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CN112783360A - 触摸显示装置 - Google Patents

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CN112783360A
CN112783360A CN202011161416.3A CN202011161416A CN112783360A CN 112783360 A CN112783360 A CN 112783360A CN 202011161416 A CN202011161416 A CN 202011161416A CN 112783360 A CN112783360 A CN 112783360A
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CN
China
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touch
electrode
display device
disposed
light emitting
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Application number
CN202011161416.3A
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English (en)
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金桓
柳东熙
白正善
李善美
任贤哲
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LG Display Co Ltd
Original Assignee
LG Display Co Ltd
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Abstract

本公开内容的实施方式涉及一种提高光提取效率的触摸显示装置，包括：绝缘膜，包括凹入部分和围绕凹入部分设置的围绕部分；第一电极，设置在凹入部分和一部分围绕部分上；堤，包括第一部分和第二部分，第一部分设置在与一部分凹入部分对应的区域中的第一电极上，第二部分设置在与围绕部分对应的区域中的绝缘膜和第一电极上；具有发光层的有机层，设置在由堤暴露的第一电极上；第二电极，设置在有机层和堤上；封装层，设置在第二电极上；多个触摸电极，设置在封装层上；和光反射构件，设置在封装层上并且与多个触摸电极隔开。

Description

触摸显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年11月5日提交的韩国专利申请No.10-2019-0140497的优先权，为了所有目的通过参考将该专利申请结合在此，如同在此完全阐述一样。
技术领域
本公开内容的实施方式涉及触摸显示装置。
背景技术
信息社会的发展导致对图像显示装置的各种需求。近来，正在使用各种显示装置，例如液晶显示器、等离子显示装置和有机发光显示装置。
此外，触摸显示装置提供了一种输入方案，允许用户更容易、更直观和方便地输入信息或命令，而无需按钮、键盘、鼠标或其他典型的输入装置。
触摸显示装置应该能够掌握用户是否触摸，并且如果存在触摸，可以精确地感测触摸坐标以提供基于触摸的输入。
常规的触摸显示装置具有以复杂的布局排列多个触摸电极的触摸面板，因此由于诸如触摸电极的结构、位置或布局之类的各种因素，难以确保显示装置的发光区域并提高亮度。
发明内容
本公开内容的实施方式提供一种具有增强的光提取效率的触摸显示装置。
本公开内容的实施方式提供一种具有能够防止两个相邻子像素之间的颜色混合的结构的触摸显示装置。
本公开内容的实施方式提供一种具有工艺简单的结构的触摸显示装置。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，包括：绝缘膜，所述绝缘膜包括凹入部分和围绕凹入部分设置的围绕部分，所述凹入部分包括平坦部分和围绕平坦部分的倾斜部分；第一电极，设置在凹入部分和一部分围绕部分上；堤，所述堤包括第一部分和第二部分，所述第一部分设置在与一部分凹入部分对应的区域中的第一电极上，所述第二部分设置在与围绕部分对应的区域中的绝缘膜和第一电极上；有机层，设置在由堤暴露的第一电极上，所述有机层包括发光层；第二电极，设置在有机层和堤上；封装层，设置在第二电极上；多个触摸电极，设置在封装层上；和光反射构件，设置在封装层上并且与多个触摸电极隔开。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，其通过形成在绝缘膜中的至少一个凹入部分和设置在非显示区域中的光反射构件而提高了光提取效率。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，其具有能够通过应用光反射构件来防止相邻像素之间的颜色混合的结构。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，其具有通过允许在同一工艺中形成光反射构件和触摸电极而工艺简单的结构。
附图说明
从以下结合附图的详细描述中，将更清楚地理解本公开内容的上述和其他目的、特征和优点，其中：
图1是图解根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置的系统配置的视图；
图2和图3是图解当根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置以基于互电容的触摸感测方案感测触摸时的示例触摸面板TSP的视图；
图4是图解当根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置以基于自电容的触摸感测方案感测触摸时的示例触摸面板TSP的视图；
图5是图解根据本公开内容的实施方式的设置在柔性触摸显示装置中的触摸面板TSP上的网格型触摸电极的视图；
图6是图解根据本公开内容的实施方式的设置在柔性触摸显示装置中的触摸面板TSP上的子像素与网格型触摸电极之间的对应关系的视图；
图7和图8是图解根据本公开内容的实施方式的显示面板的子像素电路的视图；
图9是图解根据本公开内容的实施方式的显示面板中的触摸电极的位置的视图；
图10是图解根据本公开内容的实施方式的有机发光显示面板的有效区域中包括的发光区域和非发光区域的平面图；
图11A和图11B是沿图10的线A-B截取的截面图，图解了有效区域的一部分；
图12是图解图11A和图11B的区域X的放大图；
图13是图解图11A和图11B的区域Y的放大图；
图14是图解有效区域的一部分和从有效区域延伸的无效区域的图；
图15是图解根据本公开内容的另一实施方式的显示装置的截面图；
图16是图解根据本公开内容的另一实施方式的显示装置的截面图。
[附图标记说明]
320：触摸电极
750：第一电极
760：有机层
770：第二电极
990：封装层
1010：光反射构件
具体实施方式
在以下对本公开内容的示例或实施方式的描述中，将参考附图，在附图中通过说明的方式示出了可以实现的特定示例或实施方式，并且在彼此不同的附图中示出时，相同的附图标记和符号用于表示相同或相似的部件。此外，在本公开内容的示例或实施方式的以下描述中，当确定描述可能使本公开内容的一些实施方式中的主题不清楚时，将省略本文中并入的公知功能和部件的详细描述。本文使用的诸如“包括”、“具有”、“包含”、“构成”、“组成”和“形成”之类的术语通常旨在允许添加其他部件，除非该术语与“仅”一起使用。如本文所使用的，单数形式旨在包括复数形式，除非上下文另外明确指出。
