CN103824616B - 导电膜及其制造方法、触控元件、触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种导电膜及其制造方法、触控元件、触控显示装置，该导电膜包括：具有两个相对设置的表面的基底，至少一个表面上设有感应区及位于感应区边缘的边框区；设于至少一个表面上的感应区的多个电极；设于至少一个表面上的边框区的多个引线电极，多个引线电极分别与多个电极电连接，每个引线电极为由至少两条相互间隔设置的导电线条组成的线簇，线簇的每两条相邻的导电线条之间设有至少一条搭接线。上述导电膜的引线电极为由至少两条导电线条组成的线簇，并且在相邻两条导电线条之间引入了搭接线，从而增加了引线电极的线簇中的导电节点，增强了引线电极的导电性能，并且提高了导电稳定性，改善了良率。

Description

导电膜及其制造方法、触控元件、触控显示装置

【技术领域】

本发明涉及一种触摸感应元件，特别是涉及一种导电膜及其制造方法、触控元件、触控显示装置。

【背景技术】

导电膜是具有良好导电性和在可见光波段具有高透光率的一种薄膜。目前，导电膜已广泛应用于平板显示、光伏器件、触控面板和电磁屏蔽等领域，具有极其广阔的市场空间。

导电膜是触摸屏中接收触摸位置等输入信号的感应元件。传统的导电膜采用的引线电极，一般是分为导电线条类型的和导电网格类型的。其中，导电线条类型的引线电极为在每一个透明电极的边缘引出若干条彼此平行的独立的导电线条组成的引线的线簇。传统的引线的线簇作为引线电极的导电能力不强，且容易因其中一处导电线条断开，而造成整个一组引线线簇的电性的大幅度下降，良率较低。

【发明内容】

鉴于上述状况，有必要提供一种导电性能较强、并且良率较高的导电膜。

一种导电膜，包括：

具有两个相对设置的表面的基底，至少一个所述表面上设有感应区及位于所述感应区边缘的边框区；

设于至少一个所述表面上的所述感应区的多个电极；以及

设于至少一个所述表面上的所述边框区的多个引线电极，所述多个引线电极分别与所述多个电极电连接，每个所述引线电极为由至少两条相互间隔设置的导电线条组成的线簇，所述线簇的每两条相邻的导电线条之间设有至少一条搭接线。

上述导电膜的引线电极为由至少两条间隔设置的导电线条组成的线簇，并且在相邻两条导电线条之间引入了搭接线，从而增加了引线电极的线簇中的导电节点，增强了引线电极的导电性能。并且，当引线电极的线簇中在某一条导电线条的某一处发生断线的时候，仍能保证引线电极可以通过线簇中的其他节点和线路导通，从而提高了导电稳定性，改善了良率。

