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CN1591112A - 电光装置用基板及其制造方法、电光装置及其制造方法 - Google Patents

电光装置用基板及其制造方法、电光装置及其制造方法 Download PDF

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CN1591112A CNA200410057036XA CN200410057036A CN1591112A CN 1591112 A CN1591112 A CN 1591112A CN A200410057036X A CNA200410057036X A CN A200410057036XA CN 200410057036 A CN200410057036 A CN 200410057036A CN 1591112 A CN1591112 A CN 1591112A
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Abstract

在电光装置用基板或电光装置中，通过变更基底层的图形形状，使基底层难于剥离，由此抑制反射膜的不良的发生，提高产品的合格率。本发明的电光装置用基板的特征在于：在基板上形成相互叠层配置的反射膜(213)和基底层(212)，排列包含反射膜和基底层的一部分的多个像素区域，在每个像素区域设置不形成反射膜的透过开口部(213a)和配置在与该透过开口部平面看重叠的位置上的不形成基底层的基底开口部(212a)，在相邻的上述像素区域间，基底开口部相互连续。

Description

电光装置用基板及其制造方法、 电光装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及电光装置用基板、电光装置用基板的制造方法、电光装置、电光装置的制造方法和电子设备，特别是适合于构成半透过反射型的电光装置时的反射膜的结构和制造方法。
背景技术
通常，半透过反射型的电光装置随着近年来的便携式电子设备的发展越来越多地被使用。例如，以作为电光装置的一种的液晶显示装置为例进行说明，半透过反射型的液晶显示体已应用于便携电话或便携式信息终端等。半透过反射型的液晶显示装置可以通过点亮后照灯(背光)而和透过型的液晶显示装置一样进行透过型显示，另外，即使不使用后照灯时，通过反射膜反射外光也可以和反射型的液晶显示装置一样进行反射型显示，所以，可以根据环境来选择使用透过型显示和反射型显示，另外，通过利用反射型显示可以降低功耗。
虽然上述半透过反射型的液晶显示装置被构成为用反射膜反射外光，可以利用该反射光观看显示，但是，如果反射膜的反射面是例如镜面状态时，则将发生由照明引起的眩光或背景的映入，从而成为使可视性恶化的原因。因此，通常采用通过设为具有细微的表面凹凸形状(粗糙面)的光散射性的反射面来确保显示的明亮度并防止照明引起的眩光或背景的映入的方法。作为形成具有上述那样的光散射性的反射面的反射膜的方法，已知的方法是在基板上形成由具有表面凹凸形状的树脂等构成的基底层，通过在该基底层上形成反射膜而形成反映基底层的表面凹凸形状的光散射性的反射面。
在上述那样的半透过反射型的液晶显示装置中，如图18和图19所示，在构成液晶面板的一方的基板上通过涂布感光性树脂并进行曝光和显影，在具有表面凹凸形状的基底层112上，对每个像素形成基底开口部112a。在该基底层112之上，形成由金属薄膜等构成的反射膜113。此外，在与基底开口部112a平面看重叠的部分构成不形成反射膜113的透过开口部113a。按照该结构，从图中未示出的后照灯照射的光在每个像素区域通过透过开口部113a和基底开口部112a而成为构成透过型显示的显示光，另外，外光入射到液晶面板内由各像素区域的反射膜113R、113G、113B反射而成为构成反射型显示的显示光。
但是，在上述以往的半透过反射型的液晶显示装置中，通过每个像素区域中除去基底层112的基底开口部112a形成为窗状，在进行基底层112的显影时，有时会发生位于相邻的基底开口部112a之间的构成桥状的树脂部分从基板上剥离的现象。特别是由于重视透过显示而使各像素区域的透过开口部113a的开口率大时，上述桥状的树脂部分的宽度将减小，所以，基底层112就更容易剥离。另外，如图18和图19所示，各像素区域具有纵长的矩形形状(长方形)时，如果形成大的透过开口部113a，则如图18所示的树脂部分113X那样，在与像素区域的长度方向正交的方向上相邻的基底开口部112a之间的树脂部分的宽度会更窄，所以，该部分就更容易从基板上剥离。
如上所述，在进行基底层112的显影时上述树脂部分一旦从基板上剥离时，即使它再次附着到基板上，基底层112也将发生形状不良，所以，反射膜的形状也会不良，从而产品的合格率(成品率)降低。
