DD156003A1 - Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und-legierungen - Google Patents
Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und-legierungen Download PDFInfo
- Publication number
- DD156003A1 DD156003A1 DD22405580A DD22405580A DD156003A1 DD 156003 A1 DD156003 A1 DD 156003A1 DD 22405580 A DD22405580 A DD 22405580A DD 22405580 A DD22405580 A DD 22405580A DD 156003 A1 DD156003 A1 DD 156003A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- tit tit
- titanium
- metallic
- eines eines
- electrolyte
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 18
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims abstract description 3
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical compound [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract 2
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims 1
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- -1 titanium ions Chemical class 0.000 abstract description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 3
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 abstract 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 abstract 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 abstract 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 abstract 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010349 cathodic reaction Methods 0.000 description 1
- GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N chromium(2+);methanidylidynechromium Chemical compound [Cr+2].[Cr]#[C-].[Cr]#[C-] GVEHJMMRQRRJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000011255 nonaqueous electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000012457 nonaqueous media Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
In einem Einstufenprozess wird unter Verwendung von Gleich-und / oder Wechsel-und Impulsspannungen eine Funkenentladung in einem waessrigen Elektrolyten an der Phasengrenze Elektrolyt/Titanium so durchgefuehrt, dass durch die Variation der Reaktionszeit in Struktur und Eigenschaften definierte Titaniumsoxide als auch Oxidschichten mit dispersen Einlagerungen und metallischen Abscheidungen erzeugt werden. Die Elektrolyte sind sauer als auch basisch und enthalten insbesondere die Anionen Fluorid und / oder Phosphate und / oder Karbonat und / oder Sulfat und / oder Borat und / oder Zitrat und / oder Borofluorat vorzugsweise nahe der Saettigungskonzentration. Dem Elektrolyten koennen weiterhin ionogene Zusaetze wie die Anionen Silikat, Aluminat, Zinkat, Molybdat, Chromat, Vanadat als auch Kationen der Metalle Pt, Pd, Ni, Cr sowie metallische als auch nichtmetallische Komponenten zugesetzt werden. Die Funkenentladung wird bei Stromdichten, 100 A/dm hoch 2 und bei Arbeitsspannungen 10-20 V hoeher als die Zuendspannung durchgefuehrt. Das nach dem erfindungsgemaessen Verfahren oxidierte Titanium ist einsetzbar in der chemischen Industrie, Raumfahrt- und Medizintechnik.
Description
Verfahre η zur Oberf lache ribeh.analu.ng von Titanium und -legierungen
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung beinhaltet ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Titanium und -legierungen unter Anwendung der Oxidation unter Funkenentladung in wäßrigen Elektrolyten«
Die so erzeugten Oxidschichten auf Titanium bzw. -legierungen haben gute Korrosionsschutz-, Wärmeleit- und elektrische Eigenschaften0
Das nach dem erfindungsgemäßen Verfahren oxidierte Titanium läßt sich als nichtauflösbare passive Elektrode z« B. in der chemischen Industrie als auch bei der elektrochemischen Metallbearbeitung, in der Raumfahrttechnik z. B. als Hitzeschild und in der Medizintechnik als Implantat einsetzen.
