence of numbers " 45 "And the letter sequence" UT "with two horizontal lines can be realized, for example, as demetallized areas and the two cloud-like motifs, the plane-shaped motif and the sailboat-shaped motif can be realized in particular with color-intensive diffractive structures.

Ferner umfasst das Sicherheitsdokument 1d ein Sicherheitselement 8', welches ein Motiv umfassend ein Portrait aufweist. Hierbei ist es möglich, dass die optisch variablen Strukturen 8' als bei Beleuchtung diffraktiv aufleuchtende Flächen ausgebildet sind und/oder dass der optische Eindruck des Portraits 8', welches insbesondere als Fresnelsche Freiformfläche ausgebildet ist, in Auflicht und/oder Durchlicht für einen Betrachter und/oder einen Sensor erfassbar ist. Alternativ kann das Sicherheitselement 8' insbesondere auch ein Intaglio- oder Offsetdruck sein.The security document also includes 1d a security element 8th' , which has a motif comprising a portrait. It is possible that the optically variable structures 8th' are formed as surfaces that illuminate diffractive when illuminated and / or that the visual impression of the portrait 8th' , which is designed in particular as a Fresnel free-form surface, can be detected in incident light and / or transmitted light for a viewer and / or a sensor. Alternatively, the security element 8th' especially an intaglio or offset print.

Vorzugsweise umfasst das streifenförmige Sicherheitselement 1b' zusätzlich zu den optisch variablen Elementen 1a, welche jeweils ein Pixelarray aufweisen, zumindest ein Höhenprofil zumindest einer weiteren optisch variablen Struktur, insbesondere ausgewählt aus: einer diffraktiven Reliefstruktur, insbesondere eines Beugungsgitters, einer fresnelschen Freiformlinse, einer Beugungsstruktur Nullter Ordnung, eines Blaze-Gitters, einer Mikrospiegelstruktur, einer isotropen oder anisotropen Mattstruktur und/oder einer Mikrolinsenstruktur.The strip-shaped security element preferably comprises 1b ' in addition to the optically variable elements 1a , each of which has a pixel array, at least one height profile of at least one further optically variable structure, in particular selected from: a diffractive relief structure, in particular a diffraction grating, a Fresnel free-form lens, a zero-order diffraction structure, a blaze grating, a micromirror structure, an isotropic or anisotropic one Matt structure and / or a microlens structure.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere oder alle der Strukturen elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung, diffraktiv streuen, beugen und/oder abbilden.It is also possible for one or more or all of the structures to diffractively diffract, bend and / or image electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation.

Insbesondere weist das zumindest eine Pixelarray in zumindest einer Richtung zumindest bereichsweise eine von Null verschiedene Krümmung auf.In particular, the at least one pixel array has a curvature that differs from zero in at least one direction in at least one direction.

Der Dokumentenkörper des Sicherheitsdokuments 1d umfasst insbesondere ein oder mehrere Schichten, wobei das Substrat 10 bevorzugt ein Papiersubstrat und/oder ein Kunststoffsubstrat oder ein Hybridsubstrat, bestehend aus einer Kombination von Papier und Kunststoff, ist.The document body of the security document 1d comprises in particular one or more layers, the substrate 10th is preferably a paper substrate and / or a plastic substrate or a hybrid substrate consisting of a combination of paper and plastic.

Weiter ist es möglich, dass das streifenförmige Sicherheitselement 1b' ein oder mehrere Schichten aufweist und insbesondere ein Trägersubstrat (vorzugsweise aus Polyester, insbesondere PET) aufweist, welches ablösbar oder nicht ablösbar ist, und/oder ein oder mehrere Polymerlackschichten, insbesondere eine oder mehrere Replikationsschichten, in welche die Höhenprofile zumindest einer weiteren optisch variablen Struktur repliziert werden können.It is also possible for the strip-shaped security element 1b ' has one or more layers and in particular has a carrier substrate (preferably made of polyester, in particular PET) which is removable or non-removable, and / or one or more polymer lacquer layers, in particular one or more replication layers, into which the height profiles have at least one further optically variable structure can be replicated.

Es ist auch möglich, dass das streifenförmige Sicherheitselement 1b' ein oder mehrere Schutzschichten und/oder ein oder mehrere Dekorschichten und/oder ein oder mehrere Kleberschichten oder Haftvermittlungsschichten beziehungsweise Haftvermittlerschichten und/oder ein oder mehrere Barriereschichten und/oder ein oder mehrere weitere Sicherheitsmerkmale umfasst. It is also possible that the strip-shaped security element 1b ' comprises one or more protective layers and / or one or more decorative layers and / or one or more adhesive layers or adhesion promoter layers or adhesion promoter layers and / or one or more barrier layers and / or one or more further security features.

Ein oder mehrere Dekorschichten der Dekorschichten weisen vorzugsweise ein oder mehrere metallische und/oder HRI-Schichten auf, welche vorzugsweise jeweils nicht vollflächig sondern lediglich partiell in dem optisch variablen Element und/oder dem Sicherheitsdokument vorgesehen sind. Die metallischen Schichten sind hierbei insbesondere opak, transluzent oder semitransparent ausgebildet. Vorzugsweise umfassen die metallischen Schichten hierbei unterschiedliche Metalle, welche unterschiedliche, insbesondere deutlich unterschiedliche, bevorzugt von einem Betrachter und/oder Sensor unterscheidbare, Reflexions-, Absorptions- und/oder Transmissionsspektren, insbesondere Reflexions-, Absorptions- und/oder Transmissionsvermögen, aufweisen. Bevorzugt umfassen die Metallschichten ein oder mehrere der Metalle: Aluminium, Kupfer, Gold, Silber, Chrom, Zinn, und/oder ein oder mehrere Legierungen dieser Metalle. Weiter sind die partiell vorgesehenen metallischen Schichten gerastert und/oder mit lokal unterschiedlichen Schichtdicken ausgestaltet.One or more decorative layers of the decorative layers preferably have one or more metallic and / or HRI layers, which are preferably not provided over the entire area but only partially in the optically variable element and / or the security document. The metallic layers are in particular opaque, translucent or semi-transparent. The metallic layers preferably comprise different metals, which have different, in particular significantly different, preferably distinguishable from a viewer and / or sensor, reflection, absorption and / or transmission spectra, in particular reflection, absorption and / or transmission capacity. The metal layers preferably comprise one or more of the metals: aluminum, copper, gold, silver, chromium, tin, and / or one or more alloys of these metals. Furthermore, the partially provided metallic layers are rasterized and / or configured with locally different layer thicknesses.

Unter Reflexionsvermögen wird insbesondere das Verhältnis zwischen der Intensität des reflektierten Teils einer elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung und der Intensität des einfallenden Teils der elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung verstanden, wobei die Intensität insbesondere ein Maß für die von der elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischen Strahlung transportierten Energie ist.Reflectivity is understood in particular to mean the relationship between the intensity of the reflected part of an electromagnetic wave or electromagnetic radiation and the intensity of the incident part of the electromagnetic wave or electromagnetic radiation, the intensity being in particular a measure of the energy transported by the electromagnetic wave or electromagnetic radiation .

Unter Absorptionsvermögen oder Absorptionskoeffizient wird insbesondere ein Maß für die Abnahme der Intensität elektromagnetischer Wellen beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung beim Hindurchdringen durch einen Stoff und/oder durch ein Material verstanden, wobei die Dimension des Absorptionsvermögens und/oder des Absorptionskoeffizienten insbesondere 1/Längeneinheit, bevorzugt 1/Längenmaß, ist. Beispielsweise weist eine opake Schicht für sichtbare Strahlung einen größeren Absorptionskoeffizienten auf als Luft.Absorption capacity or absorption coefficient is understood in particular to be a measure of the decrease in the intensity of electromagnetic waves or electromagnetic radiation when penetrating through a substance and / or through a material, the dimension of the absorption capacity and / or the absorption coefficient being in particular 1 / length unit, preferably 1 / length dimension , is. For example, an opaque layer for visible radiation has a larger absorption coefficient than air.

Unter Transmissionsvermögen und/oder optischer Dicke wird bevorzugt ein, insbesondere dimensionsloses, Maß verstanden, welches angibt, wie stark die Intensität einer elektromagnetischen Welle beziehungsweise elektromagnetischer Strahlung abnimmt, wenn diese durch einen Stoff und/oder ein Material hindurch dringt.Transmittance and / or optical thickness is preferably understood to mean a dimension, in particular a dimensionless one, which indicates how strongly the intensity of an electromagnetic wave or electromagnetic radiation decreases when it penetrates through a substance and / or a material.

Insbesondere sind ein oder mehrere Metallschichten der Metallschichten hierbei vorzugsweise musterförmig strukturiert in der Form, dass diese ein oder mehrere Bildelemente umfassen, in denen das Metall der Metallschicht vorgesehen ist und einen Hintergrundbereich umfassen, in denen das Metall der Metallschichten nicht vorgesehen ist. Die Bildelemente können hierbei vorzugsweise in Form von alphanumerischen Zeichen, jedoch auch von Grafiken und komplexen Darstellung von Objekten gebildet sein. Die Bildelemente können insbesondere auch als ein gerastertes, hochaufgelöstes Graustufenbild, beispielsweise ein Portrait, ein Gebäude, eine Landschaft oder ein Tier, gebildet sein. Das Raster kann insbesondere regelmäßig oder fraktal oder unregelmäßig, insbesondere stochastisch ausgebildet sein und bevorzugt bereichsweise in der Ausbildung variieren. In particular, one or more metal layers of the metal layers are preferably structured in a pattern in such a way that they comprise one or more image elements in which the metal of the metal layer is provided and comprise a background area in which the metal of the metal layers is not provided. The picture elements can preferably be formed in the form of alphanumeric characters, but also of graphics and complex representation of objects. The image elements can in particular also be formed as a rasterized, high-resolution grayscale image, for example a portrait, a building, a landscape or an animal. The grid can in particular be regular or fractal or irregular, in particular stochastic, and preferably vary in design in some areas.

Vorzugsweise umfassen ein oder mehrere Dekorschichten der Dekorschichten weiter insbesondere ein oder mehrere Farbschichten, insbesondere lasierende Farben. Bei diesen Farbschichten handelt es sich insbesondere um Farbschichten, welche mittels eines Druckverfahrens aufgebracht werden, und welche ein oder mehrere Farbstoffe und/oder Pigmente aufweisen, welche bevorzugt in einer Bindemittelmatrix eingebunden sind. Die Farbschichten, insbesondere Farben, können transparent, klar, teilweise streuend, transluzent, intransparent, und/oder deckend sein. Beispielsweise kann im Bereich der Sonne 1a eine gelbe Farbschicht vorgesehen sein und im Bereich der Wellen 1a eine blaue Farbschicht.One or more decorative layers of the decorative layers preferably further comprise in particular one or more color layers, in particular glazing colors. These color layers are, in particular, color layers which are applied by means of a printing process and which have one or more dyes and / or pigments which are preferably incorporated in a binder matrix. The color layers, in particular colors, can be transparent, clear, partially scattering, translucent, non-transparent, and / or opaque. For example, in the sun 1a a yellow color layer can be provided and in the area of the waves 1a a blue layer of paint.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Dekorschichten der Dekorschichten ein oder mehrere optisch aktive Reliefstrukturen aufweisen, welche vorzugsweise jeweils in zumindest eine Oberfläche einer Lackschicht, bevorzugt einer replizierten Lackschicht, eingebracht sind. Bei derartigen Reliefstrukturen handelt es sich insbesondere um diffraktive Reliefstrukturen, wie beispielsweise Hologramme, Beugungsgitter, fresnelsche Freiformflächen, Beugungsgitter mit symmetrischen oder asymmetrischen Profilformen und/oder Beugungsstrukturen Nullter Ordnung.It is possible for one or more decorative layers of the decorative layers to have one or more optically active relief structures, which are each preferably introduced into at least one surface of a lacquer layer, preferably a replicated lacquer layer. Relief structures of this type are, in particular, diffractive relief structures, such as, for example, holograms, diffraction gratings, Fresnel free-form surfaces, diffraction gratings with symmetrical or asymmetrical profile shapes and / or zero-order diffraction structures.

Weiter bevorzugt handelt es sich bei den Reliefstrukturen um isotrop und/oder anisotrop streuende Mattstrukturen, Blaze-Gitter und/oder im Wesentlichen in Reflexion und/oder in Transmission wirkende Reliefstrukturen, wie beispielsweise Mikrolinsen, Mikroprismen oder Mikrospiegel. The relief structures are further preferably isotropic and / or anisotropically scattering matt structures, blaze gratings and / or relief structures acting essentially in reflection and / or in transmission, such as, for example, microlenses, microprisms or micromirrors.

Es ist möglich, dass eine oder mehrere Dekorschichten der Dekorschichten ein oder mehrere Flüssigkristallschichten aufweisen, welche vorzugsweise zum einen eine von der Polarisation des einfallenden Lichts abhängige und vorzugsweise zum anderen eine wellenlängenselektive Reflexion und/oder Transmission einfallenden Lichts abhängig von der Ausrichtung der Flüssigkristalle generieren.It is possible that one or more decorative layers of the decorative layers have one or more liquid crystal layers, which preferably generate light that is dependent on the polarization of the incident light and preferably wavelength-selective reflection and / or transmission incident light depending on the orientation of the liquid crystals.

Vorzugsweise werden die ein oder mehreren Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder das zumindest eine Pixelarray in einen Dünnschichtaufbau, insbesondere in einen Fabry-Perot-Schichtaufbau, eingebracht. Bevorzugt wird der Dünnschichtaufbau auf die ein oder mehreren Strukturen und/oder auf das zumindest eine Pixelarray aufgebracht. Insbesondere weist ein derartiger Fabry-Perot-Schichtaufbau, insbesondere zumindest bereichsweise, zumindest eine erste semitransparente Absorberschicht, zumindest eine transparente Abstandsschicht und zumindest eine zweite semitransparente Absorberschicht und/oder eine opake Reflexionsschicht auf. All diese Schichten des Dünnschichtaufbaus können insbesondere jeweils vollflächig oder partiell vorliegen und die transparenten und opaken bzw. semitransparenten Bereiche insbesondere entweder überlappen oder nicht überlappen.The one or more structures of the one or more structures and / or the at least one pixel array are preferably introduced into a thin-layer structure, in particular into a Fabry-Perot layer structure. The thin-layer structure is preferably applied to the one or more structures and / or to the at least one pixel array. In particular, such a Fabry-Perot layer structure, in particular at least in regions, has at least one first semitransparent absorber layer, at least one transparent spacer layer and at least one second semitransparent absorber layer and / or an opaque reflection layer. All of these layers of the thin-layer structure can in particular be present over the entire area or partially and the transparent and opaque or semitransparent areas in particular either overlap or do not overlap.

Insbesondere weist die erste semitransparente Absorberschicht eine Schichtdicke zwischen 5 nm und 50 nm auf. Die Absorberschicht weist bevorzugt Aluminium, Silber, Kupfer, Zinn, Nickel, Inconel, Titan und/oder Chrom auf. Vorzugsweise weist die erste semitransparente Absorberschicht im Fall von Aluminium und Chrom eine Schichtdicke zwischen 5 nm und 15 nm auf.In particular, the first semi-transparent absorber layer has a layer thickness between 5 nm and 50 nm. The absorber layer preferably has aluminum, silver, copper, tin, nickel, inconel, titanium and / or chromium. In the case of aluminum and chromium, the first semi-transparent absorber layer preferably has a layer thickness between 5 nm and 15 nm.

Vorzugsweise weist die transparente Abstandsschicht eine Schichtdicke zwischen 100 nm und 800 nm und insbesondere zwischen 300 nm und 600 nm auf. Die Abstandsschicht besteht bevorzugt aus organischem Material, insbesondere aus Polymer, und/oder aus anorganischem Al2O3, SiO2 und/oder MgF2.The transparent spacer layer preferably has a layer thickness between 100 nm and 800 nm and in particular between 300 nm and 600 nm. The spacer layer preferably consists of organic material, in particular of polymer, and / or of inorganic Al 2 O 3 , SiO 2 and / or MgF 2 .

Weiter bevorzugt besteht die transparente Abstandsschicht aus einer gedruckten Polymerschicht, welche insbesondere mittels Tiefdruck, Schlitzgießen oder im Inkjet-Druck aufgebracht wird.The transparent spacer layer further preferably consists of a printed polymer layer, which is applied in particular by means of gravure printing, slot casting or inkjet printing.

Weiter ist es auch möglich, ein oder mehrere optisch variable Elemente 1a und/oder das streifenförmige Sicherheitselement 1b' und/oder ein oder mehrere Schichten der vorstehenden Schichten und/oder das Substrat 10 beispielsweise mit folgenden weiteren Schichten und/oder Mehrschichtaufbauten zu kombinieren und/oder zu verwenden: Ein oder mehrere HRI-Schichten umfassend ZnS, TiO2, etc., insbesondere gedampft, gesputtert oder mittels Chemical Vapor Deposition (CVD) vollflächig oder partiell aufgebracht; ein oder mehrere HRI- oder LRI-Lackschichten (beispielsweise für optische Effekte in Transmission), insbesondere mittels Tiefdruck vollflächig oder partiell aufgebracht; ein oder mehrere Metalle umfassend Aluminium, Silber, Kupfer, und/oder Chrom und/oder Legierungen hieraus, insbesondere vollflächig oder partiell gedampft, gesputtert, insbesondere mittels Kathodenzerstäubung, und/oder als Tinte umfassend Nanopartikel gedruckt; ein oder mehrere Interferenzschichtaufbauten umfassend HLH (Abfolge bestehend aus HRI-Schicht, LRI-Schicht, HRI-Schicht), HLHLH (Abfolge bestehend aus HRI-Schicht, LRI-Schicht, HRI-Schicht, LRI-Schicht, HRI-Schicht); Abfolgen bestehend aus ein oder mehreren HRI- und LRI-Schichten, wobei sich die HRI- und LRI-Schichten vorzugsweise einander abwechseln, sowie Fabry-Perot-Dreischichtsystem, insbesondere umfassend ein oder mehrere PVD- und/oder CVD-Abstandsschicht; ein oder mehrere Flüssigkristallschichten; Einsatz als belichteter Master in einem Volumenhologramm; Überlagerung mit ein oder mehreren lasierenden Farbschichten; und/oder Einsatz als Vorlage für die Erzeugung von Aztec-Strukturen und/oder zur Konvertierung zu einem mehrstufigem Phasenrelief, welches zumindest einen Farbeffekt bereitstellt.It is also possible to use one or more optically variable elements 1a and / or the strip-shaped security element 1b ' and / or one or more layers of the above layers and / or the substrate 10th For example, to combine and / or use with the following additional layers and / or multilayer structures: One or more HRI layers comprising ZnS, TiO 2 , etc., in particular vaporized, sputtered or applied over the entire surface or partially by means of chemical vapor deposition (CVD); one or more HRI or LRI lacquer layers (for example for optical effects in transmission), in particular applied over the entire surface or partially by means of gravure printing; one or more metals comprising aluminum, silver, copper, and / or chromium and / or alloys thereof, in particular fully or partially vaporized, sputtered, in particular by means of sputtering, and / or printed as an ink comprising nanoparticles; one or more interference layer structures comprising HLH (sequence consisting of HRI layer, LRI layer, HRI layer), HLHLH (sequence consisting of HRI layer, LRI layer, HRI layer, LRI layer, HRI layer); Sequences consisting of one or more HRI and LRI layers, the HRI and LRI layers preferably alternating with one another, and Fabry-Perot three-layer system, in particular comprising one or more PVD and / or CVD spacer layers; one or more liquid crystal layers; Use as an exposed master in a volume hologram; Overlay with one or more glazed layers of paint; and / or use as a template for the generation of Aztec structures and / or for conversion to a multi-stage phase relief, which provides at least one color effect.

Insbesondere die Überlagerung mit den ein oder mehreren lasierenden Farbschichten bietet vorteilhafterweise die Möglichkeit, einprägsame und einfach zu erklärende optische Effekte zu generieren. Weiter bevorzugt erscheinen die durch eine Überlagerung mit den ein oder mehreren lasierenden Farbschichten generierten achromatisch gebeugten Effekte des zumindest einen Pixelarray eines optisch variablen Elements monochromatisch in der Farbe, welche durch die ein oder mehreren lasierenden Farbschichten transmittiert wird beziehungsweise von den ein oder mehreren lasierenden Farbschichten nicht herausgefiltert wird. Insbesondere wirken die ein oder mehreren lasierenden Farbschichten als Farbfilter.In particular, the overlay with the one or more glazing color layers advantageously offers the possibility of generating memorable and easy-to-explain optical effects. More preferably, the achromatically diffracted effects of the at least one pixel array of an optically variable element generated by superimposition with the one or more glazing color layers appear monochromatic in the color which is transmitted through the one or more glazing color layers or not from the one or more glazing color layers is filtered out. In particular, the one or more glazing color layers act as color filters.

Vorzugsweise umfassen die zwei optisch variablen Elemente 1a jeweils zumindest ein Pixelarray, wobei jedes der Pixelarrays zwei oder mehrere Pixel aufweist, wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des jeweiligen Pixelarray (2) ein oder mehrere Strukturen aufweisen, und wobei ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung in ein oder mehrere Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen.The two optically variable elements preferably comprise 1a in each case at least one pixel array, each of the pixel arrays having two or more pixels, one or more pixels of the two or more pixels of the respective pixel array ( 2nd ) have one or more structures, and wherein one or more Map, bend and / or scatter structures of the electromagnetic radiation incident on one or more structures in one or more solid angles.

Die 1a verdeutlicht insbesondere die Definition des Raumwinkels unter dem vorzugsweise der Flächeninhalt einer Teilfläche A einer Kugeloberfläche von einer Kugel E verstanden wird, wobei der Flächeninhalt einer Teilfläche A bevorzugt durch das Quadrat des Radius R der Kugel dividiert wird. Die Zahlenwerte des Raumwinkels geben bevorzugt den Winkel α des Lichtkegels im Bezug zur senkrechten z-Achse an. Der Öffnungswinkel Ω gibt bevorzugt die Breite des Lichtkegels in Bezug auf die Gerade im Zentrum des Lichtkegels, in der 1a durch einen Pfeil gekennzeichnet, an. Die Richtung des Lichtkegels in Bezug auf die x- bzw. y-Achse hängt insbesondere von dem anvisierten optischen Effekt ab.The 1a clarifies in particular the definition of the solid angle at which preferably the area of a partial area A a spherical surface of a sphere E is understood, the area of a partial area A preferably by the square of the radius R the ball is divided. The numerical values of the solid angle preferably give the angle α of the light cone in relation to the vertical z-axis. The opening angle Ω gives preferably the width of the light cone in relation to the straight line in the center of the light cone, in the 1a indicated by an arrow. The direction of the light cone with respect to the x or y axis depends in particular on the targeted optical effect.

