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DE102008026841A1 - Optoelektronisches Bauteil - Google Patents

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DE102008026841A1
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potting body
connection
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Harald JÄGER
Albert Schneider
Herbert Brunner
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Ams Osram International GmbH
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Osram Opto Semiconductors GmbH
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Abstract

In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils beinhaltet dieses mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip mit einer Dicke von höchstens 200 µm sowie einen Anschlussträger mit mindestens zwei elektrischen Anschlussstellen zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterchips. Der Halbleiterchip ist direkt auf den Anschlussträger aufgebracht und stellenweise von einem Vergusskörper umgeben. Der Vergusskörper steht ebenfalls in direktem Kontakt zum Anschlussträger. Ein solches optoelektronisches Bauteil ist leicht zu fertigen, kostengünstig herzustellen, besitzt gute optische Eigenschaften und ist alterungsstabil.

Description

  • Es wird ein optoelektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip und einem Vergusskörper angegeben.
  • Optoelektronische Bauteile wie beispielsweise Leucht- oder Photodioden haben eine breite technische Verwendung und Einzug in den Alltag gefunden. Einige Gesichtspunkte, die der Verbreitung solcher Bauteile Vorschub leisteten, sind deren hohe Effizienz, Widerstandsfähigkeit gegen äußere Umwelteinflüsse wie etwa mechanische Belastungen oder Feuchtigkeit und Wärme, hohe Lebensdauer, kompakte Bauweise und vielfältige Ausgestaltungsmöglichkeiten, und dies bei vergleichsweise geringen Fertigungskosten. Oft entscheidend für diese Eigenschaften ist die Hausung beziehungsweise das Gehäuse des optoelektronischen Bauteils. Auf insbesondere die Hausung wird daher in der Regel großer Wert gelegt.
  • Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, ein optoelektronisches Bauteil anzugeben, das besonders alterungsstabil ist.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils umfasst dieses mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip mit einer Dicke von höchstens 200 μm. In einer bevorzugten Ausführungsform beträgt die Dicke des Halbleiterchips höchstens 150 μm. In einer besonders bevorzugten Ausführungsform höchstens 100 μm, insbesondere weniger als 50 μm. Insbesondere kann der Halbleiterchip beispielsweise wie in der Druckschrift WO 2005/081319A1 beschrieben ausgeformt sein, deren Offenbarungsgehalt hinsichtlich des dort beschriebenen Halbleiterchips sowie des dort beschriebenen Herstellungsverfahrens hiermit durch Rückbezug mit aufgenommen wird. Die Kontaktflächen des Halbleiterchips zu dessen elektrischen Kontaktierung können sich beispielsweise auf einer Seite des Halbleiterchips befinden, so dass der Halbleiterchip als Flip-Chip ausgestaltet ist, oder auch auf zwei gegenüberliegenden Seiten angebracht sein.
  • Der Halbleiterchip umfasst eine aktive Schicht, die zur Strahlungserzeugung oder Strahlungsdetektion vorgesehen ist. Die aktive Schicht des Halbleiterchips kann beispielsweise auf GaN- oder GaAs-Basis beruhen. Ebenso sind auf GaP basierende aktive Schichtenfolgen möglich. Der Halbleiterchip kann etwa als Leuchtdiode, Laserdiode oder Photodiode ausgestaltet sein.
  • Bevorzugt ist der Halbleiterchip mechanisch selbsttragend ausgestaltet. Das heißt, er kann zum Beispiel mit einer Pinzette oder einem anderen geeigneten Werkzeug gehandhabt, insbesondere auf einem Anschlussträger platziert werden.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils enthält dieses einen Anschlussträger mit mindestens zwei elektrischen Anschlussstellen zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterchips. Bevorzugt beinhaltet der Anschlussträger ebenfalls elektrische Leitungen, die etwa zur Stromversorgung des Halbleiterchips dienen. Der Grundkörper des Anschlussträgers kann beispielsweise aus einer Keramik, einem Glas oder einem Metall geformt sein. Auf Kunststoff basierende Anschlussträger sind ebenso möglich. Bevorzugt weist der Anschlussträger eine hohe thermische Leitfähigkeit auf, um im Betrieb des Halbleiterchips entstehende Abwärme gut nach außen abführen zu können. Die Anschlussseite des Anschlussträgers, auf der der Halbleiterchip angebracht werden kann, kann eben ausgestaltet sein oder Strukturierungen aufweisen, wie beispielsweise als eine Art Reflektor wirkende Mulden, die zur Aufnahme der Halbleiterchips vorgesehen sind.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils umfasst dieses einen Vergusskörper. Der Vergusskörper umgibt den Halbleiterchip zumindest stellenweise. Der Vergusskörper ist bevorzugt aus einem Material gestaltet, das im für den Betrieb des Halbleiterchips relevanten elektromagnetischen Spektralbereich zumindest teilweise durchlässig ist. Der Vergusskörper kann beispielsweise aus einem Silikon oder Epoxidharz oder einem Silikon-Epoxid-Hybrid-Material gestaltet sein. Vorzugsweise ist der Vergusskörper alterungsstabil gegenüber der vom Halbleiterchip zu emittierenden oder zu empfangenden elektromagnetischen Strahlung, und ebenso alterungsstabil gegenüber der im Betrieb des Halbleiterchips auftretenden thermischen Belastungen. Der Vergusskörper kann zum Beispiel linsenartig geformt sein. „Linsenartig" bedeutet hierbei, dass der Vergusskörper nicht die exakte geometrische Form beziehungsweise Oberfläche einer Linse aufweisen muss, sondern beispielsweise über eine konvexe, vom Anschlussträger weg gerichtete Krümmung verfügt. „Linsenartig" schließt auch beispielsweise Fresnel-artige Strukturierung der Außenfläche des Vergusskörpers mit ein.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Halbleiterchip direkt auf den Anschlussträger aufgebracht. Das bedeutet, dass sich bis auf ein Verbindungsmittel, wie beispielsweise einem elektrisch leitfähigen Kleber oder einem Lot, keine weiteren Komponenten beziehungsweise Materialien zwischen Halbleiterchip und elektrischen Anschlussstellen des Anschlussträgers befinden.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils befindet sich der Vergusskörper in direktem Kontakt zum Anschlussträger. Das bedeutet, dass zwischen der Anschlussseite des Anschlussträgers und dem Vergusskörper an zumindest einer Stelle kein weiteres Material wie beispielsweise eine Folie oder eine Klebeschicht angebracht ist. Bevorzugt steht der Vergusskörper ebenfalls in direktem Kontakt zum Halbleiterchip. Bevorzugt steht der Vergusskörper nur in direktem Kontakt zu Anschlussträger und Halbleiterchip.
