CN111158218A - 曝光平台装置及曝光系统 - Google Patents

Abstract

本揭示提供一种曝光平台装置及曝光系统，曝光平台装置包括基座以及调整装置，基座包括多个镂空区域和非镂空区域，调整装置设置在非镂空区域内，镂空区域用以放置基板，调整装置用以支撑并调整基板，通过调整装置将多个子基板的平整度调整一致，进而保证整块基板的曝光效果，并提高面板的生产效率。

Description

曝光平台装置及曝光系统

技术领域

本揭示涉及显示制造技术领域，尤其涉及一种曝光平台装置及曝光系统。

背景技术

为了制造半导体器件或者液晶显示器件(liquid crystal display，LCD)，需要用于形成多层薄膜的工艺。主要通过曝光技术、光刻技术对该薄膜进行成形。

在现有的LCD曝光系统中，包括有平台装置和照射装置，在曝光时，将基板放置于平台装置的平台上，同时需通过移动平台，使基板的待曝光区域移动到照射装置的曝光区内，但是，由于现有的平台装置比较笨重，致使平台在移动过程中很不方便。同时，随着现有的LCD面板尺寸的不断增大，其承载基板的平台也越做越大，较大的平台装置在不同方向上移动时，速度控制不佳，并且在移动过程中，基板晃动严重，顶针与基板接触不理想，甚至使基板开裂，不利于基板曝光生产工艺。

综上所述，现有的曝光机中的平台装置比较大，在转移较大尺寸的基板时，平台移动不方便，同时平台的速度控制不佳，在移动过程中基板稳定性较差，顶针与基板之间的接触不理想，影响基板的曝光制程，降低生产效率，提高了生产成本。

发明内容

本揭示提供一种曝光平台装置及曝光系统，以解决现有曝光机中的平台装置较大，同时在转移较大尺寸的基板时，平台移动不方便，平台的速度控制不佳，在移动过程中基板稳定性较差，顶针与基板之间的接触不理想等问题。

为解决上述技术问题，本揭示实施例提供的技术方案如下：

根据本揭示实施例的第一方面，提供了一种曝光平台装置，包括：

基座，以及

调整装置，所述调整装置设置在所述基座上；

其中，所述基座包括多个镂空区域和非镂空区域，所述非镂空区域围绕所述镂空区域设置，所述调整装置设置在所述非镂空区域内，所述镂空区域配置成用以放置基板，所述调整装置配置成用以支撑所述基板并对所述基板进行调整。

根据本揭示一实施例，所述调整装置包括调整块，所述调整块围绕所述镂空区域边缘设置。

根据本揭示一实施例，所述曝光平台装置还包括滑轨，所述滑轨设置在所述基座的所述非镂空区域内。

根据本揭示一实施例，所述调整块设置在所述滑轨上，所述调整块配置成可在所述滑轨上移动。

根据本揭示一实施例，所述调整块包括楔形块，所述楔形块包括一倾斜面，所述倾斜面朝向所述镂空区域。

根据本揭示一实施例，每一个所述镂空区域边缘设置至少3个所述调整块。

根据本揭示一实施例，所述镂空区域包括矩形或方形，所述镂空区域的面积大于所述镂空区域对应放置的所述基板的面积。

根据本揭示一实施例，还包括定位装置，所述定位装置设置在所述非镂空区域内，并围绕所述镂空区域设置。

根据本揭示一实施例，所述曝光平台装置还包括驱动机构以及顶针，所述驱动机构驱动所述顶针以及所述调整装置，使所述基板移动到所述基板相对应的所述镂空区域上。

根据本揭示的第二方面，还提供了一种曝光系统，包括本揭示实施例中提供的曝光平台装置。

综上所述，本揭示实施例的有益效果为：

本揭示提供一种曝光平台装置及曝光系统，在对显示面板中的各膜层进行曝光蚀刻时，随着显示面板尺寸的不断增大，在曝光过程中，本揭示实施例中的曝光平台装置可有效的对大尺寸的膜层进行精确的移动，同时，在对基板进行转移及曝光时，能有效的减少各基板之间的带点空气，防止基板的破裂，并提高探针与基板之间的接触性能，提高面板制造的良率。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是揭示的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中显示面板尺寸大小示意图；

图2为图1中对应的显示面板的曝光平台尺寸大小示意图；

图3为本揭示实施例中曝光装置中曝光平台平面结构示意图；

图4为本揭示实施例中顶针托起基板时曝光平台装置侧视图；

图5为本揭示实施例中基板拼合平面示意图；

图6为本揭示实施例中调整块结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本揭示实施例中的附图，对本揭示实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本揭示一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本揭示中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本揭示保护的范围。