诸如“第一”、“第二”、“A”、“B”、“(A)”或“(B)”之类的术语可以在本文中用来描述本公开内容的元件。这些术语中的每个术语都不用于定义元件的本质、顺序、次序或数量，而仅用于将相应的元件与其他元件区分开。
当提到第一元件“连接或耦接”、“接触或重叠”第二元件时，应该解释为，不仅第一元件可以“直接连接或耦接”或“直接接触或重叠”第二元件，而且也可以在第一元件和第二元件之间“插入”第三元件，或者可以将第一元件和第二元件经由第四元件彼此“连接或耦接”、“接触或重叠”。在此，第二元件可以包括在彼此“连接或耦接”、“接触或重叠”的两个或更多个元件中的至少一个中。
当例如“之后”、“以后”、“下一个”、“之前”之类的与时间相关的术语用于描述元件或配置的工艺或操作，或操作、工艺、制造方法中的流程或步骤时，这些术语可用于描述非连续或非顺序的工艺或操作，除非将“直接”或“立即”一起使用。
此外，在提及任何尺寸、相对尺寸时，即使未指定相关说明，也应考虑元件或特征的数值或相应的信息(例如水平，范围等)包括可能由各种因素(例如，工艺因素、内部或外部影响、噪声等)引起的公差或误差范围。此外，术语“可以”完全涵盖术语“能”的所有含义。
在下文中，参考附图详细描述本公开内容的实施方式。
图1是图解根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置的系统配置的视图。
参考图1，根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置可提供用于显示图像的图像显示功能和用于感测用户触摸的触摸感测功能。
根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置可以包括：显示面板DISP，显示面板上设置有数据线和栅极线以显示图像；和驱动显示面板DISP的显示驱动电路。
显示驱动电路可以包括例如驱动数据线的数据驱动电路DDC、驱动栅极线的栅极驱动电路GDC、以及控制数据驱动电路DDC和栅极驱动电路GDC的显示控制器D-CTR。
根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置可以包括：触摸面板TSP，触摸面板上设置有作为触摸传感器的多个触摸电极320；和执行触摸面板TSP的驱动和感测处理的触摸感测电路TSC。
触摸感测电路TSC将驱动信号提供给触摸面板TSP以驱动触摸面板TSP，检测来自触摸面板TSP的感测信号，并基于感测信号感测触摸的存在或不存在和/或触摸的位置(例如，坐标)。
触摸感测电路TSC可以包括例如提供驱动信号并接收感测信号的触摸驱动电路TDC和用于计算触摸的存在或不存在和/或触摸的位置(例如，坐标)的触摸控制器T-CTR。
触摸感测电路TSC可以实现为一个或两个或更多个部件(例如，集成电路)，并且可以与显示驱动电路分开实现。
触摸感测电路TSC的全部或一部分可以与显示驱动电路或显示驱动电路的一个或多个内部电路集成在一起。例如，触摸感测电路TSC的触摸驱动电路TDC以及显示驱动电路的数据驱动电路DDC可以一起实现为集成电路。
根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置可以基于在触摸电极TE(触摸传感器)处产生的电容来感测触摸。
根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置可以以基于互电容的触摸感测方案或基于自电容的触摸感测方案作为基于电容的触摸感测方案来感测触摸。
图2至图4是图解根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置中的触摸面板TSP的三个示例的视图。图2和图3图解当根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置以基于互电容的触摸感测方案感测触摸时的示例触摸面板TSP，并且图4图解当根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置以基于自电容的触摸感测方案感测触摸时的示例触摸面板TSP。
参考图2，在基于互电容的触摸感测方案中，设置在触摸面板TSP上的多个触摸电极可以被划分为驱动触摸电极(也称为驱动电极、传输电极或驱动线)和感测触摸电极(也称为感测电极、接收电极或感测线)，驱动信号被施加给驱动触摸电极，感测触摸电极接收感测信号并与驱动触摸电极一起产生电容。
在触摸电极的驱动触摸电极中，沿着相同行(或相同列)设置的驱动触摸电极可以以整体方案(或基于桥接图案的连接方案)彼此电连接以形成单个驱动触摸电极线DEL。
参考图2，在触摸电极的感测触摸电极中，沿相同列(或相同行)设置的感测触摸电极可以以桥接图案(或整体方案)彼此电连接以形成单个感测触摸电极线SEL。
在基于互电容的触摸感测方案中，触摸感测电路TSC将驱动信号施加到一条或多条驱动触摸电极线DEL；从一条或多条感测触摸电极线SEL接收感测信号；并基于接收到的感测信号，基于驱动触摸电极线DEL与感测触摸电极线SEL之间的取决于触摸对象(例如手指或笔)的存在或不存在的电容(互电容)变化，来检测例如触摸的存在或不存在和/或触摸的坐标。
参考图2，多条驱动触摸电极线DEL和多条感测触摸电极线SEL分别通过一条或多条触摸线230与触摸驱动电路TDC电连接，以传输驱动信号和感测信号。
具体地，为了传输驱动信号，多条驱动触摸电极线DEL的每条驱动触摸电极线DEL可通过一条或多条驱动触摸线TLd与触摸驱动电路TDC电连接。为了传输感测信号，多条感测触摸电极线SEL中的每条感测触摸电极线SEL可通过一条或多条感测触摸线TLs与触摸驱动电路TDC电连接。
基于互电容的触摸感测方案中的触摸显示装置100可如图3所示。
参考图3，多个触摸电极320设置在触摸面板TSP上，并且用于将触摸电极320与触摸驱动电路TDC电连接的触摸线220和230可设置在触摸面板TSP上。
在触摸面板TSP上，可存在与触摸驱动电路TDC接触以将触摸线220和230与触摸驱动电路TDC电连接的触摸焊盘。
触摸电极320和触摸线220和230可存在于相同层或不同层上。
形成一条驱动触摸电极线的两个或更多个触摸电极被表示为驱动触摸电极Driving TE。形成一条感测触摸电极线的两个或更多个触摸电极320被表示为感测触摸电极Sensing TE。
每条驱动触摸电极线可以连接至少一条触摸线220，并且每条感测触摸电极线可以连接至少一条触摸线230。
与每条驱动触摸电极线连接的至少一条触摸线220被表示为驱动触摸线DrivingTL。与每条感测触摸电极线连接的至少一条触摸线230被表示为感测触摸线Sensing TL。
每条触摸线220或230可以连接一个触摸焊盘。
参考图3，多个触摸电极320中的每个触摸电极可以在轮廓上形成为菱形，并且根据情况，每个触摸电极320具有矩形(包括正方形)的形状或其他各种形状。
用于连接两个触摸电极320的桥接部件可以包括一个或两个或更多个桥接图案396。
例如，当桥接图案396包括两个桥接图案396a和396b时，桥接图案396可以包括第一桥接图案396a和第二桥接图案396b。
