DE102014213978A1 - Process for producing an organic semiconductor device and organic semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Halbleiterbauteiles (2), insbesondere eines OPV-Moduls, das als Mehrschichtstruktur gefertigt wird, umfassend eine obere Elektrode (4), eine untere Elektrode (6) und eine zwischen den Elektroden (4, 6) angeordnete aktive Schicht (8), wobei zur elektrischen Verbindung der beiden Elektroden (4, 6) eine Durchkontaktierung (18) ausgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Durchkontaktierung (18) aus einer in einem vorgegebenen Druckbereich (D) aufgedruckten Tinte (22) ausgebildet wird. Desweiteren betrifft die Erfindung ein mittels eines solchen Verfahrens hergestelltes organisches Halbleiterbauteil (2).The invention relates to a method for producing an organic semiconductor component (2), in particular an OPV module, which is manufactured as a multilayer structure, comprising an upper electrode (4), a lower electrode (6) and a between the electrodes (4, 6). arranged active layer (8), wherein for the electrical connection of the two electrodes (4, 6) a through-contact (18) is formed, characterized in that the through-hole (18) from a in a predetermined pressure range (D) printed ink (22) is trained. Furthermore, the invention relates to an organic semiconductor component (2) produced by means of such a method.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Halbleiterbauteils, das als Mehrschichtstruktur gefertigt wird, umfassend eine obere Elektrode, eine untere Elektrode und eine zwischen den Elektroden angeordnete aktive Schicht, wobei zur elektrischen Verbindung der beiden Elektroden eine Durchkontaktierung ausgebildet wird. Desweiteren betrifft die Erfindung ein nach einem solchen Verfahren gefertigtes organisches Halbleiterbauteil. Bei dem organischen Halbleiterbauteil handelt es sich insbesondere um ein OPV-Modul. The invention relates to a method for producing an organic semiconductor device which is produced as a multilayer structure comprising an upper electrode, a lower electrode and an active layer arranged between the electrodes, wherein a through contact is formed for the electrical connection of the two electrodes. Furthermore, the invention relates to a manufactured according to such a method organic semiconductor device. The organic semiconductor device is in particular an OPV module.
Ein solches Verfahren und ein solches OPV-Modul sind beispielsweise der
Ein bevorzugtes Einsatzgebiet eines solchen OPV-Moduls, das heißt eines organischen Photovoltaikelementes ist die Erzeugung elektrischer Energie mittels Sonnenlicht. Dazu weist ein OPV-Modul eine aktive Schicht aus einem organischen Halbleitermaterial auf, in der durch Absorption von Sonnenlicht freie Ladungsträger generiert werden. Die aktive Schicht ist typischerweise als dünne Schicht zwischen einer oberen und einer unteren jeweils als dünne Schicht ausgebildeten Elektrode angeordnet. Dadurch ergibt sich ein Mehrschichtaufbau, der auch noch weitere Schichten umfassen kann. Beispielsweise kann die aktive Schicht zusätzlich zwischen sogenannten Sperrschichten angeordnet sein. Im Folgenden wird daher auch eine solche oder ähnliche Kombination vereinfachend als aktive Schicht bezeichnet. A preferred field of use of such an OPV module, that is, an organic photovoltaic element is the generation of electrical energy by means of sunlight. For this purpose, an OPV module has an active layer made of an organic semiconductor material in which charge carriers are generated by absorption of sunlight. The active layer is typically arranged as a thin layer between an upper and a lower electrode each formed as a thin layer. This results in a multi-layer structure, which may also include other layers. For example, the active layer may additionally be arranged between so-called barrier layers. In the following, therefore, such a or similar combination is referred to simplifying as an active layer.