Vorzugsweise ist ein Verfahren zur Herstellung eines optisch variablen Sicherheitselements, insbesondere der optisch variablen Sicherheitselements 1a, durch folgenden Schritte gekennzeichnet:

  • Bereitstellung zumindest eines virtuellen Pixelarray umfassend zwei oder mehrere virtuelle Pixel;
  • Zuordnung zumindest eines Raumwinkels zu ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray;
  • Anordnung ein oder mehrerer virtueller Feldquellen in und/oder auf zumindest einem Bereich und/oder zumindest ein Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels, wobei der zumindest eine Bereich oder das zumindest eine Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels in einem ersten Abstand zu den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray angeordnet ist;
  • Berechnung ein oder mehrerer virtueller elektromagnetischer Felder ausgehend von den ein oder mehreren virtuellen Feldquellen in einem vorbestimmten Abstand von den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene;
  • Berechnung ein oder mehrerer Phasenbilder für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray aus einem virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeld bestehend aus der Überlagerung der ein oder mehreren virtuellen elektromagnetischen Feldern in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene;
  • Berechnung virtueller Strukturprofile für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray aus den ein oder mehreren Phasenbildern;
  • Ausbildung der virtuellen Strukturprofile der ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarrays in und/oder auf ein Substrat als zumindest ein Pixelarray umfassend zwei oder mehrere Pixel, wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere Strukturen aufweisen, zur Bereitstellung des optisch variablen Elements.
A method for producing an optically variable security element, in particular the optically variable security element, is preferred 1a , characterized by the following steps:
  • Providing at least one virtual pixel array comprising two or more virtual pixels;
  • Assigning at least one solid angle to one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array;
  • Arrangement of one or more virtual field sources in and / or on at least one area and / or at least one segment of the at least one associated solid angle, the at least one area or the at least one segment of the at least one associated solid angle at a first distance from the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array are arranged;
  • Calculation of one or more virtual electromagnetic fields based on the one or more virtual field sources at a predetermined distance from the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array in and / or on the one or more virtual pixels of the two or several virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array;
  • Calculation of one or more phase images for the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array from a virtual total electromagnetic field consisting of the superimposition of the one or more virtual electromagnetic fields in and / or on the one or more virtual pixels the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array;
  • Calculating virtual structure profiles for the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array from the one or more phase images;
  • Formation of the virtual structure profiles of the one or more virtual pixels of the two or more pixels of the at least one virtual pixel array in and / or on a substrate as at least one pixel array comprising two or more pixels, one or more pixels of the two or more pixels of the at least one Pixel array have one or more structures to provide the optically variable element.

Es ist möglich, dass der zumindest eine zugeordnete Raumwinkel und/oder der zumindest eine Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels das Segment S aufspannt, wobei das Segment S insbesondere einem Segment einer Kugel, bevorzugt einem konischen Segment, entspricht, wobei beispielsweise der halbe Öffnungswinkel, insbesondere θ/2 und/oder φ/2, des in der 11 gezeigten Segments S kleiner als 10°, bevorzugt kleiner als 5°, weiter bevorzugt kleiner als 1°, ist.It is possible for the at least one associated solid angle and / or the at least one region of the at least one associated solid angle to be the segment S spanned, the segment S corresponds in particular to a segment of a sphere, preferably a conical segment, with, for example, half the opening angle, in particular θ / 2 and / or φ / 2, of that in the 11 shown segment S is less than 10 °, preferably less than 5 °, more preferably less than 1 °.

Weiter ist es möglich, dass die virtuellen Feldquellen, welche insbesondere in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen des in der 11 oder 12 gezeigten Segments S und/oder auf dem zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels angeordnet sind, in zumindest einer Richtung periodisch und/oder pseudo-zufällig und/oder zufällig auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des in der 11 oder 12 gezeigten Segments S und/oder auf dem zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels angeordnet sind.Furthermore, it is possible for the virtual field sources, which are in particular in and / or on one or more subregions of the field 11 or 12th shown segment S and / or are arranged on the at least one area of the at least one associated solid angle, in at least one direction periodically and / or pseudo-randomly and / or randomly on one or more partial areas of the one or more partial areas of FIG 11 or 12th shown segment S and / or are arranged on the at least one area of the at least one associated solid angle.

Es ist auch möglich, dass die Abstände benachbarter virtueller Feldquellen zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des in der 11 oder 12 gezeigten Segments S und/oder dem zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels liegen, und/oder dass die Abstände benachbarter virtueller Feldquellen insbesondere im Mittel zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des in der 11 oder 12 gezeigten Segments S und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels liegen.It is also possible for the distances between adjacent virtual field sources to be between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm, in and / or on one or more partial areas of the one or more sections of the in the 11 or 12th shown Segments S and / or the at least one area of the at least one associated solid angle, and / or that the distances between adjacent virtual field sources, in particular on average between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm, in and / or on one or more partial areas of the one or more partial areas of the in 11 or 12th shown segment S and / or the at least one region of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es auch möglich, dass die Anordnung der virtuellen Feldquellen, insbesondere der virtuellen Punktfeldquellen, als ein Kreuzraster, bevorzugt einem äquidistanten Kreuzraster, auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des in der 11 oder 12 gezeigten Segments S und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels erfolgt, wobei der Abstand benachbarter virtueller Feldquellen zueinander zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm beträgt und/oder wobei der Winkel zwischen zwei benachbarten virtuellen Feldquellen zueinander, insbesondere relativ zur Position der jeweiligen ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray, kleiner als 1°, vorzugsweise kleiner als 0,5°, ist.Furthermore, it is also possible for the arrangement of the virtual field sources, in particular the virtual point field sources, as a cross-pattern, preferably an equidistant cross-pattern, on one or more partial areas of the one or more partial areas of the 11 or 12th shown segment S and / or the at least one area of the at least one associated solid angle, the distance between adjacent virtual field sources from one another being between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm and / or wherein the angle between two adjacent virtual field sources to one another, in particular relative to the position of the respective one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array, is less than 1 °, preferably less than 0.5 ° .

Vorzugsweise weisen ein oder mehrere virtuelle Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen die Form von Mikrosymbolen auf, insbesondere ausgewählt aus: Buchstabe, Porträt, Bild, alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, geometrische Freiform, Quadrat, Dreieck, Kreis, gekrümmte Linie, Umriss.One or more virtual field sources of the one or more virtual field sources preferably have the shape of microsymbols, in particular selected from: letter, portrait, image, alphanumeric character, character, geometric free form, square, triangle, circle, curved line, outline.

Weiter bevorzugt liegen die lateralen Abmessungen der Mikrosymbole zwischen 0,1° und 10°, insbesondere zwischen 0,2° und 5°.The lateral dimensions of the microsymbols are more preferably between 0.1 ° and 10 °, in particular between 0.2 ° and 5 °.

Bevorzugt sind eine erste Gruppe von ein oder mehreren virtuellen Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen aus einem Abstand von 0,3 m, insbesondere von 0,15 m bis 0,45 m, nicht auf einen Schirm projizierbar und/oder eine zweite Gruppe von ein oder mehreren virtuellen Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen aus einem Abstand von 1,0 m, insbesondere von 0,8 m bis 1,2 m, auf einen Schirm projizierbar.A first group of one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources from a distance of 0.3 m, in particular from 0.15 m to 0.45 m, are preferably not projectable on a screen and / or a second group of one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources can be projected onto a screen from a distance of 1.0 m, in particular from 0.8 m to 1.2 m.

Insbesondere bevorzugt weist das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, die gleiche Intensität und/oder die gleiche Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über den zumindest einen Bereich und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über das Segment S des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels auf.The virtual electromagnetic field, which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, particularly preferably has the same intensity and / or the same intensity distribution over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one area and / or via the at least one segment and / or via the segment S of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welche von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, eine Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über den zumindest einen Bereich und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über das Segment S des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist, welche gaußförmig oder supergaußförmig verteilt ist.Furthermore, it is possible for the virtual electromagnetic field, which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, to distribute an intensity over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one area and / or over the at least one segment and / or over the segment S of the at least one associated solid angle, which is distributed Gaussian or super Gaussian.

Es ist auch möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von zwei oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, unterschiedliche Intensitäten und/oder unterschiedliche Intensitätsverteilungen über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über den zumindest einen Bereich und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über das Segment S des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.It is also possible for the virtual electromagnetic field, which emanates from two or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, to have different intensities and / or different intensity distributions over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one area and / or via the at least one segment and / or via the segment S of the at least one associated solid angle.

Weiter ist es auch möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, eine isotrope oder eine anisotrope Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über den zumindest einen Bereich und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über das Segment S des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.Furthermore, it is also possible for the virtual electromagnetic field, which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, to have an isotropic or anisotropic intensity distribution over the at least one associated solid angle and / or over the at least one area and / or via the at least one segment and / or via the segment S of the at least one associated solid angle.

Insbesondere bilden ein oder mehrere der virtuellen Feldquellen, insbesondere alle der virtuellen Feldquellen, eine virtuelle Punkfeldquelle aus, wobei die virtuelle Punkfeldquelle vorzugsweise eine virtuelle Kugelwelle abstrahlt.In particular, one or more of the virtual field sources, in particular all of the virtual field sources, form a virtual point field source, the virtual point field source preferably emitting a virtual spherical wave.

Vorzugsweise wird das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ausgehend von einer i-ten virtuellen Punktfeldquelle am Ort (xi, yi, zi) wird an zumindest einer Koordinate (xh, yh, zh), insbesondere einer Koordinate (xh, yh, zh=0) = (xh, yh), in und/oder auf ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel 4aa-4dd des zumindest einen virtuellen Pixelarray 4 und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray 4 aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, und/oder beispielsweise in den in den 2, 9, 10, 11, 12 oder 12a gezeigten Pixeln 2aa-2dd, 2aa-2dd, 2ad, 2da, 2da beziehungsweise 2da, mittels der Gleichung U i ( x h , y h ) = e x p ( i k r ) r ,   r = ( x h x i ) 2 + ( y h y i ) 2 + z i 2 ,

Figure DE102018123482A1_0005
berechnet.The virtual electromagnetic field U i is preferably based on an i-th virtual point field source at the location (x i , y i , z i ) and is at least one coordinate (x h , y h , z h ), in particular one coordinate (x h , y h , z h = 0) = (x h , y h ), in and / or on one or more virtual pixels of the two or more virtual ones pixel 4aa-4dd of the at least one virtual pixel array 4th and / or in and / or on the through the at least one virtual pixel array 4th spanned area, in particular plane, and / or for example in the in the 2nd , 9 , 10th , 11 , 12th or 12a shown pixels 2aa-2dd , 2aa-2dd , 2ad , 2da , 2da respectively 2da , using the equation U i ( x H , y H ) = e x p ( i k r ) r , r = ( x H - x i ) 2nd + ( y H - y i ) 2nd + e.g. i 2nd ,
Figure DE102018123482A1_0005
calculated.

Es ist möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen umfasst, welche insbesondere im sichtbaren Spektralbereich von 380 nm bis 780 nm, bevorzugt von 430 nm bis 690 nm, liegen, wobei ein oder mehrere, jeweils benachbarte Wellenlängen der ein oder mehreren Wellenlängen, bevorzugt in dem sichtbaren Spektralbereich, vorzugsweise äquidistant, zueinander beabstandet sind.It is possible that the virtual electromagnetic field U i comprises one or more wavelengths, which are in particular in the visible spectral range from 380 nm to 780 nm, preferably from 430 nm to 690 nm, one or more, respectively adjacent wavelengths of the one or several wavelengths, preferably in the visible spectral range, preferably equidistant, are spaced apart.

Bevorzugt umfasst das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen, welche um einen Faktor 2 bis 40, insbesondere um einen Faktor 3 bis 10, bevorzugt um einen Faktor 4 bis 8, größer sind als ein oder mehrere Wellenlängen einfallender elektromagnetischer Strahlung.The virtual electromagnetic field U i preferably comprises one or more wavelengths, which are by a factor 2nd to 40, in particular by a factor of 3 to 10th , preferably by a factor 4th to 8th , are greater than one or more wavelengths of incident electromagnetic radiation.

Weiter ist es möglich, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen umfasst, welche insbesondere im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Spektralbereich liegen, wobei ein oder mehrere, jeweils benachbarte Wellenlängen der ein oder mehreren Wellenlängen, bevorzugt in dem infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Spektralbereich, vorzugsweise äquidistant, zueinander beabstandet sind.Furthermore, it is possible for the virtual electromagnetic field U i to comprise one or more wavelengths, which are in particular in the infrared, visible and / or ultraviolet spectral range, one or more, in each case adjacent, wavelengths of the one or more wavelengths, preferably in the infrared, visible and / or ultraviolet spectral range, preferably equidistant, are spaced apart.

Vorzugsweise wird das virtuelle elektromagnetische Gesamtfeld Up in und/oder auf ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel 4aa-4dd des zumindest einen virtuellen Pixelarray 4 und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray 4 aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, und/oder beispielsweise in den in den 2, 9, 10, 11, 12 oder 12a gezeigten Pixeln 2aa-2dd, 2aa-2dd, 2ad, 2da, 2da beziehungsweise 2da, mittels der Gleichung U p ( x p , y p ) = U r * ( x p , y p ) i = 1 N p U i ( x p , y p )

Figure DE102018123482A1_0006
berechnet, wobei insbesondere die virtuellen elektromagnetischen Felder Ui ausgehend von i = 1, ..., Np virtuellen Punktfeldquellen an zumindest einer Koordinate (xp, yp, zp=0) = (xp, yp) und/oder insbesondere die optionale Referenzwelle Ur*, bevorzugt die zumindest eine optionale Referenzwelle Ur*, an zumindest einem Punkt oder für die Parameter (xp, yp) in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel 4aa-4dd des zumindest einen virtuellen Pixelarray 4 und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray 4 aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, berechnet werden.The virtual total electromagnetic field U p is preferably in and / or on one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels 4aa-4dd of the at least one virtual pixel array 4th and / or in and / or on the through the at least one virtual pixel array 4th spanned area, in particular plane, and / or for example in the in the 2nd , 9 , 10th , 11 , 12th or 12a shown pixels 2aa-2dd , 2aa-2dd , 2ad , 2da , 2da respectively 2da , using the equation U p ( x p , y p ) = U r * ( x p , y p ) i = 1 N p U i ( x p , y p )
Figure DE102018123482A1_0006
calculated, in particular the virtual electromagnetic fields U i starting from i = 1, ..., N p virtual point field sources at at least one coordinate (x p , y p , z p = 0) = (x p , y p ) and / or in particular the optional reference wave U r *, preferably the at least one optional reference wave U r *, at at least one point or for the parameters (x p , y p ) in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual ones pixel 4aa-4dd of the at least one virtual pixel array 4th and / or in and / or on the through the at least one virtual pixel array 4th spanned area, in particular plane.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Phasenbilder der ein oder mehreren Phasenbilder in ein oder mehrere virtuelle Strukturprofile umgewandelt werden, bevorzugt linear in ein virtuelles Strukturprofil umgewandelt werden, wobei ein Phasenwert von 0 der minimalen Tiefe und ein Phasenwert von 2π der maximalen Tiefe der ausgebildeten ein oder mehreren Strukturen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray entsprechen.It is possible that one or more phase images of the one or more phase images are converted into one or more virtual structure profiles, preferably linearly converted into a virtual structure profile, with a phase value of 0 of the minimum depth and a phase value of 2π of the maximum depth of the formed correspond to one or more structures of one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array.

Weiter ist es möglich, dass das virtuelle Strukturprofil ein oder mehrerer virtueller Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray mittels Laserbelichtung und Entwicklung auf eine mit Photoresist beschichtete Platte und/oder mittels Elektronenstrahl-Lithographie als die ein oder mehreren Strukturen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray ausgebildet wird.Furthermore, it is possible that the virtual structure profile of one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array by means of laser exposure and development on a plate coated with photoresist and / or by means of electron beam lithography as the one or more structures a plurality of pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array is formed.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere in einem oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray umfassten beziehungsweise ausgebildeten Strukturen eine optische Tiefe, insbesondere eine optische Tiefe in Luft, von der halben mittleren Wellenlänge des virtuellen elektromagnetischen Feldes und/oder des virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeldes aufweisen.It is also possible for one or more structures comprised or formed in one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array to have an optical depth, in particular an optical depth in air, of half the average wavelength of the virtual electromagnetic field and / or of the virtual total electromagnetic field.

Weiter bevorzugt ist ein Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments, insbesondere des Sicherheitsdokuments 1d, bevorzugt umfassend ein oder mehrere Schichten, weiter bevorzugt umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente, insbesondere bevorzugt die optisch variablen Elemente 1a, durch die folgenden Schritte gekennzeichnet:

  • Aufbringen und/oder Einbringen ein oder mehrerer optisch variabler Elemente als Laminierfolie und/oder als Prägefolie auf das Sicherheitsdokument und/oder auf eine oder mehrere Schichten des Sicherheitsdokuments und/oder in das Sicherheitsdokument und/oder in ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten des Sicherheitsdokuments.
A method for producing a security document, in particular the security document, is further preferred 1d , preferably comprising one or more layers, further preferably comprising one or more optically variable elements, particularly preferably the optically variable elements 1a , characterized by the following steps:
  • Applying and / or introducing one or more optically variable elements as a laminating film and / or as an embossing film onto the security document and / or onto one or more layers of the security document and / or into the security document and / or into one or more layers of the one or more layers of the security document.

Die 2 zeigt ein Pixelarray in Aufsicht umfassend sechszehn Pixel 2aa-2dd, wobei die Pixel 2aa-2dd als eine 4x4 Matrix angeordnet sind, welche vier Zeilen und vier Spalten aufweist. Die erste Zeile umfasst entlang der Richtung x die Pixel 2aa, 2ab, 2ac, 2ad, die zweite Zeile umfasst entlang der Richtung x die Pixel 2ba, 2bb, 2bc, 2bd, die dritte Zeile umfasst entlang der Richtung x die Pixel 2ca, 2cb, 2cc, 2cd, und die vierte Zeile umfasst entlang der Richtung x die Pixel 2da, 2db, 2dc, 2dd. Die erste Spalte umfasst entlang der Richtung y die Pixel 2da, 2ca, 2ba, 2aa, die zweite Spalte umfasst entlang der Richtung y die Pixel 2db, 2cb, 2bb, 2ab, die dritte Spalte umfasst entlang der Richtung y die Pixel 2dc, 2cc, 2bc, 2ac, und die vierte Spalte umfasst entlang der Richtung y die Pixel 2dd, 2cd, 2bd, 2ad.The 2nd shows a pixel array in supervision comprising sixteen pixels 2aa-2dd , where the pixels 2aa-2dd are arranged as a 4x4 matrix, which has four rows and four columns. The first line comprises the pixels along the direction x 2aa , 2ab , 2ac , 2ad , the second line includes the pixels along the x direction 2ba , 2bb , 2bc , 2bd , the third line comprises the pixels along the direction x 2 approx , 2cb , 2cc , 2cd , and the fourth line comprises the pixels along the direction x 2da , 2db , 2dc , 2dd . The first column comprises the pixels along the y direction 2da , 2 approx , 2ba , 2aa , the second column includes the pixels along the y direction 2db , 2cb , 2bb , 2ab , the third column includes the pixels along the y direction 2dc , 2cc , 2bc , 2ac , and the fourth column includes the pixels along the y direction 2dd , 2cd , 2bd , 2ad .

Die in der 2 gezeigten Pixel 2aa-2dd weisen die gleichen lateralen Abmessungen ΔX entlang der Richtung x und die gleichen lateralen Abmessungen ΔY entlang der Richtung y auf, wobei diese in der durch die Richtungen x und y aufgespannten Ebene jeweils quadratische Formen ausbilden.The in the 2nd shown pixels 2aa-2dd have the same lateral dimensions ΔX along the x direction and the same lateral dimensions ΔY along the direction y, which each form square shapes in the plane spanned by the directions x and y.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere oder alle Pixel der ein zwei oder mehreren Pixel 2aa-2dd gleiche oder zueinander unterschiedliche Formen, insbesondere in der durch das Pixelarray 2 definierten Ebene und/oder in der durch die Richtungen x und y definierten Ebene, ausbilden, welche vorzugsweise jeweils ausgewählt sind aus: Kreisfläche, eiförmige Fläche, Ellipsenfläche, Dreiecksfläche, Quadratfläche, Rechteckfläche, Polygonfläche, Kreisringfläche, Freiformfläche, wobei die zwei oder mehreren Pixel im Falle der Auswahl der Form der Pixel als eine Kreisfläche und/oder eiförmige Fläche insbesondere jeweils ein oder mehrere benachbarte Hintergrundflächen aufweisen, welche bevorzugt auch an benachbarte Pixel angrenzen oder nicht angrenzen. Die Form der Pixel variiert insbesondere polygonal, zufällig oder pseudozufällig. Weiter bevorzugt umfasst das zumindest eine Pixelarray, insbesondere das Pixelarray 2 zwei oder mehrere Pixel, welche vorzugsweise unterschiedliche Formen der vorstehenden Formen umfassen und/oder vorzugsweise unterschiedliche Variationen der Formen der vorstehenden Variationen von Formen aufweisen.It is also possible for one or more or all of the pixels to be a two or more pixels 2aa-2dd the same or different forms, in particular in the pixel array 2nd defined plane and / or in the plane defined by the directions x and y, which are preferably each selected from: circular area, egg-shaped area, elliptical area, triangular area, square area, rectangular area, polygon area, circular ring area, free-form area, the two or more pixels in the case of the selection of the shape of the pixels as a circular area and / or egg-shaped area, in particular each have one or more adjacent background areas, which preferably also adjoin or do not adjoin adjacent pixels. The shape of the pixels in particular varies polygonally, randomly or pseudorandomly. The at least one pixel array further preferably comprises, in particular the pixel array 2nd two or more pixels which preferably comprise different shapes of the above shapes and / or preferably have different variations of the shapes of the above variations of shapes.