第一桥接图案396a和第二接桥图案396b可以具有弯曲的形状，但是本公开内容的实施方式不限于此。例如，第一桥接图案396a和第二桥接图案396b可以形成为条形，但这仅仅是示例，桥接图案可以形成为其他各种形状。
弯曲的第一桥接图案396a可以具有与一个触摸电极电连接的第一端和与另一触摸电极电连接的第二端。
根据实施方式，触摸面板TSP可存在于具有有效区域A/A和无效区域N/A的显示面板的内部(嵌入式类型)。
当触摸面板TSP是嵌入式类型时，触摸面板TSP和显示面板可以在一个面板制造工艺中形成。
当触摸面板TSP是嵌入式类型时，触摸面板TSP可以被认为是多个触摸电极320的组件。在此，其上放置有多个触摸电极320的板可以是专用基板或显示面板中预先存在的层(例如，封装层)。
参考图4，在基于自电容的触摸感测方案中，设置在触摸面板TSP上的每个触摸电极320既充当驱动触摸电极(被施加驱动信号)又充当感测触摸电极(接收感测信号)。
换句话说，将驱动信号施加到每个触摸电极320，并且通过施加了驱动信号的触摸电极320接收感测信号。因此，基于自电容的触摸感测方案不区分驱动电极和感测电极。
在基于自电容的触摸感测方案中，触摸感测电路TSC将驱动信号施加到一个或多个触摸电极320；从被施加驱动信号的触摸电极320接收感测信号；并且基于所接收的感测信号，基于触摸电极320与触摸对象(例如，手指或笔)之间的电容变化来检测例如触摸的存在或不存在和/或触摸的坐标。
参考图4，多个触摸电极320中的每个触摸电极通过一条或多条触摸线230与触摸驱动电路TDC电连接，以传输驱动信号和感测信号。
这样，根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置可以以基于互电容的触摸感测方案或基于自电容的触摸感测方案来感测触摸。
在根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置中，触摸面板TSP可以是嵌入式类型，其中在制造显示面板DISP的同时制造触摸面板TSP，并且触摸面板TSP存在于显示面板DISP的内部。换句话说，根据本公开内容的实施方式的显示面板DISP可以嵌入有触摸面板TSP。
此外，根据本公开内容的实施方式，触摸电极320和触摸线230是存在于显示面板DISP内部的电极和信号线。
根据本公开内容的实施方式的触摸显示装置的显示面板DISP可以是有机发光二极管(OLED)面板类型。
图5是图解根据本公开内容的实施方式的设置在柔性触摸显示装置中的触摸面板TSP上的网格型触摸电极的视图。
参考图5，在根据本公开内容的实施方式的柔性触摸显示装置中，设置在触摸面板TSP上的多个触摸电极320中的每个触摸电极可以是网格型。
网格型触摸电极320可以由图案化成网格型的电极金属EM形成。
因此，在网格型触摸电极320的区域中可以存在多个开口区域OA。
图6是图解根据本公开内容的实施方式的柔性触摸显示装置中的子像素与设置在触摸面板TSP上的网格型触摸电极之间的对应关系的视图。
参考图6，存在于由图案化成网格型的电极金属EM形成的触摸电极320的区域中的多个开口区域OA中的每个开口区域可以对应于一个或多个子像素的发光区域。
例如，存在于一个触摸电极320的区域中的多个开口区域OA中的每个开口区域可以对应于一个或多个红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素的发光区域。
作为另一示例，存在于一个触摸电极320的区域中的多个开口区域OA中的每个开口区域可以对应于一个或多个红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色像素的发光区域。
如上所述，由于在平面图中，在每个触摸电极320的每个开口区域OA中存在一个或多个子像素的发光区域，所以显示面板DISP的孔径比和发光效率可以进一步增加，并实现触摸感测。
如上所述，一个触摸电极320的轮廓可以大致形成为菱形或矩形(或正方形)，并且与一个触摸电极320中的孔对应的开口区域OA也可以形成为菱形或矩形(或正方形)。
然而，考虑到子像素的形状、子像素的布局和触摸灵敏度，可以对触摸电极320和开口区域OA的形状设计进行各种改变或修改。
下面描述使用有机发光二极管(OLED)显示图像的显示面板中的子像素结构(子像素电路)。
图7和图8是图解根据本公开内容的实施方式的显示面板的子像素电路的视图。
参考图7和图8，每个子像素SP可基本上包括有机发光二极管(OLED)和用于驱动有机发光二极管(OLED)的驱动晶体管DRT。
参考图7，每个子像素SP可以进一步包括：第一晶体管T1，用于将数据电压VDATA传输至与驱动晶体管DRT的栅极节点对应的第一节点N1；和存储电容器C1，用于在一帧时间内维持与图像信号电压对应的数据电压VDATA或与数据电压VDATA对应的电压。
有机发光二极管(OLED)可以包括第一电极750(阳极或阴极)、发光层760和第二电极770(阴极或阳极)。
作为示例，可以将基极电压EVSS施加到有机发光二极管(OLED)的第二电极770。
驱动晶体管DRT向有机发光二极管(OLED)提供驱动电流，从而驱动有机发光二极管(OLED)。
驱动晶体管DRT包括第一节点N1、第二节点N2和第三节点N3。
驱动晶体管DRT的第一节点N1是与栅极节点对应的节点，并且可以与第一晶体管T1的源极节点或漏极节点电连接。
驱动晶体管DRT的第二节点N2可以与有机发光二极管(OLED)的第一电极750电连接，并且可以是源极节点或漏极节点。
驱动晶体管DRT的第三节点N3可以是被施加驱动电压EVDD的节点，与用于提供驱动电压EVDD的驱动电压线DVL电连接，并且可以是漏极节点或源极节点。
驱动晶体管DRT和第一晶体管T1可以实现为n型晶体管或p型晶体管。
第一晶体管T1可以与数据线DL和驱动晶体管DRT的第一节点N1电连接，并且可以通过栅极线和栅极节点接收扫描信号SCAN并由该扫描信号SCAN控制。
第一晶体管T1可以通过扫描信号SCAN而导通，从而将数据线DL提供的数据电压VDATA传输到驱动晶体管DRT的第一节点N1。
存储电容器C1可以电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1与第二节点N2之间。
存储电容器C1是在驱动晶体管DRT的外部有意设计的外部电容器，而不是寄生电容器(例如Cgs或Cgd)，寄生电容器是存在于驱动晶体管DRT的第一节点N1与第二节点N2之间的内部电容器。
参考图8，根据本公开内容的实施方式，设置在显示面板上的每个子像素除了有机发光二极管(OLED)、驱动晶体管DRT，第一晶体管T1和存储电容器C1之外，还可包括第二晶体管T2。
第二晶体管T2可以电连接在驱动晶体管DRT的第二节点N2和用于提供参考电压VREF的参考电压线RVL之间，并且可以通过栅极节点接收感测信号SENSE并由该感测信号SENSE控制，该感测信号SENSE是一种扫描信号。
添加上述第二晶体管T2允许有效控制子像素SP中的驱动晶体管DRT的第二节点N2的电压状态。
第二晶体管T2通过感测信号SENSE而导通，从而将参考电压线RVL提供的参考电压VREF施加到驱动晶体管DRT的第二节点N2。
图8的子像素结构的优点在于，可以准确地初始化驱动晶体管DRT的第二节点N2的电压，并感测驱动晶体管DRT的特性(阈值电压或迁移率)和有机发光二极管(OLED)的特性(例如阈值电压)。
同时，扫描信号SCAN和感测信号SENSE可以是单独的栅极信号。在这种情况下，可以通过不同的栅极线将扫描信号SCAN和感测信号SENSE分别施加到第一晶体管T1的栅极节点和第二晶体管T2的栅极节点。