Die verfügbare Stromstärke und die von dem OPV-Modul zur Verfügung gestellte Spannung sind unter Anderem von dem Aufbau des OPV-Moduls abhängig. Die von einem OPV-Modul generierte Stromstärke ist hierbei im Wesentlichen durch die von dem Halbleitermaterial abgedeckte Fläche definiert; dagegen ist die Spannung im Wesentlichen durch die Bandlücke des Halbleitermaterials definiert und dementsprechend materialabhängig. Um nun eine bestimmte Spannung zu erzielen umfasst ein OPV-Modul daher häufig mehrere Zellen, die seriell miteinander verschaltet sind. Dazu ist es insbesondere notwendig, zunächst die obere und die untere Elektrode in jeweils voneinander isolierte obere und untere Teilelektroden zu unterteilen und auf diese Weise mehrere Zellen auszubilden. Zur Herstellung einer Serienschaltung wird dann üblicherweise die obere Teilelektrode einer ersten Zellen mit der unteren Teilelektrode einer zweiten Zellen elektrisch leitend verbunden. Dazu weisen die zwischen den Elektroden liegenden Schichten und insbesondere die aktive Schicht eine Anzahl von Unterbrechungen auf, in denen ein geeignetes leitendes Material angeordnet wird, mittels dessen die Teilelektroden entsprechend elektrisch leitend verbunden werden. Auf diese Weise wird zwischen zwei Zellen eine Durchkontaktierung ausgebildet, die von einer unteren Teilelektrode zu einer oberen Teilelektrode durch die dazwischenliegende aktive Schicht hindurch reicht. The available current and the voltage supplied by the OPV module depend, among other things, on the structure of the OPV module. The current intensity generated by an OPV module is essentially defined by the area covered by the semiconductor material; By contrast, the voltage is essentially defined by the band gap of the semiconductor material and, accordingly, material-dependent. Therefore, in order to achieve a certain voltage, an OPV module often comprises several cells that are connected in series with one another. For this purpose, it is necessary in particular first to divide the upper and lower electrodes into mutually insulated upper and lower sub-electrodes and to form a plurality of cells in this way. To produce a series connection, the upper part electrode of a first cell is then usually connected in an electrically conductive manner to the lower part electrode of a second cell. For this purpose, the layers lying between the electrodes and in particular the active layer have a number of interruptions, in which a suitable conductive material is arranged, by means of which the subelectrodes are correspondingly electrically conductively connected. In this way, a via is formed between two cells, which extends from a lower part electrode to an upper part electrode through the intermediate active layer.
Aus der
Weiterhin ist aus der
Durch das Ausbilden einer Durchkontaktierung entsteht zwangsläufig ein Totbereich, in dem kein aktives Material vorhanden ist und der somit nicht zur Energieerzeugung nutzbar ist. Das Verhältnis von zur Energieerzeugung nutzbarer Fläche des OPV-Moduls zu nicht-nutzbarer Fläche definiert dabei einen geometrischen Füllfaktor, der insbesondere auch ein Maß für die Effizienz des OPV-Moduls darstellt. Je größer die nutzbare Fläche im Vergleich zur nicht-nutzbaren Fläche ist, desto mehr Energie pro Flächeneinheit kann mit dem OPV-Modul erzeugt werden, das heißt, desto effizienter ist das OPV-Modul. The formation of a plated through hole inevitably creates a dead zone in which no active material is present and thus can not be used to generate energy. The ratio of usable surface area of the OPV module to non-usable area defines a geometric fill factor, which in particular also represents a measure of the efficiency of the OPV module. The larger the usable area compared to the non-usable area, the more energy per unit area can be generated with the OPV module, that is, the more efficient the OPV module is.
Hinzu kommt, dass die OPV-Module üblicherweise dünn sind und der Mehrschichtaufbau eine Höhe aufweist, die um mehrere Größenordnungen geringer ist als die Breite und die Länge des OPV-Moduls. Beispielsweise beträgt die Schichtdicke der Elektroden jeweils etwa 0,1 µm bis 10 µm. Solch dünne Schichten weisen jedoch üblicherweise eine im Vergleich zu dickeren Schichten schlechte Leitfähigkeit auf, wodurch wiederum die Größe der einzelnen Zellen eines OPV-Moduls eingeschränkt ist. Um geringere Verluste zu erzielen muss daher die Zellgröße verringert werden, was sich aufgrund der zusätzlich notwendigen Durchkontaktierungen wiederum negativ auf den Füllfaktor und entsprechend die Effizienz auswirkt. Die Leitfähigkeit zumindest einer der Elektroden ist weiterhin häufig dadurch verringert, dass diese zumindest eine Elektrode aus einem transparenten, leitenden Material gefertigt ist, dessen Leitfähigkeit oft schlecht ist. In addition, the OPV modules are usually thin and the multi-layer structure has a height of several orders of magnitude is less than the width and length of the OPV module. For example, the layer thickness of the electrodes is about 0.1 μm to 10 μm in each case. However, such thin layers usually have poor conductivity compared to thicker layers, which in turn limits the size of the individual cells of an OPV module. In order to achieve lower losses, therefore, the cell size must be reduced, which in turn has a negative effect on the fill factor and correspondingly the efficiency due to the additionally necessary plated-through holes. The conductivity of at least one of the electrodes is furthermore often reduced by the fact that this at least one electrode is made of a transparent, conductive material whose conductivity is often poor.