  • In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils beinhaltet dieses mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip mit einer Dicke von höchstens 200 μm sowie einen Anschlussträger mit mindestens zwei elektrischen Anschlussstellen zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterchips. Der Halbleiterchip ist direkt auf den Anschlussträger aufgebracht und stellenweise von einem Vergusskörper umgeben. Der Vergusskörper steht ebenfalls in direktem Kontakt zum Anschlussträger.
  • Ein solches optoelektronisches Bauteil ist leicht zu fertigen, kostengünstig herzustellen, besitzt gute optische Eigenschaften und ist alterungsstabil.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Halbleiterchip als Flip-Chip ausgestaltet. Das heißt, die Kontaktflächen des Halbleiterchips zur elektrischen Kontaktierung befinden sich auf einer Hauptseite des Halbleiterchips. Bevorzugt befinden sich die beiden elektrischen Kontakte des Chips auf der dem Anschlussträger zugewandten Seite des Halbleiterchips. Wird ein Flip-Chip verwendet, so vereinfacht sich die elektrische Kontaktierung des Chips.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Vergusskörper mit einem Material gestaltet, das eine geringere Härte als Shore A 90 aufweist. Bevorzugt beträgt die Härte des den Vergusskörper bildenden Materials weniger als Shore A 80. Bei der Skala gemäß Shore A entspricht Shore A 0 der geringsten Härte und Shore A 100 der höchsten Härte.
  • Dem hier beschriebenen Bauteil liegt dabei unter anderem die folgende Erkenntnis zugrunde. Vergusskörper aus zum Beispiel Silikon weisen typische Wärmeausdehnungen im Bereich von etwa 150 ppm pro Kelvin bis 300 ppm pro Kelvin auf. Die Wärmeausdehnung des Halbleiterchips liegt in der Größenordnung von 5 ppm pro Kelvin und ist damit erheblich geringer. Die Wärmeausdehnung beispielsweise eines keramischen Anschlussträgers ist mit 15 bis 20 ppm pro Kelvin vergleichbar mit der eines Halbleiterchips, weicht jedoch auch deutlich von der eines Silikons ab. Der Temperaturunterschied zwischen abgeschaltetem Zustand und Betrieb des optoelektronischen Bauteils kann 100 Kelvin deutlich übersteigen. Dementsprechend können signifikante thermische Spannungen zwischen Halbleiterchip und Vergusskörper auftreten.
  • Bei der Verwendung härterer Silikone bilden sich daher relativ leicht Risse im Vergusskörper aus, die von den Kanten des Halbleiterchips ausgehen. Diese Risse führen zu einer Verschlechterung der Lichtaus- beziehungsweise Lichteinkoppelung in beziehungsweise aus dem Halbleiterchip und können zudem die mechanische Verbindung des Vergusskörpers zum Halbleiterchip beziehungsweise zum Anschlussträger deutlich verschlechtern, so dass die Gefahr besteht, dass sich der Vergusskörper von Halbleiterchip beziehungsweise Anschlussträger ablöst und das optoelektronische Bauteil hierdurch zerstört wird. Der Rissbildung kann entgegengewirkt werden, wenn, wie beschrieben, weichere Materialien für den Vergusskörper verwendet werden, die die Belastungen aufgrund der thermischen Spannungen aufnehmen beziehungsweise ausgleichen können.
  • Werden für den Vergusskörper Hybridmaterialien, wie zum Beispiel Silikon-Epoxid-Hybridmaterialien, verwendet, so können diese auch eine größere Härte als Shore A 80 aufweisen, etwa zwischen Shore A80 und Shore D 70, da deren thermischer Ausdehnungskoeffizient im Vergleich zu Silikonen geringer ist.