在其中一个实施例中，每一个所述引线电极的线簇包括有2～5条所述导电线条。

在其中一个实施例中，所述至少一个所述表面的边框区设有内嵌入所述基底内的线条状凹槽，所述线簇的导电线条填充入所述线条状凹槽内；

或者，所述线簇的导电线条凸设于所述至少一个所述表面的边框区。

在其中一个实施例中，所述线簇的导电线条的形状选自直线段、折线段及曲线段其中的任意一种或者其组合。

在其中一个实施例中，所述至少一个所述表面的边框区设有内嵌入所述基底内的线条状凹槽，所述搭接线为填充入所述线条状凹槽内的导电连接线；

或者，所述搭接线为凸设于所述至少一个所述表面的边框区的导电连接线。

在其中一个实施例中，所述引线电极的位于相邻两条所述导电线条之间的搭接线为多条，并且所述多条搭接线之间的间距为10～60μm。

在其中一个实施例中，所述搭接线的形状选自直线段、折线段及曲线段其中的任意一种或者其组合。

在其中一个实施例中，所述电极为由导电材料形成的图形化的导电网格。

在其中一个实施例中，所述至少一个所述表面的感应区设有内嵌入所述基底内的网格状凹槽，所述电极填充入所述网格状凹槽内；

或者，所述电极凸设于所述至少一个所述表面的感应区。

在其中一个实施例中，所述导电网格的网格图形为规则的网格图形，或者不规则的随机网格图形。

在其中一个实施例中，所述导电网格的网格图形的边线为直线段、折线段及曲线段其中的任意一种或者其组合。

在其中一个实施例中，所述导电网格或所述导电线条的线宽为1μm～10μm，高度为2μm～6μm；且所述导电网格的网格线线宽小于所述导电线条的线宽。

在其中一个实施例中，所述导电网格的线宽为1μm～6μm，高度为2μm～6μm；且所述导电线条和搭接线的线宽大于所述导电网格的网格线线宽。

在其中一个实施例中，所述导电网格的线宽为1μm～5μm，高度为2μm～6μm；所述导电线条和搭接线的线宽大于所述导电网格的网格线线宽。

在其中一个实施例中，所述基底为透明基底，或者由所述透明基底及设于所述透明基底上的透明聚合物层组成的复合基底。

在其中一个实施例中，所述透明基底为刚性基底或柔性基底；

所述透明聚合物层为UV胶层、压印胶层或聚碳酸酯层；

所述电极、所述引线电极以及所述搭接线的导电材料为Cu、Ag、Ag-C、Al、Ni、Cr、以及Ni-P中的任意一种或者其中几种的合金。

在其中一个实施例中，所述电极为由导电材料形成的图形化的导电网格，所述导电网格或/及所述线簇的线宽为1μm～5μm，高度为2μm～6μm。

在其中一个实施例中，在所述至少一个所述表面的边框区设有内嵌入所述基底内的线条状凹槽，所述线簇的导电线条及所述搭接线填充入所述线条状凹槽内；所述线条状凹槽的横截面的宽度为W1，深度为H1，深宽比为H1/W1，并且H1/W1比值为0.5～2；其中，当所述基底为透明基底时，所述线条状凹槽的深度小于所述透明基底，当所述基底为复合基底时，所述线条状凹槽的深度小于所述复合基底中的透明聚合物层的厚度；

或/及，所述至少一个所述表面的感应区设有内嵌入所述基底内的网格状凹槽，所述电极填充入所述网格状凹槽内；所述网格状凹槽的横截面的宽度为W2，深度为H2，深宽比为H2/W2，并且H2/W2的比值为0.5～2；其中，当所述基底为透明基底时，所述网格状凹槽的深度小于所述透明基底；当所述基底为复合基底时，所述网格状凹槽的深度小于所述复合基底中的透明聚合物层的厚度。

在其中一个实施例中，所述H1/W1比值或/及所述H2/W2的比值为0.8。

在其中一个实施例中，所述导电膜的透过率不小于86%；

或/及，所述透明导电薄膜还包括覆盖在所述电极以及所述引线电极上的透明保护层。

同时，本发明又提供一种采用导电膜的触控元件及触控显示装置。

一种触控元件，包括盖板以及上述的导电膜。

一种触控显示装置，其包括：

上述的触控元件，所述基底为透明基底，所述电极为透明电极；以及

显示模组，与所述触控元件对应层叠设置。

另外，本发明还提供一种导电膜的制造方法。

一种导电膜的制造方法，包括如下步骤：

提供一基底，所述基底具有两个相对的表面，至少一个所述表面上设有感应区及位于所述感应区边缘的边框区；

在至少一个所述表面上的所述感应区形成多个电极；

在至少一个所述表面上的所述边框区形成多个引线电极，所述多个引线电极分别与所述多个电极电连接，每个所述引线电极为由至少两条相互间隔的导电线条组成的线簇，所述线簇的每两条相邻的导电线条之间设有至少一条搭接线。

在其中一个实施例中，所述电极、所述引线电极及所述搭接线凸设于所述基底的至少一个所述表面上，并且通过曝光显影、丝网印刷或喷墨打印的方式成型。

在其中一个实施例中，所述基底的至少一个所述表面上通过压印的方式成型有分别对应所述电极、所述引线电极及所述搭接线的凹槽，所述电极、所述引线电极及所述搭接线由填充于所述凹槽内的导电材料形成。

在其中一个实施例中，对应所述电极的凹槽为网格状凹槽，对应于所述引线电极及所述搭接线的凹槽为线条状凹槽。

【附图说明】

图1为本发明的实施方式的导电膜的结构示意图；

图2(a)至图2(h)为图1所示的导电膜的电极的导电网格形状的不同实施例；

图3为图1所示的导电膜的电极的导电网格形状的放大图；

图4(a)至图4(c)为图1所示的导电膜的不同实施例的轴向剖视图；

图5(a)至图5(l)为图1所示的导电膜的引线电极的不同实施例的结构示意图；

图6(a)至图6(c)为图1所示的导电膜在电极及引线电极上覆盖透明保护层时的不同实施例的剖视图；

图7为图1所示的导电膜的引线电极对应的凹槽的深宽比的示意图；

图8为图1所示的导电膜的电极对应的凹槽的深宽比的示意图。

【具体实施方式】

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，本发明的实施方式的导电膜100，包括基底110、多个电极120以及多个引线电极130，多个引线电极130用于将多个电极120上产生的电信号引出并传输到外部。

