CN114702336A - 一种白聚晶干粒陶瓷岩板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于陶瓷建材领域,具体提供一种白聚晶干粒陶瓷岩板及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤:在坯体表面施底釉;在施底釉后的坯体表面喷墨打印效果图案;在喷墨打印效果图案后的坯体表面施隔离釉,所述隔离釉的始融温度为1000‑1050℃;在施隔离釉后的坯体表面定位布施白聚晶干粒,白聚晶干粒的始融温度为1050‑1100℃,白聚晶干粒的始融温度高于隔离釉50‑100℃;在布施白聚晶干粒后的坯体表面施透明釉;将施透明釉后的坯体进窑烧成并抛光,获得所述白聚晶干粒陶瓷岩板。所述白聚晶干粒陶瓷岩板的晶花点缀效果好,抛光后版面通透。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷建材领域,具体涉及一种白聚晶干粒陶瓷岩板及其制备方法。
背景技术
随着陶瓷制品应用场景的日益增加和市场的大力推广,作为建筑装饰材料以及家装材料的陶瓷岩板种类越来越多,为此消费者对岩板材质、图案层次、纹理花色提出更高要求。传统的聚晶微粉砖生产工艺将坯体微粉加色料混合并通过干法布料压制成型,烧成后经抛光制得聚晶产品,装饰花色单一,装饰效果差。
发明内容
为了丰富陶瓷岩板的装饰技术,本发明提供一种白聚晶干粒陶瓷岩板及其制备方法。所述白聚晶干粒陶瓷岩板在砖面形成不同形状的白色晶花,搭配合适且色彩丰富的喷墨图案,而形成具有特殊晶花效果、立体感强的岩板产品。相对普通的喷墨自然面陶瓷岩板,白聚晶干粒陶瓷岩板的晶花点缀效果好,抛光后版面通透,尤其是配合浅灰、米黄等色系的图案,可以得到更好的装饰效果。
第一方面,本发明提供一种白聚晶干粒陶瓷岩板的制备方法。所述制备方法包括以下步骤:
在坯体表面施底釉;在施底釉后的坯体表面喷墨打印效果图案;在喷墨打印效果图案后的坯体表面施隔离釉,所述隔离釉的始融温度为1000-1050℃;所述隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:48-50%、Al2O3:10-13%、TiO2:1.0-2.0%、碱土金属氧化物:15-19%、碱金属氧化物:4.5-7.5%、ZnO:5.0-6.0%;在施隔离釉后的坯体表面定位布施白聚晶干粒,白聚晶干粒的始融温度为1050-1100℃,白聚晶干粒的始融温度高于隔离釉50-100℃;所述白聚晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:41-45%、Al2O3:13-15%、碱土金属氧化物:24-29.5%、碱金属氧化物:3.5-6.0%、ZrO2:6.0-7.0%、F:2.5-3%;在布施白聚晶干粒后的坯体表面施透明釉;将施透明釉后的坯体进窑烧成并抛光,获得所述白聚晶干粒陶瓷岩板。
较佳地,所述白聚晶干粒的矿物组成包括:以质量百分比计,钠长石30-35%、钾长石10-13%、萤石4-6%、白云石20-25%、方解石3-5%、碳酸钡7-8%、锆英粉7-9%、烧土8-12%。
较佳地,所述白聚晶干粒的施加量为400-600g/m2。
较佳地,所述白聚晶干粒的粒径为40-150目。
较佳地,所述隔离釉的施加方式为喷釉;所述隔离釉的比重为1.35-1.40g/cm3,施釉量为200-250g/m2。
较佳地,所述透明釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:55-60%、Al2O3:15-18%、碱土金属氧化物:13-17%、碱金属氧化物:5.5-8.0%、ZnO:5.0-6.0%。
较佳地,所述透明釉的施加方式为淋釉;所述透明釉的比重为1.55-1.58g/cm3,施釉量为1160-1170g/m2。
较佳地,所述底釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:56-60%、Al2O3:28-30%、碱土金属氧化物:2.1-3.3%、碱金属氧化物:7.0-9.5%。
较佳地,所述烧成的最高烧成温度为1180-1220℃,烧成时间为60-90分钟。
第二方面,本发明提供一种白聚晶干粒陶瓷岩板,采用上述任一项所述的制备方法获得。一些技术方案中,所述陶瓷岩板的规格为长2700-3600mm×宽900-1800mm×厚度5-15mm。