在某些情况下，扫描信号SCAN和感测信号SENSE可以是相同的栅极信号。在这种情况下，可以通过相同的栅极线将扫描信号SCAN和感测信号SENSE共同施加到第一晶体管T1的栅极节点和第二晶体管T2的栅极节点。
图9是图解根据本公开内容的实施方式的显示面板中的触摸电极的位置的视图。
参考图9，在根据本公开内容的实施方式的显示面板中，可以在位于有机发光二极管(OLED)上的封装层990上设置触摸电极320。
封装层990作为保护发光层760中包含的有机材料不受湿气或空气影响的层，可以位于有机发光二极管(OLED)的第二电极770上，第二电极可以是阴极电极。
封装层990可以由金属或无机材料形成，或者可以由一个或多个有机绝缘层和一个或多个无机绝缘层的堆叠结构形成。
这样，在封装层990上形成有触摸电极320的触摸结构被称为封装层上的触摸(TOE)。
同时，滤色器层可以进一步存在于封装层990与触摸电极320之间或触摸电极320上。
因此，在第二电极770与触摸电极320之间产生电势差，从而形成电容Cp。
触摸感测所需的电容是触摸电极320之间的电容或触摸电极320与触摸对象(例如，手指或笔)之间的电容。
本公开内容的显示面板DISP的亮度可以根据从设置在有效区域A/A中的有机发光二极管(OLED)发出并提取到外部的光量而变化。换句话说，随着从OLED发出并提取的光量增加，显示面板DISP的亮度可以增加。下面描述具有增强光提取的结构的薄膜晶体管阵列膜的结构。
设置在有效区域中的多个子像素中的至少一个子像素可以在绝缘膜中包括至少一个凹入部分。
下面参照各种附图更详细地描述有机发光显示面板。
图10是图解根据本公开内容的实施方式的有机发光显示面板的有效区域中包括的发光区域和非发光区域的平面图。图11A和图11B是沿图10的线A-B截取的截面图，图解了有效区域的一部分。图11A和11B可以图解仅设置在一个子像素SP中的部分配置和部分区域。
参考图10，在有效区域A/A中设置有多个发光区域EA和多个非发光区域NEA。
如图10所示，至少两个或更多个子像素SP的发光区域EA可以具有不同的尺寸，但是本公开内容的实施方式不限于此。
设置在有效区域A/A中的每个子像素SP可以包括多个发光区域EA，并且至少一个发光区域EA可以包括多个发光区域EA1和EA2。
具体地，一个子像素SP的发光区域EA可以包括第一发光区域EA1和围绕第一发光区域EA1的第二发光区域EA2。
第一非发光区域NEA1可以设置在第一发光区域EA1与第二发光区域EA2之间。
换句话说，第一发光区域EA1和第二发光区域EA2可以通过第一非发光区域NEA1彼此区分开。
第一非发光区域NEA1的尺寸可以小于第一发光区域EA1和第二发光区域EA2的尺寸。
当显示装置处于开启状态时，第一非发光区域NEA1可以处于黑色状态，或者由于从第一发光区域EA1和第二发光区域EA2中的至少一个入射的光，第一非发光区域NEA1可以具有比第一发光区域EA1和第二发光区域EA2低的亮度。
如图10所示，第一发光区域EA1、第二发光区域EA2和第一非发光区域NEA1在平面图中均可以是八边形的。然而，本公开内容的实施方式不限于此。例如，第一发光区域EA1、第二发光区域EA2和第一非发光区域NEA1可以各自形成为圆形、椭圆形或多边形，例如三角形、正方形或六边形或它们的组合形状。
一对第一发光区域EA1和第二发光区域EA2可以与另一对第一发光区域EA1和第二发光区域EA2隔开，并且第二非发光区域NEA2可以设置在它们之间。
第二非发光区域NEA2可以是全部或部分对应于电路区域的区域，电路区域中设置有用于驱动第一发光区域EA1和第二发光区域EA2的电路。
当显示装置处于开启状态时，第二非发光区域NEA2可以处于黑色状态，或者由于从第二发光区域EA2入射的光，第二非发光区域NEA2可以具有比第一发光区域EA1和第二发光区域EA2低的亮度。
当第一非发光区域NEA1和第二非发光区域NEA2的亮度低于第一发光区域EA1和第二发光区域EA2的亮度时，第一非发光区域NEA1的亮度可以高于第二非发光区域NEA2的亮度，但是本公开内容的实施方式不限于此。
在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，在设置有第二非发光区域NEA2的区域中，可以设置多个触摸电极320(或触摸线)。
因此，即使多个触摸电极320包括不透明导电材料，由于它们不与发光区域EA重叠，所以发光区域EA的尺寸不会减小。
此外，根据本公开内容的显示装置可以包括至少一个光反射构件1010，光反射构件1010设置在与多个触摸电极320相同的层上。
光反射构件1010可以设置为围绕至少一个第二发光区域EA2，以允许从有机发光二极管(OLED)发出的光被反射并提取到显示装置的外部。
因此，在平面图中，光反射构件1010可以具有与第二发光区域EA2对应的形状。例如，光反射构件1010在平面图中可以是八边形的，如图10所示。
一个光反射构件1010可以设置为围绕一个第二发光区域EA2并且与另一光反射构件1010隔开。
光反射构件1010可以设置在第二非发光区域NEA2中。因此，即使光反射构件1010包括不透明导电材料，由于其不与发光区域EA重叠，因此可以防止发光区域EA的尺寸减小。
如图10所示，光反射构件1010可以与多个触摸电极320分开设置。换句话讲，光反射构件1010可以处于与多个触摸电极320电分离的状态。因此，即使将触摸信号施加到多个触摸电极320，也没有触摸信号被施加到光反射构件1010。
下面参考图11A和11B详细讨论。
参考图11A和11B，设置在基板1110上的晶体管TR和与晶体管TR电连接的有机发光二极管(OLED)设置在有效区域A/A(沿线A-B截取的区域)中。
晶体管TR包括有源层1121、栅电极1123、源电极1124和漏电极1125。
有机发光二极管(OLED)包括第一电极750、具有发光层的有机层760和第二电极770。第一电极750可以是阳极电极，第二电极770可以是阴极电极，但是本公开内容的实施方式不限于此。
具体地，缓冲层1111设置在基板1110上。晶体管TR的有源层1121设置在缓冲层1111上。栅极绝缘膜1122设置在有源层1121上，栅电极1123设置在栅极绝缘膜1122上。
尽管在图11A和图11B未示出，根据本公开内容的实施方式，有源层1121可以包括沟道区域，并且有源层1121的沟道区域可以与栅极绝缘膜1122和栅电极1123重叠。换句话说，栅极绝缘膜1122和栅电极1123可以设置在有源层1121的沟道区域上。
层间绝缘膜1112设置在栅电极1123上。源电极1124和漏电极1125设置在层间绝缘膜1112上。源电极1124和漏电极1125可在层间绝缘膜1112上彼此隔开。源电极1124和漏电极1125可各自通过层间绝缘膜1112中形成的孔与有源层1121接触。
尽管可以将具有上述结构的晶体管TR设置在基板1110上，但是本公开内容的晶体管结构不限于此。
例如，栅电极1123可以设置在基板1110上，有源层1121可以设置在栅电极1123上，源电极1124可以设置为与有源层1121的一端重叠，并且漏电极1125可以设置为与有源层1121的相对端重叠。
可以设置保护膜1113以覆盖晶体管TR。
绝缘膜1140可以设置在保护膜1113上。
绝缘膜1140可以由有机材料形成，但是本公开内容的实施方式不限于此。
绝缘膜1140可以在一个子像素区域中具有至少一个凹入部分1143。绝缘膜1140可具有围绕部分1144，该围绕部分1144围绕凹入部分1143并且位于凹入部分1143周围。凹入部分1143可包括平坦部分1141和围绕平坦部分1141的倾斜部分1142。