Zur Ausbildung einer Unterbrechung der zwischen den Elektroden angeordneten aktiven Schicht zwecks anschließender Ausbildung einer Durchkontaktierung wird die Schicht entweder direkt strukturiert, das heißt mit einer entsprechenden Unterbrechung aufgetragen oder die Unterbrechung wird durch nachträgliches Abtragen von Material aus der Schicht ausgebildet. In einem weiteren Verfahrensschritt wird dann die Durchkontaktierung ausgebildet. Dabei muss die Ausbildung der Durchkontaktierung an der Position der Unterbrechung erfolgen, wodurch sich nachteilig ein entsprechender Justieraufwand hinsichtlich der verschiedenen Prozessschritte ergibt. Alternativ wird die Durchkontaktierung gemeinsam mit der oberen Elektrode ausgebildet und muss folglich aus dem gleichen Material wie diese gefertigt sein. To form an interruption of the active layer disposed between the electrodes for subsequent formation of a via, the layer is either directly patterned, that is applied with a corresponding interruption, or the interruption is formed by subsequent removal of material from the layer. In a further method step, the through-connection is then formed. In this case, the formation of the via at the position of the interruption must take place, which disadvantageously results in a corresponding adjustment effort with regard to the various process steps. Alternatively, the via is formed in common with the upper electrode and thus must be made of the same material as this one.
Zur Ausbildung von Unterbrechungen der aktiven Schicht ist weiterhin die Verwendung eines Lasers bekannt. Hierbei ist allerdings die Auswahl der Betriebsparameter des Lasers, wie beispielsweise Wellenlänge und Leistung kritisch und insbesondere auch materialabhängig. Die Betriebsparameter müssen insbesondere derart gewählt werden, dass gezielt lediglich die zwischen den Elektroden liegende aktive Schicht bearbeitet wird und die Elektroden unversehrt bleiben. Daher ist diese Methode wenig flexibel. Zudem ist die Verwendung eines Lasers häufig kostenintensiv. To form interruptions of the active layer, the use of a laser is also known. Here, however, the selection of the operating parameters of the laser, such as wavelength and power is critical and in particular material dependent. The operating parameters must in particular be selected such that only the active layer lying between the electrodes is selectively processed and the electrodes remain intact. Therefore, this method is not very flexible. In addition, the use of a laser is often expensive.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein vereinfachtes Verfahren zur Herstellung eines OPV-Moduls anzugeben. Das Verfahren soll zudem die Herstellung eines OPV-Moduls mit einem größeren geometrischen Füllfaktor ermöglichen. Desweiteren soll das Verfahren eine möglichst große Gestaltungsfreiheit hinsichtlich der Fertigung des OPV-Moduls aufweisen. Eine weitere Aufgabe ist es, ein mittels des Verfahrens herstellbares OPV-Modul anzugeben. The invention has for its object to provide a simplified method for producing an OPV module. The method should also allow the production of an OPV module with a larger geometric fill factor. Furthermore, the method should have the greatest possible design freedom with regard to the production of the OPV module. Another object is to specify an OPV module which can be produced by means of the method.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und ein organisches Halbleiterbauteil mit den Merkmalen des Anspruchs 13. Vorteilhafte Ausgestaltungen, Weiterbildungen und Varianten sind Gegenstand der Unteransprüche. Dabei gelten die im Zusammenhang mit dem Verfahren angeführten Weiterbildungen und Vorteile sinngemäß auch für das organische Halbleiterbauteil. The object is achieved by a method having the features of claim 1 and an organic semiconductor device having the features of claim 13. Advantageous embodiments, developments and variants are the subject of the dependent claims. In this case, the refinements and advantages cited in connection with the method also apply analogously to the organic semiconductor component.
