CN111584761B - 显示面板及其制作方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示面板及其制作方法和显示装置，涉及显示技术领域，以解决因阴极电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中显示亮度不均匀的问题。显示面板包括：衬底；依次设置在衬底上的第一电极层、发光功能层以及第二电极层；第一电极层包括间隔设置的多个第一电极；辅助电极，辅助电极位于第二电极层靠近衬底的一侧，且与第二电极层电连接；辅助电极包括沿远离衬底的方向依次设置且直接接触的第一导电图案和第二导电图案，其中，第一导电图案在衬底上的正投影的边缘位于第二导电图案在衬底上的正投影的边缘以内且不重合，第一导电图案和第二导电图案的材料不同。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法和显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示装置以其自发光、高发光效率等优点，成为近年来最具有潜力的新型显示装置。OLED显示装置根据出光面的不同，可以分为顶发射型显示装置和底发射型显示装置。
顶发射型显示装置可以包括阴极、有机复合层和阳极。例如，由于顶发射型显示装置中的阴极过薄，因此会造成阴极的电阻过大，从而导致显示装置中因电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中的显示亮度不均匀的问题。其中，为了改善显示装置在显示过程中显示亮度不均匀的问题，可以在显示装置中增加辅助电极，以使得该辅助电极与阴极组成并联电阻，以减小阴极的电阻，从而改善显示装置中因电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中显示亮度不均匀的问题。
其中，目前制作的辅助电极与阴极并联时，其无法很好的减小阴极的电阻，因此无法明显改善显示装置中因阴极电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中显示亮度不均匀的问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示面板和显示面板的制作方法，用以解决因阴极电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中显示亮度不均匀的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括：衬底，依次设置在衬底上的第一电极层、发光功能层以及第二电极层；第一电极层包括间隔设置的多个第一电极；辅助电极，该辅助电极位于第二电极层靠近衬底的一侧，且与第二电极层电连接；辅助电极包括沿远离衬底的方向依次设置且直接接触的第一导电图案和第二导电图案，其中，第一导电图案在衬底上的正投影的边缘位于第二导电图案在衬底上的正投影的边缘以内且不重合，第一导电图案和第二导电图案的材料不同。
在一些实施例中，发光功能层包括第一发光功能图案和第二发光功能图案，第一发光功能图案位于一个第一电极远离衬底的一侧，第二发光功能图案位于辅助电极远离衬底的一侧，第二发光功能图案覆盖第二导电图案远离衬底的表面。
在一些实施例中，第二电极层包括第二电极和保留图案，第二电极位于一个第一发光功能图案远离衬底的一侧，保留图案位于第二发光功能图案远离衬底的一侧，保留图案覆盖第二发光功能图案远离衬底的表面；第二电极和保留图案电连接。
在一些实施例中，显示面板还可以包括导电墨水，该导电墨水覆盖第二电极的边缘部的至少一部分，并且覆盖保留图案的侧面的至少一部分，使得第二电极通过导电墨水和保留图案电连接，且导电墨水和辅助电极接触。
在一些实施例中，导电墨水覆盖第一导电图案的侧面的至少一部分。
在一些实施例中，导电墨水中掺杂有磁性粒子。
在一些实施例中，辅助电极包括至少一个第一电极条和/或至少一个第二电极条，其中，第一电极条和第二电极条的延伸方向不同。
在一些实施例中，第二电极层为面状电极，该第二电极层的厚度范围为600nm～1000nm。
第二方面，本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以包括第一方面提供的任一种显示面板。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法包括：在衬底上依次制作第一电极层和像素界定层，该第一电极层包括间隔设置的多个第一电极；在形成有第一电极层和像素界定层的衬底上依次形成第一导电薄膜和第二导电薄膜，第一导电薄膜和第二导电薄膜的材料不同；在第二导电薄膜上形成光刻胶图案，该光刻胶图案在衬底上的正投影位于像素界定层在衬底上的正投影以内；采用第二刻蚀液对第二导电薄膜进行刻蚀，并采用第一刻蚀液对第一导电薄膜进行刻蚀，以形成辅助电极，该辅助电极包括沿远离衬底的方向依次设置的第一导电图案和第二导电图案，第一刻蚀液与第二导电薄膜的材料不反应；在形成有第一导电图案和第二导电图案的衬底上形成发光功能层以及第二电极层，辅助电极与第二电极层电连接。
