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Die
Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan
durch Umsetzung von Silicium mit Siliciumtetrachlorid und Wasserstoff
in Gegenwart eines eisenhaltigen Katalysators.
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Trichlorsilan
HSiCl3 ist ein wertvolles Zwischenprodukt
beispielsweise zur Herstellung von hochreinem Silicium, von Dichlorsilan
H2SiCl2, von Silan
SiH4 und von Haftvermittlern.
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Hochreines
Silicium findet vielseitige Verwendung für elektronische und photovoltaische
Zwecke, beispielsweise zur Herstellung von Solarzellen. Zur Herstellung
von hochreinem Silicium wird beispielsweise metallurgisches Silicium
in gasförmige Siliciumverbindungen,
vorzugsweise Trichlorsilan, überführt, diese
Verbindungen gereinigt und anschließend wieder in Silicium zurückgeführt.
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Die
Herstellung von Trichlorsilan erfolgt hauptsächlich durch Umsetzung von
Silicium mit Chlorwasserstoff oder von Silicium mit Siliciumtetrachlorid,
Wasserstoff und gegebenenfalls Chlorwasserstoff (Ullmann's Encyclopedia of
Industrial Chemistry, 5th ed. (1993), Vol.
A24, 4–6).
Die Reaktion von Silicium mit Siliciumtetrachlorid und Wasserstoff wird
dabei in der Regel unter Einsatz von Katalysatoren durchgeführt, wobei
hauptsächlich
Kupferkatalysatoren zum Einsatz kommen.
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So
ist aus
DE 41 04 422
A1 bekannt, die Umsetzung von Silicium mit Siliciumtetrachlorid
und Wasserstoff in einem Wirbelbett ohne Anwendung von Druck in
Gegenwart von Kupfersalzen einer niederen, aliphatischen, gesättigten
Dicarbonsäure,
insbesondere Kupferoxalat durchzuführen.
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Gemäß der
DE 43 43 169 A1 erfolgt
die Herstellung von Trichlorsilan durch katalytische Dehalogenierung
halogenhaltiger Verbindungen von Elementen der vierten Hauptgruppe
in Anwesenheit von Wasserstoff, wobei als Katalysator ein katalytisch
aktives System umfassend Silicium und mindestens ein Übergangsmetall
eingesetzt wird.
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Ebenfalls
ist es bekannt, die Reaktion von Silicium mit Siliciumtetrachlorid,
Wasserstoff und gegebenenfalls Chlorwasserstoff in Gegenwart von
pulverförmigem
Kupfer (Chemical Abstracts CA 101, Nr. 9576d, 1984) oder von Gemischen
aus Kupfermetall, Metallhalogeniden und Bromiden oder Iodiden von Eisen,
Aluminium oder Vanadium (Chemical Abstracts CA 109, Nr. 57621b,
1988) durchzuführen.
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Obwohl
sich kupferhaltige Katalysatoren bei der Umsetzung von Silicium
mit Siliciumtetrachlorid und Wasserstoff zu Trichlorsilan bewährt haben,
ist der Einsatz der Kupferkatalysatoren bzw. der Kupfer enthaltenen
Katalysatormischungen mit gewissen Nachteilen verbunden.
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Die
Umsetzung wird üblicherweise
in der Wirbelschicht durchgeführt
(Ullmann's Encyclopedia of
Industrial Chemistry, 5th ed. (1993), Vol.
A24, 4–6). Aus
der Wirbelschicht werden kleine Silicium/Katalysator-Partikel ausgetragen.
Diese Silicium/Katalysator-Partikel enthalten hohe Konzentrationen
des Katalysators und sind aufgrund der Feinheit meist pyrophor.
In einem technischen Prozeß müssen dieses zwangsweise
anfallenden Silicium/Katalysator-Partikel aufgearbeitet und entsorgt
werden.
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Die
Aufarbeitung solcher Partikel ist in der Regel aufwendig und kostenintensiv.
