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CN111596494B - 一种阵列基板及其制备方法 - Google Patents

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CN111596494B CN202010433344.7A CN202010433344A CN111596494B CN 111596494 B CN111596494 B CN 111596494B CN 202010433344 A CN202010433344 A CN 202010433344A CN 111596494 B CN111596494 B CN 111596494B
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Abstract

本发明公开了一种阵列基板及其制备方法，一种阵列基板，包括第一衬底；色阻层，设于第一衬底上方，色阻层为若干色阻单元排列的矩阵，设于矩阵边侧的色阻单元，其远离第一衬底的一侧表面处于同一水平面；以及PI层，设于色阻层远离第一衬底的一侧表面。本发明的有益效果在于：本发明的一种阵列基板及其制备方法，通过减少阵列基板中部分第一绝缘层的厚度，从而减少靠近非显示区的各色阻单元之间的高度差，便于PI溶液的涂布，避免PI在相邻色阻单元的接缝处堆积，避免PI溶液在显示面板的非显示区处堆积造成显示不良的现象，将挡墙的位置向靠近显示区一侧移动，降低框胶断裂的风险，提升显示面板的使用寿命，提升产品品质。

Description

一种阵列基板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种阵列基板及其制备方法。
背景技术
显示面板周边点状不良的主要是成因之一是因为面板周边PI(polyimide inkjetfilm)堆积或PI分布不均，造成周边局部盒厚(Cell Gap)、预倾角与面内存在差异，导致Panel周边穿透率偏大或偏小，显示出现亮态(Gap/预倾角偏大)或暗点(Gap/预倾角偏小)。
随着TFT LCD行业发展，客户对TFT LCD窄边框/无边框需求明显提升，同时TFTLCD边框变窄对PI的精度要求也随之提升，因为TFT LCD周边线路布局的差异，导致PI局部扩散不均存在点状不良，造成产品品质下降，影响产品售价及客户满意度。
目前改善周边点状不良的对策主要是通过贴防漏光胶带、PI与间隔柱覆盖设计，无法根本解决周边不良或者会增加成本。
发明内容
本发明提供了一种阵列基板及其制备方法，用以解决现有技术中由于显示面板中色阻单元厚度不一，设于色阻单元上的PI容易堆积，从而造成显示面板的显示不良的技术问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种阵列基板，包括第一衬底；色阻层，设于所述第一衬底上方，所述色阻层为若干色阻单元排列的矩阵，设于所述矩阵边侧的所述色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面处于同一水平面；以及PI层，设于所述色阻层远离所述第一衬底的一侧表面。
进一步的，阵列基板还包括挡墙，设于所述第一衬底的一侧表面,设于所述色阻层的边侧；以及框胶，设于所述挡墙远离所述色阻层一侧，设于所述第一衬底的一侧表面。
进一步的，所述挡墙与所述显示区的距离为L1，所述框胶与所述显示区的距离为L2，L2与L1的比值为2-3。
进一步的，所述挡墙与所述色阻层之间具有一间隙，所述PI层设于所述间隙中。
进一步的，阵列基板还包括薄膜晶体管结构，包括第一金属层，设于所述第一衬底的一侧表面；以及第一绝缘层，设于所述第一衬底的一侧表面，且覆盖所述第一金属层；所述色阻层设于所述薄膜晶体管结构远离所述第一衬底的一侧表面。
进一步的，所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，其中，所述蓝色色阻单元的厚度大于所述红色色阻单元的厚度；所述蓝色色阻单元的厚度大于所述蓝色色阻单元的厚度；第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述红色色阻单元的部分的厚度，大于第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述蓝色色阻单元的部分的厚度；以及第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述绿色色阻单元的部分的厚度，大于第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述蓝色色阻单元的部分的厚度。
进一步的，阵列基板还包括导电层，设于所述色阻层上，所述PI层覆盖所述导电层。