基底110具有两个相对设置的表面，至少一个表面上设有感应区及位于感应区边缘的边框区。基底110可以为透明基底，也可以为由透明基底及设于透明基底上的透明聚合物层组成的复合基底。

进一步地，透明基底可以为刚性基底，例如，玻璃、石英等，也可以为柔性基底，例如，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)等。透明聚合物层可以为UV胶层、压印胶层或聚碳酸酯层等等。

多个电极120设于基底110的至少一个表面上的感应区。例如，多个电极120可以设置在基底110的其中一个表面上，多个电极120为相互平行设置，形成一维电极层。或者，多个电极120分成两组，分别沿两个不同的方向排列，每一组中的电极120均相互平行设置，以在基底的同一侧上叠加形成二维电极层；或者，多个电极120也可以分成两组，分别沿两个不同的方向排列设置在基底110的两个表面上，每个表面上的电极120相互平行设置，以在透明基底110上叠加形成二维电极层。

具体在图示的实施例中，导电膜100为应用于触控元件等要求高透光率的产品上的透明的导电膜，所以电极120为透明电极，例如，电极120可以采用ITO等透明导电材料形成的条带制成；或者电极120也可以为采用金属等不透明材料形成的导电网格制成，由于网格线的线宽、线距和网孔直径配置为小于人眼的分辨能力，所以仍能保证电极120相对于人眼具有透明的视觉效果。由于铟资源的稀缺性，以及触控屏幕类产品对柔性、导电性越来越高的要求，所以本实施例中，可以采用Cu、Ag、Ag-C、Al、Ni、Cr、以及Ni-P的一种或几种的合金材料形成导电网格作为电极120。这样可以实现降低产品的成本，并大幅度地改善导电膜的导电性能和柔韧性，简化产品工艺。

需要说明的是，在其他实施例中，电极120不限于为透明电极，基底110不限于为透明基底，电极120也可以为非透明电极，基底11也可以为非透明基底，例如，当导电膜110用于写字板、笔记本电脑的触控板、触控按键板、电磁屏蔽层时，电极120可以为非透明电极，基底110可以为非透明基底。

进一步地，电极120可以为条带状、网格状等形状。具体在如图2、3所示的实施例中，电极120为由导电材料形成的图形化的导电网格。

进一步地，如图2(a)至图2(f)所示，导电网格的网格图形可以为规则的网格图形，例如，正方形、矩形、平行四边形、菱形、正六边形等规则的网格图形。如图2(g)至图2(h)所示，导电网格的网格图形也可以为不规则的随机网格图形。

进一步地，导电网格的网格图形的边线可以为直线段、折线段及曲线段其中的任意一种或者其组合。

如图3所示，为具体到本实施例中的，由导电网格形成的电极120的局部放大图。在本实施例中，电极120的导电网格的网格图形选取为图2(g)所示的不规则的随机多边形，该随机多边形的边线选取为直线段。在其他的实施例中，该随机多边形的边线还可以为直线段、折线段、曲线段中的一种，或者为其中多种的组合。在其他的实施例中，电极120的导电网格的网格图形还可以选取为如图2(a)至(h)所示的其他网格图形，围成网格图形的边线还可以为直线段、折线段、曲线段中的一种，或者为其中多种的组合。由于显示器件的彩色滤光片的黑色矩阵为规则网格图形阵列，而规则的网格图形相叠加会产生具有明显亮暗差别的条纹。所以本实施例中选取不规则的随机多边形网格图形与显示器件上规则的网格图形相叠加时，可以抑制具有明显亮暗差别的条纹，对视觉效果产生明显改善。

进一步地，电极120相对于基底110的具体位置不受限制。例如，如图4(a)所示，在其中一个实施例中，电极120凸设于至少一个表面的感应区。即，电极120由凸起于基底110的表面的网格状的导电材料形成。