在一些实施例中，第一刻蚀液与第一导电薄膜的反应速率大于第二刻蚀液与第二导电薄膜的反应速率。
在一些实施例中，形成发光功能层包括：蒸镀发光功能层，该发光功能层包括第一发光功能图案和第二发光功能图案，第一发光功能图案位于一个第一电极远离衬底的一侧，第二发光功能图案位于辅助电极远离衬底的一侧，第二发光功能图案在衬底上的正投影与辅助电极在衬底上的正投影重合。
在一些实施例中，形成第二电极层包括：通过溅射工艺形成第二电极层，该第二电极层包括第二电极和保留图案，第二电极位于一个第一发光功能图案远离衬底的一侧，保留图案位于第二发光功能图案远离衬底的一侧，保留图案在衬底上的正投影与辅助电极在衬底上的正投影重合；在第二电极和保留图案断开的位置处设置导电墨水，以使得第二电极和保留图案电连接。
在一些实施例中，在辅助电极包括至少一个第一电极条和/或至少一个第二电极条，其中，第一电极条和第二电极条的延伸方向不同的情况下，显示面板的制作方法还包括：将衬底置于基板承载台的承载面上，该基板承载台上设置有第一磁铁组和/或第二磁铁组，第一磁铁组包括：相互平行的第一电磁铁和第二电磁铁，第二磁铁组包括：相互平行的第三电磁铁和第四电磁铁，第一磁铁组和第二磁铁组位于承载面远离衬底的一侧；沿第一电极条的宽度方向，第一电磁铁位于至少一个第一电极条的第一侧，第二电磁铁位于至少一个第一电极条的第二侧；沿第二电极条的宽度方向，第三电磁铁位于至少一个第二电极条的第一侧，第四电磁铁位于至少一个第二电极条的第二侧；在第二电极和保留图案断开的位置处设置导电墨水包括：向每个第一电极条的第一侧打印导电墨水，并开启第二电磁铁，在关闭第二电磁铁后，向每个第一电极条的第二侧打印导电墨水，并开启第一电磁铁；和/或，向每个第二电极条的第一侧打印导电墨水，并开启第三电磁铁，在关闭第三电磁铁后，向每个第二电极条的第二侧打印导电墨水，并开启第四电磁铁。
本发明实施例提供的显示面板及其制作方法和显示装置，在将辅助电极与阴极电连接以构成并联电阻时，通过将辅助电极设置成包括沿远离衬底的方向依次设置且直接接触的第一导电图案和第二导电图案，由于第一导电图案和第二导电图案是相当于并联在一起的，使得辅助电极的电阻较小，因此本发明实施例提供的辅助电极相较于相关技术而言，可以极大的减小阴极的电阻，从而可以明显改善显示过程中显示亮度不均匀的问题。另外，第一导电图案在衬底上的正投影的边缘位于第二导电图案在衬底上的正投影的边缘以内且不重合，即辅助电极的纵截面形成类似T形结构，使得在形成辅助电极的衬底上蒸镀其他膜层(例如，发光功能层)时，其他膜层会在辅助电极的边缘位置发生断裂，以形成相应的图案，而不必使用复杂的光刻工艺。此外，第一导电图案和第二导电图案的材料不同，这样就可以选用与两种材料反应速率不同的刻蚀液，例如该刻蚀液与第二导电图案的材料的反应速率小于与第一导电图案的材料的反应速率，从而能够形成纵截面为类似T形结构的辅助电极。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一些实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2为本发明一些实施例提供的一种辅助电极的俯视图；
图3为本发明一些实施例提供的一种辅助电极的结构示意图；
图4为本发明一些实施例提供的另一种辅助电极的结构示意图；
图5为本发明一些实施例提供的另一种辅助电极的结构示意图；
图6为本发明一些实施例提供的另一种辅助电极的结构示意图；
图7为本发明一些实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种第一磁铁组和第二磁铁组的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
为了改善显示装置在显示过程中显示亮度不均匀的问题，可以在显示装置中增加辅助电极，且该辅助电极与显示装置中的阴极连接，以使得该辅助电极与阴极组成并联电阻，以减小阴极的电阻，从而改善显示装置中因电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中显示亮度不均匀的问题。
然而，相关技术中，由于制作的辅助电极通常是单层结构，因此，当单层辅助电极与阴极并联时，相较于双层辅助电极与阴极并联而言，其无法很好的减小阴极的电阻，进而无法明显改善显示过程中显示亮度不均匀的问题。
为解决这一问题，本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括显示面板。示例的，显示装置还可以包含与显示面板邦定的FPC等部件。该显示装置可以是OLED(Organic Light Emitting Diode，有机电致发光)显示装置、QLED(Quantum Dot LightEmitting Diodes)显示装置等自发光的显示装置，也可以是显示器、电视、数码相机、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或者部件。