Weiter ist es auch möglich, dass ein oder mehrere oder alle Pixel der zwei oder mehreren Pixel 2aa-2dd in unterschiedlichen Richtungen, insbesondere in die unterschiedlichen Richtungen x und y, insbesondere in der durch das Pixelarray 2 definierten Ebene und/oder in der durch die Richtungen x und y definierten Ebene, unterschiedliche laterale Abmessungen aufweisen.Furthermore, it is also possible for one or more or all of the pixels of the two or more pixels 2aa-2dd in different directions, in particular in the different directions x and y, in particular in that through the pixel array 2nd defined plane and / or in the plane defined by the directions x and y, have different lateral dimensions.

Auch ist es möglich, dass ein oder mehrere oder alle Pixel der zwei oder mehreren Pixel 2aa-2dd, insbesondere in der durch das Pixelarray 2 definierten Ebene und/oder in der durch die Richtungen x und y definierten Ebene, unterschiedliche Flächen belegen und/oder einander überlappen und/oder einander nicht überlappen.It is also possible for one or more or all of the pixels of the two or more pixels 2aa-2dd , especially in the by the pixel array 2nd defined plane and / or in the plane defined by the directions x and y, occupy different areas and / or overlap one another and / or do not overlap one another.

Weiter ist es möglich, dass die Anordnung der Pixel 2aa-2dd in dem Pixelarray 2 einer periodischen Funktion folgt. Beispielsweise können die Mittelpunkte der Pixel in einer Zeile oder Spalte des Pixelarray derart angeordnet sein, dass die Mittelpunkte der Pixel jeweils benachbarter Pixel entlang einer durch die Spalte oder Zeile definierten Richtung vorzugsweise gleich beabstandet sind. Die in der 2 gezeigten Pixel 2aa-2dd weisen entlang der Richtungen x oder y jeweils gleiche Abstände zueinander auf, wobei dies insbesondere benachbarte Pixel der Pixel 2aa-2dd betrifft. Weiter bevorzugt sind ein oder mehrere oder alle Pixel der Pixel 2aa-2dd nicht-periodisch oder insbesondere zufällig oder pseudozufällig, in dem Pixelarray 2 und/oder entlang ein oder mehrerer Richtungen und/oder in der durch die Richtungen x und y aufgespannten beziehungsweise definierten Ebene, angeordnet.It is also possible that the arrangement of the pixels 2aa-2dd in the pixel array 2nd follows a periodic function. For example, the center points of the pixels in a row or column of the pixel array can be arranged such that the center points of the pixels of neighboring pixels are preferably equally spaced along a direction defined by the column or row. The in the 2nd shown pixels 2aa-2dd have the same distances from one another along the directions x or y, this being in particular adjacent pixels of the pixels 2aa-2dd concerns. One or more or all of the pixels of the pixels are further preferred 2aa-2dd non-periodically or in particular randomly or pseudorandomly, in the pixel array 2nd and / or along one or more directions and / or in the plane spanned or defined by the directions x and y.

Unter einem Mittelpunkt der Pixel oder einem geometrischen Schwerpunkt der Pixel wird insbesondere bei flächigen Pixeln der Flächenschwerpunkt verstanden, welcher insbesondere bei der Mittelung aller Punkte des zugrundeliegenden Pixels bestimmt wird.A center point of the pixels or a geometric center of gravity of the pixels is understood to mean, in particular in the case of flat pixels, the area center of gravity, which is determined in particular when averaging all points of the underlying pixel.

Eine nicht-periodische Anordnung von Pixeln weist den Vorteil auf, dass störende Diffraktionseffekte, welche aufgrund der Größe beziehungsweise Formen und/oder laterale Abmessungen der Pixel entstehen, reduziert oder unterdrückt, insbesondere vollständig unterdrückt werden können. A non-periodic arrangement of pixels has the advantage that disruptive diffraction effects, which arise due to the size or shapes and / or lateral dimensions of the pixels, can be reduced or suppressed, in particular completely suppressed.

Vorzugsweise betragen die lateralen Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der Pixel 2aa-2dd entlang zumindest einer Richtung, insbesondere entlang der Richtung x und/oder entlang der Richtung y, zwischen 5 µm und 500 µm, insbesondere zwischen 10 µm und 300 µm, insbesondere zwischen 20 µm und 150 µm. The lateral dimensions are preferably one or more pixels of the pixels 2aa-2dd along at least one direction, in particular along the direction x and / or along the direction y, between 5 μm and 500 μm, in particular between 10 μm and 300 μm, in particular between 20 μm and 150 μm.

Derartigen lateralen Abmessungen wohnt der Vorteil inne, dass Pixel bei diesen Größenordnungen der lateralen Abmessungen für das Auge eines menschlichen Betrachters, insbesondere in einem gewöhnlichen oder normalen Leseabstand von circa 300 mm nicht oder kaum optisch auflösbar sind. Gleichzeitig sind die Pixel insbesondere groß genug, dass die vorgesehenen Mikrostrukturen achromatisch wirken können.Such lateral dimensions have the advantage that pixels of these magnitudes of the lateral dimensions are not or only barely optically resolvable for the eye of a human viewer, in particular at a normal or normal reading distance of approximately 300 mm. At the same time, the pixels are especially large enough that the microstructures provided can have an achromatic effect.

Es ist möglich, dass die Pixelgröße und/oder ein oder mehrere laterale Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der Pixel 2aa-2dd in dem zumindest einen Pixelarray 2 in ein oder mehrere Richtungen, insbesondere in eine oder beide Richtungen der Richtungen x und y, bevorzugt bereichsweise, nicht-periodisch, periodisch, pseudozufällig oder zufällig variieren oder nicht variieren. Bevorzugt variieren die Pixelgrößen in zumindest einem Pixelarray in mindestens eine Raumrichtung maximal um ±70% um einen Mittelwert, bevorzugt maximal um ±50%. Vorzugsweise variieren ein oder mehrere laterale Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel 2aa-2dd in dem zumindest einen Pixelarray 2 in eine oder mehrere Raumrichtungen, insbesondere in eine oder beide Richtungen der Richtungen x und y, in dem zumindest einen Pixelarray 2 zumindest bereichsweise maximal um ±70%, bevorzugt maximal um ±50%, um einem Mittelwert herum, wobei der Mittelwert in einer oder mehrere Richtungen insbesondere zwischen 5 µm und 500 µm, insbesondere zwischen 10 µm und 300 µm, insbesondere zwischen 20 µm und 150 µm, liegt.It is possible that the pixel size and / or one or more lateral dimensions of one or more pixels of the pixels 2aa-2dd in the at least one pixel array 2nd vary or not vary in one or more directions, in particular in one or both directions of the directions x and y, preferably in regions, non-periodically, periodically, pseudorandomly or accidentally. The pixel sizes in at least one pixel array preferably vary in at least one spatial direction by a maximum of ± 70%, preferably by a maximum of ± 50%. Preferably, one or more lateral dimensions of one or more pixels of the two or more pixels vary 2aa-2dd in the at least one pixel array 2nd in one or more spatial directions, in particular in one or both directions of the directions x and y, in the at least one pixel array 2nd at least in some areas by a maximum of ± 70%, preferably a maximum of ± 50%, around an average, the average in one or more directions in particular between 5 μm and 500 μm, in particular between 10 μm and 300 μm, in particular between 20 μm and 150 µm.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Pixel der Pixel 2aa-2dd in dem zumindest einen Pixelarray 2, insbesondere zumindest bereichsweise, periodisch, nicht-periodisch, fraktal, zufällig und/oder pseudozufällig in dem zumindest einen Pixelarray 2 angeordnet sind.It is also possible that one or more pixels of the pixels 2aa-2dd in the at least one pixel array 2nd , in particular at least in certain areas, periodically, non-periodically, fractally, randomly and / or pseudo-randomly in the at least one pixel array 2nd are arranged.

Die 3 zeigt das in der 2 gezeigte Pixelarray 2 umfassend die Pixel 2ca, 2cb, 2cc, 2cd, entlang des Schnitts Q in einem Querschnitt. Das Pixel 2ca umfasst die Struktur 3ca, das Pixel 2cb umfasst die Struktur 3cb, das Pixel 2cc umfasst die Struktur 3cc und das Pixel 2cd umfasst die Struktur 3cd. Die Strukturen 3ca, 3cb, 3cc und 3cd sind auf ein Substrat 10 appliziert, aufgebracht und/oder abgeformt, wobei das Substrat insbesondere ein oder mehrere Schichten aufweist.The 3rd shows that in the 2nd shown pixel array 2nd encompassing the pixels 2 approx , 2cb , 2cc , 2cd , along the cut Q in a cross section. The pixel 2 approx includes the structure 3 approx , the pixel 2cb includes the structure 3cb , the pixel 2cc includes the structure 3cc and the pixel 2cd includes the structure 3cd . The structures 3 approx , 3cb , 3cc and 3cd are on a substrate 10th applied, applied and / or molded, the substrate in particular having one or more layers.

Es ist möglich, dass das optisch variable Element 1a ein oder mehrere Schichten umfasst, wobei insbesondere das zumindest eine Pixelarray 2 auf oder in zumindest einer Schicht der ein oder mehreren Schichten angeordnet ist und wobei vorzugsweise ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten ausgewählt sind aus: HRI-Schicht, insbesondere Schicht umfassend HRI- und/oder LRI-Lackschicht, Metallschicht, Interferenzschicht, insbesondere Interferenzschichtabfolgen, bevorzugt HLH oder HLHLH, weiter bevorzugt Fabry-Perot-Dreischichtsystem oder -Mehrschichtsystem, Flüssigkristallschicht, Farbschicht, insbesondere lasierende Farbschicht.It is possible that the optically variable element 1a comprises one or more layers, in particular the at least one pixel array 2nd is arranged on or in at least one layer of one or more layers, and preferably one or more layers of the one or more layers are selected from: HRI layer, in particular layer comprising HRI and / or LRI lacquer layer, metal layer, interference layer, in particular Interference layer sequences, preferably HLH or HLHLH, more preferably Fabry-Perot three-layer system or multi-layer system, liquid crystal layer, color layer, in particular glazing color layer.

Vorzugsweise weist jede der Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd eine beschränkte maximale Strukturtiefe Δz, insbesondere eine maximale Strukturtiefe, auf, welche in der 3 für alle Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd in den entsprechenden Pixeln 2ca, 2cb, 2cc, 2cd insbesondere gleich ist.Preferably, each of the structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd a limited maximum structure depth Δz , in particular a maximum structure depth, which in the 3rd for all structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd in the corresponding pixels 2 approx , 2cb , 2cc , 2cd in particular is the same.

Weiter bevorzugt weisen ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd eine beschränkte maximale Strukturtiefe Δz auf, wobei die maximale Strukturtiefe Δz insbesondere kleiner als 35 µm, bevorzugt kleiner als 20 µm, weiter bevorzugt kleiner gleich 15 µm, noch weiter bevorzugt kleiner gleich 7 µm, insbesondere bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.More preferably, one or more structures of the one or more structures have 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd a limited maximum structure depth Δz on, the maximum structure depth Δz in particular less than 35 μm, preferably less than 20 μm, more preferably less than or equal to 15 μm, even more preferably less than or equal to 7 μm, particularly preferably less than or equal to 2 μm.

Hierbei ergibt sich insbesondere der Vorteil, dass die Dicke beziehungsweise die Gesamtdicke des optisch variablen Elements 1a umfassend das zumindest eine Pixelarray 2 für die Anwendung in Sicherheitsdokumenten 1d, insbesondere auf Banknoten, ID-Karten oder Pässen, kompatibel zu halten.This has the particular advantage that the thickness or the total thickness of the optically variable element 1a comprising the at least one pixel array 2nd for use in security documents 1d , especially on banknotes, ID cards or passports.

Insbesondere ist die Gesamtdicke von folienbasierten optisch variablen Elementen 1a, bevorzugt Sicherheitselementen und/oder Dekorelemente, vorzugsweise auf Banknoten, ID-Karten oder Pässen, kleiner als 35 µm. Es ist bevorzugt, dass die Gesamtdicke kleiner als 20 µm ist, um insbesondere ein Verbiegen von Banknoten aufgrund einer applizierten Folie umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente 1a vorteilhaft zu unterdrücken. Weiter ist es möglich, dass die beschränkte maximale Strukturtiefe aller Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd der entsprechenden Pixel 2ca, 2cb, 2cc, 2cd derart zu beschränken, dass die Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd vorzugsweise mittels eines Replikationsverfahrens appliziert, aufgebracht und/oder abgeformt werden.In particular, the total thickness of film-based optically variable elements 1a , preferably security elements and / or decorative elements, preferably on banknotes, ID cards or passports, smaller than 35 µm. It is preferred that the total thickness is less than 20 μm, in particular to prevent bank notes from being bent due to an applied film comprising one or more optically variable elements 1a to suppress advantageously. It is also possible that the limited maximum structure depth of all structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd the corresponding pixels 2 approx , 2cb , 2cc , 2cd so restrict that the structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd preferably applied, applied and / or molded by means of a replication process.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd derart ausgebildet sind, dass die beschränkte maximale Strukturtiefe Δz der ein oder mehreren Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd für mehr als 50% der Pixel, insbesondere für mehr als 70% der Pixel, bevorzugt für mehr als 90% der Pixel, des zumindest einen Pixelarray 2 kleiner gleich 15 µm, insbesondere kleiner gleich 7 µm, bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.It is possible that one or more structures of the one or more structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd are designed such that the limited maximum structure depth Δz of one or more structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd for more than 50% of the pixels, in particular for more than 70% of the pixels, preferably for more than 90% of the pixels, of the at least one pixel array 2nd is less than or equal to 15 µm, in particular less than or equal to 7 µm, preferably less than or equal to 2 µm.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd derart ausgebildet sind, dass die maximale Strukturtiefe Δz der ein oder mehrerer Strukturen für alle Pixel kleiner gleich 15 µm, insbesondere kleiner gleich 7 µm, bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd are designed such that the maximum structure depth Δz which is one or more structures for all pixels less than or equal to 15 µm, in particular less than or equal to 7 µm, preferably less than or equal to 2 µm.

Eine beschränkte maximale Strukturtiefe von kleiner oder gleich 15 µm ist vorteilhafterweise insbesondere kompatibel zu Verfahren umfassend UV-Replikationen (UV = ultraviolett) und eine beschränkte maximale Strukturtiefe kleiner oder gleich 7 µm, insbesondere kleiner oder gleich 2 µm, ist vorteilhafterweise insbesondere kompatibel zu Verfahren umfassend UV-Replikation und/oder thermische Replikationen.A limited maximum structure depth of less than or equal to 15 µm is advantageously particularly compatible with methods comprising UV replications (UV = ultraviolet) and a limited maximum structure depth less than or equal to 7 µm, in particular less than or equal to 2 µm, is advantageously particularly compatible with methods comprising UV replication and / or thermal replications.

Auch ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd, eine Gitterperiode insbesondere kleiner als die Hälfte, bevorzugt kleiner als dem Drittel, weiter bevorzugt kleiner als dem Viertel, der maximalen lateralen Abmessung der Pixel 2ca, 2cb, 2cc, 2cd, bevorzugt jedem der Pixel 2ca, 2cb, 2cc, 2cd, aufweisen.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd , a lattice period, in particular less than half, preferably less than a third, more preferably less than a quarter, of the maximum lateral dimension of the pixels 2 approx , 2cb , 2cc , 2cd , preferably each of the pixels 2 approx , 2cb , 2cc , 2cd , exhibit.

Weiter ist es insbesondere möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3ca, 3cb, 3cc, 3cd zueinander unterschiedlich oder ähnlich oder gleich oder identisch sind.Furthermore, it is in particular possible that one or more structures of the one or more structures 3 approx , 3cb , 3cc , 3cd are different or similar to one another or the same or identical to one another.

Die 4 zeigt das in der 2 gezeigte Pixelarray 2, bis auf, dass jedem der Pixel 2aa-2dd eine entsprechende Struktur 3aa-3dd zugeordnet ist beziehungsweise dass jedes der Pixel 2aa-2dd eine entsprechende Struktur 3aa-3dd umfasst, wobei die Strukturen 3aa-3dd als hologrammartige, insbesondere einfallendes Licht achromatisch abbildende, beugende und/oder streuende, Strukturen ausgebildet sind.The 4th shows that in the 2nd shown pixel array 2nd , except that each of the pixels 2aa-2dd an appropriate structure 3aa-3dd is assigned or that each of the pixels 2aa-2dd an appropriate structure 3aa-3dd includes, the structures 3aa-3dd are designed as hologram-like, in particular incident, achromatic imaging, diffractive and / or scattering structures.

Insbesondere weisen ein oder mehrere oder alle der Strukturen der Strukturen 3aa-3dd zueinander unterschiedliche optische Eigenschaften auf.In particular, one or more or all of the structures have the structures 3aa-3dd mutually different optical properties.

Es ist möglich, dass jedem Pixel der Pixel 2aa-2dd des zumindest einen Pixelarray 2 ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd zugeordnet sind, wobei die einem Pixel zugeordneten ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung in ein oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, wobei insbesondere den ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkeln jeweils eine Richtung, vorzugsweise eine vorbestimmte Richtung, zugeordnet ist.It is possible for every pixel to be the pixel 2aa-2dd of the at least one pixel array 2nd one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd are assigned, wherein the one or more structures incident to a pixel associated electromagnetic radiation image, bend and / or scatter in one or more predetermined solid angles, in particular one direction, preferably a predetermined direction, is assigned to each of the one or more predetermined solid angles.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd und/oder ein oder mehrere zugeordnete Strukturen der ein oder mehreren zugeordneten Strukturen 3aa-3dd in ein oder mehrere Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder ein oder mehrere vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, welche sich insbesondere voneinander unterscheiden, wobei ein oder mehrere auf eine um einen Pixel angeordnete Kugel, insbesondere eine Einheitskugel mit einem Einheitsradius von 1, projizierte Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel ein oder mehrere, insbesondere gleiche oder verschiedenartige, Formen ausbilden, welche vorzugsweise jeweils ausgewählt sind aus: Kreisfläche, Ellipsenfläche, Dreiecksfläche, Quadratfläche, Rechteckfläche, Polygonfläche, Kreisringfläche, wobei insbesondere ein oder mehrere Formen der ein oder mehreren Formen offen oder geschlossen sind und/oder aus ein oder mehreren Teilformen bestehen und wobei vorzugsweise zumindest zwei Teilformen miteinander verbunden oder überlagert sind.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd and / or one or more assigned structures of the one or more assigned structures 3aa-3dd map, bend and / or scatter in one or more solid angles of the one or more solid angles and / or one or more predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles, which differ in particular from one another, one or more on a sphere arranged around a pixel, in particular form a unit sphere with a unit radius of 1, projected solid angles of the one or more solid angles and / or predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles form one or more, in particular identical or different, shapes which are preferably each selected from: circular surface, elliptical surface, Triangular area, square area, rectangular area, polygon area, circular area, in particular one or more shapes of the one or more shapes are open or closed and / or consist of one or more partial shapes and preferably at least two partial shapes are connected or superimposed are.

Die 5 zeigt das in der 2 gezeigte Pixelarray 2, bis auf, dass jedem der Pixel 2aa-2dd eine entsprechende Struktur 3aa-3dd zugeordnet ist beziehungsweise dass jedes der Pixel 2aa-2dd eine entsprechende Struktur 3aa-3dd umfasst, wobei die Strukturen 3aa-3dd als Gitterstrukturen ausgebildet sind, welche einfallendes Licht achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen. Insbesondere sind die Gitterstrukturen lineare Gitterstrukturen, welche bevorzugt ein blaze-artiges Gitterprofil aufweisen.The 5 shows that in the 2nd shown pixel array 2nd , except that each of the pixels 2aa-2dd an appropriate structure 3aa-3dd is assigned or that each of the pixels 2aa-2dd an appropriate structure 3aa-3dd includes, the structures 3aa-3dd are designed as lattice structures which achromatically image, bend and / or scatter incident light. In particular, the lattice structures are linear lattice structures, which preferably have a blaze-like lattice profile.

Bevorzugt sind die achromatisch beugenden Gitterstrukturen in ein oder mehreren Pixeln der Pixel 2aa-2dd in dem zumindest einen Pixelarray 2 mit weiteren Mikrostrukturen und/oder Nanostrukturen, insbesondere linearen Gitterstrukturen, bevorzugt Kreuzgitterstrukturen, weiter bevorzugt Subwellenlängengitterstrukturen, überlagert. The achromatic diffractive grating structures in one or more pixels of the pixels are preferred 2aa-2dd in the at least one pixel array 2nd with other microstructures and / or nanostructures, in particular linear grating structures, preferably cross-grating structures, more preferably sub-wavelength grating structures.

Es ist möglich, dass die ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd, welche als achromatisch beugende Gitterstrukturen, vorzugsweise als Blaze-Gitter, ausgebildet sind, insbesondere eine Gitterperiode von größer als 3 µm, bevorzugt von größer als 5 µm, aufweisen und/oder insbesondere jedes Pixel der Pixel 2aa-2dd mindestens zwei Gitterperioden der achromatisch beugenden Strukturen umfassen.It is possible that the one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd , which are designed as achromatic diffractive grating structures, preferably as blaze gratings, in particular have a grating period of greater than 3 μm, preferably greater than 5 μm, and / or in particular each pixel of the pixels 2aa-2dd comprise at least two grating periods of the achromatic diffractive structures.

Die 6 zeigt das in der 2 gezeigte Pixelarray 2, bis auf, dass jedem Pixel der Pixel 2aa-2dd eine entsprechende Struktur 3aa-3dd zugeordnet ist beziehungsweise dass jedes Pixel der Pixel 2aa-2dd eine entsprechende Struktur 3aa-3dd umfasst, wobei die Strukturen 3aa-3dd als Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen und/oder Teilbereiche bzw. Ausschnitte von Fresnelschen Mikrolinsenstrukturen ausgebildet sind, wobei insbesondere die Gitterlinien der Fresnelschen Mikrolinsenstrukturen als gekrümmte Gitterlinien ausgebildet sind und/oder Gitterlinien mit variierenden Gitterperioden aufweisen und/oder wobei insbesondere jedes Pixel der zwei oder mehreren Pixel, vorzugsweise in zumindest einer Raumrichtung, mindestens zwei Gitterperioden umfasst.The 6 shows that in the 2nd shown pixel array 2nd , except that every pixel the pixel 2aa-2dd an appropriate structure 3aa-3dd is assigned or that each pixel of the pixels 2aa-2dd an appropriate structure 3aa-3dd includes, the structures 3aa-3dd are designed as Fresnel microlens structures and / or partial areas or sections of Fresnel microlens structures, in particular the grating lines of the Fresnel microlens structures are designed as curved grating lines and / or have grating lines with varying grating periods and / or in particular each pixel of the two or more pixels, preferably comprises at least two lattice periods in at least one spatial direction.