如图4(b)及图4(c)所示，在另外几个实施例中，基底110的至少一个表面的感应区设有内嵌入基底110内的网格状凹槽，电极120填充入网格状凹槽内。即，电极120的导电网格由填充于内嵌入基底110的表面的网格状凹槽中的导电材料形成。由于导电网格为内嵌于基底110表面的凹槽结构，所以防划抗刮擦的效果更好，结构更稳定，产品可靠性更高。

多个引线电极130设于基底110的至少一个表面上的边框区，多个引线电极130分别与多个电极120电连接，每个引线电极130为由至少两条相互间隔设置的导电线条组成的线簇，线簇的每两条相邻的导电线条之间设有至少一条搭接线140。由于引线电极130为至少两条导电线条组成的线簇，线簇中最少可以只包括两条导电线条，所以引线电极130占用的边框区面积较窄。而在平板显示、光伏器件、触控面板和电磁屏蔽等导电膜100的应用领域中，用于实现相应功能的有效区域为导电膜100上电极120所占的感应区。使用导电线条类型的引线电极130，便于制造窄边框的导电膜100以及相关产品，提高用于实现相应功能的感应区面积相对于导电膜100整体面积的比例，提高导电膜100的有效利用率，尤其可以提高触控元件的灵敏度，改善触控显示装置的外观效果。

在其中一个实施例中，每一个引线电极130的线簇包括2～5条导电线条。具体视设计需求而定，线簇中的导电线条数量越少，则相应地引线电极需要占用的边框区越窄，但是导电性能相对越差，故导电线条的数量不宜少于两条，否则其导电性能难以满足引线电极130的要求；而线簇中的导电线条数量越多，则相应地导电性能越好，但是边框区的宽度就越宽，故为使产品外形美观，一般情况下导电线条的数量不大于5条。

与电极120相对应，多个引线电极130可以设置在基底110的一个表面上，也可以分成两组分别设置在基底110的两个表面上。例如，在基底110的一个表面上的感应区域内设有多个电极120，在边框区内设有多个引线电极130，每一个引线电极130从相应的电极120靠近边框区的边缘处引出，布置于基底110的同一表面上。每一个引线电极130为由至少两条导电线条组成的线簇，每一个线簇中的每两条相邻的导电线条之间设有至少一条搭接线140。

进一步地，为了提高电极120以及引线电极130的成型良率并同时保证透明保护膜的透光率，电极120的导电网格、引线电极130的线簇的导电线条和搭接线140的线宽为1μm～10μm，高度为2μm～6μm；且导电线条和搭接线140的线宽大于导电网格的网格线线宽。由于导电线条和搭接线的线宽较粗，所以单位长度的导电线条和搭接线140的阻抗较小，使得导电线条类型的引线电极的整体抗静电能力更优。

在其他的实施例中，电极120还可以选用线宽为1μm～6μm的导电网格形成。

在其他的实施例中，电极120还可以进一步地选用线宽为1μm～5μm的导电网格形成。

电极120的导电网格的线宽越小，则导电膜100的感应区的透光率越高，当导电膜应用于触控显示装置时的图像效果越好。

由于在引线电极130的线簇的导电线条之间引入了搭接线140，增加了引线电极130的线簇中的导电节点，增强了引线电极130的导电性能，且当引线电极130的线簇中某一条导电线条的某一处发生断线的时候，仍能保证引线电极130可以通过线簇中的其他节点与线路导通，提高了导电性能和产品可靠性，改善了良率。

同时，引入了搭接线140的引线电极130的线簇，导电节点大量增多，所以在能保证同等导电性能的情况下，需要的导电线条更少，引线电极130占用的边框区面积更窄，因此进一步降低了边框区宽度，便于制造出边框更窄的产品。

在其中一个实施例中，引线电极130的位于相邻两条导电线条之间的搭接线140可以为多条，并且多条搭接线140之间的间距为10～60μm。搭接线140之间的间距越小，搭接线140分布得越密集，导电节点越多，则引线电极130的阻抗越低，导电性能越强；但相应地由于搭接线140的间距变密，所以制造工艺的难度也提高，良率较低。在其中一个实施例中，搭接线140之间的间距取10μm时，可以最大限度地降低引线电极130的阻抗，但是相应的工艺实施难度最高；在其他的实施例中搭接线140之间的间距取60μm，制造工艺的难度较低，可以获得较高的良率，但是相应地引线电极130的导电性能较差。在另外一个实施例中，搭接线140之间的间距取35μm，这样，既可以保证引线电极130的线簇中有足够的导电节点，保证引线电极130具有优良的导电性能；同时，也避免了引线电极的制造工艺困难，保证了稳定的产品良率。

