CN117372567A - 一种版图生成方法、装置、设备及介质 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及半导体光刻领域，特别是涉及一种版图生成方法、装置、设备及介质，通过获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；确定所述图案边缘图形上的取样点集合；利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。本发明对已有的晶圆进行扫描，得到量测灰度图中对应晶圆边缘，再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图，快速直接，处理效率高，占用算力低，对已有的晶圆还原度高。
Description
技术领域
本发明涉及半导体光刻领域，特别是涉及一种版图生成方法、装置、设备及介质。
背景技术
在目前晶圆厂的工作流程中，如果想得到特定结构的晶圆，通常需要工作人员遵循特定的设计规则，借助相应的软件手动设计版图，之后交由机器生产。
也即现有技术中，如果需要得到特定结构的版图，需要从定义设计规则，定义设计尺寸开始，利用版图工具来生成所需的测试版图，用于后面的OPC（optical proximitycorrection，光学临近修正效应）开发，工艺开发，良率诊断等等一系列流程。但在有些实际场景下，存在现成的晶圆图像，却缺少版图设计工具，以及具体的设计规则，如果要工作人员根据真实的半导体器件进行反推，思考并逐渐根据上述流程重新构建半导体版图，则会大大降低生产效率，提升生产成本。
因此，如何快速、高效地从已有的晶圆图像中获得对应的晶圆版图，就成了本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种版图生成方法、装置、设备及介质，以解决现有技术中无法快速、高效地从已有的晶圆图像中获得对应的晶圆版图的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种版图生成方法，包括：
获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；
确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
可选地，在所述的版图生成方法中，所述获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据包括：
通过关键尺寸扫描电子显微镜获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
可选地，在所述的版图生成方法中，在根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图包括：
根据所述量测灰度图获取所述量测路径对应的路径灰度信息；
将所述路径灰度信息进行归一化处理，得到标准灰度信息；
根据所述量测路径及所述标准灰度信息，确定路径灰度曲线图。
可选地，在所述的版图生成方法中，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
在所述图案边缘图形上，每间隔第一数量个扫描点，确定一个取样点，得到取样点集合。
可选地，在所述的版图生成方法中，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
对所述图案边缘图形进行栅格化；
确定所述图案边缘图形与栅格边缘的交点，将所述交点作为取样点，得到取样点集合。
可选地，在所述的版图生成方法中，所述对所述图案边缘图形进行栅格化包括：
以所述图案边缘图形的左下角的扫描点为坐标零点，对所述图案边缘图形进行栅格化。
可选地，在所述的版图生成方法中，所述栅格的边长的范围为1纳米至10纳米，包括端点值。
一种版图生成装置，包括：
获取模块，用于获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
曲线模块，用于根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
灰度模块，用于根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
边缘模块，用于根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；
取样模块，用于确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
连接模块，用于利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
一种版图生成设备，包括：
存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行所述计算机程序时实现如上述任一种所述的版图生成方法的步骤。
一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述任一种所述的版图生成方法的步骤。
本发明所提供的版图生成方法，通过获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；确定所述图案边缘图形上的取样点集合；利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
本发明对已有的晶圆进行扫描，获得量测灰度图，结合量测中获取的关键尺寸数据，可以得到量测灰度图中对应晶圆边缘（也即所述图案边缘图形），再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图（也即所述多边形目标版图），本发明快速直接，处理效率高，占用算力低，生成的多边形目标版图贴近真实设计，对已有的晶圆还原度高。本发明同时还提供了一种具有上述有益效果的版图生成装置、设备及介质。