  • Außerdem verringern sich die thermischen Spannungen erheblich, wenn die Dicke der Halbleiterchips gering ist, wie beschrieben, zum Beispiel weniger als 200 μm beträgt. Über weiche Vergusskörpermaterialien und/oder dünne Halbleiterchips kann somit die Alterungsstabilität eines optoelektronischen Bauteils signifikant verbessert werden.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils beinhaltet der Vergusskörper mindestens eine Beimengung in Form eines Reflexionsmittels, Filtermittels, Diffusionsmittels oder Konversionsmittels. Ein Reflexionsmittel kann beispielsweise in Form von reflektierenden Metallpartikeln dem Vergusskörper beigegeben sein. Filtermittel können etwa aus Pigmenten oder Farbstoffen bestehen. Als Diffusionsmittel eignen sich beispielsweise lichtstreuende Partikel aus etwa Titandioxid oder Aluminiumoxid. Als Konversionsmittel können zum Beispiel organische oder anorganische Lumineszenzleuchtstoffe eingesetzt werden, die mindestens einen Teil der vom Halbleiterchip zu emittierenden oder zu empfangenden Strahlung in eine Strahlung einer anderen Frequenz umwandeln. Auch optisch wirksame oder photonische Kristalle können als Konversionsmittel eingesetzt werden, beispielsweise zu Zwecken der Frequenzverdoppelung oder Frequenzverdreifachung. Durch eine Beimengung im Vergusskörper erhöhen sich die Ausgestaltungsmöglichkeiten des optoelektronischen Bauteils erheblich und es kann in vielfältigen Anwendungen eingesetzt werden.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist die Beimengung inhomogen im Vergusskörper verteilt. Ist die Beimengung ein Konversionsmittel, so kann dessen Konzentration über dem Zentralbereich der dem Anschlussträger abgewandten Seite des Halbleiterchips, die beispielsweise eine Strahlungsdurchtrittsfläche bildet, höher sein als an den Randbereichen. Hierdurch können über die gesamte strahlungsemittierende Fläche eines Halbleiterchips gleichmäßige Farbverteilungen erzielt werden. Enthält der Vergusskörper ein Reflexionsmittel, so kann das Reflexionsmittel beispielsweise in den Bereichen des Vergusskörpers konzentriert sein, die sich nahe der Anschlussseite befinden. Dadurch ist es möglich, dass sich eine gerichtetere Abstrahlcharakteristik ergibt, falls der Halbleiterchip als Licht emittierendes Element ausgestaltet ist.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Vergusskörper mittels Compression Molding (Formpressen), Liquid Transfer Molding (Flüssigspritzpressen), Liquid Injection Molding (Flüssigspritzgießen) oder Casting (Gießen) erzeugt, wobei der Anschlussträger einen Teil der Gießform bildet. Compression Molding stellt eine effektive Methode dar, um Vergusskörper für Halbleiterchips zu erstellen. Hierbei wird das Material für den Vergusskörper in die Form eingebracht und der Anschlussträger in das in der Form befindliche Material gedrückt. In einer Abwandlung des Compression Molding kann auch festes, granulatförmiges Material, zum Beispiel Hybridmaterialien, verwendet werden. Hierbei kann das Material auch auf den Anschlussträger und den Halbleiterchip vor dem Schließen der Form aufgebracht werden. Die Abdichtung zwischen Anschlussträger und Gießform kann beispielsweise über eine Abdichtfolie erfolgen, die nach dem Compression Molding Prozess entfernt wird. Werden feste, zum Beispiel in Tablettenform gepresste Materialien, etwa Hybridmaterialien, verwendet, kann das Herstellen des Vergusskörpers auch mittels Transfer Molding erfolgen.
  • Zum Beispiel ist Liquid Injection Molding von Halbleiterbauteilen in der Druckschrift WO 2005/017995 A1 beschrieben, Casting von Halbleiterbauteilen in der Druckschrift EP 1 589 569 A2 und Liquid Transfer Molding von integrierten Halbleiterschaltkreisen in der Druckschrift US 2002/0153637 A1 .
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Anschlussträger mit einer Keramik gestaltet. Der Anschlussträger kann gänzlich aus einer Keramik gestaltet sein oder einen keramischen Bestandteil beinhalten. Die Keramik kann etwa aus Aluminium-Nitrid oder Aluminium-Oxid bestehen. Bevorzugt weist die verwendete Keramik eine hohe thermische Leitfähigkeit auf. Die Keramik kann als Dünnfilmkeramik ausgestaltet sein mit Dicken weniger als 500 μm, bevorzugt weniger als 400 μm, oder als Multilagenkeramik ausgeführt sein, bei der beispielsweise verschiedene Schichten an Keramik mit verschiedenen Schichten aus leitendem Material, wie beispielsweise einem Metall, abwechseln. Eine Multilagenkeramik weist eine beziehungsweise mehrere Schichtenfolgen auf, bei dem eine Keramik und eine Wolframpaste beispielsweise von 8 μm Nickel und 1 μm Gold gefolgt werden.
  • Im Falle der Verwendung einer Dünnfilmkeramik kann diese mit Kupfer beschichtet sein. Um eine hohe Wärmeleitfähigkeit zu erzielen und damit die thermischen Belastungen zu reduzieren, kann das Kupfer in einer dicken Schicht aufgebracht sein. Beispielsweise kann die Dünnfilmkeramik, von der Oberfläche der Keramik aus gesehen in Richtung Anschlussseite beziehungsweise Halbleiterchip, folgende Schichtenfolge aufweisen: etwa 0,05 μm bis 0,3 μm Titan, zirka 50 μm bis 100 μm, zum Beispiel 75 μm Kupfer, zirka 1,5 bis 4 μm Nickel, und etwa 0,3 bis 1,1 μm Gold.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils umfasst der Vergusskörper mehrere Schichten. Das heißt, beispielsweise in verschiedenen Compression Molding Schritten kann ein Vergusskörper erstellt werden, der verschiedene Schichten, beispielsweise aus verschiedenen Materialien zwiebelartig umfasst. In einer innersten ersten Schicht, die den Halbleiterchip direkt umgibt, kann etwa ein weiches Silikon mit einer Härte geringer als Shore A 90, insbesondere weicher als Shore A 80, verwendet werden. In einer nachfolgenden Schicht kann etwa in einer gleichmäßigen Dicke ein Konversionsmittel aufgebracht sein. Als äußerste Schicht etwa kann ein härteres Silikon mit einer Shore-Härte zwischen zum Beispiel Shore A 80 und Shore D 60 Verwendung finden, um das optoelektronische Bauteil gegen mechanische Beschädigung besser zu schützen. Bevorzugt ist die äußerste Schicht härter als Shore A 80, insbesondere härter als Shore D 60.