发明内容
因此，本发明就是为了解决上述问题而提案的，目的旨在通过变更基底层的图形形状而使基底层难于剥离、由此抑制反射膜不良的发生，从而提高产品的合格率。
本发明的电光装置用基板的特征在于，具有：配置在基板上的基底层；在上述基底层上叠层配置的反射膜；在包含上述反射膜和上述基底层的区域形成的多个像素区域；在上述每个像素区域设置的不形成上述反射膜的透过开口部和在与该透过开口部平面看重叠的位置配置的并且遍及相邻的上述像素区域之间不形成上述基底层的基底开口部。
按照本发明，通过在相邻的像素区域之间基底开口部相互连续，在相邻的像素区域间不存在配置于基底开口部间的桥状的基底层的部分，所以，基底层难于剥离，从而可以抑制不良的发生。
这里，在相邻的像素区域间基底开口部相互连续，包含至少每相邻的2个像素区域一体地构成1个基底开口部的情况。因此，虽然包含跨过3个或以上的像素区域一体地构成1个基底开口部的情况，但不限于此。
在本发明中，上述基底开口部最好构成为沿上述像素区域的指定的排列方向连续的缝隙状。这样，通过将基底开口部构成为沿指定的排列方向连续的缝隙状，可以将基底开口部的开口边缘形成简单的形状，所以，基底层更难于从该开口边缘剥离。
这时，从基底层的剥离更难的角度考虑，基底开口部的开口边缘最好在上述指定的排列方向上形成为直线状。另外，在电光装置用基板上，从将基底层的图形形状采用更简单的形状考虑，优选地，遍及排列在上述指定的排列方向的所有的像素区域，上述缝隙状的透过开口部和基底开口部一体地(连续地)形成。
在本发明中，优选地，各个上述像素区域具有长方形的形状，将其长度方向对准指定方向而排列，上述缝隙状的基底开口部的上述指定的排列方向是与上述像素区域的长度方向交叉的方向。这样，通过将基底开口部在与像素区域的长度方向不同的方向上形成为连续的缝隙状，可以确保与相邻的像素列的其他基底开口部之间的间隔较宽，所以，可以进一步降低基底层的剥离。
这里，上述指定的排列方向优选地是与像素区域的长度方向正交的方向。这样，通过像素区域的基底开口部的位置在像素区域间基本上为同一位置，所以，可以降低与基底开口部平面看重叠地形成的透过开口部的位置的偏差对显示品质的影响。
在本发明中，优选地，上述基底层具有表面凹凸形状，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形状的光散射性的反射面。这样，在反射膜上就可以容易地形成光散射性的反射面，同时，利用光散射性的反射面可以实现可视性优异的反射型显示。
在本发明中，优选地，在上述基底层中上述基底开口部的开口边缘部分，不形成上述表面凹凸形状。这样，通过在基底层的开口边缘部分不形成表面凹凸形状，可以确保基底层的开口边缘部分的紧密性(粘着力)和强度，所以，基底层更难剥离。
反射膜在上述基底层中上述基底开口部的开口边缘部分的侧面上形成，基底层的侧面由反射膜所覆盖，所以，在反射膜形成之后可以降低基底层和反射膜的剥离现象。
其次，本发明的电光装置用基板的制造方法是在基板上形成相互叠层配置的反射膜和基底层并排列了包含上述反射膜和上述基底层的一部分的多个像素区域的电光装置用基板的制造方法，其特征在于，包括：以在每个像素区域存在不形成上述基底层的基底开口部并且在相邻的上述像素区域间使上述基底开口部连续的方式，形成上述基底层的工序；以及以不形成上述反射膜的透过开口部位于与上述基底开口部平面看重叠的位置上的方式，形成上述反射膜的工序。
在本发明中，优选地，在形成上述基底层的工序中，通过使用指定的掩模对感光性树脂进行曝光、显影而形成具有上述表面凹凸形状的上述基底层。这样，就可以很容易地根据曝光强度和曝光图形而形成表面凹凸形状，另外，同时可以根据曝光强度和曝光图形而形成基底开口部。
这时，优选地，在基底层中基底开口部的开口边缘部分的侧面上也形成反射膜。这样，由于基底层的侧面由反射膜所覆盖，所以，可以降低反射膜形成后基底层和反射膜的剥离不良。
其次，本发明的电光装置的特征在于，具有：电光层；与上述电光层相对配置的反射膜；在上述反射膜的上述电光层的相反侧配置的基底层；在包含上述电光层和上述反射膜的区域形成的多个像素区域；在上述每个像素区域设置的不形成上述反射膜的透过开口部；以及配置在与该透过开口部平面看重叠的位置上并且遍及相邻的上述像素区域间不形成上述基底层的基底开口部。
按照本发明，通过在相邻的像素区域间基底开口部相互连续，在相邻的像素区域间不存在配置在基底开口部间的桥状的基底层的部分，所以，基底层难于剥离，于是，可以抑制不良现象的发生。因此，可以提高电光装置的合格率，从而可以制造成本更低且可靠性高的电光装置。
在本发明中，优选地上述基底开口部沿上述像素区域的指定的排列方向形成相互连续的缝隙状。