Bei einem Verfahren zur Herstellung eines organischen Halbleiterbauteiles wird dieses als Mehrschichtstruktur gefertigt und umfasst eine obere Elektrode, eine untere Elektrode und eine zwischen den Elektroden angeordnete aktive Schicht. Zur elektrischen Verbindung der beiden Elektroden wird eine Durchkontaktierung ausgebildet, die aus einer in einem vorgegebenen Druckbereich aufgedruckten Tinte ausgebildet wird. Dabei wird insbesondere zunächst eine der beiden Elektroden als untere Elektrode ausgebildet. Auf diese wird die aktive Schicht aufgetragen. Die Tinte zur Herstellung der Durchkontaktierung wird entweder vor oder nach dem Auftragen der aktiven Schicht aufgedruckt. Dazu wird insbesondere ein Druckverfahren verwendet. In a method for producing an organic semiconductor device, this is fabricated as a multilayer structure and comprises an upper electrode, a lower electrode and an active layer disposed between the electrodes. For electrical connection of the two electrodes, a via is formed, which is formed from an ink printed in a predetermined pressure range. In particular, at first one of the two electrodes is formed as a lower electrode. On these the active layer is applied. The ink for making the via is printed either before or after the application of the active layer. For this purpose, a printing method is used in particular.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere darin, dass die Herstellung des organischen Halbleiterbauteiles und insbesondere die Ausbildung der Durchkontaktierung durch das Aufdrucken der Tinte besonders vereinfacht wird. Das Ausbilden der Durchkontaktierung mittels aufgedruckter Tinte ermöglicht insbesondere die Verwendung eines Druckverfahrens mittels dessen eine Durchkontaktierung mit besonders geringen Abmessungen, insbesondere mit besonders geringer Breite und Länge herstellbar ist. Insbesondere ist es damit möglich ein organisches Halbleiterbauteil mit einem verbesserten Füllfaktor und entsprechend mit einer verbesserten Effizienz zu fertigen. Das Aufdrucken der Tinte, das heißt insbesondere das Aufdrucken der Durchkontaktierung ermöglicht zudem vorteilhaft eine freie Gestaltung der Durchkontaktierung, insbesondere deren Form und Verlauf, wodurch das organische Halbleiterbauteil insgesamt besonders frei gestaltbar ist. Weiterhin ist es vorteilhaft möglich, auf die Verwendung eines Lasers zu verzichten. The advantages achieved by the invention are in particular that the production of the organic semiconductor device and in particular the formation of the via through the printing of the ink is particularly simplified. The formation of the through-connection by means of printed ink makes it possible in particular to use a printing method by means of which a plated-through hole with particularly small dimensions, in particular with a particularly small width and length, can be produced. In particular, it is thus possible to manufacture an organic semiconductor device with an improved filling factor and, correspondingly, with improved efficiency. The printing of the ink, that is to say in particular the printing of the plated-through hole, also advantageously makes possible a free design of the plated-through hole, in particular its shape and shape, as a result of which the organic semiconductor component as a whole is particularly free to design. Furthermore, it is advantageously possible to dispense with the use of a laser.
Vorzugsweise ist das organische Halbleiterbauteil ein OPV-Modul, das heißt ein organisches Photovoltaikelement. Dieses eignet sich besonders zur Herstellung mittels des oben angegebenen Verfahrens. Im Folgenden wird daher ohne Beschränkung der Allgemeinheit von einem als OPV-Modul ausgebildeten organischen Halbleiterbauteil ausgegangen. Die Beschreibung gilt dabei sinngemäß für jegliche organischen Halbleiterbauelemente. Denkbar ist beispielsweise eine Ausgestaltung als organische Leuchtdiode, organische elektrochemische Zelle, organischer Feldeffekttransistor, organischer Dünnschichttransistor, organischer Photodetektor, Laserdiode, Schottkydiode, Photoleiter, Photodetektor oder thermoelektrisches Bauteil. Preferably, the organic semiconductor device is an OPV module, that is, an organic photovoltaic element. This is particularly suitable for the preparation by means of the above-mentioned method. In the following, therefore, without limiting the generality, it is assumed that an organic semiconductor component designed as an OPV module is used. The description applies mutatis mutandis to any organic semiconductor devices. It is conceivable, for example, an embodiment as an organic light-emitting diode, organic electrochemical cell, organic field effect transistor, organic thin film transistor, organic photodetector, laser diode, Schottky diode, photoconductor, photodetector or thermoelectric device.