如图1所示，上述的显示面板100可以包括：衬底110，依次设置在衬底110上的第一电极层120、发光功能层130以及第二电极层140，第一电极层120可以包括间隔设置的多个第一电极121。
在一些实施例中，上述第一电极层120可以是阳极层，即第一电极可以是阳极，第二电极层140可以是阴极层。在另一些实施例中，第一电极层120可以是阴极层，即第一电极可以是阴极，第二电极层140可以是阳极层。
其中，在第一电极层是阳极层，第二电极层是阴极层的情况下，在电场的作用下，由多个第一电极121产生的空穴和第二电极层140产生的电子发生移动，从而移动到发光功能层130。当空穴和电子在发光功能层130相遇时，产生能量激子，从而激发发光分子最终产生可见光。
示例的，在一些实施例中，发光功能层130可以仅包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层130除包括发光层外，还可以包括电子传输层、电子注入层、空穴传输层以及空穴注入层中的一层或多层。例如，该发光功能层130可以包括依次设置的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层以及空穴注入层。其中，在显示装置发光的过程中，可以包括以下五个过程。
载流子注入：在电场的作用下，电子和空穴分别从第二电极140和第一电极120向夹在二者之间的发光功能层130注入；载流子传输：注入的电子和空穴分别从电子传输层和空穴传输层向发光层迁移；载流子复合：电子和空穴注入到发光层后，可以由库伦力的作用束缚在一起，从而形成电子空穴对，即激子；激子迁移：由于电子和空穴传输的不平衡，激子的主要形成区域通常不会覆盖整个发光层，因而会由于浓度梯度产生扩散迁移；激子辐射退激发出光子：激子辐射跃迁，发出光子，释放能量，从而进行发光显示。
在一些实施例中，上述显示面板100还可以包括：辅助电极150，该辅助电极150可以位于第二电极层140靠近衬底110的一侧，且与第二电极层140电连接。将辅助电极150与第二电极层140电连接，可以使得辅助电极150与第二电极层140构成并联电阻，以减小第二电极层140的电阻，从而可以明显改善显示装置中因电阻过大而造成的电压降明显，显示过程中显示亮度不均匀的问题。
如图1所示，上文的辅助电极150可以包括沿远离衬底110的方向依次设置且直接接触的第一导电图案151和第二导电图案152，其中，该第一导电图案151在衬底110上的正投影的边缘位于第二导电图案152在衬底110上的正投影的边缘以内且不重合，第一导电图案151和第二导电图案152的材料不同。作为示例的，第一导电图案151的上表面(远离衬底110的表面)与侧面垂直，当然第一导电图案151上表面与侧面也可以不垂直，例如，上表面与侧面之间呈钝角。同样的，第二导电图案151的上表面与侧面可以垂直，也可以成钝角。
其中，辅助电极150包括沿远离衬底110的方向依次设置且直接接触的第一导电图案151和第二导电图案152是指：该辅助电极150由两部分(即第一导电图案151和第二导电图案152)构成，且该第二导电图案152设置在第一导电图案151的远离衬底110的一侧(如图1所示，第二导电图案152设置在第一导电图案151的上方)，第一导电图案151和第二导电图案152为相邻层的图案，即如图1所示，第一导电图案151的上表面和第二导电图案152的下表面接触。
在各个实施例中，一图案在衬底110上的正投影是指沿衬底110的厚度方向，该图案在衬底110上的投影。示例的，第一导电图案151在衬底110上的正投影是指沿衬底110的厚度方向，第一导电图案151在衬底110上的投影；相应的，第二导电图案152在衬底110上的正投影是指沿衬底110的厚度方向，第二导电图案152在衬底110上的投影。
第一导电图案151在衬底110上的正投影的边缘位于第二导电图案152在衬底110上的正投影的边缘以内且不重合是指：第一导电图案151在衬底110上的正投影小于第二导电图案152在衬底110上的正投影，且二者在衬底110上的正投影的边缘没有重合部分。具体的，第一导电图案151的上表面位于第二导电图案152的下表面在衬底110上的正投影的边缘以内且不重合。示例的，具体的，第一导电图案151的上表面位于第二导电图案152的上表面在衬底110上的正投影的边缘以内且不重合。
示例的，如图2所示，从俯视方向看，第一导电图案151小于第二导电图案152，且二者的边缘不重合。这样，如图1所示，辅助电极150的纵截面(平行于衬底的厚度方向的一截面)形成具有两层结构(即第一导电图案151和第二导电图案152)的T形结构。并且由于该辅助电极150具有两层结构，因此可以极大的减小第二电极层的电阻，从而相较于相关技术而言，可以明显的改善显示装置在显示过程中的显示亮度不均匀的问题。此外，由于辅助电极150是T形结构，因此，可以使得发光功能层130在T形结构处断开，以避免整层发光的现象。
示例的，第一导电图案151的材料可以是金属氧化物材料，例如ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等，第二导电图案152的材料可以是金属，例如Al(铝)、Mo(钼)等金属。这样，在后续工艺中采用刻蚀液进行刻蚀的过程中，可以使得辅助电极形成一个具有两层的T形结构。