在本发明中，优选地，上述像素区域具有长方形的形状，以将其长度方向对准指定方向的姿势排列，上述指定的排列方向是与上述像素区域的长度方向交叉的方向。
在本发明中，优选地，上述基底层具有表面凹凸形状，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形状的光散射性的反射面。
在本发明中，优选地，在上述基底层中上述开口部的开口边缘部分不形成上述表面凹凸形状。
其次，本发明的电光装置的制造方法是具有电光层、配置在该电光层的背后的反射膜和在该反射膜的上述电光层的相反侧相邻配置的基底层的、由包含上述电光层和上述反射膜的多个像素区域排列而成的电光装置的制造方法，其特征在于，包括：形成具有表面凹凸形状的基底层的工序，上述基底层位于上述每个像素区域并且具有在每个相邻的上述像素区域连续的基底开口；以及形成上述反射膜的工序，上述反射膜在与上述基底开口部平面看重叠的位置具有透过开口部，并且在上述基底层的表面上具有反映上述表面凹凸形状的光散射性的反射面。
在本发明中，优选地，在形成上述基底层的工序中，通过使用指定的掩模对感光性树脂进行曝光和显影而形成具有上述表面凹凸形状的上述基底层。
其次，本发明的电子设备的特征在于，具有上述任意一项所述的电光装置和该电光装置的控制单元。作为电子设备，可以是便携电话、便携式信息终端、电子表等便携式电子设备或电视、监视器、计算机、座钟等民用电子设备等。
附图说明
图1是表示实施例1的液晶显示装置的结构的放大纵剖面图。
图2是表示实施例1的电光装置用基板的反射膜的图形的放大平面图。
图3是表示实施例1的像素内的图形的放大平面图。
图4是表示实施例2的像素内的图形的放大平面图。
图5是表示实施例3的像素内的图形的放大平面图。
图6是表示实施例4的像素内的图形的放大平面图。
图7是表示实施例5的像素内的图形的放大平面图。
图8是表示实施例6的像素内的图形的放大平面图。
图9是表示实施例7的像素内的图形的放大平面图(a)、放大剖面图(b)和不同的结构例的放大剖面图(c)。
图10是表示电光装置用基板的制造方法的工序剖面图(a)-(d)。
图11是表示电光装置用基板的制造方法的工序剖面图(a)-(e)。
图12是实施例1的液晶显示装置的液晶面板的概略立体图。
图13是实施例1的液晶面板的概略纵剖面图。
图14是实施例8的液晶显示装置的概略纵剖面图。
图15是实施例8的液晶显示装置的放大部分剖面图(a)和放大部分平面图(b)。
图16是实施例9的电子设备的概略结构图。
图17是实施例9的电子设备的概略立体图。
图18是表示以往的液晶显示装置的像素内的图形的放大平面图。
图19是表示以往的其他液晶显示装置的像素内的图形的放大平面图。
符号说明
200…液晶显示装置、210…电光装置用基板、211…第1基板、212…基底层、212a…基底开口部、212b…开口边缘部分、213…反射膜、213a…透过开口部、214…着色层、220…对置基板、230…密封材料
具体实施方式
下面，参照附图详细说明本发明的实施例。以下说明的各实施例只不过是展示本发明的结构例，在不脱离本发明的要旨的范围内可以进行各种变更。
实施例1.
图12是表示本发明的电光装置的实施例1的液晶显示装置200的面板结构的概略立体图，图13是示意性地表示该面板结构的概略纵剖面图，图1是更详细地表示该液晶显示装置200的与图13正交的剖面的放大部分纵剖面图。
如图12所示，液晶显示装置200是以由玻璃板或合成树脂板等构成的透明的第1基板211为基体的电光装置用基板210和以与其相对的同样的第2基板221为基体的对置基板220通过密封部件230相互粘贴、并在液晶232从注入口230a注入到密封部件230的内侧之后用封装部件231进行密封而构成单元结构(盒结构)。
在电光装置用基板210中，在第1基板211的内面(与第2基板221相对的表面)上利用溅射法等形成多个并列的条带状的透明电极216，在对置基板220中，在第2基板221的内面上利用同样的方法形成多个并列的条带状的透明电极222。另外，上述透明电极216与布线218A导电连接，上述透明电极222与布线228导电连接。透明电极216与透明电极222相互正交，在该交叉区域构成排列为矩阵状的大量的像素，这些像素排列构成液晶显示区域A。
第1基板211具有比第2基板221的外形更向外侧伸出的基板伸出部210T，在该基板伸出部210T上，形成上述布线218A、通过由密封部件230的一部分构成的上下导通部与上述布线228导电连接的布线218B、和由独立地形成的多个布线图形构成的输入端子部219。另外，在基板伸出部210T上，以与这些布线218A、218B和输入端子部219导电连接的方式装配内置液晶驱动电路等的半导体IC261。另外，在基板伸出部210T的端部，以与上述输入端子部219导电连接的方式装配挠性布线基板263。