Charakteristik der bekannten technischen Lösungen
Es ist bekannt, Titanium bzw» -legierungen zu oxidieren,, Dae kann z» B. durch Plasmaoxidation in einer Sauerstoffbzw. Luftatmosphäre erfolgen, wie es in den Erfindungsanmeldungen DIi-OS 2552 972 und CH 470 490 beschrieben wird« Der Nachteil dieses Verfahrens besteht darin, daß hohe Energien und ein großer apparativer- und Zeitaufwand erforderlich sind«. Außerdem werden nur bevorzugt Oxide in der stöchiometrischen Zusammensetzung .TiO,,,. mit.χ = 0,35 erhalten* Weiter kann durch chemische Oxidation insbesondere in wäss-
rigen und / odor nichtwäßrigen Medien Titanium passiviert werden. Die dabei erhaltenen -Schichten sind wenige /um stark und weisen ein ungenügendes Passivverhalten für die vorgesehenen Anwendungsgebiete auf. Darum wird versucht, diesen chemischen Oxidationsprozeß durch einen elektrochemischen zu ersetzen. Dabei колипеп wäßrige und / oder nichtwäßrige Elektrolyte zum Einsatz, wie es z. B. in den Erfindungsanmeldungen US 3928 112, SU 197 540 und DD 89 769 dargelegt wird* Es werden stärkere Oxidschichtdicken erreicht· Die Oxide weisen teilweise auch definierte Strukturen auf. Der Nachteil dieser Verfahren besteht darin, daß sie sehr zeitaufwendig und vielfach nur im Zweistufenprozeß durch» führbar sind. Außerdem kommen nachteilig Salzschmelzen oder auch äußerst reaktive Verbindungen wie z«, B, HClO^, oder deren Salze zum Einsätze
Ziel der Erfindung
Ziel der Erfindung ist es, die angeführten Nachteile zu beseitigen und gezielt stöchiometrische als auch mit Fremdatomen dotierte Titaniumoxidschichten zu erzeugen«
Darlegung des Y/esens der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von korrosions- und haftfesten., gut wärmeleitfähigen, harten, verschleißfesten und elektrisch halbleitenden Titaniiunoxidschichten auf Titanium und dessen Legierungen unter Verwendung von wäßrigen Elektrolyten und Anwendung der .Funkenentladung zu entwickeln»
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß unter Verwendung wäßriger basischer als auch saurer Elektrolyte insbesondere bestehend aus den Anionen Fluorid und / oder Phosphat und / oder Sulfat und / oder Karbonat und / oder Zitrat und /- oder Borat und / oder. Borof luorat in den Konzentrationen nahe der Sättigungskonzentration insbesondere 0,5 - 1j5 mol/1 bei Temperaturen des Elektrolyten von 20 90 0C und Anwendung reiner Gleich- und / oder Wechsel- und
Irapulsspannungen eine Funkenentladung an der Phasengrenze Metall / Elektrolyt erreicht wird« Шѵ eine Schichtbildung auf diesem Wege zu erzielen, ist die Ausbildung eines Sauerstoffilmes an der Titaniumelektrode erforderlich, "Der Ladungsaustausch erfolgt in einem, eng begrenzten Entladungskanal in Richtung zur Elektrodenoberfläche. Dabei wird im Entladungskanal ein plasmaartiger Zustand mit kurzzeitig sehr hohen Temperaturen erzeugt. Unter diesen Bedingungen und dem dabei auftretenden atomaren Zustand des Sauerstoffs wird die chemische Reaktivität des Titaniums und damit die Schichtbildung sowohl in Richtung Schichtdicke als auch Struktur beeinflußt. Die Entladung verläuft an der Oberfläche der Elektrode nach Erreichen der Zündspannung zunächst lawinenartig ab, bis die gesamte Oberfläche mit einer Oxidschicht bedeckt ist. Danach tritt die Funkenentladung nur noch stochastisch auf Grund der Teilleitfähigkeit des gebildeten Oxides auf. Durch den lokal begrenzten Ladungsaustausch werden sehr hohe Stromdichten erreicht, die für
die lawinenartige "Abrasterung" Werte > 100 A/dm ergeben* Die ausgetauschte Energie wird durch die Ausbildung der Partialanode und die Arbeitsspannung bestimmt. Bei höherer Arbeitsspannung als der Zündspannung werden dickere und härtere Schichten erzeugt« Die Zündspannung hängt von der Elektrolytzusemmensetzung sowie anderen Parametern des Elektrolyten wie Viskosität, pH-Wert, Temperatur, spezifische Leitfähigkeit ab« Die Zündspannung der insbesondere angewendeten Elektrolyte liegt im Bereich > 100 V < 220 V. Es ist von Vorteil, bei Arbeitsspannungen, die um 10 - 20 V höher als die Zündspannungen liegen, die Oxidation durchzuführen, da eine willkürliche Erhöhung der Arbeitsspannung neben einem hohen Materialabtrag zu nicht kontrollierbaren Schichtzusammensetzungen führt. Es ist zweckmäßig, das Potential kontinuierlich vom Aktiv- über den Transpassivbereich bis zur Zündung zu steigern. Danach wird die Arbeitsspannung diskret um einen Festwert von 10 - 20 V erhöht« Durch die Wahl der Behandlungszeit wird die Stöchiometrie des gebildeten Oxides signifikant beeinflußt» Nach der erfolgten lawinenartigen Abrasterung, die mit hoher Besehieh-
tungsgeschwiiidigkeit < 20 As/cm abläuft, wird ein Oxid mit einem Sauerstoffanteil < 1 erzeugt« Wird die Entladung weiter fortgesetzt, worden Oxide mit höherem. Sauerstoffanteil bis TiOp gebildet. Der Oxidationsverlauf ist durch die unterschiedliche Farbe der Oxide gekennzeichnet. Die Oxidschichten werden durch Zugabe von Ifremdionen in den Elektrolyten wie z. B0 Chromat, Vanadat, Silikat, Wolframat, Zinkat, Aluminat dotiert. Die Fremdionen können auch als Kationen insbesondere von Pt, Pd, Ni, Cr u. a. vorliegen und werden in und auf der Schicht während einer katodisc.hen Reaktionsphase abgeschieden. Dadurch läßt sich eine Vielfalt von Mischoxiden erzeugen, die auch ausgeprägte katalytische Eigenschaften aufweisen.
