CN111210497B - 模型渲染方法、装置、计算机可读介质及电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种模型渲染方法、模型渲染装置、计算机可读介质及电子设备；涉及图像处理技术领域。该模型渲染方法包括：获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图；对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量；通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染。本公开中的模型渲染方法能够在一定程度上克服场景渲染时的漏光问题，进而提升渲染效果。

Description

模型渲染方法、装置、计算机可读介质及电子设备

技术领域

本公开涉及文本处理技术领域，具体而言，涉及一种模型渲染方法、模型渲染装置、计算机可读介质及电子设备。

背景技术

大部分的应用都会使用PBR(Physically Based Rendering，基于物理的渲染，简称PBR)技术，PBR技术是基于微表面模型的一种渲染技术。在PBR渲染中，IBL(Image BasedLighting，基于图像的光照)是对环境光照的近似模拟，能够大幅提升物体的光照表现。

由于IBL光照影响了反射光的光照效果，因此在渲染时常使用一张预处理过的环境光遮蔽贴图来表示环境光，来计算最终的反射光光照。IBL光照属于间接镜面光照，金属物体的漫反射几乎为0，基本全部为IBL光照，因此缺乏镜面反射的遮蔽信息会导致视觉上产生“漏光”现象，反射越强的材质，这种漏光现象越严重，导致画面的真实感下降。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种模型渲染方法、模型渲染装置、计算机可读介质及电子设备，进而在一定程度上克服渲染光照不够真实的问题，进而提升光照渲染的效果。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开的第一方面，提供一种模型渲染方法，包括：