在液晶显示装置200中，如图13和图1所示，在第1基板211的外面，配置了相位差板(1/4波长板)240和偏振板241，在第2基板221的外面，配置了相位差板(1/4波长板)250和偏振板251。
如图13和图1所示，在电光装置用基板210中，在第1基板211的表面形成透明的基底层212。在像素区域设置有不形成基底层212的基底开口部212a。另外，在该基底层212之上形成反射膜213。这里，在每个上述像素区域设置不形成反射膜213的透过开口部213a。该透过开口部213a在与上述基底开口部212a平面看重叠的区域形成。
在反射膜213上形成着色层214，进而再在其上形成由透明树脂等构成的表面保护层(覆盖层)215。由该着色层214和表面保护层215构成滤色器。表面保护层215是为了使滤色器的表面实现平坦化同时防止有机物质从着色层214侵入液晶而使液晶劣化而设置的。
着色层214通常是将颜料或染料等着色材料分散到透明树脂中而呈指定的色调。作为着色层的色调的一例，作为原色系滤色器，有由R(红)、G(绿)、B(蓝)的3色的组合构成的色调，但是，不限定如此，可以由补色系的其他各种色调形成。通常，在基板表面上涂布由包含颜料或染料等着色材料的感光性树脂构成的着色抗蚀剂，利用光刻法除去不需要的部分，便可形成具有指定的彩色图形的着色层。
在此，在形成多个色调的着色层时，返复执行上述工序。
作为着色层的排列图形，在本实施例中，采用了条带状排列，但是，除了条带状排列外，也可以采用三角形排列或斜镶嵌排列等各种图形形状。另外，在上述RGB的各着色层的周围，作为着色层的一部分，可以形成用于进行像素间区域的遮光的遮光膜214BM(黑矩阵或黑掩模)。
在表面保护层215之上，利用溅射法形成由ITO(铟锡氧化物)等的透明导电体构成的透明电极216。透明电极216形成为在与图13的纸面正交的方向(与图1的纸面平行的方向)上延伸的带状，多个透明电极216相互并列地构成为条带状。在透明电极216之上形成由聚酰亚胺树脂等构成的取向膜217。
另一方面，在上述液晶显示装置200中，对于与上述电光装置用基板210相对的对置基板220，在由玻璃等构成的第2基板221上形成与上述相同的透明电极222，并在其上形成由S1O2或TiO2等构成的硬质保护膜223。此外，再在其上叠层与上述相同的取向膜224。
如图1所示，在液晶显示装置200中使用后照灯270。该后照灯270具有图中未示出的光源(例如，发光二极管等)、导入从该光源发生的光在内部传播并从一方的表面射出的导光板272、和配置在导光板272的背后的反射片273。另外，在后照灯270与上述面板结构之间配置扩散板281。
在本实施例中，虽然在电光装置用基板210内构成滤色器，但是，也可以在对置基板220构成滤色器。另外，构成滤色器的各着色层214在各像素区域可以分别构成位于透过开口部213a上的部分和位于反射膜213上的部分，另外，着色层214可以不在反射膜213上的一部分形成。
图2是上述电光装置用基板210的反射膜213的平面图。这里，着色层214用单点划线表示，另外，基底层212以从反射层213伸出的部分的状态表示。在本实施例中，基底层212和反射膜213构成基本上相等的平面形状，以基本上相互一致的形式叠层。另外，由上述滤色器的着色层214R、214G、214B分别形成1个像素区域D，在图示的例子中，配置有3色的着色层214R、214G、214B的像素区域D相邻，构成1个像素P。
在像素区域D中，基底开口部212a和透过开口部213a以横贯(横断)像素区域D的方式构成，在相邻的像素区域D间相互连续。更具体而言，基底开口部212a和透过开口部213a遍及(跨过)在像素区域D的短边方向(图示的左右方向)排列的多个像素区域D构成连续的缝隙状。另外，基底层212和反射膜213的开口边缘部构成为直线状。这样，基底开口部212a和透过开口部213a就形成为在长度方向具有相等的宽度的带状。
图3是将本实施例的1个像素P内的结构放大展示的放大部分平面图。基底开口部212a遍及(跨过)多个像素区域D而连续地构成，所以，在像素区域D间(即像素区域DR与DG、DG与DB、DB与DR)不形成以往存在的夹在开口部中间的桥状的部分。这里，在本发明中，透过开口部213a在相邻的像素区域D间可以连续也可以不连续，但是，在本实施例中，透过开口部213a以具有与基底开口部212a平面看基本上一致的形状的方式构成。
(制造方法)
下面，参照图10和图11说明上述液晶显示装置的电光装置用基板210的制造方法。
开始，如图10(a)所示，在由玻璃或塑料等构成的基板211的表面，利用旋转涂敷法或滚动涂敷法等涂布感光性树脂212A。在本实施例中，感光性树脂212A是光溶解型等的正片型的感光性树脂，例如，最好是丙烯酸系树脂。当然，也可以使用光硬化型等负片型的感光性树脂。