进一步的，包括如下步骤：提供一第一衬底；在所述第一衬底上制备色阻层，所述色阻层为若干色阻单元排列的矩阵，其中，设于所述矩阵边侧的所述色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面处于同一水平面；在所述色阻层上制备PI层，其中，所述PI层覆盖所述导电层。
进一步的，在所述第一衬底的制备步骤之后，还包括如下步骤：在所述第一衬底上制备薄膜晶体管结构，其中，所述薄膜晶体管结构的制备步骤包括：在所述基板上制备第一金属层；在所述基板上制备第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述第一金属层；保留部分所述第一绝缘层，对其余第一绝缘层进行刻蚀，其中，保留的所述第一绝缘层对应所述色阻层边侧的所述色阻单元。
进一步的，所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，其中，所述色阻层边侧的红色色阻单元对应的所述第一绝缘层、所述色阻层边侧的绿色阻单元对应的所述第一绝缘层不进行刻蚀。
本发明的有益效果在于：本发明的一种阵列基板及其制备方法，通过增加阵列基板中部分第一绝缘层的厚度，减少靠近非显示区的各色阻单元之间的高度差，便于PI溶液的涂布，避免PI在相邻色阻单元的接缝处堆积，减少PI溶液流向显示面板非显示区的体积，避免PI溶液在显示面板的非显示区处堆积造成显示不良的现象，将挡墙的位置向靠近显示区一侧移动，降低框胶断裂的风险，提升显示面板的使用寿命提升，产品品质。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1是实施例中的阵列基板俯视图。
图2是实施例中的显示面板局部侧视图。
图3是图1中A方向的局部侧视图。
图4是图1中C方向的局部侧视图。
图中标号
10阵列基板；20彩膜基板；
101第一衬底；
102色阻层；103色阻单元；
104第一导电层；105第一PI层；
106挡墙；107框胶；
108薄膜晶体管结构；11显示区；
12非显示区；1081像素电极；
1082存储电容；201第二衬底；
202遮光层；203第二导电层；
204第二PI层。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
实施例
如图1和图2所示，本实施例中，本发明的显示面板包括阵列基板10和彩膜基板20，其中，阵列基板10包括第一衬底101、色阻层102、第一导电层104、第一PI层105、挡墙106、框胶107和薄膜晶体管结构108。
显示面板包括显示区11和非显示区12，其中，非显示区12围绕所述显示区11。
第一衬底101为硬质玻璃基板，用以承接各膜层，以及阻挡外接水汽入侵显示面板。
薄膜晶体管结构108设于第一衬底101的一侧表面，其中，薄膜晶体管结构108包括像素电极1081和存储电容1082。
存储电容1082包括第一金属层、第一绝缘层和第二金属层,其中，所述第一金属层设于第一衬底101的一侧表面，所述第一绝缘层设于第一衬底101的一侧表面，且覆盖所述第一金属层，所述第二金属层设于所述第一绝缘层远离所述第一金属层的一侧表面，相对设置的所述第一金属层和所述第二金属层能够存储电容，保持显示面板显示画面，直至下一次充电，实现显示面板的持续显示。
如图3和图4所示，阻层102设于薄膜晶体管结构108远离第一衬底101的一侧表面，其中，色阻层102包括若干阵列排布的色阻单元103，色阻单元103矩阵分布，用以实现显示面板的彩色显示。
色阻单元103包括红色色阻单元、蓝色色阻单元和绿色色阻单元，一般来说，蓝色色阻厚度高于红色色阻厚度和绿色色阻厚度，用以调节波长不同带来的色差问题。
所述红色色阻单元、所述蓝色色阻单元和所述绿色色阻单元为行列分布，在同一列上，相邻两个第一色阻单元的颜色相同，在同一行上，红色色阻单元、蓝色色阻单元和绿色色阻单元间隔分布。
第一导电层104设于色阻层102远离薄膜晶体管结构108的一侧表面，用以传递电信号。
第一PI层105设于第一导电层104远离色阻层102的一侧表面，由于PI层通常为涂布制成，若色阻单元之间存在段差，容易造成PI液堆积，且由于液体特性，较高的色阻单元表面的PI液体会流向较低的色阻单元表面，这会导致较高色阻单元表面缺少PI溶液，从而无法形成连续的第一PI层105，或者，为了保证较高色阻单元表面具有PI溶液，需要涂布大量的PI溶液，导致PI液体向现实面板1的四周溢流，在显示面板四周的线路稀疏位置堆积，从而造成显示面板的显示异常。
