一种公自转抛光机
技术领域
本实用新型涉及抛光机技术领域,具体是涉及一种公自转抛光机。
背景技术
抛光机是一种专业的打磨抛光设备,主要由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩等基本元件组成。现有技术中,为确保抛光效果,大部分抛光机都具有公转和自转功能。但现有的公自转抛光机一般采用硬限位安装的方式进行安装,使得在打磨抛光作业过程中,打磨抛光压力不恒定,磨轮自转过程中工件沿输送方向不断被打磨抛光,导致表面抛光不均匀,容易在工件上留下损伤,降低生产质量与效率。
发明内容
本实用新型的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种打磨抛光压力恒定、工件表面抛光均匀度高的公自转抛光机。
本实用新型是采用如下技术解决方案来实现上述目的:
一种公自转抛光机,包括:机架、设置在所述机架上的输送装置、公转机构和若干组自转抛光机构,所述输送装置用来输送待抛光工件,所述公转机构用来带动所述自转抛光机构公转,各所述自转抛光机构用来带动抛磨件自转,所述抛磨件与所述待抛光工件表面接触进行抛光;其特征在于,所述公转机构安装在一升降平台上,在所述升降平台上设有驱使所述公转机构来回移动的摆动装置和驱使所述升降平台升降运动的升降装置;所述公转机构的来回移动方向与所述输送装置的输送方向垂直。
作为上述方案的进一步说明,所述升降装置包括:升降电机,与所述升降电机输出轴连接的传动杆,以及与所述传动杆连接的升降螺杆;所述升降螺杆与所述升降平台转动连接,所述升降螺杆与所述传动杆之间、以及所述传动杆与所述升降电机输出轴之间通过伞形齿轮连接。
进一步地,所述升降装置包括:若干组升降气缸,以及与所述升降气缸对应的用来安装所述升降气缸的升降座;所述升降座分别安装在所述升降平台两端,所述升降平台由所述升降气缸驱动进行上下移动。
进一步地,所述摆动装置包括:摆动电机、摆动座、摆动带和摆动走轮,所述摆动走轮设置在所述摆动带的两端用来驱使所述摆动带来回移动,所述摆动座固定在所述摆动带上,所述公转机构安装在所述摆动座上,所述摆动电机与所述摆动走轮传动连接。
进一步地,所述公转机构包括公转电机、与所述公转电机传动连接的公转轴,以及与所述公转轴固定连接的公转盘,各所述自转抛光机构安装在所述公转盘上。
进一步地,所述公转轴通过轴承座与所述摆动座转动连接,所述公转电机的输出端设置有主动轮,所述公转轴的自由端设置有从动轮,所述主动轮与所述从动轮之间连接有皮带,实现公转电机与公转轴的传动连接。
进一步地,所述自转抛光机构包括:自转电机、与所述自转电机传动连接的自转轴,与所述自转轴固定连接的抛磨件。
进一步地,所述抛磨件砂布磨头、毛刷磨头、织物磨头或橡胶磨头。
进一步地,所述自转电机的输出端设置有主动轮,所述自转轴的一端设置有从动轮,所述主动轮与所述从动轮之间连接有皮带,实现自转电机与所述自转轴的传动连接。
进一步地,所述输送装置包括输送皮带,以及分别设置在所述输送皮带两端的输送动力装置、皮带调整装置和平整轮组。
本实用新型采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是:
1、通过将公转机构安装在升降平台上,并利用摆动装置和升降装置来实现公转机构的移动、升降,能有效调节公自转抛光机的打磨抛光压力,方便实现工件的输送、抛光同时进行,有效提高抛光效率、生产率、以及工件表面的抛光均匀度。同时,摆动装置的设置,能使公转机构沿垂直于皮带输送的方向移动,使得抛光工作面进一步扩大,即使是工件的边角位置也能被均匀地抛光,有效保证生产质量。
2、升降装置采用螺杆升降机构,控制精度高,且方便对工件进行多种不同抛光压力的打磨。
3、升降装置采用气缸升降机构,结构简单、控制实现方便。
附图说明
图1为本实用新型提供的公自转抛光机的剖面结构示意图。
图2为本实用新型提供的公自转抛光机的另一剖面结构示意图。
图3为本实用新型提供的公自转抛光机的又一剖面结构示意图。
图4为升降装置的部分结构示意图。
图5为图3中细节A的放大图。
图6为公转机构与摆动装置的连接结构示意图。
图7为图6的侧视图。
图8为自转抛光机构的结构示意图。
图9为图8的侧视图。