  • Je nach Erfordernissen können auch Zwischenschichten eingebracht werden, die beispielsweise eine weitere Beimengung, wie etwa ein Filtermittel, in einer gleichmäßigen Schichtdicke umfassen, beziehungsweise die besondere mechanische oder chemische Eigenschaften verleiht. Die Anzahl an aufgebrachten Schichten und eventuellen Zwischenschichten sowie die Eigenschaften der Schichten richten sich nach den jeweiligen Erfordernissen und können flexibel gehandhabt werden. Über mehrere Schichten kann der Anwendungsbereich eines optoelektronischen Bauteils daher deutlich erweitert werden.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Anschlussträger mit einer bedruckten Leiterplatte, kurz PCB, einem Quad Flat Pack, kurz QFP oder QFN, einer flexiblen Leiterplatte oder einem Chipkartenmaterial ausgestaltet. Die aufgeführten Anschlussträger sind in der herkömmlichen Elektronik weit verbreitet und bestehen häufig aus Materialien, die eine mit dem Vergusskörper vergleichbare thermische Ausdehnung aufweisen. Die Verwendung dieser Ausgestaltungsformen für den Anschlussträger für ein optoelektronisches Bauteil bietet eine einfache Möglichkeit, elektromagnetische Strahlung emittierende oder empfangende Bauteile mit weiteren, nicht optoelektronischen elektronischen Komponenten zu verbinden und somit vielfältige Schaltungsmöglichkeiten zu erzielen, und kann zu einer Erhöhung der Lebensdauer des Bauteils führen.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils weist der Anschlussträger elektrische Vias beziehungsweise Durchkontaktierungen auf, die abgedeckt sind. Die Abdeckung der Vias kann beispielsweise durch den Halbleiterchip selbst oder durch den Vergusskörper erfolgen. Ebenso können die Vias durch elektrisch leitende, beispielsweise metallisch ausgeformte Schichten oder auch durch aufgebrachte Isolatorschichten abgedeckt sein. Ebenso möglich ist es, dass im Falle, dass der Anschlussträger aus einer Multilagenkeramik gestaltet ist, die Vias sich im Inneren des Anschlussträgers befinden. Durch abgedeckte Vias wird ein gegenüber äußeren Einflüssen robustes optoelektronisches Bauteil ermöglicht.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Anschlussträger mindestens teilweise strahlungsdurchlässig ausgestaltet. Der Grundkörper des Anschlussträgers kann zum Beispiel aus einem Glas, einem Kunststoff oder einer Keramik, wie Aluminiumoxid, bestehen. Insbesondere in Verbindung mit aus transparenten Materialien gestalteten, elektrischen Anschlussstellen beziehungsweise elektrischen Leitungen bietet sich hierdurch die Möglichkeit, ein transparentes optoelektronisches Bauteil zu erstellen. Als Materialien für transparente, elektrische Leitungen sind beispielsweise Transparent Conductive Oxides, kurz TCO, wie zum Beispiel Indium-Zinn-Oxid, geeignet.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist der Anschlussträger zumindest teilweise reflektierend ausgestaltet. Die reflektierende Wirkung kann über Beimengungen, wie beispielsweise Titan-Dioxid-Partikel, zustande kommen, oder eine intrinsische Eigenschaft des verwendeten Materials sein. Auch auf dem Anschlussträger aufgebrachte beispielsweise metallische Schichten oder dielektrisch reflektierende Schichten, wie etwa Bragg-Spiegel, sind möglich. Durch einen reflektierend wirkenden Anschlussträger wird die etwa vom Bauteil emittierte Strahlung effizient in eine gewisse Richtung ausgestrahlt.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist eine Mehrzahl der Halbleiterchips zweidimensional auf einem Anschlussträger angeordnet. Die einzelnen Halbleiterchips können hierbei jeweils von einem separaten Vergusskörper umgeben sein. Ebenso ist es möglich, dass mehrere Halbleiterchips von einem gemeinsamen Vergusskörper umgeben sind. Die zweidimensionale Anordnung kann in einem regelmäßigen matrixartigen Raster bestehen oder auch unregelmäßiger sein. Beispielsweise sind auch hexagonale Anordnungsmuster möglich. Es können baugleiche Halbleiterchips oder auch unterschiedliche Halbleiterchips Verwendung finden. Bevorzugt können Halbleiterchips verwendet werden, die etwa rotes, grünes und blaues Licht ausstrahlen, so dass sich eine insgesamt weiß abstrahlende Beleuchtungseinrichtung etwa zur Hinterleuchtung von Displays ergibt.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist dieses bis auf den Anschlussträger und den Vergusskörper gehäusefrei. Der Vergusskörper kann hierbei mehrschichtig ausgestaltet sein und Beimengungen enthalten.