获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图；

对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量；

通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染。

在本公开的一种示例性实施例中，所述对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量，包括：

对所述环境光遮蔽贴图进行采样，获取向量大小；

对所述环境法线贴图进行采样，获取向量方向，以基于所述向量大小及所述向量方向确定所述法线向量。

在本公开的一种示例性实施例中，所述通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，包括：

通过所述法线向量确定所述待渲染模型的反射光信息；

通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息。

在本公开的一种示例性实施例中，所述通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息，包括：

获取所述待渲染模型对应的物体属性；

利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体；

基于所述法线向量确定法线椎体，计算所述反射光椎体与所述法线椎体的相交度，将所述相交度作为所述间接光遮蔽信息。

在本公开的一种示例性实施例中，所述利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体，包括：

从所述物体属性中提取出粗糙度，将所述粗糙度作为椎体角度；

结合所述椎体角度以及所述反射光信息确定所述反射光椎体。

在本公开的一种示例性实施例中，所述获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图，包括：

对所述待渲染模型进行烘培，以获得所述环境光遮蔽贴图和环境法线；

对所述环境法线进行归一化，以利用归一化后的环境法线获取所述环境法线贴图。

在本公开的一种示例性实施例中，所述对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，包括：

通过着色器对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样。

根据本公开的第二方面，提供一种模型渲染装置，包括贴图获取模块、数据采样模块以及遮蔽确定模块，其中：

贴图获取模块，用于获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图；

数据采样模块，用于对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量；

遮蔽确定模块，用于通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染。

在本公开的一种示例性实施例中，数据采样模块包括第一采样单元以及第二采样单元，其中：

第一采样单元，用于对所述环境光遮蔽贴图进行采样，获取向量大小。

第二采样单元，用于对所述环境法线贴图进行采样，获取向量方向，以基于所述向量大小及所述向量方向确定所述法线向量。

在本公开的一种示例性实施例中，遮蔽确定模块包括反射光获取单元以及遮蔽信息计算单元，其中：

反射光获取单元，用于通过所述法线向量确定所述待渲染模型的反射光信息。

遮蔽信息计算单元，用于通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息。

在本公开的一种示例性实施例中，遮蔽信息计算单元包括属性获取单元、椎体确定单元以及相交计算单元，其中：

属性获取单元，用于获取所述待渲染模型对应的物体属性。

椎体确定单元，用于利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体。

相交计算单元，用于基于所述法线向量确定法线椎体，计算所述反射光椎体与所述法线椎体的相交度，将所述相交度作为所述间接光遮蔽信息。

在本公开的一种示例性实施例中，椎体确定单元可以包括角度确定单元以及反射光椎体确定单元，其中：

角度确定单元，用于从所述物体属性中提取出粗糙度，将所述粗糙度作为椎体角度。

反射光椎体确定单元，用于结合所述椎体角度以及所述反射光信息确定所述反射光椎体。

在本公开的一种示例性实施例中，贴图获取模块可以包括模型烘培单元以及归一化单元，其中：

模型烘培单元，用于对所述待渲染模型进行烘培，以获得所述环境光遮蔽贴图和环境法线。

归一化单元，用于对所述环境法线进行归一化，以利用归一化后的环境法线获取所述环境法线贴图。

在本公开的一种示例性实施例中，数据采样模块具体用于：通过着色器对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样。

根据本公开的第三方面，提供一种电子设备，包括：处理器；以及存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行上述任意一项所述的方法。

根据本公开的第四方面，提供一种计算机可读介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述任意一项所述的方法。

本公开示例性实施例可以具有以下部分或全部有益效果：

在本公开的一示例实施方式所提供的模型渲染方法中，通过环境法线贴图与环境光遮蔽贴图相结合，能够在模型渲染时增加间接光遮蔽效果，从而减少模型的漏光问题，提高渲染效果。并且，通过间接光遮蔽信息可以使得渲染效果更加接近真实的光照，能够提高用户体验。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示意性示出了根据本公开的一个实施例的模型渲染方法的流程图；

图2示意性示出了根据本公开的另一个实施例的模型渲染方法的流程图；

图3示意性示出了根据本公开的一个实施例的模型渲染方法流程图；

图4示意性示出了根据本公开的另一个实施例的模型渲染方法的流程图；

图5示意性示出了根据本公开的一个实施例的模型渲染效果的示意图；

图6示意性示出了根据本公开的一个实施例的模型渲染装置的框图；

图7示意性示出了根据本公开的一个实施例的用于实现模型渲染方法的系统架构图；

图8示出了适于用来实现本公开实施例的电子设备的计算机系统的结构示意图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知技术方案以避免喧宾夺主而使得本公开的各方面变得模糊。

此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体，不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。可以采用软件形式来实现这些功能实体，或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体，或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。

以下对本公开实施例的技术方案进行详细阐述：

本示例实施方式首先提供一种模型渲染方法。参考图1所示，该方法可以包括以下步骤：

步骤S110：获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图。

步骤S120：对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量。

步骤S130：通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染。

在本公开的一示例实施方式所提供的模型渲染方法中，通过环境法线贴图与环境光遮蔽贴图相结合，能够在模型渲染时增加间接光遮蔽效果，从而减少模型的漏光问题，提高渲染效果。并且，通过间接光遮蔽信息可以使得渲染效果更加接近真实的光照，能够提高用户体验。

下面，对于本示例实施方式的上述步骤进行更加详细的说明。

在步骤S110中，获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图。

待渲染模型可以是虚拟场景中的各种对象，例如物体、人物角色等，虚拟场景可以包括静态场景或者动态场景，例如，游戏场景、动画等。本实施方式中，环境光遮蔽贴图(Ambient Occlusion Map)是用于描绘物体和物体相交或者靠近时遮挡周围漫反射光线的效果，换句话说，环境光遮蔽可以表示某一点对于环境的暴露比例，如果物体不与其他物体相交，则没有遮蔽效果，如果有相交那么周围的面会遮蔽环境光，导致相交处的环境光较弱。环境法线贴图(Bent Normal Map)则是记录物体凹凸信息的贴图。通过烘培工具可以获得待渲染模型的环境光遮蔽贴图和环境法线贴图，例如，通过Knald工具对待渲染模型进行烘培，获得该待渲染模型的环境光遮蔽贴图以及环境法线贴图。具体的，获取环境光遮蔽贴图以及环境法线贴图的方法可以包括以下步骤S201以及步骤S202，如图2所示，其中：