附图说明
为了更清楚的说明本发明实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的版图生成方法的一种具体实施方式的流程示意图；
图2为本发明提供的版图生成方法的一种具体实施方式的量测灰度图；
图3为本发明提供的版图生成方法的另一种具体实施方式的流程示意图；
图4为本发明提供的版图生成装置的一种具体实施方式的结构示意图。
图中，包括：100-获取模块，200-曲线模块，300-灰度模块，400-边缘模块，500-取样模块，600-连接模块。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的核心是提供一种版图生成方法，其一种具体实施方式的流程示意图如图1所示，称其为具体实施方式一，包括：
S101：获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
目前，存在一部分关键尺寸量测设备，会在扫描晶圆，给出晶圆的扫描灰度图像的同时，进行关键尺寸的测量，而量测关键尺寸的位置可以是人为设定的，属于已知的信息。
其中，本步骤包括：
通过关键尺寸扫描电子显微镜获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
关键尺寸扫描电子显微镜（CD SEM，全称Critical Dimension ScanningElectron Microscope）可以在扫描过程中进行关键尺寸的量测，生成所述量测灰度图、获取所述关键尺寸数据及在图上标注量测路径可一次性完成，大大提升了处理效率，方便了后续流程的进行，当然，所述量测灰度图、所述关键尺寸数据及所述量测路径也可以在其它设备上分批或同时获取，本发明在此不做限定。
S102：根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图。
可参考图2，图2为所述量测路径对应的量测灰度图，所述量测灰度图即指的是将所述量测路径上每一个扫描点排列在横轴上，每个扫描点对应的纵轴高度即对应的灰度值。
具体地，本步骤的优选实施方式包括：
A1：根据所述量测灰度图获取所述量测路径对应的路径灰度信息。
也即获取所述量测路径上每一个扫描点对应的灰度值。
A2：将所述路径灰度信息进行归一化处理，得到标准灰度信息。
用0至1之间的数代指从黑到白之间的灰度值。
A3：根据所述量测路径及所述标准灰度信息，确定路径灰度曲线图。
也即将所述路径灰度曲线图的纵轴设定为0到1。本优选实施方式中，对所述量测路径上的灰度值都进行了归一化处理，归一化处理之后的数据更具代表性，可以跨图像进行比较，大大拓宽了本发明提供方案的泛用性与扩展性。
S103：根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值。
由于所述路径灰度曲线图的横轴一比一对应所述扫描点，因此，在得知所述关键尺寸数据后，可将所述关键尺寸数据反映在所述路径灰度曲线图中，具体地，在所述横轴方向上截取所述关键尺寸数据的长度，并寻找所述路径灰度曲线图中的曲线两端在横轴上相距的距离等于所述关键尺寸数据（图2中标识为d）的位置，该位置对应的灰度值就是设备测量的半导体边缘对应的灰度值，也即所述边缘灰度阈值（图2中用Ti表示）。
S104：根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形。
寻找所述量测灰度图像上灰度值等于所述边缘灰度阈值的点，并对这些点进行拟合，得到所述图案边缘图形，所述图案边缘图形就该代表了被扫描的半导体器件的形状。
S105：确定所述图案边缘图形上的取样点集合。
在所述图案边缘图形上取若干点作为取样点，全部的所述取样点的集合就是所述取样点集合，当然，提取所述取样点的规则可以根据实际情况进行制定，本发明在此不做限定。
下面提供一种具体实施方式，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
在所述图案边缘图形上，每间隔第一数量个扫描点，确定一个取样点，得到取样点集合。
所述图案边缘图形，也是由众多扫描点（可以理解成像素点）组合排列而成的，本具体实施方式中，每间隔一定数量的扫描点，就确定一个取样点，当然，这种方式要取完一周，直到最后一个取样点距离起始点中间相隔的扫描点数量等于或小于所述第一数量个才行，这样可以将所述图案边缘图形快速替换为可供光刻机台操作的多边形，具有很高的处理效率。
当然，所述第一数量的范围可根据实际情况自行选择，优选地，所述第一数量的范围为2个至20个，包括端点值，如2.0个、15.0个或20.0个中的任一个。
S106：利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
本发明所提供的版图生成方法，通过获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；确定所述图案边缘图形上的取样点集合；利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。本发明对已有的晶圆进行扫描，获得量测灰度图，结合量测中获取的关键尺寸数据，可以得到量测灰度图中对应晶圆边缘（也即所述图案边缘图形），再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图（也即所述多边形目标版图），本发明快速直接，处理效率高，占用算力低，生成的多边形目标版图贴近真实设计，对已有的晶圆还原度高。
在具体实施方式一的基础上，进一步对所述取样点的获得过程做限定，得到具体实施方式二，其对应的流程示意图如图3所示，包括：
S201：获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
S202：根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图。