Es ist möglich, dass die Fresnelschen Mikrolinsenstrukturen als Blaze-Gitter ausgestaltet sind, wobei die Gitterlinien insbesondere gekrümmt sind und/oder wobei die Gitterperiode vorzugsweise variiert.It is possible that the Fresnel microlens structures are designed as a blaze grating, the grating lines in particular being curved and / or the grating period preferably varying.

Insbesondere sind ein oder mehrere oder alle der Strukturen weniger bevorzugt als Mikrospiegel und/oder Mikroprismen, insbesondere weniger bevorzugt als achromatisch refraktiv abbildende Mikrostrukturen ausgebildet.In particular, one or more or all of the structures are formed less preferably as micromirrors and / or microprisms, particularly less preferably as achromatic refractive imaging microstructures.

Es ist weiter möglich, dass mehr als 70% der Pixel, insbesondere mehr als 90% der Pixel, der Pixel 2aa-2dd in dem zumindest einen Pixelarray 2 ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd aufweisen, welche eine Anzahl von mindestens 2 Erhebungen, insbesondere mindestens 3 Erhebungen, bevorzugt mindestens 4 pro Pixel, aufweisen.It is further possible that more than 70% of the pixels, in particular more than 90% of the pixels, of the pixels 2aa-2dd in the at least one pixel array 2nd one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd have a number of at least 2nd Elevations, in particular at least 3 elevations, preferably at least 4 per pixel.

Weiter bevorzugt weisen ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen eine Anzahl von mindestens 2 Erhebungen, insbesondere mindestens 3 Erhebungen, bevorzugt mindestens 4 Erhebungen pro Pixel, auf.More preferably, one or more structures of the one or more structures have a number of at least 2nd Elevations, in particular at least 3 elevations, preferably at least 4 elevations per pixel.

Vorzugsweise liegen zumindest zwei Gitterperioden der als Blaze-Gitter und/oder Fresnelschen Mikrolinsenstrukturen ausgebildeten Strukturen in zumindest einem Pixel, wobei die Gitterperiode hierbei vorzugsweise kleiner als die Hälfte der maximalen lateralen Abmessung eines jeden Pixel ist.Preferably, at least two grating periods of the structures designed as blaze gratings and / or Fresnel microlens structures lie in at least one pixel, the grating period here being preferably less than half the maximum lateral dimension of each pixel.

Auch ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd als chromatische Gitterstrukturen, insbesondere als lineare Gitter, bevorzugt als lineare Gitter mit einem sinusförmigen Profil, und/oder als Nanotext und/oder als Spiegelflächen ausgebildet sind. Dadurch ist es insbesondere möglich, farbige Designelemente und/oder versteckte Merkmale in das achromatisch erscheinende Pixelarray zu integrieren.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd are designed as chromatic grating structures, in particular as linear grids, preferably as linear grids with a sinusoidal profile, and / or as nanotext and / or as mirror surfaces. This makes it possible in particular to integrate colored design elements and / or hidden features into the achromatic appearing pixel array.

Die 7 zeigt das in der 2 gezeigte Pixelarray 2, bis auf, dass die Pixel 2aa, 2ad und 2cc jeweils ein lineares Gitter 30aa, 30ad beziehungsweise 30cc, insbesondere umfassend ein sinusförmiges Profil, aufweisen.The 7 shows that in the 2nd shown pixel array 2nd , except for that pixel 2aa , 2ad and 2cc each a linear grid 30aa , 30ad respectively 30cc , in particular comprising a sinusoidal profile.

Es ist möglich, die achromatischen Effekte der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd durch die Verwendung beziehungsweise Applikation oder Abformung weiterer Strukturen durch weitere optische Effekte zu erweitern und hierbei die Fälschungssicherheit vorteilhaft weiter zu erhöhen.It is possible to get the achromatic effects of one or more structures 3aa-3dd to expand through the use or application or molding of further structures by further optical effects and thereby advantageously further increase the security against forgery.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd, bevorzugt in ein oder mehrere Pixel der Pixel 2aa-2dd, als Subwellenlängengitter, insbesondere als lineare Subwellenlängengitter, ausgebildet sind, wobei bevorzugt die Gitterperiode der Subwellenlängengitter, insbesondere der linearen Subwellenlängengitter, weniger als 450 nm beträgt und/oder wobei insbesondere zumindest ein derartiges Pixelarray einen für einen Betrachter erfassbaren optisch variablen Effekt beim Kippen und/oder Drehen des optisch variablen Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray bereitstellt. Insbesondere handelt es sich bei einem derartigen optisch variablen Effekt um ein oder mehrere von einem Betrachter und/oder von einem Sensor erfassbare Icons, Logos, Bilder und/oder weitere Motive, welche vorzugsweise bei einem starken Kippen des optisch variablen Elements 1a aufleuchten.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd , preferably in one or more pixels of the pixels 2aa-2dd , are designed as a sub-wavelength grating, in particular as a linear sub-wavelength grating, the grating period of the sub-wavelength grating, in particular the linear sub-wavelength grating, preferably being less than 450 nm and / or in particular at least one such pixel array having an optically variable effect which can be detected by a viewer when tilting and / or or rotating the optically variable element and / or the at least one pixel array. In particular, such an optically variable effect is one or more by one viewer and / or icons, logos, images and / or other motifs that can be detected by a sensor, which are preferably used when the optically variable element is strongly tilted 1a light up.

Auch ist es weiter möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd, insbesondere zumindest partiell, mit einer Metallschicht versehen sind und/oder einfallende elektromagnetische Strahlung absorbieren, wobei vorzugsweise ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel in Reflexion, bevorzugt in direkter Reflexion, für einen Betrachter in dunkelgrau bis schwarz erfassbar sind.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd , in particular at least partially, are provided with a metal layer and / or absorb incident electromagnetic radiation, preferably one or more pixels of the two or more pixels being able to be detected in reflection, preferably in direct reflection, for a viewer in dark gray to black.

Die 8 zeigt das in der 2 gezeigte Pixelarray 2, bis auf, dass die Pixel 2aa, 2ad und 2cc jeweils eine Licht absorbierende, insbesondere einfallendes Licht absorbierende, Mikrostruktur 31aa, 31ad beziehungsweise 31cc aufweisen, wobei diese absorbierenden Mikrostrukturen 31aa, 31ad beziehungsweise 31cc für einen Betrachter und/oder einen Sensor vorzugsweise dunkelgrau bis schwarz erscheinen. Insbesondere sind die absorbierenden Mikrostrukturen 31aa, 31ad beziehungsweise 31cc als Subwellenlängen-Kreuzgitter, insbesondere mit einer Gitterperiode kleiner gleich 450 nm, bevorzugt kleiner gleich 350 nm, ausgebildet. Derartige Pixel mit dunkelgrau bis schwarz erscheinenden Mikrostrukturen ermöglichen es insbesondere, den Kontrast des Erscheinungsbildes des Pixelarrays zu erhöhen und beispielsweise die Illusion von Schattenwürfen zu erzeugen.The 8th shows that in the 2nd shown pixel array 2nd , except for that pixel 2aa , 2ad and 2cc each have a light-absorbing, in particular incident light-absorbing, microstructure 31aa , 31ad respectively 31cc have, these absorbent microstructures 31aa , 31ad respectively 31cc for a viewer and / or a sensor preferably appear dark gray to black. In particular, the absorbent microstructures 31aa , 31ad respectively 31cc as a sub-wavelength cross grating, in particular with a grating period of less than or equal to 450 nm, preferably less than or equal to 350 nm. Such pixels with dark gray to black appearing microstructures make it possible in particular to increase the contrast of the appearance of the pixel array and, for example, to create the illusion of shadow casts.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd als Mikrostrukturen ausgebildet sind, welche Licht absorbieren, insbesondere einfallendes Licht absorbieren, und/oder bei Normalbetrachtung beziehungsweise in direkter Reflexion für einen Betrachter und/oder einen Sensor farbig erscheinen.It is also possible that one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd are designed as microstructures, which absorb light, in particular absorb incident light, and / or appear colored for a viewer and / or a sensor when viewed normally or in direct reflection.

Es ist möglich, weiterer Strukturen durch weitere optische Effekte zu erweitern und hierbei die Fälschungssicherheit vorteilhaft weiter zu erhöhen.It is possible to expand further structures with further optical effects and advantageously further increase the security against forgery.

Weiter ist es möglich, die achromatischen Effekte der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd durch die Verwendung beziehungsweise Applikation oder Abformung von lichtabsorbierenden Mikrostrukturen in ein oder mehreren Pixel der Pixel 2aa-2dd des zumindest einen Pixelarray 2 um Kontrastlinien oder Kontrastflächen in einem Design zu ergänzen. Hierbei ist es beispielsweise möglich, ein optisch auf einen Betrachter und/oder einen Sensor hervorspringendes oder zuspringendes 3D-Objekt, wie beispielsweise ein Portrait, welches durch die, einfallendes Licht gerichtet abbildenden, beugenden und/oder streuenden Strukturen 3aa-3dd in den entsprechenden Pixeln der Pixel 2aa-2dd generiert wird, durch die für einen Betrachter und/oder Sensor dunkel bis schwarz erscheinenden Pixel umfassend die lichtabsorbierenden Mikrostrukturen kontrastreicher erfassbar zu gestalten. Insbesondere ist es möglich, dass die dunkel erscheinenden Pixel beispielweise einen von einem Betrachter erwarteten Schattenwurf kontrastreicher darstellen.It is also possible to get the achromatic effects of one or more structures 3aa-3dd through the use or application or molding of light-absorbing microstructures in one or more pixels of the pixels 2aa-2dd of the at least one pixel array 2nd to add contrast lines or contrast surfaces in one design. In this case, it is possible, for example, to have a 3D object optically protruding or jumping towards a viewer and / or a sensor, such as a portrait, for example, which is reflected, diffracted and / or scattered by the incident light 3aa-3dd in the corresponding pixels of the pixels 2aa-2dd is generated by the pixels, which appear dark to black to a viewer and / or sensor, to make the light-absorbing microstructures comprehensible with higher contrast. In particular, it is possible that the dark-appearing pixels represent, for example, a shadow cast expected by a viewer with higher contrast.

Insbesondere weisen ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd eine HRI-Schicht auf, wobei insbesondere die Pixel, welche die ein oder mehreren Strukturen aufweisen, in Reflexion für einen Betrachter und/oder Sensor farbig erfassbar sind.In particular, one or more structures have the one or more structures 3aa-3dd an HRI layer, wherein in particular the pixels which have the one or more structures can be detected in color by a viewer and / or sensor in reflection.

Vorzugsweise ist es möglich, in einer von einem Design vorbestimmten Anzahl von Pixeln der Pixel 2aa-2dd Mikrostrukturen vorzusehen, welche, insbesondere bei einer zumindest partiellen Beschichtung mit zumindest einer hochbrechenden dielektrischen Schicht, insbesondere zumindest einer HRI-Schicht, vorzugsweise bei Normalbetrachtung beziehungsweise in direkter Reflexion farbig, beispielsweise rot oder grün, bei Erfassung durch einen Betrachter und/oder einen Sensor erscheinen. Derartige Mikrostrukturen sind bevorzugt als lineare Subwellenlängengitter ausgebildet, wobei die farbigen Pixel umfassend die derartigen Mikrostrukturen beispielsweise in einem Portrait für einen Betrachter und/oder Sensor grün erfassbare Pupillen generieren.It is preferably possible to design the number of pixels predetermined by a design 2aa-2dd To provide microstructures which, in particular in the case of an at least partial coating with at least one high-index dielectric layer, in particular at least one HRI layer, preferably appear in color, for example red or green, when viewed normally or in direct reflection, when detected by a viewer and / or a sensor . Such microstructures are preferably designed as linear sub-wavelength gratings, the colored pixels comprising the microstructures of this type, for example in a portrait for a viewer and / or sensor, generating green pupils.

Die 9 zeigt einen Ausschnitt eines Pixelarray 2 umfassend sechszehn Pixel 2aa-2dd in einer perspektivischen Draufsicht, wobei sich das Pixelarray in der durch die Richtungen x und y aufgespannten Ebene erstreckt. Weiter ist die Einfallsrichtung eines einfallenden Lichts 6 und die Ausfallsrichtungen ausfallenden Lichts 20aa-20dd für die entsprechenden Pixel 2aa-2dd in der 9 gezeigt. Das ausfallende Licht 20aa-20dd strahlt insbesondere in den Halbraum ab, welcher insbesondere durch die Ebene des Pixelarrays definiert ist, wobei das einfallende Licht 6 vorzugsweise aus einer Richtung dieses Halbraums einfällt. Das einfallende Licht 6 wird insbesondere achromatisch in die entsprechenden Richtungen des ausfallenden Lichts 20aa-20dd als ausfallendes Licht 20aa-20dd gebeugt. Hierbei wird das einfallende Licht 6 insbesondere pseudo-zufällig in beliebige Raumrichtungen als ausfallendes Licht 20aa-20dd in oder an jedem Pixel 2aa-2dd, bevorzugt individuell in oder an jedem Pixel 2aa-2dd umfassend eine jeweilige Struktur 3aa-3dd, achromatisch abgebildet, gebeugt und/oder gestreut.The 9 shows a section of a pixel array 2nd comprising sixteen pixels 2aa-2dd in a perspective top view, the pixel array extending in the plane spanned by the directions x and y. Next is the direction of incidence of an incident light 6 and the directions of the outgoing light 20aa-20dd for the corresponding pixels 2aa-2dd in the 9 shown. The falling light 20aa-20dd emits in particular in the half-space, which is defined in particular by the plane of the pixel array, the incident light 6 preferably occurs from one direction of this half space. The incident light 6 becomes achromatic in particular in the corresponding directions of the incident light 20aa-20dd as a falling light 20aa-20dd hunched. This is the incident light 6 especially pseudo-randomly in any spatial direction as light falling out 20aa-20dd in or at every pixel 2aa-2dd , preferably individually in or on each pixel 2aa-2dd comprehensive a respective structure 3aa-3dd , depicted achromatically, bent and / or scattered.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen 3aa-3dd, bevorzugt in den entsprechenden Pixeln der Pixel 2aa-2dd, einfallende elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallendes Licht 6, pseudo-zufällig oder zufällig derart in alle Raumrichtungen abbilden, beugen und/oder streuen, dass ein oder mehrere Pixel des Pixelarrays 2 in Reflexion für einen Betrachter und/oder einen Sensor vorzugsweise isotrop weiß, bevorzugt isotrop achromatisch, erfassbar ist. It is possible that one or more structures of the one or more structures 3aa-3dd , preferably in the corresponding pixels of the pixels 2aa-2dd , incident electromagnetic radiation, especially incident light 6 , pseudo-randomly or randomly in such a way in all spatial directions, bend and / or scatter that one or more pixels of the pixel array 2nd in reflection for a viewer and / or a sensor, preferably isotropically white, preferably isotropically achromatic, can be detected.

Die 10 zeigt einen vergrößerten Ausschnitt des in der 9 gezeigten Pixelarray 2, welcher beispielsweise einen Pixel 2ad, umfassend Licht abbildenden, beugenden und/oder streuenden Strukturen 3ad, umfasst, welcher einfallendes Licht beziehungsweise einfallende elektromagnetische Strahlung als ausfallendes Licht 20ad in eine vorbestimmte Richtung und/oder in einem vorbestimmten Raumwinkel abbildet, beugt und/oder streut. Hierbei verlaufen die Bahnen und/oder Propagationsrichtungen des ausfallenden Lichts 20ad vorzugsweise parallel zueinander.The 10th shows an enlarged section of the in the 9 shown pixel array 2nd which, for example, is a pixel 2ad , comprising light-imaging, diffractive and / or scattering structures 3ad , which includes incident light or incident electromagnetic radiation as the emerging light 20ad images, bends and / or scatters in a predetermined direction and / or in a predetermined solid angle. The paths and / or directions of propagation of the outgoing light run here 20ad preferably parallel to each other.

Es ist auch möglich, dass das auf das Pixelarray 2 einfallende Licht beziehungsweise die einfallende elektromagnetische Strahlung als ausfallendes Licht 2aa-2dd lediglich in zumindest einem Bereich, insbesondere ein oder mehreren zumindest teilweise zusammenhängenden oder nicht zusammenhängenden und/oder zumindest teilweise überlappenden oder nicht überlappenden Bereichen, der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel pseudo-zufällig oder zufällig abgebildet, gebeugt und/oder gestreut wird. Hierdurch wird vorteilhafterweise in diesen Bereichen und/oder vorbestimmten Raumwinkeln die Helligkeit und/oder Intensität des ausfallenden Lichts beziehungsweise der ausfallenden elektromagnetischen Strahlung erhöht, wobei insbesondere der von einem Betrachter und/oder Sensor erfassbare Effekt, bevorzugt visuelle Effekt, besser erfassbar bei schwachen Beleuchtungsbedingungen ist.It is also possible that this is on the pixel array 2nd incident light or the incident electromagnetic radiation as outgoing light 2aa-2dd only in at least one area, in particular one or more at least partially contiguous or non-contiguous and / or at least partially overlapping or non-overlapping areas, which is pseudo-randomly or randomly imaged, diffracted and / or scattered one or more predetermined solid angles. This advantageously increases the brightness and / or intensity of the outgoing light or the outgoing electromagnetic radiation in these areas and / or predetermined solid angles, in particular the effect that can be detected by a viewer and / or sensor, preferably a visual effect, can be better detected in weak lighting conditions .

Weiter ist es auch möglich, bei einer starken Einschränkung, insbesondere ein oder mehrerer Öffnungswinkel, ein oder mehrere der vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel in zumindest einer Richtung, einen asymmetrischen und/oder dynamischen Weiss-Effekt zu erzeugen. Hierbei werden die Öffnungswinkel der vorbestimmten Raumwinkel vorzugsweise auf kleiner +/-10°, bevorzugt kleiner +/-5°, weiter bevorzugt +/-3°, insbesondere in zumindest eine Richtung, beschränkt.Furthermore, it is also possible, in the case of a severe restriction, in particular one or more opening angles, to produce one or more of the predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles in at least one direction, an asymmetrical and / or dynamic white effect. Here, the opening angles of the predetermined solid angles are preferably limited to less than +/- 10 °, preferably less than +/- 5 °, more preferably +/- 3 °, in particular in at least one direction.

Eine Zusammenfassung der wichtigsten Strukturparameter sowie von Wertebereichen dieser Parameter ist in Tabelle 1 aufgelistet. Strukturparameter Bereiche Bevorzugte Bereiche Besonders bevorzugte Bereiche Laterale Abmessungen eines Pixels 5 µm bis 500 µm 10 µm bis 300 µm 20 µm bis 150 µm und/oder ΔX und/oder ΔY Beschränkte maximale Strukturtiefe ≤ 15 µm ≤ 4 µm ≤ 2 µm Abstände benachbarter virtueller Feldquellen 0,001 m bis 100 m 0,1 m bis 5 m 0,25 bis 2 m Fokuslänge Mikrolinse 0,04 mm bis 5 mm 0,06 mm bis 3 mm 0,1 mm bis 2 mm Anzahl Erhebungen pro Pixel ≥2 ≥3 ≥4 A summary of the most important structural parameters and the value ranges of these parameters is listed in Table 1. Structural parameters Areas Preferred areas Particularly preferred areas Lateral dimensions of a pixel 5 µm to 500 µm 10 µm to 300 µm 20 µm to 150 µm and / or Δ X and / or Δ Y Limited maximum structure depth ≤ 15 µm ≤ 4 µm ≤ 2 µm Distances between neighboring virtual field sources 0.001 m to 100 m 0.1 m to 5 m 0.25 to 2 m Focus length micro lens 0.04 mm to 5 mm 0.06 mm to 3 mm 0.1 mm to 2 mm Number of surveys per pixel ≥2 ≥3 ≥4

Die 11 zeigt ein vergrößerten Ausschnitt des in der 6 gezeigten Pixelarrays 2 umfassend den Pixel 2da, in welchem zumindest eine Struktur 3da als Fresnelsche Mikrolinsenstruktur abgeformt ist, wobei einfallendes Licht beziehungsweise einfallende elektromagnetische Strahlung von der Struktur 3da auf ein oder mehrere Punkte und/oder ein oder mehrere Flächen im Raum senkrecht zu der durch das Pixelarray 2 aufgespannten Ebene und/oder zu der durch die Richtungen x und y aufgespannten Ebene abgebildet, gebeugt und/oder gestreut, insbesondere fokussiert wird. Die 11 ist lediglich schematisch und nicht maßstabsgetreu.The 11 shows an enlarged section of the in the 6 pixel arrays shown 2nd encompassing the pixel 2da in which at least one structure 3da is shaped as a Fresnel microlens structure, with incident light or incident electromagnetic radiation from the structure 3da on one or more points and / or one or more areas in space perpendicular to that through the pixel array 2nd spanned plane and / or to the plane spanned by the directions x and y is mapped, diffracted and / or scattered, in particular focused. The 11 is only schematic and not to scale.

Es ist weiter auch möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als Mikrolinsen, insbesondere Fresnelsche Mikrolinsen, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Fokuslänge der ein oder mehreren Strukturen zwischen 0,04 mm bis 5 mm, insbesondere 0,06 mm bis 3 mm, bevorzugt 0,1 mm bis 2 mm, beträgt und/oder wobei insbesondere die Fokuslänge in einer Richtung x und/oder y durch die Gleichung f x ,y = Δ x , y / 2 tan ( ϕ x ,y / 2 )

Figure DE102018123482A1_0007
bestimmt ist, wobei bevorzugt Δx,y die jeweilige laterale Abmessung ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays in die Richtung x beziehungsweise in die Richtung y ist und ϕx,y der jeweilige Raumwinkel in die Richtung x beziehungsweise in die Richtung y ist, in welche die ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallendes Licht, abbilden, beugen und/oder streuen.Furthermore, it is also possible for one or more structures of the one or more structures to be designed as microlenses, in particular Fresnel microlenses, the focus length of the one or more structures in particular being between 0.04 mm to 5 mm, in particular 0.06 mm to 3 mm, preferably 0, 1 mm to 2 mm, and / or in particular the focus length in a direction x and / or y by the equation f x , y = Δ x , y / 2nd tan ( ϕ x , y / 2nd )
Figure DE102018123482A1_0007
is determined, wherein Δ x, y is preferably the respective lateral dimension of one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array in the direction x or in the direction y and ϕ x, y is the respective solid angle in the direction x or in is the direction y in which the one or more structures, electromagnetic radiation, in particular incident light, image, diffract and / or scatter.