其次，如图10(b)所示，上述感光性树脂212A使用掩模102进行曝光。这里，掩模102是在玻璃等透明基板102A的表面形成由Cr等薄膜等构成的遮光层102B而构成的。在掩模102中，未被遮光层102B所覆盖的部分是光透过部102x，被遮光层102B所覆盖的部分成为光遮蔽部102y。透过光透过部102x的光照射到感光性树脂212A上。这时，通过进行在掩模102与感光性树脂212A之间设定约30～250μm左右的曝光间隙G的贴近曝光，通过掩模102的图形的光适度地衍射，可以平面看光滑地增减对感光性树脂212A的曝光强度。该曝光工序，也可以通过使用步进式曝光器的步进曝光进行。
其次，通过利用指定的显影液对上述感光性树脂212A进行显影，如图10(c)所示，在与上述掩模102的光透过部102x对应的区域和与光遮蔽部102y对应的区域之间形成凹凸状的台阶。并且，在显影工序中，从感光性树脂212A的表面除去与该曝光强度分布相应的量的树脂。这样，如图所示，就可以得到具有比较平缓的表面凹凸形状212s的基底层212。
其次，在上述结构的基底层212的表面上，形成铝、银、银合金(APC合金等)、铬等金属的薄膜，作为反射膜213。反射膜213通过在成为其基底面的基底层212的表面形成表面凹凸形状212s，具有了光散射性的反射面213s，该反射面213s具有反映该表面凹凸形状212s的凹凸形状。
其次，如图11(a)所示，在反射膜213的表面上，利用通常的光刻法形成由抗蚀剂等构成的掩模213A。掩模213A在不需要反射膜213的区域设置了开口213Ax。并且，通过使用该掩模213A进行蚀刻，如图11(b)所示，形成具有透过开口部213a的反射膜213。并且，进而使用掩模213A或者将反射膜213作为掩模通过曝光和显影处理而除去基底层212的一部分，如图11(c)所示，形成基底开口部212a。这样，通过在基底层212形成基底开口部212a，通过反射膜213的透过开口部213a的透过光就通不过基底层212，所以，可以避免基底层212的轻微的着色或基底层212的表面凹凸形状212s引起的散射作用或折射作用对透过光的影响。然后，通过形成滤色器和透明电极等，就可以形成上述电光装置用基板210。
如图11(d)所示，也可以在形成反射膜213之前在基底层212上形成基底开口部212a取代上述工序。即，在图10(b)所示的曝光工序，通过对成为基底开口部212a的区域进行强曝光，在显影时与表面凹凸形状212s一起形成基底开口部212a。并且，在此之后，如图11(e)所示，进行反射膜213的成膜并进而通过蚀刻处理等而形成透过开口部213a，由此，可以和上述一样完成电光装置用基板210。
在本实施例中，进行在基底层212形成基底开口部212a的显影时，可以防止以往成为问题的基底层212从第1基板211上剥离的现象。如图3所示，这是由于在相邻的像素区域D间通过使基底开口部212a连续，不是像以往那样在开口部间形成桥状的树脂部分的缘故。即，如果由显影液溶解的部分的宽度减小，通过显影液进入基底层212与第1基板211之间，该部分与第1基板211的紧密粘接力容易丧失，从而容易剥离。如果发生了该剥离，即使该部分再次附着到第1基板211上，基底层212自然不必说，反射膜213等上层也将发生形状不良。这样，在本实施例中，在基底层212上不形成具有窄的宽度的桥状部分，所以，难于发生基底层212的剥离，因此，可以降低产品的不良率，从而可以构成成本低、可靠性高的电光装置。
在本实施例中，在与构成为长方形状的像素区域D的长度方向(长边方向)正交的短边方向上，基底开口部212a连续地构成缝隙状，基底开口部212a的形状简单，所以，可以进一步降低基底层212的剥离。特别是基底层212的基底开口部212a的开口边缘部分构成为直线状，基底开口部212a的轮廓线短，所以，可以进一步降低基底层212的剥离的发生概率。
各像素区域D的开口率(透过开口部的面积比)可以通过调节基底开口部212a和透过开口部213a的宽度(图示的上下宽度)而适当地设定。
实施例2.
下面，参照图4说明本发明的实施例2。在本实施例中，除了图示的基底层212、基底开口部212a、反射膜213、透过开口部213a的平面形状以外，与上述实施例1完全相同，所以，省略其说明。
在本实施例中，基底层212和反射膜213从像素区域D的一方的边缘(图示下方的边缘)分离地形成，基底开口部212a和透过开口部213a沿像素区域D的上述一方的边缘形成。这样，可以仅在像素区域D的1列形成1个基底层212和反射膜213，所以，可以采用简单的形成图形。
基底开口部212a在相邻的像素区域D间连续、在像素区域D的短边方向构成连续的缝隙状、基底层212的基底开口部212a的开口边缘部分构成为直线状等都和上述实施例1一样。
实施例3.
