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CN111169056B - 一种防眩光扩散膜的制作方法 - Google Patents

一种防眩光扩散膜的制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种防眩光扩散膜的制作方法，该方法具体步骤包括：S1：提供一具有微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具，所述球面形微纳级凸起结构经烘烤固化形成；S2：提供一支撑层；S3：在所述支撑层上涂布一UV胶层；S4：使用所述防眩光模具对所述UV胶层进行UV压印，UV压印后的所述UV胶层形成微纳级的防眩光结构层。通过烘烤固化的方式制作具有防眩光功能的球面形微纳级凸起结构，操作简单，可控性强。

Description

一种防眩光扩散膜的制作方法
技术领域
本发明涉及防眩光技术领域，尤其涉及一种防眩光扩散膜的制作方法。
背景技术
1995年，CIE(国际照明委员会)提出灯具防眩光的概念，并把统一眩光值数UGR(Unified Glare Rating)作为评价室内照明环境不舒适眩光的指标。2014年，欧盟将UGR限值做为灯具的一个强制标准，而不是像以前一样只是作为参考，一般要求，UGR<19。在灯具上增加防眩光扩散膜是最有效、最易用、成本最低的解决方案。
目前在制作防眩光扩散膜时，大都采用防眩光模具辅助制作。现在制作防眩光模具在国内外依托于精密机械加工技术，而该技术在制作微纳级尺度的防眩光模具难度极大，制作周期较长，制作精度较低，从而影响防眩光扩散膜的质量和成本。因此，制作精度高、周期短的微纳级尺度防眩光模具显得尤为重要。
发明内容
本发明的目的主要在于提供一种防眩光扩散膜的制作方法，该方法通过烘烤固化方式制作微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具，从而制作精度高、效果好的微纳级尺度防眩光扩散膜。
为实现前述发明目的，本发明提供一种防眩光扩散膜的制作方法，该方法具体步骤包括：
S1：提供一具有微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具，所述球面形微纳级凸起结构经烘烤固化形成；
S2：提供一支撑层；
S3：在所述支撑层上涂布一UV胶层；
S4：使用所述防眩光模具对所述UV胶层进行UV压印，UV压印后的所述UV胶层形成微纳级的防眩光结构层。
在其中一实施例中，在步骤S1中，采用光刻技术制作具有所述微纳级网格凹槽和所述球面形微纳级凸起结构的防眩光模具。
在其中一实施例中，制作所述防眩光模具的具体方法包括：
S101：提供一玻璃基板；
S102：在所述玻璃基板上涂布一光刻胶层；
S103：将所述光刻胶层制成由所述微纳级网格凹槽隔离的若干所述球面形微纳级凸起结构；
S104：将所述球面形微纳级凸起结构通过UV转印或金属生长转移至模具，获得具有所述微纳级网格凹槽的防眩光模具。
在其中一实施例中，在步骤S103中，所述将所述光刻胶层制成由网格隔离的若干球面形微纳级凸起结构，包括：曝光显影所述光刻胶层，形成由所述微纳级网格凹槽隔离的若干微纳级凸起结构；烘烤固化所述微纳级凸起结构，形成若干所述球面形微纳级凸起结构。
在其中一实施例中，所述曝光显影方式为：按照所需图形对所述光刻胶层进行曝光，将所述光刻胶层中显影的光刻胶蚀刻掉，形成由所述微纳级网格凹槽隔离的所述微纳级凸起结构。
在其中一实施例中，所述烘烤固化方式为：将所述微纳级凸起结构和所述玻璃基板一起置于130-160℃的烘箱中烘烤20-50分钟，形成所述球面形微纳级凸起结构。
在其中一实施例中，所述防眩光结构层包括由若干凹陷单元分成的若干微纳级防眩光单元，所述防眩光单元为球面形结构，所述凹陷单元为呈周期性排布的规则图形。
在其中一实施例中，所述防眩光单元高度为12-27μm，所述凹陷单元深度为12-27μm，宽度为3-10μm。
在其中一实施例中，所述防眩光结构层厚度为15-30μm。
本发明实施例在于提供一种防眩光扩散膜的制作方法，通过烘烤固化的方式制作具有防眩光功能的球面形微纳级凸起结构，操作简单，可控性强。
附图说明
图1为本发明实施例防眩光扩散膜的制作流程图；
图2为本发明实施例防眩光模具的制作流程图；
图3为本发明实施例防眩光扩散膜的结构示意图；
图4为图3另一视角的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术方案及功效，以下结合附图及实施例，对本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
请参考图1和图2，本发明实施例公开一种的防眩光扩散膜的制作方法，该方法包括如下具体步骤。
S1：提供一具有微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具，所述球面形微纳级凸起结构经烘烤固化形成。
具体地，采用光刻技术制作具有微纳级网格凹槽的防眩光模具，制作方法具体包括如下。
S101：提供一玻璃基板。
S102：在玻璃基板上涂布一光刻胶层。
具体地，在玻璃基板上通过涂布的方式，涂布一层的厚度为10-25μm的光刻胶。
S103：将光刻胶层制成由微纳级网格凹槽隔离的球面形微纳级凸起结构。