附图说明
图1是实施例1制备的白聚晶干粒陶瓷岩板的效果图;
图2是对比例4制备的陶瓷岩板没有形成白聚晶的效果图。
具体实施方式
通过下述实施方式进一步说明本发明,应理解,下述实施方式仅用于说明本发明,而非限制本发明。在没有特殊说明的情况下,各百分含量指质量百分含量。以下示例性说明本发明所述白聚晶干粒陶瓷岩板的制备方法。
将岩板坯料压制成型获得陶瓷岩板的坯体。所述岩板坯料的化学组成和原料组成不受限制,采用本领域常用的岩板坯料即可。作为示例,所述岩板坯料的化学组成可包括:以质量百分比计,烧失:4.0-4.8%、SiO2:60-65%、Al2O3:20-22%、Fe2O3:0.1-0.5%、TiO2:0.05-0.3%、CaO:0.4-0.5%、MgO:0.5-1.0%、K2O:2.0-3.0%、Na2O:3.0-4.0%。上述化学组成的岩板坯料经过成型得到的岩板坯体具有高白度。一些实施方式中,坯体的白度为60-80度。
岩板坯料的颗粒级配对坯体的成型性能具有一定影响。所述岩板坯料的颗粒级配可包括:以质量百分比计,30目以上:20-25%;30-80目:60-70%;80目以下:≦6%。30目以上指的是停留在30目筛网的部分。80目以下指的是通过80目筛网的部分。将岩板坯料的颗粒级配控制在上述范围内,坯料流动性高,不易引起分层。否则,岩板坯料过细,容易引起分层;岩板坯料过粗,后续坯料喷雾干燥的产率低,收集困难而造成物料浪费严重。
制备岩板坯料时,将岩板坯料的各原料组成混合,加水球磨均匀,喷雾干燥即得所述岩板坯料。此为本领域常规操作。上述岩板坯料的水分含量优选为8.5±3wt%。
压制成型的方式包括但不限于干压成型。压制成型的工艺参数可根据实际需要进行适应性调整。例如,压机的压力为360-380bar,成型次数为1.65/分钟。
将坯体干燥。可采用干燥窑干燥。一些实施方式中,干燥时间为50-60分钟,干燥后坯体的水分控制在0.1-0.5wt%以内。
在干燥后的坯体表面施底釉,遮盖坯体的底色和瑕疵,增强表面装饰效果,起到增白作用。底釉的组成不受限制,采用本领域常用的底釉即可。常规的锆白釉也可以用于本发明,不过硅酸锆成本高放射性强。本发明优选采用高硅高铝体系的底釉。所述底釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:56-60%、Al2O3:28-30%、碱土金属氧化物:2.1-3.3%、碱金属氧化物:7.0-9.5%。一些实施方式中,所述底釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:56-60%、Al2O3:28-30%、CaO:2.0-3.0%、MgO:0.1-0.3%、K2O:4.0-5.5%、Na2O:3.0-4.0%。上述化学组成的底釉白度高,耐火度强,高温粘度大,能够避免坯体产生痱子,防止气体难以排除形成针孔、气泡等缺陷。作为示例,所述底釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:2.0-3.5%、SiO2:56-60%、Al2O3:28-30%、Fe2O3:0.2-0.3%、TiO2:0.03-0.05%、CaO:2.0-3.0%、MgO:0.1-0.3%、K2O:4.0-5.5%、Na2O:3.0-4.0%。
在实际应用中,可根据需要在底釉中加入色料以丰富装饰。当然,也可以在制备过程中加入三聚磷酸钠或者羧甲基纤维素钠等助剂以调节浆料的悬浮性能等。所述底釉对细度的要求是过325目筛网的筛余为0.5-0.8wt%。
上述底釉的施加方式可为喷釉。一些实施方式中,所述底釉的比重为1.40-1.45g/cm3,施釉量为450-460g/m2。如底釉的施加量过低,无法遮盖坯体底色和瑕疵,以及釉层容易出现针孔和气泡;如底釉的施加量过高,坯体的入窑水分过高导致水分排除速率太快引起坯体破裂。
在研发过程中使用过高硅低铝体系的底釉。该底釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:2.0-3.5%、SiO2:70-75%、Al2O3:18-22%、Fe2O3:0.2-0.3%、TiO2:0.03-0.05%、CaO:2.0-3.0%、MgO:0.1-0.3%、K2O:3.0-4.5%、Na2O:3.0-4.0%;底釉的上述化学组成的质量百分比之和为100%。所述高含量的二氧化硅由游离石英引入。由于配方中有大量的游离石英未被熔融,釉面出现痱子和针孔。
