CN215379277U - 一种用于玻璃基板的微波加热装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于玻璃基板的微波加热装置，通过在玻璃基板上下设置微波均波板，将微波源与微波发生器产生的微波均匀地传导到玻璃基板上，实现均匀加热，并且在玻璃基板上方设置测温部件，实时测量玻璃基板的温度信号，将温度信号发送的微波控制装置控制微波输出功率大小，实现自动控制。该微波加热装置内部有传送部件，可以保证玻璃基板在各个工序装置之间的稳定传送。微波可以实现对玻璃由里到外的均匀加热，不仅可以排除玻璃基板表面吸附的气体和水，对于玻璃表层和体内的结构水和气体也能加速其向表面扩散，进而由表面去除，具有加热时间短，去除结构水及吸附水在真空玻璃的生产应用中更高的优势。

Description

一种用于玻璃基板的微波加热装置

技术领域

本实用新型涉及真空玻璃制造装置领域，尤其涉及一种用于玻璃基板的微波加热装置。

背景技术

真空玻璃前处理过程中，玻璃基板长时间暴露于大气中，表面吸附了大量空气分子并向玻璃表层不断溶解扩散以达到平衡。当玻璃表面暴露于真空中，原有的动态平衡被破坏，气体趋于解溶，重新逸回到空间中，这种现象称为“脱附”。真空玻璃真空层的体积虽然很小，1m²真空玻璃的真空层体积仅为0.0002m³，但包围真空层的玻璃表面积却有2m²，所以真空玻璃属于大表面积小体积的真空器件。

抽真空时，其中做无规则运动的气体分子很快被抽出，但玻璃表面吸附的大量气体分子及玻璃内部溶解的气体分子却难以被排除干净，未排除的气体分子封离后重新逸出，是造成真空度下降的重要原因。由于吸附气体的脱附是吸热过程，在抽真空时，必须辅以高温加热的方式使玻璃表面的气体分子尽快排出，实验证明至少200℃以上的高温加热才能有效排除玻璃表面吸附的大部分气体分子。同时玻璃表面也会存在玻璃结构水及吸附水，影响真空玻璃的真空度。

通用的工艺是在玻璃基板的上下方布置远红外加热管，对玻璃基板加热，存在温度不可控，加热时间长，加热不均匀等缺点，生产工艺相对来说比较困难且效率较低影响产品产量的提高。

有鉴于此，设计一种可以使玻璃基板上下加热均匀实现排水排气的加热装置是至关重要的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的不足，提供一种用于玻璃基板的微波加热装置。

为了实现以上目的，本实用新型的技术方案为：

一种用于玻璃基板的微波加热装置，包括真空腔室以及设置在所述真空腔室内的传送部件、微波部件和测温部件，所述微波部件包括微波发生器和微波均波板，所述传送部件被配置为接收并传送来自进料端的玻璃基板，所述微波均波板固定在所述传送部件的上下两侧，所述微波发生器安装在所述传送部件的上方将微波发射到所述微波均波板使微波均匀分布在所述玻璃基板的两侧对所述玻璃基板进行微波加热，所述测温部件采集监测所述玻璃基板表面的温度。

在可选的实施例中，所述微波均波板包括固定在所述传送部件上方的第一均波板以及固定在所述传送部件下方的第二均波板。

在可选的实施例中，在所述第一均波板上方安装有多个所述微波发生器，所述微波发生器的两端安装有微波源。

在可选的实施例中，所述微波部件还包括调整所述微波源功率的微波控制装置，所述测温部件位于所述传送部件上方，所述微波控制装置与所述测温部件连接并实时接收所述测温部件采集的温度信号，根据所述温度信号变化调整所述微波源的输出功率。

