CN111965866B - 显示面板、显示装置及显示面板的修补方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种显示面板、显示装置及显示面板的修补方法,其中,显示面板包括:彩膜基板;阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置,所述阵列基板间隔设有多个像素区,每一所述像素区包括信号线和与所述信号线电连接的发光二极管;液晶层,所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;公共电极,所述公共电极位于所述彩膜基板朝向所述液晶层的表面;以及多个补偿电极,多个所述补偿电极间隔设置,并位于所述阵列基板朝向所述液晶层的表面,所述公共电极与多个所述补偿电极相对设置,一所述补偿电极对应一所述发光二极管设置。本发明显示面板的生产成本低。
Description
技术领域
本发明涉及显示设备技术领域,特别涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的修补方法。
背景技术
随着面板产业的快速发展,面板的制造工艺技术也越趋成熟。应用发光二极管(Light-emitting diode,LED)的显示面板也越来越普及。然而,发光二极管于制造工艺过程中,可能常因某些因素而导致损毁,从而使面板修补发生的可能性增加。为了避免这个问题,以现行的做法来说,是于面板像素内安装多颗的发光二极管。此种方法虽然可以减少面板修补发生的可能性,但却衍生出发光二极管的使用成本增加,以及面板像素内可利用空间的缩减的问题。
上述内容仅用于辅助理解本申请的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种显示面板,旨在减少发光二极管的数量,降低生产成本。
为实现上述目的,本发明提出的显示面板包括:
彩膜基板;
阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置,所述阵列基板间隔设有多个像素区,每一所述像素区包括信号线和与所述信号线电连接的发光二极管;
液晶层,所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;
公共电极,所述公共电极位于所述彩膜基板朝向所述液晶层的表面;以及
多个补偿电极,多个所述补偿电极间隔设置,并位于所述阵列基板朝向所述液晶层的表面,所述公共电极与多个所述补偿电极相对设置,一所述补偿电极对应一所述发光二极管设置。
在本发明的一实施例中,所述补偿电极位于所述信号线上方。
在本发明的一实施例中,所述公共电极为透明电极,所述补偿电极为导电电极。
在本发明的一实施例中,所述显示面板还包括修补线,当至少一所述发光二极管异常时,所述修补线用于将所述发光二极管对应的所述补偿电极与所述信号线进行电连接。
在本发明的一实施例中,异常的所述发光二极管对应的补偿电极施加的电压为U1,异常的所述发光二极管相邻的补偿电极施加的电压为U2,U2>U1。
本发明还提供一种显示面板的修补方法,应用于显示面板,所述显示面板的修补方法所采用的步骤如下:
提供一彩膜基板和一阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置,所述阵列基板间隔设有多个像素区,每一所述像素区设有信号线和与所述信号线电连接的发光二极管;
提供液晶层,所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;
提供公共电极,所述公共电极位于所述彩膜基板朝向所述液晶层的表面;
提供多个补偿电极,多个所述补偿电极间隔设置,并位于所述阵列基板朝向所述液晶层的表面,所述公共电极与多个所述补偿电极相对设置,一所述补偿电极对应一所述发光二极管设置;
进行检测工艺,判断所述至少一个发光二极管是否异常;以及
进行修补工艺,当检测到至少一发光二极管功能异常时,对发生异常的所述发光二极管对应的补偿电极与所述信号线进行连通。
在本发明的一实施例中,在进行检测工艺前还包括以下步骤:
将所述补偿电极位于所述信号线上方。
在本发明的一实施例中,在进行修补工艺时所采取的步骤为:
对异常的所述发光二极管对应的补偿电极施加电压U1,对异常的所述发光二极管相邻的补偿电极施加电压U2,U2>U1。
在本发明的一实施例中,在进行修补工艺前还包括以下步骤:
提供一修补线,当至少一所述发光二极管异常时,所述修补线将异常的所述发光二极管对应的所述补偿电极与所述信号线进行电连接。
本发明还提出一种显示装置,包括以上所述的显示面板。