Gemäß
DE 195 07 602 C1 lassen
sich siliciumhaltige Rückstände mit wäßriger alkalischer
Lösung
oder Wasser behandeln. Eine weitere Verwendung, beispielsweise als
Füll- oder
Zusatzstoffe in der Bau- und/oder
Gießereiindustrie,
ist erst möglich,
nachdem die behandelten Rückstände getrocknet
und/oder gemahlen oder mit Zement und/oder Kalk enthaltenden Materialien
vermischt, zu Grünkörpern verdichtet
und gegebenenfalls ausgehärtet
wurden.
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Eine
Verwendung der Silicium/Katalysator-Partikel z. B. in der Metallurgie
ist aufgrund des hohen Kupfergehaltes nur bedingt möglich.
EP 786 532 A2 beschreibt
die Verwendung siliciumhaltiger Rückstände als Zusatz bei der Herstellung
von Gußeisen.
Dabei muss der siliciumhaltige Rückstand
jedoch vor dem Einsatz aufwendig mit Kartonmasse und hydraulischem
Zement versetzt und in Brikettform gebracht werden.
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Auch
die Deponierung der anfallenden Silicium/Katalysator-Partikel ist
wegen des hohen Anteils an Schwermetall, insbesondere Kupfer problematisch.
Aus
DE 43 18 613 A1 ist
bekannt, dass aus Siliciumrückständen, die
metallisches Kupfer enthalten, das Kupfer eluierbar ist. In
DE 43 18 613 A1 wird daher
eine komplexe Art der Deponierung vorgeschlagen, bei der die siliciumhaltigen
Rückstände zusammen
mit Schlacken aus metallurgischen Prozessen abgelagert werden. Die
Folge ist, dass bei Einsatz von Kupferkatalysatoren hohe Entsorgungskosten
entstehen.
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Ein
weiterer Nachteil ist, dass Kupferkatalysator vergleichsweise teuer
ist. Aus dem Reaktor wird ungenutzter Katalysator über den
Gasstrom ausgetragen. Dies erhöht
die Menge an benötigtem Katalysator,
da der ausgetragene Katalysator dem Reaktor wieder zugesetzt werden
muß. Durch
den Austragsverlust an teurem Katalysator entstehen also vergleichsweise
hohe zusätzliche
Kosten.
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Es
bestand daher die Aufgabe, eine Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan
aus Silicium, Wasserstoff, Siliciumtetrachlorid und gegebenenfalls Chlorwasserstoff
zur Verfügung
zu stellen, das obig genannte Nachteile nicht aufweist und selbst
ohne Einsatz von Kupfer eine hohe Reaktionsgeschwindigkeit, bzw.
hohe Raumzeitausbeute, aufweist.
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Überraschenderweise
wurde nun gefunden, dass der Zusatz von Eisen bzw. eisenhaltigen
Verbindungen auch alleine ohne weiteren Zusatz von Kupfer die Reaktion
von Silicium mit Wasserstoff und Siliciumtetrachlorid ausreichend
katalysiert. Der Vorteil des Einsatzes eines eisenhaltigen Katalysators
ist, dass der entstehende Abfallstoff ein eisenhaltiges Silicium
ist. Da Eisen im Gegensatz zum Kupfer keine Umweltprobleme verursacht,
spielt die Eluierbarkeit aus dem Rückstand bei einer Deponierung
keine Rolle. Ein eisenhaltiger Filterkuchen ist in der Metallurgie universell
einsetzbar, wodurch sich die Entsorgung deutlich vereinfacht und
eine Deponierung vermieden werden kann.
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Gegenstand
der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan
durch Umsetzung von Silicium mit Wasserstoff und Siliciumtetrachlorid, das
dadurch gekennzeichnet ist, dass die Umsetzung in Gegenwart eines
eisenhaltigen Katalysators durchgeführt wird, wobei bei Anwesenheit
von Kupfer, Bromide oder Iodide des Eisens als eisenhaltiger Katalysator
ausgenommen sind. Die Menge an eingesetztem eisenhaltigem Katalysator
beträgt
0,5 bis 10 Gew.-% berechnet als Eisen bezogen auf die Summe der
Masse an eingesetztem Silicium und eisenhaltigem Katalysator. Bevorzugt
ist eine Menge von 1 bis 5 Gew.-%.
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Bevorzugt
wird das erfindungsgemäße Verfahren
ohne Zusatz von Kupfer oder einer kupferhaltigen Verbindung durchgeführt.