在可选的实施例中，所述第一均波板下方的所述真空腔室的侧边内壁设置有真空闸板，所述真空闸板的上方安装有真空闸板阀，所述真空闸板阀控制所述真空闸板开启或关闭。

在可选的实施例中，还包括支撑结构，所述微波均波板通过所述支撑结构固定连接在所述真空腔室的上下内壁。

在可选的实施例中，所述微波均波板卡接于所述真空腔室的侧边内壁。

在可选的实施例中，所述测温部件安装在所述真空腔室上方内壁。

在可选的实施例中，所述微波均波板为陶瓷板。

在可选的实施例中，所述测温部件为红外测温仪。

本实用新型的有益效果为：

(1)在玻璃基板上下方设置有微波均波板，微波均波板可以将微波发生器发射出的微波进行均匀传导在玻璃基板上，将热能均匀作用在玻璃基板上，使玻璃基板各个位置点的温度均匀。

(2)微波加热可以对玻璃基板深层范围进行加热，可快速使玻璃基板整体温度从内到外快速加热，去除玻璃表面吸附水及玻璃结构水。所以微波用来加热玻璃基板排水可以具有加热时间短，去除结构水及吸附水在真空玻璃的生产应用中更高的优势。

(3)采用在线红外测温装置实时反馈温度信号给微波控制装置，通过微波控制装置调节输出功率大小实现自动控制。

(4)设置传送部件和真空闸板，可以实现玻璃基板的连续加热排气排水。

附图说明

图1为本实用新型的实施例的用于玻璃基板的微波加热装置的示意图；

图2为本实用新型的实施例的用于玻璃基板的微波加热装置的传送结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步解释。本实用新型的各附图仅为示意以更容易了解本实用新型，其具体比例可依照设计需求进行调整。文中所描述的图形中相对元件的上下关系以及正面/背面的定义，在本领域技术人员应能理解是指构件的相对位置而言，因此皆可以翻转而呈现相同的构件，此皆应同属本说明书所揭露的范围。

参考图1及图2，本申请的实施例提出了一种用于玻璃基板的微波加热装置，包括真空腔室1以及设置在所述真空腔室1内的传送部件2、微波部件3和测温部件4。真空腔室1通过设置在真空腔室1上方的管道连接抽气泵达到所需的真空度。所述微波部件3包括微波发生器31、微波均波板32和微波源33，微波源33设置在微波发生器31的两端，在具体的实施例中，多个所述微波发生器设置在所述第一均波板上方。

参考图2，本申请的微波加热装置设置在进料端之后，玻璃基板经过微波加热装置之后传送到工艺室和出料端。所述传送部件2被配置为接收并传送来自进料端的玻璃基板，并将玻璃基板传送到下一个工序装置内。参考图1与图2，传送部件2包括电机、传动减速机21、主传动轴22以及传送滚轮23，电机与传动减速机21连接并提供动力，传动减速机2与主传动轴22连接，主传动轴22与传送滚轮23连接，最终将动力传递到传送滚轮23上。传送滚轮23用于传输玻璃基板。所述第一均波板下方的所述真空腔室1的侧边内壁设置有真空闸板(未示出)，所述真空闸板的上方安装有真空闸板阀11，所述真空闸板阀11控制所述真空闸板开启或关闭。通过安装在靠近进料端的真空闸板阀11开启靠近进料端的真空闸板，通过传送部件2将玻璃基板传送到真空腔室1内，关闭所有的真空闸板后进行抽真空。当真空腔室1内的真空度达到工艺要求后开启微波源33，微波源33用于产生微波，并通过微波发生器31发射微波到微波均波板32上，所述微波发生器31安装在所述传送部件2的上方将微波发射到所述微波均波板32使微波均匀分布在所述玻璃基板的两侧实现微波加热，所述微波均波板32固定在所述传送部件2的上下两侧，具体地，所述微波均波板32卡接于所述真空腔室1的侧边内壁上。