在坯体表面施底釉之前,还可使坯体经过抛坯机打磨、入干燥窑干燥、出干燥窑后扫坯。
在施底釉后的坯体表面喷墨打印效果图案。效果图案的纹理和花色根据版面设计作适应性变化。
在喷墨打印效果图案后的坯体表面施隔离釉。隔离釉可以保护喷墨打印效果图案,避免图案发蒙。所述隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:48-50%、Al2O3:10-13%、TiO2:1.0-2.0%、碱土金属氧化物:15-19%、碱金属氧化物:4.5-7.5%、ZnO:5.0-6.0%。高硅低铝体系的隔离釉有利于白聚晶效果的形成。隔离釉的氧化铝含量太高会导致熔融温度高的玻璃相过量,使得生成的聚晶重新溶解。同时,氧化硅的粘度大,高含量的氧化硅可以作为玻璃网络形成体,促进聚晶。上述隔离釉的始融温度为1000-1050℃。一些技术方案中,所述隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:48-50%、Al2O3:10-13%、TiO2:1.0-2.0%、CaO:11-13%、MgO:4.0-6.0%、K2O:2.0-3.0%、Na2O:2.5-4.5%、ZnO:5.0-6.0%。作为示例,所述隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:7.5-8.5%、SiO2:48-50%、Al2O3:10-13%、Fe2O3:0.1-0.4%、TiO2:1.0-2.0%、CaO:11-13%、MgO:4.0-6.0%、K2O:2.0-3.0%、Na2O:2.5-4.5%、ZnO:5.0-6.0%。
所述隔离釉的施加方式可为喷釉。优选为薄法喷釉。所述隔离釉的比重为1.35-1.40g/cm3,施釉量为200-250g/m2。如隔离釉的施加量过低,砖面容易出现釉坑、缩釉等缺陷;如隔离釉的施加量过高,会导致白聚晶被溶解而无法出现聚晶效果。淋釉的方式不适合于所述隔离釉的施加,原因是钟罩淋釉或者直线淋釉通常用于大量釉料的施加。还发现,省略隔离釉的使用会导致油性的喷墨墨水和水性的透明釉由于物理排斥作用导致釉面被排开而使得釉面不平整,这同样会影响白聚晶效果的呈现。本发明所述隔离釉的化学组成和施釉参数经特殊设计及试验验证,能够与白聚晶干粒和透明釉组成相匹配,有助于产品釉面质量的提升。
在施隔离釉后的坯体表面定位布施白聚晶干粒。所述白聚晶干粒的化学组成可包括:以质量百分比计,SiO2:41-45%、Al2O3:13-15%、碱土金属氧化物:24-29.5%、碱金属氧化物:3.5-6.0%、ZrO2:6.0-7.0%、F:2.5-3%。在白聚晶干粒的化学组成中引入了氧化锆、氟作为晶核剂,在高温烧成过程中,大部分的晶核被熔掉,冷却过程中剩下的少量晶核作为生长中心形成白聚晶。上述白聚晶干粒的始融温度为1050-1100℃。白聚晶干粒的始融温度应该高于隔离釉的始融温度。原因是如果白聚晶干粒的始融温度低于隔离釉的始融温度,会导致砖面出现针孔和痱子。作为优选,白聚晶干粒和隔离釉的始融温度差值控制在50-100℃的。如果白聚晶干粒和隔离釉的始融温度差值低于50℃,会导致表面凹坑且无白聚晶效果。
一些实施方式中,所述白聚晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:41-45%、Al2O3:13-15%、CaO:14-17%、MgO:5.0-6.5%、K2O:1.0-2.0%、Na2O:2.5-4.0%、ZrO2:6.0-7.0%、BaO:5.0-6.0%、F:2.5-3%。作为示例,白聚晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:1.0-2.0%、SiO2:41-45%、Al2O3:13-15%、Fe2O3:0.01-0.05%、TiO2:0.05-0.2%、CaO:14-17%、MgO:5.0-6.5%、K2O:1.0-2.0%、Na2O:2.5-4.0%、ZrO2:6.0-7.0%、BaO:5.0-6.0%、F:2.5-3%。