下面，参照图5说明本发明的实施例3。在本实施例中，除了图示的基底层212、基底开口部212a、反射膜213、透过开口部213a的平面形状以外，与上述实施例1完全相同，所以，省略其说明。
在本实施例中，基底层212和反射膜213从像素区域D的相互相对的一对边缘(图示的上下边缘)分离地形成，一对基底开口部212a和透过开口部213a沿像素区域D的上述一对边缘形成。这样，可以仅在像素区域D的1列形成1个基底层212和反射膜213，所以，可以采用简单的形成图形。
基底开口部212a在相邻的像素区域D间连续、在像素区域D的短边方向构成连续的缝隙状、基底层212的基底开口部212a的开口边缘部分构成为直线状等都和上述实施例1一样。
实施例4.
下面，参照图6说明本发明的实施例4。在本实施例中，除了图示的基底层212、基底开口部212a、反射膜213、透过开口部213a的平面形状以外，与上述实施例1完全相同，所以，省略其说明。
在本实施例中，和实施例3一样，基底层212和反射膜213从像素区域D的相互对应的一对边缘(图示的上下边缘)分离地形成，一对基底开口部212a和透过开口部213a沿像素区域D的上述一对边缘形成。
但是，本实施例在像素区域DR、DG、DB中透过开口部213a的开口率相互不同，结果，透过开口部213a的开口边缘在像素区域间就偏离像素区域的长度方向(图示的上下方向)，所以，基底开口部212a的开口边缘在像素区域间也偏离成台阶状。这是因为，在构成滤色器时为了不改变具有不同的色相的着色层的滤色器素材而实现显示色的最佳化或透过型显示与反射型显示的平衡的最佳化，必须在像素区域间改变透过开口部213a的开口率。
在本实施例中，为了改变透过开口部213a的开口率，在相邻的像素区域间基底开口部212a的开口边缘偏离成台阶状，但是，通过将开口边缘构成曲线状，在相邻的像素区域间开口边缘可以平滑地连接在一起。
实施例5.
下面，参照图7说明本发明的实施例5。在本实施例中，除了图示的基底层212、基底开口部212a、反射膜213、透过开口部213a的平面形状以外，与上述实施例1完全相同，所以，省略其说明。
在本实施例中，在图示的左右方向(像素区域的短边方向)相邻的像素区域DR与DG、DB与DR形成连续的基底开口部212a和透过开口部213a。这时，基底开口部212a仅跨越2个像素区域地形成。这样，即使遍及3个以上的像素区域基底开口部212a不连续，在相邻的像素区域间也不会残留以往那样的细(窄)的桥状的基底层的部分，所以，和上述一样，可以防止基底层212的剥离。但是，这时最好构成开口图形使得相邻的基底开口部212a的距离尽可能大。
实施例6.
下面，参照图8说明本发明的实施例6。在本实施例中，除了图示的基底层212、基底开口部212a、反射膜213、透过开口部213a的平面形状以外，与上述实施例1完全相同，所以，省略其说明。
在本实施例中，和实施例5一样，在图示的左右方向(像素区域的短边方向)设置仅跨越相邻的2个像素区域间的1个基底开口部212a和透过开口部213a，但是，不同的是在各像素区域设置了其他基底开口部212a和透过开口部213a。另外，该其他基底开口部212a和透过开口部213a在与上述1个基底开口部212a和透过开口部213a连续的像素区域不同的像素区域连续。
实施例7.
下面，参照图9说明本发明的实施例2。在本实施例中，除了图示的基底层212、基底开口部212a、反射膜213、透过开口部213a的平面形状以外，与上述实施例1完全相同，所以，省略其说明。
本实施例的基底层212、反射膜213、基底开口部212a和透过开口部213a的各自的图形形状与实施例1基本上相同。但是，在本实施例中，与实施例1不同的是，在基底层212的基底开口部212a的开口边缘部分212b不形成在其他部分形成的表面凹凸形状，开口边缘部分212b基本上具有平坦的表面。因此，在其上形成的反射膜213，其透过开口部213a的开口边缘部分213b的反射面不具有光散射性，基本上成为镜面状态。
这样，在基底层212的图案形成时(例如，如果是上述制造方法，就是在进行显影时)对开口边缘部分212b的图案形成处理的作用小，所以，显影液等处理液就难于渗入基底层212与第1基板211之间，因此可以防止开口边缘部分212b的紧密性(粘着力)降低和强度的劣化等，从而基底层212更难剥离。
另外，如图9(c)所示，在形成基底开口部212a之后，通过形成反射膜213(例如，通过进行图11(d)和(e)所示的工序)，可以使反射膜213的一部分213c将基底层212的基底开口部212a的侧面212c覆盖。如果这样，由于各种处理液等难于渗入第1基板211与基底层212之间或基底层212与反射膜213之间，基底层212相对于第1基板211的紧密性(粘着力)或反射膜213相对于基底层212的紧密性(粘着力)就难于被降低，所以，可以防止在反射膜213的形成之后的工序中基底层212或反射膜213的剥离。