在一些实施例中，显示面板100还可以包括：像素电路层，像素电路层包括：多个像素驱动电路，一个像素驱动电路位于一亚像素中，用于给该亚像素中的第一电极121供电。示例的，多个像素驱动电路呈阵列分布。像素电路层还可以包括多条信号线，与像素驱动电路连接的多条信号线，例如，多条信号线包括：多条栅线、多条数据线、多条电源线等，其中，栅线和数据线交叉设置。
在一些实施例中，上文的辅助电极150可以包括至少一个第一电极条153和/或至少一个第二电极条154，其中，第一电极条153和第二电极条154的延伸方向不同。这里不对第一电极条和第二电极条的延伸方向做限制，示例的，如图3～图6所示，显示面板中可以包括阵列分布的多个亚像素(M行*N列亚像素，M≥2，N≥2)，其中，一个第一电极条153的延伸方向可以是沿行方向延伸的，位于相邻两行亚像素之间；一个第二电极条154的延伸方向可以是沿列方向延伸的，位于相邻两列亚像素之间。这里的行方向可以是栅线延伸的方向，这里的列方向可以是数据线延伸的方向。本领域技术人员应该理解，上述的第一电极条153和第二电极条154均包含两层导电图案，纵截面为T形结构。
其中，在辅助电极150只包括至少一个第一电极条153的情况下，在一些实施例中，如图3所示，可以在每相邻两行亚像素间均设置一个第一电极条153，即每间隔一行亚像素设置有一个第一电极条153。在另一些实施例中，可以每间隔至少两行亚像素设置有一个第一电极条153。例如，如图4所示，每间隔两行亚像素设置有一个第一电极条153，即每相邻两个第一电极条153之间具有两行亚像素。当然，相邻两个第一电极条153之间可以有大于2行的亚像素，例如3行亚像素等。在另一些实施例中，每相邻两个第一电极条153之间亚像素的行数可以不全部相同。
在一些实施例中，在辅助电极150只包括至少一个第二电极条154的情况下，如图5所示，可以在每相邻两列亚像素间均设置一个第二电极条154。在另一些实施例中，可以每间隔至少两列亚像素设置有一个第二电极条154。对于此种情况的具体描述，可参见上述对于辅助电极150中只包括至少一个第一电极条153的具体描述，此处不再赘述。
在一些实施例中，在辅助电极150可以包括至少一个第一电极条153和至少一个第二电极条154情况下，如图6所示，辅助电极150可以包括网格状的一体化图案。
在另外一些实施例中，上文的辅助电极150还可以包括间隔分布的多个点状电极，例如，点状电极的横截面(垂直于衬底的厚度方向的截面)可以是圆形、正方形、长宽比小于或等于4的矩形等。每个点状电极可以是双层导电图案构成，纵截面为T形结构。
本领域技术人员应该理解，上述的显示面板100还可以包括像素界定层180，像素界定层上具有多个开口部180a，其中，开口部180a靠近衬底110一侧的开口为下开口A1，远离衬底110一侧的开口为上开口A2。开口部180a将第一电极121的至少一部分露出。
在一些实施例中，如图1所示，发光功能层130可以包括至少一个(一个或多个)第一发光功能图案131和至少一个第二发光功能图案132，每个第一发光功能图案131位于一个第一电极121远离衬底110的一侧(图1中第一电极121的上方)，第二发光功能图案132位于辅助电极150远离衬底110的一侧(图1中辅助电极150的上方)，第二发光功能图案132覆盖第二导电图案152远离衬底110的表面(图1中第二导电图案152的上表面)。
本领域技术人员应该理解，在制作辅助电极后，再通过蒸镀工艺制作发光功能层时，由于辅助电极T形结构的设置，因此会造成发光功能层130在T形结构的边缘位置产生断层现象，形成相互分离的第一发光功能图案131和第二发光功能图案132。其中，辅助电极150在衬底110上的正投影位于第二发光功能图案132在衬底110上的正投影以内，具体的，第二发光功能图案132在衬底110上的正投影和辅助电极150在衬底110上的正投影重合或近似重合。
在一些实施例中，第二发光功能图案132覆盖第二导电图案152远离衬底110的表面可以是第二发光功能图案132在衬底110上的正投影与第二导电图案152在衬底110上的正投影重合或者近似重合。示例的，第二发光功能图案132的下表面在衬底110上的正投影的边缘与辅助电极150的上表面在衬底110上的正投影的边缘之间没有间隙，二者完全重合。具体的，第二发光功能图案132的下表面在衬底110上的正投影的边缘与第二导电图案152的上表面在衬底110上的正投影的边缘之间没有间隙，二者完全重叠。然而，在以辅助电极150作为掩膜，蒸镀用于制备发光功能层的材料，其中一部分材料落在辅助电极150远离衬底110的表面上形成第二发光功能图案132的过程中，可能有少量材料会落在第二导电图案152的侧面上，而使得第二发光功能图案132不仅覆盖辅助电极150远离衬底110的表面，还覆盖第二导电图案152的侧面中的至少一部分，此时，认为第二发光功能图案132在衬底110上的正投影与第二导电图案152在衬底110上的正投影近似重合。这样，在后续采用蒸镀工艺制作发光功能层的过程中，可以避免通过另外设置一掩膜板以形成第二发光功能图案132，从而可以简化制作工艺。