在步骤S201中，对所述待渲染模型进行烘培，以获得所述环境光遮蔽贴图和环境法线。环境法线可以包括待渲染模型的表面法线，表面法线是垂直于切线平面的向量。本实施方式中，可以通过多种工具对待渲染模型进行渲染，例如，Knald、Substance Designer等，用户可以在虚拟场景中选中待渲染模型，然后通过工具渲染出待渲染模型的环境光遮蔽贴图，以及待渲染模型的环境法线。

在步骤S202中，对所述环境法线进行归一化，以利用归一化后的环境法线获取所述环境法线贴图。与普通的法线不同，环境法线(Bent Normal)指的是当前位置不被其他物体遮挡的平均方向，即，在该位置的遮挡程度。环境法线是单位向量，通常位于范围-1.0到1.0之间，因此通过归一化可以将该范围转换至0.0到1.0之间，从而可以将环境法线向量存储到贴图中，从而得到环境法线贴图。例如，一法线(-1，0,1)归一化之后为(0，0.5，1)，x、y、z轴的坐标值分别被保存至R、G、B通道中，得到环境法线贴图。

在步骤S120中，对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量。

本实施方式中，对环境光遮蔽进行采样可以获得指定位置的环境光遮蔽值，同理的，对环境法线贴图进行采样可以获得待渲染物体在指定位置处的法线方向，可以将环境光遮蔽贴图采样得到的数据作为环境法线的大小，而将环境法线贴图采样得到的数据作为环境法线的方向，从而得到该指定位置的法线向量。具体的，该方法可以包括以下步骤S301以及步骤S302，如图3所示，其中：

在步骤S301中，对所述环境光遮蔽贴图进行采样，获取向量大小。示例性的，在对待渲染模型进行渲染时，着色器可以对环境光遮蔽贴图进行采样，获得环境光遮蔽值；或者，也可以通过其他方式对贴图进行采样，例如固定采样器、自适应采样器等；此外，通过自定义的采样算法也可以对环境光遮蔽贴图进行采样，本实施方式不限于此。

在步骤S302中，对所述环境法线贴图进行采样，获取向量方向，以基于所述向量大小及所述向量方向确定所述法线向量。同理的，可以对环境法线贴图进行采样，获得环境法线，进而通过环境法线以及环境光遮蔽值确定法线向量。并且，环境法线贴图与环境光遮蔽贴图的采样方式可以保持一致，例如，从环境法线贴图中采用出待渲染模型的A点处的数据，则从环境光遮蔽贴图中也需要采用A点处的数据，进行多次采样后可以获取待渲染模型中的各个点处法线向量。

在步骤S130中，通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染。

其中，间接光遮蔽信息可以包括镜面反射光遮蔽信息(Specular Occlusion)，也可以包括环境光遮蔽信息(Ambient Occlusion)。示例性的，间接光遮蔽信息可以通过法线向量以及待渲染模型的粗糙度进行计算，首先可以从待渲染模型的属性信息中获取粗糙度，进而将采样得到的法线向量作为一圆锥，将粗糙度作为该圆锥的角度，从而对该圆锥与反射光线对应的圆锥进行求交集运算，得到反射光遮蔽信息。不同的物体存在不同的粗糙度，在越光滑的物体上反射光线越集中，也就是圆锥的角度越小，所以可以使用粗糙度表示圆锥的角度。