本发明的显示面板包括彩膜基板、阵列基板、液晶层、公共电极和多个补偿电极,阵列基板与彩膜基板相对设置,阵列基板间隔设有多个像素区,每一像素区设有信号线和与信号线电连接的发光二极管,液晶层位于阵列基板和彩膜基板之间,公共电极位于彩膜基板朝向液晶层的表面,通过设置多个补偿电极间隔设置,并将多个补偿电极位于阵列基板朝向液晶层的表面,公共电极与多个补偿电极相对设置,一补偿电极对应一发光二极管设置,当发光二极管异常时,通过补偿电极调节液晶层中液晶分子的偏转方向,进而控制光线方向,以解决发光二极管异常带来的显示面板亮度不均的技术问题,无需在一个像素区内设置备用的发光二极管,可减少发光二极管的数量,节约生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明显示面板显示正常的结构示意图;
图2为本发明显示面板一发光二极管异常时的结构示意图;
图3为本发明图2中液晶层发生偏转的剖面结构示意图;
图4为本发明显示面板的修补方法的流程示意图;
图5为本发明显示面板的修补方法另一实施例的流程示意图;
图6为本发明显示面板的修补方法又一实施例的流程示意图。
附图标号说明:
标号 | 名称 | 标号 | 名称 |
100 | 显示面板 | 212 | 发光二极管 |
10 | 彩膜基板 | 30 | 液晶层 |
20 | 阵列基板 | 40 | 公共电极 |
21 | 像素区 | 50 | 补偿电极 |
211 | 信号线 | 60 | 修补线 |
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
另外,在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
本发明提出一种显示面板100。
参照图1至图3,在本发明实施例中,该显示面板100包括:
彩膜基板10;
阵列基板20,所述阵列基板20与所述彩膜基板10相对设置,所述阵列基板20间隔设有多个像素区21,每一所述像素区21包括信号线211与所述信号线211电连接的发光二极管212;
液晶层30,所述液晶层30位于所述阵列基板20和所述彩膜基板10之间;
公共电极40,所述公共电极40位于所述彩膜基板10朝向所述液晶层30的表面;以及
多个补偿电极50,多个所述补偿电极50间隔设置,并位于所述阵列基板20朝向所述液晶层30的表面,所述公共电极40与多个所述补偿电极50相对设置,一所述补偿电极50对应一所述发光二极管212设置。
具体的,阵列基板20为透明基板,如玻璃基板、石英基板等。阵列基板20包括多个呈阵列排布的像素区21,信号线211绝缘交叉限定多个像素区21,信号线211包括水平和竖直的信号线,且相互垂直设置,相邻两条水平信号线211和相邻两条竖直信号线211围合限定一个像素区21。
信号线211为导体材料形成,如铝合金、铬金属等。发光二极管212设于像素区21内,并电连接水平信号线和竖直信号线。公共电极40位于彩膜基板10朝向所述液晶层30的表面,公共电极40与多个补偿电极50相对设置,一补偿电极50对应一发光二极管212设置,当显示面板100正常显示时,公共电极40和补偿电极50之间无需施加电压,液晶层30内的液晶分子不发生偏转,液晶分子没有棱镜效果,当公共电极40和补偿电极50之间施加公共电压,且在相邻的补偿电极50上施加高电压时,未施加高电压的液晶发生偏转产生较低折射率,施加高电压的液晶分子具有较高的折射率,所以光学上的效果可以等效成一个薄棱镜,当光通过他的时候会向一侧偏折,实现光线偏转的效果,需要特别提的只有一半的光即非寻常光(extraordinary light)会偏转方向,另一半的光即寻常光(ordinary light)是不会改变方向的。
本发明的显示面板100包括:彩膜基板10、阵列基板20、液晶层30、公共电极40和多个补偿电极50,阵列基板20与彩膜基板10相对设置,阵列基板20间隔设有多个像素区21,每一像素区21设有信号线211和与信号线211电连接的发光二极管212,液晶层30位于阵列基板20和彩膜基板10之间,公共电极40位于彩膜基板10朝向液晶层30的表面,通过设置多个补偿电极50间隔设置,并将多个补偿电极50位于阵列基板20朝向液晶层30的表面,公共电极40与多个补偿电极50相对设置,一补偿电极50对应一发光二极管212设置,当发光二极管212异常时,通过补偿电极50调节液晶层30中液晶分子的偏转方向,进而控制光线方向,以解决发光二极管212异常带来的显示面板100亮度不均的技术问题,无需在一个像素区21内设置备用的发光二极管212,可减少发光二极管212的数量,节约生产成本。
进一步的,为了避免影响显示效果,补偿电极50位于所述信号线211上方。其中,补偿电极50呈条状,且补偿电极50的延伸方向与信号线211的延伸方向相同。如将补偿电极50设于竖直信号线上时,补偿电极50的延伸方向为竖直方向。