凹入部分1143的平坦部分1141的表面可以与基板1110的表面平行，倾斜部分1142可以围绕平坦部分1141，并且可以在倾斜部分1142的表面与基板1110的表面之间形成预定角度。换句话说，倾斜部分1142的表面可以不与基板1110的表面平行。
绝缘膜1140可以具有与凹入部分1143隔开的接触孔。
在至少一个子像素区域中，第一电极750可以设置在绝缘膜1140的凹入部分1143和围绕部分1144上。
在与凹入部分1143重叠的区域中，第一电极750包括第一区域1151和从第一区域1151延伸的第二区域1152。在第一区域1151中，第一电极750的顶表面与基板1110的表面平行。在第二区域1152中，在第一电极750的顶表面与基板1110的表面之间形成预定角度。换句话说，第二区域1152的表面可以不与基板1110的表面平行。第一电极750包括从第二区域1152延伸的第三区域1153，并且在第三区域1153中，第一电极750的顶表面与基板1110的表面平行。第三区域1153可以是与绝缘膜1140的围绕部分1144重叠的区域。
如上所述，在至少一个子像素区域中，绝缘膜1140可以包括与凹入部分1143隔开的至少一个接触孔，并且晶体管TR可以通过绝缘膜1140的接触孔与有机发光二极管(OLED)的第一电极750电连接。
具体地，第一电极750可以与晶体管TR的源电极1124或漏电极1125电连接。
如图11A和11B所示，堤1180可以设置在绝缘膜1140和第一电极750的一部分上。
堤1180可包括第一部分1181和第二部分1182，第一部分1181在与绝缘膜1140的凹入部分1143的一部分对应的区域中设置在第一电极750上，第二部分1182在与绝缘膜1140的围绕部分1144对应的区域中设置在绝缘膜1140和第一电极750上。
堤1180可以设置为在与凹入部分1143对应的区域中暴露第一电极750的一部分顶表面。换句话说，至少一个子像素可以具有第一电极750不与堤1180重叠的区域。
具有至少一个发光层的有机发光二极管(OLED)的有机层760可以设置在不与堤1180重叠的第一电极750上。有机层760可以设置在第一电极750和堤1180上。
OLED的第二电极770可以设置在有机层760上。
有机发光二极管(OLED)的有机层760可以通过具有直线性的沉积或涂覆来形成。例如，有机层760可以通过例如蒸镀的物理气相沉积(PVD)来形成。
通过该方法形成的有机层760可以在与水平面成预定角度的区域中具有第一厚度，并且在与水平面平行的区域中具有第二厚度，其中第一厚度小于第二厚度。
例如，设置在与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域中的有机层760的厚度可以小于设置在由堤1180暴露的第一电极750的顶表面上的有机层760的厚度。此外，设置在与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域中的有机层760的厚度可以小于设置在围绕部分1144上的有机层760的厚度。
因此，当驱动有机发光二极管(OLED)时，有机层760的厚度相对较小的区域，即与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域可以具有最高电流密度，并且强电场可以施加到与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域。
在与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域中的有机发光二极管(OLED)的发光特性可不同于在与凹入部分1143的平坦部分1141对应的区域中的发光二极管(OLED)的发光特性，并且可能会劣化OLED。
根据本公开内容的实施方式，由于堤1180设置为覆盖凹入部分1143的倾斜部分1142，因此在与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域中可以不形成OLED，因此可以防止OLED劣化和发光特性在每个区域中不同的现象。
然而，根据本公开内容的实施方式，有机层760的厚度条件不限于此，有机层760在每个位置可以具有相应的厚度。
同时，第一电极750可以包括光反射金属。虽然图11A和11B示出了第一电极750是单层的配置，本公开内容的实施方式不限于此，第一电极750可以形成为多层结构。当第一电极750具有多层结构时，至少一层可以包括光反射金属。
例如，第一电极750可以包括但不限于铝、钕、镍、钛、钽、铜(Cu)、银(Ag)和铝合金中的至少任何一种。
第二电极770可以包括透光或半透光的导电材料。例如，第二电极770可以包括至少一种透明导电氧化物，例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化锌或氧化锡，或可以包括半透光金属，例如镁、银(Ag)或镁和银的合金。
当第二电极770包括半透光金属时，第二电极770的厚度可以小于第一电极750的厚度。
如图11A和图11B所示，可以在与有效区域A/A中的第二非发光区域NEA2对应的区域中，进一步设置与第二电极770接触的辅助电极1130(也可以称为辅助线)。
具体地，辅助电极1130可以设置在层间绝缘膜1112上。保护膜1113、绝缘膜1140和堤1180可以具有用于暴露辅助电极1130的孔。通过形成在保护膜1113、绝缘膜1140和堤1180中以暴露辅助电极1130的孔，第二电极770可以接触辅助电极1130，。
当有机发光显示面板是大尺寸显示面板时，由于第二电极770的电阻，可能发生电压降，从而导致面板的外围和中心之间的亮度差异。然而，根据本公开内容，在有机发光显示面板中，与第二电极770接触的辅助电极1130可以防止电压降。在有机发光显示面板是大尺寸面板时，这可以防止可能出现的亮度差异。
虽然图11A和图11B图解了在每个子像素SP中设置一个辅助电极1130的配置，但是本公开内容的实施方式不限于此。例如，可以多个子像素SP设置一个辅助电极1130。
图11A和图11B中所示的辅助电极1130的位置仅是示例，而不限于此。
除非根据本公开内容的实施方式的有机发光显示面板是大尺寸面板，否则可以省略辅助电极1130。
如图11A和11B所示，存储电容器Cst可以设置在有效区域A/A中。存储电容器Cst可以包括：设置在与栅电极1123相同的层上的第一存储电容器电极1131；和设置在与源电极1124和漏电极1125相同的层上的第二存储电容器电极1132，但是本公开内容的存储电容器Cst的结构不限于此。
至少一个封装层990可以设置在OLED的第二电极770上。
例如，封装层990可以包括设置在第二电极770上的第一封装层1191、设置在第一封装层1191上的第二封装层1192和设置在第二封装层1192上的第三封装层1193。
这样，当封装层990形成为多层结构时，其至少一层可包括无机绝缘材料，并且其至少另一层可包括有机绝缘材料。
根据本公开内容的实施方式，尽管第一封装层1191和第二封装层1193包括无机绝缘材料，并且第二封装层1192包括有机绝缘材料，但是本公开内容的实施方式不限于此。
封装层990可以设置在有机发光二极管(OLED)上，以防止水分或异物渗透到有机发光二极管(OLED)中。
虽然图11A和图11B图解了封装层990设置在有效区域A/A中的配置，本公开内容的实施方式不限于此，封装层990可以延伸到一部分非有效区域N/A。