Aus wäßrigen Suspensionen, die z. B, Karbide wie Wolfram-, Titanium-, Chromkarbid und / oder Oxide wie SiO-» TiO-» ZnO, MgO, CiO-Al2Oo u. a, und / oder metallische wie Pt, Pd, Ag u.a» und / oder nichtmetallische Komponenten wie B u, a. enthalten, werden Dispersionsschichten abgeschieden, die wiederum eine weite Modifizierung der Eigenschaften zulassen, z.B. Erhöhung der Korrosions- und Verschleißfestigkeit, Verbesserung der katalytischen Wirkung u. a». Die Erzeugung der modifizierten Titaniumoxidschichten wird durch kurzzeitige Spannungsunterbrechungen und Überlagerung von Impulsspannungen mit Totzeiten > 0,5 s positiv beeinflußt.
Ausführungsbeispiel
Die Erfindung soll nachstehend an 3 Ausführungsbeispielen beschrieben werden»
Ausführungsbeispiel 1
In einer wäßrigen Lösung, die 0,5 и an Phosphat, 0,5 Bi an Karbonat und 0,5 ei an Fluorid ist, wird unter Einwirkung einer reinen.Gleichspannung von I50 V und einer Elektrolyttemperatur von 60 C ein Titaniumblech, welches nach konventionellen Methoden metallisch blank gebeizt wird, anodisch unter Funkenentladung bei konstantem Strom von 4 A beschichtet,
wobei nach einer Reaktionszeit voa 1 min» die Beschichtung unterbrochen und oin Oxid mit graublauer Farbe erhalten wird. Die Schichtdicke wird zu 10 /Um bestimmt. Die Mikrohärte der
о Schicht liegt über 460 kp/mm"", v/o bei die Härte des Gründme-
ρ tails zu 360 kp/mm bestimmt wird»
Ausführungsbeispiel 2
In einem Elektrolyt, der 0,8 m an Eluorid und 0,8 m an Phosphat ist, wird unter Einwirkung einer mit Impulsstrom überlagerten Gleichspannung die Funkenoxidation an einem vorher gebeizten, anodisch gepolten Titaniumblech bei einer Elektrolyttemperatur von 30 C 3 min. lang durchgeführt. Die reine Gleichspannung beträgt 1/3 der Impulsspannung, die auf 150 V eingestellt ist. Die Impulsfrequenz ist 0,2 Imp/s bei einer Impulslänge von 2s.
Es werden Schichtdicken > 15 /Um und Mikrohärten der Schicht > 500 kp/mm2 erhalten.
Ausführungsbeispiel 3
In den Elektrolyten nach Ausführungsbeispiel 1 werden 0,05 m. Natriumsilikat und je 15 g/l Bor-, Wolfram- und Titaniumkarbid addiert und homogenisiert. Kontinuierlich wird die Gleichspannung bis zur Zündspannung mit einer Vorschubgeschwindigkeit von 85 V/min« erhöht. Die Abrasterung wird in 5 Zyklen je 15 s durchgeführt. Die gesinterten Schichten weisen Schichtdicken > 20 лип auf, sind sehr hart und teilweise porig.
