CN1427469A - 芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构 - Google Patents
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Abstract
一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构，该结构的特征在于基板的电性接触垫外表面完全被一镍/金层所包覆，且该基板并未具有另外布设的电镀导线；该制作方法包含：在一已电路图案化而定义出线路层的基板表面，覆盖上一导电膜；再在基板表面形成一光阻层覆住基板，该光阻层具有开孔以露出线路层作为电性接触垫区域的那部分；移除未被该光阻层所覆盖的导电膜；在基板表面形成另一光阻层覆住残露于前述光阻层开孔区的导电膜；对该基板的电性接触垫进行电镀镍/金，使所述电性接触垫整个表面皆镀上镍/金层；最后移除光阻层与所覆的导电膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构，尤指半导体芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构。
背景技术
电子产业相关技术在飞速发展，随着电子产品轻小化的趋势，半导体芯片封装基板(或称IC载板)的制造者也面临着制造方法上的许多关键问题。例如，在基板表面要形成若干由导电线路延伸的电性接触垫，作为电子信号或电源传输的组成部分，通常在电性接触垫的上表面，会覆上一镍/金(Ni/Au)层，如半导体芯片封装基板的打线垫(或称金手指，BondingFinger)，即在垫体表面覆上了一镍/金层，在进行芯片封装打金线时，金线与基板打线垫的材质均为金属金，而有利于两者完成电性耦合结构；又如封装基板的锡球垫(Solder Ball Pad)，也在垫体表面覆上一镍/金层，以使锡球垫的导电垫体(通常为金属铜)不易受外界环境影响而氧化，提高封装锡球植设的电性连接品质。
图1为一般业界在半导体芯片封装基板电性接触垫上电镀镍/金层的结构示意图。在一已完成前段制作供芯片封装的基板1上，已电路图案化的上、下线路层(11、12)、若干导通孔13(PTH)或盲孔(Blind via)等已形成于其中，并以微影、蚀刻等方式，在该基板1上定义出若干电性接触垫10(如打线垫或锡球垫)，基板1的外表面还覆有防焊层14。
图1中基板1上的电性接触垫10，虽有在电性接触垫10电镀一镍/金层16的结构，但为形成此结构，必须在基板1上另外布设众多的电镀导线15，利用电镀导线将镍/金层16电镀在电性接触垫10上。这样虽然可以在电性接触垫10上形成镍/金结构，但必须布设众多的电镀导线进行电镀，不但占据了基板1上的面积，使可供布设线路的面积减少，而且在高频使用时，因多余电镀导线的天线效应，容易造成噪声(Noise)干扰。如果使用回蚀刻方式(Etchback)，虽可切除电镀导线15，但仍会遗留下导线尾端部份，因此基板1上电性接触垫10虽形成有镍/金层结构，但又有包含了一堆导线尾端的紊乱结构，此外，降低线路布设面积及在高频使用时易产生噪声干扰的问题依然存在。
业界对此问题，提出了另一种称之为GPP电镀制作方法(Gold PatternPlating)的改进技术。图2A至图2D为该已知GPP电镀镍/金制作方法的示意图。
首先，在一半导体芯片封装基板2的上、下表面各形成一整层导电层21，如图2A所示，该基板内部可形成若干导通孔(PTH)或盲孔(Blindvia)(图中未示)。
接着，在基板2的导电层21上分别覆上光阻层22(Photoresist)，该光阻层22具有开孔以露出欲形成线路的区域，而导电层21未被光阻层22所覆盖的地方，电镀有镍/金(Ni/Au)层23，如图2B所示。
接着移除光阻层22，只留下镍/金(Ni/Au)层23，如图2C所示。
最后，以所述镍/金层23作为光阻剂，利用微影、蚀刻等方式将导电层21电路图案化而定义出线路层25，使得线路层25上表面镀有一镍/金层23，如图2D所示。
图2E为该已知技术应用于半导体芯片封装基板的示意图，图中示有芯片放置区28。该技术虽无须另外布设电镀导线，但基板2的整个线路层25(含电性接触垫26和所有导电线路)的上表面均覆上了一镍/金层，由于镍/金原料相当昂贵，该方法明显会浪费大量制造成本；此外，该方法的电性接触垫26是线路层25的一部分，该电性接触垫的材质为金属铜，只是在其上表面覆有镍/金层23，仍有其它部分包括电性接触垫作为打线垫的两个侧面裸露在外，并没有覆上镍/金层，因此容易出现金面不足或被外界侵蚀氧化的情形，在基板供芯片封装打金线时，金线与打线垫的电性耦合结构易受影响；又，线路层25的导电线路表面所覆的镍/金层23与覆盖在基板表面的防焊层27因材质特性相异而不能达到稳定的密合，容易造成可靠度不佳的缺陷。
发明内容
因此，本发明要解决的技术问题是提供一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，该制作方法无须在基板的表面布设电镀导线，可大幅增加有效布线面积，并降低另外布设电镀导线所产生的噪声干扰。
