CN103744268B - 一种高精度光栅尺母板光刻装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种高精度光栅尺母板光刻装置，包括床身、光源、掩板、刻划光栅尺和间隙调整结构；床身上设有一对平行导轨，导轨上安装有溜板，光源安装于溜板上；床身上正对光源的一侧设有间隙调整结构；掩板和刻划光栅尺安装于所述间隙调整机构上。本发明装置即保证光能照射的均匀性，又避免接触划伤掩板。该装置可以使母板使用寿命长、光刻刻划精度高，易于批量化生产。在平行光光刻刻划工艺的基础上，继续显影、烘烤、腐蚀、坚膜、检测等工艺的制作；生产出来的光栅尺母板精度可以达到±1μm/m的精度。
Description
技术领域：
本发明属于光学计量元器件及先进制造领领域，特别涉及一种光栅尺母板光刻装置。
背景技术：
光栅尺光刻工艺是通过一系列生产步骤，将镀膜玻璃表面薄膜的特定部分除去的工艺；在此之后，镀膜玻璃表面会留下带有微图形结构的薄膜；通过光刻工艺过程，最终在镀膜玻璃上保留的是特征图形部分。光刻工艺中需要用到掩板，目前国内的大多厂家采用接触式光刻方式，掩板在使用过程中容易划伤、寿命短，工艺过程可靠性低。
发明内容：
本发明的目的在于，提供一种高精度光栅尺母板光刻装置，克服原有接触式透射玻璃光栅母板刻划寿命短，刻划稳定性较差的缺点。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种高精度光栅尺母板光刻装置，包括床身、光源、掩板、刻划光栅尺和间隙调整结构；床身上设有一对平行导轨，导轨上安装有溜板，光源安装于溜板上；床身上正对光源的一侧设有间隙调整结构；掩板和刻划光栅尺安装于所述间隙调整机构上。
本发明进一步的改进在于：所述间隙调整结构包括固定在床身上的一对支撑架和一对掩板支撑；支撑架呈H形，两个支撑架平行布置；掩板支撑成L形，两个掩板支撑平行布置在一对支撑架外侧。
本发明进一步的改进在于：所述间隙调整结构还包括刻划光栅尺支撑；支撑架上部形成一个U形部，刻划光栅尺支撑的两侧分别架于一对支撑架的U形部中。
本发明进一步的改进在于：U形部的两侧分别安装有第一细牙调整螺杆和第二细牙调整螺杆，U形部的底部安装有第三细牙调整螺杆；刻划光栅尺支撑呈平板状且垂直于光源的出射光方向，刻划光栅尺支撑上部朝光源一侧设有一个长方体缺口，刻划光栅尺安装于所述长方体缺口中，掩板支撑上安装有掩板。
本发明进一步的改进在于：第一细牙调整螺杆和第二细牙调整螺杆端部分别抵持在刻划光栅尺支撑的前侧和后侧，用于调节掩板和刻划光栅尺之间的间隙及左右倾斜；第三细牙调整螺杆的端部抵持在刻划光栅尺支撑的底侧，用于调整上下倾斜。
本发明进一步的改进在于：所述床身为天然花岗岩床身。
本发明进一步的改进在于：所述光源为带冷却装置的灯箱。
本发明进一步的改进在于：所述掩板和刻划光栅尺之间具有间隙，该间隙为2μm～100μm。
相对于现有技术，本发明具有以下有益效果：本发明采用天然花岗岩床身，起到很好的隔震作用；采用带有冷却装置的高压汞灯灯箱作为光源，很好的将热量带走，减少热量带来的温升；导轨可以带动高压汞灯在刻划尺坯的方向运动；微调螺杆采用细牙螺纹，保证微米的调整精度，并且两个方向的微调螺杆，保证了水平、垂直、倾斜的可调性。接近式掩板与被刻光栅尺间隙为微米间隙可调；避免掩板与被刻划光栅母板之间的接触，减少接触划痕等影响光栅尺质量的工艺环节，使母板使用寿命长、光刻刻划精度高，易于批量化生产。掩板栅距可以调换，范围为栅距可以为2μm、4μm、8μm、10μm、20μm、40μm、100μm。
本发明装置即保证光能照射的均匀性，又避免接触划伤掩板。该装置可以使母板使用寿命长、光刻刻划精度高，易于批量化生产。在平行光光刻刻划工艺的基础上，继续显影、烘烤、腐蚀、坚膜、检测等工艺的制作。生产出来的光栅尺母板精度可以达到±1μm/m的精度。
附图说明
附图1为接近式光刻的原理示意图。
附图2为本发明一种高精度光栅尺母板光刻装置的结构示意图；
附图3为本发明的间隙调整结构的示意图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明做进一步的详述：
请参阅图1所示，接近式光刻中，掩板2与被刻划光栅尺坯3平行设置，且间隙4需要保证在微米级；掩板2包括透明层5和设置在透明层5上的反射层6；光刻时，一定波长的平行光源1垂直照射在掩板2，保证光能照射的均匀性的情况下，完成平行光刻划工艺。
请参阅图2及图3所示，本发明一种高精度光栅尺母板光刻装置，包括天然花岗岩床身7、光源、掩板17、刻划光栅尺18和间隙调整结构。