将辅助电极设置为T形结构的目的是为了使得显示装置中的发光功能层可以在T形结构的边缘位置处断开，并且基于此目的，本领域技术人员能够理解，可以将发光功能层130的厚度设置为小于第一导电图案151的厚度。这里不对显示装置中各个膜层的厚度进行限制，只需满足发光功能层130的厚度小于第一导电图案151的厚度即可。例如，发光功能层130的厚度范围可以是300nm～400nm，例如可以是300nm、350nm、380nm、400nm等。第一导电图案151的厚度范围可以是400nm～550nm，例如可以是400nm、500nm、550nm等。第二导电图案152的厚度范围可以是100nm～150nm，例如可以是125nm、130nm等。第二电极层140的厚度范围可以是200nm～400nm，例如可以是250nm、300nm、350nm等。
在一些实施例中，如图1所示，第二电极层140可以包括至少一个(一个或多个)第二电极141和至少一个保留图案142，每个第二电极141位于一个第一发光功能图案131远离衬底110的一侧(图1中第一发光功能图案131的上方)，保留图案142位于第二发光功能图案132远离衬底110的一侧(图1中第二发光功能图案132的上方)，保留图案142覆盖第二发光功能图案132远离衬底110的表面；第二电极141和保留图案142电连接。
在一些实施例中，保留图案142覆盖第二发光功能图案132远离衬底110的表面可以是保留图案142在衬底110上的正投影与第二发光功能图案132在衬底110上的正投影重合或者近似重合。示例的，保留图案142的下表面在衬底110上的正投影的边缘与辅助电极150的上表面在衬底110上的正投影的边缘之间没有间隙，二者完全重叠，。具体的，保留图案142的下表面在衬底110上的正投影的边缘与第二发光功能图案132的上表面在衬底110上的正投影的边缘之间没有间隙，二者完全重叠。然而，在采用溅射工艺制作第二电极层的过程中，可能有少量材料会落在第二发光功能图案132的侧面上，而使得保留图案142不仅覆盖第二发光功能图案132远离衬底110的表面，还覆盖第二发光功能图案132的侧面中的至少一部分，此时，可以认为保留图案142在衬底110上的正投影与第二发光功能图案132在衬底110上的正投影近似重合。这样，在后续制作第二电极层的过程中，可以避免通过另外设置一掩膜板以形成保留图案142，从而可以简化制作工艺。
由于第二电极层140产生了断层现象，而该断层现象会影响第二电极141和保留图案142之间无法连接。因此，在一些实施例中，如图1所示，可以将导电墨水160覆盖第二电极141的边缘部的至少一部分，并且覆盖保留图案142的侧面的至少一部分，以使第二电极141可以通过导电墨水160和保留图案142电连接。
其中，如图1所示，第二电极141的边缘部是指在第二电极141中对应于除下开口A1以外区域的部分。
如图1所示，第二电极141在衬底110上的正投影与像素界定层180的上表面(即像素界定层180远离衬底110的表面)在衬底110上的正投影具有重叠部分，意味着，第二电极141不仅将开口部180a的表面覆盖，还延伸到像素界定层180的上表面上。本实施例中将第二电极141中延伸到像素界定层180的上表面上的部分称为延伸部。在一些实施例中，导电墨水160覆盖第二电极141的边缘部的至少一部分，可以是导电墨水160仅覆盖在第二电极141的延伸部的全部或部分上。这样，可以通过填充少量的导电墨水160以连接第二电极141和保留图案142，从而可以节省成本；此外，可以防止导电墨水160流到开口部180a的底部而影响显示。在另一些实施例中，导电墨水160覆盖第二电极141的边缘部的至少一部分，也可以是导电墨水覆盖第二电极141的整个边缘部。这样，可以通过填充大量的导电墨水160，以更好的连接第二电极141和保留图案142。此外，可以通过设置的导电墨水，以避免在对显示面板上设置封装层170时，由于第二电极层出现断层现象而产生的裂缝所带来的影响。
在设置导电墨水160以电连接第二电极141和保留图案142的情况下，第二电极层140的厚度可以小一些，例如，第二电极层的厚度可以小于300nm且大于等于100nm，示例性的，可以是200nm、100nm等。并且由于第二电极层的厚度与其透光率呈反比，即第二电极层140越厚，其透光率越低，因此，将第二电极层140的厚度设置的越小，其透光率越高。
此外，为使得第二电极层与辅助电极电连接，在本实施例中，如图1所示，导电墨水160与辅助电极150接触。作为示例的，导电墨水160可以流到第二导电图案152的下方，从而覆盖第一导电图案151的侧面的至少一部分(可以第一导电图案151的侧面的一部分或全部)。当然，导电墨水160还可以覆盖第二导电图案152的侧面的至少一部分。
在另一些实施例中，当发光功能层130的厚度与第二电极层140的厚度之和大于或者等于第一导电图案151和第二导电图案152的厚度之和时，此时由于第二电极层140的阻挡作用，理论上导电墨水160无法流入第一导电图案151的侧面，但是实际工艺中，第二电极141和第二导电图案152之间一般会存在缝隙，在此情况下，如图7所示，导电墨水160可以通过该缝隙渗透至第二导电图案152的下方，从而覆盖第一导电图案151的侧面的至少一部分。如此，可以使得导电墨水对第一导电图案的侧面位置处进行填充，以避免产生裂缝现象。