本发明要解决的另一技术问题是提供一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，该制作方法无须在整个线路层上均镀上镍/金层，可有效降低电镀镍/金的成本。
本发明要解决的另一技术问题是提供一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，该制作方法可使电性接触垫的外表面完全包覆上镍/金层，有助于基板供芯片封装打金线时，金线对电性接触垫的电性耦合，并可保护电性接触垫，避免因其氧化而影响接触垫的电性连接品质。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构。
本发明所公开的结构包含：一基板，该基板具有已电路图案化的线路层，该线路层具有若干电性接触垫，该电性接触垫的外表面完全被一镍/金层所包覆，且该基板并未另外布设在电性接触垫电镀镍/金用的电镀导线。
本发明所公开的结构可以下述的制作方法来完成：
(a)提供一已电路图案化而定义出线路层的基板，在该基板的表面，覆盖上一导电膜(Conductive Film)；
(b)在覆有导电膜的基板表面形成一第一光阻层，该光阻层具有开孔，以露出开孔下方为导电膜所覆盖的作为电性接触垫区域的部分线路层；
(c)移除未被该第一光阻层所覆盖的导电膜；
(d)于基板上形成一第二光阻层，该第二光阻层覆住残露于第一光阻层开孔区的导电膜；
(e)对该基板进行电镀镍/金，使所述电性接触垫整个表面皆镀上镍/金层；
(f)移除光阻层与所覆盖的导电膜；
(g)在该基板表面上覆上一防焊层。
由此可知，本发明提供一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构，无须在基板表面另外布设电镀导线，不但可大幅减少电镀导线布线面积，从而提高导电线路布线面积，且无须在整个线路层上均镀上镍/金层，可有效降低电镀镍/金的成本。此外，本发明的电性接触垫外表面完整地包覆有镍/金层，有助于基板供芯片封装进行打金线时，金线对电性接触垫的电性耦合，且可避免氧化而影响接触垫的电性连接品质。
附图说明
图1为已知芯片封装基板电性接触垫电镀镍/金的实施示意图。
图2A至图2E为另一已知芯片封装基板电性接触垫电镀镍/金的实施示意图。
图3A至图3H为本发明实施例芯片封装基板电性接触垫电镀镍/金的实施示意图。
具体实施方式
本发明涉及一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构。图3A至图3H为本发明实施例芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构的示意图。
首先提供一单层或多层的基板100，该基板100已完成所需的前段制作过程，如若干导通孔(PTH)或盲孔(Blind via)等已形成于其中，并以微影、蚀刻等方式，在该基板100上形成将电路图案化而定义出的线路层105，如图3A所示。
接着，如图3B所示，在基板100表面覆上一导电膜110(ConductiveFilm)，该导电膜110主要作为将来电镀时的电流传导路径，其为可导电的薄膜，如为锡(Sn)、铜(Cu)、铬(Cr)、钯(Pd)、镍(Ni)、锡/铅(Sn/Pb)等材质或其合金所组成，但本发明并不限于前述材质，只要是具有导电性的金属材质皆可，该导电膜110可以溅镀(Sputtering)、无电镀(Electroless Plating)或物理、化学沉积(Deposition)等方式形成。
接着，如图3C所示，在覆有导电膜110的基板表面形成一第一光阻层115，该光阻层具有开孔1151，以露出开孔下方为导电膜110所覆盖的作为电性接触垫区域的部分线路层，该电性接触垫区域可包含一个或多个电性接触垫1051。
借由蚀刻技术，移除未被该第一光阻层115所覆盖的导电膜，此时该光阻层开孔区1151底缘残露有部分导电膜1102，如图3D所示。
再在基板100上形成一第二光阻层120，该光阻层覆住残露于第一光阻层开孔区1151的导电膜1102，如图3E所示，其主要用来避免电镀时，残露于开孔区1151的导电膜1102也电镀有镍/金，而使形成于基板的线路会有短路的情形。
接着，以电镀方式(Electroplating)对该基板100进行电镀镍/金步骤。因导电膜110为导电材质所形成，在进行电镀时，镍/金层125经由导电膜110电镀在各电性接触垫1051的表面，可使各电性接触垫1051外表面完全镀上镍/金层125，如图3F所示。
接着，移除第二光阻层120、第一光阻层115和其所覆盖的导电膜110，所述基板100上的电性接触垫1051电镀镍/金层125的结构于是完成。其中，线路层105的电性接触垫1051整个外表面均镀上了镍/金层125，如图3G所示。
最后，在基板100表面上覆上一防焊层130，如绿漆(Solder Mask)等，完成基板100的表面保护，如图3H所示。