附图标记说明:1、机架,2、输送装置,2-1、输送皮带,2-2、输送动力装置,2-3、皮带调整装置,2-4、平整轮组,3、公转装置,3-1、公转电机,3-2、公转轴,3-3、公转盘,4、自转抛光机构,4-1、自转电机,4-2、自转轴,4-3、抛磨件,5、升降平台,6、摆动装置,6-1、摆动电机,6-2、摆动座,6-3、摆动带,6-4、摆动走轮,7、升降装置,7-1、升降电机,7-2、传动杆,7-3、升降螺杆,8、轴承座,9、主动轮,10、从动轮,11、皮带。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本技术方案作详细的描述。
实施例一
如图1-图3所示,一种公自转抛光机,包括:机架1、设置在所述机架1上的输送装置2、公转机构3和若干组自转抛光机构4,所述输送装置2用来输送待抛光工件,所述公转机构3用来带动所述自转抛光机构4公转,各所述自转抛光机构4用来带动抛磨件4-3自转,所述抛磨件4-3与所述待抛光工件表面接触进行抛光;其特征在于,所述公转机构3安装在一升降平台5上,在所述升降平台5上设有驱使所述公转机构3来回移动的摆动装置6和驱使所述升降平台升降运动的升降装置7;所述公转机构3的来回移动方向与所述输送装置2的输送方向垂直。
进一步地,如图4所示,所述升降装置7包括:升降电机7-1,与所述升降电机输出轴连接的传动杆7-2,以及与所述传动杆连接的升降螺杆7-3;所述升降螺杆与所述升降平台5转动连接,所述升降螺杆与所述传动杆之间、以及所述传动杆与所述升降电机输出轴之间通过伞形齿轮连接。
进一步地,如图5所示,所述摆动装置6包括:摆动电机6-1、摆动座6-2、摆动带6-3和摆动走轮6-4,所述摆动走轮6-4设置在所述摆动带6-3的两端用来驱使所述摆动带来回移动,所述摆动座6-2固定在所述摆动带6-3上,所述公转机构3安装在所述摆动座6-2上,所述摆动电机6-1与所述摆动走轮6-4传动连接。
进一步地,如图6-图7所示,所述公转机构3包括公转电机3-1、与所述公转电机传动连接的公转轴3-2,以及与所述公转轴固定连接的公转盘3-3,各所述自转抛光机构4安装在所述公转盘3-3上;所述公转轴3-2通过轴承座8与所述摆动座7-2转动连接,所述公转电机3-1的输出端设置有主动轮9,所述公转轴3-2的自由端设置有从动轮10,所述主动轮与所述从动轮之间连接有皮带11,实现公转电机与公转轴的传动连接。
进一步地,如图8-图9所示,所述自转抛光机构4包括:自转电机4-1、与所述自转电机传动连接的自转轴4-2,与所述自转轴固定连接的抛磨件4-3;所述抛磨件为砂布磨头、毛刷磨头、织物磨头或橡胶磨头;所述自转电机的输出端设置有主动轮9,所述自转轴的一端设置有从动轮10,所述主动轮与所述从动轮之间连接有皮带12,实现自转电机与所述自转轴的传动连接。
进一步地,所述输送装置2包括输送皮带2-1,以及分别设置在所述输送皮带两端的输送动力装置2-2、皮带调整装置2-3和平整轮组2-4。
本实施例中,与公转盘固定连接的自转抛光机构的组数为4组,且自转轴的轴向均沿输送带输送方向设置。实际工作过程中,皮带输送装置将工件推送至机架内,平整轮组对工件进行平整压实,防止工件在抛光过程中发生移位;通过升降装置在机架内上下移动,能有效调节公自转抛光机的打磨抛光压力,同时由于摆动装置的摆动走轮设置在摆动带的两端用来驱使所述摆动带来回移动,所述摆动座固定在所述摆动带上,公转机构安装在所述摆动座上,由摆动电机驱动摆动座在升降平台上进行摆动,实现公转机构的往复移动,公转机构与自转抛光机构沿垂直于皮带输送的方向往复移动,扩大抛光工作面积,工件边角也能被均匀抛光,有效保证生产质量。
实施例二
本实施例提供的一种公自转抛光机,其结构与实施例一基本一致,区别在于:所述升降装置包括:若干组升降气缸,以及与所述升降气缸对应的用来安装所述升降气缸的升降座;所述升降座分别安装在所述升降平台两端,所述升降平台由所述升降气缸驱动进行上下移动。
实施例三
本实施例提供的一种公自转抛光机,其结构与实施例一基本一致,区别在于:所述升降装置包括:升降电机,与所述升降电机输出轴传动连接的升降螺杆;所述升降螺杆与所述升降平台转动连接,所述升降螺杆与所述升降电机输出轴的自由端固定连接有齿轮,并通过与所述齿轮啮合的齿轮皮带传动连接。
以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。