Weiter ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen als Zylinderlinse ausgebildet sind, wobei insbesondere die Fokuslänge der ein oder mehreren Strukturen unendlich groß ist.It is also possible for one or more structures of the one or more structures to be designed as a cylindrical lens, the focus length of the one or more structures in particular being infinitely long.

Insbesondere bestimmen die Größen und/oder die lateralen Abmessungen der Pixel und/oder der zugeordneten Raumwinkel die entsprechenden Fokuslängen.In particular, the sizes and / or the lateral dimensions of the pixels and / or the associated solid angles determine the corresponding focus lengths.

Die 12 zeigt einen vergrößerten Ausschnitt des in der 6 gezeigten Pixelarrays 2 umfassend den Pixel 2da, in welchem zumindest eine Struktur 3da als Fresnelsche Mikrolinsenstruktur abgeformt ist, wobei einfallendes Licht beziehungsweise einfallende elektromagnetische Strahlung von der Struktur 3da auf ein oder mehrere Punkte oder ein oder mehrere Flächen im Raum, insbesondere nicht senkrecht, zu der durch das Pixelarray 2 aufgespannten Ebene und/oder zu der durch die Richtungen x und y aufgespannten Ebene sondern in einem Winkel α zu der Flächennormalen f der vorstehenden Ebenen in eine Richtung R abgebildet, gebeugt und/oder gestreut, insbesondere fokussiert wird.The 12th shows an enlarged section of the in the 6 pixel arrays shown 2nd encompassing the pixel 2da in which at least one structure 3da is shaped as a Fresnel microlens structure, with incident light or incident electromagnetic radiation from the structure 3da to one or more points or one or more surfaces in space, in particular not perpendicular to that through the pixel array 2nd spanned plane and / or to the plane spanned by the directions x and y but at an angle α to the surface normal f the previous levels in one direction R is depicted, bent and / or scattered, in particular focused.

Hierbei ist der Radius der Kugel E insbesondere gleich der Fokushöhe f. Die Fresnelschen Mikrolinsenstruktur ist vorzugsweise für eine Wellenlänge von 550 nm, insbesondere einen Wellenlängenbereich von 450 nm bis 650 nm, des einfallenden Lichts berechnet beziehungsweise ausgelegt.Here is the radius of the sphere E especially equal to the focus height f . The Fresnel microlens structure is preferably calculated or designed for a wavelength of 550 nm, in particular a wavelength range from 450 nm to 650 nm, of the incident light.

Die 12a zeigt einen vergrößerten Ausschnitt des in der 6 gezeigten Pixelarrays 2 umfassend den Pixel 2da, in welchem zumindest eine Struktur 3da als Fresnelsche Mikrolinsenstruktur abgeformt ist, wobei einfallendes Licht beziehungsweise einfallende elektromagnetische Strahlung von der Struktur 3da auf ein oder mehrere Punkte oder ein oder mehrere Flächen im Raum, insbesondere nicht senkrecht, zu der durch das Pixelarray 2 aufgespannten Ebene und/oder zu der durch die Richtungen x und y aufgespannten Ebene, sondern in einem Winkel α zu der Flächennormalen f der vorstehenden Ebenen in eine Richtung R abgebildet, gebeugt und/oder gestreut, insbesondere fokussiert wird.The 12a shows an enlarged section of the in the 6 pixel arrays shown 2nd encompassing the pixel 2da in which at least one structure 3da is shaped as a Fresnel microlens structure, with incident light or incident electromagnetic radiation from the structure 3da to one or more points or one or more surfaces in space, in particular not perpendicular to that through the pixel array 2nd spanned plane and / or to the plane spanned by the directions x and y, but at an angle α to the surface normal f the previous levels in one direction R is depicted, bent and / or scattered, in particular focused.

Insbesondere wird in und/oder auf den in den 11, 12 und 12a gezeigten Segmenten S zumindest ein virtuelles Pixelarray umfassend zwei oder mehrere virtuelle Pixel bereitgestellt, wobei vorzugsweise jedem der ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray zumindest ein Raumwinkel zugeordnet wird. Die halben Öffnungswinkel des in der 11 gezeigten zugeordneten Raumwinkels, welcher durch die Linien 20da begrenzt wird, betragen beispielsweise θ/2 und φ/2. In den 11, 12 und 12a ist vorzugsweise jeweils ein virtueller Pixel den jeweiligen Pixeln 2da zugeordnet.In particular, in and / or in the 11 , 12th and 12a shown segments S at least one virtual pixel array comprising two or more virtual pixels is provided, preferably at least one solid angle being assigned to each of the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array. Half the opening angle of the in the 11 shown associated solid angle, which by the lines 20da is limited, for example, are θ / 2 and φ / 2. In the 11 , 12th and 12a is preferably a virtual pixel of the respective pixels 2da assigned.

Weiter bevorzugt werden ein oder mehrere virtuelle Feldquellen in und/oder auf den in den 11, 12 und 12a gezeigten Segmenten S angeordnet, wobei insbesondere die in den 11, 12 und 12a gezeigten Segmente S jeweils in ersten Abständen zu den jeweiligen virtuellen Pixeln angeordnet sind, wobei die Position und/oder Ausrichtung des jeweiligen virtuellen Pixel in den 11, 12 beziehungsweise 12a vorzugsweise jeweils der Position und/oder Ausrichtung der in den 11, 12 und 12a gezeigten jeweiligen Pixel 2da entspricht.One or more virtual field sources in and / or on the in the 11 , 12th and 12a shown segments S arranged, in particular those in the 11 , 12th and 12a shown segments S are each arranged at first distances from the respective virtual pixels, the position and / or orientation of the respective virtual pixel in the 11 , 12th or 12a preferably each of the position and / or orientation of the in the 11 , 12th and 12a shown respective pixels 2da corresponds.

Vorzugsweise werden ein oder mehrere virtuelle elektromagnetische Felder ausgehend von den ein oder mehreren virtuellen Feldquellen, insbesondere angeordnet in den in den 11, 12 und 12a gezeigten Segmenten S, in einem vorbestimmten Abstand von ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, berechnet.Preferably, one or more virtual electromagnetic fields are arranged starting from the one or more virtual field sources, in particular arranged in the 11 , 12th and 12a shown segments S , at a predetermined distance from one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array.

Vorzugsweise werden ein oder mehrere Phasenbilder für ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray aus einem virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeld bestehend aus der Überlagerung der ein oder mehreren virtuellen elektromagnetischen Feldern in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, berechnet, wobei die jeweiligen Ebenen in den 11, 12 und 12a insbesondere den durch die jeweiligen Pixel 2da aufgespannten Ebenen entsprechen.One or more phase images for one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array are preferably composed of a virtual total electromagnetic field consisting of the superimposition of the one or more virtual electromagnetic fields in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the area spanned by the at least one virtual pixel array, in particular plane, the respective planes being calculated in the 11 , 12th and 12a especially by the pixels 2da correspond to spanned levels.

Weiter bevorzugt werden virtuelle Strukturprofile für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray aus den ein oder mehreren Phasenbildern berechnet.Virtual structure profiles for the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array are further preferably calculated from the one or more phase images.

Insbesondere bevorzugt werden die virtuellen Strukturprofile der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarrays in und/oder auf ein Substrat als zumindest ein Pixelarray umfassend zwei oder mehrere Pixel, wobei die jeweiligen in den 11, 12 und 12a gezeigten Pixel 2da des zumindest einen Pixelarray ein oder mehrere Strukturen 3da aufweisen, zur Bereitstellung eines optisch variablen Elements ausgebildet.Particularly preferred are the virtual structure profiles of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array in and / or on a substrate as at least one pixel array comprising two or more pixels, the respective ones in the 11 , 12th and 12a shown pixels 2da of the at least one pixel array one or more structures 3da have, designed to provide an optically variable element.

Die 13 zeigt beispielhaft ein Design umfassend ein 3D-Modell des Portraits 9 des Mathematikers und Physikers Carl Friedrich Gauß. Die sechs Varianten in dem oberen Teil der Figur weisen jeweils einen von links nach rechts zunehmenden Öffnungswinkel der Raumwinkel auf, um welchen die entsprechenden Mikrostrukturen des zugrundeliegenden Pixelarrays einfallendes Licht beziehungsweise einfallende elektromagnetische Strahlung um die jeweils vorbestimmten Raumwinkel verbreitert abbilden, beugen und/oder streuen. Insbesondere betragen die Öffnungswinkel der jeweiligen zugeordneten Raumwinkel, in welche die entsprechenden Strukturen das einfallende Licht verbreitert abbilden, von links nach rechts: 0,5°, 1,25°, 2,5°, 5°, 7,5°, 10°.The 13 shows an example of a design comprising a 3D model of the portrait 9 of the mathematician and physicist Carl Friedrich Gauß. The six variants in the upper part of the figure each have an opening angle of solid angles increasing from left to right, around which the corresponding microstructures of the underlying pixel array depict, diffuse and / or scatter incident light or incident electromagnetic radiation by the respectively predetermined solid angles. In particular, the opening angles of the respective associated solid angles into which the corresponding structures represent the incident light broadened, from left to right: 0.5 °, 1.25 °, 2.5 °, 5 °, 7.5 °, 10 ° .

Insbesondere generiert ein kleiner und/oder kleinerer Öffnungswinkel der vorbestimmten Raumwinkel einen für einen Betrachter und/oder Sensor erfassbaren 3D-Effekt mit glatt erscheinender Oberfläche des Portraits beziehungsweise eines Motivs. Bevorzugt generiert ein großer und/oder größerer Öffnungswinkel der Raumwinkel einen für einen Betrachter und/oder Sensor erfassbaren 3D-Effekt mit stark matt erscheinenden Oberflächen des Portraits beziehungsweise eines Motivs. Diese gesteuerte Mattigkeit kann als Designelement verwendet werden, beispielsweise um die Spitze eines als 3D-Effekt dargestellten Berges schneebedeckt wirken zu lassen.In particular, a small and / or smaller opening angle of the predetermined solid angles generates a 3D effect that can be detected by a viewer and / or sensor and has a smooth-appearing surface of the portrait or of a motif. A large and / or larger opening angle of the solid angles preferably generates a 3D effect that can be detected by an observer and / or sensor and has surfaces of the portrait or a motif that appear strongly matt. This controlled mattness can be used as a design element, for example to make the top of a mountain appear as snow-covered as a 3D effect.

Die unteren Teile der 13 zeigen Mikroskopaufnahmen von Ausschnitten der zugrundeliegenden Pixelarrays der in dem oberen Teil der 13 gezeigten Portraits in unterschiedlichen Vergrößerungen der jeweiligen Bereiche. Insbesondere sind die von den in den Pixelarrays angeordneten Pixel umfassenden Strukturen erfassbar.The lower parts of the 13 show microscopic images of sections of the underlying pixel arrays in the upper part of the 13 portraits shown in different magnifications of the respective areas. In particular, the structures comprising the pixels arranged in the pixel arrays can be detected.

Insbesondere führt eine Veränderung der vorbestimmten Raumwinkel in welche die Pixel das einfallende Licht abbilden, beugen und/oder streuen, vorzugsweise zu einer deutlichen Veränderung der zugrundeliegenden Strukturen und mit größer werdendem Öffnungswinkeln insbesondere zu einer deutlichen Abweichung von geordneten bzw. periodischen Strukturen.In particular, a change in the predetermined solid angles in which the pixels represent, diffract and / or scatter the incident light preferably leads to a clear change in the underlying structures and, with increasing opening angles, in particular to a clear deviation from ordered or periodic structures.

Die 14 zeigt beispielhaft eine derartige Veränderung einer Struktur eines ausgewählten Pixels des in 13 gezeigten Designs, wobei sich die Struktur von links nach rechts mit größer werdendem Öffnungswinkel verändert.The 14 shows an example of such a change in the structure of a selected pixel of FIG 13 shown designs, whereby the structure changes from left to right with increasing opening angle.

Es ist möglich, dass die als achromatische Mikrostruktur ausgebildeten Strukturen in ein oder mehreren oder allen Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray mit weiteren Mikrostrukturen und/oder Nanostrukturen überlagert sind. Beispiele für derartige weitere Mikrostrukturen und/oder Nanostrukturen sind lineare Gitterstrukturen, Kreuzgitterstrukturen, insbesondere Subwellenlängengitterstrukturen. Hierbei ist es möglich, eine Kombination des von den achromatischen Strukturen generierten achromatischen Effektes mit einem von Subwellenlängengitterstrukturen generierten Farbeffekt, insbesondere mit sogenannten Nullte-Beugungsordnung-Farbeffekten, zu erzielen. Beispiele für derartige Nullte-Beugungsordnung-Farbeffekte sind insbesondere sogenannte resonante Gitter im Falle einer HRI-Beschichtung oder Gitter mit Effekten auf Grundlage von Plasmonenresonanz im Falle von Metallbeschichtungen, insbesondere Aluminiumbeschichtung. In beiden genannten Fällen entsteht der optische Effekt des zumindest einen Pixelarrays insbesondere in der Farbe der überlagerten Subwellenlängengitterstrukturen-Effekte. Die Gitterperiode für die resonanten Gitter, die mit HRI beschichtet sind, liegt bevorzugt im Bereich von 200 nm bis 500 nm. Ferner sind die Subwellenlängengitterstrukturen der resonanten Gitter bevorzugt lineare Gitter.It is possible for the structures embodied as an achromatic microstructure to be overlaid with one or more or all pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array with further microstructures and / or nanostructures. Examples of such further microstructures and / or nanostructures are linear grating structures, cross-grating structures, in particular sub-wavelength grating structures. Here it is possible to achieve a combination of the achromatic effect generated by the achromatic structures with a color effect generated by sub-wavelength grating structures, in particular with so-called zero-order diffraction color effects. Examples of such zero-order diffraction color effects are, in particular, so-called resonant gratings in the case of an HRI coating or gratings with effects based on plasmon resonance in the case of metal coatings, in particular aluminum coatings. In In both of the cases mentioned, the optical effect of the at least one pixel array arises in particular in the color of the superimposed sub-wavelength grating structure effects. The grating period for the resonant gratings coated with HRI is preferably in the range from 200 nm to 500 nm. Furthermore, the sub-wavelength grating structures of the resonant gratings are preferably linear gratings.

Weiter ist es möglich, alternativ zur Aufteilung zumindest eines Pixelarray oder einer Fläche in Pixel mit unterschiedlichen zugeordneten und/oder vorbestimmten Raumwinkeln, Flächen oder benachbarte Pixel insbesondere mit identischen oder nahezu identischen Struktur und/oder Mikrostrukturen zu belegen.It is also possible, as an alternative to dividing at least one pixel array or a surface into pixels with different assigned and / or predetermined solid angles, to cover surfaces or neighboring pixels, in particular with identical or almost identical structure and / or microstructures.

Die 15 zeigt eine Anordnung von Pixeln eines Pixelarrays 2 umfassend entsprechende Strukturen, welche insbesondere derart ausgebildet ist, dass ein von einem Betrachter und/oder Sensor erfassbares Fine Line Movement („Bewegung dünner oder feiner Linien“) generiert wird, wobei die Breite der erfassbaren Linien vorzugsweise von den Größen und/oder lateralen Abmessungen der Pixel abhängig ist.The 15 shows an arrangement of pixels of a pixel array 2nd comprising corresponding structures, which is designed in particular in such a way that a fine line movement (“movement of thin or fine lines”) that can be detected by a viewer and / or sensor is generated, the width of the detectable lines preferably depending on the sizes and / or lateral dimensions the pixel is dependent.

In dem in der 15 gezeigten optisch variablen Element sind die Strukturen in den einzelnen linienförmig angeordneten Gruppen von Pixeln G derart ausgestaltet, dass diese insbesondere einfallendes Licht in unterschiedliche Raumrichtungen und/oder in unterschiedliche vorbestimmte Raumwinkel abbilden, wobei vorzugsweise durch Kippen eines derartigen optisch variablen Elements in Abhängigkeit der Betrachtungssituation und/oder Betrachtungsrichtung und/oder des einfallenden Lichts und/oder der Einfallsrichtung des einfallenden Lichts jeweils benachbarte linienförmig angeordnete Gruppen von Pixeln G, insbesondere in Abhängigkeit von der Kipprichtung, nacheinander, insbesondere achromatisch, aufleuchten.In the in the 15 The optically variable element shown, the structures in the individual linearly arranged groups of pixels G are configured in such a way that they represent, in particular, incident light in different spatial directions and / or in different predetermined solid angles, preferably by tilting such an optically variable element depending on the viewing situation and / or the viewing direction and / or the incident light and / or the incident direction of the incident light, adjacent linear groups of pixels G, one after the other, in particular achromatic, in particular depending on the tilt direction.

Es ist auch möglich, dass ein oder mehrere linienförmig angeordneten Gruppen von Pixeln ausgelassen werden und/oder unter einem zufälligen Winkel aufleuchten, wobei das Aufleuchten der linienförmig angeordneten Gruppen von Pixel vorzugsweise in einer beliebigen Abfolge generiert wird. Insbesondere sind auch achromatische Fine Line Morphing Effekte („Bewegung und/oder Formveränderung dünner oder feiner Linien“) generierbar, welche vorzugsweise von einem Bertachter und/oder einem Sensor erfassbar sind.It is also possible for one or more groups of pixels arranged in a line to be left out and / or to light up at a random angle, the lighting of the groups of pixels arranged in a line being preferably generated in any sequence. In particular, achromatic fine line morphing effects (“movement and / or shape change of thin or fine lines”) can also be generated, which can preferably be detected by a viewer and / or a sensor.

Weiter ist es auch möglich, ein oder mehrere Effekte der folgenden, von einem Betrachter und/oder einem Sensor erfassbare Effekte zu generieren: Virtuell auf einen Betrachter und/oder Sensor hervorstehende oder zurückspringende Freiformen; virtuell vor oder hinter der durch das optisch variable Element aufgespannten Ebene schwebende Formen; achromatisches Fine Line Movement und Transformation; achromatische Bewegung, insbesondere lineare und/oder radiale achromatische Bewegung; achromatischer Bild-Flip, insbesondere zweifache, dreifache oder mehrfache Flips und/oder bevorzugt Animationen umfassend mehrere Motive, vorzugsweise Bilder; ein oder mehrere für einen Betrachter und/oder Sensor isotrop matt erscheinende Flächen; ein oder mehrere für einen Betrachter und/oder Sensor anisotrop matt erscheinende Flächen; ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays umfassend versteckte Effekte, wie beispielsweise Nanotext; Hidden-Motiv (Versteckte beziehungsweise vor einem Betrachter und/oder Sensor in einem vorbestimmten Abstand und/oder in ein oder mehreren vorbestimmten Wellenlängenbereichen verborgenes Motiv), insbesondere Hidden-Text (Versteckter beziehungsweise vor einem Betrachter und/oder Sensor in einem vorbestimmten Abstand und/oder in ein oder mehreren vorbestimmten Wellenlängenbereichen verborgener Text) und/oder Hidden-Bilder (Versteckte beziehungsweise vor einem Betrachter und/oder Sensor in einem vorbestimmten Abstand und/oder in ein oder mehreren vorbestimmten Wellenlängenbereichen verborgene Bilder) in ein oder mehreren vorbestimmten Abbildungsebenen beziehungsweise in ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkeln und/oder Abständen zu dem optisch variablen Element.Furthermore, it is also possible to generate one or more effects of the following effects which can be detected by a viewer and / or a sensor: free forms which protrude or return to a viewer and / or sensor; forms floating in front of or behind the plane spanned by the optically variable element; achromatic fine line movement and transformation; achromatic movement, in particular linear and / or radial achromatic movement; achromatic image flip, in particular double, triple or multiple flips and / or preferably animations comprising a plurality of motifs, preferably images; one or more surfaces that appear isotropically matt to an observer and / or sensor; one or more surfaces appearing anisotropically matt to an observer and / or sensor; one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array comprising hidden effects, such as nanotext; Hidden motif (motif hidden or in front of a viewer and / or sensor at a predetermined distance and / or in one or more predetermined wavelength ranges), in particular hidden text (concealment or in front of a viewer and / or sensor at a predetermined distance and / or in one or more predetermined wavelength ranges hidden text) and / or hidden images (hidden or in front of a viewer and / or sensor at a predetermined distance and / or in one or more predetermined wavelength ranges hidden images) in one or more predetermined imaging levels or in one or more predetermined solid angles and / or distances from the optically variable element.

Es ist möglich, dass zur Erzeugung eines zweifachen Flip in einer ersten Gruppe von Pixeln des Pixelarray eine erste Gruppe von Strukturen, welche einfallendes Licht insbesondere achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen, beispielsweise Computer-generierte Hologrammstrukturen, abzuformen, wobei diese Strukturen der ersten Gruppe von Strukturen einfallendes Licht unter einem ersten Neigungswinkel von circa 30° zur Oberfläche der durch das optisch variable Element aufgespannten Ebene achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen. Vorzugsweise bilden die Pixel der ersten Gruppe von Pixeln hierbei ein erstes Motiv aus.It is possible that, in order to generate a double flip in a first group of pixels of the pixel array, a first group of structures which map incident light, in particular achromatically, diffract and / or scatter, for example computer-generated hologram structures, these structures being the first Imagine, diffuse and / or scatter group of structures incident light at a first angle of inclination of approximately 30 ° to the surface of the plane spanned by the optically variable element. The pixels of the first group of pixels preferably form a first motif.

Weiter ist es möglich, dass zur Erzeugung eines zweifachen Flip in einer zweiten Gruppe von Pixeln des Pixelarray eine zweite Gruppe von Strukturen, welche einfallendes Licht insbesondere achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen, beispielsweise Computer-generierte Hologrammstrukturen, abzuformen, wobei diese Strukturen der zweiten Gruppe von Strukturen einfallendes Licht unter einem zweiten Neigungswinkel von circa 5° zur Oberfläche der durch das optisch variable Element aufgespannten Ebene achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen. Vorzugsweise bilden die Pixel der zweiten Gruppe von Pixeln ein zweites Motiv aus.Furthermore, it is possible for a second group of structures which map incident light, in particular achromatically, to bend and / or scatter, for example computer-generated hologram structures, to produce a double flip in a second group of pixels of the pixel array, these structures being the second group of structures, incident light at a second inclination angle of approximately 5 ° to the surface of the plane spanned by the optically variable element, achromatic, diffract and / or scatter. The pixels of the second group of pixels preferably form a second motif.