进一步地，引线电极130相对于基底110的具体位置不受限制。如图4(a)及图4(b)所示，在其中一个实施例中，线簇的导电线条凸设于至少一个表面的边框区。即，线簇的导电线条由凸起于基底110表面的线条状导电材料形成。

如图4(c)所示，在另外一个实施例中，基底110的至少一个表面的边框区设有内嵌入基底110内的线条状凹槽，线簇的导电线条填充入线条状凹槽内。即，引线电极130的线簇的导电线条由填充于内嵌入基底110表面的线条状凹槽中的导电材料形成。由于导电线条为内嵌于基底110表面的凹槽结构，所以不易脱落，防划抗刮擦的效果更好，结构更稳定，产品可靠性更高。

进一步地，如图5(a)至图5(l)所示，线簇的导电线条的形状选自直线段、折线段及曲线段其中的任意一种或者其组合。线簇的导电线条的至少一部分的形状包括折线段或曲线段或者其组合。这样，包括有弯折结构的导电线条更加不易脱落，加强防划抗刮擦效果；而且，当导电线条为由填充于内嵌入基底110表面的线条状凹槽中的导电材料形成时，对于包含弯折的凹槽结构，导电材料的填充效果会更好。

进一步地，搭接线140相对于基底110的具体位置不受限制。例如，如图4(a)及图4(b)所示，在其中一个实施例中，搭接线140为凸设于至少一个表面的边框区的导电连接线。即，搭接线140由凸起于基底110表面的线条状导电材料形成的。

如图4(c)所示，在另外一个实施例中，基底110的至少一个表面的边框区设有内嵌入基底110内的线条状凹槽，搭接线140为填充入线条状凹槽内的导电连接线。即，搭接线140由填充于内嵌入基底110表面的线条状凹槽中的导电材料形成的。由于搭接线140为内嵌于基底110表面的凹槽结构，所以不易脱落，防划抗刮擦的效果更好，结构更稳定，产品可靠性更高。

图4(a)至图4(c)为导电膜100的轴向剖视的示意图，故在图中仅象征性地给出引线电极130的线簇由两条导电线条组成的情况。进一步地，如图5(d)至图5(l)所示，在其他的几个实施例中，引线电极130的线簇还可以由三条导电线条组成。在其他的实施例中，引线电极130的线簇还可以由其他数量的导电线条组成，比如，在另一些实施例中，引线电极130的线簇包括2～5条导电线条。

进一步地，如图5(a)至图5(l)所示，搭接线140的形状可以选自直线段、折线段及曲线段其中的任意一种或者其组合。在一些实施例中，搭接线140当中至少一部分的形状包括折线段或曲线段或者其组合。这样，包括有弯折结构的搭接线140更加不易脱落，加强防划抗刮擦效果；另外，当搭接线140为由填充于内嵌入基底110表面的线条状凹槽中的导电材料形成时，对于包含弯折的凹槽结构，导电材料的填充效果会更好。

应用于上述各种实施例中，电极120、引线电极130以及搭接线140的导电材料为Cu、Ag、Ag-C、Al、Ni、Cr、Ni-P中的任意一种或者其中几种的合金。

在其中一个实施例中，电极120的导电网格、引线电极130线簇及线簇中搭接线140的导电线条的凹槽，可以同时一次性地通过压印方法制作于基底110的一个表面上。然后将含有导电材料的导电墨水使用刮涂的方式填充于基底110表面上的凹槽中，最后烧结形成导电材料组成的电极120的导电网格、引线电极130线簇及搭接线140的导电线条。由于电极120、引线电极130的线簇和搭接线140均为嵌入基底110表面中的结构，从而使得防划抗刮擦的性能良好，产品的结构和性能较为稳定。

由于引线电极130线簇中单条导电线条的线宽和搭接线140的线宽大于导电网格的单条网格线的线宽，所以导电线条和搭接线140对应的凹槽宽度也大于网格线对应的凹槽宽度，在填充导电材料到凹槽中时，获得的填充效果更好，从而可以制造出性能更加优良的产品。