上述白聚晶干粒的矿物组成包括:以质量百分比计,钠长石30-35%、钾长石10-13%、萤石4-6%、白云石20-25%、方解石3-5%、碳酸钡7-8%、锆英粉7-9%、烧土8-12%。在此说明的是,中国专利CN 110845227A公开的晶花干粒釉的原料组成包括:以质量百分比计,钾长石:6-10%、钠长石:47-51%、石英:3.5-5.5%、氧化铝:2.5-4.5%、白云石:18.0-22.0%、碳酸钡:2-6%、氧化锌4-6%、萤石3-5%、磷酸钙:1.0-1.5%。本发明的白聚晶干粒和上述晶花干粒釉属于不同的配方体系。本发明的白聚晶干粒主要以萤石、锆英粉作为晶核,通过合适组成的隔离釉促进白聚晶的形成。而前述的晶花干粒釉则依赖烧成过程中晶花干粒釉较好的高温流动性并提供晶花对应的化学组分从而使晶花长大。
所述白聚晶干粒的粒径为40-150目。粒径过细,会使白聚晶效果不明显;粒径过粗,会影响装饰的美观性。
所述白聚晶干粒的施加量为400-600g/m2。白聚晶干粒的施加量过低,会导致晶花效果差;如白聚晶干粒的施加量过高,会导致乳浊的小白点堆积过量引起喷墨图案不清晰。
白色聚晶干粒呈颗粒状,因此可以根据装饰需求进行定位布施。定位布白聚晶干粒的方式不受限制。例如,采用先喷定位胶水后布干粒的方式,后续将未喷胶水位置的干粒回收,实现定位布白聚晶干粒的效果。在坯体表面通过数码胶水打印机定位打印胶水,然后采用干粒机布施白聚晶干粒。完成白聚晶干粒的布施后,去除未被胶水黏附的干粒。可通过吹风机将未被黏附的干粒抽走。胶水灰度会影响干粒的黏附量。可以根据实际效果调整胶水灰度。若胶水灰度小于20%,干粒黏附不牢固,容易出现干粒被抽走的现象。可通过双通道数码打印胶水。双通道的胶水灰度叠加值控制在80-100%为宜。
在布施白聚晶干粒后的坯体表面施透明釉。所述透明釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:55-60%、Al2O3:15-18%、碱土金属氧化物:13-17%、碱金属氧化物:5.5-8.0%、ZnO:5.0-6.0%。所述透明釉的始融温度为1050-1100℃,可以避免白聚晶被溶解。一些实施方式中,所述透明釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:0.5-1.5%、SiO2:55-60%、Al2O3:15-18%、Fe2O3:0.1-0.2%、TiO2:0.1-0.2%、CaO:7.0-9.0%、MgO:5.0-6.0%、K2O:3.0-5.0%、Na2O:2.5-3.0%、ZnO:5.0-6.0%、SrO:1.0-2.0%。例如,所述透明釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:0.5%、SiO2:55%、Al2O3:15%、Fe2O3:0.1%、TiO2:0.1%、CaO:8.0%、MgO:5.0%、K2O:3.0%、Na2O:2.5%、ZnO:5.0%、SrO:2.0%。
所述透明釉的施加方式为淋釉。在高温烧成环境下透明釉熔融形成的玻璃相将白聚晶干粒进一步固定,增加釉面透感,晶花堆积形成白聚晶的部位甚至可以形成线条效果。白聚晶干粒被熔融后,由于高温粘度低,烧成过程中干粒没有和透明釉完全熔融,冷却时重新凝聚形成彼此黏连并堆砌形成白色小晶花。
所述透明釉的比重为1.55-1.58g/cm3,施釉量为1160-1170g/m2。透明釉的施釉量过低,无法完全覆盖定位布施的白聚晶干粒。透明釉的施釉量过高又会影响釉层的稳定性,包括降低坯体的强度导致烂砖以及破坏砖形。
将施透明釉后的坯体干燥并进窑烧成,获得白聚晶干粒陶瓷岩板。最高烧成温度为1180-1220℃,烧成时间为60-90分钟。作为示例,最高烧成温度为1220℃,烧成时间为80分钟。
烧成后进行抛光。当然也可以在抛光后的岩板表面打超洁亮蜡水以使得陶瓷板面的表面光泽度达到95度以上。
本发明所述白聚晶干粒陶瓷岩板在砖面形成不同形状的白色晶花,搭配合适且色彩丰富的喷墨图案,而形成具有特殊晶花效果、立体感强的岩板产品。相对普通的喷墨自然面陶瓷岩板,白聚晶干粒陶瓷岩板的晶花点缀效果好,抛光后版面通透,尤其是配合浅灰、米黄等色系的图案,可以得到更好的装饰效果。