Das OPV-Modul umfasst zumindest zwei Zellen, mit jeweils einer oberen Zellenelektrode und einer unteren Zellenelektrode, wobei die oberen Zellenelektroden als Teilelektroden der oberen Elektrode ausgebildet werden und die unteren Zellenelektroden als Teilelektroden der unteren Elektrode. Insbesondere wird zunächst die untere Elektrode, umfassend eine Anzahl von unteren Teilelektroden ausgebildet. Dies erfolgt vorzugsweise auf einem geeigneten Substrat, beispielsweise PET. Nachfolgend werden die aktive Schicht und die Durchkontaktierung aufgebracht. The OPV module comprises at least two cells each having an upper cell electrode and a lower cell electrode, the upper cell electrodes being formed as sub-electrodes of the upper electrode and the lower cell electrodes being sub-electrodes of the lower electrode. In particular, first, the lower electrode comprising a number of lower sub-electrodes is formed. This is preferably done on a suitable substrate, for example PET. Subsequently, the active layer and the via are applied.
Das Aufbringen der Tinte und damit insbesondere der Durchkontaktierung erfolgt dabei mittels eines Druckverfahrens, insbesondere eines hochauflösenden Druckverfahrens, beispielsweise mittels Tintenstrahldruck, Tiefdruck, Flexodruck, Siebdruck, Transferdruck oder Schlitzdüsen-Beschichtung, sogenanntes slot-die coating. Dabei wird die Tinte bevorzugt ausschließlich in einem vorgegebenen Druckbereich aufgedruckt, in dem die Durchkontaktierung ausgebildet werden soll. Anschließend wird die obere Elektrode, umfassend eine Anzahl von oberen Teilelektroden ausgebildet. Dabei werden dann insbesondere die obere Teilelektrode zur Ausbildung einer Serienschaltung einer Anzahl von Zellen geeignet mit der unteren Teilelektrode mittels der Durchkontaktierungen elektrisch leitend verbunden. The application of the ink and thus in particular of the via is effected by means of a printing process, in particular a high-resolution printing process, for example by means of ink jet printing, gravure printing, flexographic printing, screen printing, transfer printing or slot die coating, so-called slot-die coating. In this case, the ink is preferably printed exclusively in a predetermined printing area, in which the through-connection is to be formed. Subsequently, the upper electrode comprising a number of upper sub-electrodes is formed. In this case, in particular, the upper part electrode for forming a series connection of a number of cells are suitably connected electrically conductively to the lower part electrode by means of the plated-through holes.
Das Substrat dient insbesondere der verbesserten Handhabung des OPV-Moduls und ist vergleichsweise dick im Hinblick auf die Elektroden und die aktive Schicht. Die untere Elektrode ist vorzugsweise aus einem transparenten, leitenden Oxid gefertigt, beispielsweise Indiumzinnoxid, die obere Elektrode beispielsweise aus Silber. The substrate serves in particular for improved handling of the OPV module and is comparatively thick with respect to the electrodes and the active layer. The lower electrode is preferably made of a transparent, conductive oxide, for example, indium tin oxide, the upper electrode, for example made of silver.
Die aktive Schicht wird im Druckbereich vorzugsweise flächig aufgebracht, wodurch insbesondere ein im Vergleich dazu aufwendigeres, strukturiertes Auftragen vermeidbar ist und das OPV-Modul einfacher zu fertigen ist. Dabei wird unter strukturiertem Auftragen verstanden, dass die aktive Schicht nicht als durchgängige Schicht aufgetragen wird, sondern als eine Mehrzahl von voneinander mittels zumindest einer Unterbrechung getrennten Teilbereichen. Die Unterbrechung dient in diesem Fall insbesondere zur Vorbereitung der Ausbildung der Durchkontaktierung. Im Gegensatz dazu wird unter flächig insbesondere verstanden, dass die aktive Schicht auch im Bereich der späteren Durchkontaktierungen durchgängig, das heißt zunächst ohne Unterbrechung aufgetragen wird. The active layer is preferably applied flat in the printing area, whereby in particular a more complex, structured application can be avoided and the OPV module can be manufactured more easily. Structured application means that the active layer is not applied as a continuous layer but as a plurality of subregions separated from one another by means of at least one interruption. The interruption is used in this case, in particular for preparing the formation of the via. In contrast, flat is understood in particular that the active layer in the area of the subsequent vias continuously, that is initially applied without interruption.