进一步地，如图6(a)至图6(c)所示，为保护设于基底110上的导电材料形成的导电网格及导电线条，还可以在电极120和引线电极130上设置一层透明保护层150。透明保护层150可以由聚碳酸酯、UV胶或压印胶等透明聚合物形成。对于凸起于基底110表面上的导电材料，透明保护层150完全覆盖在导电材料之上；对于填充于基底110表面的凹槽中的导电材料，透明保护层150覆盖在导电材料之上并将凹槽中的剩余空间填充满。透明保护层150可以进一步地保护产品结构，防止导电材料被刮擦、移位。在另一个实施例中，更进一步地，透明保护层150中还可以包含一些具有抗氧化能力的材料，抑制导电材料被氧化而导致导电性能衰退的现象。

进一步地，如图7所示，当至少一个表面的边框区设有内嵌入基底110内的线条状凹槽，线簇的导电线条及搭接线140填充入线条状凹槽内时，线条状凹槽的横截面的宽度为W1，深度为H1，深宽比为H1/W1，并且H1/W1比值为0.5～2，例如，凹槽的深宽比分别可以取到0.5，0.8，1，1.2，1.5和2。其中，当基底110为透明基底时，线条状凹槽的深度小于透明基底的厚度，当基底110为复合基底时，线条状凹槽的深度小于复合基底中的透明聚合物层的厚度；

进一步地，如图8所示，当至少一个表面的感应区设有内嵌入基底110内的网格状凹槽，电极120填充入网格状凹槽内时，网格状凹槽的横截面的宽度为W2，深度为H2，深宽比为H2/W2，并且H2/W2的比值为0.5～2，例如，凹槽的深宽比分别可以取到0.5，0.8，1，1.2，1.5和2。其中，当基底110为透明基底时，网格状凹槽的深度小于透明基底的厚度；当基底110为复合基底时，网格状凹槽的深度小于复合基底中的透明聚合物层的厚度。

进一步地，导电膜100的透过率不小于86%。

同时，本发明又提供一种触控元件，包括盖板以及上述导电膜，导电膜的具体结构及工作原理与上述相同，在此不再赘述。

本发明又提供一种触控显示装置，其包括上述的触控元件及显示模组，基底为透明基底，电极为透明电极，显示模组，与触控元件对应层叠在一起。

对应于上述导电膜100，本发明还提供一种导电膜100的制造方法。

本发明的实施方式的导电膜100的制造方法，包括如下步骤：

提供一基底110，基底110具有两个相对的表面，至少一个表面上设有感应区及位于感应区边缘的边框区；

在至少一个表面上的感应区形成多个电极120；

在至少一个表面上的边框区形成多个引线电极130，多个引线电极130分别与多个电极120电连接，每个引线电极130为由至少两条相互间隔的导电线条组成的线簇，线簇的每两条相邻的导电线条之间设有至少一条搭接线140。

其中，对于电极120、引线电极130和搭接线140凸设于基底110表面上的情况，可以通过对感光性导电材料显影曝光的方法，或丝网印刷或喷墨打印等方法形成；对于电极120、引线电极130和搭接线140填充于内嵌入基底110的表面的凹槽中的情况，可以通过压印方法形成。

换句话说，电极120、引线电极130及搭接线140可以凸设于基底110的至少一个表面上，并且通过对感光性导电材料显影曝光的方法，或丝网印刷或喷墨打印的方式成型。或者，在基底110的至少一个表面上通过压印的方式成型有分别对应电极120、引线电极130及搭接线140的凹槽，电极120、引线电极130及搭接线140由填充于凹槽内的导电材料形成。在其中一个实施例中，电极120、引线电极130及搭接线140均由填充于凹槽内的导电材料形成，且在基底110上，电极120、引线电极130及搭接线140相对应的凹槽，为同时一体化地压印成型，导电材料为同时填充入相对应的凹槽，一体化地形成电极120、引线电极130及搭接线140。这样，工艺简便，易于实施，且电极120、引线电极130及搭接线140之间电连接良好，可以提高生产效率。

进一步地，对应电极120的凹槽为网格状凹槽，对应于引线电极130及搭接线140的凹槽为线条状凹槽。

需要说明的是，为了形成上述导电膜100的各个不同实施例的结构，上述实施方式提供的导电膜100的制造方法可以进一步包括实施不同实施例的结构的步骤，在此不再详细赘述。