为了解决这一现象，本实施例中，减少色阻层102中靠近非显示区12的色阻单元103中红色色阻单元、蓝色色阻单元和绿色色阻单元之间的段差，使得色阻层102靠近非显示区12的区域表面平整，减少PI溶液在此处的堆积。具体的，降低蓝色色阻单元对应的第一绝缘层的厚度，其降低的厚度为蓝色色阻单元与红色色阻单元之间的厚度差值，本实施例中，红色色阻的厚度与绿色色阻的厚度相同，使得蓝色色阻单元远离第一衬底101一侧的表面与红色色阻单元和绿色色阻远离第一衬底101一侧的表面平齐，在本发明的其他优选实施例中，红色色阻单元和绿色色阻单元的厚度不同，将红色色阻单元与绿色色阻单元中较厚的色组单元，减少其对应的第一绝缘层的厚度，其降低的厚度为蓝色色阻单元与绿色色阻单元或红色色阻单元之间的厚度差值，使得绿色色阻单元或红色色阻单元远离第一衬底101一侧的表面与蓝色色阻单元远离第一衬底101一侧的表面平齐，即色阻层102靠近非显示区12的区域为光滑平面，使得第一PI层105不会色阻层102边缘处堆积，并溢流至非显示区12中。
本实施例中，通过改变部分所述第一绝缘层的厚度，从而在不改变各色阻单元103厚度的情况下，使得色阻单元103远离第一衬底101的一侧处于同一平面上，为了制程方便，同时不影响显示面板的显示质量，只改变色阻层102靠近非显示区12处两个或三个色阻单元103宽度所对应的所述第一绝缘层的厚度，即所述色阻层102边侧的两个或三个色阻单元103宽度，从而保证PI不在显示面板的非显示区12堆积。
为了更好的解释本发明，本实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，步骤包括S1-S5。
S1提供第一衬底。
S2在所述第一衬底上制备薄膜晶体管结构。
S3在所述薄膜晶体管结构上制备色阻层，所述色阻层为若干色阻单元排列的矩阵，其中，设于所述矩阵边侧的所述色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面处于同一水平面。
S4在所述色阻层上制备导电层。
S5在所述色阻层上制备PI层，其中，所述PI层覆盖所述导电层。
其中所述S2步骤中，所述薄膜晶体管结构的制备步骤包括：在所述基板上制备第一金属层。在所述基板上制备第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述第一金属层。保留部分所述第一绝缘层，对其余第一绝缘层进行刻蚀，其中，保留的所述第一绝缘层对应所述色阻层边侧的所述色阻单元。在所述第一绝缘层上沉积非晶硅半导体层和源漏电极层，其中，非晶硅半导体层采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)，源漏金属层采用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)成膜。
所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，其中，所述色阻层边侧的红色色阻单元对应的所述第一绝缘层、所述色阻层边侧的绿色阻单元对应的所述第一绝缘层不进行刻蚀。
彩膜基板20与阵列基板10相对设置，其中，彩膜基板20包括第二衬底201、遮光层202、第二导电层203和第二PI层204。
第二衬底201为硬质玻璃基板，用以承接各膜层，以及阻挡外接水汽入侵显示面板。
遮光层202设于第二衬底202靠近阵列基板10的一侧表面，遮光层202包括若干遮光单元，其中，所述遮光单元设于所述非显示区和相邻所述色组单元之间的接缝处，用以遮蔽光线，防止显示面板漏光。
第二导电层203设于第二衬底201靠近阵列基板10的一侧表面，且覆盖遮光层202，第二PI层204设于第二导电层203靠近阵列基板10的一侧表面，第一PI层105和第二PI层204均为配向膜，第一PI层105上设有若干相互平行的光轴，用以透过固定角度的光线，第二PI层204上设有若干相互平行且与第一PI层105上的光轴垂直的光轴，用以通过固定角度的光线，本市实施例中，显示面板为液晶显示面板，第一导电层104和第二导电层203通电后，会在第一导电层104和第二导电层203之间形成电场，液晶能够在电场的作用下偏转，从而使原本垂直于第二PI层204上光轴角度的光线偏转后透过第一PI层204，此时，显示面板可以显示画面。
挡墙106设于非显示区12中，挡墙106与色阻层102的侧面具有一间隙，此间隙是用以容纳从色阻层102上溢流下来的PI溶液的。
框胶107设于非显示区12中，且设于挡墙106远离色阻层102的一侧，框胶设于阵列基板10和彩膜基板20之间，用以支撑阵列基板10和彩膜基板20，保证显示面板的盒厚均匀。
由于色阻层102采用刻蚀第一绝缘层厚度的方法，第一PI层105能够平缓的涂布于色阻层102上，从而使得PI溶液溢流至挡墙106与色阻层102之间的流量变低，本实施例中，挡墙106距离显示区11的距离为1600um，在本发明的其他优选实施例中，挡墙106距离显示区11的距离为160um，挡墙106距离色阻层102的侧面的距离与框胶107距离色阻层102的距离的比值为1:3，挡墙106由原本靠近框胶107的位置向显示区11方向移动，可以有效避免在显示面板使用过程中，由于外力作用对框胶造成的断裂风险，提升了显示面板的使用寿命。