天然花岗岩床身7上设有一对平行导轨8，平行导轨8上安装有溜板9，光源安装于溜板9上；本实施例中，光源优选为带冷却装置的灯箱10，带冷却装置的灯箱10的出射光方向垂直于导轨8。
天然花岗岩床身7上正对带冷却装置的灯箱10的一侧设有间隙调整结构；间隙调整结构包括固定在天然花岗岩床身7上的一对支撑架5和一对掩板支撑16；支撑架5呈H形，两个支撑架5平行布置。掩板支撑16成L形，两个掩板支撑16平行布置在一对支撑架5外侧。
支撑架5上部形成一个U形部，用于支撑刻划光栅尺支撑12；U形部的两侧分别安装有第一细牙调整螺杆11和第二细牙调整螺杆13，U形部的底部安装有第三细牙调整螺杆14。刻划光栅尺支撑12的两侧分别架于一对支撑架5的U形部中；刻划光栅尺支撑12呈平板状且垂直于带冷却装置的灯箱10的出射光方向，刻划光栅尺支撑12上部朝光源一侧设有一个长方体缺口，用于放置刻划光栅尺18。掩板支撑16上设有用于放置掩板17的缺口，掩板17设置于该缺口中。第一细牙调整螺杆11和第二细牙调整螺杆13端部分别抵持在刻划光栅尺支撑12的前侧和后侧，用于调节掩板17和刻划光栅尺18之间的间隙及左右倾斜；第三细牙调整螺杆14的端部抵持在刻划光栅尺支撑12的底侧，用于调整上下倾斜。
本发明采用天然花岗岩床身，起到很好的隔震作用；采用带有冷却装置的高压汞灯灯箱作为光源，很好的将热量带走，减少热量带来的温升；导轨可以带动高压汞灯在刻划尺坯的方向运动；微调螺杆采用细牙螺纹，保证微米的调整精度，并且两个方向的微调螺杆，保证了水平、垂直、倾斜的可调性。
接近式掩板与被刻光栅尺间隙为微米间隙可调；避免掩板与被刻划光栅母板之间的接触，减少接触划痕等影响光栅尺质量的工艺环节，使母板使用寿命长、光刻刻划精度高，易于批量化生产。掩板栅距可以调换，范围为栅距可以为2μm、4μm、8μm、10μm、20μm、40μm、100μm。
本发明装置即保证光能照射的均匀性，又避免接触划伤掩板。该装置可以使母板使用寿命长、光刻刻划精度高，易于批量化生产。在平行光光刻刻划工艺的基础上，继续显影、烘烤、腐蚀、坚膜、检测等工艺的制作。生产出来的光栅尺母板精度可以达到±1μm/m的精度。
Claims (4)
1.一种高精度光栅尺母板光刻装置，其特征在于，包括床身、光源、掩板(17)、刻划光栅尺(18)和间隙调整结构；
床身上设有一对平行导轨(8)，导轨(8)上安装有溜板(9)，光源安装于溜板(9)上；
床身上正对光源的一侧设有间隙调整结构；掩板(17)和刻划光栅尺(18)安装于所述间隙调整机构上；
所述间隙调整结构包括固定在床身上的一对支撑架(5)和一对掩板支撑(16)；支撑架(5)呈H形，两个支撑架(5)平行布置；掩板支撑(16)成L形，两个掩板支撑(16)平行布置在一对支撑架(5)外侧；
所述间隙调整结构还包括刻划光栅尺支撑(12)；支撑架(5)上部形成一个U形部，刻划光栅尺支撑(12)的两侧分别架于一对支撑架5的U形部中；
U形部的两侧分别安装有第一细牙调整螺杆(11)和第二细牙调整螺杆(13)，U形部的底部安装有第三细牙调整螺杆(14)；刻划光栅尺支撑(12)呈平板状且垂直于光源的出射光方向，刻划光栅尺支撑(12)上部朝光源一侧设有一个长方体缺口，刻划光栅尺(18)安装于所述长方体缺口中，掩板支撑(16)上安装有掩板(17)；
第一细牙调整螺杆(11)和第二细牙调整螺杆(13)端部分别抵持在刻划光栅尺支撑(12)的前侧和后侧，用于调节掩板(17)和刻划光栅尺(18)之间的间隙及左右倾斜；第三细牙调整螺杆(14)的端部抵持在刻划光栅尺支撑(12)的底侧，用于调整上下倾斜。
2.根据权利要求1所述的一种高精度光栅尺母板光刻装置，其特征在于，所述床身为天然花岗岩床身(7)。
3.根据权利要求1所述的一种高精度光栅尺母板光刻装置，其特征在于，所述光源为带冷却装置的灯箱(10)。
4.根据权利要求1所述的一种高精度光栅尺母板光刻装置，其特征在于，所述掩板(17)和刻划光栅尺(18)之间具有间隙，该间隙为2μm～100μm。
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| CN102566260A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-07-11 | 西安交通大学 | 超长光栅尺辊压模具表面图形化的快速加工方法 |
| CN102759855A (zh) * | 2012-07-17 | 2012-10-31 | 西安交通大学 | 一种单码道绝对式光栅尺辊压印模具制造方法 |
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