上述导电膜100的引线电极130为由至少两条间隔设置的导电线条组成的线簇，并且在相邻两条导电线条之间引入了搭接线140，从而增加了引线电极130的线簇中的导电节点，增强了引线电极130的导电性能；在保证导电节点的总数量和导电性能不变的前提下，可以将引线电极130需要的导电线条数降到最少，从而将边框区的宽度降到最低，便于制造出窄边框的触控显示装置等产品。并且，当引线电极130的线簇中某一条导电线条的某处发生断线的时候，仍能保证引线电极130可以通过线簇中的其他节点和线路导通，从而提高了导电稳定性，改善了良率。并且，引线电极130的线簇的线宽和搭接线140的线宽，大于电极120的导电网格线的线宽，在一定程度上也提高了引线电极的抗静电能力。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (15)

1.一种导电膜，其特征在于，包括：

具有两个相对设置的表面的基底，至少一个所述表面上设有感应区及位于所述感应区边缘的边框区；

设于至少一个所述表面上的所述感应区的多个电极，所述电极为由导电材料形成的图形化的导电网格；以及

设于至少一个所述表面上的所述边框区的多个引线电极，所述多个引线电极分别与所述多个电极电连接，每个所述引线电极为由两条相互间隔设置的导电线条组成的线簇，所述线簇的两条导电线条之间设有多条搭接线，其中，所述导电网格、所述导电线条和搭接线的线宽为1μm～10μm，所述导电线条和搭接线的线宽大于所述导电网格的网格线线宽，所述引线电极的位于两条所述导电线条之间的搭接线为多条，并且所述多条搭接线之间的间距为10～60μm。

2.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述至少一个所述表面的边框区设有内嵌入所述基底内的线条状凹槽，所述线簇的导电线条填充入所述线条状凹槽内；

或者，所述线簇的导电线条凸设于所述至少一个所述表面的边框区。

3.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述线簇的导电线条的形状选自直线段、折线段、曲线段、直线段与曲线段的组合以及折线段与曲线段的组合其中的任意一种。

4.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述至少一个所述表面的边框区设有内嵌入所述基底内的线条状凹槽，所述搭接线为填充入所述线条状凹槽内的导电连接线；

或者，所述搭接线为凸设于所述至少一个所述表面的边框区的导电连接线。

5.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述搭接线的形状选自直线段、折线段、曲线段、直线段与曲线段的组合以及折线段与曲线段的组合其中的任意一种。

6.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述至少一个所述表面的感应区设有内嵌入所述基底内的网格状凹槽，所述电极填充入所述网格状凹槽内；或者，所述电极凸设于所述至少一个所述表面的感应区。

7.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电网格的网格图形为规则的网格图形，或者不规则的随机网格图形。

8.如权利要求7所述的导电膜，其特征在于，所述导电网格的网格图形的边线为直线段、折线段、曲线段、直线段与曲线段的组合以及折线段与曲线段的组合其中的任意一种。

9.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电网格、所述导电线条和搭接线的高度为2μm～6μm。

10.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电网格的线宽为1μm～6μm，高度为2μm～6μm。

11.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电网格的线宽为1μm～5μm，高度为2μm～6μm。

12.一种触控元件，其特征在于，包括盖板以及如权利要求1～11任一项所述的导电膜。

13.一种触控显示装置，其特征在于，包括：

如权利要求12所述的触控元件，所述基底为透明基底，所述电极为透明电极；以及

显示模组，与所述触控元件对应层叠设置。

14.一种导电膜的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一基底，所述基底具有两个相对的表面，至少一个所述表面上设有感应区及位于所述感应区边缘的边框区；

在至少一个所述表面上的所述感应区形成多个电极，所述电极为由导电材料形成的图形化的导电网格；

在至少一个所述表面上的所述边框区形成多个引线电极，所述多个引线电极分别与所述多个电极电连接，每个所述引线电极为由两条相互间隔的导电线条组成的线簇，所述线簇的两条导电线条之间设有多条搭接线，所述导电网格、所述导电线条和搭接线的线宽为1μm～10μm，所述导电线条和搭接线的线宽大于所述导电网格的网格线线宽，所述引线电极的位于两条所述导电线条之间的搭接线为多条，并且所述多条搭接线之间的间距为10～60μm。

15.如权利要求14所述的导电膜的制造方法，其特征在于，在所述基底的至少一个所述表面上通过压印的方式成型有分别对应所述电极、所述引线电极及所述搭接线的凹槽，对应所述电极的凹槽为网格状凹槽，对应于所述引线电极及所述搭接线的凹槽为线条状凹槽，所述电极、所述引线电极及所述搭接线由填充于所述凹槽内的导电材料形成。