In einer bevorzugten Ausgestaltung wird auf die flächig aufgetragene aktive Schicht zum Drucken der Durchkontaktierung eine Tinte verwendet, welche die aktive Schicht im Druckbereich durchdringt. Dadurch ist es insbesondere möglich, auf ein zusätzliches Strukturieren, das heißt Ausbilden zumindest einer Unterbrechung zum Einbringen der Durchkontaktierung zu verzichten. Stattdessen erfolgt das Ausbilden der Unterbrechung und die Ausbildung der Durchkontaktierung insbesondere gleichzeitig beim Aufdrucken der Tinte. Diese durchdringt die aktive Schicht und insbesondere auch mögliche weitere zwischen den Elektroden vorgesehene und bereits aufgebrachte Schichten, wodurch insbesondere eine Kontaktierung mit der unteren Elektrode erfolgt. Auf diese Weise ist die Herstellung des OPV-Moduls besonders vereinfacht. In a preferred embodiment, an ink which penetrates the active layer in the printing area is used on the surface-applied active layer for printing the through-connection. This makes it possible, in particular, to dispense with additional structuring, that is to say the formation of at least one interruption for introducing the through-connection. Instead, the formation of the interruption and the formation of the via, in particular, takes place simultaneously during the printing of the ink. This penetrates the active layer and in particular also possible further provided between the electrodes and already applied layers, whereby in particular a contacting takes place with the lower electrode. In this way, the production of the OPV module is particularly simplified.
Zweckmäßigerweise enthält die Tinte ein Lösungsmittel zum Durchdringen der aktiven Schicht im Druckbereich. Das Lösungsmittel ist insbesondere auch ein Lösungsmittel für das Material der aktiven Schicht und löst diese entsprechend im Druckbereich auf. Auf diese Weise entsteht insbesondere eine Unterbrechung der aktiven Schicht im Druckbereich. Die Tinte umfasst beispielsweise Silberpartikel als leitendes Material und ein Methanol/Anisol-Gemisch als Lösungsmittel. Um insbesondere nach dem Durchdringen der aktiven Schicht eine besonders gute Benetzung der unteren Elektrode zu erzielen weist die Tinte zweckmäßigerweise eine niedrige Oberflächenspannung auf, vorzugsweise im Bereich von 10 bis 100 mN/m. Eine geeignete Viskosität der Tinte liegt beim Tintenstrahldruck im Bereich von 1 bis 30 mPas. Bei einem anderen Druckverfahren sind jedoch möglicherweise andere Wertebereiche geeigneter. Beispielsweise ist der Wert der Viskosität bei einem Siebdruckverfahren bevorzugterweise deutlich höher als beim Tintenstrahldruck. Conveniently, the ink contains a solvent for penetrating the active layer in the printing area. The solvent is in particular also a solvent for the material of the active layer and dissolves it accordingly in the pressure range. In this way, in particular, an interruption of the active layer in the pressure region arises. The ink includes, for example, silver particles as a conductive material and a methanol / anisole mixture as a solvent. In order to achieve a particularly good wetting of the lower electrode, in particular after penetration of the active layer, the ink expediently has a low surface tension, preferably in the range from 10 to 100 mN / m. A suitable viscosity of the ink is in the range of 1 to 30 mPas in ink jet printing. However, with another printing method, other ranges of values may be more appropriate. For example, the value of the viscosity in a screen printing method is preferably significantly higher than in inkjet printing.