本实施例所述的结构，同样可以适用于前面说明的实施例2至实施例6。
实施例8.电光装置
下面，参照图14和图15说明具有与上述不同的结构的其他电光装置的结构。本实施例的电光装置是具有电光装置用基板310的有源矩阵型的液晶显示装置300。该液晶显示装置300是将电光装置用基板310和与其相对的对置基板320通过密封部件330相互粘贴并将液晶32封入两基板间而构成的。在本实施例中，与上述实施例1不同的是，滤色器不是在电光装置用基板310上形成而是在对置基板320上形成。
在电光装置用基板310中，在基板311的内面上，如图14所示，和上述基底层一样，形成具有表面凹凸形状的基底层312和在其上兼作反射膜的像素电极315，并再在其上形成取向膜316。另外，在电光装置用基板310的内面上，以在相互交叉(正交)的方向上延伸的方式分别形成多个图15中由虚线所示的扫描线313和图14与图15中表示剖面的数据线314。
在像素电极315的下层，如图15所示，构成TFT(薄膜晶体管)310T。在该TFT310T中，形成具有沟道区域310c、源极区域310s和漏极区域310d的半导体层，沟道区域310c以绝缘膜介于中间、与和上述扫描线313导电连接的栅极310g相对配置，源极区域310s与上述数据线314导电连接，漏极区域310d与上述像素电极315导电连接。TFT310T不限于具有逆参差(reverse stager)结构的图示的结构，也可以具有栅电极配置在沟道层之上的结构，另外，也可以采用众所周知的LDD(Light Doped Drain，轻掺杂漏)结构。
如图14所示，在对置基板320中，在基板321的内面上形成由ITO等透明导体构成的对置电极322，并在其上形成将适当的着色层323形成为指定的排列形式的与实施例1一样的滤色器，进而再在其上形成取向膜324。
如图15所示，在各像素区域设置了不形成像素电极315的像素间区域，在该像素间区域也不形成基底层312。另外，在像素区域设置基底开口部312a，该基底开口部312a构成为在与图的纸面正交的方向上延伸的缝隙状。本实施例在相邻的像素区域间不形成基底层312的基底开口部312a连续。即，在与图的纸面正交的方向上相邻的像素区域间基底开口部312a连续。更具体而言，基底开口部312a在与图15(a)的纸面正交的方向(图15(b)的上下方向)上横贯(横断)像素电极315。另外，在与基底开口部312a平面看重叠的位置，形成有不形成反射膜315的透过开口部315a。因此，在本实施例中，和上述各实施例一样，可以防止基底层312的剥离。但是，透过开口部315a不完全横贯像素电极315，像素电极315通过像素联络部315b成为一体地连接的状态。
在这样构成的液晶显示装置300中，在由扫描线313选择的像素中，由数据线314供给的电位被供给像素电极315，液晶332的取向状态根据在像素电极315与对置电极322之间形成的电场而变化，形成所希望的图像。
但是，作为有源矩阵型的液晶显示装置，如上所述，不限于将TFT作为开关元件使用的方式，对于将TFD(薄膜二极管)作为开关元件使用的方式，同样也可以应用本发明。
本发明的上述电光装置不仅是图示例的液晶显示装置，而且在场致发光装置、有机场致发光装置、等离子体显示装置、电泳显示装置、使用电子发射元件的装置(Field Emission Display和Surface-ConductionElectron-Emitter Display等)等各种电光装置中同样也可以应用本发明。
实施例9.电子设备
最后，参照图16和图17说明本发明的电子设备的实施例。在本实施例中，说明作为显示单元具备上述电光装置(液晶显示装置200)的电子设备。图16是表示本实施例的电子设备中的液晶显示装置200的控制系统(显示控制系统)的全体结构的概略结构图。这里所示的电子设备具有：包含显示信息输出源291、显示信息处理电路292、电源电路293、定时发生器294和光源控制电路295的显示控制电路290。另外，在和上述相同的液晶显示装置200中，设置了驱动具有上述结构的液晶面板220P的驱动电路220D。该驱动电路220D如上所述由直接安装在液晶面板220P上的电子部件(半导体IC261)构成。该驱动电路220D除了上述形式外，可以由在面板表面上形成的电路图形或装配在与液晶面板导电连接的电路基板上的半导体IC芯片或电路图形等构成。
显示信息输出源291具有：由ROM(只读存储器)或RAM(随机存取存储器)等构成的存储器、由磁记录盘或光记录盘等构成的存储单元和调谐输出数字图像信号的调谐电路，根据由定时发生器294生成的各种时钟信号以指定格式的图像信号等的形式将显示信息供给显示信息处理电路292。