S203：根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值。
S204：根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形。
S205：对所述图案边缘图形进行栅格化。
作为一种优选实施方式，所述对所述图案边缘图形进行栅格化包括：
以所述图案边缘图形的左下角的扫描点为坐标零点，对所述图案边缘图形进行栅格化。
所述左下角的扫描点为整个所述图案边缘图形的最左最下的扫描点，以该点作为坐标零点，可使所述图案边缘图形完全位于第一象限，从而方便后续计算，提升处理效率。当然，也可根据技术情况选择其他扫描点作为所述坐标零点，本发明在此不做限定。
S206：确定所述图案边缘图形与栅格边缘的交点，将所述交点作为取样点，得到取样点集合。
S207：利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
本具体实施方式与上述具体实施方式的不同之处在于，本具体实施方式中进一步提出了一种优选的取样点计算方法，其余步骤均与上述具体实施方式相同，在此不再展开赘述。
本优选实施方式中，对所述图案边缘图形进行栅格化，也即将所述图案边缘图形至于栅格中，再只取与栅格相交的点作为所述取样点，可大大简化各个取样点的相对位置关系的表示方法，在保持对所述图案边缘图形的高相似性的同时，提升运算效率，得到与所述量测灰度图更近似的多边形目标版图。
优选地，所述栅格的边长的范围为1纳米至10纳米，包括端点值，如1.0纳米、5.6纳米或10.0纳米中的任一个。边长越小，计算量越大，所述多边形目标版图的准确度也高，上述范围为经过大量理论计算与实际检验后得到的平衡准确度与计算量的范围，当然，也可以根据实际情况作相应调整，本发明在此不作限定。
下面对本发明实施例提供的版图生成装置进行介绍，下文描述的版图生成装置与上文描述的版图生成方法可相互对应参照。
图4为本发明实施例提供的版图生成装置的结构框图，参照图4版图生成装置可以包括：
获取模块100，用于获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
曲线模块200，用于根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
灰度模块300，用于根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
边缘模块400，用于根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；
取样模块500，用于确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
连接模块600，用于利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
作为一种优选实施方式，所述获取模块100包括：
SEM单元，用于通过关键尺寸扫描电子显微镜获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
作为一种优选实施方式，所述曲线模块200包括：
路径灰度单元，用于根据所述量测灰度图获取所述量测路径对应的路径灰度信息；
归一化单元，用于将所述路径灰度信息进行归一化处理，得到标准灰度信息；
灰度曲线单元，用于根据所述量测路径及所述标准灰度信息，确定路径灰度曲线图。
作为一种优选实施方式，所述取样模块500包括：
间隔取样单元，用于在所述图案边缘图形上，每间隔第一数量个扫描点，确定一个取样点，得到取样点集合。
作为一种优选实施方式，所述取样模块500包括：
栅格化单元，用于对所述图案边缘图形进行栅格化；
取交点单元，用于确定所述图案边缘图形与栅格边缘的交点，将所述交点作为取样点，得到取样点集合。
作为一种优选实施方式，所述取样模块500包括：
左下栅格化单元，用于以所述图案边缘图形的左下角的扫描点为坐标零点，对所述图案边缘图形进行栅格化。
本发明所提供的版图生成装置，通过获取模块100，用于获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；曲线模块200，用于根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；灰度模块300，用于根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；边缘模块400，用于根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；取样模块500，用于确定所述图案边缘图形上的取样点集合；连接模块600，用于利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。本发明对已有的晶圆进行扫描，获得量测灰度图，结合量测中获取的关键尺寸数据，可以得到量测灰度图中对应晶圆边缘（也即所述图案边缘图形），再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图（也即所述多边形目标版图），本发明快速直接，处理效率高，占用算力低，生成的多边形目标版图贴近真实设计，对已有的晶圆还原度高。
本实施例的版图生成装置用于实现前述的版图生成方法，因此版图生成装置中的具体实施方式可见前文中的版图生成方法的实施例部分，例如，获取模块100，曲线模块200，灰度模块300，边缘模块400，取样模块500，连接模块600，分别用于实现上述版图生成方法中步骤S101，S102，S103，S104，S105及S106，所以，其具体实施方式可以参照相应的各个部分实施例的描述，在此不再赘述。
本发明还提供了一种版图生成设备，包括：