In einer alternativen bevorzugten Ausgestaltung wird zunächst vor dem Aufbringen der aktiven Schicht die Tinte in dem für die Durchkontaktierungen vorgesehenen Bereichen aufgedruckt. Aus der aufgedruckten Tinte wird die Durchkontaktierung ausgebildet. Die aktive Schicht wird also nachfolgend und insbesondere flächig über die Tinte aufgetragen. Im Bereich der Tinte wird die aktive Schicht durchbrochen, so dass die Durchkontaktierung ausgebildet wird. In an alternative preferred embodiment, the ink is first printed in the areas provided for the vias prior to the application of the active layer. From the printed ink, the via is formed. The active layer is thus applied subsequently and in particular over the ink over the entire surface. In the area of the ink, the active layer is broken, so that the via is formed.
Vorzugsweise erfolgt vor dem Aufbringen der aktiven Schicht zunächst eine thermische Behandlung der Tinte, beispielsweise ein Sinterprozess. Dadurch bildet die Tinte eine etwas gefestigtere Leiterstruktur aus. Insbesondere wird die Leiterstruktur also direkt auf der unteren Elektrode und noch vor dem Aufbringen der aktiven Schicht sowie der oberen Elektrode ausgebildet. Danach wird die aktive Schicht flächig aufgebracht und im Druckbereich von der Durchkontaktierung verdrängt. Beispielsweise wird die aktive Schicht in einem Tiefdruckverfahren aufgebracht, bei dem überschüssiges Material mittels eines Rakels derart entfernt wird, dass die leitfähige Tinte bzw. die Leiterstruktur freiliegt, dadurch die Durchkontaktierung bildet und im Folgenden mit der oberen Elektrode verbindbar ist. Ein solches Verfahren wird auch als doctor blading bezeichnet. Das OPV-Modul ist dadurch besonders einfach zu fertigen. Zudem ist es insbesondere möglich, auf ein separates Strukturieren der aktiven Schicht, das heißt Ausbilden zumindest einer Unterbrechung zum Einbringen der Durchkontaktierung zu verzichten. Preferably, prior to the application of the active layer, a thermal treatment of the ink, for example a sintering process, is carried out first. As a result, the ink forms a somewhat stronger conductor structure. In particular, the conductor structure is therefore formed directly on the lower electrode and before the application of the active layer and the upper electrode. Thereafter, the active layer is applied flat and in the pressure range displaced by the via. For example, the active layer is applied in a gravure printing method in which excess material is removed by means of a doctor blade so that the conductive ink or the conductor structure is exposed, thereby forming the via and is subsequently connectable to the upper electrode. Such a procedure is also referred to as doctor blading. The OPV module is therefore particularly easy to manufacture. In addition, it is in particular possible to dispense with a separate structuring of the active layer, that is to say forming at least one interruption for introducing the through-connection.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung erfolgt beim Aufbringen der aktiven Schicht im Druckbereich eine Entnetzung, wodurch auf besonders einfache Weise sichergestellt wird, dass die Durchkontaktierung nicht von der aktiven Schicht verdeckt wird. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung weist die Tinte eine Mehrzahl von Partikeln mit einer vorgegebenen mittleren Partikelgröße auf und die aktive Schicht wird mit einer vorgegebenen Schichtdicke aufgebracht, wobei die mittlere Partikelgröße größer ist als die Schichtdicke. Die Tinte weist beispielsweise Silbercluster auf, mit einer mittleren Größe von ungefähr zwischen 0,5 µm und 5 µm und die aktive Schicht wird mit einer Schichtdicke von etwa zwischen 50 nm und 500 nm aufgetragen. Hierdurch wird insbesondere gewährleistet, dass die mittels der Tinte ausgebildete Leiterstruktur die aktive Schicht hinreichend überragt und nicht von dieser verdeckt wird. In an advantageous embodiment, dewetting takes place when the active layer is applied in the printing region, which ensures in a particularly simple manner that the plated through hole is not covered by the active layer. In a further advantageous embodiment, the ink has a plurality of particles with a predetermined mean particle size and the active layer is applied with a predetermined layer thickness, wherein the average particle size is greater than the layer thickness. The ink comprises, for example, silver clusters, with an average size of approximately between 0.5 μm and 5 μm, and the active layer is applied at a layer thickness of approximately between 50 nm and 500 nm. This ensures, in particular, that the conductor structure formed by means of the ink projects sufficiently beyond the active layer and is not covered by it.