  • Ein derartiges optoelektronisches Bauteil umfasst wenige Komponenten, ist daher kostengünstig herzustellen und weist außerdem geringe geometrische Abmessungen auf.
  • Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist dieses mittels einer Oberflächenmontagetechnologie, kurz SMT, an einem externen Träger befestigbar. Bevorzugt sind die Anschlussstellen so gestaltet, dass eine Montage des Bauteils mittels Löten erfolgen kann.
  • Einige Anwendungsbereiche, in denen hier beschriebene optoelektronische Bauteile Verwendung finden können, sind etwa die Hinterleuchtungen von Displays oder Anzeigeeinrichtungen. Weiter können die hier beschriebenen optoelektronischen Bauteile auch in Beleuchtungseinrichtungen zu Projektionszwecken, in Scheinwerfern oder Richtstrahlern, oder zu Zwecken der Allgemeinbeleuchtung eingesetzt werden.
  • Nachfolgend wird ein hier beschriebenes optoelektronisches Bauteil unter Bezugnahme auf die Zeichnung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. Gleiche Bezugszeichen geben dabei gleiche Elemente in den einzelnen Figuren an. Es sind dabei jedoch keine maßstäblichen Bezüge dargestellt. Vielmehr können einzelne Elemente zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.
  • Es zeigen:
  • 1 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels,
  • 2 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels mit Fresnel-Linse,
  • 3 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels mit einer Multilagenkeramik,
  • 4 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer transparenten Anordnung,
  • 5 eine schematische Schnittdarstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels,
  • 6 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels mit einem mehrlagigen Vergusskörper,
  • 7 eine schematische Schnittdarstellung (a) und eine schematische Draufsicht (b) eines Ausführungsbeispiels mit mehreren Halbleiterchips, und
  • 8 eine schematische Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels mit einem Chipkartensubstrat.
  • In 1 ist ein Ausführungsbeispiel eines optoelektronischen Halbleiterbauteils dargestellt. Auf der Anschlussseite 10 eines Anschlussträgers 4, der beispielsweise aus einer Dünnfilmkeramik mit einer Dicke von 380 μm gestaltet ist, sind elektrische Leiterbahnen 9, die aus einem Metall geformt sind, aufgebracht. Aus den Leiterbahnen 9 sind auch die elektrischen Anschlussstellen 5a, 5b gebildet. Die dem Anschlussträger 4 zugewandte Seite eines auf dem Anschlussträger 4 angebrachten Halbleiterchips 2 wird komplett von der zugehörigen Anschlussstelle 5a eingenommen. Das heißt, die der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 abgewandte Seite des Halbleiterchips 2 liegt gänzlich auf der Anschlussstelle 5a auf. An der dem Anschlussträger 4 abgewandten Seite des Halbleiterchips 2, die eine Strahlungsdurchtrittsfläche 11 des Halbleiterchips 2 ausbildet, ist ein Bonddraht 8 angebracht, der den Halbleiterchip 2 mit einer weiteren Anschlussstelle 5b elektrisch leitend verbindet. Die Kontaktierungsflächen des Halbleiterchips befinden sich somit an zwei gegenüberliegenden Seiten. Der Bonddraht 8 nimmt nur einen geringen Anteil der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 ein. Ebenso bedecken die Leiterbahnen 9 nur einen geringen Anteil der Anschlussseite 10.
  • Auf der Anschlussseite 10 ist ein Vergusskörper 3 derart aufgebracht, dass dieser in direktem Kontakt mit der Anschlussseite 10 steht, sowie den Halbleiterchip 2 ebenfalls in direktem Kontakt an der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 sowie an Chipflanken 12 umgibt. Die Chipflanken 12 werden hierbei durch die Seitenflächen des Halbleiterchips 2 gebildet, die die Strahlungsdurchtrittsfläche 11 mit der dem Anschlussträger 4 zugewandten Seite des Halbleiterchips 2 verbinden. Der Vergusskörper 3 ist aus einem weichen Silikon geformt.
  • Im Ausführungsbeispiel gemäß 2 ist der Anschlussträger 4 ein mechanisch flexibles Substrat. Die Leiterbahnen 9 befinden sich im Inneren des Anschlussträgers 4 und verbinden den optoelektronischen Halbleiterchip 2 beispielsweise mit einem sich im Substrat befindlichen weiteren, nicht gezeichneten Halbleiterchip, der etwa die Ansteuerung des optoelektronischen Halbleiterchips 2 übernehmen kann. Die Leiterbahnen 9 sind über Vias 7 mit dem optoelektronischen Halbleiterchip 2 verbunden. Die Vias 7 bilden an der Anschlussseite 10 die elektrischen Anschlussstellen 5 aus. Der optoelektronische Halbleiterchip 2 ist zum Beispiel als Oberflächenemitter ausgestaltet, so dass die Strahlung im Wesentlichen an beziehungsweise nahe der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 entsteht und eben an dieser emittiert wird. Dadurch wird kein separater Reflektor etwa an der dem Anschlussträger 4 zugewandten Seite des Halbleiterchips 2 nötig, da im Wesentlichen kein Licht in Richtung Anschlussseite emittiert wird. Der Vergusskörper 3 ist als Fresnel-Linse ausgeformt. Dadurch wird die Höhe des Vergusskörpers 3 in Richtung senkrecht zur Anschlussseite 10 minimiert. Über die flache, Platz sparende Ausgestaltung als Fresnel-Linse können sich ebenfalls thermisch bedingte Spannungen zwischen Vergusskörper 3 und optoelektronischem Halbleiterchip 2 reduzieren lassen.