在具体的实施例中，所述微波均波板32包括固定在所述传送部件2上方的第一均波板以及固定在所述传送部件2下方的第二均波板，在真空中微波通过第一均波板和第二均波板之间折射，使得在第一均波板和第二均波板之间的玻璃基板的热量可以均匀分布，达到良好的排气排水效果。在具体的实施例中，所述微波均波板32为陶瓷板，所述微波均波板32通过支撑结构34固定连接在所述真空腔室1的上下内壁。支撑结构34与微波均波板32之间的连接方式可以采用粘接等，支撑结构34与真空腔室1之间的连接关系可以采用粘接、螺栓连接等。

在具体的实施例中。所述测温部件4位于所述传送部件2上方测量所述玻璃基板的温度。具体地，测温部件4安装在所述真空腔室1上方内壁，所述测温部件4为红外测温仪，真空腔室1内的测温部件4可以在线测温。所述微波部件3还包括调整所述微波源33功率的微波控制装置，所述微波控制装置与所述测温部件4连接并实时接收所述测温部件4所测量的温度信号。所述微波控制装置可以根据测温部件4实时测量的温度信号调节微波源33的输出功率大小，最终实现自动控制。

按工艺要求达到排气排水时长后，打开靠近工艺室的真空闸板阀11开启靠近工艺室的真空闸板，将玻璃基板传送到工艺室进行下道工艺生产，依此类推，实现玻璃基板的连续加热排水排气工艺。

本实用新型公开的微波加热装置通过在玻璃基板上下方设置微波均波板，可以将微波发生器发射出的微波进行均匀传导在玻璃基板上，将热能均匀作用在玻璃基板上，使玻璃基板各个位置点的温度均匀，实现排气。对玻璃基板深层范围进行加热，可快速使玻璃基板整体温度从内到外快速加热，去除玻璃表面吸附水及玻璃结构水，达到排水效果。并且联合在线测温实现自动化调整微波源的输出功率，保证加热温度的精准控制，不仅适用于真空玻璃生产的过程，还适用于其他用于玻璃基板处理的场景。

上述实施例仅用来进一步说明本实用新型的一种用于玻璃基板的微波加热装置，但本实用新型并不局限于实施例，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均落入本实用新型技术方案的保护范围内。

Claims (10)

1.一种用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，包括真空腔室以及设置在所述真空腔室内的传送部件、微波部件和测温部件，所述微波部件包括微波发生器和微波均波板，所述传送部件被配置为接收并传送来自进料端的玻璃基板，所述微波均波板固定在所述传送部件的上下两侧，所述微波发生器安装在所述传送部件的上方将微波发射到所述微波均波板使微波均匀分布在所述玻璃基板的两侧对所述玻璃基板进行微波加热，所述测温部件采集监测所述玻璃基板表面的温度。

2.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述微波均波板包括固定在所述传送部件上方的第一均波板以及固定在所述传送部件下方的第二均波板。

3.根据权利要求2所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，在所述第一均波板上方安装有多个所述微波发生器，所述微波发生器的两端安装有微波源。

4.根据权利要求3所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述微波部件还包括调整所述微波源功率的微波控制装置，所述测温部件位于所述传送部件上方，所述微波控制装置与所述测温部件连接并实时接收所述测温部件采集的温度信号，根据所述温度信号变化调整所述微波源的输出功率。

5.根据权利要求2所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述第一均波板下方的所述真空腔室的侧边内壁设置有真空闸板，所述真空闸板的上方安装有真空闸板阀，所述真空闸板阀控制所述真空闸板开启或关闭。

6.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，还包括支撑结构，所述微波均波板通过所述支撑结构固定连接在所述真空腔室的上下内壁。

7.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述微波均波板卡接于所述真空腔室的侧边内壁。

8.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述测温部件安装在所述真空腔室上方内壁。

9.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述微波均波板为陶瓷板。

10.根据权利要求1所述的用于玻璃基板的微波加热装置，其特征在于，所述测温部件为红外测温仪。

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