Die Tinte wird insbesondere lediglich in einem möglichst kleinen Druckbereich aufgebracht, wohingegen die Elektroden insbesondere großflächig ausgebildet werden und sich dabei weite Teile des OPV-Moduls erstrecken. Um nun zum Aufdrucken der Tinte und zum Ausbilden der Elektroden ein jeweils optimal geeignetes Verfahren zu verwenden wird die Tinte vorzugsweise in einem von der Ausbildung der Elektroden separaten Verfahrensschritt aufgebracht. The ink is applied in particular only in the smallest possible pressure range, whereas the electrodes are formed in particular over a large area and thereby extend large parts of the OPV module. In order to use an optimally suitable method for printing the ink and for forming the electrodes, the ink is preferably applied in a separate process step from the formation of the electrodes.
Zweckmäßigerweise wird eine Tinte verwendet, die ein Material mit einer guten Leitfähigkeit enthält, beispielsweise Silber oder Gold. Da diese Materialien jedoch teuer sind, werden die insbesondere materialintensiveren Elektroden vorzugsweise aus einem anderen Material gefertigt als die Durchkontaktierung. Dadurch ist es möglich, die Elektroden insbesondere kostengünstiger zu fertigen als bei Verwendung des gleichen Materials. Auch ist es möglich, für die Elektroden und für die Durchkontaktierung jeweils besonders geeignete Materialien auszuwählen. Conveniently, an ink is used which contains a material with good conductivity, for example silver or gold. However, since these materials are expensive, the particularly more material-intensive electrodes are preferably made of a different material than the through-hole. This makes it possible to manufacture the electrodes in particular less expensive than when using the same material. It is also possible to select particularly suitable materials for the electrodes and for the through-connection.
Um das Verfahren insbesondere weiter zu vereinfachen werden zusätzlich zur Durchkontaktierung vorteilhafterweise auch die beiden Elektroden und die aktive Schicht jeweils mittels eines Druckverfahrens ausgebildet. In Kombination mit der Ausbildung der Durchkontaktierung mittels Aufdrucken der Tinte ist das Verfahren daher zweckmäßigerweise ein mehrstufiges Druckverfahren, bei dem insbesondere alle Schichten jeweils mittels eines Druckverfahrens hergestellt werden. Vorteilhafterweise ist das Verfahren ein Rollenauftragverfahren, wodurch das OPV-Modul besonders kostengünstig fertigbar ist. In order to further simplify the process, in addition to the via, the two electrodes and the active layer are advantageously also formed by means of a printing process. In combination with the formation of the via by means of printing on the ink, the method is therefore expediently a multi-stage printing process in which, in particular, all layers are produced in each case by means of a printing process. Advantageously, the method is a roll application method, whereby the OPV module can be manufactured particularly inexpensively.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand einer Zeichnung näher erläutert. Darin zeigen: Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to a drawing. Show:
Die
Die obere Elektrode
Jeweils eine der oberen Teilelektroden
In
In den
In einem zweiten Schritt wird eine Durchkontaktierung
In einem dritten, in der
In den
Anschließend wird in einem zweiten Schritt die aktive Schicht
In
Grundsätzlich ist es möglich, dass zusätzlich zur aktiven Schicht
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 2 2
- OPV-Modul OPV module
- 4 4
- obere Elektrode upper electrode
- 4‘ 4 '
- obere Teilelektrode upper part electrode
- 6 6
- untere Elektrode lower electrode
- 6‘ 6 '
- untere Teilelektrode lower part electrode
- 8 8th
- aktive Schicht active layer
- 8‘ 8th'
- Abschnitt (der aktiven Schicht) Section (the active layer)
- 10 10
- Sammelleiter busbars
- 12 12
- Flächenkontakt surface contact
- 14 14
- Isolationsstelle isolation place
- 16 16
- Zelle cell
- 18 18
- Durchkontaktierung via
- 20 20
- Druckerkopf printhead
- 22 22
- Tinte ink
- 24 24
- Leiterstruktur conductor structure
- B B
- Breite (der Durchkontaktierung) Width (of the via)
- D D
- Druckbereich pressure range
- F F
- Förderrichtung conveying direction
- S S
- Schichtdicke layer thickness
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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- US 8129616 B2 [0002, 0006] US 8129616 B2 [0002, 0006]
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