  • Optional kann die Anschlussseite 10 des Anschlussträgers 4 nicht eben ausgestaltet sein, sondern eine Art Mulde aufweisen, in der sich der optoelektronische Halbleiterchip 2 befindet. Die Mulde kann dann vom Vergusskörper 3 im Wesentlichen ausgefüllt sein, so dass Vergusskörper 3 und optoelektronischer Halbleiterchip 2 insbesondere gegenüber mechanischen Belastungen, wie diese bei einen flexiblen Substrat auftreten können, gut geschützt sind. Weiterhin können alternativ die Leiterbahnen 9 zur Anschlussseite 10 oder zu einer der Anschlussseite abgewandten Seite des Anschlussträgers 4 geführt sein. Die Leiterbahnen 9 können für eine Kontaktierung mittels einer Oberflächenmontagetechnik, kurz SMT, ausgestaltet sein.
  • In 3 ist ein Ausführungsbeispiel gezeigt, bei dem der Anschlussträger 4 aus einer Multilagenkeramik gestaltet ist. Innerhalb der Multilagenkeramik verläuft eine Leiterbahn 9a, an der dem Halbleiterchip 2 angewandten Seite eine Leiterbahn 9b. Die Leiterbahnen 9a und 9b sind über Vias 7a, 7b mit dem Halbleiterchip 2 elektrisch verbunden. Da die Leiterbahnen 9a, 9b in den Anschlussträger 4 integriert sind beziehungsweise keinen direkten Kontakt zum Vergusskörper 3 aufweisen, lässt sich zusätzlicher, eventuell durch die Leiterbahnen 9a, 9b hervorgerufener thermischer Stress auf den Vergusskörper 3, eben durch die Verwendung einer Multilagenkeramik, reduzieren.
  • Der Halbleiterchip 2 ist als mittels Surface Mount Technology kontaktierbares Bauteil, kurz SMT-Bauteil ausgestaltet. Der Halbleiterchip 2 ist mit den aus den Vias 7a, 7b gebildeten elektrischen Anschlussstellen 5, die sich an der Anschlussseite 10 befinden, über Lötkontakte verbunden. Der ebenfalls linsenartig ausgestaltete Vergusskörper 3 umfasst eine Beimengung 6 etwa in Form eines Diffusors, eines Konversions- oder eines Filtermittels. Ist der Halbleiterchip 2 beispielsweise als Photodiode ausgestaltet, so kann über die Verwendung geeigneter Beimengung 6 in Form eines oder mehrerer Filtermittel im Vergusskörper 3 der vom Halbleiterchip 2 zu empfangende Spektralbereich je nach Erfordernissen auf einfache Art und Weise eingeschränkt werden.
  • Der Halbleiterchip 2 ist, wie auch im Ausführungsbeispiel gemäß 2, als Flip-Chip ausgestaltet. Alternativ ist es auch möglich, dass sich die beiden nicht gezeichneten elektrischen Kontaktierungsstellen des Halbleiterchips 2 auf der dem Anschlussträger 4 abgewandten Seite des Halbleiterchips 2 befinden. Die elektrische Kontaktierung des Halbleiterchips 2 würde dann zum Beispiel mittels zweier Bonddrähte 8 erfolgen können.
  • Im Ausführungsbeispiel gemäß 4 wird der Anschlussträger 4 aus einer transparenten thermisch leitfähigen Keramik wie zum Beispiel Aluminiumoxid gebildet. Auch die Leiterbahnen 9 und Anschlussstellen 5 sind aus einem transparenten Material, wie beispielsweise Indium-Zinn-Oxid oder einem anderen TCO beziehungsweise Transparent Conductive Oxide, geformt. Der als Flip-Chip gestaltete Halbleiterchip 2 ist beispielsweise eine so genannte substratlose Leuchtdiode mit einer Dicke von weniger als 10 μm. Durch die geringe Dicke des Halbleiterchips 2 lassen sich thermische Spannungen zwischen Vergusskörper 3 und Halbleiterchip 2 deutlich reduzieren. Dies wirkt sich positiv auf die Alterungsstabilität des optoelektronischen Bauteils 1 aus. Im Vergusskörper 3 ist eine Beimengung 6 in Form eines Konversionsmittels inhomogen verteilt, in 4 durch die Schraffurabstände angedeutet, so dass über den Zentralbereichen der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 eine höhere Konzentration der Beimengung 6 vorliegt als in den Randbereichen des Vergusskörpers 3. Hierdurch wird eine farblich gleichmäßige Abstrahlung des optoelektronischen Bauteils 1 ermöglicht.