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Als
eisenhaltiger Katalysator eignet sich beispielsweise metallisches
Eisen, etwa in Form von Eisenpulver, oder Verbindungen des Eisens.
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Bei
Einsatz von Eisenpulver wird vorzugsweise Eisenpulver eingesetzt,
das eine Korngröße kleiner
100 μm,
besonders bevorzugt kleiner 20 μm aufweist.
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Als
Verbindungen des Eisens sind Eisenhalogenide bevorzugt. Insbesondere
bevorzugt werden Eisenchloride, wie z. B. Eisen-II-chlorid, eingesetzt.
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Das
Silicium kann beispielsweise mit dem eisenhaltigen Katalysator gemischt
und anschließend in
den Reaktor eingebracht werden. Es ist jedoch auch möglich, Silicium
und eisenhaltigen Katalysator getrennt dem Reaktor zuzuführen, wobei
eine Vermischung im Reaktor erfolgt. Bevorzugt werden Silicium und
eisenhaltiger Katalysator vor dem Einbringen in den Reaktor vermischt.
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Die
Mischung aus Silicium und eisenhaltigem Katalysator kann vor der
erfindungsgemäßen Umsetzung
zu Trichlorsilan einer Vorreaktion z. B. mit Chlorwasserstoff oder
Chlorwasserstoff und Wasserstoff unterzogen werden.
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Bei
Einsatz von Eisen-III-chloriden als eisenhaltiger Katalysator wirkt
sich die Flüchtigkeit
dieser Chloride nachteilig aus. Es ist jedoch möglich, eine Mischung aus Silicium
und Eisen-III-cholrid zur Reduktion von Eisen-III-chloriden mit
Wasserstoff oder mit Mischungen aus Chlorwasserstoff und Wasserstoff
zu behandeln.
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Beispielsweise
wird die Mischung aus Silicium und eisenhaltigem Katalysator vor
der erfindungsgemäßen Umsetzung
bei Temperaturen zwischen 250 bis 500°C, vorzugsweise zwischen 300 und
350°C mit
Chlorwasserstoff und Wasserstoff im Molverhältnis von 1:0 bis 1:10 vozugsweise
1:0,5 bis 1:1 behandelt. Die Mischung aus Silicium und eisenhaltigem
Katalysator wird dabei vorzugsweise fluidisiert.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren
kann beispielsweise bei einem Druck von 1 bis 40 bar (absolut),
bevorzugt von 20 bis 35 bar durchgeführt werden.
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Beispielsweise
wird bei Temperaturen von 400 bis 800°C, bevorzugt von 450 bis 600°C, gearbeitet.
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Die
Wahl des Reaktors, in dem die erfindungsgemäße Umsetzung erfolgen soll,
ist nicht kritisch, solange der Reaktor unter den Reaktionsbedingungen
hinreichende Stabilität
aufweist und den Kontakt der Ausgangsstoffe erlaubt. Beispielsweise kann
in einem Festbettreaktor, einem Drehrohrofen oder einem Wirbelbettreaktor
gearbeitet werden. Die Reaktionsführung in einem Wirbelbettreaktor
ist bevorzugt.
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Das
Molverhältnis
von Wasserstoff zu Siliciumtetrachlorid kann bei der erfindungsgemäßen Umsetzung
beispielsweise 0,25:1 bis 4:1 betragen. Bevorzugt ist ein Molverhältnis von
0,6:1 bis 2:1.
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Bei
der erfindungsgemäßen Umsetzung kann
Chlorwasserstoff zugegeben werden, wobei die Menge an Chlorwasserstoff
in weiten Bereichen variiert werden kann. Bevorzugt wird Chlorwasserstoff
in einer Menge zugegeben, dass ein Molverhältnis von Siliciumtetrachlorid
zu Chlorwasserstoff von 1:0 bis 1:10, besonders bevorzugt von 1:0,5
bis 1:1 resultiert.
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Bevorzugt
wird das erfindungsgemäße Verfahren
in Gegenwart von Chlorwasserstoff durchgeführt.
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Die
erfindungsgemäße Umsetzung
unter Einsatz eines eisenhaltigen Katalysators führt verglichen mit einer Reaktionsführung unter
Einsatz eines Kupferkatalysators bezüglich der Ausbeute und der Zeit,
bis der stationäre
Zustand der Reaktion erreicht wird, zu vergleichbaren Ergebnissen.