存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行所述计算机程序时实现如上述任一种所述的版图生成方法的步骤。本发明所提供的版图生成方法，通过获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；确定所述图案边缘图形上的取样点集合；利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。本发明对已有的晶圆进行扫描，获得量测灰度图，结合量测中获取的关键尺寸数据，可以得到量测灰度图中对应晶圆边缘（也即所述图案边缘图形），再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图（也即所述多边形目标版图），本发明快速直接，处理效率高，占用算力低，生成的多边形目标版图贴近真实设计，对已有的晶圆还原度高。
本发明还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述任一种所述的版图生成方法的步骤。本发明所提供的版图生成方法，通过获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；确定所述图案边缘图形上的取样点集合；利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。本发明对已有的晶圆进行扫描，获得量测灰度图，结合量测中获取的关键尺寸数据，可以得到量测灰度图中对应晶圆边缘（也即所述图案边缘图形），再在图案边缘图形上取多个取样点，连接取样点即可得到多边形化的晶圆版图（也即所述多边形目标版图），本发明快速直接，处理效率高，占用算力低，生成的多边形目标版图贴近真实设计，对已有的晶圆还原度高。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
需要说明的是，在本说明书中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
专业人员还可以进一步意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现，为了清楚地说明硬件和软件的可互换性，在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。
结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块，或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器（RAM）、内存、只读存储器（ROM）、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。
以上对本发明所提供的版图生成方法、装置、设备及介质进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (10)
1.一种版图生成方法，其特征在于，包括：
获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；
确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
2.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据包括：
通过关键尺寸扫描电子显微镜获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据。
3.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，在根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图包括：
根据所述量测灰度图获取所述量测路径对应的路径灰度信息；
将所述路径灰度信息进行归一化处理，得到标准灰度信息；
根据所述量测路径及所述标准灰度信息，确定路径灰度曲线图。
4.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
在所述图案边缘图形上，每间隔第一数量个扫描点，确定一个取样点，得到取样点集合。
5.如权利要求1所述的版图生成方法，其特征在于，所述确定所述图案边缘图形上的取样点集合包括：
对所述图案边缘图形进行栅格化；
确定所述图案边缘图形与栅格边缘的交点，将所述交点作为取样点，得到取样点集合。
6.如权利要求5所述的版图生成方法，其特征在于，所述对所述图案边缘图形进行栅格化包括：
以所述图案边缘图形的左下角的扫描点为坐标零点，对所述图案边缘图形进行栅格化。
7.如权利要求5所述的版图生成方法，其特征在于，所述栅格的边长的范围为1纳米至10纳米，包括端点值。
8.一种版图生成装置，其特征在于，包括：
获取模块，用于获取量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；
曲线模块，用于根据所述量测路径及所述量测灰度图，确定路径灰度曲线图；
灰度模块，用于根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；
边缘模块，用于根据所述边缘灰度值在所述量测灰度图上确定图案边缘图形；
取样模块，用于确定所述图案边缘图形上的取样点集合；
连接模块，用于利用直线依次连接所述取样点集合中的取样点，得到封闭的多边形目标版图。
9.一种版图生成设备，其特征在于，包括：
存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1至7任一项所述的版图生成方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的版图生成方法的步骤。
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