  • Im Ausführungsbeispiel gemäß 5 ist der Anschlussträger 4 aus einer Multilagenkeramik gebildet. Beide Leiterbahnen 9 befinden sich im Inneren des Anschlussträgers 4, wodurch, wie im Ausführungsbeispiel gemäß 3, thermische Belastungen auf den Vergusskörper 3 durch die Leiterbahnen 9 unterbunden werden. Die Leiterbahnen 9 sind über Vias 7, die auch die elektrischen Anschlussstellen 5 an der Anschlussseite 10 bilden, mit dem Halbleiterchip 2 verbunden. Der Halbleiterchip 2 ist beispielsweise als blau emittierende, auf GaN basierende Leuchtdiode ausgestaltet. Der Halbleiterchip 2 umfasst eine im Vergleich zum Halbleiterchip 2 gut thermisch leitfähige Keramikplatte 13, die mit einem Leuchtstoff versetzt ist und sich an der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 befindet. Der Leuchtstoff wandelt das vom Halbleiterchip 2 im Betrieb emittierte blaue Licht mindestens zum Teil beispielsweise in weißes Mischlicht um. Über die thermisch leitfähige Keramikplatte 13 wird eine gleichmäßigere Wärmeverteilung an der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 des Halbleiterchips 2 gewährleistet. Hierdurch verringern sich ebenfalls thermisch bedingte Spannungen zwischen Chip 2 und Vergusskörper 3.
  • Der Vergusskörper 3 weist eine Beimengung 6 in Form reflektierender Partikel auf, die sich auf die Bereiche des Vergusskörpers 3 konzentrieren, die im Wesentlichen parallel zu den Chipflanken 12 ausgerichtet sind. Hierdurch wird bewirkt, dass etwa vom Halbleiterchip 2 emittierte Strahlung gerichtet in Richtung senkrecht zur Anschlussseite 10 das optoelektronische Bauteil 1 verlässt. Die reflektierenden Partikel lassen sich zum Beispiel vor dem Einspritzen des den Vergusskörper 3 bildenden Materials in den entsprechenden Bereichen einer Gießform platzieren.
  • Gemäß dem Ausführungsbeispiel wie in 6 gezeigt, umfasst der Vergusskörper 3 mehrere zwiebelartige Schichten 3a, 3b, 3c. Die innerste Schicht 3a, die in direktem Kontakt zum Halbleiterchip 2 steht, ist aus einem weichen Silikon geformt, das etwa eine Härte geringer als Shore A 70 aufweist. Die mittlere Schicht 3b beinhaltet in gleichmäßiger Dicke beispielsweise ein Konversionsmittel oder eine andere Beimengung 6. Die vom Halbleiterchip 2 aus gesehen äußerste Schicht 3c ist mit einem Silikon einer größeren Härte gestaltet, etwa härter als Shore A 70, um das optoelektronische Bauteil 1 gegen äußere Einflüsse mechanisch robuster zu gestalten und eine geringere Klebrigkeit sowie eine bessere Sägbarkeit des Silikons zu erzielen.
  • Der Anschlussträger 4 ist aus einer bedruckten Leiterplatte gefertigt. Als Basismaterial für Leiterplatten werden zum Beispiel Epoxid-Harze verwendet, die eine ähnliche thermische Ausdehnung aufweisen wie der Vergusskörper 3. Über die Verwendung von Leiterplatten kann somit die thermische Belastung auf das Bauteil 1 verringert werden. Die Leiterbahnen 9 befinden sich auf der dem Halbleiterchip 2 abgewandten Seite des Anschlussträgers 4. Die Leiterbahnen 9 sind über Vias 7 mit den elektrischen Anschlussstellen 5, die sich auf der Anschlussseite 10 befinden, leitend verbunden. Der Halbleiterchip 2 ist etwa über einen leitfähigen Kleber auf die Anschlussstellen 5 aufgebracht. Die Anschlussstellen 5 sind metallisch ausgestaltet und wirken reflektierend auf die vom Halbleiterchip 2 zu empfangende oder zu emittierende Strahlung. Die Anschlussstellen 5 nehmen einen Großteil der dem Anschlussträger 4 zugewandten Seite des Halbleiterchips 2 ein, bevorzugt mehr als 50%, insbesondere mehr als 80%. Zudem können die Anschlussstellen 5 als Reflektoren bezüglich der vom Halbleiterchip 2 zu emittierenden oder zu empfangenden Strahlung ausgestaltet sein.
  • Optional können die Leiterbahnen 9 von einer Isolatorschicht 14, beispielsweise aus einem aufgeklebten Kunststofffilm oder einer Lackschicht, abgedeckt sein. Ebenso möglich ist es, dass die Leiterbahnen 9, je nach Komplexität der angestrebten Schaltung, auch auf beiden Hauptseiten des Anschlussträgers 4 aufgebracht sind.
  • Je nach Erfordernissen kann der mehrschichtige Vergusskörper 3 derart gestaltet sein, dass die verschiedenen Schichten beispielsweise unterschiedlichen optischen Brechungsindex aufweisen. Hierdurch kann die Qualität der optischen Abbildung verbessert werden.
  • Das in 7a, 7b gezeigte Ausführungsbeispiel beinhaltet mehrere Halbleiterchips 2. Die nicht gezeichneten elektrischen Kontaktflächen des Halbleiterchips 2 befinden sich an der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 und an der dem Anschlussträger 4 zugewandten Seite des Halbleiterchips 2. Der Anschlussträger weist eine Dicke von zirka 0,7 mm auf. Die Anschlussstellen 5 sind durch die an der Anschlussseite 10 befindlichen Enden der elektrischen Vias 7 gebildet. Die Kontaktflächen an der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 sind je über einen Bonddraht 8 mit einer korrespondierenden Anschlussstelle 5 kontaktiert. Die Leiterbahnen 9 befinden sich auf der dem Halbleiter 2 abgewandten Seite des Anschlussträgers 4. Über die Leiterbahnen 9 kann beispielsweise eine Reihenschaltung der Halbleiterchips 2 realisiert werden. Pro Halbleiterchip 2 ist je ein linsenartig gestalteter Vergusskörper 3 vorgesehen. Die Vergusskörper 3 weisen in Draufsicht je einen Durchmesser von zirka 2 mm auf. Optional können die Durchmesser der Vergusskörper 3 auch deutlich kleiner oder deutlich größer gewählt werden, abhängig von den konkreten Erfordernissen, besonders bezüglich der Qualität der optischen Abbildung durch die Vergusskörper 3.