Somit kann das erfindungsgemäße Verfahren
mit nahezu gleicher Ausbeute betrieben werden, hat jedoch gegenüber dem
Verfahren unter Einsatz eines Kupferkatalysators die genannten Vorteile.
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Das
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
hergestellte Trichlorsilan kann beispielsweise zur Herstellung von
Silan und/oder Reinst-Silicium verwendet werden.
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Demnach
betrifft die Erfindung auch ein Verfahren zur Herstellung von Silan
und/oder Reinst-Silicium ausgehend von Trichlorsilan, das nach dem oben
beschriebenen Verfahren erhalten wird.
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Bevorzugt
wird das erfindungsgemäße Verfahren
in ein Gesamtverfahren zur Herstellung von Reinst-Silicium integriert.
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Besonders
bevorzugt wird das erfindungsgemäße Verfahren
in ein mehrstufiges Gesamtverfahren zur Herstellung von Reinst-Silicium
integriert, wie es beispielsweise in „Economics of Polysilicon
Process, Osaka Titanium Co., DOE/JPL 1012122 (1985), 57–78” beschrieben
ist und das folgende Schritte umfasst:
- a) Herstellung
von Trichlorsilan,
- b) Disproportionierung von Trichlorsilan unter Gewinnung von
Silan,
- c) Reinigung des Silans zu Reinst-Silan und
- d) Thermische Zersetzung des Silans in einem Wirbelbettreaktor
unter Abscheidung von Reinst-Silicium auf Silicium-Partikeln, die
das Wirbelbett bilden.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren
wird in den folgenden Beispielen näher erläutert, wobei die Beispiele
jedoch nicht als Einschränkung
des Erfindungsgedankens zu verstehen sind.
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Beispiele:
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Beispiel 1 (Vergleichsbeispiel)
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In
einem Reaktor, bestehend aus einem Glasrohr mit einem Durchmesser
von 3 cm und einer Höhe
von 18 cm mit eingebauter Glasfritte, wurde Silicium der Kornfraktion
315–425 μm mit Kupfer-I-chlorid
gemischt. Die Mischung enthielt 1 Gew.-% Kupfer. 40 g dieser Mischung
wurden auf 500°C
aufgeheizt und durch einen Wendelrührer bewegt. Durch diese Schüttung wurde
von unten ein Gasgemisch aus Wasserstoff und Siliciumtetrachlorid
im Mol-Verhältnis
1,85:1 geleitet. Die Gasgeschwindigkeit betrug 0,41 cm/s, die Verweilzeit
der Gasmischung in der Silicium-Schüttung betrug 11,8 s. Die Umsetzung
erfolgte bei einem Druck von 1 bar (absolut). Die Ausbeute an Trichlorsilan
betrug 12,4%, bezogen auf die Menge an eingesetztem Siliciumtetrachlorid.
Die Dauer bis zum Erreichen des stationären Zustandes betrug ca. 60
min.
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Beispiel 2
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In
einem Reaktor, bestehend aus einem Glasrohr mit einem Durchmesser
von 3 cm und einer Höhe
von 18 cm mit eingebauter Glasfritte, wurde Silicium der Kornfraktion
315–425 μm mit Eisen-II-chlorid
gemischt. Die Mischung enthielt 1 Gew.-% Eisen. 40 g dieser Mischung
wurden auf 500°C
aufgeheizt und durch einen Wendelrührer bewegt. Durch diese Schüttung wurde
ein Gasgemisch aus Wasserstoff und Siliciumtetrachlorid im Mol-Verhältnis 1,85:1
geleitet. Die Gasgeschwindigkeit betrug 0,41 cm/s, die Verweilzeit
der Gasmischung in der Silicium-Schüttung betrug
11,8 s. Die Umsetzung erfolgte bei einem Druck von 1 bar (absolut).
Die Ausbeute an Trichlorsilan betrug 11,4%, bezogen auf die Menge
an eingesetztem Siliciumtetrachlorid. Die Dauer bis zum Erreichen
des stationären
Zustandes betrug ca. 60 min.