在一些实施例中，在不设置导电墨水160的情况下，可以通过设置一较厚的第二电极层140，以与保留图案142进行电连接。例如，该第二电极层140可以为面状电极，且其厚度范围可以是600nm～1000nm。例如，可以是700nm、800nm、900nm等。这样，可以避免由于辅助电极150的设置，而导致的第二电极层140产生的断层现象。
在一些实施例中，导电墨水160中可以掺杂有磁性粒子。例如，该磁性粒子可以是铁、镍等磁性粒子。这样，在后续的制作工艺中，可以使得导电墨水160在磁铁的作用下流动。
可以理解的是，导电墨水160是可以导电的墨水。示例性的，导电墨水中可以含有能够导电的金属，例如，该金属可以是银、铜、铝等。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，如图8所示，该显示面板的制作方法可以包括：
S101、在衬底上依次制作第一电极层和像素界定层。
其中，上述第一电极层可以包括间隔设置的多个第一电极。
S102、在形成有第一电极层和像素界定层的衬底上依次形成第一导电薄膜和第二导电薄膜。
其中，上述第一导电薄膜和第二导电薄膜的材料不同。
S103、在第二导电薄膜上形成光刻胶图案。
其中，上述光刻胶图案在衬底上正投影位于像素界定层的上表面在衬底上的正投影以内。
S104、采用第二刻蚀液对第二导电薄膜进行刻蚀，并采用第一刻蚀液第一导电薄膜进行刻蚀，以形成辅助电极。
其中，上述辅助电极可以包括沿远离衬底的方向依次设置的第一导电图案和第二导电图案。
第一刻蚀液与第二导电薄膜的材料不反应(不发生化学反应)，这样在形成第二导电图案后，再刻蚀第一导电薄膜时不会损伤第二导电图案。此外，第二刻蚀液与第一导电薄膜的材料也可以不反应，这样就可以避免第二刻蚀液对第一导电薄膜刻蚀过程的干扰。
在一些实施例中，第一刻蚀液与第一导电薄膜的反应速率大于第二刻蚀液与第二导电薄膜的反应速率。这样，分别对第一导电薄膜和第二导电薄膜刻蚀相同的时间，就可以形成纵截面为T形的结构。
其中，在一些实施例中，第二导电薄膜的材料可以是ITO等金属氧化物，第一导电薄膜的材料可以是金属材料。此时，第二刻蚀液可以为低浓度酸混合液(包括至少两种酸的混合液)，即至少两种酸的质量百分比之和小于60％。示例的，第二刻蚀液可以是稀硝酸和稀硫酸的混合液，其中，稀硝酸和稀硫酸的质量分配比例例如可以是2:8；或者，第二刻蚀液可以为稀硝酸和稀盐酸的混合液，其中，稀硝酸和稀盐酸的质量分配比例例如可以是3:7。其中，硝酸含量在6mol/L以下(质量分数31.68％以下)的硝酸溶液为稀硝酸；硫酸的质量分数小于或等于70％的硫酸水溶液为稀硫酸，盐酸的质量分数低于20％的盐酸溶液称为稀盐酸。第一刻蚀液可以为高浓度酸混合液(包括至少两种酸的混合液)，即至少两种酸的质量百分比之和大于60％。示例的，第一刻蚀液可以是浓硝酸、纯醋酸和纯磷酸的混合液，其中，浓硝酸、纯醋酸和纯磷酸的质量分配比例例如可以是2:4:4。其中，硝酸含量在8mol/L以上(质量分数42.24％以上)的硝酸溶液为浓硝酸。在采用第二刻蚀液对第二导电薄膜刻蚀后，洗干净，再换第一刻蚀液对第一导电薄膜进行刻蚀。
以下以采用第二刻蚀液，刻蚀第二导电薄膜(ITO薄膜)，并且以化学方程式的方式说明该第二刻蚀液是如何刻蚀ITO薄膜的。
In2O3+6HCL＝2InCl3+3H2O
2SnO2+8HCl＝2SnCl4+4H2O
In2O3+6HNO3＝2In(NO3)3+3H2O
2SnO2+8HNO3＝2Sn(NO3)4+4H2O
以下以采用第一刻蚀液，刻蚀第一导电薄膜(金属铝)为例，以化学方程式的方式说明该第一刻蚀液是如何刻蚀金属铝的。具体的，在第一刻蚀液刻蚀金属铝时，可以包括以下三个阶段。
阶段一：生成游离氧原子阶段：混合液中的硝酸通过分解反应，以生成游离的氧原子。
在初始反应阶段时，由于此时硝酸的浓度较高，因此硝酸中的2个硝酸分子会分解成2个二氧化氮(NO2)分子、1个氧(O)原子和一个水(H2O)分子。具体化学方程式如下所示：
2HNO3＝2NO2+O+H2O在不断反应的过程中，由于此时硝酸浓度会逐渐降低，因此硝酸中的2个硝酸分子会分解成2个一氧化氮(NO)分子、3个氧(O)原子和一个水(H2O)分子。具体化学方程式如下所示：
2HNO3＝2NO+3O+H2O
需要说明的是，在硝酸的浓度降低到无法再继续分解的时候，此时可以通过补液的方式，以提高硝酸的浓度。
阶段二：生成中间体阶段：混合液中的纯醋酸、通过阶段一(生成游离氧原子阶段)产生的氧原子、和被刻蚀物金属铝中的铝原子进行反应，以生成带有负电荷的铝酸和氧化铝。
在初始反应阶段时，由于此时纯醋酸中存在大量的氢离子(H+)，因此此时纯醋酸中的氢离子(H+)可以与铝原子和上一阶段产生的氧原子进行反应，以生成带有负电荷的铝酸。具体化学方程式如下所示：
Al+H++2O＝HAlO2 -