Claims (5)
1. Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Titanium und -legierungen in wäßrigen Elektrolyten gekennzeichnet dadurch, daß unter Verwendung von Gleich- und / oder Wechsel- und Impulsspannungen eine Funkenentladung so durchgeführt wird, daß in einem Einstufenprozeß durch die Variation der Reaktionszeit in Struktur und Eigenschaften definierte Titaniumoxide als auch Oxidschichten mit dispersen Einlagerungen und / oder metallischen Abscheidungen erzeugt werden·
2· Verfahren nach Punkt 1 gekennzeichnet dadurch, daß die wäßrigen Elektrolytlösungen sauer als auch basisch sind und insbesondere die Anionen Fluorid und / oder Phosphat und / oder Sulfat und / oder Borat und / oder Zitrat und / oder Borofluorat vorzugsweise nahe der Sättigungskonzentration enthalten,
3« Verfahren nach Punkt 1 und 2 gekennzeichnet dadurch, daß in den Elektrolyten ionogene Zusätze von Anionen insbesondere Silikat, Aluminat, Zinkat, Molybdat, Chromat, Vanadat als auch Kationen insbesondere der Metalle Pt, Pd, Ni, Cr und / oder disperse Bestandteile insbesondere Karbide wie Wolfram-, Titanium-, Chromkarbid und / oder Oxide wie SiO2» TiO2* ZnO, MgO, Oo-AIJD^ sowie metallische als auch nichtmetallische Komponenten insbesondere B enthalten sindo
4· Verfahren nach Punkt 1 bis 3 gekennzeichnet dadurch, daß
die Funkenentladung bei Stroradichten > 100 A/dm und bei Arbeitsspannungen 10 - 20 V höher als die Zündspannung durchgeführt wird·
5. Verfahren nach Punkt 1 bis Ц- gekennzeichnet dadurch, daß die Oxidation des Titaniums und die Bildung der Dispersionssctiicht durch mit Impulsstrom überlagerter Gleichspannung erfolgt, die sowohl kontinuierlich bis zu einem Verhältnis von 3 s 1 erhöht oder" diskret vorgegeben wird insbesondere bei Impulsfrequenzen von 0,2 Imp/s. und Impulslängen von 2 s.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD22405580A DD156003A1 (de) | 1980-09-23 | 1980-09-23 | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und-legierungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD22405580A DD156003A1 (de) | 1980-09-23 | 1980-09-23 | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und-legierungen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD156003A1 true DD156003A1 (de) | 1982-07-21 |
Family
ID=5526392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD22405580A DD156003A1 (de) | 1980-09-23 | 1980-09-23 | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und-legierungen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD156003A1 (de) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2651509A1 (fr) * | 1989-09-04 | 1991-03-08 | Dipsol Chem | Procede pour la production de films de ceramiques par decharge d'etincelles a l'anode. |
| DE19910188C2 (de) * | 1998-11-02 | 2001-05-10 | Wolfgang Brandau | Implantat, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
| DE4139006C3 (de) * | 1991-11-27 | 2003-07-10 | Electro Chem Eng Gmbh | Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen und auf diese Weise erzeugte Gegenstände aus Aluminium, Magnesium, Titan oder deren Legierungen mit einer Oxidkeramikschicht |
| DE102009016554A1 (de) | 2009-02-19 | 2010-09-09 | Heraeus Kulzer Gmbh | Medizinisches Implantat mit einer Oberflächenschicht und Verfahren zur Herstellung der Implantatoberfläche |
| DE102011007424A1 (de) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf der Oberfläche eines Substrats auf Basis von Leichtmetallen durch plasmaelektrolytische Oxidation |
-
1980
- 1980-09-23 DD DD22405580A patent/DD156003A1/de active IP Right Grant
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2651509A1 (fr) * | 1989-09-04 | 1991-03-08 | Dipsol Chem | Procede pour la production de films de ceramiques par decharge d'etincelles a l'anode. |
| DE4027999A1 (de) * | 1989-09-04 | 1991-03-14 | Dipsol Chem | Verfahren zur bildung eines keramischen films |
| GB2237030A (en) * | 1989-09-04 | 1991-04-24 | Dipsol Chem | Forming ceramics films by anode-spark discharge in electrolytic bath |
| US5147515A (en) * | 1989-09-04 | 1992-09-15 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Method for forming ceramic films by anode-spark discharge |
| GB2237030B (en) * | 1989-09-04 | 1994-01-12 | Dipsol Chem | Method for forming ceramics films by anode-spark discharge |
| DE4139006C3 (de) * | 1991-11-27 | 2003-07-10 | Electro Chem Eng Gmbh | Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen und auf diese Weise erzeugte Gegenstände aus Aluminium, Magnesium, Titan oder deren Legierungen mit einer Oxidkeramikschicht |