Auch ist es möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder die einem Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray zugeordneten Strukturen zugeordneten Strukturen elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung, in einem Raumwinkel, insbesondere einem punktförmigen Raumwinkel, abbilden, beugen und/oder streuen. It is also possible for one or more structures of the one or more structures and / or the structures associated with a pixel of the two or more pixels of the at least one pixel array to be assigned to the structures associated with electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation, at a solid angle, in particular a point-shaped solid angle , image, bend and / or scatter.

Vorzugsweise sind ein oder mehreren Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarrays umfassend ein oder mehrere zugeordnete Strukturen der ein oder mehreren zugeordneten Strukturen zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln zugeordnet, insbesondere wobei sich die Gruppen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder die Gruppen der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln voneinander unterscheiden.Preferably one or more structures of the one or more structures and / or one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array comprising one or more associated structures of the one or more associated structures are two or more groups of structures and / or two or assigned to several groups of pixels, in particular the groups of the two or more groups of structures and / or the groups of the two or more groups of pixels differing from one another.

Es ist möglich, dass zwei oder mehrere Gruppen von Strukturen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehrere Gruppen von Pixeln der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung, in gleiche oder unterschiedliche Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, insbesondere punktförmige Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, bevorzugt verschiedenförmige Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, abbilden, beugen und/oder streuen.It is possible for two or more groups of structures of the two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels of the two or more groups of pixels to emit electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation, in the same or different solid angles and / or Show, bend and / or scatter predetermined solid angles, in particular punctiform solid angles and / or predetermined solid angles, preferably different solid solid angles and / or predetermined solid angles.

Weiter ist es möglich, dass zwei oder mehrere Gruppen von Strukturen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehrere Gruppen von Pixeln der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln eine optische variable Information umfassend einen 3D-Effekt bereitstellt.Furthermore, it is possible for two or more groups of structures of the two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels of the two or more groups of pixels to provide an optical variable information comprising a 3D effect.

Hierbei ist es weiter möglich, dass das erste Motiv hell und das zweite Motiv dunkel erscheint, falls das optisch variable Element insbesondere aus dem, dem ersten Neigungswinkel entsprechenden vorbestimmten, Raumwinkel erfasst wird. Weiter ist es möglich, dass das optisch variable Element nach einer Kippung bezüglich eines Betrachters und/oder Sensors derart ausgerichtet ist, dass das optisch variable Element insbesondere aus dem dem zweiten Neigungswinkel entsprechenden vorbestimmten Raumwinkel erfassbar ist, wobei vorzugsweise das zweite Motiv hell und das erste Motiv dunkel erscheint. Ein derartiger Effekt wird bevorzugt auch als Bild-Flip-Effekt bezeichnet.It is also possible here for the first motif to appear bright and the second motif to appear dark if the optically variable element is detected in particular from the predetermined solid angle corresponding to the first angle of inclination. Furthermore, it is possible for the optically variable element to be oriented after tilting with respect to a viewer and / or sensor such that the optically variable element can be detected in particular from the predetermined solid angle corresponding to the second inclination angle, the second motif preferably being bright and the first The motif appears dark. Such an effect is preferably also referred to as an image flip effect.

Vorzugsweise ist es möglich, dass die Strukturen das einfallende Licht in drei oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, wobei jedem der vorbestimmten Raumwinkel insbesondere jeweils unterschiedliche Motive, insbesondere Bilder, zugeordnet sind. Hier ist es beispielsweise möglich, einen Flip zwischen drei oder mehreren Motiven in Abhängigkeit der Betrachtungsrichtung und/oder einem der vorbestimmten Raumwinkel entsprechenden Betrachtungsrichtungen zu erzeugen. Insbesondere wird für einen Betrachter und/oder Sensor eine Illusion einer kontinuierlichen und/oder sprunghaften Bewegung eines Motivs generiert, welche insbesondere bei entsprechender Bewegung, Drehung und/oder Kippung des optisch variablen Elements erscheint. Vorzugsweise wird das zugrundeliegende Pixelarray in Teile aufgeteilt, welche die jeweiligen Motive erzeugen und/oder ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des Pixelarray werden jeweils in Teile oder Subpixel unterteilt, welche jeweils unterschiedliche Strukturen aufweisen, welche das einfallende Licht in die vorbestimmten Raumwinkel zur Erzeugung der entsprechenden Motive abbilden, beugen und/oder streuen.It is preferably possible for the structures to image, bend and / or scatter the incident light in three or more predetermined solid angles, with different motifs, in particular images, being associated with each of the predetermined solid angles. Here it is possible, for example, to generate a flip between three or more motifs depending on the viewing direction and / or a viewing direction corresponding to the predetermined solid angle. In particular, an illusion of a continuous and / or erratic movement of a motif is generated for a viewer and / or sensor, which appears in particular when the optically variable element is moved, rotated and / or tilted. The underlying pixel array is preferably divided into parts which generate the respective motifs and / or one or more pixels of the two or more pixels of the pixel array are each subdivided into parts or subpixels, each of which has different structures which direct the incident light into the predetermined solid angles image, bend and / or scatter to create the appropriate motifs.

Vorzugsweise werden ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel in jeweils drei, insbesondere vier, weiter bevorzugt fünf, Teile oder Subpixel aufgeteilt, wobei die Teile oder Subpixel insbesondere bevorzugt jeweils unterschiedliche Strukturen aufweisen.One or more pixels of the two or more pixels are preferably divided into three, in particular four, more preferably five, parts or subpixels, the parts or subpixels particularly preferably each having different structures.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere der von einem Betrachter erfassbaren Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel oder vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel, in welche ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray einfallende elektromagnetische Strahlung abbilden, beugen und/oder streuen, einer Funktion folgen, wobei die Funktion derart ausgebildet ist, dass ein Betrachter die Raumwinkel oder vorbestimmten Raumwinkel als wellenförmig bewegende Helligkeitsbänder, bevorzugt sinusförmig bewegende Helligkeitsbänder, erfasst.It is possible for one or more of the solid angles that can be detected by a viewer to diffract the one or more solid angles or predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles into which one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array image incident electromagnetic radiation and / or scatter, follow a function, the function being designed in such a way that a viewer detects the solid angles or predetermined solid angles as wavy moving brightness bands, preferably sinusoidal moving brightness bands.

Weiter ist es möglich, eine sich verändernde Form eines Motivs, beispielsweise eine Transformation von einem Motiv, zum Beispiel die Buchstabenabfolge „CH“, zu einem weiteren Motiv, zum Beispiel das Schweizer Kreuz, zu generieren, welche für einen Betrachter und/oder einen Sensor erfassbar ist, wobei insbesondere sich visuell vergrößernde oder verkleinernde Umrisslinien eines Motives möglich sind.It is also possible to generate a changing shape of a motif, for example a transformation from one motif, for example the letter sequence “CH”, to another motif, for example the Swiss cross, which is suitable for a viewer and / or a sensor is detectable, in particular visually enlarging or reducing outlines of a motif are possible.

Es ist weiter auch möglich, dass ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel des zumindest einen Pixelarray mindestens zwei Ansichten eines Motivs in unterschiedliche vorbestimmte Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, wobei insbesondere für einen Betrachter und/oder Sensor in zumindest einem vorgegebenen Abstand zumindest ein Stereobild des Motivs erfassbar ist. Furthermore, it is also possible for one or more pixels of the two or more pixels of the at least one pixel array to image, bend and / or scatter at least two views of a motif in different predetermined spatial angles, in particular for a viewer and / or sensor in at least one predetermined one Distance at least one stereo image of the motif is detectable.

Die 16 zeigt auf der linken Seite das in der 1 gezeigte streifenförmige Sicherheitselement 1b', wobei ein Betrachter und/oder Sensor bei Betrachtung des Sicherheitselements 1b' insbesondere in Auflicht und/oder Durchlicht Bewegungseffekte und/oder optisch in Betrachtungsrichtung virtuell vorspringende und/oder von der Betrachtungsrichtung zurückspringende 3D-Elemente erfasst.The 16 shows that on the left in the 1 shown strip-shaped security element 1b ' , being a viewer and / or sensor when viewing the security element 1b ' In particular in motion and / or transmitted light, motion effects and / or optically virtually protruding in the viewing direction and / or 3D elements returning from the viewing direction are recorded.

Es ist möglich, dass das Sicherheitsdokument 1d in oder außerhalb des streifenförmigen Bereichs 1b' ein oder mehrere weitere optisch variable Elemente aufweist.It is possible that the security document 1d in or outside of the striped area 1b ' has one or more further optically variable elements.

Das streifenförmige Sicherheitselement 1b umfasst weiter zwei optisch variable Elemente 1a, welche insbesondere jeweils zumindest ein Pixelarray umfassend zwei oder mehrere Pixel aufweisen und auf der rechten Seite der 16 in Vergrößerung gezeigt sind.The strip-shaped security element 1b also includes two optically variable elements 1a , which in particular each have at least one pixel array comprising two or more pixels and on the right side of the 16 are shown in enlargement.

Weiter umfasst das streifenförmige Sicherheitselement 1b' mehrere Sicherheitselement 8, welches als die Zahlenabfolge „45“, zwei wolkenartige Motive, ein flugzeugförmiges Motiv, ein segelschiffförmiges Motiv und eine mit zwei horizontalen Linien durchzogene Wortabfolge „UT“ ausgestaltet sind.The strip-shaped security element also comprises 1b ' multiple security element 8th which as the sequence of numbers " 45 “, Two cloud-like motifs, an airplane-shaped motif, a sailing ship-shaped motif and a word sequence“ UT ”with two horizontal lines.

Das in der 16 oben rechts gezeigte sonnenförmige optisch variable Element 1a generiert insbesondere derart einen optischen Effekt, dass das ausfallende Licht von der gewölbten Oberfläche der Sonne 9a für einen Betrachter und/oder Sensor vorzugsweise reflektiert zu werden scheint. Dem Anschein nach ragt die Sonne 9a bevorzugt scheinbar fühlbar, insbesondere von einem Betrachter als fühlbar beziehungsweise als haptisch erfassbar erwartet, aus der durch das optisch variable Element 1a aufgespannten Ebene und/oder Oberfläche heraus, obwohl das Sicherheitselement hierbei vorzugsweise komplett eben und/oder flach ist. Das in der 16 unten rechts gezeigte optisch variable Element umfasst ein Pixelarray, welches insbesondere für einen Betrachter und/oder Sensor die Illusion, insbesondere die optische Illusion, von sich wellenförmig bewegendem Wasser 9b generiert. Beim Kippen des optisch variablen Elements 1a erscheint für einen Betrachter und/oder Sensor vorzugsweise ein Helligkeitsband welches von links nach rechts und/oder in die entgegengesetzte Richtung bewegt.That in the 16 Sun-shaped optically variable element shown at top right 1a generates an optical effect in such a way that the light falling from the curved surface of the sun 9a seems to be reflected for a viewer and / or sensor. Apparently the sun rises 9a preferably apparently perceptible, in particular expected by a viewer as perceptible or as perceptible from the optically variable element 1a spanned plane and / or surface, although the security element is preferably completely flat and / or flat. That in the 16 The optically variable element shown at the bottom right comprises a pixel array which, in particular for a viewer and / or sensor, has the illusion, in particular the optical illusion, of water moving in waves 9b generated. When tilting the optically variable element 1a appears to a viewer and / or sensor preferably a brightness band which moves from left to right and / or in the opposite direction.

Es ist möglich, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen bei einer Verbiegung des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray einen optisch variablen Effekt bereitstellen, wobei insbesondere ein erstes Motiv in einem nicht gebogenen Zustand des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray erfassbar ist und ein zweites Motiv in einem gebogenen Zustand des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray erfassbar ist.It is possible for one or more structures of the one or more structures to provide an optically variable effect when the element and / or the at least one pixel array is bent, in particular a first motif in a non-bent state of the element and / or the at least one Pixel array is detectable and a second motif can be detected in a bent state of the element and / or the at least one pixel array.

Auch ist es möglich, dass ein Bild-Flip derart von einem Betrachter und/oder einem Sensor erfasst wird, dass insbesondere im nicht gebogenen Zustand ein erstes Motiv und im gebogenen Zustand ein zweites Motiv erfassbar ist. Insbesondere wird das virtuelle Pixelarray zur Berechnung der entsprechenden Strukturen in den virtuellen Pixeln in einem gebogenen Zustand bereitgestellt und die virtuellen elektromagnetischen Felder, welche bevorzugt von ein oder mehreren virtuellen Punktfeldquellen abgestrahlt werden, vorzugsweise auf dem gebogenen virtuellen Pixelarray berechnet. Hierdurch wird insbesondere erreicht, dass die ein oder mehreren vorbestimmte Raumwinkel, in welche die Strukturen das einfallende Licht abbilden, beugen und/oder streuen, entsprechend um die lokale Krümmung des optisch variablen Elements, vorzugsweise im gebogenen Zustand, kompensiert wird. Falls einfallendes Licht auf ein flaches Pixelarray, dessen Pixel insbesondere für einen gebogenen Zustand ausgelegt sind, trifft, wird das Motiv vorzugsweise derart in die ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel abgebildet, gebeugt und/oder gestreut, dass für einen Betrachter und/oder Sensor das Motiv bevorzugt nicht vollständig und/oder lediglich optisch verzerrt erfassbar ist.It is also possible for an image flip to be detected by a viewer and / or a sensor such that a first motif can be detected in particular in the non-bent state and a second motif in the bent state. In particular, the virtual pixel array for calculating the corresponding structures in the virtual pixels is provided in a curved state and the virtual electromagnetic fields, which are preferably emitted by one or more virtual point field sources, are preferably calculated on the curved virtual pixel array. In this way it is achieved in particular that the one or more predetermined solid angles in which the structures image, bend and / or scatter the incident light are compensated accordingly by the local curvature of the optically variable element, preferably in the bent state. If incident light hits a flat pixel array, the pixels of which are designed in particular for a curved state, the motif is preferably imaged, diffracted and / or scattered in such a way that the motif is for a viewer and / or sensor is preferably not completely and / or only optically distorted.

Es ist möglich, dass ein Betrachter und/oder Sensor ein oder mehrere der folgenden, durch ein oder mehrere optisch variable Elemente generierte Effekte, insbesondere der folgenden durch ein oder mehrere optisch variable Elemente generierte optischen Effekte, erfasst: Ein oder mehrere Effekte in Reflexion; ein oder mehrere Effekte in Transmission; Kombination aus den vorstehenden Effekten in Reflexion und in Transmission, wie beispielsweise unterschiedliche Bewegungseffekte in Reflexion und Transmission, wobei insbesondere 50% der Pixel und/oder Subpixel zumindest eines Pixelarrays für den jeweiligen Effekt in Reflexion beziehungsweise Transmission verwendet werden; ein oder mehrere Effekte für einen gebogenen oder nicht gebogenen Zustand ein oder mehrerer optische variablen Elemente der ein oder mehreren optisch variablen Elemente.It is possible that a viewer and / or sensor detects one or more of the following effects generated by one or more optically variable elements, in particular the following optical effects generated by one or more optically variable elements: one or more effects in reflection; one or more effects in transmission; Combination of the above effects in reflection and in transmission, such as different movement effects in reflection and transmission, in particular 50% of the pixels and / or sub-pixels of at least one pixel array being used for the respective effect in reflection or transmission; one or more effects for a curved or not bent state of one or more optically variable elements of the one or more optically variable elements.

Es ist auch möglich, ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen derart auszuformen, dass Phasensprünge von 2 × 180° in Reflexion und 1 × 360° in Transmission auftreten. Ein derartiger Phasensprung ist vorzugsweise nur bei einer Wellenlänge exakt, wobei der entsprechende Effekt bevorzugt farbselektiv um diese Wellenlänge herum ist. Der Effekt erscheint hierdurch für einen Betrachter und/oder Sensor insbesondere in einer klar definierten Farbe. Alle vorstehenden Effekte, insbesondere alle vorstehenden optischen Effekte, können beispielsweise derart mit einer entsprechend definierten Farbe umgesetzt werden.It is also possible to shape one or more structures of the one or more structures in such a way that phase jumps of 2 × 180 ° in reflection and 1 × 360 ° in transmission occur. Such a phase jump is preferably only exact at one wavelength, the corresponding effect preferably being color-selective around this wavelength. As a result, the effect appears to a viewer and / or sensor in particular in a clearly defined color. All of the above effects, in particular all of the above optical effects, can be implemented in this way, for example, with a correspondingly defined color.

Die 17 zeigt beispielhaft einen achromatisch Bogen umfassend eine Vielzahl von Lichtpunkten 200, welcher sich entlang der Richtung R', insbesondere beim Vor-Kippen und/oder Zurück-Kippen beziehungsweise beim Kippen entlang der Richtung R', des optisch variablen Elements rauf und/oder runter beziehungsweise entlang der Richtung R' in der durch die Richtungen x und y aufgespannten Figurenebene nach oben und/oder nach unten bewegt. Die Strukturen in den Pixeln des zugrundeliegenden Pixelarray sind insbesondere derart ausgelegt, dass einfallendes Licht bei Verkippung des optisch variablen Elements aus der durch die Richtungen x und y aufgespannten Figurenebene um -30° bis +30° heraus für einen Betrachter und/oder Sensor vorzugsweise die Illusion eines sich bewegenden hellen Bogens erzeugt.The 17th shows an example of an achromatic arc comprising a plurality of light points 200 which is along the direction R ' , in particular when tilting forward and / or tilting back or when tilting along the direction R ' , the optically variable element up and / or down or along the direction R ' moved up and / or down in the figure plane spanned by the directions x and y. The structures in the pixels of the underlying pixel array are in particular designed in such a way that incident light when the optically variable element is tilted out of the plane of the figure spanned by the directions x and y by -30 ° to + 30 ° for a viewer and / or sensor preferably Creates the illusion of a moving bright arc.

Die 18 zeigt in dem oberen Teil einen ersten vergrößerten Ausschnitt und im unteren Teil einen zweiten, insbesondere noch weiter vergrößerten, Ausschnitt des zugrundeliegenden Pixelarrays umfassend Pixel mit entsprechenden Strukturen. Der umrandete Pixel 2e aufweisend die Struktur 3e weist in Richtung x und y jeweils eine laterale Abmessung von 50 µm auf.The 18th shows in the upper part a first enlarged section and in the lower part a second, in particular further enlarged section of the underlying pixel array comprising pixels with corresponding structures. The bordered pixel 2e showing the structure 3e has a lateral dimension of 50 µm in the x and y directions.

Die 19 zeigt in einer schematischen perspektivischen Darstellung einen für einen Betrachter B und/oder einen Sensor S erfassbaren Bewegungsablauf eines achromatisch, bogenförmigen Motivs 9c, welcher sich in der durch das optische Element 1a aufgespannten Ebene, insbesondere entlang der Richtung R", bewegt, wobei die Strukturen des in dem optisch variablen Element 1a enthaltenen Pixelarrays 2 das einfallende Licht 20 in Richtung des Betrachters B und/oder Sensor S abbilden, beugen und/oder streuen.The 19th shows a schematic perspective representation of one for a viewer B and / or a sensor S detectable sequence of movements of an achromatic, arched motif 9c , which is reflected in the optical element 1a spanned plane, especially along the direction R " , moves, the structures of the in the optically variable element 1a contained pixel arrays 2nd the incident light 20th towards the viewer B and / or sensor S map, bend and / or scatter.

Die 20 zeigt ein achromatisch für einen Betrachter und/oder Sensor aus der Figurenebene, insbesondere aus der durch die Richtungen x und y aufgespannten Ebene, herausragendes 3D-Objekt in Form eines Schneckengehäuses 9d. Insbesondere sind die Strukturen in den Pixeln des zugrundeliegenden Pixelarrays so ausgelegt, dass einfallendes Licht die Illusion des 3D-Objektes erzeugt. Beim vor- und zurück, sowie links und rechts Kippen bewegen sich für einen Betrachter und/oder Sensor Licht und Schatten über die Schnecke.The 20th shows an achromatic for a viewer and / or sensor from the plane of the figure, in particular from the plane spanned by the directions x and y, outstanding 3D object in the form of a snail shell 9d . In particular, the structures in the pixels of the underlying pixel array are designed so that incident light creates the illusion of the 3D object. When tilting back and forth, as well as left and right, light and shadow move over the snail for a viewer and / or sensor.

Die 21 zeigt in dem oberen Teil einen ersten vergrößerten Ausschnitt und im unteren Teil einen zweiten, insbesondere noch weiter vergrößerten Ausschnitt des dem in der 20 gezeigten Schneckengehäuses 9d zugrundeliegenden Pixelarrays umfassend Pixel mit entsprechenden Strukturen. Der umrandete Pixel 2f aufweisend die Struktur 3f weist in Richtung x und y jeweils eine laterale Abmessung von 50 µm auf.The 21 shows in the upper part a first enlarged section and in the lower part a second, in particular still enlarged section of the in the 20th shown snail shell 9d underlying pixel arrays include pixels with corresponding structures. The bordered pixel 2f showing the structure 3f has a lateral dimension of 50 µm in the x and y directions.

Die 22 zeigt ein Design umfassend ein 3D-Modell des Portraits 9e des Mathematikers und Physikers Carl Friedrich Gauß in 28 verschiedenen Varianten und die 23 zeigt einen vergrößerten Ausschnitt der 22, wobei die Strukturen in den Pixel des zugrundeliegenden Pixelarray hierbei insbesondere als Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen ausgeformt sind, welche für die Erzeugung der Varianten verwendet wurden. Insbesondere zeigen die Portraits in der ersten Zeile von links nach rechts eine sich verstärkende Variation der für einen Betrachter und/oder Sensor erfassbaren 3D-Effektstärke. Die jeweils ersten vier Portraits in den weiteren Zeilen zeigen von links nach rechts jeweils einen Effekt anhand des entsprechenden Portraits basierend auf Strukturen mit einer Strukturtiefe von 2 µm und die jeweils letzten drei Portraits in den weiteren Zeilen zeigen von links nach rechts jeweils einen Effekt anhand des entsprechenden Portraits basierend auf Strukturen mit einer Strukturtiefe von circa 1 µm Strukturtiefe.The 22 shows a design comprising a 3D model of the portrait 9e by mathematician and physicist Carl Friedrich Gauß in 28 different variants and the 23 shows an enlarged section of the 22 , wherein the structures in the pixels of the underlying pixel array are in particular formed as Fresnel microlens structures, which were used to generate the variants. In particular, the portraits in the first line show from left to right an increasing variation in the 3D effect strength that can be detected by a viewer and / or sensor. The first four portraits in the other lines each show an effect from left to right based on the corresponding portrait based on structures with a structure depth of 2 µm and the last three portraits in the other lines each show an effect based on the structure from left to right corresponding portraits based on structures with a structure depth of approximately 1 µm structure depth.