除此之外,所述白聚晶干粒陶瓷岩板适用范围广,不受环境因素影响,能广泛应用于各种内墙及地面及背景墙家居桌面面板的装饰;岩板完全烧结的吸水率控制在0.1wt%以内,抛光后经过打超洁亮蜡水处理的防污效果好,光泽度高,易清扫;持久耐用,性能稳定,受时间、环境影响因素较小,耐磨度高,可长久保持如新感觉,使用寿命长,具有广阔的市场经济效益。
下面进一步列举实施例以详细说明本发明。同样应理解,以下实施例只用于对本发明进行进一步说明,不能理解为对本发明保护范围的限制,本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例,即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择,而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
白聚晶干粒陶瓷岩板的制备方法包括以下步骤:
步骤1. 将岩板坯料压制成型获得陶瓷岩板的坯体;
步骤2. 在坯体表面施底釉;所述底釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:2.0%、SiO2:56%、Al2O3:28%、Fe2O3:0.2%、TiO2:0.03%、CaO:2.0%、MgO:0.1%、K2O:4.0%、Na2O:3.0%;所述底釉的施加方式为喷釉;底釉的比重为1.43g/cm3,施釉量为450 g/m2;
步骤3. 在施底釉后的坯体表面喷墨打印效果图案;
步骤4. 在喷墨打印效果图案后的坯体表面施隔离釉;所述隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:7.5%、SiO2:48%、Al2O3:10%、Fe2O3:0.1%、TiO2:1.0%、CaO:11%、MgO:4.0%、K2O:2.0%、Na2O:2.5%、ZnO:5.0%;所述隔离釉的施加方式为喷釉;隔离釉的比重为1.35 g/cm3,施釉量为220g/m2;
步骤5. 在施隔离釉后的坯体表面定位布施白聚晶干粒;所述白聚晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:1.0%、SiO2:41%、Al2O3:13%、Fe2O3:0.01%、TiO2:0.05%、CaO:14%、MgO:5.0%、K2O:1.0%、Na2O:2.5%、ZrO2:6.0%、BaO:5.0%、F:2.5%;所述白聚晶干粒的施加量为400g/m2;
步骤6. 在定位布施白聚晶干粒后的坯体表面施透明釉;所述透明釉的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:0.5%、SiO2:55%、Al2O3:15%、Fe2O3:0.1%、TiO2:0.1%、CaO:8.0%、MgO:5.0%、K2O:3.0%、Na2O:2.5%、ZnO:5.0%、SrO:2.0%;所述透明釉的施加方式为淋釉;透明釉的比重为1.55 g/cm3,施釉量为1160g/m2;
步骤7. 将施透明釉后的坯体干燥并进窑烧成,获得白聚晶干粒陶瓷岩板;窑炉的最高烧成温度为1220℃,烧成时间为80分钟。
图1示出白聚晶干粒陶瓷岩板的砖面效果。可以看出,白聚晶干粒陶瓷岩板在砖面形成聚集的白色晶花,能够更好地还原石材和聚晶效果。而且,该产品的放射性符合国家标准。
对比例1
与实施例1基本相同,区别在于:省略步骤4。
该对比例烧成后的岩板表面没有白聚晶效果。这是因为如果省去隔离釉,白聚晶干粒与透明釉与喷墨打印效果图案直接接触,喷墨打印采用的墨水由高温稳定的发色粒子组成,不利于白聚晶干粒和透明釉在较低的温度下流动,从而无法实现白聚晶效果。
对比例2
与实施例1基本相同,区别在于:白聚晶干粒的施加量为200g/ m2。
降低白聚晶干粒的施加量后,烧成后的岩板表面没有白聚晶效果,这是因为白聚晶干粒的施加量低导致少量的析晶无法生成过饱和状态的成晶体物质,难以形成晶核。
对比例3
与实施例1基本相同,区别仅在于:隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:48-50%;Al2O3:18-20%;TiO2:1.0-2.0%;CaO:11-13%;MgO:2.0-4.0%;K2O:2.0-3.0%;Na2O:2.5-4.5%;ZnO:5.0-6.0%。
该对比例烧成后的岩板表面没有白聚晶效果。所述隔离釉的氧化铝含量较高使得析出的晶体被溶解而无法堆积形成白聚晶。
对比例4