进一步的,公共电极40为透明电极,所述补偿电极50为导电电极。
本实施例中,公共电极40为透明电极,如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In 2O 3)、氧化铟镓(IGO)和氧化铝锌(AZO)中的至少一种。补偿电极50为导电电极,如金属或者金属氧化物或者有机导电层。目的是通过公共电极40和补偿电极50来控制液晶分子的偏转方向。在一般状况下公共电极40和补偿电极50通过浮接方式与各自所在的基板连接。
请参照图2,显示面板100还包括修补线60,当至少一所述发光二极管212异常时,所述修补线60用于将所述发光二极管212对应的所述补偿电极50与所述信号线211进行电连接。
本实施例中,发光二极管212异常可能是发光二极管212损坏或者线路异常导致其不发光。修补线60为镭射修补线,当至少一发光二极管212异常时,修补线60将发光二极管212对应的补偿电极50与信号线211进行电连接,通过在补偿电极50与公共电极40之间施加电压来控制液晶分子的偏转方向,进而控制光线方向。
进一步的,由于正常的发光二极管212的光线较亮,为了将光线偏转到邻近的异常的发光二极管212处,使得液晶分子发生偏转,异常的发光二极管212对应的补偿电极50施加的电压为U1,异常的所述发光二极管212相邻的补偿电极50施加的电压为U2,U2>U1。
本发明还提出一种显示面板的修补方法,该显示面板的修补方法应用于显示面板100,该显示面板100的具体结构参照上述实施例,由于本显示面板的修补方法采用了上述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
请参照图4,显示面板的修补方法所采用的步骤如下:
S10,提供一彩膜基板10和一阵列基板20,所述阵列基板20与所述彩膜基板10相对设置,所述阵列基板20间隔设有多个像素区21,每一所述像素区21设有信号线211和与所述信号线211电连接的发光二极管212;
S20,提供液晶层30,所述液晶层30位于所述阵列基板20和所述彩膜基10板之间;
S30,提供公共电极40,所述公共电极40位于所述彩膜基板10朝向所述液晶层30的表面;
S40,提供多个补偿电极50,多个所述补偿电极50间隔设置,并位于所述阵列基板20朝向所述液晶层30的表面,所述公共电极40与多个所述补偿电极50相对设置,一所述补偿电极50对应一所述发光二极管212设置;
S50,进行检测工艺,判断所述至少一个发光二极管212是否异常;以及
S60,进行修补工艺,当检测到至少一发光二极管212功能异常时,对发生异常的所述发光二极管212对应的补偿电极50与所述信号线211进行连通。
本实施例中,发光二极管212设有两个,一个为P1,另一个为P2,当发光二极管212状态完好时,显示面板100按照图1所示结构进行正常工作。通过检测工艺,检测工艺可包括一电性检测工艺或一光学检测工艺的其中至少一者。光学检测工艺使用光源产生激发光以诱导(induce)发光二极管212放出荧光,并利用扫描摄影机(scan line camera)检测发光二极管212在特定波长的放光情形,藉此可得知发光二极管212是否有损坏。电性检测工艺使用探针给予发光二极管212所需的信号,藉此可得知发光二极管212是否能正常运作。举例而言,若检测结果显示所有像素区21的发光二极管212均正常,则不需进行修补工艺。若检测结果显示某一像素区21的发光二极管212功能异常时,则判定发光二极管212为异常发光二极管212。
当某一发光二极管212如P2异常时,进行修补工艺,即将发生异常的发光二极管212对应的补偿电极50与信号线211进行连通,使得P1对应的补偿电极211施加给高电压,P2对应的补偿电极211施加给低电压,从而形成一个高低不均匀的电场,使得部分液晶分子发生偏转,如图3,P1正常运作,此时P1发出的光线会根据液晶分子的偏转进行相应的偏转,进而将部分光分享给异常的P2,使得暗点不明显,以此解决现有技术的问题。
请参照图5,在进行检测工艺前还包括以下步骤:
S70,将所述补偿电极50位于所述信号线211上方。其中,通过浮接的方式将补偿电极50位于信号线211上方,避免影响显示效果。
进一步的,在进行修补工艺时所采取的步骤为:
对异常的所述发光二极管212对应的补偿电极50施加电压U1,对异常的所述发光二极管212相邻的补偿电极50施加电压U2,U2>U1。
请参照图6,在进行修补工艺前还包括以下步骤:
S80,提供一修补线60,当至少一所述发光二极管212异常时,所述修补线60将异常的所述发光二极管212对应的所述补偿电极50与所述信号线211进行电连接。