BezugszeichenlisteReference list

1a1a
Optisch variables ElementOptically variable element
1b1b
SicherheitselementSecurity element
1b'1b '
Streifenförmiges SicherheitselementStrip-shaped security element
1c1c
DekorelementDecorative element
1d 1d
SicherheitsdokumentSecurity document
1010th
SubstratSubstrate
22nd
PixelarrayPixel array
2aa-2dd, 2e-2f2aa-2dd, 2e-2f
Pixelpixel
20aa-20dd20aa-20dd
Ausfallendes LichtFailing light
200200
LichtpunktePoints of light
3aa-3dd, 3e-3f3aa-3dd, 3e-3f
Strukturstructure
30aa, 30ad, 30cc30aa, 30ad, 30cc
MikrostrukturMicrostructure
31aa, 31ad, 31cc31aa, 31ad, 31cc
MikrostrukturMicrostructure
44th
Virtuelles PixelarrayVirtual pixel array
4aa-4dd4aa-4dd
Virtuelle PixelVirtual pixels
66
Einfallendes LichtIncident light
9, 9a, 9b, 9c, 9d, 9e9, 9a, 9b, 9c, 9d, 9e
Motivmotive
Δx, ΔyΔx, Δy
Laterale AbmessungLateral dimension
ΔzΔz
StrukturtiefeStructure depth
PP
FokuspunktFocus point
FF
FokalebeneFocal plane
ff
Abstanddistance
θ, φ, α, Ωθ, φ, α, Ω
Winkelangle
SS
Segmentsegment
R, R', R"R, R ', R "
Richtungdirection
GG
Gruppe von PixelGroup of pixels
BB
BetrachterViewer
SS
Sensorsensor
LL
LichtquelleLight source

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturPatent literature cited

  • DE 102004016596 A1 [0004]DE 102004016596 A1 [0004]

Claims (63)