与实施例1基本相同,区别在于:所述白聚晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,烧失:1.0-2.0%、SiO2:43-48%、Al2O3:16-17%、Fe2O3:0.01-0.05%、TiO2:0.05-0.2%、CaO:12-14%、MgO:4.0-5.5%、K2O:1.0-2.0%、Na2O:2.5-4.0%、ZrO2:6.0-7.0%、BaO:4.0-5.0%、F:2.5-3%。
该对比例的白聚晶干粒提高Al2O3含量、降低CaO和MgO含量,导致白聚晶干粒高温粘度大难以形成白聚晶。
Claims (10)
1.一种白聚晶干粒陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
在坯体表面施底釉;在施底釉后的坯体表面喷墨打印效果图案;在喷墨打印效果图案后的坯体表面施隔离釉,所述隔离釉的始融温度为1000-1050℃;所述隔离釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:48-50%、Al2O3:10-13%、TiO2:1.0-2.0%、碱土金属氧化物:15-19%、碱金属氧化物:4.5-7.5%、ZnO:5.0-6.0%;在施隔离釉后的坯体表面定位布施白聚晶干粒,白聚晶干粒的始融温度为1050-1100℃,白聚晶干粒的始融温度高于隔离釉50-100℃;所述白聚晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:41-45%、Al2O3:13-15%、碱土金属氧化物:24-29.5%、碱金属氧化物:3.5-6.0%、ZrO2:6.0-7.0%、F:2.5-3%;在布施白聚晶干粒后的坯体表面施透明釉;将施透明釉后的坯体进窑烧成并抛光,获得所述白聚晶干粒陶瓷岩板。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述白聚晶干粒的矿物组成包括:以质量百分比计,钠长石30-35%、钾长石10-13%、萤石4-6%、白云石20-25%、方解石3-5%、碳酸钡7-8%、锆英粉7-9%、烧土8-12%。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述白聚晶干粒的施加量为400-600g/m2。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述白聚晶干粒的粒径为40-150目。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述隔离釉的施加方式为喷釉;所述隔离釉的比重为1.35-1.40g/cm3,施釉量为200-250g/m2。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述透明釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:55-60%、Al2O3:15-18%、碱土金属氧化物:13-17%、碱金属氧化物:5.5-8.0%、ZnO:5.0-6.0%。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述透明釉的施加方式为淋釉;所述透明釉的比重为1.55-1.58g/cm3,施釉量为1160-1170g/m2。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述底釉的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:56-60%、Al2O3:28-30%、碱土金属氧化物:2.1-3.3%、碱金属氧化物:7.0-9.5%。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述烧成的最高烧成温度为1180-1220℃,烧成时间为60-90分钟。
10.一种白聚晶干粒陶瓷岩板,其特征在于,根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法得到。
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