  • Alternativ können auch mehrere Halbleiterchips 2 von einem einzigen Vergusskörper 3 umgeben sein. Der Vergusskörper 3 kann dann linsenartige Substrukturen aufweisen. Der Anschlussträger 4 ist bevorzugt aus einem eine hohe thermische Leitfähigkeit aufweisenden Material gestaltet, um die im Betrieb der Halbleiterchip 2 anfallende Abwärme beziehungsweise Verlustleistung gut nach außen abführen zu können.
  • Beim Ausführungsbeispiel gemäß 8 ist der Anschlussträger 4 als Chipkartensubstrat gestaltet und mit einem Epoxid-Glasfaserhartgewebe gebildet. An der Anschlussseite 10 des Anschlussträgers 4 sind elektrische Anschlussstellen 5a, 5b angebracht. Die Anschlussstellen 5a, 5b sind aus Kupfer gefertigt und an der Anschlussseite 10 abgewandten Seiten zweilagig mit Nickel und mit Gold beschichtet. Die Anschlussstellen 5a, 5b können über eine Oberflächenmontagetechnik, kurz SMT, mit einem in 8 nicht dargestellten, externen Träger oder Gerät verbunden werden.
  • Auf der Anschlussstelle 5a ist der Halbleiterchip 2 mittels Löten in einer Ausnehmung des Anschlussträgers 4 angebracht. Von der Strahlungsdurchtrittsfläche 11 des Halbleiterchips 2 ist über einen Bonddraht 8 und eine weitere Ausnehmung des Anschlussträgers 4 eine elektrische Verbindung zur zweiten Anschlussstelle 5b hergestellt. An einer der Anschlussseite 10 abgewandten Seite des Anschlussträgers 4 befindet sich ein transparenter linsenförmiger Vergusskörper 3 aus einem Silikon oder einem Hybridmaterial, der den Halbleiterchip 2 und die Ausnehmungen überdeckt. Optional kann der Vergusskörper 3 auch die gesamte, der Anschlussseite 10 abgewandte Seite des Anschlussträgers 4 bedecken.
  • Die hier beschriebene Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal durch diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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    • - US 2002/0153637 A1 [0022]

Claims (15)

  1. Optoelektronisches Bauteil (1) mit – mindestens einem optoelektronischen Halbleiterchip (2) mit einer Dicke von höchstens 200 μm, – einem Anschlussträger (4) mit mindestens zwei elektrischen Anschlussstellen (5) zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterchips (2), dergestalt, dass der Halbleiterchip (2) direkt auf dem Anschlussträger (4) aufgebracht und stellenweise von einem Vergusskörper (3) umgeben ist, wobei der Vergusskörper (3) in direktem Kontakt zum Anschlussträger (4) steht.
  2. Optoelektronisches Bauteil (1) nach Anspruch 1, bei dem der Halbleiterchip (2) als Flip-Chip ausgestaltet ist.
  3. Optoelektronisches Bauteil (1) nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der Vergusskörper (3) mit einem Material gestaltet ist, das eine geringere Härte als Shore A 90 aufweist.
  4. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Vergusskörper (3) mindestens eine Beimengung (6) enthält, die als Reflexions-, Filter-, Diffusions- oder Konversionsmittel ausgestaltet ist.
  5. Optoelektronisches Bauteil (1) nach Anspruch 4, bei dem die Beimengung (6) inhomogen im Vergusskörper (3) verteilt ist.
  6. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Vergusskörper (3) mittels Compression Molding, Liquid Transfer Molding, Liquid Injection Molding oder Casting erzeugt ist, und wobei der Anschlussträger (4) einen Teil der Gießform bildet.
  7. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Vergusskörper (3) mehrere Schichten umfasst.
  8. Optoelektronisches Bauteil (1) nach Anspruch 7, bei dem eine innerste Schicht (3a) des Vergusskörpers (3) mit einem weichen Material, insbesondere weicher als Shore A 90, und eine äußerste Schicht (3c) des Vergusskörpers (3) mit einem harten Material, insbesondere härter als Shore A 80, gebildet ist.
  9. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Anschlussträger (4) mit einer Keramik gestaltet ist.
  10. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem der Anschlussträger (4) mit einer bedruckten Leiterplatte, einem Quad Flat Pack, einer flexiblen Leiterplatte oder einem Chipkartenmaterial ausgestaltet ist.
  11. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem elektrische Durchkontaktierungen (7) des Anschlussträgers (4) abgedeckt sind.
  12. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Anschlussträger (4) mindestens teilweise strahlungsdurchlässig ausgestaltet ist.
  13. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem der Anschlussträger (4) mindestens teilweise reflektierend ausgestaltet ist.
  14. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem eine Mehrzahl von Halbleiterchips (2) zweidimensional auf dem Anschlussträger (4) angeordnet ist.
  15. Optoelektronisches Bauteil (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, das, bis auf Anschlussträger (4) und Vergusskörper (3), gehäusefrei ist.
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