显示面板在制备工艺中，对不同的膜层需要进行不同的处理，如进行曝光等光刻工艺。随着显示面板功能的多样化，其尺寸也在不断的发生变化，相应的，其对应的基板玻璃以及各膜层的面积也随之增大。因此，在制备时，其曝光机相对应的承载平台尺寸也随之增大。

如图1所示，图2所示，图1为现有技术中显示面板尺寸大小示意图，图2为图1中对应的显示面板的曝光平台尺寸大小示意图。本揭示实施例中，以8.5代液晶面板线为例进行说明，所需制备的面板100的尺寸为2200mm*2500mm，为了承载面板100，在对应的曝光机中，其承载平台200的尺寸为2800mm*2800mm，这样，曝光完成后，整块面板100的各个区域均能被处理到，提高面板的有效使用面积。曝光完成后，在将整块面板100切割成所需的大小，面板100的尺寸还可为不同的尺寸。

由于面板100和其对应的承载平台200的尺寸均较大，在将面板100转移到承载平台200时，转移探针不能较好的与面板各个区域接触，从而造成面板会出现破裂，或者移动速度较难控制，精度低等问题。

本揭示实施例中，如图3所示，图3为本揭示实施例中曝光装置中曝光平台平面结构示意图。曝光平台包括基座300。具体的，基座300包括多个曝光子单元，曝光子单元对于的包括非曝光区301以及曝光区302，非曝光区301主要为基座300的外围边框，通过外围边框以对其上的基板进行支撑。

曝光区302内还包括多个镂空区303和非镂空区304，本揭示实施例中，镂空区303可呈阵列间隔的设置在曝光区302内，两相邻的镂空区303之间的距离相同。

非镂空区304围绕所述镂空区303设置，在制备该基座300时，可按镂空区303设置的尺寸大小直接冲压而形成。完成后，形成规律分布的镂空区303以及围绕所述镂空区303的非镂空区304。

本揭示实施例中，基座300内的基板以4*4的基板为例进行说明。全部16块子基板拼合在一起相当于现有技术中的相同尺寸的整块大尺寸面板。因此，在将基板移动到基座300内时，只需将每一小块基板移动到对应的镂空区303内即可，由于被移动的基板的重量及尺寸减小，从而有效的提高了移动的精度，保证了基板的生产质量，镂空区303的形状可为方形或者矩形，其镂空区303的镂空面积要大于其上对应放置的基板的面积。

如图4所示，图4为本揭示实施例中顶针托起基板时曝光平台装置侧视图。同时结合图3中曝光平台结构平面示意图。曝光平台装置包括基座400、调整装置401以及基板402。多个调整装置401设置在基座400上，并且调整装置401设置在基座400的非镂空区上，基板402移动完成后，对应的至于基座400的镂空区域内。这样，调整装置401在曝光过程中，不影响基板402的处理。同时，调整装置401不仅可以将基板402调整到镂空区域内，使相邻的基板402可平整对接，保证一致平整度，还可对基板402进行固定。

具体的，曝光平台装置还包括滑轨，滑轨可设置在调整装置401相对应的基座400的非镂空区域上，这样，调整装置401可在该滑轨内快速并精确的移动，进而保证基板402快速对位及移动。

曝光平台装置还包括顶针403及驱动机构404。各个基板402在移动时，相对应的顶针403将其顶起，每块基板402下可设置至少3个顶针403，同时，驱动机构404与顶针403相连，并驱动多个顶针403进行上下或者水平移动，将基板402移动到对应的镂空区域内。顶针403的移动速度可由所述驱动机构404进行精确控制，移动速度以实际产品进行设定。

如图5所示，图5为本揭示实施例中基板拼合平面示意图。曝光区502内的基板500包括多个子基板501，多个子基板501拼接而形成整个基板500。本揭示实施例中，以16块子基板501为例进行说明。

为了保证子基板501在拼接及转移时的精度，曝光平台装置还包括调整块503以及定位装置504。同时结合图4中结构示意图。调整块503为本揭示实施例中的调整装置，调整块503设置在基座对应的非镂空区域内，对应的，基座可设置为框架式结构。当对子基板501移动时，调整块503分别夹持住子基板501的不同边缘，在本揭示实施例中，优选的，每个子基板501对应的设置3个调整块503，如图中子基板501内形成的虚线三角形状所示。3个调整块503设置在子基板501的不同边缘处，以保证对子基板501的夹持效果。