进一步的，通过法线向量可以确定待渲染模型的反射光信息；进而通过反射光信息确定间接光遮蔽信息。反射光信息可以指反射光向量的信息，通过法线向量可以确定物体表面的法线，进而通过入射光线的大小和方向以及该法线，确定反射光的大小和方向，从而得到反射光信息。然后利用反射光信息与法线向量计算待渲染物体的间接光遮蔽信息，举例而言，可以通过反射光信息与法线向量相乘得到间接光遮蔽信息等。具体的，该方法可以包括步骤S401至步骤S403，如图4所示，其中：

在步骤S401中，获取所述待渲染模型对应的物体属性。物体属性指的是模型的属性信息，具体可以包括模型的材质、种类、表面粗糙度等，也可以包括其他信息，例如模型的形状、大小等，本实施方式对此不做特殊限定。示例性的，通过虚拟场景对应的数据库可以获取待渲染模型对应的物体属性，例如，利用待渲染模型的标识信息，如标识号、名称等，在该数据库中进行查询，进而获得该待渲染模型的物体属性。

在步骤S402中，利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体。本实施方式中，反射光信息可以转化为一椎体，该椎体的角度可以通过物体属性确定。物体属性中可以包括描述物体反射光线的能力强弱系数，例如，粗糙度、反射能力等。从物体属性中获取该系数，将该系数可以作为反射光椎体的角度，角度越大反射光椎体的体积越大，从而得到反射光椎体。可选的，可以从物体属性中提取出物体的粗糙度，将该粗糙度作为椎体角度。

在步骤S403中，基于所述法线向量确定法线椎体，计算所述反射光椎体与所述法线椎体的相交度，将所述相交度作为所述间接光遮蔽信息。具体的，可以将从环境法线贴图中提取的法线方向作为椎体的方向，将环境光遮蔽贴图中提取的法线大小作为椎体的角度，从而的法线椎体。然后，可以通过虚幻引擎的近似算法计算反射光椎体与法线椎体之间的相交度，将得到的相交度作为间接光遮蔽信息。

计算出间接光遮蔽信息后可以将该间接光遮蔽信息作为系数与IBL光照相乘后渲染在待渲染模型上，使得待渲染模型具有真实的光照效果。在本实施方式中，通过环境光遮蔽以及环境法线的结合可以获取更加全面的间接光遮蔽信息，进而避免在模型渲染时产生漏光的问题。示例性的，如图5所示，501为待渲染模型，502为通过环境光遮蔽信息对待渲染模型进行渲染后的效果，503为通过间接光遮蔽信息对待渲染模型进行渲染后的效果，可以看出通过间接光遮蔽信息对待渲染模型进行渲染后，模型的光线的呈现、以及阴影更加自然，更加接近于真实情况，因此提高了模型的渲染效果。