本实施例中,发光二极管212设有两个,一个为P1,另一个为P2,当发光二极管212状态完好时,显示面板100按照图1所示结构进行正常工作。当某一发光二极管212如P2异常时,修补线60连接P2所对应的补偿电极50和信号线211,修补线60为镭射修补线,使得P1对应的补偿电极211施加给高电压,P2对应的补偿电极211施加给低电压,从而形成一个高低不均匀的电场,使得部分液晶分子发生偏转,如图3,P1正常运作,此时P1发出的光线会根据液晶分子的偏转进行相应的偏转,进而将部分光分享给异常的P2,使得暗点不明显,以此解决现有技术的问题。
本发明还提出一种显示装置,该显示装置包括显示面板100,该显示面板100的具体结构参照上述实施例,由于本显示装置采用了上述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
该显示装置可以为液晶面板、电子纸、LED面板、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等具有显示功能的产品或零件。尤其是使用液晶棱镜的发光二极管显示装置。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
彩膜基板;
阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置,所述阵列基板间隔设有多个像素区,每一所述像素区包括信号线与所述信号线电连接的发光二极管;
液晶层,所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;
公共电极,所述公共电极位于所述彩膜基板朝向所述液晶层的表面;以及
多个补偿电极,多个所述补偿电极间隔设置,并位于所述阵列基板朝向所述液晶层的表面,所述公共电极与多个所述补偿电极相对设置,一所述补偿电极对应一所述发光二极管设置。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述补偿电极位于所述信号线上方。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述公共电极为透明电极,所述补偿电极为导电电极。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括修补线,当至少一所述发光二极管异常时,所述修补线用于将所述发光二极管对应的所述补偿电极与所述信号线进行电连接。
5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于,异常的所述发光二极管对应的补偿电极施加的电压为U1,异常的所述发光二极管相邻的补偿电极施加的电压为U2,U2>U1。
6.一种显示面板的修补方法,应用于显示面板,其特征在于,所述显示面板的修补方法所采用的步骤如下:
提供一彩膜基板和一阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置,所述阵列基板间隔设有多个像素区,每一所述像素区设有信号线和与所述信号线电连接的发光二极管;
提供液晶层,所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;
提供公共电极,所述公共电极位于所述彩膜基板朝向所述液晶层的表面;
提供多个补偿电极,多个所述补偿电极间隔设置,并位于所述阵列基板朝向所述液晶层的表面,所述公共电极与多个所述补偿电极相对设置,一所述补偿电极对应一所述发光二极管设置;
进行检测工艺,判断所述至少一个发光二极管是否异常;
进行修补工艺,当检测到至少一发光二极管功能异常时,对发生异常的所述发光二极管对应的补偿电极与所述信号线进行连通。
7.如权利要求6所述的显示面板的修补方法,其特征在于,在进行检测工艺前还包括以下步骤:
将所述补偿电极位于所述信号线上方。
8.如权利要求6所述的显示面板的修补方法,其特征在于,在进行修补工艺时所采取的步骤为:
对异常的所述发光二极管对应的补偿电极施加电压U1,对异常的所述发光二极管相邻的补偿电极施加电压U2,U2>U1。
9.如权利要求6所述的显示面板的修补方法,其特征在于,在进行修补工艺前还包括以下步骤:
提供一修补线,当至少一所述发光二极管异常时,所述修补线将异常的所述发光二极管对应的所述补偿电极与所述信号线进行电连接。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至5中任意一项所述的显示面板。
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