第一触摸缓冲层1194可以设置在第三封装层1193上。
多个桥接图案396可以设置在第一触摸缓冲层1194上，并且第二触摸缓冲层1195可以设置在桥接图案396上。
多个触摸电极320可以设置在第二触摸缓冲层1195上。多个触摸电极320可以通过形成在第二触摸缓冲层1195中的孔来接触桥接图案396。
多个触摸电极320可以是透明或不透明的电极。
在第二触摸缓冲层1195中形成的孔中，可以设置至少一个光反射构件1010。如图11A所示，可以在第二触摸缓冲层1195中形成的孔中和在第一触摸缓冲层1194上设置光反射构件1010。
根据本公开内容的光反射构件1010的位置不限于此。如图11B所示，可以在与多个触摸电极320相同的层上设置至少一个光反射构件1010。
参考图11B，在光反射构件1010的下方，可以设置与设置在触摸电极320下方的桥接图案396相同的图案1196。可以在形成设置在触摸电极320的下方的桥接图案396的工艺中，形成设置在光反射构件1010下方的图案1196，但是本公开内容的实施方式不限于此。
光反射构件1010可以与多个触摸电极320分开设置。平坦化膜1199可以设置在第二触摸缓冲层1195、多个触摸电极320和多个光反射构件1010上。
尽管光反射构件1010包括光反射金属，但是本公开内容的实施方式不限于此。
光反射构件1010的一端可以设置成与堤1180重叠。
有机发光二极管(OLED)的第一电极750的由堤1180暴露的顶部区域可以是与第一发光区域EA1对应的区域。
如以上结合图10所述，光反射构件1010可以设置为围绕第二发光区域EA2。
在这种情况下，光反射构件1010可以设置为与堤1180重叠。
光反射构件1010的一端可以设置为对应于绝缘膜1140的倾斜部分1142和平坦部分1144之间的边界。换句话说，光反射构件1010可以不与第一发光区域EA1和第二发光区域EA2重叠。
光反射构件1010可以允许从第一发光区域EA1发出的光被提取到显示装置的外部，同时阻止光到达其他子像素SP。
在本公开内容的包括绝缘膜1140中的至少一个凹入部分1143和光反射构件1010的显示装置中，将参考图12和图13来讨论从有机发光二极管(OLED)发出的光的路径。
图12是图解图11A和图11B的区域X的放大图。图13是图解图11A和图11B的区域Y的放大图。
与上述基本相同的构造和效果在下面不再重复描述。
参考图12，至少一个子像素SP可以包括至少一个发光区域EA，并且一个发光区域EA可以包括至少两个发光区域EA1和EA2。一个非发光区域NEA1可以设置在两个发光区域EA1和EA2之间。
具体地，第一发光区域EA1可以是与绝缘膜1140的一部分凹入部分1143对应的区域。
另一方面，第一发光区域EA1可以是在凹入部分1143的平坦部分1141中不与堤1180的第一部分1181重叠的区域。
第一发光区域EA1可以是从有机层760发出的部分光L1经由有机层760和第二电极770被提取到显示装置的外部的区域。
第一发光区域EA1可以是从有机层760发出的部分光L1(以下可以称为第一光)到达第一电极750、被第一电极750反射、并经由有机层760和第二电极770被提取到显示装置的外部的区域。
具体地，从有机层760发出的第一光L1顺序地穿过有机发光二极管(OLED)的第二电极770和封装层990，并且被提取到显示装置的外部。
第一发光区域EA1可以被第一非发光区域NEA1包围。
第一非发光区域NEA1可以对应于堤1180与凹入部分1143的平坦部分1141重叠的区域。具体地，第一非发光区域NEA1可以对应于堤1180的第一部分1181与凹入部分1143的平坦部分1141重叠的区域。
第一非发光区域NEA1可以是从有机层760发出的部分光L4被引导到堤1180的第一部分1181，但是光L4不被提取到外部的区域。换句话说，第一非发光区域NEA1可以是沿与平坦部分1141平行的方向从有机层760发出的光到达堤1180的第一部分1181，但是被捕获在子像素中而不被反射到外部的区域。
当显示装置处于开启状态时，第一非发光区域NEA1可以处于黑色状态，或者由于从第一发光区域EA1和第二发光区域EA2中的至少一个发出的光，第一非发光区域NEA1的亮度可以低于第一发光区域EA1和第二发光区域EA2的亮度。例如，设置在第一发光区域EA1与第二发光区域EA2之间的第一非发光区域NEA1可以是将来自第一发光区域EA1的可见光和来自第二发光区域EA2的可见光混合的区域，但是本公开内容的实施方式不限于此。
第二发光区域EA2可以设置为围绕第一非发光区域NEA1。第二发光区域EA2可以是第一电极750与凹入部分1143的倾斜部分1142重叠的区域。另一方面，第二发光区域EA2可以是与第一电极750的第二区域1152对应的区域。
从有机层760发出的部分光L2(在下文中可以称为第二光)可以被引导到堤1180的第一部分1181。
在根据本公开内容的实施方式的有机发光显示装置中，堤1180的折射率可以小于有机发光二极管(OLED)的有机层760的折射率。
例如，堤1180的折射率可以在1.4至1.55的范围内。
有机层760的折射率可以在1.7至1.8的范围内。
因此，从有机层760发出的部分光L2可以在堤1180与有机层760之间的界面上全反射，并通过第二电极770、封装层990、第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195被提取到外部。
同时，封装层990、第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195的折射率可以大于堤1180的折射率。
例如，第一封装层1191和第三封装层1193的折射率可以在1.8至1.9的范围内。
第二封装层1192的折射率可以在1.6至1.7的范围内。
第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195的折射率可以在1.7至1.9的范围内。
设置在第二触摸缓冲层1195上的平坦化膜1199的折射率可以在1.5至1.6的范围内。
根据本公开内容的实施方式，第二封装层1192的折射率可以大于堤1180和平坦化膜1199的折射率。
堤1180的折射率可以小于有机层760、封装层990、第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195的折射率。
因此，可以防止在有机层760和堤1180之间的界面上全反射的光被捕获在显示装置中。
透射过第二触摸缓冲层1195的第二光L2的一部分可以被提取到显示装置的外部。
第二光L2的其余部分可以到达设置在第二触摸缓冲层1195上的光反射构件1010，被光反射构件1010反射并被提取到显示装置的外部。
在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，如上所述，光反射构件1010可以设置为围绕第二发光区域EA2以提高光提取效率。
在这种情况下，光反射构件1010起到防止从一个子像素SP发出的光传输到另一个发出不同颜色的光的子像素SP时发生的光泄漏的作用，同时提高了显示装置的光提取效率。
从有机层760发出的其余光L3(在下文中可以称为第三光)可以被引导到第一电极750的第二区域1152。
第三光L3可以是没有在堤1180与有机层760之间的界面上全反射，而是进入堤1180的光。
第三光L3穿过堤1180的第一部分1181到达第一电极750的第二区域1152。到达第一电极750时，第三光L3被第一电极750反射，穿过堤1180的第一部分1181和有机层760并到达第二电极770。