本发明芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构，所述的电性接触垫，可以是半导体芯片封装基板中的打线垫或锡球垫。图中仅以部分电性接触垫1051表示，实践中电性接触垫的数目及作为屏蔽的光阻层，是根据实际产品的具体制作方法而分布在基板上。本发明的电镀镍/金制作方法与结构也可实施于基板的单一侧面或基板的双侧面。
除本发明实施例所述的电性接触垫外，只要是基板需进行电镀镍/金制作的部分，皆可运用本发明所公开的制作方法以形成其电镀镍/金的结构。
此外，本发明也可运用于供第二阶层组装电子元件的一般印刷电路板(Printed Circuit Board)的制作。
综上所述，本发明的芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法与结构，以导电膜作为电流传导路径来导通基板上的各电性接触垫，其无须在基板的表面另外布设电镀导线，不但可以有效提高导电线路的布线面积，还可避免在基板布设电镀导线易产生的噪声干扰，且无须在整个线路层上均镀上镍/金层，可有效降低电镀镍/金的成本；此外，电性接触垫的外表面完全包覆有镍/金层，有助于基板供芯片封装打金线时，金线对电性接触垫的电性耦合，并可避免氧化而影响接触垫的电性连接品质。
以上对较佳实施例的详细说明及附图并非用来限制本发明，熟知本发明的技术人员依据本发明的精神，当可作出些微改变及调整，此类等同设计仍应在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种芯片封装基板电性接触垫的结构，包括一基板，该基板具有已电路图案化的线路层，该线路层具有若干电性接触垫，其特征在于：
该基板的电性接触垫外表面完全被一镍/金层所包覆，且该基板没有另外布设在电性接触垫电镀镍/金用的电镀导线。
2.如权利要求1所述的芯片封装基板电性接触垫的结构，其特征在于所述的电性接触垫可为基板的打线垫或锡球垫。
3.一种芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，其特征在于包含以下步骤：
(a)提供一已电路图案化而定义出线路层的基板，在该基板的表面覆盖上一导电膜；
(b)在覆有导电膜的基板表面形成一第一光阻层，该光阻层具有开孔，以露出开孔下方为导电膜所覆盖的作为电性接触垫区域的部分线路层；
(c)移除未被该第一光阻层所覆盖的导电膜；
(d)在基板上形成一第二光阻层，该第二光阻层覆住残露于第一光阻层开孔区的导电膜；
(e)对该基板进行电镀镍/金，使所述电性接触垫整个表面皆镀上镍/金层；
(f)移除第一光阻层、第二光阻层和其所覆盖的导电膜。
4.如权利要求3所述的芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，其特征在于在步骤(f)后，还包括一步骤(g)在该基板表面覆上一防焊层。
5.如权利要求3或权利要求4所述的芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，其特征在于该基板内部可具有单层电路图案化线路层或多层电路图案化线路层。
6.如权利要求3或权利要求4所述的芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，其特征在于所述的电性接触垫可为基板的打线垫或锡球垫。
7.如权利要求3或权利要求4所述的芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，其特征在于所述的导电膜可为锡、铜、铬、钯、镍、锡/铅等材质或其合金所组成。
8.如权利要求3或权利要求4所述的芯片封装基板电性接触垫的电镀镍/金制作方法，其特征在于所述的导电膜可用溅镀、无电镀或物理、化学沉积等方式形成。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C35 | Partial or whole invalidation of patent or utility model | ||
| IW01 | Full invalidation of patent right |
Decision date of declaring invalidation: 20080630 Decision number of declaring invalidation: 11512 |
|
| C35 | Partial or whole invalidation of patent or utility model | ||
| IW01 | Full invalidation of patent right |
Decision date of declaring invalidation: 20080630 Decision number of declaring invalidation: 11512 Granted publication date: 20050824 |