需要说明的是，当混合液中含有纯醋酸时，由于纯醋酸中含有的氢离子(H+)具有缓冲效应，因此当纯醋酸中的氢离子(H+)与金属铝中的铝原子进行反应时，可以对金属铝的表面起活性剂的作用，从而加快铝原子与氢离子(H+)的反应。
在反应不断进行的过程中，纯醋酸中存在的氢离子(H+)会不断与铝原子和氧原子进行反应，因此氢离子(H+)会不断减少，当纯醋酸中没有氢离子存在时，此时金属铝中的铝原子会与阶段一产生的氧原子进行反应，以形成氧化铝。具体化学方程式如下所示：
2Al+3O＝Al2O3
需要说明的是，产生的Al2O3会堆积在金属铝的表面以形成隔离层，以阻止铝原子和氧原子相接触，此时铝原子和氧原子将不再进行反应，从而进入下一阶段反应。
阶段三、中间体和酸反应的阶段：由阶段二产生的带有负电荷的铝酸同时与硝酸和纯磷酸进行反应，以生成硝酸铝、磷酸铝和水。
带有负电荷的铝酸与硝酸反应生成硝酸铝和水。
具体化学方程式如下所示：
HAlO2 -+3HNO3＝Al(NO)3+2H2O
带有负电荷的铝酸与磷酸反应生成磷酸铝和水。
具体化学方程式如下所示：
HAlO2 -+H3PO4＝AlPO4+2H2O
S105、在形成有第一导电图案和第二导电图案的衬底上形成发光功能层。
具体的，可以通过蒸镀工艺以形成发光功能层。
其中，发光功能层可以包括第一发光功能图案和第二发光功能图案，每个第一发光功能图案位于一个第一电极远离衬底的一侧，第二发光功能图案位于辅助电极远离衬底的一侧，第二发光功能图案在衬底上的正投影与辅助电极在衬底上的正投影重合。
S106、在形成有发光功能层的衬底上形成第二电极层，辅助电极与第二电极层电连接。
此步骤可以包括：
首先，通过溅射工艺形成第二电极层。
其中，第二电极层可以包括第二电极和保留图案，每个第二电极位于一个第一发光功能图案远离衬底的一侧，保留图案位于第二发光功能图案远离衬底的一侧，保留图案在衬底上的正投影与辅助电极在衬底上的正投影重合。
其次，在第二电极和保留图案断开的位置处设置导电墨水，以使得第二电极和保留图案电连接。
在一些实施例中，在辅助电极包括至少一个第一电极条和/或至少一个第二电极条，其中，第一电极条和第二电极条的延伸方向不同的情况下，本发明实施例提供的显示面板的制作方法还可以包括：将衬底置于基板承载台的承载面上。
其中，基板承载台上设置有第一磁铁组和/或第二磁铁组，该第一磁铁组可以包括：相互平行的第一电磁铁和第二电磁铁；第二磁铁组可以包括：相互平行的第三电磁铁和第四电磁铁，第一磁铁组和第二磁铁组位于承载面远离衬底的一侧(位于承载面的下方)；沿第一电极条的宽度方向，第一电磁铁位于至少一个第一电极条的第一侧，第二电磁铁位于至少一个第一电极条的第二侧；沿第二电极的宽度方向，第三电磁铁位于至少一个第二电极条的第一侧，第四电磁铁位于至少一个第二电极条的第二侧。
示例的，如图9所示，从俯视方向看，基板承载台1上可以设置有相互平行的第一电磁铁210和第二电磁铁220，相互平行的第三电磁铁230和第四电磁铁240，至少一个第一电极条153和至少一个第二电极条154。其中，沿第一电极条153的宽度方向，第一电磁铁210位于至少一个第一电极条153的第一侧(如图1中的第一电极条153的上侧)，第二电磁铁220位于至少一端第一电极条153第二侧(如图1中的第一电极条153的下侧)；沿第二电极条154的宽度方向，第三电磁铁230位于至少一个第二电极条154的第一侧(如图1中的第二电极条154的左侧)，第四电磁铁240位于至少一个第二电极条154的第二侧(如图1中的第二电极条154的右侧)。
在一些实施例中，基板承载台上1可以只设置有第一电磁铁组，不设置第二电磁铁组。在另一些实施例中，基板承载台上1可以只设置有第二电磁铁组，不设置第一电磁铁组。在又一些实施例中，基板承载台1上可以设置有第一电磁铁组和第二电磁铁组。
在一些实施例中，上述在第二电极和保留图案断开的位置处设置导电墨水，以使得第二电极和保留图案电连接具体可以通过下述的方案A和/或方案B实现。
方案A、向每个第一电极条153的第一侧打印导电墨水，并开启第二电磁铁，这样，可以使得导电墨水向第一电极条153的第二侧流动，在关闭第二电磁铁后，向每个第一电极条153的第二侧打印导电墨水，并开启第一电磁铁，这样，可以使得导电墨水向第一电极条153的第一侧流动。
方案B、向每个第二电极条154的第一侧打印导电墨水，并开启第三电磁铁，这样，可以使得导电墨水向第二电极条154的第二侧流动，在关闭第三电磁铁后，向每个第二电极条154的第二侧打印导电墨水，并开启第四电磁铁，这样，可以使得导电墨水向第二电极条154的第一侧流动。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底上依次制作第一电极层和像素界定层，所述第一电极层包括间隔设置的多个第一电极；
在形成有所述第一电极层和所述像素界定层的所述衬底上依次形成第一导电薄膜和第二导电薄膜，所述第一导电薄膜和所述第二导电薄膜的材料不同；
在所述第二导电薄膜上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案在所述衬底上的正投影位于所述像素界定层在所述衬底上的正投影以内；