先进行曝光显影：按照所需图形对光刻胶层进行曝光，将显影的部分光刻胶蚀刻掉，在光刻胶层上形成由微纳级网格凹槽隔离的微纳级凸起结构(未被蚀刻掉的光刻胶)。具体地，由微纳级网格凹槽隔离的微纳级凸起结构中间包括若干相同图形的网格单元。若干网格单元呈周期性或非周期性排布。网格单元为规则或不规则的图形，如正六边形、正方形中的一种。在本实施例中，网格单元为呈周期性排布的正方形，其宽度为3-10μm，其深度与光刻胶层厚度相同。
再进行固化：将玻璃基板和玻璃基板上由微纳级网格凹槽隔离的微纳级凸起结构一起放置在130-160℃的烘箱中烘烤20-50分钟，在玻璃基板上形成球面形微纳级凸起结构。具体地，在高温状态下，使微纳级凸起结构表面变为液态，表面张力会使光刻胶表面逐渐变为球面形，达到表面能最小的非稳定态。待光刻胶内溶剂挥发完全，球面形表面变为稳定态。在烘烤时，通过网格隔离，有效地防止微纳级凸起结构出现桥连现象。
S104：将球面形微纳级凸起结构通过UV转印或金属生长转移至模具，获得具有微纳级网格凹槽的防眩光模具。
在本实施例中，通过UV转印的方式，将球面形微纳级凸起结构转移到模具表面，从而获得具有微纳级网格凹槽的防眩光模具。在其它实施例中，还可以通过电铸使金属生长的方式获得具有微纳级网格凹槽的防眩光模具，也可以用其它方式获得具有微纳级网格凹槽的防眩光模具。
S2：提供一支撑层。
具体地，支撑层为透明柔性高分子材质，如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)或PC(聚碳酸酯)。在其它实施例中，支撑层1可以为其它透明性好的高分子有机化合物。
S3：在支撑层上涂布一UV胶层。
具体地，在支撑层上涂布一层的厚度为15-30μm的UV胶层。
S4：使用上述防眩光模具对所述UV胶层进行UV压印，UV压印后的UV胶层形成微纳级的防眩光结构层。支撑层与防眩光结构层形成防眩光扩散膜。
具体地，请参考图3和图4，防眩光结构层2设置于支撑层1上。
在本实施例中，防眩光结构层2为微纳级，厚度为15-30μm。
防眩光结构层2包括由若干凹陷单元23分成的若干微纳级防眩光单元21。防眩光单元21为球面形结构，其高度为12-27μm。
若干凹陷单元23呈周期性或非周期性排布。若干凹陷单元23为规则或不规则图形中的一种，如正六边形、正方形中的一种。在本实施例中，凹陷单元23为正方形，呈周期性排布。凹陷单元23深度为12-27μm，宽度3-10μm。
本发明有许多优点。
1、通过烘烤固化的方式制作具有防眩光功能的球面形微纳级凸起结构，操作简单，可控性强。
2、通过光刻技术制作微纳级的防眩光模具，周期短，操作简单，效果好。
3、通过UV转印或金属生长的方式，使得制作的防眩光模具精度高。
4、通过UV压印技术制作防眩光扩散膜，精度高，效果好，良品率高，从而使得防眩光扩散膜制作的成本低。
以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，该方法具体步骤包括：
S1：提供一具有微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具，所述球面形微纳级凸起结构经烘烤固化形成；其中，所述微纳级凸起结构由所述微纳级网格凹槽隔离形成；
S2：提供一支撑层；
S3：在所述支撑层上涂布一UV胶层；
S4：使用所述防眩光模具对所述UV胶层进行UV压印，UV压印后的所述UV胶层形成微纳级的防眩光结构层；
其中，制作所述防眩光模具的具体方法包括：
S101：提供一玻璃基板；
S102：在所述玻璃基板上涂布一光刻胶层；
S103：将所述光刻胶层制成由所述微纳级网格凹槽隔离的若干所述球面形微纳级凸起结构；
S104：将所述球面形微纳级凸起结构通过UV转印或金属生长转移至模具，获得具有所述微纳级网格凹槽的防眩光模具。
2.如权利要求1所述的防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，在步骤S103中，所述将所述光刻胶层制成由网格隔离的若干球面形微纳级凸起结构，包括：曝光显影所述光刻胶层，形成由所述微纳级网格凹槽隔离的若干微纳级凸起结构；烘烤固化所述微纳级凸起结构，形成若干所述球面形微纳级凸起结构。
3.如权利要求2所述的防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，所述曝光显影方式为：按照所需图形对所述光刻胶层进行曝光，将所述光刻胶层中显影的光刻胶蚀刻掉，形成由所述微纳级网格凹槽隔离的所述微纳级凸起结构。
4.如权利要求1所述的防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，所述烘烤固化方式为：将所述微纳级凸起结构和所述玻璃基板一起置于130-160℃的烘箱中烘烤20-50分钟，形成所述球面形微纳级凸起结构。
5.如权利要求1所述的防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光结构层包括由若干凹陷单元分成的若干微纳级防眩光单元，所述防眩光单元为球面形结构，所述凹陷单元为呈周期性排布的规则图形。
6.如权利要求5所述的防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光单元高度为12-27μm，所述凹陷单元深度为12-27μm，宽度为3-10μm。
7.如权利要求1或5所述的防眩光扩散膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光结构层厚度为15-30μm。
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