| DE19910188C2 (de) * | 1998-11-02 | 2001-05-10 | Wolfgang Brandau | Implantat, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
| US6709379B1 (en) | 1998-11-02 | 2004-03-23 | Alcove Surfaces Gmbh | Implant with cavities containing therapeutic agents |
| DE102009016554A1 (de) | 2009-02-19 | 2010-09-09 | Heraeus Kulzer Gmbh | Medizinisches Implantat mit einer Oberflächenschicht und Verfahren zur Herstellung der Implantatoberfläche |
| DE102011007424A1 (de) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf der Oberfläche eines Substrats auf Basis von Leichtmetallen durch plasmaelektrolytische Oxidation |
| DE102011007424B4 (de) * | 2011-04-14 | 2014-01-23 | Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf der Oberfläche eines Substrats auf Basis von Leichtmetallen durch plasmaelektrolytische Oxidation und beschichtetes Substrat |
| DE102011007424B8 (de) * | 2011-04-14 | 2014-04-10 | Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf der Oberfläche eines Substrats auf Basis von Leichtmetallen durch plasmaelektrolytische Oxidation und beschichtetes Substrat |
| US8828215B2 (en) | 2011-04-14 | 2014-09-09 | Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material-und Küstenforschung GmbH | Process for producing a coating on the surface of a substrate based on lightweight metals by plasma-electrolytic oxidation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE4139006C2 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen und Gegenstände aus Aluminium, Magnesium, Titan oder deren Legierungen mit einer Oxidkeramikschicht | |
| DE2063238C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode zur Verwendung bei elektrolytischen Prozessen | |
| DE2907875C2 (de) | Verfahren zum elektrolytischen Abtragen von Wolframcarbid-Überzügen auf Werkstücken aus Titan oder Titan-Legierungen | |
| DE69402272T2 (de) | Verfahren zum Nitrieren von Werkstücken aus Eisen, mit verbesserten Korrosionswiderstand | |
| DE2113676C2 (de) | Elektrode für elektrochemische Prozesse | |
| DE1094245B (de) | Bleidioxyd-Elektrode zur Verwendung bei elektrochemischen Verfahren | |
| EP0518850A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Beizen von kontinuierlich durchlaufendem elektrisch leitendem Gut | |
| DE1961960B2 (de) | Verwendung eines Schlickers zur Beschichtung eines Gegenstandes mit keramischem Überzug mittels Elektrophorese | |
| DE69016612T2 (de) | Methode zum elektrolytischen Beizen oder Entfetten von Stahlband. | |
| DE2809636A1 (de) | Galvanisierbad auf der basis von dreiwertigem chrom | |
| DE4209733A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Beschichtung von Substraten und dergleichen | |
| DD142360A1 (de) | Verfahren zur erzeugung alpha-al tief 2 o tief 3-haltiger schichten auf aluminiummetallen | |
| DD156003A1 (de) | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und-legierungen | |
| DE69109029T2 (de) | Anode für Chrom-Elektroplattierung, Verfahren zur Herstellung und Verwendung dieser Anode. | |
| EP1712660A1 (de) | Unlösliche Anode | |
| DE2917019C2 (de) | Verfahren zur Metallisierung von Verbundmaterial und dazu geeignete Badzusammensetzung | |
| DE1621060A1 (de) | Elektrolyt fuer die elektrolytische Abscheidung von schwarzen Chromueberzuegen | |
| DE1919365A1 (de) | Verfahren zum Reinigen von Baendern aus Kupferlegierungen | |
| DE1771955C3 (de) | Bad und Verfahren zur Verbesserung der Verschleissfestigkeit von Metalloberflächen | |
| DD156003B1 (de) | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von titanium und -legierungen | |
| DE1621404A1 (de) | Verfahren zum elektrophoretischen Auftrag anorganischer oxidischer Schutzschichten | |
| DE2522926A1 (de) | Verfahren zur herstellung metallplattierten langgestreckten aluminiummaterials | |
| DE2728650C2 (de) | Verfahren zur Vorbehandlung von Stahloberflächen für das nachfolgende Überziehen | |
| EP4194590B1 (de) | Verfahren und zusammensetzung zur selektiven anodisation | |
| DE349227C (de) | Verfahren zum Faerben metallischer Flaechen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RPV | Change in the person, the name or the address of the representative (searches according to art. 11 and 12 extension act) | ||
| UW | Conversion of economic patent into exclusive patent | ||
| RPI | Change in the person, name or address of the patentee (searches according to art. 11 and 12 extension act) |