进一步的，本示例实施方式中，还提供了一种模型渲染装置，用于执行本公开上述的模型渲染方法。该装置可以应用于一服务器或终端设备。

参考图6所示，该模型渲染装置600可以包括贴图获取模块、数据采样模块以及遮蔽确定模块，其中：

贴图获取模块610，用于获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图；

数据采样模块620，用于对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量；

遮蔽确定模块630，用于通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染。

在本公开的一种示例性实施例中，数据采样模块620可以包括第一采样单元以及第二采样单元，其中：

第一采样单元，用于对所述环境光遮蔽贴图进行采样，获取向量大小。

第二采样单元，用于对所述环境法线贴图进行采样，获取向量方向，以基于所述向量大小及所述向量方向确定所述法线向量。

在本公开的一种示例性实施例中，遮蔽确定模块630可以包括反射光获取单元以及遮蔽信息计算单元，其中：

反射光获取单元，用于通过所述法线向量确定所述待渲染模型的反射光信息。

遮蔽信息计算单元，用于通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息。

在本公开的一种示例性实施例中，遮蔽信息计算单元包括属性获取单元、椎体确定单元以及相交计算单元，其中：

属性获取单元，用于获取所述待渲染模型对应的物体属性。

椎体确定单元，用于利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体。

相交计算单元，用于基于所述法线向量确定法线椎体，计算所述反射光椎体与所述法线椎体的相交度，将所述相交度作为所述间接光遮蔽信息。

在本公开的一种示例性实施例中，椎体确定单元可以包括角度确定单元以及反射光椎体确定单元，其中：

角度确定单元，用于从所述物体属性中提取出粗糙度，将所述粗糙度作为椎体角度。

反射光椎体确定单元，用于结合所述椎体角度以及所述反射光信息确定所述反射光椎体。

在本公开的一种示例性实施例中，贴图获取模块610可以包括模型烘培单元以及归一化单元，其中：

模型烘培单元，用于对所述待渲染模型进行烘培，以获得所述环境光遮蔽贴图和环境法线。

归一化单元，用于对所述环境法线进行归一化，以利用归一化后的环境法线获取所述环境法线贴图。

在本公开的一种示例性实施例中，数据采样模块620可以具体用于：通过着色器对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样。

由于本公开的示例实施例的模型渲染装置的各个功能模块与上述模型渲染方法的示例实施例的步骤对应，因此对于本公开装置实施例中未披露的细节，请参照本公开上述的模型渲染方法的实施例。

参阅图7，图7示出了可以应用本公开实施例的一种模型渲染方法及模型渲染装置的示例性应用环境的系统架构的示意图。

如图7所示，系统架构700可以包括终端设备701、702、703中的一个或多个，网络704和服务器705。网络704用以在终端设备701、702、703和服务器705之间提供通信链路的介质。网络704可以包括各种连接类型，例如有线、无线通信链路或者光纤电缆等等。

终端设备701、702、703可以是具有显示屏的各种电子设备，包括但不限于台式计算机、便携式计算机、智能手机和平板电脑等等。应该理解，图7中的终端设备、网络和服务器的数目仅仅是示意性的。根据实现需要，可以具有任意数目的终端设备、网络和服务器。比如服务器705可以是多个服务器组成的服务器集群等。

本公开实施例所提供的模型渲染方法一般由服务器705执行，相应地，模型渲染装置一般设置于服务器705中。但本领域技术人员容易理解的是，本公开实施例所提供的模型渲染方法也可以由终端设备701、702、703执行，相应的，模型渲染装置也可以设置于终端设备701、702、703中，本示例性实施例中对此不做特殊限定。

图8示出了适于用来实现本公开实施例的电子设备的计算机系统的结构示意图。

需要说明的是，图8示出的电子设备的计算机系统800仅是一个示例，不应对本公开实施例的功能和使用范围带来任何限制。

如图8所示，计算机系统800包括中央处理单元(CPU)801，其可以根据存储在只读存储器(ROM)802中的程序或者从存储部分808加载到随机访问存储器(RAM)803中的程序而执行各种适当的动作和处理。在RAM 803中，还存储有系统操作所需的各种程序和数据。CPU801、ROM 802以及RAM 803通过总线804彼此相连。输入/输出(I/O)接口805也连接至总线804。

以下部件连接至I/O接口805：包括键盘、鼠标等的输入部分806；包括诸如阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD)等以及扬声器等的输出部分807；包括硬盘等的存储部分808；以及包括诸如LAN卡、调制解调器等的网络接口卡的通信部分809。通信部分809经由诸如因特网的网络执行通信处理。驱动器810也根据需要连接至I/O接口805。可拆卸介质811，诸如磁盘、光盘、磁光盘、半导体存储器等等，根据需要安装在驱动器810上，以便于从其上读出的计算机程序根据需要被安装入存储部分808。

特别地，根据本公开的实施例，下文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如，本公开的实施例包括一种计算机程序产品，其包括承载在计算机可读介质上的计算机程序，该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中，该计算机程序可以通过通信部分809从网络上被下载和安装，和/或从可拆卸介质811被安装。在该计算机程序被中央处理单元(CPU)801执行时，执行本申请的方法和装置中限定的各种功能。