由于整块基板500由多个子基板501组成，因此，在对子基板501进行操作时，探针能更加快速的进行移动，同时，若某一块子基板501发生破坏，可快速用其他的子基板501进行替换，保证基板的正常生产。

当对子基板501移动时，控制驱动机构驱动子基板501下的支撑顶针，同时配合移动滑轨上的调整块503，进而将每块基板移动到设定位置处。

定位装置504可设置基座非镂空区域内，具体的设置在相邻两子基板501之间，定位装置504可设置多个，防止基板移动过程中，相互之间发生碰撞，损坏基板。

具体的，如图6所示，图6为本揭示实施例中调整块结构示意图。当子基板被移动到设定的镂空区域内，各个子基板之间会存在差别，如一些子基板的高度存在差别。高度不相同导致整块面板的平整度不均一，进而影响面板的曝光效果。

本揭示实施例中，调整块600可对子基板601进行调整。优选的，调整块600为楔形块，楔形块包括一倾斜的斜面，在设置时，使调整块600的斜面朝向子基板601。由于子基板601在高度方向上存在差别，在调整时，通过将调整块600进行左或者右进行移动，从而使得子基板601具有不同的高度。

具体的，当调整块600向左移动时，斜面逐渐远离子基板601，子基板601的高度降低；当调整块600向右移动时，调整块600的斜面逐渐深入子基板601的底部，将子基板601抬升，使子基板601的高度增加。通过子基板601不同边上的调整块600进行调整，使得所有子基板601拼合成的基板的平整度相同，以保证曝光过程中的曝光效果。

调整块600还可为其他形状，如斜梯形结构，其主要作用是对子基板601的高度进行微调，使拼合后的基板为一平面。

在对调整块600进行调整时，为保证调整块600左右移动时的精度，本揭示实施例中曝光平台装置还可包括螺栓结构，螺栓与调整块600的一侧连接，调整时，只需调控螺栓的旋出或者旋进，使调整块600靠近或远离子基板601，达到子基板601的升高或者降低。

进一步的，本揭示实施例中还提供一种曝光系统，曝光系统包括本揭示实施例中提供的曝光平台装置，具体的，曝光平台装置中包括本揭示实施例中提供的基座以及调整装置，通过本揭示实施例中的曝光系统，可有效的对所需曝光的基板进行移动。防止基板破裂，提高生产效率。

以上对本揭示实施例所提供的一种曝光平台装置及曝光系统进行了详细介绍，以上实施例的说明只是用于帮助理解本揭示的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本揭示各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种曝光平台装置，其特征在于，包括：

基座，以及

调整装置，所述调整装置设置在所述基座上；

其中，所述基座包括多个镂空区域和非镂空区域，所述非镂空区域围绕所述镂空区域设置，所述调整装置设置在所述非镂空区域内，所述镂空区域配置成用以放置基板，所述调整装置配置成用以支撑所述基板并对所述基板进行调整。

2.根据权利要求1所述的曝光平台装置，其特征在于，所述调整装置包括调整块，所述调整块围绕所述镂空区域边缘设置。

3.根据权利要求2所述的曝光平台装置，其特征在于，所述曝光平台装置还包括滑轨，所述滑轨设置在所述基座的所述非镂空区域内。

4.根据权利要求3所述的曝光平台装置，其特征在于，所述调整块设置在所述滑轨上，所述调整块配置成可在所述滑轨上移动。

5.根据权利要求2所述的曝光平台装置，其特征在于，所述调整块包括楔形块，所述楔形块包括一倾斜面，所述倾斜面朝向所述镂空区域。

6.根据权利要求2所述的曝光平台装置，其特征在于，每一个所述镂空区域边缘设置至少3个所述调整块。

7.根据权利要求1所述的曝光平台装置，其特征在于，所述镂空区域包括矩形或方形，所述镂空区域的面积大于所述镂空区域对应放置的所述基板的面积。

8.根据权利要求1所述的曝光平台装置，其特征在于，还包括定位装置，所述定位装置设置在所述非镂空区域内，并围绕所述镂空区域设置。

9.根据权利要求1所述的曝光平台装置，其特征在于，所述曝光平台装置还包括驱动机构以及顶针，所述驱动机构驱动所述顶针以及所述调整装置，使所述基板移动到所述基板相对应的所述镂空区域上。

10.一种曝光系统，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的曝光平台装置。

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