采用第二刻蚀液对所述第二导电薄膜进行刻蚀，并采用第一刻蚀液对所述第一导电薄膜进行刻蚀，以形成辅助电极，所述辅助电极包括沿远离所述衬底的方向依次设置的第一导电图案和第二导电图案，所述第一刻蚀液与所述第二导电薄膜的材料不反应；
在形成有所述第一导电图案和所述第二导电图案的衬底上形成发光功能层以及第二电极层，所述辅助电极与所述第二电极层电连接；其中，
所述第二电极层包括第二电极和保留图案；在所述第二电极和所述保留图案断开的位置处设置导电墨水，以使得所述第二电极和所述保留图案电连接；所述导电墨水中掺杂有磁性粒子；所述辅助电极包括至少一个第一电极条和/或至少一个第二电极条；所述第一电极条和所述第二电极条的延伸方向不同；
所述显示面板的制作方法还包括：
将所述衬底置于基板承载台的承载面上，所述基板承载台上设置有第一磁铁组和/或第二磁铁组，所述第一磁铁组包括：相互平行的第一电磁铁和第二电磁铁，所述第二磁铁组包括：相互平行的第三电磁铁和第四电磁铁，所述第一磁铁组和第二磁铁组位于所述承载面远离所述衬底的一侧；沿所述第一电极条的宽度方向，所述第一电磁铁位于所述至少一个第一电极条的第一侧，所述第二电磁铁位于所述至少一个第一电极条的第二侧；沿所述第二电极条的宽度方向，所述第三电磁铁位于所述至少一个第二电极条的第一侧，所述第四电磁铁位于所述至少一个第二电极条的第二侧；
所述在所述第二电极和所述保留图案断开的位置处设置导电墨水包括：向每个第一电极条的第一侧打印导电墨水，并开启所述第二电磁铁，在关闭所述第二电磁铁后，向每个第一电极条的第二侧打印导电墨水，并开启所述第一电磁铁；和/或，向每个第二电极条的第一侧打印导电墨水，并开启所述第三电磁铁，在关闭所述第三电磁铁后，向每个第二电极条的第二侧打印导电墨水，并开启所述第四电磁铁。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，
所述第一刻蚀液与所述第一导电薄膜的反应速率大于所述第二刻蚀液与所述第二导电薄膜的反应速率。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，形成所述发光功能层包括：
蒸镀发光功能层，所述发光功能层包括第一发光功能图案和第二发光功能图案，所述第一发光功能图案位于一个第一电极远离所述衬底的一侧，所述第二发光功能图案位于所述辅助电极远离所述衬底的一侧，所述第二发光功能图案在所述衬底上的正投影与所述辅助电极在所述衬底上的正投影重合。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，形成所述第二电极层包括：
通过溅射工艺形成第二电极层，所述第二电极位于一个第一发光功能图案远离所述衬底的一侧，所述保留图案位于所述第二发光功能图案远离所述衬底的一侧，所述保留图案在所述衬底上的正投影与所述辅助电极在所述衬底上的正投影重合。
5.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板通过权利要求1所述显示面板的制作方法制作得到，所述显示面板包括：
衬底；
依次设置在所述衬底上的第一电极层、发光功能层以及第二电极层；所述第一电极层包括间隔设置的多个第一电极；所述第二电极层包括第二电极和保留图案；
辅助电极，所述辅助电极位于所述第二电极层靠近所述衬底的一侧，且与所述第二电极层电连接；所述辅助电极包括沿远离所述衬底的方向依次设置且直接接触的第一导电图案和第二导电图案，其中，所述第一导电图案在所述衬底上的正投影的边缘位于所述第二导电图案在所述衬底上的正投影的边缘以内且不重合，所述第一导电图案和所述第二导电图案的材料不同；
导电墨水，所述导电墨水覆盖所述第二电极的边缘部的至少一部分，并且覆盖所述保留图案的侧面的至少一部分，使得所述第二电极通过所述导电墨水和所述保留图案电连接，且所述导电墨水与所述辅助电极接触。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述发光功能层包括第一发光功能图案和第二发光功能图案，所述第一发光功能图案位于一个第一电极远离所述衬底的一侧，所述第二发光功能图案位于所述辅助电极远离所述衬底的一侧，所述第二发光功能图案覆盖所述第二导电图案远离所述衬底的表面。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二电极位于一个第一发光功能图案远离所述衬底的一侧，所述保留图案位于所述第二发光功能图案远离所述衬底的一侧，所述保留图案覆盖所述第二发光功能图案远离所述衬底的表面；所述第二电极和所述保留图案电连接。
8.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述导电墨水覆盖所述第一导电图案的侧面的至少一部分。
9.根据权利要求5或6所述的显示面板，其特征在于，所述第二电极层为面状电极，所述第二电极层的厚度范围为600nm~1000nm。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求5~9任一项所述的显示面板。
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