Optisch variables Element (1a), insbesondere ein Sicherheitselement (1b) und/oder ein Dekorelement (1c), bevorzugt für Sicherheitsdokumente (1d), dadurch gekennzeichnet, dass das optisch variable Element (1a) zumindest ein Pixelarray (2) umfassend zwei oder mehrere Pixel (2aa-2dd,2e-2f) aufweist, wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) ein oder mehrere Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) aufweisen, und wobei ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) einfallende elektromagnetische Strahlung (6) in ein oder mehrere Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen.Optically variable element (1a), in particular a security element (1b) and / or a decorative element (1c), preferably for security documents (1d), characterized in that the optically variable element (1a) comprises at least one pixel array (2) comprising two or more Has pixels (2aa-2dd, 2e-2f), one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) having one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f ), and wherein one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) incident electromagnetic radiation (6) image in one or more solid angles, diffract and / or scatter. Optisch variables Element (1a) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) einfallende elektromagnetische Strahlung (6) in ein oder mehrere Raumwinkel achromatisch abbilden, beugen und/oder streuen.Optically variable element (1a) Claim 1 , characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) incident, radiate and / or scatter electromagnetic radiation (6) in one or more solid angles. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optisch variable Element (1) ein oder mehrere Schichten umfasst, wobei insbesondere das zumindest eine Pixelarray (2) auf oder in zumindest einer Schicht der ein oder mehreren Schichten angeordnet ist und wobei vorzugsweise ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten ausgewählt sind aus: HRI-Schicht, insbesondere Schicht umfassend HRI und/oder LRI-Lackschicht, Metallschicht, Interferenzschicht, insbesondere Interferenzschichtabfolgen, bevorzugt HLH oder HLHLH, weiter bevorzugt Fabry-Perot-Dreischichtsystem oder -Mehrschichtsystem, Flüssigkristallschicht, Farbschicht, insbesondere lasierende Farbschicht.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that the optically variable element (1) comprises one or more layers, in particular the at least one pixel array (2) being arranged on or in at least one layer of the one or more layers and preferably one or more layers of the one or more layers are selected from: HRI layer, in particular layer comprising HRI and / or LRI lacquer layer, metal layer, interference layer, in particular interference layer sequences, preferably HLH or HLHLH, more preferably Fabry-Perot Three-layer system or multi-layer system, liquid crystal layer, color layer, in particular glazing color layer. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jedem Pixel (2aa-2dd,2e-2f) der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) zugeordnet sind, wobei die einem Pixel (2aa-2dd,2e-2f) zugeordneten ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung (6) in ein oder mehrere vorbestimmte Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, wobei insbesondere den ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkeln jeweils eine Richtung, vorzugsweise eine vorbestimmte Richtung, zugeordnet ist.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that each pixel (2aa-2dd, 2e-2f) of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) or Several structures are assigned to the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f), the one or more structures assigned to a pixel (2aa-2dd, 2e-2f) depicting incident electromagnetic radiation (6) in one or more predetermined solid angles , bend and / or scatter, in particular one direction, preferably a predetermined direction, being assigned to each of the one or more predetermined solid angles. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) und/oder ein oder mehrere zugeordnete Strukturen der ein oder mehreren zugeordneten Strukturen in ein oder mehrere Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder ein oder mehrere vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel abbilden, beugen und/oder streuen, welche sich insbesondere voneinander unterscheiden, wobei ein oder mehrere auf eine um einen Pixel (2aa-2dd,2e-2f) angeordnete Kugel, insbesondere eine Einheitskugel mit einem Einheitsradius von 1, projizierte Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel ein oder mehrere, insbesondere gleiche oder verschiedenartige, Formen ausbilden, welche vorzugsweise jeweils ausgewählt sind aus: Kreisfläche, Ellipsenfläche, Dreiecksfläche, Quadratfläche, Rechteckfläche, Polygonfläche, Kreisringfläche.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) and / or one or more associated structures of the one or more associated structures in one depict, bend and / or scatter one or more solid angles of the one or more solid angles and / or one or more predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles, which differ in particular from one another, one or more referring to one pixel (2aa-2dd, 2e-2f) arranged ball, in particular a unit ball with a unit radius of 1, projected solid angles of one or more solid angles and / or predetermined solid angles of one or more predetermined solid angles form one or more, in particular identical or different, shapes, which are preferably selected in each case are made up of: circular area, elliptical area, triangular area, square area , Rectangular area, polygon area, circular area. Optisch variables Element (1a) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Formen der ein oder mehreren Formen offen oder geschlossen sind und/oder aus ein oder mehreren Teilformen bestehen, wobei insbesondere zumindest zwei Teilformen miteinander verbunden oder überlagert sind.Optically variable element (1a) Claim 5 , characterized in that one or more forms of the one or more forms are open or closed and / or consist of one or more partial forms, in particular at least two partial forms being connected to one another or superimposed. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere der, insbesondere von einem Betrachter und/oder einem Sensor erfassbaren, Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel oder vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel, in welche ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) einfallende elektromagnetische Strahlung (6) abbilden, beugen und/oder streuen, einer Funktion folgen, wobei die Funktion derart ausgebildet ist, dass ein Betrachter die Raumwinkel oder vorbestimmten Raumwinkel als wellenförmig bewegende Helligkeitsbänder, bevorzugt sinusförmig bewegende Helligkeitsbänder, erfasst.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more of the solid angles of the one or more solid angles or predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles, which can be detected in particular by a viewer and / or a sensor, into which depict, diffuse and / or scatter one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) of incident electromagnetic radiation (6), follow a function, the function being designed in such a way that a viewer detects the solid angles or predetermined solid angles as wavy moving brightness bands, preferably sinusoidal moving brightness bands. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere oder alle Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder ein oder mehrere oder alle vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel in zumindest einer Richtung bis zu 70°, bevorzugt bis zu 50°, weiter bevorzugt bis zu 40°, betragen und/oder dass der Öffnungswinkel ein oder mehrerer oder aller Raumwinkel vorzugsweise maximal 20°, weiter bevorzugt maximal 15°, insbesondere bevorzugt maximal 10°, beträgt.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more or all solid angles of the one or more solid angles and / or one or more or all predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles in at least one Direction up to 70 °, preferably up to 50 °, more preferably up to 40 °, and / or that the opening angle of one or more or all solid angles is preferably at most 20 °, more preferably at most 15 °, particularly preferably at most 10 ° . Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere oder alle Raumwinkel der ein oder mehreren Raumwinkel und/oder ein oder mehrere oder alle vorbestimmten Raumwinkel der ein oder mehreren vorbestimmten Raumwinkel in zumindest einer Richtung bis zu 70°, bevorzugt bis zu 50°, weiter bevorzugt bis zu 40°, betragen.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more or all solid angles of the one or more solid angles and / or one or more or all predetermined solid angles of the one or more predetermined solid angles in at least one direction up to 70 °, preferably up to 50 °, more preferably up to 40 °. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) und/oder die einem Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) zugeordneten Strukturen derart ausgebildet sind, dass diese eine optisch variable Information bereitstellen, insbesondere ein oder mehrere 3D-Effekte und/oder Bewegungseffekte bereitstellen, bevorzugt achromatische oder monochromatische 3D-Effekte und/oder Bewegungseffekte bereitstellen.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) and / or the one pixel of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the structures associated with the at least one pixel array (2) are designed such that they provide optically variable information, in particular one or more 3D effects and / or movement effects, preferably achromatic or monochromatic 3D effects and / or movement effects . Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen und/oder die einem Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) zugeordneten Strukturen zugeordneten Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung (6), in einem Raumwinkel, insbesondere einem punktförmigen Raumwinkel, abbilden, beugen und/oder streuen.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures and / or the one pixel of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array ( 2) assign structures (3aa-3dd, 3e-3f) associated structures to electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation (6), at a solid angle, in particular a point-shaped solid angle, image, diffract and / or scatter. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehreren Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) und/oder ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) umfassend ein oder mehrere zugeordnete Strukturen der ein oder mehreren zugeordneten Strukturen zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln zugeordnet sind, insbesondere wobei sich die Gruppen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder die Gruppen der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln voneinander unterscheiden.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) and / or one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd , 2e-2f) of the at least one pixel array (2) comprising one or more assigned structures of the one or more assigned structures are assigned to two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels, in particular the groups of the two or differentiate several groups of structures and / or the groups of the two or more groups of pixels. Optisch variables Element (1a) nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehrere Gruppen von Strukturen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehrere Gruppen von Pixeln der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln (2aa-2dd,2e-2f) elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung (6), in gleiche oder unterschiedliche Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, insbesondere punktförmige Raumwinkel, bevorzugt mit einem Öffnungswinkel nahe 0°, und/oder vorbestimmte Raumwinkel, bevorzugt verschiedenförmige Raumwinkel und/oder vorbestimmte Raumwinkel, abbilden, beugen und/oder streuen.Optically variable element (1a) Claim 12 , characterized in that two or more groups of structures of the two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels of the two or more groups of pixels (2aa-2dd, 2e-2f) electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation (6), in the same or different solid angles and / or predetermined solid angles, in particular punctiform solid angles, preferably with an opening angle close to 0 °, and / or predetermined solid angles, preferably different solid angles and / or predetermined solid angles, image, diffract and / or scatter. Optisch variables Element (1a) nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehrere Gruppen von Strukturen der zwei oder mehreren Gruppen von Strukturen und/oder zwei oder mehrere Gruppen von Pixeln der zwei oder mehreren Gruppen von Pixeln eine optische variable Information umfassend einen 3D-Effekt bereitstellt.Optically variable element (1a) Claim 12 or 13 , characterized in that two or more groups of structures of the two or more groups of structures and / or two or more groups of pixels of the two or more groups of pixels provide an optical variable information comprising a 3D effect. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere oder alle der Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) und/oder ein oder mehrere oder alle der zugeordneten Strukturen elektromagnetische Strahlung, insbesondere einfallende elektromagnetische Strahlung (6), diffraktiv streuen, beugen und/oder abbilden.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more or all of the structures (3aa-3dd, 3e-3f) and / or one or more or all of the assigned structures electromagnetic radiation, in particular incident electromagnetic radiation (6), diffractive scatter, bend and / or image. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zumindest eine Pixelarray (2) in zumindest einer Richtung zumindest bereichsweise eine von Null verschiedene Krümmung aufweist.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that the at least one pixel array (2) has a curvature which differs from zero in at least one direction in at least one region. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine laterale Abmessung ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) in dem zumindest einen Pixelarray (2) zwischen 5 µm und 500 µm, bevorzugt zwischen 10 µm und 300 µm, bevorzugt zwischen 20 µm und 150 µm, beträgt.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that at least one lateral dimension of one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) in the at least one pixel array (2) is between 5 µm and 500 µm, preferably between 10 µm and 300 µm, preferably between 20 µm and 150 µm. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine oder mehrere laterale Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) in dem zumindest einen Pixelarray (2) in eine oder mehrere Raumrichtungen in dem Pixelarray (2), insbesondere zumindest bereichsweise, periodisch, nicht-periodisch, pseudozufällig und/oder zufällig variieren.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more lateral dimensions of one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) in the at least one pixel array (2) in one or vary a plurality of spatial directions in the pixel array (2), in particular at least in regions, periodically, non-periodically, pseudorandomly and / or randomly. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine oder mehrere laterale Abmessungen ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) in dem zumindest einen Pixelarray (2) in eine oder mehrere Raumrichtungen in dem zumindest einen Pixelarray (2), insbesondere zumindest bereichsweise, maximal um ±70%, bevorzugt maximal um ±50%, um einem Mittelwert herum variieren.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more lateral dimensions of one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) in the at least one pixel array (2) in one or a plurality of spatial directions in the at least one pixel array (2), in particular at least in regions, vary by a maximum of ± 70%, preferably a maximum of ± 50%, around an average value. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Pixel der ein oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) in dem zumindest einen Pixelarray (2), insbesondere zumindest bereichsweise, periodisch, nicht-periodisch, zufällig und/oder pseudozufällig in dem zumindest einen Pixelarray (2) angeordnet sind.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more pixels of the one or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) in the at least one pixel array (2), in particular at least in regions, periodically, do not periodically, randomly and / or pseudo-randomly arranged in the at least one pixel array (2). Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f), eine Gitterperiode insbesondere kleiner als die Hälfte, bevorzugt kleiner als dem Drittel, weiter bevorzugt kleiner als dem Viertel, der maximalen lateralen Abmessung der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f), bevorzugt jedem der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f), des zumindest einen Pixelarray (2) aufweisen.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f), a grating period in particular less than half, preferably less than third, further preferably less than the quarter, the maximum lateral dimension of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f), preferably each of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f), of the at least one pixel array (2) . Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) eine beschränkte maximale Strukturtiefe aufweisen, wobei die beschränkte maximale Strukturtiefe insbesondere kleiner als 15 µm, bevorzugt kleiner als 10 µm, weiter bevorzugt kleiner gleich 7 µm, noch weiter bevorzugt kleiner gleich 4 µm, insbesondere bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) have a limited maximum structure depth, the limited maximum structure depth being in particular less than 15 µm , preferably less than 10 µm, more preferably less than or equal to 7 µm, even more preferably less than or equal to 4 µm, particularly preferably less than or equal to 2 µm. Optisch variables Element (1a) nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) derart ausgebildet sind, dass die beschränkte maximale Strukturtiefe der ein oder mehreren Strukturen für mehr als 50% der Pixel (2aa-2dd,2e-2f), insbesondere für mehr als 70% der Pixel (2aa-2dd,2e-2f), bevorzugt für mehr als 90% der Pixel (2aa-2dd,2e-2f), des zumindest einen Pixelarray (2) kleiner gleich 15 µm, insbesondere kleiner gleich 7 µm, bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.Optically variable element (1a) Claim 22 , characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) are formed such that the limited maximum structure depth of the one or more structures for more than 50% of the pixels (2aa-2dd, 2e -2f), in particular for more than 70% of the pixels (2aa-2dd, 2e-2f), preferably for more than 90% of the pixels (2aa-2dd, 2e-2f), of the at least one pixel array (2) less than or equal to 15 µm, in particular less than or equal to 7 µm, preferably less than or equal to 2 µm. Optisch variables Element (1a) nach Anspruch 22 oder 23, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) derart ausgebildet sind, dass die beschränkte maximale Strukturtiefe der ein oder mehrerer Strukturen für alle Pixel (2aa-2dd,2e-2f) kleiner gleich 15 µm, insbesondere kleiner gleich 7 µm, bevorzugt kleiner gleich 2 µm, ist.Optically variable element (1a) Claim 22 or 23 , characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) are designed such that the limited maximum structure depth of the one or more structures is smaller for all pixels (2aa-2dd, 2e-2f) is 15 µm, in particular less than or equal to 7 µm, preferably less than or equal to 2 µm. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) zueinander unterschiedlich oder ähnlich oder gleich oder identisch sind.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) are different from one another or similar or identical or identical. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) als achromatisch beugende Strukturen, vorzugsweise als Blaze-Gitter, insbesondere lineare Blaze-Gitter, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Gitterperiode der achromatisch beugenden Strukturen größer als 3 µm, bevorzugt größer als 5 µm, ist und/oder wobei mehr als 70% der Pixel, insbesondere mehr als 90% der Pixel, bevorzugt jedes Pixel (2aa-2dd,2e-2f), der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarrays (2) mindestens zwei Gitterperioden umfasst.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) as achromatic diffractive structures, preferably as blaze gratings, in particular linear blaze gratings , are formed, in particular the lattice period of the achromatic diffractive structures being greater than 3 μm, preferably greater than 5 μm, and / or wherein more than 70% of the pixels, in particular more than 90% of the pixels, preferably each pixel (2aa-2dd , 2e-2f), which comprises two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) at least two grid periods. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die achromatisch beugenden Strukturen in ein oder mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) in dem zumindest einen Pixelarray (2) mit weiteren Mikrostrukturen und/oder Nanostrukturen, insbesondere linearen Gitterstrukturen, bevorzugt Kreuzgitterstrukturen, weiter bevorzugt Subwellenlängengitterstrukturen, überlagert sind.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that the achromatic diffractive structures in one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) in the at least one pixel array (2) with further microstructures and / or nanostructures, in particular linear grating structures, preferably cross-grating structures, more preferably sub-wavelength grating structures, are superimposed. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) der ein oder mehreren Strukturen als konvex oder konkav wirkende Mikrolinsen und/oder Teilbereiche von Mikrolinsen, insbesondere als reflektiv wirkende Mikrolinsen und/oder Teilbereiche von Mikrolinsen, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Fokuslänge der ein oder mehreren Strukturen zwischen 0,04 mm bis 5 mm, insbesondere 0,06 mm bis 3 mm, bevorzugt 0,1 mm bis 2 mm, beträgt und/oder wobei insbesondere die Fokuslänge in einer Richtung X und/oder Y durch die Gleichung f X ,Y = Δ X ,Y / 2 tan ( ϕ X ,Y / 2 )
Figure DE102018123482A1_0008
bestimmt ist, wobei bevorzugt ΔX,Y die jeweilige laterale Abmessung ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) in die Richtung X beziehungsweise in die Richtung Y ist und ϕX,Y der jeweilige Raumwinkel in die Richtung X beziehungsweise in die Richtung Y ist, in welche die ein oder mehreren Strukturen einfallende elektromagnetische Strahlung abbilden, beugen und/oder streuen.
Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) of the one or more structures as convex or concave microlenses and / or subregions of microlenses, in particular as reflective acting microlenses and / or partial areas of microlenses, are formed, in particular the focal length of the one or several structures is between 0.04 mm to 5 mm, in particular 0.06 mm to 3 mm, preferably 0.1 mm to 2 mm, and / or wherein in particular the focus length in a direction X and / or Y is given by the equation f X , Y = Δ X , Y / 2nd tan ( ϕ X , Y / 2nd )
Figure DE102018123482A1_0008
is determined, wherein Δ X, Y is preferably the respective lateral dimension of one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) in the direction X or in the direction Y and ϕ X, Y is the respective solid angle in the direction X or in the direction Y, in which the one or more structures emit, diffuse and / or scatter electromagnetic radiation.
Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) als Zylinderlinsen ausgebildet sind, wobei insbesondere eine Fokuslänge der ein oder mehreren Strukturen unendlich groß ist.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) are designed as cylindrical lenses, in particular a focus length of the one or more structures being infinitely large is. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) als Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen, insbesondere reflektiv wirkende Fresnelsche Mikrolinsenstrukturen, ausgebildet sind, wobei insbesondere die Gitterlinien der Fresnelschen Mikrolinsenstrukturen als gekrümmte Gitterlinien ausgebildet sind und/oder Gitterlinien mit variierenden Gitterperioden aufweisen und/oder wobei insbesondere jedes Pixel (2aa-2dd,2e-2f) der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarrays (2), vorzugsweise in zumindest einer Raumrichtung, mindestens zwei Gitterperioden umfasst.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) are designed as Fresnel microlens structures, in particular reflective Fresnel microlens structures, in particular the Grating lines of the Fresnel microlens structures are designed as curved grating lines and / or have grating lines with varying grating periods and / or in particular each pixel (2aa-2dd, 2e-2f) of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one Pixel arrays (2), preferably in at least one spatial direction, comprise at least two grid periods. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) eine Anzahl von mindestens 2 Erhebungen, insbesondere mindestens 3 Erhebungen, bevorzugt mindestens 4 Erhebungen, vorzugsweise pro Pixel (2aa-2dd,2e-2f), aufweisen.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) have a number of at least 2 elevations, in particular at least 3 elevations, preferably at least 4 elevations , preferably per pixel (2aa-2dd, 2e-2f). Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehr als 70% der Pixel, insbesondere mehr als 90% der Pixel, der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) in dem zumindest einen Pixelarray (2) ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) aufweisen, welche eine Anzahl von mindestens 2 Erhebungen, insbesondere mindestens 3 Erhebungen, bevorzugt mindestens 4, vorzugsweise pro Pixel (2aa-2dd,2e-2f), aufweisen.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that more than 70% of the pixels, in particular more than 90% of the pixels, of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) in the at least one pixel array (2) one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) which have a number of at least 2 elevations, in particular at least 3 elevations, preferably at least 4, preferably per pixel (2aa-2dd, 2e- 2f). Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) als chromatische Gitterstrukturen, insbesondere als lineare Gitter, bevorzugt als lineare Gitter mit einem sinusförmigen Profil, und/oder Nanotext und/oder Spiegelflächen ausgebildet sind.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) as chromatic grating structures, in particular as linear grids, preferably as linear grids with a sinusoidal shape Profile, and / or nanotext and / or mirror surfaces are formed. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) als Subwellenlängengitter, insbesondere als lineare Subwellenlängengitter und/oder als Mottenaugen-artigen Strukturen, ausgebildet sind, wobei bevorzugt die Gitterperiode der Subwellenlängengitter, insbesondere der linearen Subwellenlängengitter und/oder der Mottenaugen-artigen Strukturen, weniger als 450 nm beträgt und/oder wobei insbesondere zumindest ein derartiges Pixelarray (2) einen für einen Betrachter erfassbaren optisch variablen Effekt, insbesondere einen für einen Betrachter erfassbaren zusätzlichen optisch variablen Effekt, beim Kippen des optisch variablen Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray (2) bereitstellt.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) as sub-wavelength gratings, in particular as linear sub-wavelength gratings and / or as moth eye-like structures, are formed, the grating period of the sub-wavelength gratings, in particular the linear sub-wavelength gratings and / or the moth-eye-like structures, preferably being less than 450 nm and / or in particular at least one such pixel array (2) having an optically variable effect that can be detected by an observer, in particular provides an additional optically variable effect that can be detected by a viewer when the optically variable element and / or the at least one pixel array (2) is tilted. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) mit einer Metallschicht versehen sind und/oder einfallende elektromagnetische Strahlung absorbieren, wobei insbesondere ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) in Reflexion für einen Betrachter in dunkelgrau bis schwarz erfassbar sind.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) are provided with a metal layer and / or absorb incident electromagnetic radiation, in particular one or a plurality of pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) can be detected in reflection for a viewer in dark gray to black. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) eine HRI-Schicht aufweisen, wobei insbesondere ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) in Reflexion für einen Betrachter farbig erfassbar sind. Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) have an HRI layer, in particular one or more pixels of the two or more Pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) can be detected in color by a viewer in reflection. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) einfallende elektromagnetische Strahlung pseudo-zufällig oder zufällig in alle Raumrichtungen abbilden, beugen und/oder streuen, wobei insbesondere ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) in Reflexion für einen Betrachter isotrop weiß, bevorzugt isotrop achromatisch, erfassbar sind.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) incident, pseudo-randomly or randomly image, bend and / or image in all spatial directions or scatter, in particular one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) in reflection for an observer can be detected isotropically white, preferably isotropically achromatic. Optisch variables Element (1a) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Strukturen der ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) bei einer Verbiegung des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray (2) einen optisch variablen Effekt bereitstellen, wobei insbesondere ein erstes Motiv in einem nicht gebogenen Zustand des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray (2) erfassbar ist und ein zweites Motiv in einem gebogenen Zustand des Elements und/oder des zumindest einen Pixelarray (2) erfassbar ist.Optically variable element (1a) according to one of the preceding claims, characterized in that one or more structures of the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) one when the element and / or the at least one pixel array (2) is bent Provide optically variable effect, in particular a first motif being detectable in a non-bent state of the element and / or the at least one pixel array (2) and a second motif being detectable in a bent state of the element and / or the at least one pixel array (2) is. Sicherheitsdokument (1d), insbesondere umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente (1a), insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche.Security document (1d), in particular comprising one or more optically variable elements (1a), in particular according to one of the preceding claims. Sicherheitsdokument (1d) nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitsdokument (1d) in ein oder mehreren Bereichen, insbesondere in ein oder mehreren streifenförmigen Bereichen, bevorzugt ein oder mehreren fadenförmigen Bereichen, ein oder mehrere optisch variable Elemente (1a) aufweist.Security document (1d) according to Claim 39 , characterized in that the security document (1d) has one or more optically variable elements (1a) in one or more areas, in particular in one or more strip-shaped areas, preferably one or more thread-like areas. Sicherheitsdokument (1d) nach Anspruch 39 oder 40, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Bereiche der ein oder mehreren Bereiche umfassend jeweils ein oder mehrere optisch variablen Elemente (1a) in Streifenform und/oder in Patch-Form ausgebildet sind.Security document (1d) according to Claim 39 or 40 , characterized in that one or more areas of the one or more areas each comprising one or more optically variable elements (1a) in strip form and / or in patch form. Sicherheitsdokument (1d) nach einem der Ansprüche 39 bis 41, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere optische variable Elemente (1a) bei Betrachtung des Sicherheitsdokuments (1d) entlang eines durch das Sicherheitsdokument (1d) aufgespannten Flächennormalenvektors zumindest teilweise überlappend angeordnet sind.Security document (1d) according to one of the Claims 39 to 41 , characterized in that one or more optical variable elements (1a) are arranged at least partially overlapping when the security document (1d) is viewed along an area normal vector spanned by the security document (1d). Verfahren zur Herstellung eines optisch variablen Elements (1a), insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 38, vorzugsweise eines Sicherheitselements (1b) und/oder eines Dekorelements (1c), bevorzugt für Sicherheitsdokumente (1d), insbesondere nach einem der Ansprüche 39 bis 42, dadurch gekennzeichnet, Bereitstellung zumindest eines virtuellen Pixelarray (4) umfassend zwei oder mehrere virtuelle Pixel (4aa-4dd), Zuordnung zumindest eines Raumwinkels zu ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4), Anordnung ein oder mehrerer virtueller Feldquellen in und/oder auf zumindest einem Bereich oder zumindest einem Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels, wobei der zumindest eine Bereich oder das zumindest eine Segment des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels in einem ersten Abstand zu den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) angeordnet ist, Berechnung ein oder mehrerer virtueller elektromagnetischer Felder ausgehend von den ein oder mehreren virtuellen Feldquellen in einem vorbestimmten Abstand von den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray (4) aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, Berechnung ein oder mehrerer Phasenbilder für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) aus einem virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeld bestehend aus der Überlagerung der ein oder mehreren virtuellen elektromagnetischen Feldern in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel des zumindest einen virtuellen Pixelarray und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, Berechnung virtueller Strukturprofile für die ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) aus den ein oder mehreren Phasenbildern, Ausbildung der virtuellen Strukturprofile der ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) in und/oder auf ein Substrat als zumindest ein Pixelarray (2) umfassend zwei oder mehrere Pixel (2aa-2dd,2e-2f), wobei ein oder mehrere Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) ein oder mehrere Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) aufweisen, zur Bereitstellung des optisch variablen Elements (1a).Method for producing an optically variable element (1a), in particular according to one of the Claims 1 to 38 , preferably a security element (1b) and / or a decorative element (1c), preferably for security documents (1d), in particular according to one of the Claims 39 to 42 , characterized in that provision of at least one virtual pixel array (4) comprising two or more virtual pixels (4aa-4dd), assignment of at least one solid angle to one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4), arrangement of one or more virtual field sources in and / or on at least one area or at least one segment of the at least one associated solid angle, the at least one area or the at least one segment of the at least one associated solid angle at a first distance from the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) is arranged, calculation of one or more virtual electromagnetic fields based on the one or more virtual field sources at a predetermined distance from the one or more virtual pixels of the two or more virtual Pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array (4), calculating one or more phase images for the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) an overall virtual electromagnetic field consisting of the superimposition of the one or more virtual electromagnetic fields in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels of the at least one virtual pixel array and / or in and / or on the by the at least one virtual pixel array spanned area, in particular plane, calculation of virtual structure profiles for the one or more virtual pixels d er two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) from the one or more phase images, formation of the virtual structure profiles of the one or more virtual pixels of the two or more pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual Pixel array (4) in and / or on a substrate as at least one pixel array (2) comprising two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f), one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e- 2f) of the at least one pixel array (2) have one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) to provide the optically variable element (1a). Verfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, dass der zumindest eine zugeordnete Raumwinkel und/oder der zumindest eine Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels das zumindest eine Segment aufspannt, wobei insbesondere das zumindest eine Segment zumindest einem Segment einer Kugel, bevorzugt zumindest einem konischen Segment, entspricht, wobei der halbe Öffnungswinkel des zumindest einen Segments kleiner als 20°, bevorzugt kleiner als 15°, weiter bevorzugt kleiner als 10°, ist. Procedure according to Claim 43 , characterized in that the at least one associated solid angle and / or the at least one region of the at least one associated solid angle spans the at least one segment, in particular the at least one segment corresponding to at least one segment of a sphere, preferably at least one conical segment, the half the opening angle of the at least one segment is less than 20 °, preferably less than 15 °, more preferably less than 10 °. Verfahren nach Anspruch 43 oder 44, dadurch gekennzeichnet, dass die virtuellen Feldquellen, welche insbesondere in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels angeordnet sind, in zumindest einer Richtung periodisch und/oder pseudozufällig und/oder zufällig auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels angeordnet sind.Procedure according to Claim 43 or 44 , characterized in that the virtual field sources, which are arranged in particular in and / or on one or more partial areas of the at least one segment and / or the at least one area of the at least one associated solid angle, periodically and / or pseudo-randomly in at least one direction and / or arranged randomly on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment and / or of the at least one area of the at least one associated solid angle. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 45, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstände benachbarter virtueller Feldquellen zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels liegen, und/oder dass die Abstände benachbarter virtueller Feldquellen insbesondere im Mittel zwischen 0,01 mm und 100 mm, insbesondere zwischen 0,1 mm und 50 mm, bevorzugt zwischen 0,25 mm und 20 mm, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels liegen.Procedure according to one of the Claims 43 to 45 , characterized in that the distances between adjacent virtual field sources between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm, in and / or on one or more partial areas of the or several partial areas of the at least one segment and / or the at least one area of the at least one associated solid angle, and / or that the distances between adjacent virtual field sources are in particular between 0.01 mm and 100 mm, in particular between 0.1 mm and 50 mm, preferably between 0.25 mm and 20 mm, in and / or on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment and / or of the at least one area of the at least one associated solid angle. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 46, dadurch gekennzeichnet, dass die Anordnung der virtuellen Feldquellen, insbesondere der virtuellen Punktfeldquellen, als ein Kreuzraster, bevorzugt einem äquidistanten Kreuzraster, in und/oder auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments und/oder des zumindest einen Bereichs des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels erfolgt, wobei der Abstand benachbarter virtueller Feldquellen zueinander zwischen 0,01 µm und 100 µm, insbesondere zwischen 0,1 µm und 50 µm, beträgt und/oder wobei der Winkel zwischen zwei benachbarten virtuellen Feldquellen zueinander, insbesondere relativ zur Position ein oder mehrerer virtueller Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen Pixelarray (4), kleiner als 1°, vorzugsweise kleiner als 0,5°, ist.Procedure according to one of the Claims 43 to 46 , characterized in that the arrangement of the virtual field sources, in particular the virtual point field sources, as a cross grid, preferably an equidistant cross grid, in and / or on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment and / or of the at least one area of the at least one associated solid angle, the distance between adjacent virtual field sources from one another being between 0.01 .mu.m and 100 .mu.m, in particular between 0.1 .mu.m and 50 .mu.m, and / or the angle between two adjacent virtual field sources from one another, in particular relative to Position of one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one pixel array (4) is less than 1 °, preferably less than 0.5 °. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 47, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere virtuelle Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen die Form von Mikrosymbolen aufweisen, insbesondere ausgewählt aus: Buchstabe, Porträt, Bild, alphanumerisches Zeichen, Schriftzeichen, geometrische Freiform, Quadrat, Dreieck, Kreis, gekrümmte Linie, Umriss.Procedure according to one of the Claims 43 to 47 , characterized in that one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources are in the form of micro symbols, in particular selected from: letter, portrait, image, alphanumeric character, characters, geometric free form, square, triangle, circle, curved line, outline . Verfahren nach Anspruch 48, dadurch gekennzeichnet, dass die lateralen Abmessungen der Mikrosymbole auf ein oder mehreren Teilbereichen der ein oder mehreren Teilbereiche des zumindest einen Segments zwischen 0,1° und 10° liegen, insbesondere zwischen 0,2° und 5°, liegen.Procedure according to Claim 48 , characterized in that the lateral dimensions of the microsymbols on one or more partial areas of the one or more partial areas of the at least one segment lie between 0.1 ° and 10 °, in particular between 0.2 ° and 5 °. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 49, dadurch gekennzeichnet, dass eine erste Gruppe von ein oder mehreren virtuellen Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen aus einem Abstand von 0,3 m, insbesondere von 0,15 m bis 0,45 m, nicht auf einen Schirm projizierbar und/oder eine zweite Gruppe von ein oder mehreren virtuellen Feldquellen der ein oder mehreren virtuellen Feldquellen aus einem Abstand von 1,0 m, insbesondere von 0,8 m bis 1,2 m, auf einen Schirm projizierbar ist.Procedure according to one of the Claims 43 to 49 , characterized in that a first group of one or more virtual field sources of the one or more virtual field sources from a distance of 0.3 m, in particular from 0.15 m to 0.45 m, cannot be projected onto a screen and / or second group of one or more virtual field sources which can project one or more virtual field sources from a distance of 1.0 m, in particular from 0.8 m to 1.2 m, onto a screen. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 50, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welches von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, die gleiche Intensität und/oder die gleiche Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.Procedure according to one of the Claims 43 to 50 , characterized in that the virtual electromagnetic field emanating from one or more of the virtual field sources, in particular emanating from all of the virtual field sources, has the same intensity and / or the same intensity distribution over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one Has area of the at least one associated solid angle. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 51, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welche von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, eine Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist, welche gaußförmig oder supergaußförmig verteilt ist. Procedure according to one of the Claims 43 to 51 , characterized in that the virtual electromagnetic field, which emanates from one or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, an intensity distribution over the at least one associated solid angle and / or over the at least one segment and / or over the at least has a region of the at least one associated solid angle, which is distributed in a Gaussian or super Gaussian shape. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 52, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welche von zwei oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, unterschiedliche Intensitäten und/oder unterschiedliche Intensitätsverteilungen über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkel und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.Procedure according to one of the Claims 43 to 52 , characterized in that the virtual electromagnetic field which emanates from two or more of the virtual field sources, in particular emanates from all of the virtual field sources, different intensities and / or different intensity distributions over the at least one assigned solid angle and / or over the at least one segment and / or over the at least one area of the at least one associated solid angle. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 53, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld, welche von ein oder mehreren der virtuellen Feldquellen ausgeht, insbesondere von allen der virtuellen Feldquellen ausgeht, eine isotrope oder eine anisotrope Intensitätsverteilung über den zumindest einen zugeordneten Raumwinkels und/oder über das zumindest eine Segment und/oder über den zumindest einen Bereich des zumindest einen zugeordneten Raumwinkels aufweist.Procedure according to one of the Claims 43 to 53 , characterized in that the virtual electromagnetic field emanating from one or more of the virtual field sources, in particular emanating from all of the virtual field sources, has an isotropic or anisotropic intensity distribution over the at least one associated solid angle and / or over the at least one segment and / or over the at least one area of the at least one associated solid angle. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 54, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere der virtuellen Feldquellen, insbesondere alle der virtuellen Feldquellen, eine virtuelle Punkfeldquelle ausbilden, wobei die virtuelle Punkfeldquelle vorzugsweise eine virtuelle Kugelwelle abstrahlt.Procedure according to one of the Claims 43 to 54 , characterized in that one or more of the virtual field sources, in particular all of the virtual field sources, form a virtual point field source, the virtual point field source preferably emitting a virtual spherical wave. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 55, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ausgehend von einer i-ten virtuellen Punktfeldquelle am Ort (xi, yi, zi) zumindest einer Koordinate (xh, yh, zh), insbesondere einer Koordinate (xh, yh, zh=0) = (xh, yh), in und/oder auf ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray (4) aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, mittels der Gleichung U i ( x h , y h ) = e x p ( i k r ) r ,   r = ( x h x i ) 2 + ( y h y i ) 2 + z i 2 ,
Figure DE102018123482A1_0009
berechnet wird.
Procedure according to one of the Claims 43 to 55 , characterized in that the virtual electromagnetic field U i starting from an i-th virtual point field source at the location (x i , y i , z i ) of at least one coordinate (x h , y h , z h ), in particular one coordinate (x h , y h , z h = 0) = (x h , y h ), in and / or on one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array (4) by means of the equation U i ( x H , y H ) = e x p ( i k r ) r , r = ( x H - x i ) 2nd + ( y H - y i ) 2nd + e.g. i 2nd ,
Figure DE102018123482A1_0009
is calculated.
Verfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen umfasst, welche insbesondere im sichtbaren Spektralbereich von 380 nm bis 780 nm, bevorzugt von 430 nm bis 690 nm, liegen, wobei ein oder mehrere, jeweils benachbarte Wellenlängen der ein oder mehreren Wellenlängen, bevorzugt in dem sichtbaren Spektralbereich, vorzugsweise äquidistant, zueinander beabstandet sind.Procedure according to Claim 56 , characterized in that the virtual electromagnetic field U i comprises one or more wavelengths, which are in particular in the visible spectral range from 380 nm to 780 nm, preferably from 430 nm to 690 nm, one or more, respectively adjacent wavelengths of the one or several wavelengths, preferably in the visible spectral range, preferably equidistant, are spaced apart. Verfahren nach einem der Ansprüche 56 bis 57, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Feld Ui ein oder mehrere Wellenlängen umfasst, welche insbesondere im infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Spektralbereich liegen, wobei ein oder mehrere, jeweils benachbarte Wellenlängen der ein oder mehreren Wellenlängen, bevorzugt in dem infraroten, sichtbaren und/oder ultravioletten Spektralbereich, vorzugsweise äquidistant, zueinander beabstandet sind.Procedure according to one of the Claims 56 to 57 , characterized in that the virtual electromagnetic field U i comprises one or more wavelengths, which are in particular in the infrared, visible and / or ultraviolet spectral range, one or more, respectively adjacent wavelengths of the one or more wavelengths, preferably in the infrared, visible and / or ultraviolet spectral range, preferably equidistant, are spaced apart. Verfahren nach einem der Ansprüche 56 bis 58, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle elektromagnetische Gesamtfeld Up in und/oder auf ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray (4) aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, mittels der Gleichung U p ( x p , y p ) = U r * ( x p , y p ) i = 1 N p U i ( x p , y p )
Figure DE102018123482A1_0010
berechnet wird, wobei insbesondere die virtuellen elektromagnetischen Felder Ui ausgehend von i = 1, ..., Np virtuellen Punktfeldquellen an zumindest einer Koordinate (xP, yP, zP=0) = (xP, yp) und/oder insbesondere die optionale Referenzwelle Ur*, bevorzugt die zumindest eine optionale Referenzwelle Ur*, an zumindest einem Punkt oder für die Parameter (xP, yP) in und/oder auf den ein oder mehreren virtuellen Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) und/oder in und/oder auf der durch das zumindest eine virtuelle Pixelarray (4) aufgespannten Fläche, insbesondere Ebene, berechnet werden.
Procedure according to one of the Claims 56 to 58 , characterized in that the virtual total electromagnetic field U p in and / or on one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) and / or in and / or on the the at least one virtual pixel array (4) spanned area, in particular plane, by means of the equation U p ( x p , y p ) = U r * ( x p , y p ) i = 1 N p U i ( x p , y p )
Figure DE102018123482A1_0010
is calculated, in particular the virtual electromagnetic fields U i starting from i = 1, ..., N p virtual point field sources at at least one coordinate (x P , y P , z P = 0) = (x P , y p ) and / or in particular the optional reference wave U r *, preferably the at least one optional reference wave U r *, at at least one point or for the parameters (x P , y P ) in and / or on the one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) and / or in and / or on the area, in particular plane, spanned by the at least one virtual pixel array (4).
Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 59, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere Phasenbilder der ein oder mehreren Phasenbilder linear in ein virtuelles Strukturprofil umgewandelt werden, wobei ein Phasenwert von 0 der minimalen Tiefe und ein Phasenwert von 2π der maximalen Tiefe der ausgebildeten ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) entsprechen.Procedure according to one of the Claims 43 to 59 , characterized in that one or more phase images of the one or more phase images are linearly converted into a virtual structure profile, wherein a phase value of 0 of the minimum depth and a phase value of 2π of the maximum depth of the formed one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least correspond to a pixel array (2). Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 60, dadurch gekennzeichnet, dass das virtuelle Strukturprofil ein oder mehrerer virtueller Pixel der zwei oder mehreren virtuellen Pixel (4aa-4dd) des zumindest einen virtuellen Pixelarray (4) mittels Laserbelichtung und Entwicklung auf eine mit Photoresist beschichtete Platte und/oder mittels Elektronenstrahl-Lithographie als die ein oder mehreren Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) ein oder mehrerer Pixel der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) ausgebildet wird.Procedure according to one of the Claims 43 to 60 , characterized in that the virtual structure profile of one or more virtual pixels of the two or more virtual pixels (4aa-4dd) of the at least one virtual pixel array (4) by means of laser exposure and development on a plate coated with photoresist and / or by means of electron beam lithography as the one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) of one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) is formed. Verfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 61, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere in einem mehreren Pixeln der zwei oder mehreren Pixel (2aa-2dd,2e-2f) des zumindest einen Pixelarray (2) ausgebildete Strukturen (3aa-3dd,3e-3f) eine optische Tiefe, insbesondere eine optische Tiefe in Luft, von der halben mittleren Wellenlänge des virtuellen elektromagnetischen Feldes und/oder des virtuellen elektromagnetischen Gesamtfeldes aufweisen.Procedure according to one of the Claims 43 to 61 , characterized in that one or more structures (3aa-3dd, 3e-3f) formed in one or more pixels of the two or more pixels (2aa-2dd, 2e-2f) of the at least one pixel array (2) have an optical depth, in particular one have optical depth in air, of half the mean wavelength of the virtual electromagnetic field and / or the virtual total electromagnetic field. Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsdokuments (1d), insbesondere nach einem der Ansprüche 39 bis 42, vorzugsweise umfassend ein oder mehrere Schichten, bevorzugt umfassend ein oder mehrere optisch variable Elemente (1a), insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 39 und/oder insbesondere hergestellt nach einem der Ansprüche 43 bis 62, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere optisch variable Elemente (1a) als Laminierfolie und/oder als Prägefolie auf das Sicherheitsdokument (1d) und/oder auf eine oder mehrere Schichten des Sicherheitsdokuments (1d) aufgebracht werden und/oder in das Sicherheitsdokument (1d) und/oder in ein oder mehrere Schichten der ein oder mehreren Schichten des Sicherheitsdokuments (1d) eingebracht werden.Method for producing a security document (1d), in particular according to one of the Claims 39 to 42 , preferably comprising one or more layers, preferably comprising one or more optically variable elements (1a), in particular according to one of the Claims 1 to 39 and / or in particular manufactured according to one of the Claims 43 to 62 , characterized in that one or more optically variable elements (1a) are applied as a laminating film and / or as an embossing film on the security document (1d) and / or on one or more layers of the security document (1d) and / or in the security document (1d ) and / or in one or more layers of the one or more layers of the security document (1d).
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