此后，第三光L3的一部分可以通过第二电极770、封装层990、第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195被提取到显示装置的外部。
第三光L3的其余部分可以到达设置在第二触摸缓冲层1195上的光反射构件1010，被光反射构件1010反射并被提取到显示装置的外部。
如上所述，由于至少一个光反射构件1010设置在第二非发光区域NEA2中，因此可以抑制有机发光显示装置的光泄漏，并且可以提高光提取效率。
第二光L2和第三光L3的一部分在第一发光区域EA1中被提取，其余部分可以在第二发光区域EA2中被提取，但是本公开内容的实施方式不限于此。
第二光L2和第三光L3的一部分也可以在第一非发光区域NEA1中被提取。然而，在这种情况下，第一非发光区域NEA1的亮度可以低于第一发光区域EA1和第二发光区域EA2的亮度。
第二非发光区域NEA2可以设置为围绕第二发光区域EA2。第二非发光区域NEA2可以对应于设置堤1180的第二部分1182的区域。
在根据本公开内容的实施方式的有机发光显示面板中，凹入部分1143的倾斜部分1142和设置在凹入部分1143的倾斜部分1142上的堤1180可以具有特定条件以增加从第二发光区域EA2提取的光量。
参考图13，绝缘膜1140的倾斜部分1142的高度H1(或凹入部分的深度)可以为0.7μm或更大。倾斜部分1142的高度H1是指从与基板1110的表面平行地延伸自凹入部分1143的平坦部分1141的表面的线到围绕部分1144的最小距离。
根据本公开内容的实施方式，绝缘膜1140的倾斜部分1142的高度H1不限于上述值。例如，高度H1可以是使绝缘膜1140下方的部件不被绝缘膜1140的凹入部分1143暴露的任何高度。
倾斜部分1142的高度H1可以大于设置在围绕部分1144上的堤1180的高度H2。另一方面，倾斜部分1142的高度H1可以大于堤1180的第二部分1182的高度H2。
这样，因为倾斜部分1142的高度H1增加，所以在第一电极750的第二区域1152中反射的光量增加，从而提高了光提取效率。
凹入部分1143的倾斜部分1142与水平表面之间的角度a可以大于等于27°且小于80°。
当角度a小于27°时，从有机层760发出的光可能无法到达设置在倾斜部分1142上的第一电极750，而是可能会传输到另一个相邻的子像素，从而导致颜色混合，或者可能会被捕获在显示装置中而不会被提取到外部。
当角度a超过80°时，例如，设置在绝缘膜1140的倾斜部分1142上的第一电极750中可能发生开路。
在与凹入部分1143的倾斜部分1142对应的区域中，堤1180的表面与第一电极750之间的距离W可以不大于3.2μm，不大于2.6μm或不大于2.0μm。
另一方面，在第一电极750的第二区域1152中，堤1180的表面与第一电极750之间的距离W可以不大于3.2μm，不大于2.6μm或不大于2.0μm。
随着W的减小，第一发光区域EA1可以扩大，并且从第一电极750的第二区域1152反射和提取的光的光路可以缩短，从而提高了光提取效率。W的下限尽管没有特别限制，但可以不小于0.1μm，不小于0.3μm或不小于0.5μm。
通过如上所述地调整W的范围，可以增大第一发光区域EA1，并且可以提高有机发光显示面板中的光提取效率。
第一发光区域EA1的颜色坐标可以不同于或对应于第二发光区域EA2的颜色坐标。
例如，如果第三光L3占据从第二发光区域EA2发出的光的较大比例，则第一发光区域EA1的颜色坐标可以与第二发光区域EA2的颜色坐标不同。
第三光L3是通过堤1180提取到显示装置外部的光。当堤1180包含有颜色的有机材料或无机材料时，第二发光区域EA2的颜色坐标可能会移动到比第一发光区域EA1的颜色坐标更长的波长。
如上所述，可以在与多个触摸电极320相同的层上设置用于在抑制光泄漏的同时提高光提取效率的光反射构件1010。
尽管多个触摸电极320可以与触摸线连接，但是光反射构件1010可以具有与触摸线电分离的结构。因此，光反射构件1010可以提高光提取效率而不影响触摸相关信号。
下面参考图14讨论多个触摸电极320、光反射构件1010和触摸线的布局结构。
图14是图解一部分有效区域和从有效区域延伸的非有效区域的视图。
与上述基本相同的配置和效果在下面不再重复描述。
参考图14，多个触摸电极320、至少一个光反射构件1010和触摸线1450可以设置在第二触摸缓冲层1195上。
沿着相同行(或相同列)设置的触摸电极320可以经由桥接图案396电连接在一起，从而形成一条驱动触摸电极线或一条感测触摸电极线。
虽然图14图解了触摸电极320和触摸线1450位于同一层上的配置，但是本公开内容的实施方式不限于此。例如，触摸电极320和触摸线1450也可以位于不同的层上。
触摸线1450可以与辅助线1460电连接，辅助线1460设置在与桥接图案396相同的层上。具体地，参考图14，触摸线1450可以经由形成在第二触摸缓冲层1195中的接触孔来接触设置在第二触摸缓冲层1195下方的辅助线1460。
由于触摸线1450与辅助线1460电连接，因此可以减小触摸线1450的电阻。
触摸线1450和触摸电极320可以彼此电连接。触摸线1450位于坝1420上，并且延伸到位于坝1420的外围的焊盘部分。触摸线1450与焊盘部分电连接。
具体地，触摸线1450可以与非有效区域N/A的焊盘部分中设置的焊盘1440电连接。虽然图14图解了触摸线1450通过焊盘连接线1430与焊盘1440电连接，但是本公开内容的实施方式不限于此。例如，焊盘1440和触摸线1450可以直接连接在一起。
与触摸线1450连接的焊盘1440可以与触摸感测电路TSC连接。触摸感测电路TSC可以将触摸驱动信号提供给多个触摸电极320中的至少一个触摸电极，并且响应于触摸驱动信号来感测触摸的存在或不存在以及触摸位置中的至少之一。
触摸线1450、第三封装层1193、第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195可以设置为在坝1420上重叠。然而，该结构仅是示例。触摸线1450可以与坝1420上的第三封装层1193、第一触摸缓冲层1194和第二触摸缓冲层1195中的至少一部分重叠。
虽然图14图解了设置一个坝1420的结构，但是本公开内容的实施方式不限于此。根据本公开内容，可根据显示装置的尺寸适当地改变坝1420的数量。换句话说，可以设置两个或更多个坝1420，并且当在基板1110上设置多个坝1420时，至少两个坝可以具有不同的高度。
尽管图11A、图11B、图12、图13和图14图解了触摸电极320经由桥接图案396连接的结构，但是本公开内容的实施方式不限于此。
图15是图解根据本公开内容的另一实施方式的显示装置的截面图。
与上述基本相同的配置和效果在下面不再重复描述。
参考图15，光反射构件1510和触摸电极1520可以设置在第一触摸缓冲层1194上。
换句话说，在触摸电极1520和光反射构件1510下方可以不存在桥接图案。
光反射构件1510和触摸电极1520可以设置在相同的层上并且可以由相同的材料形成。例如，光反射构件1510和触摸电极1520可以包括光反射金属，但是本公开内容的实施方式不限于此。
在这种情况下，由于可以在相同的工艺中形成光反射构件1510和触摸电极1520，因此可以简化本公开内容的显示装置的工艺。
作为示例，光反射构件1510和触摸电极1520可以包括不同的材料。例如，光反射构件1510可以包括光反射金属，触摸电极1520可以包括透明导电材料。