本实施例的有益效果在于，本实施例的阵列基板及其制备方法，通过增加阵列基板中部分第一绝缘层的厚度，减少靠近非显示区的各色阻单元之间的高度差，便于PI溶液的涂布，避免PI在相邻色阻单元的接缝处堆积，减少PI溶液流向显示面板非显示区的体积，避免PI溶液在显示面板的非显示区处堆积造成显示不良的现象，将挡墙的位置向靠近显示区一侧移动，降低框胶断裂的风险，提升显示面板的使用寿命。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区和非显示区，所述阵列基板包括
第一衬底；
色阻层，设于所述第一衬底上方，所述色阻层为若干色阻单元排列的矩阵，所述色阻层未设置在所述非显示区内，设于所述矩阵边侧的靠近所述非显示区的两个或三个色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面处于同一水平面，设于其他区域的所有色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面不处于同一水平面；以及
PI层，设于所述色阻层远离所述第一衬底的一侧表面。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括
挡墙，设于所述第一衬底的一侧表面,设于所述色阻层的边侧；以及
框胶，设于所述挡墙远离所述色阻层一侧，设于所述第一衬底的一侧表面。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，
所述挡墙与所述显示区的距离为L1，所述框胶与所述显示区的距离为L2，L2与L1的比值为2～3。
4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，
所述挡墙与所述色阻层之间具有一间隙，所述PI层设于所述间隙中。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括
薄膜晶体管结构，包括
第一金属层，设于所述第一衬底的一侧表面；以及
第一绝缘层，设于所述第一衬底的一侧表面，且覆盖所述第一金属层；
所述色阻层设于所述薄膜晶体管结构远离所述第一衬底的一侧表面。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，
所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，其中，所述蓝色色阻单元的厚度大于所述红色色阻单元的厚度；所述蓝色色阻单元的厚度大于所述绿色色阻单元的厚度；
第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述红色色阻单元的部分的厚度，大于第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述蓝色色阻单元的部分的厚度；以及
第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述绿色色阻单元的部分的厚度，大于第一绝缘层对应所述矩阵边侧的所述蓝色色阻单元的部分的厚度。
7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括
导电层，设于所述色阻层上，所述PI层覆盖所述导电层。
8.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述阵列基板包括显示区和非显示区，所述制备方法包括如下步骤：
提供第一衬底；
在所述第一衬底上制备色阻层，所述色阻层为若干色阻单元排列的矩阵，所述色阻层未设置在所述非显示区内，其中，设于所述矩阵边侧的靠近所述非显示区的两个或三个色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面处于同一水平面，设于其他区域的所有色阻单元，其远离所述第一衬底的一侧表面不处于同一水平面；
在所述色阻层上制备导电层；
在所述色阻层上制备PI层，其中，所述PI层覆盖所述导电层。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述第一衬底的制备步骤之后，还包括如下步骤：
在所述第一衬底上制备薄膜晶体管结构，其中，所述薄膜晶体管结构的制备步骤包括：
在所述基板上制备第一金属层；
在所述基板上制备第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述第一金属层；
保留部分所述第一绝缘层，对其余第一绝缘层进行刻蚀，其中，所述色阻单元包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述色阻层边侧的红色色阻单元对应的所述第一绝缘层、所述色阻层边侧的绿色阻单元对应的所述第一绝缘层不进行刻蚀。
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