显示信息处理电路292具有：串—并变换电路、放大·反相电路、旋转电路、伽马修正电路、箝位电路等众所周知的各种电路，进行输入的显示信息的处理，将该图像信息与时钟信号CLK一起供给驱动电路220D。驱动电路220D包含：扫描线驱动电路、信号线驱动电路和检查电路。另外，电源电路293分别将指定的电压供给上述各结构要素。
光源控制电路295根据从外部导入的控制信号将从电源电路293供给的电力供给照明装置100的光源部110。从光源部110发出的光入射到导光板120，从导光板120照射到液晶面板220P上。该光源控制电路295根据上述控制信号控制光源部110的各光源的点亮和熄灭。另外，也可以控制各光源的亮度。
图17表示作为本发明的电子设备的1个实施例的便携电话的外观。电子设备2000具有操作部2001和显示部2002，电路基板2100配置在显示部2002的内部。上述液晶显示装置200装配在电路基板2100上。并且，在显示部2002的表面，可以观看上述液晶面板220P。

Claims (15)

1.一种电光装置用基板，其特征在于，具有：
配置在基板上的基底层；
在上述基底层上叠层配置的反射膜；
在包含上述反射膜和上述基底层的区域形成的多个像素区域；
在每个上述像素区域设置的不形成上述反射膜的透过开口部；以及
在与该透过开口部平面看重叠的位置配置的、并且遍及相邻的上述像素区域之间不形成上述基底层的基底开口部。
2.按权利要求1所述的电光装置用基板，其特征在于：上述基底开口部构成为沿上述像素区域的指定的排列方向连续的缝隙状。
3.按权利要求2所述的电光装置用基板，其特征在于：各个上述像素区域具有长方形的形状，将其长度方向对准指定方向而排列，上述缝隙状的基底开口部的上述指定的排列方向是与上述像素区域的长度方向交叉的方向。
4.按权利要求1所述的电光装置用基板，其特征在于：上述基底层具有表面凹凸形状，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形状的光散射性的发射面。
5.按权利要求4所述的电光装置用基板，其特征在于：在上述基底层的上述基底开口部的开口边缘部分不形成上述表面凹凸形状。
6.一种电光装置用基板的制造方法，是在基板上形成相互叠层配置的反射膜和基底层并排列了包含上述反射膜和上述基底层的多个像素区域的电光装置用基板的制造方法，其特征在于，包括：
以使每个像素区域存在不形成上述基底层的基底开口部并且遍及相邻的上述像素区域间使上述基底开口部连续的方式形成上述基底层的工序；以及
以使不形成上述反射膜的透过开口部位于与上述基底开口部平面看重叠的位置上的方式，形成上述反射膜的工序。
7.按权利要求6所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于：在形成上述基底层的工序中，通过使用指定的掩模对感光性树脂进行曝光和显影，形成具有上述表面凹凸形状的上述基底层。
8.一种电光装置，其特征在于，具有：
电光层；
与上述电光层相对配置的反射膜；
在上述反射膜与上述电光层相反一侧配置的基底层；
在包含上述电光层和上述反射膜的区域形成的多个像素区域；
在每个上述像素区域设置的不形成上述反射膜的透过开口部；以及
配置在与该透过开口部平面看重叠的位置上并且遍及相邻的上述像素区域间不形成上述基底层的基底开口部。
9.按权利要求8所述的电光装置，其特征在于：上述基底开口部构成为沿上述像素区域的指定的排列方向相互连续的缝隙状。
10.按权利要求9所述的电光装置，其特征在于：各个上述像素区域具有长方形的形状，将其长度方向对准指定方向而排列，上述缝隙状的基底开口部的上述指定的排列方向是与上述像素区域的长度方向交叉的方向。
11.按权利要求8所述的电光装置，其特征在于：上述基底层具有表面凹凸形状，上述反射膜具有反映上述表面凹凸形状的光散射性的发射面。
12.按权利要求11所述的电光装置，其特征在于：在上述基底层的上述开口部的开口边缘部分不形成上述表面凹凸形状。
13.一种电光装置的制造方法，是具有电光层、与该电光层相对配置的反射膜和在该反射膜与上述电光层相反侧相邻配置的基底层的、排列了包含上述电光层和上述反射膜的多个像素区域的电光装置的制造方法，其特征在于，包括：
形成具有表面凹凸形状的基底层的工序，该基底层存在于每个上述各像素区域并且具有在每个相邻的上述像素区域连续的基底开口；以及
形成在与上述基底开口平面看重叠的位置具有透过开口部、具有在上述基底层的表面上反映上述表面凹凸形状的光散射性的反射面的上述反射膜的工序。
14.按权利要求13所述的电光装置的制造方法，其特征在于：在形成上述基底层的工序中，通过使用指定的掩模对感光性树脂进行曝光和显影，形成具有上述表面凹凸形状的上述基底层。
15.一种电子设备，其特征在于：具有权利要求8至12的任意一项所述的电光装置和该电光装置的控制装置。
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