根据本公开内容，使有机发光二极管(OLED)的第二电极与辅助电极接触的绝缘膜的结构可以根据有机层的布局结构而变化。
下面参考图16对此进行描述。
图16是图解根据本公开内容的另一实施方式的显示装置的截面图。
与上述基本相同的配置和效果在下面不再重复描述。
参考图16，在有效区域A/A中，有机发光二极管(OLED)的有机层1660可以设置为与堤1180和第一电极750重叠，同时暴露辅助电极1130的顶表面。
在该结构中，为了使第二电极1670和辅助电极1130彼此接触，堤1180可以具有在形成有机层1660的工艺中防止有机层1660的材料沉积在辅助电极1130上的结构。
具体地，如图16所示，在暴露辅助电极1130的孔周围的区域中，堤1180可以形成为随着其远离基板1110而变宽。换句话说，随着堤1180远离基板1110，堤1180的暴露辅助电极1130的孔可以变窄。
作为形成有机层1660的工艺，可以采用其中源材料具有直线性的沉积或涂覆。例如，可以使用蒸镀。作为形成第二电极1670的工艺，可以使用其中源材料具有不规则方向性的沉积或涂覆。例如，可以使用溅射。
因为堤1180的暴露辅助电极1130的孔很窄，所以由于有机层1660的工艺特性，有机层1660可以不设置在辅助电极1130上。尽管堤1180的孔很窄，但是由于第二电极1670的工艺特性，第二电极1670的源材料可进入孔中，所以第二电极1670还可以形成在辅助电极1130上。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，其通过形成在绝缘膜中的至少一个凹入部分和设置在非显示区域中的光反射构件而提高了光提取效率。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，其具有能够通过光反射构件来防止相邻像素之间的颜色混合的结构。
根据本公开内容的实施方式，可以提供一种触摸显示装置，其具有允许在同一工艺中形成光反射构件和触摸电极而使工艺简单的结构。
已经给出了以上描述以使本领域的技术人员能够获得和使用本公开内容的技术思想，并且已经在特定应用及其要求的背景下提供了以上描述。对所描述的实施方式的各种修改、添加和替换对于本领域技术人员将是显而易见的，并且在不脱离本公开内容的精神和范围的情况下，本文中定义的一般原理可以应用于其他实施方式和应用。以上描述和附图仅出于示例性目的提供了本公开内容的技术思想的示例。也就是说，所公开的实施方式旨在示出本公开内容的技术思想的范围。因此，本公开内容的范围不限于所示的实施方式，而是应被赋予与权利要求一致的最宽范围。本公开内容的保护范围应该基于以下权利要求来解释，并且在其等同形式范围内的所有技术思想都应当被解释为包括在本公开内容的范围内。

Claims (24)

1.一种触摸显示装置，包括：
绝缘膜，包括凹入部分和围绕所述凹入部分设置的围绕部分，所述凹入部分包括平坦部分和围绕平坦部分的倾斜部分；
第一电极，设置在凹入部分和一部分围绕部分上；
堤，包括第一部分和第二部分，所述第一部分设置在与一部分凹入部分对应的区域中的第一电极上，所述第二部分设置在与围绕部分对应的区域中的绝缘膜和第一电极上；
有机层，与凹入部分重叠并且设置在第一电极上，所述有机层包括发光层；
第二电极，设置在有机层和堤上；
封装层，设置在第二电极上；
多个触摸电极，设置在封装层上；和
光反射构件，设置在封装层上，且与多个触摸电极隔开。
2.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述堤的第一部分设置在与所述倾斜部分对应的区域中的第一电极上，且暴露与所述平坦部分对应的区域中的一部分第一电极。
3.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述第一电极包括光反射金属。
4.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述光反射构件与所述堤的第二部分重叠。
5.根据权利要求4所述的触摸显示装置，其中所述光反射构件的一端设置为对应于倾斜部分和平坦部分之间的边界。
6.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述堤的折射率小于所述有机层的折射率。
7.根据权利要求1所述的触摸显示装置，进一步包括设置在所述封装层上的触摸缓冲层，
其中所述堤的折射率小于所述封装层和所述触摸缓冲层的折射率。
8.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述绝缘膜的倾斜部分的高度大于所述堤的第二部分的高度。
9.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述绝缘膜的倾斜部分与水平表面之间的角度介于27°和80°之间。
10.根据权利要求2所述的触摸显示装置，其中所述堤的第一部分的宽度介于0.1μm和3.2μm之间。
11.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述触摸显示装置设置有有效区域和在所述有效区域周围的非有效区域，
在所述非有效区域中设置有至少一个坝，
在所述坝上设置有所述封装层和所述触摸缓冲层中的至少一个。
12.根据权利要求11所述的触摸显示装置，进一步包括与所述触摸电极电连接的触摸线，其中
所述触摸线位于所述坝上，
所述触摸线延伸到位于坝的外围的焊盘部分，并与所述焊盘部分电连接，
所述触摸线与所述坝上的封装层和触摸缓冲层中的至少一个重叠。
13.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述光反射构件与所述触摸电极电分离。
14.根据权利要求12所述的触摸显示装置，进一步包括与所述触摸线电连接的触摸感测电路，其中
所述触摸感测电路将触摸驱动信号提供给所述多个触摸电极中的至少一个触摸电极，并且响应于所述触摸驱动信号，感测触摸的存在或不存在以及触摸位置中的至少之一。
15.根据权利要求1所述的触摸显示装置，其中所述多个触摸电极中的每个触摸电极是具有开口的网格型电极。
16.根据权利要求2所述的触摸显示装置，其中所述第一电极的被所述堤暴露的部分界定了第一发光区域，在所述第一发光区域中，所述堤的第一部分不与所述凹入部分的平坦部分中的第一电极重叠。
17.根据权利要求16所述的触摸显示装置，其中所述第一电极的设置在所述倾斜部分上的部分界定了第二发光区域，所述第二发光区域围绕所述第一发光区域。
18.根据权利要求17所述的触摸显示装置，其中所述第一电极的设置在所述平坦部分上且被所述堤覆盖的部分界定了第一非发光区域。
19.根据权利要求18所述的触摸显示装置，其中所述第一非发光区域设置在所述第一发光区域和所述第二发光区域之间。
20.根据权利要求18所述的触摸显示装置，其中所述堤的第二部分界定了第二非发光区域，所述第二非发光区域围绕所述第二发光区域。
21.根据权利要求19所述的触摸显示装置，其中所述光反射构件设置在第二非发光区域中。
22.根据权利要求21所述的触摸显示装置，其中所述光反射构件设置为围绕第二发光区域。
23.根据权利要求18所述的触摸显示装置，其中所述第一非发光区域的尺寸小于所述第一发光区域和所述第二发光区域的尺寸。
24.根据权利要求20所述的触摸显示装置，其中所述多个触摸电极设置在所述第二非发光区域中。
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