需要说明的是，本公开所示的计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质或者是上述两者的任意组合。计算机可读存储介质例如可以是——但不限于——电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件，或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子可以包括但不限于：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦式可编程只读存储器(EPROM或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(CD-ROM)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本公开中，计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质，该程序可以被指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用。而在本公开中，计算机可读的信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号，其中承载了计算机可读的程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式，包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。计算机可读的信号介质还可以是计算机可读存储介质以外的任何计算机可读介质，该计算机可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用的程序。计算机可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输，包括但不限于：无线、电线、光缆、RF等等，或者上述的任意合适的组合。

附图中的流程图和框图，图示了按照本公开各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，上述模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，框图或流程图中的每个方框、以及框图或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。

描述于本公开实施例中所涉及到的单元可以通过软件的方式实现，也可以通过硬件的方式来实现，所描述的单元也可以设置在处理器中。其中，这些单元的名称在某种情况下并不构成对该单元本身的限定。

作为另一方面，本申请还提供了一种计算机可读介质，该计算机可读介质可以是上述实施例中描述的电子设备中所包含的；也可以是单独存在，而未装配入该电子设备中。上述计算机可读介质承载有一个或者多个程序，当上述一个或者多个程序被一个该电子设备执行时，使得该电子设备实现如下述实施例中所述的方法。例如，所述的电子设备可以实现如图1和图2所示的各个步骤等。

应当注意，尽管在上文详细描述中提及了用于动作执行的设备的若干模块或者单元，但是这种划分并非强制性的。实际上，根据本公开的实施方式，上文描述的两个或更多模块或者单元的特征和功能可以在一个模块或者单元中具体化。反之，上文描述的一个模块或者单元的特征和功能可以进一步划分为由多个模块或者单元来具体化。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种模型渲染方法，其特征在于，包括：

获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图；

对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量；

通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染；

其中，所述通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，包括：

通过所述法线向量确定所述待渲染模型的反射光信息；

通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量，包括：

对所述环境光遮蔽贴图进行采样，获取向量大小；

对所述环境法线贴图进行采样，获取向量方向，以基于所述向量大小及所述向量方向确定所述法线向量。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染，包括：

将所述间接光遮蔽信息作为系数与基于图像的光照相乘后渲染在所述待渲染模型上。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息，包括：

获取所述待渲染模型对应的物体属性；

利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体；

基于所述法线向量确定法线椎体，计算所述反射光椎体与所述法线椎体的相交度，将所述相交度作为所述间接光遮蔽信息。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述利用所述物体属性和反射光信息确定反射光椎体，包括：

从所述物体属性中提取出粗糙度，将所述粗糙度作为椎体角度；

结合所述椎体角度以及所述反射光信息确定所述反射光椎体。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图，包括：

对所述待渲染模型进行烘培，以获得所述环境光遮蔽贴图和环境法线；

对所述环境法线进行归一化，以利用归一化后的环境法线获取所述环境法线贴图。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，包括：

通过着色器对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样。

8.一种模型渲染装置，其特征在于，包括：

贴图获取模块，用于获取待渲染模型的环境法线贴图和环境光遮蔽贴图；

数据采样模块，用于对所述环境法线贴图以及所述环境光遮蔽贴图进行采样，获得所述待渲染模型的法线向量；

遮蔽确定模块，用于通过所述法线向量计算所述待渲染模型的间接光遮蔽信息，以利用所述间接光遮蔽信息对所述待渲染模型进行渲染；

其中，所述遮蔽确定模块包括：

反射光获取单元，用于通过所述法线向量确定所述待渲染模型的反射光信息；

遮蔽信息计算单元，用于通过所述反射光信息计算所述间接光遮蔽信息。

9.一种计算机可读介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-7任一项所述的方法。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：

处理器；以及

存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；

其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1-7任一项所述的方法。